TWM625037U - 避免膜層脫離之防護結構 - Google Patents

Abstract

本創作所提供避免膜層脫離之防護結構，其係於兩彼此附著效果不佳的膜層之間再增設有另一填補層，以克服習知技術膜層剝落的問題，可達到提高膜層整體的結合強度之功效。

Description

避免膜層脫離之防護結構

本創作係與保護貼產品相關，特別係指一種避免膜層脫離之防護結構。

按，習知鍍膜技術，在傳統上主要區分有液體成膜法及氣相成膜法，其中，液體成膜法包括酸蝕法、溶液沈積法、電鍍法、陽極氧化法、溶膠-凝膠法 (Sol-Gel Method)、LB膜(Langmuir-Blodgett Technique)及液相磊晶(Liquid Phase Epitaxy，LPE)，氣相成膜法則包括化學氣相沈積法(Chemical Vapor-phase Deposition，CVD)及物理氣相沈積法(Physical Vapor-phase Deposition，PVD)，並已廣泛應用於各種不同領域中。

舉例來說，在一具體的應用態樣中，係對螢幕保護貼的進行鍍膜，據以增加某些特定之功效，其可見於我國公開第201506439號發明專利前案，在該案中係揭露了於玻璃基材10上疊加有一抗炫光學膜11及一抗反射增透膜12，其能夠降低光線反射，並避免炫光產生。

然而，惟囿於該發明專利前案所揭技術之不足，致使其在膜層疊加技術上及光線穿透率均仍非理想，其肇因於該發明專利前案係將抗反射增透膜12直接增設於抗炫光學膜11上，惟為了使抗炫光學膜11具有降低炫光的作用，抗炫光學膜11表面勢必具有凹凸不平的結構，致使抗反射增透膜12係設於一非平整表面13上，使得抗反射增透膜12與抗炫光學膜11兩者之間存在空隙P，除了減少了接觸面積，更使其貼合並不完全，如圖1所示。如此一來，使得抗反射增透膜12在抗炫光學膜11上的附著力不佳，容易造成鍍膜龜裂或剝落。

再者，由於傳統製程的限制及製造成本的考量，習知螢幕保護貼縱然設有抗反射增透膜，使用者透過貼覆有該螢幕保護貼的手機觀看顯示影像時，仍因光線穿透率不高，而可能無法被清楚、或降低了亮度表現，因此，習知螢幕保護貼的結構或製程步驟仍有不甚完善之處，而有予以改善之必要。

本創作之主要目的係在於提供一種避免膜層脫離之防護結構，其係於第一鍍膜層與第三鍍膜層之間製作一第二鍍膜層，以克服習知技術膜層剝落的問題，可有效地提高膜層間結合強度。

緣是，為達成上述目的，本創作所揭避免膜層脫離之防護結構係包括一基材、一第一鍍膜層、一粗糙面、一第二鍍膜層及一第三鍍膜層，其中，該第一鍍膜層設於該基材上；該粗糙面係利用蝕刻技術而形成於該第一鍍膜層相背於該第一鍍膜層與該基材彼此連接處的一側面上，以使該第一鍍膜層的霧度介於1 %-35 %之間；該第二鍍膜層係以真空濺鍍技術填補於該粗糙面的凹陷部分，並經固化後形成有一平整面；該第三鍍膜層設於該平整面上。據此，有效地提高了結合的穩固性，達成防止該等膜層脫離的效果。

在一實施例中，該第二鍍膜層與該第三鍍膜層為相同的組成物所構成，可提高兩者彼此之間的結合關係，確實具有功效上之增進。

為了進一步改善該防護結構的整體穿透率，本創作係於該基材相背於該基材與該第一鍍膜層彼此連接處的另一側面上更設有一第四鍍膜層，使光線行經該第四鍍膜層並產生二次反射時，會與原反射光之間發生干涉，以減少反射光，以達到增加光線穿透率之目的。

在一實施例中，該第四鍍膜層與該第二鍍膜層或該第三鍍膜層為相同的組成物所構成，且該組成物係五氧化二鈮，並使該第二鍍膜層與、該第三鍍膜層與第四鍍膜層具有相同的可見光反射率，其中，該反射率係介於0.5 %-1 %之間。

在一實施例中，該基材的材質為玻璃。

在一實施例中，該基材的材質係選自聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)、聚醯氨(PA)及高分子樹脂任其中一者。

首先，圖2至圖4所示，本創作較佳實施例中所提供的避免膜層脫離之防護結構A，主要乃係包含了一基材20、一第一鍍膜層30、一第二鍍膜層40、一第三鍍膜層50、一第四鍍膜層60、一防護層70及一膠合層80，其中，該些膜層係相互堆疊於該基材20上，並允許外部光線穿透。

其中，如圖5所示，該防護結構A的具體製備步驟如下：

a.取一片狀之基材20，並經CNC裁切、強化、印刷（Printing）等前置程序處理。其中，該基材20的材質可為但不限為玻璃或塑料，而塑料為聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)、聚醯氨(PA)或高分子樹脂。在本例中該基材20係選用玻璃材質，且其厚度介於0.1 mm至0.45 mm之間，較佳為0.33 mm。

b.於該基材20上方形成一第一鍍膜層30，其厚度介於0.1 μm至5.0 μm之間，較佳為2.0 μm，並對該第一鍍膜層30相背於該第一鍍膜層30與該基材20彼此連接處的一側面上進行蝕刻，以形成一粗糙面31，其表面粗糙度(Ra)大約介於10 nm至1000 nm之間，以使該第一鍍膜層30的霧度介於1 %-35 %之間，即為一防炫光膜層（Anti-glare，AG），用於抑制外部光源之反射。其中，蝕刻程序係採用噴砂或濕式蝕刻，而濕式蝕刻所使用的蝕刻劑為鹽酸、硝酸、硫酸、檸檬酸、抗壞血酸、草酸、乙酸、氫氟酸、氟化銨、氟化鈉、氟化鉀、二氟化銨、二氟化鈉或二氟化鉀等。

c.於該第一鍍膜層30上方真空濺鍍一第二鍍膜層40，並使該第二鍍膜層40填補於該粗糙面31的凹陷部分後，對該第二鍍膜層40進行第一次固化，而形成有一平整面41。其中，該固化溫度介於250 ℃至400 ℃之間，固化時間大約15至90分鐘，並避免加熱溫度過高、或超過玻璃轉化溫度（glass transition temperature, Tg），而容易有玻璃黃化等問題產生。此外，當基材20改為塑料材質時，必須在低於150 ℃下進行蝕刻、濺鍍、固化等程序，以避免塑料裂解。此外，在本例中係使該第二鍍膜層40完全填滿該粗糙面31的凹陷部分後，再堆疊一預定厚度（例如堆疊厚度介於0.1 μm至2.0 μm之間），以完全覆蓋於該第一鍍膜層30上。在其他的實施態樣中，還可僅使該第二鍍膜層40完全填滿該粗糙面31的凹陷部分，同樣可以呈現一平坦的表面。

d.於該平整面41上進行濺鍍，以形成一第三鍍膜層50，其厚度介於0.1 μm至5.0 μm之間，較佳為2.0 μm，使各膜層間均不存在空隙P，即呈現一密合狀態，確保了結合的穩固性，達成防止該等膜層脫離的效果。在本例中係以與該第二鍍膜層40相同組成的靶材來濺鍍該第三鍍膜層50，以提高兩者彼此之間的結合關係。再者，該靶材的組成物係五氧化二鈮（Nb ₂O ₅），使該第二鍍膜層40與該第三鍍膜層50為具有相同可見光反射率的增透層（Anti-reflective coating，AR），且該反射率係介於0.5 %-1 %之間。接著，再對該第三鍍膜層50進行第二次固化。其中，該固化溫度介於80至500 ℃之間，固化時間大約15至90分鐘。在另一實施例中，該第二鍍膜層40與第三鍍膜層50之間可選用不同組成物的靶材所濺鍍而成。

e. 於該第三鍍膜層50上方覆設有一防護層70。其中，該防護層70具有防水、疏水及抗油污之特性，當該防護層70上被潑灑水或其他液體時，會自然形成水珠，並因疏水及抗油污的因素，而順勢滑落，且不易沾附指紋或油汙等汙染物，並便於擦拭乾淨。

f.於該基材20下方的位置上進行濺鍍，以形成一第四鍍膜層60，其厚度為2 μm。本例中係以與該第二鍍膜層40相同組成的靶材來濺鍍該第四鍍膜層60，該靶材選自氟化鈣、氟化鎂、氧化鈦、硫化鉛、硒化鉛所組成的群集中任一者或其組合，使該第二鍍膜層40與該第四鍍膜層60為具有相同可見光反射率的增透層（Anti-reflective coating，AR），且該反射率係介於0.5 %-1 %之間。在另一實施例中，該第二鍍膜層40與該第四鍍膜層60之間亦可選用不同組成物的靶材所濺鍍而成。例如，靶材可為但不限於氟化鈣、氟化鎂、氧化鈦、硫化鉛、硒化鉛等。

g.於該第四鍍膜層60下方設有一膠合層80。其中，該膠合層80包含有壓克力或聚酯等複合黏著劑組合物。

h.檢驗並包裝。

藉由上述之構件，該防護結構A具體構造係依序包含了防護層70、第三鍍膜層50、第二鍍膜層40、第一鍍膜層30、基材20、第四鍍膜層60及膠合層80，如圖3所示。其中，本創作係於兩彼此附著效果不佳的膜層（即第三鍍膜層50與第一鍍膜層30）之間再增設有另一填補層（即第二鍍膜層40），得以克服習知技術膜層剝落的問題，能有效地提高膜層整體的結合強度，並可於長期使用後仍具有可靠且完整複合結構，不容易龜裂或剝落。

再者，由於該基材20的兩側面均分別設有一增透層（即第三鍍膜層50與第四鍍膜層60），使該防護結構A的穿透率提升至78%，較習知技術的穿透率僅為70%，已大幅改善之，並使光線穿透率得以具有更佳的效能表現。

此外，本創作所提供之該防護結構A係利用該膠合層80黏附於一電子裝置上，除了作為保護之用，還可防止炫光效應，以及提高光線穿透率。其中，該電子裝置可為但不限於筆記型電腦、個人桌上型電腦、平板電腦、智慧型手機、電視、儀表板或其他類似的顯示裝置。本例中，如圖2所示，本創作所提供之該防護結構A係用於貼覆於一手機90的螢幕91上。

10:玻璃基材 11:抗炫光學膜 12:抗反射增透膜 13:非平整表面 P:空隙 A:防護結構 20:基材 30:第一鍍膜層 31:粗糙面 40:第二鍍膜層 41:平整面 50:第三鍍膜層 60:第四鍍膜層 70:防護層 80:膠合層 90:手機 91:螢幕

圖1係習知螢幕保護貼的剖視圖。 圖2係為本創作之一較佳實施例之防護結構組裝於手機螢幕上之示意圖。 圖3係為本創作之一較佳實施例之防護結構沿圖2中3-3剖面線的剖視圖。 圖4係為本創作之一較佳實施例就圖3之局部放大圖。 圖5係為本創作之一較佳實施例之製備方法的流程圖。

20:基材

30:第一鍍膜層

31:粗糙面

40:第二鍍膜層

41:平整面

50:第三鍍膜層

70:防護層

Claims (6)

1. 一種避免膜層脫離之防護結構，係允許外部可見光穿透，並包括： 一基材； 一第一鍍膜層，設於該基材上； 一粗糙面，係利用蝕刻技術而形成於該第一鍍膜層相背於該第一鍍膜層與該基材彼此連接處的一側面上，以使該第一鍍膜層的霧度介於1 %-35 %之間； 一第二鍍膜層，係以真空濺鍍技術填補於該粗糙面的凹陷部分，並經固化後形成有一平整面；以及 一第三鍍膜層，設於該平整面上。
2. 如請求項1所述避免膜層脫離之防護結構，其中，該第二鍍膜層與該第三鍍膜層為相同的組成物所構成。
3. 如請求項1所述避免膜層脫離之防護結構，其更包括一第四鍍膜層，設於該基材相背於該基材與該第一鍍膜層彼此連接處的另一側面上，且該第四鍍膜層與該第二鍍膜層或該第三鍍膜層為相同的組成物所構成。
4. 如請求項3所述避免膜層脫離之防護結構，其中，該組成物係五氧化二鈮，並使該第二鍍膜層、該第三鍍膜層與第四鍍膜層具有相同的可見光反射率，該反射率係介於0.5 %-1 %之間。
5. 如請求項1所述避免膜層脫離之防護結構，其中，該基材的材質為玻璃。
6. 如請求項1所述避免膜層脫離之防護結構，其中，該基材的材質係選自聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)、聚醯氨(PA)及高分子樹脂任其中一者。

Images