UA70336C2 - Електронно-променевий пристрій для нанесення покриття конденсацією із парової фази (варіанти) - Google Patents
Електронно-променевий пристрій для нанесення покриття конденсацією із парової фази (варіанти) Download PDFInfo
- Publication number
- UA70336C2 UA70336C2 UA2001042218A UA2001042218A UA70336C2 UA 70336 C2 UA70336 C2 UA 70336C2 UA 2001042218 A UA2001042218 A UA 2001042218A UA 2001042218 A UA2001042218 A UA 2001042218A UA 70336 C2 UA70336 C2 UA 70336C2
- Authority
- UA
- Ukraine
- Prior art keywords
- chamber
- loading
- preheating
- preheating chamber
- coating
- Prior art date
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims description 22
- 238000009833 condensation Methods 0.000 title claims description 7
- 230000005494 condensation Effects 0.000 title claims description 7
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 title claims description 7
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 35
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 32
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 4
- 238000012876 topography Methods 0.000 claims 1
- 238000005328 electron beam physical vapour deposition Methods 0.000 abstract 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 208000002874 Acne Vulgaris Diseases 0.000 description 1
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010000496 acne Diseases 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005056 compaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
- C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
- C23C14/566—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases using a load-lock chamber
Abstract
Електронно-променевий пристрій (10) для нанесення покриття конденсацією із парової фази (ЕПНПКПФ), який включає покривну камеру 12, камеру попереднього нагрівання 14 та завантажувальні камери, що повинні функціонувати в умовах підвищених температур та субатмосферних тисків. Пристрій (10) додатково включає систему пересувних платформ (24), яка полегшує взаємне розташування завантажувальних камер (16, 18), та камери попереднього нагрівання (14) пристрою (10). Система пересувних платформ (24) підтримує принаймні одну завантажувальну камеру (16, 18) з можливістю її зворотно-поступального пересування відносно камери попереднього нагрівання (14). Система платформ (24) має значно нижчий профіль піднесення, переважно не більше приблизно 2,5 см, для уникнення ризику для операторів пристрою (10) при зміні позиції завантажувальних камер (16, 18).
Description
Опис винаходу
Цей винахід взагалі стосується електронно-променевого пристрою для нанесення покриття конденсацією із 2 парової фази. Зокрема, цей винахід спрямовано на створення системи платформ, завдяки якій стає можливим змінення позиції камер такого покривного пристрою при мінімальному втручанні у функціонування пристрою.
Теплоізоляційні покриття (ТІП) знайшли широке використання при теплоізоляції зовнішніх поверхонь деталей газотурбінних двигунів, що працюють в умовах високих температур, з метою мінімізації їх робочих температур.
Як ТІП застосовують різні керамічні матеріали, зокрема, диоксид цирконію (27гО5), що стабілізується окисом 70 ітрію (У2О3), магнезією (МоаО) або іншими окисами. Такі спеціальні матеріали широко застосовуються в цій галузі техніки, оскільки вони легко осаджуються при нанесенні покриття плазмовим напиленням або конденсацією парової фази. Прикладом останньої є електронно-променеве нанесення покриття конденсацією парової фази (ЕПНПКПФ), при якому виробляється теплоізоляційне покриття, що має стовбчасту зернисту структуру, підоснова якої має можливість розширюватись, не викликаючи при цьому пошкоджуючих стресів, що 12 призводять до сколювання, і цим підвищують допустимий рівень деформації.
Спосіб нанесення керамічних покриттів (наприклад, ТІП) шляхом ЕПНІКПФ з використанням покривного пристрою, призначеного для виробництва, перш за все, вимагає завантаження деталей, які потребують покриття, в завантажувальну камеру. Звичайно тиск у завантажувальній камері знижується до 10 "мбар або нижче перед переміщенням деталей до камери попереднього нагрівання, де деталі нагрівають, як правило, до 800"С або більше для сприяння прилипання покриття до деталі. Із камери попереднього нагрівання деталі переміщують у нагріту покривну камеру, в якій підтримується низький тиск, звичайно приблизно 0,005мбар.
Деталь тримають поблизу із злитком покривного керамічного матеріалу, призначеного для осадження, та електронний промінь проектують на злиток таким чином, щоб розплавити поверхню злитка та виробити конденсат покривного матеріалу для осадження на деталь, утворюючи при цьому липкий шар керамічного сч 29 матеріалу. Ге)
Сучасні виробничі пристрої ЕПНПКПФ у більшості мають конструкцію, яка дозволяє вилучити покриті деталі із покривної камери та замістити попередньо нагрітими непокритими деталями, не зупиняючи пристрій з метою створення безперервного режиму роботи. Безперервний режим роботи пристрою на протязі цього часу можна визначити терміном "кампанія" із більшою кількістю деталей, належно вкритих протягом кампанії, що відповідає ї-оі підвищеній продуктивності та економічній ефективності. со
Виходячи із викладеного вище, зрозуміло , що зараз існує потреба збільшити кількість деталей, що покриваються протягом однієї кампанії, знизити час, необхідний для введення та вилучення деталей із покривної Шк камери, та витрати часу на проведення технічного обслуговування в пристрої між кампаніями. Однак, можуть (ав) виникнути труднощі з погляду складності обладнання, необхідного для пересування занадто гарячих деталей крізь завантажувальні камери, камеру попереднього нагрівання та покривну камеру, а також труднощі технічного - обслуговування сучасних пристроїв ЕПНІПКПФ.
Цей винахід спрямовано на створення електронно-променевого пристрою для нанесення покриття (наприклад, керамічного теплоізоляційного покриття) конденсацією парової фази (ЕПНІПКПФ) на виріб, та « й зокрема системи пересувних платформ, що полегшують взаємне розташування завантажувальних камер та -о камери попереднього нагрівання виробничого пристрою ЕПНІПКПФ. Система платформ, згідно з цим винаходом, с оточує принаймні одну завантажувальну камеру та має можливість пересування відносно камери попереднього :з» нагрівання таким чином, щоб вводити та виводити завантажувальну камеру по одній лінії з камерою попереднього нагрівання. Важливим моментом є те, що система платформ має занадто низький піднесений профіль, переважно не більше 2,5см, щоб практично уникнути ризику для оператора пристрою ЕПНІКПФ при -1 395 перестановці завантажувальної камери.
Інші об'єкти та переваги цього винаходу будуть краще визначені в наступному детальному описі. (ав) На фігурі 1 та 2 зображені відповідно план та вид спереду електронно-променевого пристрою для нанесення о покриття конденсацією із парової фази, який використовують для осадження покривного матеріалу згідно із цим винаходом. (95) 50 Пристрій 10 ЕПНПКПФ згідно із цим винаходом зображено в загальному вигляді на фігурах 1 та 2. Цим
Ф пристроєм (10) керамічне теплоізоляційне покриття може бути нанесене на металеву деталь, призначену для експлуатації в несприйнятному термальному середовищі. Відомі приклади таких деталей включають сопла та лопаті турбін високого та низького тиску, кожухи, деталі камери згоряння, агрегати форсажної камери газотурбінних двигунів. 59 З метою ілюстрації цього винаходу пристрій 10 ЕПНІПКПФ, показаний на фігурах 1 та 2, включає покривну
ГФ) камеру 12, пару камер попереднього нагрівання 14, та дві пари завантажувальних камер 16 та 18, розташованих 7 так, що пристрій 10 має симетричну конфігурацію. Передні завантажувальні камери 16 розташовані на одній лінії із їх відповідними камерами 14 попереднього нагрівання, причому деталі 20, початково завантажують на грабельний механізм 22 у лівій завантажувальній камері 16, пересувають у ліву камеру 14 попереднього бо нагрівання та, як показано на фігурі 1, у покривну камеру 12. При симетричній конфігурації пристрою 10, в той час як деталі 20, завантажені через передню ліву завантажувальну камеру 16, покриваються в покривній камері 12, друга партія деталей у передній правій завантажувальній камері 16 може попередньо нагріватись у правій камері попереднього нагрівання 14, третя партія деталей може завантажуватись у задню ліву завантажувальну камеру 18, а четверта партія деталей може бути вивантажена із правої задньої завантажувальної камери 18. бо Отже, чотири стадії процесу можна виконувати одночасно за допомогою пристрою 10 ЕПНПКПФ згідно з цим винаходом.
У середині покривної камери 12 керамічне покриття осаджується на деталі 20 шляхом розплавлення та випаровування злитків 26 бажаного керамічного матеріалу електронними променями 28, виробленими електронно-променевими (ЕП) пушками 30. Інтенсивне нагрівання злитків 26 електронними променями 28 викликає плавлення поверхні кожного злитка 26, утворюючи розплавлений керамічний матеріал, молекули якого випаровуються, конденсуються та осаджуються на поверхнях деталей 20, виробляючи бажане керамічне покриття, товщина якого залежатиме від тривалості процесу покриття.
Субатмосферний тиск, який необхідно підтримувати в покривній камері, регулюють швидкістю, з якою гази 7/0 можуть відкачуватись із покривної камери 12 та швидкістю потоку бажаного газу, що закачують в покривну камеру 12, наприклад, кисень або аргон. На фігурі 2 показано, як гази нагнітаються у покривну камеру 12 крізь клапан 58, розташований поблизу покривної камери 12. Швидкості потоку газів регулюють окремо, основуючись на визначеному робочому тиску та парціальному тиску кисню. Після відкачування механічним насосом 31 на попередній вакуум для вакуумування покривної камери до виконання процесу покриття можна застосувати криогенний та дифузійні насоси 32 та 34. Для вакуумування камер попереднього нагрівання 14 можна застосувати окрему пару дифузійних насосів 34. Як показано на фігурі 1, дифузійний насос 34 для покривної камери 12 оснащено дросельним клапаном 36 для регулювання відказування насосом 34 при відносно високих значеннях тиску, наприклад, 0,01Омбар. Крім того, дифузійні насоси 38 для камер попереднього нагрівання 14 переважно оснащені дросельними клапанами для аналогічних цілей.
Згідно з даним винаходом камери попереднього нагрівання 14 та завантажувальні камери 16 та 18 необхідно пересувати відносно одна одної так, щоб завантажувальні камери 16 та 18 селективно вирівнювалися із відповідною камерою попереднього нагрівання 14. Наприклад, коли передня ліва завантажувальна камера 16 розташовується по одній лінії з лівою камерою попереднього нагрівання 14 для можливості вставляння деталей 20 у покривну камеру 12, задня ліва завантажувальна камера 18 відсувається від лівої камери попереднього сч
Нагрівання 14 так, щоб деталі можна було одночасно завантажувати та вивантажувати з грабельного механізму 22, розташованого в задній лівій завантажувальній камері 18. Покривна камера 12, камери попереднього і) нагрівання 14 та завантажувальні камери 16 та 18 з'єднані клапанами (не показано), що утворюють вакуумне ущільнення між камерами. Отже, клапани повинні бути розраховані на численні цикли при відносно високих температурах та забезпечувати надійне вакуумне ущільнювання між камерами. Відомо види такого ущільнення, «о зо які принадні для цих цілей, і тому не описані детально. Необхідна рухомість завантажувальних камер 16 та 18 досягається згідно із цим винаходом за допомогою двох низько-профільних платформ 24, які підтримують і спаровані завантажувальні камери. Крім того, для селективного вирівнювання завантажувальних камер 16 та 718 (9 із камерами попереднього нагрівання 14, кожна платформа 24 переважно повинна рухатись у позицію технічного обслуговування, в якій жодна із завантажувальних камер 16 та 18 не вирівнюється із своєю камерою о з5 попереднього нагрівання 14, з метою доступу для очищення внутрішніх порожнин камер попереднього ча нагрівання 14 та завантажувальних камер 16 та 18. Платформи 24 переважно принаймні частково підтримуються шарикопідшипниками 44, вмонтованими в підлогу, хоча передбачено застосування будь-яких підшипників. Крім того, підшипники 44 можуть бути вмонтовані не в підлогу, а в платформи 24. В переважному варіанті виконання платформи 24 складаються із двох частин та вмонтовані з боків або до основ « завантажувальних камер 16 та 18 і далі підтримуються підшипниками 44. з с Важливим моментом є те, що кожна платформа 24 має низький профіль узвишшя (проекція над підлогою) не більше приблизно 2,5см. Низький профіль платформи 24, вздовж зовнішньої сторони якої виконано скіс, ;» практично виключає можливість роз'єднання оператора від країв платформ 24. Показано, що платформи 24 мають досить великі поверхні для забезпечення мостових переходів вздовж завантажувальних камер 16 та 18, а також для розташування берм та іншого підтримувального обладнання. Інші стаціонарні об'єкти, що оточують -І пристрій 10, переважно розташовують далі від краю платформи 24 для уникнення защемлення оператора платформою 24, при зміні позиції. о Не дивлячись на те, що цей винахід було описано на базі переважних варіантів виконання, очевидно, що 2) спеціаліст у цій галузі може застосовувати інші варіанти. Відповідно обсяг винаходу слід обмежувати тільки 5о наступною формулою винаходу. (95) 42)
Ф) іме) 60 б5
10-А-----
У-ї з 34 70 ї 31 З З 35 й ї и ді ту Кр ию 22| (3 З ря
ПИ нт - АНЯ ІС-Х УЖ не Питання СОВИ пінінія шт 46 Й сення М шк і ТИІлЙнЇо Запірні пішла НІ 5 Ер муці (зв) ей ЧК зе) МИ ніна я ДІ в м Ко до нн і та-ка-»-Е ВВ прища здо м М рив
Я аа пиши ТІ о АЙЛИЛИ о ТНК нання падінні звінні ніших 4
ША КТ де Я І фі. 1-4 2 Ю .
Й З мене ока нин | НІЙ ем оооодо де сеестенняя р-н че ри 40 102 4042-77 6 т (і) 22 (я) У з3 16 дм з2 а З ж і 5,7 БВ
І с | (5) 44 4 14 44 0. 5- (Се) с . .
Фіг 1. Ф «в) ч- « ; ше У - с 2830305 95
І» 12 Ї | К 1232 42-16 їв не І Дєстре» Ши 16 42 чинни ши. НО ТЕ зоАн Ор прийня ЦІ Мом
ВИДИ інв 2) ІГсняй М | інпмлннлоканниння ЩУ ги м ЕІ та м 44 а ТО
Ф гди З 102
Ф) . ю Фіг 2.
Claims (9)
- Формула винаходу бо 1. Електронно-променевий пристрій (10) для нанесення покриття конденсацією із парової фази, який включає: покривну камеру (12), що функціонує в умовах підвищеної температури та субатмосферного тиску; засоби (22) для підтримки виробу (20) в покривній камері (12); камеру попереднього нагрівання (14), розташовану суміжно та на одній лінії із покривною камерою (12), для попереднього нагрівання виробів (20), підтримуваних в камері попереднього нагрівання (14) засобами підтримки (22), до введення виробів (20) у покривну камеру (12); завантажувальні камери (16, 18), які розташовані суміжно та на одній лінії із камерою попереднього нагрівання (14) і мають прохід (40), крізь який виріб (20), завантажений на засоби підтримки (22), послідовного вводять в камеру попереднього нагрівання (14) та у покривну камеру (12); та пересувну платформу (24), яка підтримує завантажувальні камери (16, 18), з можливістю пересування відносно камери 7/0 попереднього нагрівання (14) для зворотно-поступального пересування завантажувальних камер (16, 18) по одній лінії із камерою попереднього нагрівання (14), причому пересувні платформи (24) мають піднесений профіль не більше 2,5 см.
- 2. Електронно-променевий пристрій (10) за п.1, який відрізняється тим, що камера попереднього нагрівання (14) кріпиться до поверхні, а пересувна платформа (24) підтримується над поверхнею з можливістю /5 переміщення.
- 3. Електронно-променевий пристрій (10) за п.1, який відрізняється тим, що додатково включає підшипники (44), які вмонтовані в поверхню з можливістю підтримання пересувної платформи (24).
- 4. Електронно- променевий пристрій (10) за п.1, який відрізняється тим, що пересувна платформа (24) додатково має на своїй поверхні мостовий перехід у ділянці, суміжній із завантажувальними камерами (16, 18).
- 5. Електронно-променевий пристрій (10) за п.1, який відрізняється тим, що додатково включає другі засоби (22) для підтримки виробу (20) в камері попереднього нагрівання (14) та покривній камері (12); другу завантажувальну камеру (16, 18), що примикає до завантажувальних камер (16, 18), має прохід (40), крізь який другий виріб (20) завантажують на другі засоби підтримки (22), та підтримується пересувною платформою (24) з можливістю зворотно-поступального пересування другої завантажувальної камери (16, 18) по одній лінії із сч ов Ккамерою попереднього нагрівання (14).
- 6. Електронно-променевий пристрій (10) за п. 5, який відрізняється тим, що пересувна платформа (24) і) виконана з можливістю пересування між першою позицією, в якій перша завантажувальна камера (16, 18) вирівнюється із камерою попереднього нагрівання (14), а друга не вирівнюється із камерою попереднього нагрівання (14), другою позицією, в якій перша завантажувальна камера (16, 18) не вирівнюється із камерою Ге зо попереднього нагрівання (14), а друга вирівнюється із камерою попереднього нагрівання (14), та третьою позицією, в якій жодна із завантажувальних камер не вирівнюється із камерою попереднього нагрівання (14). о
- 7. Електронно- променевий пристрій (10) для нанесення покриття конденсацією із парової фази, який с включає: покривну камеру (12), що функціонує в умовах підвищеної температури та субатмосферного тиску; електронно-променеву пушку (30) для проектування електронного променя в покривну камеру (12); перші засоби о (22) для підтримки виробу (20) в покривній камері (12); камеру попереднього нагрівання (14), розташовану ї- суміжно та на одній лінії із покривною камерою (12), для попереднього нагрівання першого виробу (20), підтримуваного першими засобами підтримки (22) в камері попереднього нагрівання (14), до введення на них першого виробу (20) в покривну камеру (12); першу завантажувальну камеру (16, 18), яка розташована суміжно та на одній лінії із камерою попереднього нагрівання (14) та навпроти покривної камери (12) і має прохід « 400 (40), крізь який перший виріб (20) завантажують на засоби підтримки (22) до послідовного введения на них з с першого виробу (20) в камеру попереднього нагрівання (14) та покривну камеру (12); другі засоби (22) для підтримки другого виробу (20) в камері попереднього нагрівання (14) та покривній камері (12); другу ;» завантажувальну камеру (16, 18), яка розташована суміжно з першою завантажувальною камерою (16, 18), і має прохід (40), крізь який другий виріб (20) завантажують на другі засоби підтримки (22), пересувну платформу (24), профіль якої піднесено не більше, ніж на 2,5 см та яка підтримує першу та другу завантажувальні камери -І (16, 18) з можливістю їх зворотно-поступального пересування відносно камери попереднього нагрівання (14); підшипники (44), які підтримують пересувну платформу (24).
- о 8. Електронно-променевий пристрій (10) за п. 7, який відрізняється тим, що пересувна платформа (24) 2) виконана з можливістю пересування між першою позицією, в якій перша завантажувальна камера (16, 18) 5р Вирівнюється із камерою попереднього нагрівання (14), а друга не вирівнюється із камерою попереднього о нагрівання (14), другою позицією, в якій перша завантажувальна камера (16, 18) не вирівнюється із камерою Ф попереднього нагрівання (14), а друга вирівнюється із камерою попереднього нагрівання (14), та третьою позицією, в якій жодна із завантажувальних камер не вирівнюється із камерою попереднього нагрівання (14).
- 9. Електронно-променевий пристрій (10) за п. 7, який відрізняється тим, що пересувна платформа (24) в додатково має на своїй першій поверхні перший мостовий перехід в ділянці, суміжній із першою завантажувальною камерою (16, 18), та другий мостовий перехід на другій поверхні у ділянці, суміжній із Ф) другою завантажувальною камерою (16, 18). ка 10. Електронно-променевий пристрій (10) за п. 7, який відрізняється тим, що підшипники (44) вмонтовані в поверхню. 60 Офіційний бюлетень "Промислоава власність". Книга 1 "Винаходи, корисні моделі, топографії інтегральних мікросхем", 2004, М 10, 15.10.2004. Державний департамент інтелектуальної власності Міністерства освіти і науки України. б5
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US14723099P | 1999-08-04 | 1999-08-04 | |
| US62175800A | 2000-07-24 | 2000-07-24 | |
| PCT/US2000/021087 WO2001011109A1 (en) | 1999-08-04 | 2000-08-02 | Electron beam physical vapor deposition apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| UA70336C2 true UA70336C2 (uk) | 2004-10-15 |
Family
ID=26844714
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| UA2001042218A UA70336C2 (uk) | 1999-08-04 | 2000-02-08 | Електронно-променевий пристрій для нанесення покриття конденсацією із парової фази (варіанти) |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1117853B1 (uk) |
| JP (1) | JP4780884B2 (uk) |
| DE (1) | DE60000716T2 (uk) |
| UA (1) | UA70336C2 (uk) |
| WO (1) | WO2001011109A1 (uk) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104630737B (zh) * | 2013-11-13 | 2017-02-08 | 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 | 一种在五腔体全自动电子束沉积系统中使用的传输系统 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB869397A (en) * | 1958-07-02 | 1961-05-31 | Libbey Owens Ford Glass Co | Method and apparatus for filming articles by vacuum deposition |
| US3656454A (en) * | 1970-11-23 | 1972-04-18 | Air Reduction | Vacuum coating apparatus |
| FR2502643B1 (fr) * | 1981-03-27 | 1986-05-02 | Western Electric Co | Appareil et procede de depot par jet moleculaire sur plusieurs substrats |
| JP3175333B2 (ja) * | 1992-06-15 | 2001-06-11 | 日新電機株式会社 | 基板処理装置 |
| DE19537092C1 (de) * | 1995-10-05 | 1996-07-11 | Ardenne Anlagentech Gmbh | Elektronenstrahl-Bedampfungsanlage im Durchlaufbetrieb für thermisch hoch belastete Substrate |
| JP3909888B2 (ja) * | 1996-04-17 | 2007-04-25 | キヤノンアネルバ株式会社 | トレイ搬送式インライン成膜装置 |
| JPH10140351A (ja) * | 1996-11-05 | 1998-05-26 | Kobe Steel Ltd | インライン式真空成膜装置 |
-
2000
- 2000-02-08 UA UA2001042218A patent/UA70336C2/uk unknown
- 2000-08-02 DE DE60000716T patent/DE60000716T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-08-02 JP JP2001515353A patent/JP4780884B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2000-08-02 EP EP00953799A patent/EP1117853B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-08-02 WO PCT/US2000/021087 patent/WO2001011109A1/en active IP Right Grant
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4780884B2 (ja) | 2011-09-28 |
| EP1117853B1 (en) | 2002-11-06 |
| DE60000716D1 (de) | 2002-12-12 |
| WO2001011109A1 (en) | 2001-02-15 |
| DE60000716T2 (de) | 2003-10-02 |
| JP2003522295A (ja) | 2003-07-22 |
| EP1117853A1 (en) | 2001-07-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1121475B1 (en) | Electron beam physical vapor deposition apparatus | |
| US6863937B2 (en) | Method of operating an electron beam physical vapor deposition apparatus | |
| US6770333B2 (en) | Method of controlling temperature during coating deposition by EBPVD | |
| US6946034B1 (en) | Electron beam physical vapor deposition apparatus | |
| US7128950B2 (en) | Electron beam physical vapor deposition process | |
| RU2221080C2 (ru) | Устройство для нанесения вакуумным способом покрытия на подшипники скольжения | |
| US8419857B2 (en) | Electron beam vapor deposition apparatus and method of coating | |
| UA70336C2 (uk) | Електронно-променевий пристрій для нанесення покриття конденсацією із парової фази (варіанти) | |
| WO2001011103A2 (en) | Electron beam physical vapor deposition apparatus and control panel therefor | |
| EP1121476B1 (en) | Electron beam physical vapor deposition apparatus | |
| UA71573C2 (uk) | Електронно-променевий пристрій для нанесення покриття конденсацією із парової фази | |
| EP1131474B1 (en) | Electron beam physical vapor deposition apparatus with ingot magazine | |
| JP4662323B2 (ja) | 電子ビーム物理蒸着被覆装置と該装置用のるつぼ | |
| WO2001011105A1 (en) | Electron beam physical vapor deposition apparatus with ingot magazine | |
| UA71924C2 (en) | An electron beam physical vapor deposition apparatus for deposition of coating by condensation of vapor phase | |
| UA72742C2 (en) | An electron beam coating deposition apparatus by vapor phase condensation (variants) | |
| KR20030054772A (ko) | 스퍼터링 방법 |