KR20030012506A - 디스플레이장치용 무반사 무정전 다층 박막 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 막 접착력 및 막 강도가 우수하고 광 반사율 특성이 개선된 디스플레이 장치용 무반사, 무정전 다층 박막에 관한 것으로, 글라스 기판 위에 각기 다른 소정 두께로 순차 형성된 ITO 층, 제 1 Nb2O5층, 제 1 SiO2층, 제 2 Nb2O5층, 제 2 SiO2층을 포함하는 디스플레이 장치용 다층 박막을 제공한다. 이러한 본 발명에 따르면, 디스플레이 소자용 다층 박막의 접착력 및 막 강도를 보다 더 강화시킬 수 있는 효과가 있으며, 광 반사율 특성 또한 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

Description

디스플레이장치용 무반사 무정전 다층 박막{ANTI-REFLECTIVE AND ANTI-STATIC MULTI-LAYER THIN FILM FOR DISPLAY DEVICE}
본 발명은 디스플레이 장치용 무반사 무정전 다층 박막에 관한 것으로, 보다 상세하게는 종래의 다층 박막에 비해 박막의 접착력 및 강도가 보다 더 향상된 5층 구조를 갖는 디스플레이 장치용 무반사 무정전 다층 박막에 관한 것이다.
최근 디스플레이 장치의 표면에는 정전기 방지, 전자기 차폐 및 외부 조명에 의한 반사광을 줄일 수 있는 박막이 코팅되고 있다. 특히, 정전기를 줄이는 박막을 무정전(Anti-Static) 박막, 반사율을 낮춘 박막을 무반사(Anti-Reflection) 박막이라 하며, 이러한 특성은 소비자의 욕구가 증대되어 점차 모든 디스플레이 장치에 확대 사용되고 있는 추세이다. 이러한 박막은 최소 2층, 2종류 이상의 물질로 제작되어야 하며 점차 전기적 특성 및 광학적 특성을 향상시키기 위해 여러 층, 여러 종류의 물질로 이루어진 박막이 요구되고 있다. 그리고 이러한 다층 박막에서는 광학적, 전기적 특성 외에 박막의 접착력 및 강도와 같은 기계적 특성이 중요하다.
이러한 특성을 갖는 다층 박막을 제조하기 위한 일반적인 방법으로는 스프레이법, 침적법, 도포법, 화학증착법, 스퍼터링(sputtering)법 등이 있으며, 이 중에서 본 발명과 관련된 스퍼터링 기법은 기판(Substrate)의 로딩과 언로딩 방법에 따라 다시 배치형(Batch Type), 인터백(Inter-Back) 및 인라인 방식으로 구분된다.
여기서, 배치형 스퍼터링은 코팅 체임버(chamber)에 기판을 직접 로딩하여 기판의 표면에 박막을 코팅하는 것을 의미하며, 인터백 스퍼터링은 코팅 체임버에 기판의 로딩 및 언로딩을 수행하는 서브 체임버를 구비시키고 서브 체임버에 의하여 기판을 로딩 및 언로딩시키면서 기판의 표면에 박막을 코팅하는 것을 의미한다. 그리고, 인라인 스퍼터링은 코팅 체임버에 로딩 체임버와 언로딩 체임버를 인라인으로 배치시키고, 로딩 체임버에 의하여 기판을 로딩시킨 후 기판의 표면에 박막의 코팅을 수행한 후 언로딩 체임버에 의하여 기판을 로딩시키는 것을 의미한다.
한편, 일반적인 LCD와 PDP 등의 제조 분야에서는 글라스 기판의 표면에 ITO(Indium Tin Oxide)막과 실리카(SiO2)막을 연속적으로 코팅하기 위하여 대부분 상술한 인라인 스퍼터링 기법을 이용하고 있다.
이러한 인라인 스퍼터링 기법을 이용하여 제작되는 종래의 일반적인 다층 박막은 일반유리를 사용한 글라스 기판 위에 ITO 층을 포함하는 4개의 층으로 이루어진 구조를 갖는다.
도 1은 이러한 종래의 일반적인 4층막 구조를 갖는 다층 박막을 도시한 도면으로서, 글라스 기판(11), ITO 층(12), 제 1 SiO2층(13), Nb2O5층(14), 제 2 SiO2층(15)을 포함한다.
여기서, 글라스 기판(11)은 통상적으로 1.75∼2.09Å의 표면평균거칠기(RMS) 및 24.8∼40Å의 표면최대거칠기(RPV)를 갖는 일반 유리를 이용하여 구성되며, 이 글라스 기판(11) 위에 형성된 각 층의 두께는 ITO 층(12)이 19㎚, 제 1 SiO2층(13)이 29㎚, Nb2O5층(14)이 112㎚, 그리고 제 2 SiO2층(15)이 90㎚ 정도가 된다.
그러나, 이러한 종래의 4층 구조를 갖는 다층 박막은 각 층을 구성하는 막 간의 접착력이 미약하여 박막의 전체적인 막 강도가 15Kg의 하중에 대해 약 150회 정도의 내력으로 갖는 정도로 미약할 뿐만 아니라 광 반사율 특성 또한 약 0.27% 정도로 높다는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로, 다층 박막을 구성하는 각 층에 대한 막 접착력 및 막 강도가 상대적으로 우수하고 광 반사율 특성이 개선된 5층 구조를 갖는 디스플레이 장치용 무반사 무정전 다층 박막을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은,
디스플레이 장치용 다층 박막에 있어서, 글라스 기판 위에 각기 다른 소정 두께로 순차 형성되는 ITO 층, 제 1 Nb2O5층, 제 1 SiO2층, 제 2 Nb2O5층, 제 2 SiO2층을 포함하는 디스플레이 장치용 무반사 무정전 다층 박막을 제공한다.
도 1은 종래의 일반적인 다층 박막에 대한 구조를 예시적으로 도시한 도면.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 다층 박막의 구조를 도시한 도면.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
21 : 글라스 기판22 : ITO 층
23, 25 : 제 1 및 제 2 Nb2O5층24, 26 : 제 1 및 제 2 SiO2층
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따라 5층막 구조를 갖는 다층 박막의 구조를 도시한 도면으로서, 글라스 기판(21), ITO 층(22), 제 1 Nb2O5층(23), 제 1 SiO2층(24), 제 2 Nb2O5층(25) 및 제 2 SiO2층(26)을 포함한다.
먼저, 아래에 기술되는 본 실시예서는 인라인(In-Line) MF 스퍼터링 시스템을 사용하여 전체 공정을 수행하며, 특히 ITO 층(22)은 DC 스퍼터링 방법을 적용하고 각각의 Nb2O5층(23, 25) 및 SiO2층(24, 26)은 PEM Controlled MF Reactive Sputtering 방법을 적용한다. 그리고, 전체적인 제조 공정은 15∼400℃의 온도에서 진행되는 것을 예로 하여 설명한다.
동도면을 참조하여 본 발명에 따른 다층 박막의 구조 및 그 형성 과정에 대해 설명하면 다음과 같다.
도 2에 도시된 글라스 기판(21)은 도 1에 도시된 종래의 글라스 기판(11)이일반유리를 사용하는 것과는 달리, 표면평균거칠기(RMS)가 6.14Å이며 표면최대거칠기(RPV)가 106Å인 연마유리를 사용한다. 다시 말하면, 도 2에 도시된 바와 같은 5층 박막을 구현함에 있어서, 글라스 기판(21)을 종래와 같이 일반 유리로 구성할 수도 있지만, 박막 표면의 개질 및 막 강도를 보다 더 향상시키기 위해 본 실시예에서는 표면평균거칠기(RMS)가 1.75∼2.09Å이며 표면최대거칠기(RPV)가 24.8∼40Å인 종래의 일반유리를 연마 공정을 거쳐 6.14Å의 표면평균거칠기(RMS)와 106Å의 표면최대거칠기(RPV)를 갖도록 연마한 다음, 이 연마유리를 글라스 기판(21)으로 사용한다.
그런 다음, 이 연마유리로 구성된 글라스 기판(21) 위에 ITO 층(22)을 형성하는데, 이때 아르곤(Ar) 200sccm, 산소(O2) 3sccm을 사용하고 DC 스퍼터링 방법을 이용하여 이 ITO 층(22)을 형성한다. 이때 형성되는 ITO 층(12)의 두께는 17∼19nm가 되도록 하는 것이 바람직하다.
그리고, 이 ITO 층(22) 위에 다시 제 1 Nb2O5층(23)을 형성하는데, 이때 제 1 Nb2O5층(23)은 80∼450sccm의 아르곤을 사용하여 형성하며 그 두께는 3∼5nm가 되도록 형성하는 것이 바람직하다. 즉, 본 발명에서는 도 1에 도시된 바와 같이 ITO 층(12)위에 제 1 SiO2층(13)을 형성하는 종래의 방법과는 달리, 3∼5nm 두께를 갖는 제 1 Nb2O5층(23)을 추가로 삽입하여 형성한다.
이러한 과정을 통해 제 1 Nb2O5층(23)이 형성되면, 이 제 1 Nb2O5층(23) 위에 다시 아르곤 150∼400sccm을 사용하여 28∼29nm 두께의 제 1 SiO2층(24)을 형성한다.
그리고, 제 1 SiO2층(24)위에 다시 제 2 Nb2O5층(25)을 형성하는데, 이 제 2 Nb2O5층(25)은 상술한 제 1 Nb2O5층(23)을 형성하는 방법과 동일한 방법을 사용하여 형성하며, 그 두께는 약 112nm가 되도록 하는 것이 바람직하다.
계속해서, 제 2 NB2O5층(25)이 형성되면 마지막으로 이 제 2 Nb2O5층(25) 위에 제 2 SiO2층(26)을 형성하는데, 마찬가지로 상술한 제 1 SiO2층(24)을 형성하는 방법과 동일한 방법으로 형성하되, 그 두께는 약 90nm가 되도록 하는 것이 바람직하다.
결과적으로, 상술한 바와 같은 각각의 과정을 거쳐 도 2에 도시된 바와 같은 형태의 5층 구조를 갖는 다층 박막이 완성된다.
이러한 본 발명에 따른 5층 구조의 디스플레이 장치용 다층 박막은 그 막 강도가 15Kg의 하중에 대해 최대 2000회 이상 견딜 수 있는 내력을 갖는다. 이에 대해 상세히 설명하면, 도 1에 도시된 종래의 4층 구조 박막이 전술한 바와 같이 15Kg의 하중에 대해 약 150회 정도의 내력을 갖는 반면, 본 발명에 따른 5층 구조에서는 글라스 기판(21)을 일반유리로 구성하였을 때에도 15Kg의 하중에 대해 약 1000회 이상의 내력으로 종래 보다 우수한 막 강도를 가지며, 상술한 바와 같이 글라스 기판(21)을 연마유리로 구성하였을 때에는 15Kg의 하중에 대해 2000회 정도를견딜 수 있는 보다 더 큰 내력을 갖는다.
다시 말하면, 글라스 기판(21)을 일반유리로 구성하여 본 발명에 따른 5층 구조의 박막을 형성하였을 때에도 종래 보다 우수한 막 강도를 가질 뿐만 아니라, 글라스 기판(21)을 연마유리로 구성하였을 경우에는 보다 더 우수한 막 강도 특성을 가지게 된다. 또한, 이러한 5층 구조를 갖는 다층 박막에서는 광 반사율 또한 0.13%로서 종래의 광 반사율 0.27% 보다 더 개선된 반사율 특성을 갖는다.
이와 같이, 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관해 설명하였으나, 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다. 그러므로, 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 안되며 후술하는 특허청구범위 뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
이상 설명한 바와 같이 본 발명에 따르면, 디스플레이 장치용 다층 박막의 막 강도를 보다 더 강화시킬 수 있는 효과가 있으며, 광 반사율 특성 또한 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

Claims (6)

  1. 디스플레이 장치용 무반사 무정전 다층 박막에 있어서,
    글라스 기판 위에 각기 다른 소정 두께로 순차 적층된 ITO 층, 제 1 Nb2O5층, 제 1 SiO2층, 제 2 Nb2O5층, 제 2 SiO2층을 포함하는 디스플레이 장치용 무반사 무정전 다층 박막.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 ITO 층은, 17∼19nm의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 무반사 무정전 다층 박막.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 Nb2O5층은, 3∼5nm의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 무반사 무정전 다층 박막.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 SiO2층은, 28∼29nm의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 무반사 무정전 다층 박막.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항중 어느 한 항에 있어서,
    상기 글라스 기판은, 연마유리로 구성된 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 무반사 무정전 다층 박막.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 연마 유리는, 적어도 6.14Å 이하의 표면평균거칠기(RMS)와 적어도 106Å 이하의 표면최대거칠기(RPV)를 갖는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 무반사 무정전 다층 박막.
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CN02127443A CN1400476A (zh) 2001-08-01 2002-08-01 用于显示器件的防反射和防静电多层薄膜
US10/750,091 US20040157044A1 (en) 2001-08-01 2003-12-31 Anti-reflective and anti-static multi-layer thin film for display device

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100719559B1 (ko) * 2005-09-07 2007-05-17 삼성에스디아이 주식회사 유기발광소자

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100648220B1 (ko) * 2004-05-14 2006-11-24 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 액정표시장치용 도전성 편광판
CN101350366B (zh) * 2008-07-09 2010-04-07 深圳市力合薄膜科技有限公司 防静电tft基板及其加工工艺
CN101550533B (zh) * 2009-05-07 2011-04-13 厦门美澜光电科技有限公司 防静电的光学基片制备方法
JP2011100111A (ja) * 2009-10-09 2011-05-19 Seiko Epson Corp 光学物品、光学物品の製造方法、電子機器
DE102010048089B4 (de) * 2010-10-01 2016-09-01 Carl Zeiss Vision International Gmbh Verfahren zur Erzeugung einer mehrere Schichten aufweisenden antistatischen Beschichtung für ein Linsenelement
CN102909918B (zh) * 2012-09-29 2015-05-20 江西沃格光电股份有限公司 双面镀膜玻璃及其制备方法
US11065960B2 (en) 2017-09-13 2021-07-20 Corning Incorporated Curved vehicle displays
CN111936891B (zh) * 2018-03-02 2023-03-24 康宁公司 抗反射涂层及制品与形成抗反射涂层及制品的方法
CN110981214A (zh) * 2019-12-19 2020-04-10 芜湖长信科技股份有限公司 液晶面板调色玻璃及其生产工艺

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE68923000T2 (de) * 1988-08-24 1995-11-02 Catalysts & Chem Ind Co Transparente, leitfähige keramische beschichtung formende flüssigkeit zur beschichtung, mit dieser transparenten, leitfähigen keramik beschichtetes basismaterial und herstellung desselben sowie verwendung des mit der transparenten, leitfähigen keramik beschichteten basismaterials.
US5719705A (en) * 1995-06-07 1998-02-17 Sola International, Inc. Anti-static anti-reflection coating
US6436541B1 (en) * 1998-04-07 2002-08-20 Ppg Industries Ohio, Inc. Conductive antireflective coatings and methods of producing same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100719559B1 (ko) * 2005-09-07 2007-05-17 삼성에스디아이 주식회사 유기발광소자

Also Published As

Publication number Publication date
US20030027001A1 (en) 2003-02-06
CN1400476A (zh) 2003-03-05
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