TWM571042U - Adsorption platform - Google Patents

Abstract

一種吸附載台，用以吸附一工作物，其包括有：一吸盤，其內部設有一腔室以及多個與該腔室連通的流道，該吸盤具有一吸附面用以接觸該工作物，於該吸附面上形成有多個第一通孔與多個第二通孔，該些第一通孔貫通至該腔室，該些第二通孔分別貫通至該些流道。透過上述結構設計，本創作的吸附載台可穩固地吸附工作物，從而有利於後續的製程或檢測作業的進行。

Description

吸附載台

本創作係與吸附結構有關；特別是指一種穩固吸附工作物的吸附載台。

於光電或半導體領域的製造工序當中，不論是對工作物(如晶圓、玻璃等)的加工或是品質檢測，往往需要使用吸附平台，以吸取並定位工作物，並可對工作物進行諸如水平方向的移動、垂直方向的移動或是旋轉等動作，而為了提升製程的良率或是檢測的準確率，如何將工作物可靠地保持於吸附平台上是相當重要的。

有鑑於此，本創作之目的在於提供一種吸附載台，可穩固地吸附固定工作物。

緣以達成上述目的，本創作提供一種吸附載台，用以吸附一工作物，其包括有：一吸盤，其內部設有一腔室以及多個與該腔室連通的流道，該吸盤具有一吸附面用以接觸該工作物，於該吸附面上形成有多個第一通孔與多個第二通孔，該些第一通孔貫通至該腔室，該些第二通孔分別貫通至該些流道。

本創作之效果在於，透過上述結構設計，本創作的吸附載台可穩固地吸附工作物，從而有利於後續的製程或檢測作業的進行。

〔本創作〕

100‧‧‧吸附載台

10‧‧‧吸盤

10a‧‧‧吸附面

20‧‧‧筒體

20a‧‧‧定位孔

22‧‧‧第一通道

24‧‧‧第二通道

30‧‧‧腔室

32‧‧‧第一通孔

40‧‧‧流道

42‧‧‧第二通孔

44‧‧‧第三通孔

46‧‧‧第四通孔

46a‧‧‧第一孔段

46b‧‧‧第二孔段

50‧‧‧塞件

A‧‧‧中央區域

B‧‧‧周圍區域

圖1為本創作一較佳實施例之吸附載台的立體圖。

圖2為圖1之吸附載台的吸盤俯視圖。

圖3為圖1之3-3方向剖視圖。

圖4為圖3的局部放大圖。

圖5為圖1之5-5方向剖視圖。

圖6為圖1的俯視圖。

為能更清楚地說明本創作，茲舉一較佳實施例並配合圖式詳細說明如後。請參圖1至圖6所示，為本創作一較佳實施例之吸附載台100，其包括有一吸盤10以及一筒體20。

該吸盤10的內部設置有一腔室30以及多個與該腔室30連通的流道40，其中，較佳者，該腔室30係位於該吸盤10的中心位置處，該些流道40係以該腔室30為中心沿該吸盤10之徑向延伸形成，且該些流道40係以腔室30為中心對稱設置為佳。另外，該些流道40的形成方式可以是由吸盤10的側邊鑽孔形成，並於各流道40的鑽孔處設置塞件50，以封閉各流道40之鑽孔，但於其他應用上，所述流道40形成方式並不以上述說明為限。

該吸盤10的頂部具有一吸附面10a，用以接觸一工作物(圖未示)，其中，所述的工作物可以是但不限於矽片、矽晶圓、玻璃片、 濾光片、面板等。於該吸附面10a上形成有多個第一通孔32與多個第二通孔42，該些第一通孔32係貫通該腔室30，該些第二通孔42係分別貫通至該些流道40，舉例而言，於每一個流道40上係分別設置有一個或多個第二通孔42，另外，較佳者，各流道40上之第二通孔42的數量以相等為佳。

此外，於一實施例中，該些第一通孔32係自該吸附面10a的中心向外延伸且間隔排列設置，且該些第一通孔32係以放射狀排列設置為佳，例如圖6所示，於本實施例中，該些第一通孔32的排列形狀係概呈十字型，此外，該些第一通孔32的開口形狀係呈長條形，且該些第一通孔32之開口的延伸方向係平行於吸盤10的徑向方向。另外，各該第一通孔32於該吸附面10a之開口的大小係大於各該第二開孔42於該吸附面10a之開口的大小。透過上述設計，可使得處於吸附載台100中心處部位的第一通孔32的吸附力高於外圍之第二通孔42的吸附力，從而可有助於先將工作物的中央部位吸附固定，再進一步吸附固定工作物的外圍部位。

該筒體20與該吸盤10連接，且該筒體20內部具有通道與該吸盤10的腔室30連通，該筒體20用以連接一真空源或抽氣設備，藉以，可利用真空吸引之方式，於吸盤10之吸附面10a上的各通孔形成吸引氣流以吸附、固定工作物。進一步地，於本實施例中，該筒體20內部具有相連通的一第一通道22與一第二通道24，該第一通道22連通該腔室30，該第二通道24供與真空源或抽氣設備連接，例如與一抽氣管路(圖未示)連接，並且在筒體20上可開設有一定位孔20a，於抽氣管路連接第二通道24後，可利用一定位件(圖未示)自定位孔20a穿入，以固定筒體20與抽氣管路。

此外，該吸附面10a上可進一步形成有多個第三通孔44，該些第三通孔44係分別貫通至該些流道40，而各該第二通孔42分別位於該些第一通孔32與各該第三通孔44之間。於一實施例中，於每一流道40上之第三通孔的數目可為一個、兩個或兩個以上，例如於本實施例中，於每一該流道40上係連接有兩個第三通孔44，且各流道40上之第三通孔44係沿著流道40的延伸方向間隔排列，此外，各該第三通孔44於該吸附面10a之開口的大小係小於各該第二通孔42於該吸附面10a之開口的大小。其中，藉由前述第三通孔44的設計，可有助於增強吸附載台100對於工作物的外圍區域的吸附能力。

此外，該吸附面10a可進一步形成有多個第四通孔46，該些第四通孔46分別貫通至該些流道40；而各該第三通孔44分別位於各該第二通孔42與各該第四通孔46之間。進一步地，各該第四通孔46係具有相連接的一第一孔段46a與一第二孔段46b，該第一孔段46a連接該流道40，且第一孔段46a的截面概呈圓形，該第二孔段46b連接該吸附面，且該第二孔段46b的截面概呈長條形，該第一孔段46a的孔徑小於該第二孔段46b的孔徑。藉由前述第四通孔46的設計，可進一步增強吸附載台100對於工作物的外圍區域的吸附能力，尤其第二孔段46b之孔徑增大的設計，可有助於增加第四通孔46的吸附面積，藉以增強吸附力。

此外，請配合圖1、2、6所示，於一實施例中，該吸附面10a係可劃分有一中央區域A以及一周圍區域B，該些第一通孔32係位於該中央區域A，並呈對稱式設置，而該些第二通孔42、第三通孔44與第四通孔46係位於該周圍區域B，且該些第二通孔42、第三通孔44與第四通孔46係以中央區域A為中心向外依序排列設置。其中，該些第一通孔32於該吸附面10a上之開口的大小(或稱截面積)的總和係大於各該 第二通孔42、各該第三通孔44以及各該第四通孔46於該吸附面10a之開口的大小。

於本實施例中，該吸盤10概呈方形，該吸附面10a概呈方形，該些第二通孔42、第三通孔44、第四通孔46係間隔地排列於該吸盤10的對角線上，並位於該些排列成十字型結構之第一通孔32的四向缺口處，藉此，可使得吸附載台100對於工作物所產生的吸附力更加平均。不過其他應用上，該些第二通孔42、第三通孔44、第四通孔46並不以排列於吸盤10之對角線上為限，於一實施例中，該些第二通孔42、第三通孔44、第四通孔46的排列方式亦可沿著該些第一通孔32的排列方向延伸設置。此外，於其他實施例中，有關於吸盤10與吸附面10a的形狀選用，亦可根據工作物的不同設計其他形狀，而不以方形為限。

透過上述設計，本創作的吸附載台100可穩固地吸附固定工作物，藉此，在對工作物進行加工或檢測時，將有利於提升其加工與檢測的良率。值得一提的是，即便待吸附之工作物有翹曲情況產生，本創作的吸附載台100，可利用位於中央區域A的第一通孔32先將工作物吸附固定後，再利用周圍的第二通孔42、第三通孔44與第四通孔46將翹曲之工作物吸附整平，以將工作物的翹曲量降低，甚至將工作物吸附成接近平坦狀，如此一來，於對工作物進行加工或檢測時，將有利於提升其後續加工的良率與檢測的準確率。

以上所述僅為本創作較佳可行實施例而已，舉凡應用本創作說明書及申請專利範圍所為之等效變化，理應包含在本創作之專利範圍內。

Claims (15)

1. 一種吸附載台，用以吸附一工作物，其包括有： 一吸盤，其內部設有一腔室以及多個與該腔室連通的流道，該吸盤具有一吸附面用以接觸該工作物，於該吸附面上形成有多個第一通孔與多個第二通孔，該些第一通孔貫通至該腔室，該些第二通孔分別貫通至該些流道。
2. 如請求項1所述之吸附載台，其中該吸附面劃分有一中央區域以及一周圍區域，該些第一通孔位於該中央區域，該些第二通孔位於該周圍區域。
3. 如請求項2所述之吸附載台，其中該些第一通孔於該吸附面之開口的大小的總和大於各該第二通孔於該吸附面之開口的大小。
4. 如請求項1所述之吸附載台，其中各該第一通孔於該吸附面之開口的大小大於各該第二通孔於該吸附面之開口的大小。
5. 如請求項1所述之吸附載台，其中該吸附面上形成有多個第三通孔，該些第三通孔分別貫通至該些流道；各該第二通孔分別位於該些第一通孔與各該第三通孔之間。
6. 如請求項5所述之吸附載台，其中各該第三通孔於該吸附面之開口的大小小於各該第二通孔於該吸附面之開口的大小。
7. 如請求項5所述之吸附載台，其中於每一該流道上連接有至少二該第三通孔。
8. 如請求項5所述之吸附載台，其中該吸附面上形成有多個第四通孔，該些第四通孔分別貫通至該些流道；各該第三通孔分別位於各該第二通孔與各該第四通孔之間。
9. 如請求項8所述之吸附載台，其中各該第四通孔具有相連接的一第一孔段與一第二孔段，該第一孔段連接該流道，該第二孔段連接該吸附面，該第一孔段的孔徑小於該第二孔段的孔徑。
10. 如請求項9所述之吸附載台，其中該第一孔段的截面概呈圓形，該第二孔段的截面概呈長條形。
11. 如請求項1所述之吸附載台，其中該些第一通孔係自該吸附面的中心向外延伸且間隔排列設置。
12. 如請求項11所述之吸附載台，其中該些第一通孔的排列形狀概呈十字形。
13. 如請求項1所述之吸附載台，其中該腔室係位於該吸盤的中心位置處，各該流道係以該腔室為中心沿該吸盤的徑向延伸形成。
14. 如請求項1所述之吸附載台，其中該吸附面為平面。
15. 如請求項1所述之吸附載台，其中該吸盤概呈方形，該吸附面概呈方形。