TWM657034U - 陽極處理設備 - Google Patents

Abstract

一種陽極處理設備，適於對一物件進行陽極處理。陽極處理設備包含一供液裝置、一遮罩裝置及一升降裝置。供液裝置用以供應電解液。遮罩裝置對應於供液裝置並包括一固持件及一遮罩機構。固持件用以固持物件。遮罩機構可在操作中接近或遠離固持件，用以在接近固持件時遮蔽固持件所固持的物件的一部分並使物件的另一部分顯露。升降裝置連接於遮罩裝置用以帶動遮罩裝置相對於供液裝置移動，使得物件能浸泡於電解液內而使顯露出遮罩機構的部分被電解液電解。

Description

陽極處理設備

本新型是有關於一種陽極處理設備，特別是指一種通過電解液對物件進行陽極處理的陽極處理設備。

現有物件在製造過程中會進行陽極處理，使物件得到所需的處理效果。然而，隨著所需處理效果的不同，對物件的一部分進行陽極處理或者是對物件分段地進行陽極處理的處理需求也應運而生。因此，如何構思一種能達到前述需求的設備，遂成為待克服的課題。

因此，本新型之其中一目的，即在提供一種能夠克服先前技術的至少一個缺點的陽極處理設備。

於是，本新型陽極處理設備，適於對一物件進行陽極處理，該陽極處理設備包含一供液裝置、一遮罩裝置，及一升降裝置。

該供液裝置用以供應電解液。該遮罩裝置對應於該供液裝置並包括一固持件，及一遮罩機構。該固持件用以固持該物件。 該遮罩機構可在操作中接近或遠離該固持件，該遮罩機構用以在接近該固持件時遮蔽該固持件所固持的該物件的一部分並使該物件的另一部分顯露。該升降裝置連接於該遮罩裝置用以帶動該遮罩裝置相對於該供液裝置移動，使得該物件能浸泡於該電解液內而使顯露出該遮罩機構的部分被該電解液電解。

在一些實施態樣中，該遮罩裝置還包括一旋轉驅動機構，該旋轉驅動機構用以驅動該固持件旋轉使該固持件帶動該物件旋轉至不同的多個角度位置，使得該物件能分段地被該遮罩機構遮蔽以及分段地顯露出該遮罩機構。

在一些實施態樣中，該遮罩裝置還包括連接於該升降裝置且承載該遮罩機構與該旋轉驅動機構的一承載架，該旋轉驅動機構用以驅動該固持件繞一第一軸線旋轉，該遮罩機構包含能轉動地樞接於該承載架用以遮蔽該物件的一遮罩，及連接於該承載架與該遮罩之間的一氣缸，該氣缸用以驅動該遮罩繞垂直於該第一軸線的一第二軸線在遠離該固持件且未遮蔽該物件的一未遮蔽位置，及接近該固持件且遮蔽該物件的一部分的一遮蔽位置之間旋轉。

在一些實施態樣中，該遮罩裝置還包括一升降驅動機構，該升降驅動機構用以帶動該遮罩機構升降移動至不同的多個高度位置，使得該遮罩機構能分段地遮蔽該物件以及該物件能分段地顯露出該遮罩機構。

在一些實施態樣中，該遮罩裝置還包括連接於該升降裝置且承載該固持件與該升降驅動機構的一承載架，該升降驅動機構用以帶動該遮罩機構沿一垂直方向升降移動，該遮罩機構包含用以遮蔽該物件的一遮罩，及連接於該遮罩的一氣缸，該氣缸用以驅動該遮罩沿垂直於該垂直方向的一水平方向在遠離該固持件且未遮蔽該物件的一未遮蔽位置，及接近該固持件且遮蔽該物件的一部分的一遮蔽位置之間直線移動。

在一些實施態樣中，該固持件形成有用以固持該物件的一固持槽，該升降驅動機構還用以帶動該遮罩機構移動至位於該等高度位置上方的一避讓位置，以使該遮罩機構不會遮擋住該固持槽。

在一些實施態樣中，該遮罩機構包含用以遮蔽該物件的一遮罩，及連接於該遮罩的一氣缸，該氣缸用以驅動該遮罩在遠離該固持件且未遮蔽該物件的一未遮蔽位置，及接近該固持件且遮蔽該物件的一部分的一遮蔽位置之間運動。

在一些實施態樣中，該遮罩機構包含用以遮蔽該物件的一部分的一遮罩板，及設置於該遮罩板的一彈性密封環，該遮罩板形成有用以供該物件的另一部分顯露的一開槽，該彈性密封環用以迫緊接觸該固持件及該物件以環繞在被該遮罩板所遮蔽的該物件的一部分的外周圍。

在一些實施態樣中，該遮罩板形成有一氣室，該彈性密封環環繞於該氣室外周圍，該遮罩機構還包含設置於該遮罩板的一進氣閥，該進氣閥用以將氣體充填至該氣室內。

在一些實施態樣中，該遮罩裝置還包括連接於該升降裝置的一承載架，該遮罩機構還包含樞接於該承載架的一樞接架，及連接於該承載架與該樞接架之間的一氣缸，該遮罩板可拆卸地組裝於該樞接架，該氣缸用以驅動該樞接架旋轉以使該彈性密封環迫緊接觸該固持件及該物件，或是使該彈性密封環與該固持件及該物件分離。

在一些實施態樣中，該固持件包含用以環繞於該物件外周圍的一彈性限位板，該遮罩機構包含一彈性密封板，該彈性密封板用以迫緊接觸該彈性限位板及該物件以遮蔽住該物件的一部分。

在一些實施態樣中，該遮罩機構還包含一氣缸，該氣缸用以驅動該彈性密封板直線移動以使該彈性密封板迫緊接觸該彈性限位板及該物件，或是使該彈性密封板與該彈性限位板及該物件分離。

在一些實施態樣中，該遮罩裝置還包括一導電機構，該導電機構用以電性連接於該物件以傳導電力至該物件。

在一些實施態樣中，該遮罩裝置還包括連接於該升降 裝置且承載該遮罩機構的一承載架，及設置於該承載架的一旋轉驅動機構，該旋轉驅動機構包含與該固持件連接用以帶動該固持件旋轉的一旋轉盤，該導電機構包含設置於該承載架的一導電環、設置於該旋轉盤與該固持件且電性連接於該導電環的一導電柱，及設置於該承載架且電性連接於該導電環並鄰近於該導電環頂端的一電源線，該導電柱用以電性連接於該物件。

在一些實施態樣中，該承載架形成有供該導電環容置的一容置槽，及連通於該容置槽且供該電源線穿設的一走線孔，該旋轉盤形成有供該導電柱穿設的一穿孔，該固持件形成有用以固持該物件的一固持槽，及連通於該固持槽與該穿孔之間且供該導電柱穿設的一通孔。

在一些實施態樣中，該遮罩裝置還包括連接於該升降裝置且承載該固持件的一承載架，及設置於該承載架且連接於該遮罩機構的一升降驅動機構，該升降驅動機構用以帶動該遮罩機構沿一垂直方向升降移動，該導電機構包含設置於該固持件的一導電片，及設置於該固持件的一電源線，該導電片呈長片形且其長向沿該垂直方向延伸用以電性連接於該物件，該電源線電性連接於該導電片且鄰近於該導電片頂端。

在一些實施態樣中，該固持件形成有供該導電片容置的一容置槽、連通於該容置槽且供該電源線穿設的一走線孔，及連 通於該容置槽且鄰近於該容置槽底端用以固持該物件的一固持槽。

在一些實施態樣中，該供液裝置包括用以容置該電解液的一儲液容器，該儲液容器用以供該物件容置使該物件浸泡於該電解液內。

本新型至少具有以下功效：藉由遮罩裝置的遮罩機構可在操作中接近或遠離固持件，以及遮罩機構在接近固持件時能遮蔽固持件所固持的物件的一部分並使物件的另一部分顯露的設計方式，使得物件浸泡於電解液時物件顯露出遮罩機構的部分能被電解液電解，從而能達到對物件的一部分進行陽極處理的功效。

100:陽極處理設備

1:機座

11:座體

12:支撐架

2:供液裝置

21:儲液容器

3:遮罩裝置

31:固持件

311:固持槽

312:通孔

313:背板

314:彈性限位板

315:容置槽

316:走線孔

32:遮罩機構

33:承載架

330:承載殼

331:立板

332:頂板

333:前框件

334:後框件

335:前樞軸

336:後樞軸

337:軸孔

338:容置槽

339:走線孔

340:懸臂

35:旋轉驅動機構

351:馬達

352:傳動軸

353:傳動齒輪組

354:旋轉盤

355:穿孔

36:導電機構

361:導電環

362:導電柱

363:電源線

364:導電片

370:遮罩

371:氣缸

372:樞接架

373:遮罩板

374:彈性密封環

375:螺絲

376:內板面

377:外板面

378:開槽

379:環形溝槽

380:樞軸

381:氣室

382:安裝孔

383:進氣閥

384:連接架

385:載板

386:彈性密封板

39:升降驅動機構

391:升降架

4:升降裝置

41:升降架

5:電解液

6:物件

61:表面

611:第一段

612:第二段

613:第三段

A1:第一軸線

A2:第二軸線

R1:第一旋轉方向

R2:第二旋轉方向

X:第一水平方向

Y:第二水平方向

Z:垂直方向

本新型之其他的特徵及功效，將於參照圖式的實施方式中清楚地呈現，其中：圖1是本新型陽極處理設備的第一實施例與一物件的一立體圖，說明一機座、一供液裝置、一遮罩裝置，及一升降裝置之間的配置關係；圖2是第一實施例的遮罩裝置與物件的一立體分解圖；圖3是第一實施例的遮罩裝置與物件的一剖視圖，說明一遮罩在一未遮蔽位置；圖4是第一實施例的遮罩裝置與物件的一剖視圖，說明一遮罩 在一遮蔽位置；圖5是第一實施例與物件的一不完整前視圖；圖6是第一實施例與物件的一不完整前視圖，說明升降裝置帶動物件下移使物件浸泡於一儲液容器的電解液內；圖7是第一實施例的遮罩裝置與物件的一剖視圖，說明一旋轉驅動機構帶動一固持件及物件旋轉；圖8是第一實施例與物件的一不完整前視圖；圖9是第一實施例與物件的一不完整前視圖；圖10是本新型陽極處理設備的第二實施例與物件的一立體圖；圖11是第二實施例與物件的一不完整立體分解圖；圖12是第二實施例與物件的一不完整剖視圖；圖13是第二實施例的遮罩裝置與物件的一剖視圖，說明遮罩在未遮蔽位置；圖14是第二實施例的遮罩裝置與物件的一剖視圖，說明遮罩在遮蔽位置；圖15是第二實施例與物件的一不完整前視圖；圖16是第二實施例與物件的一不完整前視圖；圖17是第二實施例的遮罩裝置與物件的一剖視圖；圖18是第二實施例與物件的一不完整前視圖；及圖19是第二實施例與物件的一不完整前視圖。

在本新型被詳細描述之前，應當注意在以下的說明內容中，類似的元件是以相同的編號來表示。

參閱圖1，本新型陽極處理設備100的第一實施例，包含一機座1、一供液裝置2、一遮罩裝置3，及一升降裝置4。

為了便於後續說明，定義陽極處理設備100的一第一水平方向X、垂直於第一水平方向X的一第二水平方向Y，及垂直於第一水平方向X與第二水平方向Y的一垂直方向Z。第一水平方向X是以前後方向為例，圖1中的箭頭所指方向為前，反向為後。第二水平方向Y是以左右方向為例，圖1中的箭頭所指方向為左，反向為右。垂直方向Z為上下方向，圖1中的箭頭所指方向為上，反向為下。

機座1包括一座體11，及設置於座體11頂端的一支撐架12。供液裝置2設置於座體11頂端且位於支撐架12前方。供液裝置2用以供應電解液5。遮罩裝置3對應於供液裝置2並包括一固持件31，及一遮罩機構32。固持件31用以固持一物件6。遮罩機構32可在操作中接近或遠離固持件31。遮罩機構32用以在接近固持件31時遮蔽固持件31所固持的物件6的一部分並使物件6的另一部分顯露。升降裝置4連接於遮罩裝置3用以帶動遮罩裝置3相對於供液裝置2移動，使得物件6能浸泡於電解液5內而使顯露出遮罩機構32的 部分被電解液5電解。藉此，使得陽極處理設備100能對物件6顯露出遮罩機構32的一部分進行陽極處理。

參閱圖1及圖2，物件6為含鋁且例如經過一次陽極處理的物件。物件6例如呈圓片狀並具有一表面61。供液裝置2包括開口朝上且容置電解液5的一儲液容器21。儲液容器21用以供物件6容置使物件6浸泡於電解液5內。

參閱圖1、圖2及圖3，遮罩裝置3還包括一承載架33、一旋轉驅動機構35，及一導電機構36。承載架33包含一承載殼330、一立板331、一頂板332、一前框件333、一後框件334、一前樞軸335，及一後樞軸336。立板331連接於承載殼330前端。立板331形成有一軸孔337、環繞於軸孔337外周圍且朝前並呈環形狀的一容置槽338，及連通於容置槽338且朝後並鄰近於容置槽338頂端的一走線孔339。頂板332連接於承載殼330頂端及立板331頂端。前框件333及後框件334設置於頂板332頂端且沿第一水平方向X前後相間隔。前樞軸335及後樞軸336分別設置於前框件333及後框件334。前樞軸335及後樞軸336各自的軸向沿第二水平方向Y延伸。

旋轉驅動機構35設置於承載架33並包含一馬達351、一傳動軸352、一傳動齒輪組353，及一旋轉盤354。馬達351設置於承載殼330。傳動軸352能轉動地樞接於立板331的軸孔337且凸伸出立板331前後端。傳動軸352的軸向沿第一水平方向X延伸且界 定出一第一軸線A1。傳動齒輪組353連接於馬達351與傳動軸352之間且位於立板331後方。旋轉盤354位於立板331前方且套固於傳動軸352。旋轉盤354形成有連通於容置槽338的一穿孔355。馬達351作動時能通過傳動齒輪組353及傳動軸352帶動旋轉盤354繞傳動軸352所界定出的第一軸線A1旋轉。

固持件31呈圓盤狀並通過如螺絲鎖固的方式固定地連接於旋轉盤354前端。固持件31形成有朝前的一固持槽311，及朝後且連通於固持槽311與旋轉盤354的穿孔355之間的一通孔312。固持槽311例如呈圓槽形用以固持物件6。固持件31能被旋轉盤354帶動而繞第一軸線A1旋轉並且帶動物件6旋轉至不同的多個角度位置，使得物件6能分段地被遮罩機構32遮蔽以及分段地顯露出遮罩機構32。藉此，使得陽極處理設備100能對物件6分段地進行陽極處理。

導電機構36包含一導電環361、一導電柱362，及一電源線363。導電環361呈環形狀且容置於立板331的容置槽338。導電柱362穿設於旋轉盤354的穿孔355及固持件31的通孔312且電性連接於導電環361。導電柱362用以電性連接於固持件31所固持的物件6。電源線363穿設於立板331的走線孔339。電源線363的一端連接於一電力供應源(圖未示)，電源線363的另一端電性連接於導電環361並鄰近於導電環361頂端。藉此，使得電源線363與導電 環361的接觸位置能夠遠離立板331底端，以防止電源線363與導電環361的接觸位置接觸到電解液5。導電機構36通過電源線363、導電環361及導電柱362將電力供應源所產生的電力傳導至物件6。

遮罩機構32包含一遮罩370，及一氣缸371。遮罩370位於承載架33上方且部分凸伸出立板331，用以遮蔽物件6的一部分。遮罩370包括一樞接架372、一遮罩板373，及一彈性密封環374。樞接架372通過前樞軸335樞接於承載架33的前框件333。樞接架372能繞前樞軸335所界定出的一第二軸線A2相對於承載架33旋轉。第二軸線A2垂直於第一軸線A1。

遮罩板373可拆卸地組裝於樞接架372。在本實施例中，遮罩板373例如通過多個螺絲375鎖固於樞接架372上。遮罩板373用以遮蔽物件6的一部分。遮罩板373具有一內板面376，及相反於內板面376的一外板面377。遮罩板373前端向後凹陷形成有一開槽378。開槽378延伸於內板面376與外板面377之間用以供物件6的另一部分顯露。開槽378的形狀是依照物件6所需顯露出的形狀而設計。開槽378是以方形狀為例但不以此為限。遮罩板373還形成有位於開槽378後方的一環形溝槽379。環形溝槽379例如圍繞成半圓形。

彈性密封環374例如由矽膠或橡膠等彈性材質所製成並且圍繞成半圓形。彈性密封環374的一部分嵌合於環形溝槽379 而另一部分凸伸出內板面376。彈性密封環374用以迫緊接觸固持件31及物件6以環繞在被遮罩板373所遮蔽的物件6的一部分的外周圍。環形溝槽379的形狀以及彈性密封環374所圍繞的形狀是依照物件6所需遮蔽的形狀而設計，不以前述形狀為限。

參閱圖2、圖3及圖4，氣缸371前端通過一樞軸380樞接於遮罩370的樞接架372。氣缸371後端通過後樞軸336樞接於承載架33的後框件334。該氣缸371用以驅動遮罩370繞第二軸線A2在遠離固持件31且未遮蔽物件6的一未遮蔽位置(如圖3所示)，及接近固持件31且遮蔽物件6的一部分的一遮蔽位置(如圖4所示)之間旋轉。

具體而言，遮罩370的遮罩板373的內板面376凹陷形成有一氣室381。遮罩板373的外板面377凹陷形成有連通於氣室381的一安裝孔382。遮罩機構32還包含安裝於安裝孔382的一進氣閥383。進氣閥383通過一輸氣管(圖未示)與一氣體供應源(圖未示)連接。進氣閥383用以將氣體供應源所供應的氣體充填至氣室381內。彈性密封環374環繞於氣室381外周圍。

參閱圖1，升降裝置4為設置於機座1的支撐架12的一電動缸。升降裝置4包括連接於承載架33後端的一升降架41。升降架41用以帶動遮罩裝置3及遮罩裝置3所固持的物件6沿垂直方向Z升降移動，使得物件6能容置於儲液容器21並浸泡於電解液5內。

以下針對陽極處理設備100對物件6實施分段式陽極處理的方式進行詳細說明：

在本第一實施例中，是以陽極處理設備100對物件6實施二段陽極處理為例作說明，但不以此為限。陽極處理設備100可以依照需求實施三段或三段以上的陽極處理。

參閱圖1及圖3，首先，將物件6放置於固持件31的固持槽311內，使物件6接觸導電機構36的導電柱362。固持槽311通過卡合方式固持物件6。

參閱圖4及圖5，控制氣缸371作動並伸長，氣缸371伸長過程中通過樞軸380推動樞接架372，使遮罩370由未遮蔽位置沿一第一旋轉方向R1繞第二軸線A2相對於承載架33旋轉。當遮罩370旋轉至遮蔽位置時，氣缸371停止作動。此時，彈性密封環374迫緊接觸固持件31及物件6的表面61且環繞在被遮罩板373所遮蔽的物件6的表面61的一部分的外周圍，物件6的表面61的另一部分則通過開槽378顯露。隨後，控制氣體供應源作動，使進氣閥383將氣體供應源所供應的氣體充填至氣室381內。由於彈性密封環374迫緊接觸於固持件31及物件6的表面61並且環繞於氣室381外周圍，因此，被彈性密封環374所環繞的氣室381會呈一氣密狀態。於是。經由進氣閥383充填至氣室381內的氣體不會外洩，使得氣室381內能充填滿氣體。

參閱圖4及圖6，控制升降裝置4作動，使升降架41帶動遮罩裝置3及遮罩裝置3所固持的物件6沿垂直方向Z向下移動。當物件6由圖5所示的一初始高度位置下移至圖6所示的一預設高度位置時，升降架41即停止下移。此時，物件6的一部分容置於儲液容器21且浸泡於電解液5內。其中，物件6的表面61通過開槽378顯露且呈半圓形的一第一段611浸泡於電解液5內並與電解液5接觸。藉由彈性密封環374迫緊接觸固持件31及物件6的表面61且環繞在被遮罩板373所遮蔽的物件6的表面61的一部分的外周圍，能防止電解液5滲流入彈性密封環374所圍繞的區域範圍內，以避免被遮罩板373所遮蔽的物件6的表面61的一部分接觸到電解液5。此外，藉由氣室381內能充填滿氣體，能進一步地提升防止電解液5滲流入彈性密封環374所圍繞的區域範圍內的功效。藉此，以避免表面61除了第一段611以外的其餘部位接觸到電解液5。

接著，控制電力供應源作動，使導電機構36通過電源線363、導電環361及導電柱362將電力供應源所產生的電力傳導至物件6。藉此，使得陽極處理設備100(如圖1所示)能在一段預設時間內對物件6的第一段611進行陽極處理。

參閱圖5及圖7，當陽極處理設備100對物件6的第一段611進行完陽極處理時，控制電力供應源停止作動，使導電機構36停止傳導電力至物件6。控制升降裝置4作動，使升降架41帶動遮罩 裝置3及遮罩裝置3所固持的物件6沿垂直方向Z向上移動。當物件6復位至圖5所示的初始高度位置時，升降架41即停止上移。接著，控制氣體供應源停止作動，使進氣閥383停止將氣體充填至氣室381內。隨後，控制氣缸371作動並收縮，氣缸371收縮過程中通過樞軸380拉動樞接架372，使遮罩370由遮蔽位置沿相反於第一旋轉方向R1(如圖4所示)的一第二旋轉方向R2繞第二軸線A2相對於承載架33旋轉。當遮罩370旋轉並復位至未遮蔽位置時，氣缸371停止作動。此時，遮罩370遠離固持件31及物件6且未遮蔽物件6，彈性密封環374與固持件31及物件6的表面61分離。

參閱圖7及圖8，之後，控制旋轉驅動機構35的馬達351作動。馬達351作動過程中通過傳動齒輪組353及傳動軸352帶動旋轉盤354繞傳動軸352所界定出的第一軸線A1旋轉。旋轉盤354旋轉過程中會帶動固持件31及固持件31所固持的物件6旋轉。當固持件31帶動物件6旋轉例如180度而到達圖8所示的一角度位置時，馬達351即停止作動。此時，物件6的第一段611位於上方，而物件6的一第二段612則位於第一段611下方。第二段612呈半圓形並與第一段611相連接。由於導電環361呈環形狀，因此，旋轉盤354及固持件31帶動導電柱362旋轉的過程中，導電柱362都能保持與導電環361接觸的狀態。藉此，使得物件6旋轉至前述角度位置時，導電柱362仍能確實地連接於導電環361與物件6之間。

接下來，重複前述的操作步驟使陽極處理設備100對物件6的第二段612進行陽極處理。

參閱圖4及圖8，首先，控制氣缸371驅動遮罩370旋轉至遮蔽位置，使彈性密封環374迫緊接觸固持件31及物件6的表面61以環繞在被遮罩板373所遮蔽的物件6的表面61的第一段611的外周圍。物件6的表面61的第二段612則通過開槽378顯露。控制氣體供應源作動，使進氣閥383將氣體供應源所供應的氣體充填至氣室381內並在氣室381內充填滿氣體。

參閱圖7及圖9，控制升降裝置4的升降架41帶動遮罩裝置3及遮罩裝置3所固持的物件6沿垂直方向Z向下移動至圖9所示的預設高度位置。此時，物件6通過開槽378顯露的第二段612浸泡於電解液5內並與電解液5接觸。接著，控制電力供應源作動，使導電機構36通過電源線363、導電環361及導電柱362將電力供應源所產生的電力傳導至物件6。藉此，使得陽極處理設備100能在一段預設時間內對物件6的第二段612進行陽極處理。

參閱圖7及圖8，當陽極處理設備100對物件6的第二段612進行完陽極處理時，控制電力供應源停止作動，使導電機構36停止傳導電力至物件6。控制升降裝置4的升降架41帶動遮罩裝置3及遮罩裝置3所固持的物件6沿垂直方向Z向上移動，使物件6復位至圖8所示的初始高度位置。控制氣體供應源停止作動，使進氣閥 383停止將氣體充填至氣室381內。隨後，控制氣缸371驅動遮罩370旋轉至未遮蔽位置，使遮罩370遠離固持件31及物件6且未遮蔽物件6。此時，操作人員能方便且快速地將物件6由固持件31的固持槽311內取下，從而完成物件6的分段陽極處理。陽極處理設備100通過對物件6的第一段611及第二段612進行陽極處理的預設時間不同，使得物件6的第一段611及第二段612能分別呈現出不同的陽極處理效果。

參閱圖3、圖4、圖6及圖9，藉由遮罩裝置3的遮罩機構32可在操作中接近或遠離固持件31，以及遮罩機構32在接近固持件31時能遮蔽固持件31所固持的物件6的一部分並使物件6的另一部分顯露的設計方式，使得物件6浸泡於電解液5時物件6顯露出遮罩機構32的部分能被電解液5電解，從而能達到對物件6的一部分進行陽極處理的功效。此外，藉由旋轉驅動機構35驅動固持件31旋轉並通過固持件31帶動物件6旋轉至不同的該等角度位置的設計方式，使得物件6能分段地被遮罩機構32遮蔽以及分段地顯露出遮罩機構32，藉此，使得陽極處理設備100能對物件6分段地進行陽極處理。再者，藉由遮罩板373可拆卸地組裝於樞接架372的設計方式，使得遮罩370能夠依照物件6所欲顯露的區域形狀而對應地更換上具有相應開槽378形狀的遮罩板373，藉此，能增加使用上的彈性及便利性。

參閱圖10，本新型陽極處理設備100的第二實施例，其整體結構大致與第一實施例相同，不同處在於遮罩裝置3。

參閱圖10、圖11及圖12，承載架33包含連接於升降裝置4的升降架41的立板331，及凸設於立板331前端的兩個懸臂340。該等懸臂340沿第二水平方向Y相間隔且鄰近於立板331底端。固持件31包含一背板313，及一彈性限位板314。背板313固定地連接於承載架33的該等懸臂340前端。背板313形成有朝前的一容置槽315，及連通於容置槽315且朝後的一走線孔316。容置槽315呈長槽形且其長向沿垂直方向Z延伸。走線孔316鄰近於容置槽315頂端並供電源線363穿設。彈性限位板314設置於背板313前端並與背板313共同界定出固持槽311。該彈性限位板314環繞於固持槽311外周圍。固持槽311連通於容置槽315且鄰近於容置槽315底端用以固持物件6。彈性限位板314例如由矽膠或橡膠等彈性材質所製成。在本第二實施例中，物件6例如呈方片狀，固持槽311例如呈方槽形。

導電機構36包含一導電片364。導電片364呈長片形且其長向沿垂直方向Z延伸並容置於固持件31的容置槽315。導電片364用以電性連接於固持件31所固持的物件6。電源線363電性連接於導電片364且鄰近於導電片364頂端。藉此，使得電源線363與導電片364的接觸位置能夠遠離固持件31底端，以防止電源線363與 導電片364的接觸位置接觸到電解液5。

遮罩機構32包含一連接架384。氣缸371設置於連接架384底端。遮罩370包括一載板385，及一彈性密封板386。載板385連接於氣缸371後端。彈性密封板386設置於載板385後端且例如由矽膠或橡膠等彈性材質所製成。彈性密封板386用以迫緊接觸固持件31的彈性限位板314及物件6以遮蔽住物件6的一部分。氣缸371用以驅動遮罩370沿第一水平方向X在未遮蔽位置(如圖13所示)及遮蔽位置(如圖14所示)之間直線移動。

遮罩裝置3還包括一升降驅動機構39。升降驅動機構39為設置於承載架33的立板331前端且位於固持件31上方的一電動缸。升降驅動機構39包括連接於遮罩機構32的連接架384後端的一升降架391。升降架391用以帶動遮罩機構32沿垂直方向Z升降移動至不同的多個高度位置，使得遮罩機構32能分段地遮蔽物件6以及物件6能分段地顯露出遮罩機構32。具體而言，升降驅動機構39的升降架391還用以帶動遮罩機構32沿垂直方向Z移動至位於該等高度位置上方的一避讓位置(如圖12所示)，使得遮罩機構32不會遮擋住固持件31的固持槽311進而影響到物件6放置於固持槽311的上料操作或者是物件6由固持槽311取下的下料操作。

以下針對陽極處理設備100對物件6實施分段式陽極處理的方式進行詳細說明：

在本第二實施例中，是以陽極處理設備100對物件6實施三段陽極處理為例作說明，但不以此為限。陽極處理設備100可以依照需求實施二段、四段或四段以上的陽極處理。

參閱圖10及圖12，當遮罩機構32在避讓位置時，將物件6放置於固持件31的固持槽311內，使物件6接觸導電機構36的導電片364。

參閱圖13，控制升降驅動機構39的升降架391帶動遮罩機構32向下移動至例如圖13所示的高度位置。此時，遮罩370處在遠離固持件31且未遮蔽物件6的未遮蔽位置，且遮罩370與物件6的表面61在第一水平方向X上的投影部分重疊。具體而言，遮罩370與物件6的表面61的大部分區域重疊但未與鄰近表面61底端的小部分區域重疊。

參閱圖14及圖15，控制氣缸371驅動遮罩370由未遮蔽位置沿第一水平方向X向後直線移動至圖14所示的遮蔽位置。此時，彈性密封板386迫緊接觸固持件31的彈性限位板314及物件6的表面61的一部分，物件6的表面61的另一部分則顯露於遮罩370底端。具體而言，物件6的表面61是以呈長形的第一段611顯露於遮罩370底端。

參閱圖14及圖16，控制升降裝置4的升降架41(如圖12所示)帶動遮罩裝置3及遮罩裝置3所固持的物件6沿垂直方向Z向 下移動，使物件6移動至圖16所示的預設高度位置。此時，物件6容置於儲液容器21內且整個浸泡於電解液5內。其中，物件6的表面61顯露於遮罩370底端的第一段611浸泡於電解液5內並與電解液5接觸。藉由遮罩370的彈性密封板386迫緊接觸固持件31的彈性限位板314及物件6的表面61，使得彈性密封板386所接觸的區域能產生密封的效果。藉此，能防止電解液5滲流入彈性密封板386與表面61接觸的區域範圍內，以避免表面61除了第一段611以外的其餘部位接觸到電解液5。

接著，控制電力供應源作動，使導電機構36通過電源線363及導電片364將電力供應源所產生的電力傳導至物件6。藉此，使得陽極處理設備100(如圖10所示)能在一段預設時間內對物件6的第一段611進行陽極處理。

參閱圖13及圖15，當陽極處理設備100對物件6的第一段611進行完陽極處理時，控制電力供應源停止作動，使導電機構36停止傳導電力至物件6。控制升降裝置4的升降架41(如圖12所示)帶動遮罩裝置3及遮罩裝置3所固持的物件6沿垂直方向Z向上移動，使物件6復位至圖15所示的初始高度位置。接著，控制氣缸371驅動遮罩370由遮蔽位置沿第一水平方向X向前直線移動並復位至未遮蔽位置。此時，遮罩370遠離固持件31及物件6且未遮蔽物件6，彈性密封板386與固持件31的彈性限位板314及物件6的表面 61分離。

參閱圖17及圖18，控制升降驅動機構39的升降架391帶動遮罩機構32向上移動至例如圖17所示的另一個高度位置。此時，遮罩370與物件6的表面61的第一段611以及連接於第一段611頂端且呈長形的第二段612在第一水平方向X上的投影未重疊，遮罩370與物件6的表面61的連接於第二段612頂端且呈長形的一第三段613在第一水平方向X上的投影重疊。隨後，控制氣缸371驅動遮罩370由未遮蔽位置沿第一水平方向X向後直線移動至圖17所示的遮蔽位置。此時，彈性密封板386迫緊接觸固持件31的彈性限位板314及物件6的表面61的第三段613，彈性密封板386遮蔽第三段613，物件6的表面61的第一段611及第二段612則顯露於遮罩370底端。

參閱圖17及圖19，控制升降裝置4的升降架41(如圖12所示)帶動遮罩裝置3及遮罩裝置3所固持的物件6沿垂直方向Z向下移動，使物件6移動至圖19所示的預設高度位置。此時，物件6容置於儲液容器21內且整個浸泡於電解液5內。其中，物件6的表面61顯露於遮罩370底端的第一段611及第二段612浸泡於電解液5內並與電解液5接觸。控制電力供應源作動，使導電機構36通過電源線363及導電片364將電力供應源所產生的電力傳導至物件6。藉此，使得陽極處理設備100(如圖10所示)能在一段預設時間內對物件6 的第一段611及第二段612進行陽極處理。

當陽極處理設備100對物件6的第一段611及第二段612進行完陽極處理時，控制電力供應源停止作動，使導電機構36停止傳導電力至物件6。控制升降裝置4的升降架41帶動遮罩裝置3及遮罩裝置3所固持的物件6沿垂直方向Z向上移動並復位至圖18所示的初始高度位置。接著，控制氣缸371驅動遮罩370移動並復位至未遮蔽位置。控制升降驅動機構39的升降架391帶動遮罩機構32向上移動至另一個高度位置，使遮罩370與物件6的表面61的第一段611、第二段612及第三段613在第一水平方向X上的投影未重疊。之後，控制升降裝置4的升降架41帶動遮罩裝置3及遮罩裝置3所固持的物件6沿垂直方向Z向下移動，使物件6的第一段611、第二段612及第三段613浸泡於電解液5內並與電解液5接觸。控制電力供應源作動，使導電機構36通過電源線363及導電片364將電力供應源所產生的電力傳導至物件6。藉此，使得陽極處理設備100能在一段預設時間內對物件6的第一段611、第二段612及第三段613進行陽極處理。

當陽極處理設備100對物件6的第一段611、第二段612及第三段613進行完陽極處理時，控制電力供應源停止作動，使導電機構36停止傳導電力至物件6。控制升降裝置4的升降架41帶動遮罩裝置3及遮罩裝置3所固持的物件6沿垂直方向Z向上移動並復 位至初始高度位置。此時，操作人員能將物件6由固持件31的固持槽311內取下，從而完成物件6的分段陽極處理。由於物件6的第一段611、第二段612及第三段613在前述製程中是分別經過三次、兩次及一次陽極處理，因此，物件6的第一段611、第二段612及第三段613能分別呈現出不同的陽極處理效果。

在本第二實施例中，藉由升降驅動機構39帶動遮罩機構32沿垂直方向Z升降移動至不同的該等高度位置的設計方式，使得遮罩機構32能分段地遮蔽物件6以及物件6能分段地顯露出遮罩機構32。藉此，使得陽極處理設備100能對物件6分段地進行陽極處理。

綜上所述，各實施例的陽極處理設備100，藉由遮罩裝置3的遮罩機構32可在操作中接近或遠離固持件31，以及遮罩機構32在接近固持件31時能遮蔽固持件31所固持的物件6的一部分並使物件6的另一部分顯露的設計方式，使得物件6浸泡於電解液5時物件6顯露出遮罩機構32的部分能被電解液5電解，從而能達到對物件6的一部分進行陽極處理的功效。此外，藉由旋轉驅動機構35驅動固持件31旋轉或者是升降驅動機構39帶動遮罩機構32升降移動的方式，使得陽極處理設備100能對物件6分段地進行陽極處理，故確實能達成本新型之目的。

惟以上所述者，僅為本新型之實施例而已，當不能以此 限定本新型實施之範圍，凡是依本新型申請專利範圍及專利說明書內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本新型專利涵蓋之範圍內。

100:陽極處理設備

1:機座

11:座體

12:支撐架

2:供液裝置

21:儲液容器

3:遮罩裝置

31:固持件

311:固持槽

32:遮罩機構

33:承載架

370:遮罩

371:氣缸

4:升降裝置

41:升降架

5:電解液

6:物件

X:第一水平方向

Y:第二水平方向

Z:垂直方向

Claims (18)

1. 一種陽極處理設備，適於對一物件進行陽極處理，該陽極處理設備包含：一供液裝置，用以供應電解液；一遮罩裝置，對應於該供液裝置並包括一固持件，及一遮罩機構，該固持件用以固持該物件，該遮罩機構可在操作中接近或遠離該固持件，該遮罩機構用以在接近該固持件時遮蔽該固持件所固持的該物件的一部分並使該物件的另一部分顯露；及一升降裝置，連接於該遮罩裝置用以帶動該遮罩裝置相對於該供液裝置移動，使得該物件能浸泡於該電解液內而使顯露出該遮罩機構的部分被該電解液電解。
2. 如請求項1所述的陽極處理設備，其中，該遮罩裝置還包括一旋轉驅動機構，該旋轉驅動機構用以驅動該固持件旋轉使該固持件帶動該物件旋轉至不同的多個角度位置，使得該物件能分段地被該遮罩機構遮蔽以及分段地顯露出該遮罩機構。
3. 如請求項2所述的陽極處理設備，其中，該遮罩裝置還包括連接於該升降裝置且承載該遮罩機構與該旋轉驅動機構的一承載架，該旋轉驅動機構用以驅動該固持件繞一第一軸線旋轉，該遮罩機構包含能轉動地樞接於該承載架用以遮蔽該物件的一遮罩，及連接於該承載架與該遮罩之間的一氣缸，該氣缸用以驅動該遮罩繞垂直於該第一軸線的一第二軸線在遠離該固持件且未遮蔽該物 件的一未遮蔽位置，及接近該固持件且遮蔽該物件的一部分的一遮蔽位置之間旋轉。
4. 如請求項1所述的陽極處理設備，其中，該遮罩裝置還包括一升降驅動機構，該升降驅動機構用以帶動該遮罩機構升降移動至不同的多個高度位置，使得該遮罩機構能分段地遮蔽該物件以及該物件能分段地顯露出該遮罩機構。
5. 如請求項4所述的陽極處理設備，其中，該遮罩裝置還包括連接於該升降裝置且承載該固持件與該升降驅動機構的一承載架，該升降驅動機構用以帶動該遮罩機構沿一垂直方向升降移動，該遮罩機構包含用以遮蔽該物件的一遮罩，及連接於該遮罩的一氣缸，該氣缸用以驅動該遮罩沿垂直於該垂直方向的一水平方向在遠離該固持件且未遮蔽該物件的一未遮蔽位置，及接近該固持件且遮蔽該物件的一部分的一遮蔽位置之間直線移動。
6. 如請求項4所述的陽極處理設備，其中，該固持件形成有用以固持該物件的一固持槽，該升降驅動機構還用以帶動該遮罩機構移動至位於該等高度位置上方的一避讓位置，以使該遮罩機構不會遮擋住該固持槽。
7. 如請求項1所述的陽極處理設備，其中，該遮罩機構包含用以遮蔽該物件的一遮罩，及連接於該遮罩的一氣缸，該氣缸用以驅動該遮罩在遠離該固持件且未遮蔽該物件的一未遮蔽位置，及接近該固持件且遮蔽該物件的一部分的一遮蔽位置之間運動。
8. 如請求項1所述的陽極處理設備，其中，該遮罩機構包含用以遮蔽該物件的一部分的一遮罩板，及設置於該遮罩板的一彈性密封環，該遮罩板形成有用以供該物件的另一部分顯露的一開槽，該彈性密封環用以迫緊接觸該固持件及該物件以環繞在被該遮罩板所遮蔽的該物件的一部分的外周圍。
9. 如請求項8所述的陽極處理設備，其中，該遮罩板形成有一氣室，該彈性密封環環繞於該氣室外周圍，該遮罩機構還包含設置於該遮罩板的一進氣閥，該進氣閥用以將氣體充填至該氣室內。
10. 如請求項8所述的陽極處理設備，其中，該遮罩裝置還包括連接於該升降裝置的一承載架，該遮罩機構還包含樞接於該承載架的一樞接架，及連接於該承載架與該樞接架之間的一氣缸，該遮罩板可拆卸地組裝於該樞接架，該氣缸用以驅動該樞接架旋轉以使該彈性密封環迫緊接觸該固持件及該物件，或是使該彈性密封環與該固持件及該物件分離。
11. 如請求項1所述的陽極處理設備，其中，該固持件包含用以環繞於該物件外周圍的一彈性限位板，該遮罩機構包含一彈性密封板，該彈性密封板用以迫緊接觸該彈性限位板及該物件以遮蔽住該物件的一部分。
12. 如請求項11所述的陽極處理設備，其中，該遮罩機構還包含一氣缸，該氣缸用以驅動該彈性密封板直線移動以使該彈性密封板迫緊接觸該彈性限位板及該物件，或是 使該彈性密封板與該彈性限位板及該物件分離。
13. 如請求項1所述的陽極處理設備，其中，該遮罩裝置還包括一導電機構，該導電機構用以電性連接於該物件以傳導電力至該物件。
14. 如請求項13所述的陽極處理設備，其中，該遮罩裝置還包括連接於該升降裝置且承載該遮罩機構的一承載架，及設置於該承載架的一旋轉驅動機構，該旋轉驅動機構包含與該固持件連接用以帶動該固持件旋轉的一旋轉盤，該導電機構包含設置於該承載架的一導電環、設置於該旋轉盤與該固持件且電性連接於該導電環的一導電柱，及設置於該承載架且電性連接於該導電環並鄰近於該導電環頂端的一電源線，該導電柱用以電性連接於該物件。
15. 如請求項14所述的陽極處理設備，其中，該承載架形成有供該導電環容置的一容置槽，及連通於該容置槽且供該電源線穿設的一走線孔，該旋轉盤形成有供該導電柱穿設的一穿孔，該固持件形成有用以固持該物件的一固持槽，及連通於該固持槽與該穿孔之間且供該導電柱穿設的一通孔。
16. 如請求項13所述的陽極處理設備，其中，該遮罩裝置還包括連接於該升降裝置且承載該固持件的一承載架，及設置於該承載架且連接於該遮罩機構的一升降驅動機構，該升降驅動機構用以帶動該遮罩機構沿一垂直方向升降移動，該導電機構包含設置於該固持件的一導電 片，及設置於該固持件的一電源線，該導電片呈長片形且其長向沿該垂直方向延伸用以電性連接於該物件，該電源線電性連接於該導電片且鄰近於該導電片頂端。
17. 如請求項16所述的陽極處理設備，其中，該固持件形成有供該導電片容置的一容置槽、連通於該容置槽且供該電源線穿設的一走線孔，及連通於該容置槽且鄰近於該容置槽底端用以固持該物件的一固持槽。
18. 如請求項1所述的陽極處理設備，其中，該供液裝置包括用以容置該電解液的一儲液容器，該儲液容器用以供該物件容置使該物件浸泡於該電解液內。

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