TWM651234U - 線路載板 - Google Patents

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TWM651234U
TWM651234U TW112211027U TW112211027U TWM651234U TW M651234 U TWM651234 U TW M651234U TW 112211027 U TW112211027 U TW 112211027U TW 112211027 U TW112211027 U TW 112211027U TW M651234 U TWM651234 U TW M651234U
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Taiwan
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dielectric layer
light
dielectric
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TW112211027U
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莊家霖
楊政霖
黃昱程
鄧智宇
彭彥嘉
楊秉哲
吳超坡
林建辰
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欣興電子股份有限公司
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Abstract

本新型提供一種線路載板,包含基板以及設置於基板上的增層結構。增層結構包含介電結構、第一線路、導電通孔以及第二線路。介電結構包含第一熱固化介電層、第一光感應介電層以及第二熱固化介電層,且第一光感應介電層介於第一熱固化介電層與第二熱固化介電層之間。第一線路設置於第一熱固化介電層內。導電通孔設置於第一光感應介電層內。第二線路設置於第二熱固化介電層內,且第一線路透過導電通孔與第二線路電性連接。

Description

線路載板
本新型係關於線路載板,特別是一種具有熱固化介電層和光感應介電層的線路載板。
隨著電子產品的需求朝向高功能化、訊號傳輸高速化及電路元件高密度化,積體電路晶片所呈現的功能越強,而針對消費性電子產品,搭配的被動元件數量亦隨之遽增。
基於增加元件密度以及高頻應用的考量,存在高密度電路布線的需求。在高密度電路布線的設計中,為了減少插入損耗(Insertion loss),具有低耗散因子(Dissipation factor)的熱固化材料(例如ABF)被廣泛用於替代傳統的光感應材料來形成線路載板的介電層。然而,於形成導電通孔或導電通孔的製程中,由於目前的製程技術必須藉由雷射鑽孔在ABF中形成開孔,導致開孔孔徑過大而不利於高密度電路布線的發展。
鑒於上述問題,本新型提供一種線路載板,有助於解決現有製程必須藉由雷射鑽孔在熱固化材料中形成開孔而導致孔徑過大的問題。
本新型所揭露之線路載板包含一基板以及設置於基板上的一增層結構。增層結構包含一介電結構、一第一線路、一導電通孔以及一第二線路。介電結構包含一第一熱固化介電層、一第一光感應介電層以及一第二熱固化介電層,且第一光感應介電層介於第一熱固化介電層與第二熱固化介電層之間。第一線路設置於第一熱固化介電層內。導電通孔設置於第一光感應介電層內。第二線路設置於第二熱固化介電層內,且第一線路透過導電通孔與第二線路電性連接。
於前述線路載板中,增層結構可進一步包含一第二光感應介電層以及一第三線路。第二光感應介電層介於第一熱固化介電層與第二熱固化介電層之間並且緊鄰第一光感應介電層。第三線路設置於第二光感應介電層內。
於前述線路載板中,增層結構可進一步包含一頂部光感應介電層以及一頂部導電通孔。頂部光感應介電層位於介電結構的最上層,且頂部導電通孔設置於頂部光感應介電層內。
於前述線路載板中,介電結構可包含多個熱固化介電層以及多個光感應介電層。熱固化介電層包含所述第一熱固化介電層和所述第二熱固化介電層,且光感應介電層包含所述第一光感應介電層。這些熱固化介電層與這些光感應介電層交錯堆疊設置。
於前述線路載板中,介電結構可包含多個光感應介電層。光感應介電層包含所述第一光感應介電層。光感應介電層介於第一熱固化介電層與第二熱固化介電層之間。
於前述線路載板中,增層結構可包含多個線路,且介電結構可包含多個熱固化介電層。熱固化介電層包含所述第一熱固化介電層和所述第二熱固化介電層。線路包含所述第一線路和所述第二線路,且線路全部設置於這些熱固化介電層內。
於前述線路載板中,增層結構可包含多個導電通孔,且介電結構可包含多個光感應介電層。光感應介電層包含所述第一光感應介電層,且導電通孔全部設置於這些光感應介電層內。
本新型另揭露之線路載板包含一基板以及設置於基板上的一增層結構。增層結構包含一介電結構以及多個導電通孔。介電結構包含多個熱固化介電層以及多個光感應介電層。至少其中一個光感應介電層介於其中兩個熱固化介電層之間。導電通孔全部設置於光感應介電層內。
於前述線路載板中,這些熱固化介電層與這些光感應介電層可交錯堆疊設置。
於前述線路載板中,這些光感應介電層其中多者可介於所述兩個熱固化介電層之間。
於前述線路載板中,增層結構可進一步包含多個線路,且線路全部設置於熱固化介電層內。
根據本新型揭露之線路載板,在提供有線路的線路層採用熱固化介電層,從而滿足低插入損耗的需求。另外,在提供有導電通孔的線路層採用光感應介電層,從而允許導電通孔具有小孔徑,以實現高密度電路布線。
以上關於本新型內容之說明及以下實施方式之說明係用以示範與解釋本新型之原理,並提供本新型之專利申請範圍更進一步之解釋。
於以下實施方式中詳細敘述本新型之詳細特徵及優點,其內容足以使任何熟習相關技藝者瞭解本新型之技術內容並據以實施,且根據本說明書所揭露的內容、申請專利範圍及圖式,任何熟習相關技藝者可輕易理解本新型。以下實施例進一步詳細說明本新型之觀點,但非以任何觀點限制本新型之範疇。
請參照圖1,係為根據本新型一實施例之線路載板的示意圖。在本實施例中,線路載板1包含基板10以及增層結構20。
基板10可以是用作為永久基板的芯板或是用作為暫時基板的軟性電絕緣板。基板10例如可以是玻纖布(Glass fiber)和環氧樹脂(Epoxy resin)製成的電性絕緣板。
增層結構20設置於基板10上。進一步來說,增層結構20包含介電結構210、線路220a、導電通孔230以及線路220b。介電結構210形成於基板10上且包含熱固化介電層211a、光感應介電層212以及熱固化介電層211b。光感應介電層212介於熱固化介電層211a與熱固化介電層211b之間。線路220a設置於熱固化介電層211a內以構成第一層線路層,導電通孔230設置於光感應介電層212內以構成第二層線路層,且線路220b設置於熱固化介電層211b內以構成第三層線路層。線路220a透過導電通孔230與線路220b電性連接。
本實施例提供的增層結構20僅為示例,因此本新型並不以增層結構20的具體結構為限。在部分其他實施例中,增層結構可以額外地包含導電盲孔或內埋式被動元件,或是位於不同層的導電通孔可沒有彼此對齊。
在本實施例中,熱固化介電層211a、211b可由具有低耗散因子(Dissipation factor)的材料形成,例如但不限於由ABF、FR-4、聚四氟乙烯(PTFE)、羅傑斯(Rogers)、聚苯醚(PPE)或聚醯亞胺形成。光感應介電層212可由比熱固化介電層211a、211b更容易加工的材料形成,例如但不限於由杜邦CYCLOTENE DF6000 PID、杜邦ViaLux TM81或苯並環丁烯(BCB)形成。更進一步來說,光感應介電層212可由允許以微影製程於其中形成盲孔或通孔的材料形成。熱固化介電層211a、211b的耗散因子可小於光感應介電層212的耗散因子,但本新型並不以此為限。
根據本實施例,在提供有金屬線路220a、220b的線路層採用熱固化材料作為介電層(熱固化介電層211a、211b),從而滿足低插入損耗的需求。另外,在提供有導電通孔230的線路層採用光感應材料作為介電層(光感應介電層212),從而允許導電通孔230具有小孔徑,以實現高密度電路布線。
以下說明線路載板1的製造方法。圖2至圖11為製造圖1之線路載板的示意圖。如圖2所示,於基板10上形成線路220a。進一步來說,可以利用微影製程和鍍覆製程形成線路220a。所述鍍覆製程可以是化學鍍製程或電鍍製程。
如圖3和圖4所示,於基板10上形成包圍線路220a的熱固化介電層211a。進一步來說,如圖3所示,於基板10上形成熱固化介電層211a,以覆蓋線路220a。如圖4所示,薄化熱固化介電層211a,使得熱固化介電層211a的厚度減少而顯露出線路220a的頂面。熱固化介電層211a的形成可藉由漿料塗布、真空壓合(Vacuum Lamination)和熱固化的製程來實施。熱固化介電層211a的薄化可藉由電漿蝕刻或是化學機械研磨(Chemical Mechanical Polishing,CMP)來實施。
如圖5所示,於熱固化介電層211a上形成光感應介電層212。光感應介電層212的形成可藉由漿料塗布、真空壓合和紫外光固化的製程來實施。
如圖6至圖10所示,於光感應介電層212內形成導電通孔230,以及於光感應介電層212上形成第二線路220b。進一步來說,如圖6所示,於光感應介電層212中形成開孔2120顯露出線路220a的頂面。開孔2120的形成可藉由微影製程來實施。
如圖7所示,於光感應介電層212上、線路220a的頂面上以及開孔2120的側壁上形成金屬種子層2200。金屬種子層2200的形成可藉由物理氣相沈積(PVD)、化學氣相沈積(CVD)、濺鍍、化學鍍或電鍍來實施。
如圖8所示,於金屬種子層2200上形成光阻層PR。光阻層PR的形成可藉由塗布光阻劑的方式來實施。
如圖9所示,將光阻層PR圖案化以形成匹配線路220b的開口圖案。光阻層PR的圖案化可藉由微影製程來實施。
如圖10和圖11所示,形成線路220b和導電通孔230,並接著移除光阻層PR和殘餘的金屬種子層2200。線路220b和導電通孔230的形成可藉由化學鍍或電鍍來實施。光阻層PR的移除可藉由以有機溶劑沖洗光阻層PR來實施。金屬種子層2200的移除可藉由乾蝕刻來實施。
如圖12所示,於光感應介電層212上形成包圍線路220b的熱固化介電層211b。進一步來說,於光感應介電層212上形成熱固化介電層211b以覆蓋線路220b。接著,薄化熱固化介電層211b,使得熱固化介電層211b的厚度減少而顯露出線路220b的頂面。熱固化介電層211b的形成可藉由漿料塗布、真空壓合和熱固化的製程來實施。熱固化介電層211b的薄化可藉由化學機械研磨製程來實施。
根據本新型一實施例,熱固化介電層與光感應介電層可以交錯堆疊設置。請參照圖13,係為根據本新型另一實施例之線路載板的示意圖。在本實施例中,線路載板1A包含基板10以及增層結構20a。本實施例的線路載板1A與圖1的線路載板1相似,主要差異在於線路載板1A的增層結構20a包含介電結構210a、多個線路220以及多個導電通孔230。
介電結構210a包含交錯堆疊設置的多個熱固化介電層211以及多個光感應介電層212。線路220分別設置於熱固化介電層211內,導電通孔230分別設置於光感應介電層212內,且線路220透過導電通孔230彼此電性連接。更進一步來說,在本實施例中,所有線路220皆設置於熱固化介電層211內,且所有導電通孔230皆設置於光感應介電層212內。
可以基於圖1或圖12的線路載板結構,並且反覆地進行根據圖5至圖12的步驟,從而形成線路載板1A。
此外,在本實施例中,增層結構20a之介電結構210a可包含位於最上層的頂部光感應介電層212c,且增層結構20a可包含最上方的頂部導電通孔230c。頂部光感應介電層212c位於介電結構210a的最上層,且頂部導電通孔230c設置於頂部光感應介電層212c內。進一步來說,於最上方的熱固化介電層211上形成頂部光感應介電層212c,並接著於頂部光感應介電層212c內形成頂部導電通孔230c。
根據本新型一實施例,兩個熱固化介電層之間可形成有多個光感應介電層。請參照圖14,係為根據本新型又另一實施例之線路載板的示意圖。在本實施例中,線路載板1B包含基板10以及增層結構20b。本實施例的線路載板1B與圖13的線路載板1A相似,主要差異在於線路載板1B的增層結構20b包含介電結構210b、多個線路220以及多個導電通孔230。
介電結構210b包含熱固化介電層211a、熱固化介電層211b以及多個光感應介電層212。部分線路220分別設置於熱固化介電層211a和211b內,且另一部分線路220分別設置於這些光感應介電層212內。導電通孔230分別設置於這些光感應介電層212內,且線路220透過導電通孔230彼此電性連接。更進一步來說,相較於圖12的線路載板1A,本實施例的線路220可設置於熱固化介電層211、211b或光感應介電層212內,且所有導電通孔230皆設置於光感應介電層212內。
介電結構210b的光感應介電層212可連續地堆疊。進一步來說,這些光感應介電層212可緊鄰設置並且介於兩個熱固化介電層211a和211b之間。部分光感應介電層212內設置有線路220,且另一部分光感應介電層212內設置有導電通孔230。
可以基於圖5的線路載板結構,先反覆地進行形成光感應介電層和形成線路或導電通孔的步驟,以獲得連續堆疊的光感應介電層212與其中的線路220和導電通孔230。接著,反覆地進行根據圖5至圖12的步驟,從而形成線路載板1B。
由於熱固化材料的成本較高,且各層金屬線路對於插入損耗的需求不一定相同,因此可視實際需求在提供有金屬線路的線路層選擇性地採用光感應材料作為介電層。根據本實施例,沒有低插入損耗需求的部分線路220設置於光感應介電層212內,從而允許這些線路220具有小線寬,以實現高密度電路布線。
綜上所述,根據本新型揭露之線路載板,在提供有線路的線路層採用熱固化介電層,從而滿足低插入損耗的需求。另外,在提供有導電通孔的線路層採用光感應介電層,從而允許導電通孔具有小孔徑,以實現高密度電路布線。
本新型之實施例揭露雖如上所述,然並非用以限定本新型,任何熟習相關技藝者,在不脫離本新型之精神和範圍內,舉凡依本新型申請範圍所述之形狀、構造、特徵及精神當可做些許之變更,因此本新型之專利保護範圍需視本說明書所附之申請專利範圍所界定者為準。
1、1A、1B:線路載板 10:基板 20、20a、20b:增層結構 210、210a、210b:介電結構 211、211a、211b:熱固化介電層 212:光感應介電層 212c:光感應介電層 2120:開孔 220、220a、220b:線路 2200:金屬種子層 230:導電通孔 230c:頂部導電通孔 PR:光阻層
圖1為根據本新型一實施例之線路載板的示意圖。 圖2至圖12為製造圖1之線路載板的示意圖。 圖13為根據本新型另一實施例之線路載板的示意圖。 圖14為根據本新型又另一實施例之線路載板的示意圖。
1:線路載板
10:基板
20:增層結構
210:介電結構
211a、211b:熱固化介電層
212:光感應介電層
220a、220b:線路
230:導電通孔

Claims (11)

  1. 一種線路載板,包含: 一基板;以及一增層結構,設置於該基板上,該增層結構包含:一介電結構,包含一第一熱固化介電層、一第一光感應介電層以及一第二熱固化介電層,且該第一光感應介電層介於該第一熱固化介電層與該第二熱固化介電層之間;一第一線路,設置於該第一熱固化介電層內;一導電通孔,設置於該第一光感應介電層內;以及一第二線路,設置於該第二熱固化介電層內,該第一線路透過該導電通孔與該第二線路電性連接。
  2. 如請求項1所述之線路載板,其中該增層結構更包含一第二光感應介電層以及一第三線路,該第二光感應介電層介於該第一熱固化介電層與該第二熱固化介電層之間並且緊鄰該第一光感應介電層,且該第三線路設置於該第二光感應介電層內。
  3. 如請求項1所述之線路載板,其中該增層結構更包含一頂部光感應介電層以及一頂部導電通孔,該頂部光感應介電層位於該介電結構的最上層,且該頂部導電通孔設置於該頂部光感應介電層內。
  4. 如請求項1所述之線路載板,其中該介電結構包含多個熱固化介電層以及多個光感應介電層,該些熱固化介電層包含該第一熱固化介電層和該第二熱固化介電層,該些光感應介電層包含該第一光感應介電層,且該些熱固化介電層與該些光感應介電層交錯堆疊設置。
  5. 如請求項1所述之線路載板,其中該介電結構包含多個光感應介電層,該些光感應介電層包含該第一光感應介電層,且該些光感應介電層介於該第一熱固化介電層與該第二熱固化介電層之間。
  6. 如請求項1所述之線路載板,其中該增層結構包含多個線路,該介電結構包含多個熱固化介電層,該些熱固化介電層包含該第一熱固化介電層和該第二熱固化介電層,該些線路包含該第一線路和該第二線路,且該些線路全部設置於該些熱固化介電層內。
  7. 如請求項1所述之線路載板,其中該增層結構包含多個導電通孔,該介電結構包含多個光感應介電層,該些光感應介電層包含該第一光感應介電層,且該些導電通孔全部設置於該些光感應介電層內。
  8. 一種線路載板,包含:一基板;以及一增層結構,設置於該基板上,該增層結構包含:一介電結構,包含多個熱固化介電層以及多個光感應介電層,該些光感應介電層至少其中一者介於該些熱固化介電層其中兩者之間;以及多個導電通孔,全部設置於該些光感應介電層內。
  9. 如請求項8所述之線路載板,其中該些熱固化介電層與該些光感應介電層交錯堆疊設置。
  10. 如請求項8所述之線路載板,其中該些光感應介電層其中多者介於該些熱固化介電層其中兩者之間。
  11. 如請求項8所述之線路載板,其中該增層結構更包含多個線路,且該些線路全部設置於該些熱固化介電層內。
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