TWM638184U - 磁磚縫隙之美縫結構 - Google Patents
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Abstract
本創作係關於一種磁磚縫隙之美縫結構,乃係包含複數磁磚與至少一聚脲層,該等磁磚乃鋪設於一牆面上,且該等磁磚之間與磁磚的外周圍乃具有磁磚縫隙,聚脲層乃填設於該磁磚縫隙中,令牆面作為底層,磁磚與聚脲層為外表層,該聚脲層乃至少由純聚脲與硬化劑混合而成,該純聚脲乃係為一種高分子聚合物,其具有快速硬化的特性,經由該硬化劑即可令該純聚脲於常溫中迅速硬化,無須再添加其他有毒害或影響美觀的助劑,藉此達到提供安全且能有效保持美觀之目的者。
Description
本創作係關於一種磁磚縫隙之美縫結構,尤指一種用以填設並美化磁磚縫隙之結構者。
據悉,在各種建築設施當中,其磁磚一般在鋪設時皆會預留彼此間的縫隙,以避免磁磚在季節變換時,因熱漲冷縮彼此擠壓,造成破裂及脫落,而在該縫隙的表面上,普遍會填充有美縫劑,以遮掩美化該縫隙。
該美縫劑之成分主要係為環氧樹脂,並混合添加有硬化劑與壬基酚、甲苯或甲醛等各種助劑(促進劑、稀釋劑等),添加該稀釋劑之主要目的在於調整該美縫劑的黏稠度,令其形成半流體之狀態,當該美縫劑在塗抹於縫隙上後,該硬化劑與促進劑乃令其環氧樹脂可在一般空氣中凝固硬化,該美縫劑硬化後乃呈白色並黏附於該縫隙上,且其硬化所需的時間乃與該等促進劑、稀釋劑的添加量相關。
然,該美縫劑中因添加有甲苯或甲醛等有毒物質,故在凝固的過程中乃會散發出有毒的刺激性氣體,若消費者並非委託建商等專業人士操作,而係自行購買使用,即可能會因為缺乏相關防範知識而造成身體不適,甚至導致中毒;
且該美縫劑在凝固硬化之後,其中的壬基酚乃會受到熱、光照或紫外線的影響,從而破壞其中的化學鍵,當該壬基酚分解時,即會令該美縫劑產生發黃及黏著力下降等狀況,因此,當該美縫劑在使用一段時間後,皆會產生發黃、甚至剝落分離的現象,嚴重影響整體美觀。
為此,如何提供一種安全且能有效保持美觀之美縫結構,即為本創作之創作人所亟欲研究改善之方向所在。
故,本創作之創作人有鑑於上述缺失,乃搜集相關資料,經由多方評估及考量,並以從事於此行業累積之多年經驗,經由不斷試作及修改,始設計出此種新型專利者。
本創作之主要目的係在提供一種磁磚縫隙之美縫結構,乃係包含複數磁磚與至少一聚脲層,該等磁磚乃鋪設於一牆面上,該等磁磚之間與磁磚的外周圍乃具有磁磚縫隙,聚脲層乃填設於該等磁磚之磁磚縫隙中,令牆面作為底層,磁磚與聚脲層為外表層,該聚脲層乃至少由純聚脲與硬化劑混合組成,該純聚脲乃係為一種高分子聚合物,其具有快速硬化的特性,經由該硬化劑即可令該純聚脲於常溫中迅速硬化,無須再添加其他有毒害或影響美觀的助劑,藉此達到提供安全且能有效保持美觀之目的者。
為達上述目的,其聚脲層更混合有色漿,藉以呈現出與該磁磚相同或不相同之顏色,進一步達到美觀、美化之目的。
1:磁磚縫隙之美縫結構
2:磁磚
20:磁磚縫隙
3:聚脲層
4:填縫劑層
W:牆面
第1圖係為本創作一種磁磚縫隙之美縫結構的結構示意圖;第2圖係為本創作一種磁磚縫隙之美縫結構的剖面結構示意圖;第3圖係為本創作一種磁磚縫隙之美縫結構的另一剖面結構示意圖。
為達成上述或其他目的及功效,本創作所採用之技術手段及構造,茲繪圖就本創作較佳實施例詳加說明其特徵與功能如下,俾利完全了解。
請參閱第1至3圖,第1圖係為本創作一種磁磚縫隙之美縫結構的結構示意圖;第2圖係為本創作一種磁磚縫隙之美縫結構的剖面結構示意圖;第3圖係為本創作一種磁磚縫隙之美縫結構的另一剖面結構示意圖。
如該等圖所示,本創作主要提供之一種磁磚縫隙之美縫結構1,乃至少包含:複數磁磚2與至少一聚脲層3,複數磁磚2乃鋪設於一牆面W上,且該等磁磚2之間與磁磚2的外周圍乃具有磁磚縫隙20,聚脲層3乃填設於該等磁磚2之磁磚縫隙20中,令牆面W作為底層,磁磚2與聚脲層3為外表層,且該聚脲層3乃至少由純聚脲與硬化劑混合組成:其中,該聚脲層3更包括有色漿;在本創作一種磁磚縫隙之美縫結構1中,其聚脲層3之純聚脲乃係為異氰酸酯組分與合成樹脂化合物組分所聚合成的高分子聚合物,該純聚脲本身即具有快速硬化的特性,經由與該硬化劑的配合,即可令該純聚脲於常溫中迅速進行硬化,無須另行添加其他有毒害或影響美觀的稀釋劑或促進劑等各類助劑,因此當該聚脲層3填設黏附於磁磚2之磁磚縫隙20時,即可達到提供一安全並有效保持磁磚縫隙20美觀之目的及其結構;
承上述,該聚脲層3之純聚脲於硬化後乃係形成一彈性體,並具有優異的防水及抗腐蝕性能,故可於室內或室外磁磚2之磁磚縫隙20中填設使用,適用於多種環境,當磁磚2發生熱漲冷縮時,更可藉由該聚脲層3所具之彈性做為緩衝,防止磁磚2彼此擠壓,且較佳地,該聚脲層3更混合包括有色漿,使用者乃可藉由選擇該色漿之顏色,令該聚脲層3可呈現出與該磁磚2相同或不相同的顏色,以達到安全且美觀之目的。
另外,如第1與第3圖所示,乃為本創作一種磁磚縫隙之美縫結構1另一實施樣態,其乃包含:複數磁磚2、至少一填縫劑層4與至少一聚脲層3,複數磁磚2乃鋪設於一牆面W上,該等磁磚2之間與磁磚2的外周圍乃具有磁磚縫隙20,填縫劑層4乃填於設該等磁磚2之磁磚縫隙20中,聚脲層3乃填設於該填縫劑層4上並設於磁磚縫隙20中,令牆面W作為底層,填縫劑層4為中間層,磁磚2與聚脲層3為外表層,該聚脲層3乃至少由純聚脲、硬化劑混合組成;其中,該聚脲層3更包括有色漿;在本實施例的磁磚縫隙之美縫結構1中,乃係先將該填縫劑層4填設於該磁磚縫隙20中,於該填縫劑層4上再接著填設該聚脲層3,令牆面作為底層,填縫劑層4為中間層,磁磚2與聚脲層3為外表層,且較佳地,該填縫劑層4主要乃係由水泥、矽砂與聚合樹脂粉混合形成,但亦可選用其他可替代材料,藉以減少聚脲層3所需填設之厚度,達到降低成本之目的。
綜上所述,相較於習用美縫劑所存在之種種缺失與無法解決之問題,本創作之聚脲層3乃透過純聚脲與硬化劑之特殊組合填設於該等磁磚2之磁磚縫隙20中,使其無須添加其他稀釋劑或促進劑即可凝固硬化,形
成一種磁磚縫隙之美縫結構1,並達到安全及有效保持美觀之效果目的。
惟,以上所述僅為本創作之較佳實施例而已,非因此即拘限本創作之專利範圍,故舉凡運用本創作說明書及圖式內容所為之簡易修飾及等效結構變化,均應同理包含於本創作之專利範圍內,合予陳明。
1:磁磚縫隙之美縫結構
2:磁磚
20:磁磚縫隙
3:聚脲層
W:牆面
Claims (4)
- 一種磁磚縫隙之美縫結構,乃至少包含複數磁磚與至少一聚脲層,複數磁磚乃鋪設於一牆面上,且該等磁磚之間與磁磚的外周圍乃具有磁磚縫隙,聚脲層乃填設於該等磁磚之磁磚縫隙中,令牆面作為底層,磁磚與聚脲層為外表層,且該聚脲層乃至少由純聚脲與硬化劑混合組成。
- 如請求項1所述之磁磚縫隙之美縫結構,其中該聚脲單元更包括有色漿。
- 一種磁磚縫隙之美縫結構,乃至少包含複數磁磚、至少一填縫劑層與至少一聚脲層,複數磁磚乃鋪設於一牆面上,且該等磁磚之間與磁磚的外周圍乃具有磁磚縫隙,填縫劑層乃填設於該等磁磚之磁磚縫隙中,聚脲層乃填設於該填縫劑層上並設於磁磚縫隙中,令牆面作為底層,填縫劑層為中間層,磁磚與聚脲層為外表層,且該聚脲層乃至少由純聚脲、硬化劑混合組成。
- 如請求項3所述之磁磚縫隙之美縫結構,其中該聚脲層更包括有色漿。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW111209097U TWM638184U (zh) | 2022-08-22 | 2022-08-22 | 磁磚縫隙之美縫結構 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW111209097U TWM638184U (zh) | 2022-08-22 | 2022-08-22 | 磁磚縫隙之美縫結構 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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TWM638184U true TWM638184U (zh) | 2023-03-01 |
Family
ID=86691027
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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TW111209097U TWM638184U (zh) | 2022-08-22 | 2022-08-22 | 磁磚縫隙之美縫結構 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
TW (1) | TWM638184U (zh) |
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2022
- 2022-08-22 TW TW111209097U patent/TWM638184U/zh unknown
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