JP2022084287A - 下面ブラシ、ブラシベースおよび基板洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
Description
(1)ブラシユニットの構成
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る下面ブラシおよびブラシベースを含むブラシユニットの外観斜視図である。図1に示すように、ブラシユニット300は、ブラシベース200上に下面ブラシ100が取り付けられることにより構成される。下面ブラシ100は、例えばPVA(ポリビニールアルコール)またはPTFE(ポリテトラフルオロエチレン)等の比較的軟質な樹脂材料により形成されてもよい。ブラシベース200は、例えばPVC(ポリ塩化ビニル)またはPP(ポリプロピレン)等の比較的硬質の樹脂により形成されてもよい。
ブラシユニット300は、基板の下面の洗浄に用いられる。以下、基板の下面のうち中央部分を下面中央領域と呼ぶ。基板の下面のうち下面中央領域を取り囲む領域を下面外側領域と呼ぶ。なお、基板の下面とは、下方を向く基板の面をいう。したがって、基板の回路形成面(表面)が下方を向く場合には基板の表面が下面であり、表面とは反対側の面(裏面)が下方を向く場合には基板の裏面が下面である。
本実施の形態において、平面視における下面ブラシ100の外形は円形状であるが、実施の形態はこれに限定されない。平面視における下面ブラシ100の外形は他の形状であってもよい。この場合、洗浄部120は、平面視において、土台部110の外縁のうち最も離間した2点間の間で延びるように設けられる。これにより、洗浄可能な領域を大きく維持することができる。以下、変形例に係る下面ブラシ100について、図2の下面ブラシ100と異なる点を説明する。
本実施の形態に係る下面ブラシ100においては、洗浄部120が、土台部110の上面から上方に突出しかつ平面視における土台部110の幾何学的中心101を通って一方向に延びるよう土台部110の上面に設けられる。また、洗浄部130が、土台部110の上面から上方に突出しかつ土台部110の外縁に沿うように土台部110の上面に設けられる。
図7は、参考例に係る下面ブラシの外観斜視図である。図7に示すように、参考例に係る下面ブラシ100Aは、洗浄部130を含まない点および土台部110に貫通孔113が形成されない点を除いて、図6の変形例に係る下面ブラシ100と同様の構成を有する。また、下面ブラシ100Aに対応するブラシベースには、貫通孔203が形成されなくてもよい。
(1)ブラシユニットの構成
第2の実施の形態に係る下面ブラシ100およびブラシベース200について、第1の実施の形態に係る下面ブラシ100およびブラシベース200と異なる点を説明する。図8は、本発明の第2の実施の形態に係る下面ブラシ100の外観斜視図である。図8に示すように、本実施の形態においては、下面ブラシ100は、図1の洗浄部130に代えて、洗浄部120を挟んで対向するように配置された一対または複数対の洗浄部140を含む。
本実施の形態において、各洗浄部140は土台部110の外方から土台部110の幾何学的中心101に向かって延びるが、実施の形態はこれに限定されない。各洗浄部140は、土台部110の外方から土台部110の幾何学的中心101に向かって延びなくてもよい。また、第1の実施の形態における変形例と同様に、平面視における下面ブラシ100の外形は、長円形状または楕円形状等の他の形状であってもよい。以下、変形例に係る下面ブラシ100について、図8の下面ブラシ100と異なる点を説明する。
本実施の形態に係る下面ブラシ100においては、洗浄部120が、土台部110の上面から上方に突出しかつ平面視における土台部110の幾何学的中心101を通って一方向に延びるよう土台部110の上面に設けられる。また、一対または複数対の洗浄部140が、土台部110の上面から上方に突出しかつ洗浄部120を挟んで対向するように土台部110の上面に設けられる。
(1)基板洗浄装置の構成
第3の実施の形態として、第1または第2の実施の形態における下面ブラシ100を含む基板洗浄装置の詳細な構成を説明する。図11は、本発明の第3の実施の形態に係る基板洗浄装置の模式的平面図である。図12は、図11の基板洗浄装置1の内部構成を示す外観斜視図である。本実施の形態に係る基板洗浄装置1においては、位置関係を明確にするために互いに直交するX方向、Y方向およびZ方向を定義する。図11および図12以降の所定の図では、X方向、Y方向およびZ方向が適宜矢印で示される。X方向およびY方向は水平面内で互いに直交し、Z方向は鉛直方向に相当する。
図14~図25は、図11の基板洗浄装置1の動作の一例を説明するための模式図である。図14~図25の各々においては、上段に基板洗浄装置1の平面図が示される。また、中段にY方向に沿って見た下側保持装置20およびその周辺部の側面図が示され、下段にX方向に沿って見た下側保持装置20およびその周辺部の側面図が示される。中段の側面図は図11のA-A線側面図に対応し、下段の側面図は図11のB-B線側面図に対応する。なお、基板洗浄装置1における各構成要素の形状および動作状態の理解を容易にするために、上段の平面図と中段および下段の側面図との間では、一部の構成要素の拡縮率が異なる。また、図14~図25では、カップ61が二点鎖線で示されるとともに、基板Wの外形が太い一点鎖線で示される。
本実施の形態に係る基板洗浄装置1においては、上側保持装置10A,10Bまたは下側保持装置20により保持された基板Wの下面が、第1または第2の実施の形態に係る下面ブラシ100により洗浄される。ここで、基板Wの下面外側領域の洗浄時および下面中央領域の洗浄時には、下面ブラシ100が第1および第2の水平位置にそれぞれ移動される。基板Wの下面外側領域の洗浄時には、基板Wが回転される。これにより、基板Wの下面全体を効率よく洗浄することができる。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。
Claims (11)
- 基板の下面の洗浄に用いられる下面ブラシであって、
第1の上面を有する土台部と、
前記土台部の前記第1の上面から上方に突出しかつ平面視における前記土台部の幾何学的中心を通って一方向に延びるよう前記土台部の前記第1の上面に設けられる第1の洗浄部と、
前記土台部の前記第1の上面から上方に突出しかつ前記土台部の外縁に沿うように前記土台部の前記第1の上面に設けられる第2の洗浄部とを備える、下面ブラシ。 - 基板の下面の洗浄に用いられる下面ブラシであって、
第1の上面を有する土台部と、
前記土台部の前記第1の上面から上方に突出しかつ平面視における前記土台部の幾何学的中心を通って一方向に延びるよう前記土台部の前記第1の上面に設けられる第1の洗浄部と、
前記土台部の前記第1の上面から上方に突出しかつ前記第1の洗浄部を挟んで対向するように前記土台部の前記第1の上面に設けられた一対または複数対の第2の洗浄部とを備える、下面ブラシ。 - 前記土台部には、液体を排出可能な貫通孔が上下方向に延びるように形成される、請求項1または2記載の下面ブラシ。
- 前記第1の洗浄部と前記第2の洗浄部との間を通して前記土台部の周縁から外方に液体を排出可能に構成される、請求項2記載の下面ブラシ。
- 前記土台部は、平面視において円形状、長円形状または楕円形状の外形を有し、
前記第1の洗浄部は、平面視において、前記土台部の外縁のうち最も離間した2点間の間で延びるように設けられる、請求項1~4のいずれか一項に記載の下面ブラシ。 - 平面視において、前記土台部の前記2点間の長さが基板の直径の1/3よりも大きくかつ1/2よりも小さい、請求項5記載の下面ブラシ。
- 請求項1~6のいずれか一項に記載の下面ブラシの前記土台部が接続可能な第2の上面と、
前記第2の上面の反対側の下面とを有し、
前記下面の周縁領域には、外下方に向かって傾斜する傾斜部が形成される、ブラシベース。 - 基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部により保持された基板の下面を洗浄する請求項1~6のいずれか一項に記載の下面ブラシとを備える、基板洗浄装置。 - 基板の下面中央領域を取り囲む下面外側領域を洗浄可能な第1の水平位置と、基板の前記下面中央領域を洗浄可能な第2の水平位置との間で前記下面ブラシを移動させる移動装置をさらに備える、請求項8記載の基板洗浄装置。
- 前記基板保持部は、少なくとも前記下面ブラシによる基板の前記下面外側領域の洗浄時に基板を回転させる、請求項9記載の基板洗浄装置。
- 前記土台部の前記幾何学的中心を通る垂直な軸周りに前記下面ブラシを回転可能な回転駆動装置をさらに備える、請求項8~10のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
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