TWM537105U - 皂用刻章結構 - Google Patents

Description

皂用刻章結構

本創作係關於皂用刻章結構，尤其係關於一種可於皂體表面形成立體造型之皂用刻章。

現行手工皂在製造完成後常有特殊需求壓印上具有代表性的紋路，其所使用的圖樣刻章大多為凹陷於皂面以形成文字線條等圖樣，或是在皂面壓出局部凹陷同時形成部分凸出之圖樣，此圖樣在形成時則具有一個外框。

另有突出於皂面之立體樣式，但是這樣的樣式必須透過立體矽膠膜才能夠產生，且每每製作時必須要有一定的數量才能夠平衡成本，所以相對的變化不高，而此種立體造型的皂體必須給予特別包裝以防止皂體在運送時有所損壞。

是以，如何改善上述問題，實為現行手工皂製作必須優先考量的。

本創作的目的之一為解決皂用刻章對於皂體所形成的花紋結構型態，使花紋結構可獨立形成於皂體表面。

本創作的另一目的為解決習知皂體的立體花紋需要另外設計訂製特別包裝才能夠維持其完整不被破壞的問題。

本創作提供一種皂用刻章結構，包括章體，具有一施力端及一壓花端；花紋結構，具有一壓花部凸設於壓花端的表面，且表面為球面或可為圓 弧面，其中壓花部自花紋結構的表面向壓花端凹設成至少一個封閉區域；以及至少一個排氣通道，形成於章體的內部，並且具有至少一個形成於封閉區域之內的壓花端開口，以及至少一個排氣出口，形成於壓花端以外之章體的表面。

章體係可由具有前述施力端的施力塊體，以及具有前述壓花端的壓花塊體組合而成。施力塊體與壓花塊體之間可以具有一間隙空間，排氣通道可自壓花端開口貫穿壓花塊體，而連接至間隙空間。

本創作皂用刻章結構更可以具有一連接元件，連接於該施力塊體及該壓花塊體之間。連接元件可為一框體，且間隙空間形成於此一框體之內。排氣通道自間隙空間貫穿框體，而在框體的表面形成排氣出口。

為了能使此一皂用刻章結構容易拿取使用，章體上更可具有一握持部，形成於施力端附近。

透過上述皂用刻章結構的改良，可有效的在皂面押出沒有外框的立體花紋樣式，使的皂體可達到個人化以及多樣化，在視覺上因為無形成令人有侷限感的外框，而有一番清新的感受。

再者，藉由本創作之皂用顆章結構壓出的立體花紋，其頂面與未受到壓印的外圍皂面位於同一個平面上。所以，使用本創作之皂用刻章結構壓成的皂體在包裝時不需另外針對皂面的立體花紋做特殊設計的包裝做保護，在包裝成本上節省許多。

10‧‧‧章體

11‧‧‧施力塊體

111‧‧‧施力端

12‧‧‧壓花塊體

121‧‧‧壓花端

13‧‧‧花紋結構

131‧‧‧壓花部

132‧‧‧球面

1321‧‧‧壓入點

133‧‧‧圓弧面

1331‧‧‧壓入點

1311a、1311b、1311c‧‧‧封閉區域

14‧‧‧連接元件

15‧‧‧握持部

20‧‧‧排氣通道

21a、21b、21c‧‧‧壓花端開口

22‧‧‧排氣出口

23‧‧‧間隙空間

5‧‧‧皂體

5’‧‧‧皂體

51‧‧‧皂面

51’‧‧‧皂面

52‧‧‧頂面

6‧‧‧包裝

H‧‧‧壓入高度

圖1 為本創作之皂用刻章改良結構的章體整體示意圖。

圖2 為本創作之皂用刻章改良結構的章體局部剖切示意圖。

圖3 為利用圖1所示之皂用刻章結構所壓印出之皂體花紋立體示意圖。

圖4 為利用圖1所示之皂用刻章結構壓印於皂體時的斷面示意圖。

圖5 為本創作之皂用刻章改良結構的章體另一實施例整體示意圖。

圖6 為利用第4圖所示之皂用刻章改良結構所壓印出之皂體花紋立體示意圖。

圖7 為利用圖1所示之皂用刻章結構壓印於皂體時的斷面示意圖。

圖8 為本創作之皂用刻章改良結構的章體包裝示意圖。

為方便進一步了解本創作之技術內容、特徵所在，及其所能產生的效果，茲舉一較佳實施例配合圖式將其說明如下：首先，請參考圖1~圖4所示，本創作係為一種皂用刻章結構，其包括一章體10，一端有施力端111形成於施力塊體11之上、相對該施力端111之壓花端121則形成於壓花塊體12上；以及花紋結構13。

其中，花紋結構13凸設於壓花端122的表面，其包括壓花部131，其表面係呈球面132並於最高點形成一壓入點1321，壓花部131自花紋結構13表面向壓花端121凹設至少一封閉區域1311a、1311b、1311c…等，施力塊體11及壓花塊體12係由一連接元件14加以連接，以及形成於章體10內部的排氣通道20，排氣通道20具有至少一個壓花端開口21a、21b、21c…等，以及至少一個排氣出口22。壓花端開口21a、21b、21c分別形成於封閉區域1311a、1311b、1311c之內。排氣出口22則是形成於壓花端121以外之章體10的表面。

為了能使章體10容易拿取使用，章體10上更可具有一握持部15，形成於施力端111附近。

請參閱圖2，施力塊體11與壓花塊體12之間可以具有一間隙空間23。在此實施例中，此一間隙空間23係由間隔於施力塊體31及壓花塊體32之間的連接元件14之框體內部所形成。排氣通道20可自壓花端開口21貫穿壓花塊體12，而連接至間隙空間23，再自間隙空間23貫穿連接元件14的框體壁，而在框體的表面形成排氣出口22。

使用時，將本創作之皂用刻章結構之章體10置於皂體5欲壓樣花紋之皂面51上，花紋結構13的壓入點1321會自然的置於皂面51上，壓入高度H則為壓入點1321至壓花端121；加壓時，花紋結構13壓入皂體5時，除了壓入封閉區域1311a(1311b、1311c…等)的皂體5’以外的部分皆自壓入點1321均勻的向皂體5內部壓入，自此，壓入封閉區域1311a(1311b、1311c…等)的皂體5’則獨立成型於被壓入時所形成的皂面51’上，而該花紋結構13之壓入高度H至少2mm，而封閉區域1311a、1311b、1311c凹設的深度至少為2mm。又其表面為球面132，所以壓入高度H則自壓入點1321向外圍遞減連接壓花端121，所以，受擠壓的皂體則自壓入點1321向外圍減少，被壓入皂體5的部分因球面132施力均勻，僅僅使皂體5局部較為紮實，並不致使皂體5產生變形，是以，壓製完成的皂體5仍能保持完整不變形。

本創作之另一實例，請參考圖5~圖7所示，本創作之皂用刻章結構，其包括一章體10，一端有施力端111形成於施力塊體11之上、相對該施力端111之壓花端121則形成於壓花塊體12上；以及花紋結構13。

其中，花紋結構13凸設於壓花端122的表面，其包括壓花部131，其表面係呈圓弧面133並於最高點形成一壓入點1331，壓花部131自花紋結構13表面向壓花端121凹設至少一封閉區域1311a、1311b、1311c…等，施力塊體11及壓花 塊體12係由一連接元件14加以連接，以及形成於章體10內部的排氣通道20，排氣通道20具有至少一個壓花端開口21a、21b、21c…等，以及至少一個排氣出口22。壓花端開口21a、21b、21c分別形成於封閉區域1311a、1311b、1311c之內。排氣出口22則是形成於壓花端121以外之章體10的表面。

請參閱圖7，施力塊體11與壓花塊體12之間可以具有一間隙空間23。在此實施例中，此一間隙空間23係由間隔於施力塊體31及壓花塊體32之間的連接元件14之框體內部所形成。排氣通道20可自壓花端開口21貫穿壓花塊體12，而連接至間隙空間23，再自間隙空間23貫穿連接元件14的框體壁，而在框體的表面形成排氣出口22。

使用時，將本創作之皂用刻章結構之章體10置於皂體5欲壓樣花紋之皂面51上，花紋結構13的壓入點1331會自然的置於皂面51上，壓入高度H則為壓入點1331至壓花端121；加壓時，花紋結構13壓入皂體5時，除了壓入封閉區域1311a(1311b、1311c…等)的皂體5’以外的部分皆自壓入點1331均勻的向皂體5內部壓入，自此，壓入封閉區域1311a(1311b、1311c…等)的皂體5’則獨立成型於被壓入時所形成的皂面51’上，而該花紋結構13之壓入高度H至少2mm，而封閉區域1311a、1311b、1311c凹設的深度至少為2mm。又其表面為圓弧面133，所以壓入高度H則自壓入點1331向外圍遞減連接壓花端121，所以，受擠壓的皂體5則自壓入點1331向外圍減少，被壓入皂體5的部分因圓弧面133施力均勻，僅僅使皂體5局部較為紮實，並不致使皂體5產生變形，是以，壓製完成的皂體5仍能保持完整不變形。

再者，請參閱圖4、圖7，藉由本創作之皂用顆章結構壓出的立體花紋，其而皂體5’的頂面52則與未受到壓印的外圍皂面51位於同一個平面上。

綜上所述，本創作之皂用刻章結構，其花紋結構凸設於壓花端之設計，成功的在皂面51押出沒有外框的立體花紋樣式，使的皂體5可達到個人化以及多樣化，在視覺上因為無形成令人有侷限感的外框，而有一番清新的感受。

又，使用本創作之皂用刻章結構壓成的皂體55的包裝6(如圖8所示)並不需另外針對皂面的立體花紋做特殊設計的包裝做保護，在包裝成本上節省許多，實乃一極具產業價值的創新技術。

上述之具體實施例是用來詳細說明本創作之目的、特徵及功效，對於熟悉此類技藝之人仕而言，根據上述說明，可能對該具體實施例作部份變更及修改，其本質未脫離出本創作之精神範疇者，皆應包含在本案的申請專利範圍中，宜先陳明。

10‧‧‧章體

11‧‧‧施力塊體

111‧‧‧施力端

12‧‧‧壓花塊體

121‧‧‧壓花端

13‧‧‧花紋結構

131‧‧‧壓花部

132‧‧‧球面

1311a、1311b、1311c‧‧‧封閉區域

14‧‧‧連接元件

15‧‧‧握持部

20‧‧‧排氣通道

21a、21b、21c‧‧‧壓花端開口

22‧‧‧排氣出口

Claims (14)

1. 一種皂用刻章結構，包括一章體，具有一施力端及一壓花端；一花紋結構，係凸設於該壓花端的表面，具一壓花部，並具至少一封閉區域；以及至少一排氣通道，該排氣通道形成於該章體的內部，並且具有至少一個壓花端開口，形成於該封閉區域之內，以及至少一個排氣出口，形成於該壓花端以外之該章體的表面。
2. 如請求項1所述之皂用刻章結構，其中該施力端形成於一施力塊體之上，該壓花端形成於一壓花塊體上，且該章體係由該施力塊體及該壓花塊體組合而成。
3. 如請求項1所述之皂用刻章結構，其中該封閉區域係自該花紋結構的表面向壓花端凹設。
4. 如請求項3所述之皂用刻章結構，其中該花紋結構之表面係為球面。
5. 如請求項4所述之皂用刻章結構，其中該球面最高點則形成一壓入點。
6. 如請求項3所述之皂用刻章結構，其中該壓花部之表面係為圓弧面。
7. 如請求項6所述之皂用刻章結構，其中該圓弧面最高點則形成一壓入點。
8. 如請求項5或7所述之皂用刻章結構，其中該壓入點至壓花端的距離至少為2mm。
9. 如請求項1至7之任一項所述之皂用刻章結構，其中該封閉區域凹設的深度至少為2mm。
10. 如請求項2所述之皂用刻章結構，其中該施力塊體與該壓花塊體之間具有一間隙空間，且該壓花端開口貫穿該壓花塊體，而連接至該間隙空間。
11. 如請求項10所述之皂用刻章結構，更具有一連接元件，連接於該施力塊體及該壓花塊體之間。
12. 如請求項11所述之皂用刻章結構，其中該連接元件為一框體，且該間隙空間形成於該框體之內。
13. 如請求項12所述之皂用刻章結構，其中該排氣出口形成於該框體的表面，並貫穿該框體，而與該間隙空間相連。
14. 如請求項1所述之皂用刻章結構，其中該章體更具有一握持部，形成於該施力端附近。