TWM512574U - 真空吸盤 - Google Patents

Description

真空吸盤

本創作係提供一種真空吸盤，尤指使用以真空吸引預設物件之吸盤，其於座體下方底座之升降空間設有往復位移之加壓閥片，藉由加壓閥片中央穿孔來縮小面積以增大真空吸力及減少因未能吸附到預設物件時的真空損失。

按，在現今產業的加工或運送上越來越頻繁的運用真空吸盤，真空吸盤的技術主要可分為兩種，一種為接觸式真空吸盤，另一種為非接觸式真空吸盤，普遍而言，較為常見且應用層面較廣泛的為接觸式真空吸盤技術。

以接觸式真空吸盤而言，其原理係直接在吸盤進氣口處直接施加負壓，在吸盤出氣口產生吸力以達到吸附工件之作用，但吸盤的吸附面必須覆蓋在實體範圍內否則將導致真空流失無法吸取工件。

再者，吸盤的固定方式一般是以吸盤的吸附面大小為基礎而製作一個固定框架，其吸盤的數量有限，且無法隨機自動調整，須以人工調整，徒增操作上的不方便性。

以非接觸式吸盤而言，其吸附工件時吸附面與工件表面仍有一段微小的距離，所以無法將工件緊密吸住，當吸盤高速移動或旋轉時 會因加速度而產生的慣性力將工件甩出，且非接觸式吸盤之吸附面一般以硬性的材料製作，如工程塑膠或鋁合金，又因其與吸附工件存在一段距離，為了加強吸力而無法設置一個較柔軟的緩衝墊，倘若吸盤的吸附面與工件接觸時容易造成工件的刮傷。

上述習用之兩種真空吸盤，仍存在缺失有待改善，所以如何解決上述問題讓接觸式真空吸盤應用層面較廣泛，此即為從事此行業者所亟欲改善之目標所在。

故，創作人有鑑於上述之問題與缺失，乃蒐集相關資料，經由多方評估及考量，並以從事於此行業累積之多年經驗，經由不斷試作及修改，始設計出此種真空吸盤的創作專利誕生者。

本創作之主要目的乃在於該真空吸盤未使用時，加壓閥片為下落抵靠於濾網上表面，該真空吸盤使用時，加壓閥片便會受到空氣推動而位移抵持於止擋面，則升降空間與銜接通道之間的連通處便會縮小到僅剩加壓閥片中央穿孔的面積，藉此讓氣流穿透處之面積縮小，以增大真空吸力，便可讓預設物件被真空吸盤穩固吸引，高速移動時預設物件也不會甩落。

本創作之次要目的乃在於，利用加壓閥片讓升降空間與銜接通道之間的連通處縮小到僅剩加壓閥片之穿孔，便可減少進入氣槽之空氣，當真空吸盤吸引具多個鏤空處或呈不規則狀之預設物件時，真空吸引裝置排除空氣的速度為大於空氣經過穿孔進入氣槽的速度，所以氣槽之真空度就可減少損失，進而可讓真空吸盤增大使用範疇，及提升真空吸引之 穩定性。

本創作之另一目的乃在於該底座底面設置接觸軟墊，接觸軟墊為利用橡膠或矽膠等軟性發泡材質所製成，作為底座及預設物件之間的隔離，以防止兩者之間因摩擦而造成刮傷，且其各吸引孔道之間均不連通，使得各吸引孔道形成獨立吸盤之效果，又可避免產生破真空之情況，進而可提升加工或運輸之穩定性。

本創作之又一目的乃在於該，底座之入氣通道內裝設有濾網來濾除微小異物，以避免異物進入升降空間、銜接通道或氣槽產生阻塞，且座體頂面具有清潔槽口及其鎖固之清潔螺絲，可拆除清潔螺絲並由清潔槽口施以正壓吹氣，便可將阻塞之異物吹出真空吸盤，進而達到提升使用之穩定性、減少維修次數及快速排除阻塞之效果。

本創作之再一目的乃在於該座體頂面具有固定部及其周圍設有至少四個固定孔，讓預設載具可對正真空吸盤的中心並形成穩固定位，進而達到精準定位之目的。

1‧‧‧座體

10‧‧‧氣槽

11‧‧‧穿槽

12‧‧‧真空吸引裝置

121‧‧‧流道

1210‧‧‧通孔

1211‧‧‧漸擴流道

1212‧‧‧進氣流道

1213‧‧‧排氣流道

122‧‧‧對接組件

13‧‧‧清潔槽口

131‧‧‧清潔螺絲

14‧‧‧固定部

15‧‧‧固定孔

2‧‧‧底座

21‧‧‧入氣通道

211‧‧‧階部

212‧‧‧升降空間

213‧‧‧止擋面

214‧‧‧銜接通道

22‧‧‧濾網

23‧‧‧加壓閥片

231‧‧‧穿孔

24‧‧‧定位環

25‧‧‧固定元件

26‧‧‧密封墊圈

3‧‧‧接觸軟墊

31‧‧‧吸附底面

32‧‧‧吸引孔道

4‧‧‧預設物件

第一圖 係為本創作之立體外觀圖。

第二圖 係為本創作之另一立體外觀圖。

第三圖 係為本創作未使用時之側視剖面圖。

第四圖 係為本創作第三圖A部分之局部放大圖。

第五圖 係為本創作使用時之側視剖面圖。

第六圖 係為本創作第五圖B部分之局部放大圖。

第七圖 係為本創作之另一剖面圖。

為達成上述目的及功效，本創作所採用之技術手段及其構造，茲繪圖就本創作之較佳實施例詳加說明其特徵與功能如下，俾利完全瞭解。

請參閱第一、二、三、四、七圖所示，由圖中可以清楚看出，其包括座體1、底座2及接觸軟墊3，其中：該座體1底部為凹設有氣槽10，座體1頂面設有連通到氣槽10之複數穿槽11，再於複數穿槽11處裝設有真空吸引裝置12，且座體1頂面又設有連通到氣槽10之清潔槽口13，並於清潔槽口13鎖設有清潔螺絲131，座體1頂面中央再設有固定部14，固定部14周圍設有至少四個固定孔15。

該底座2為裝設覆蓋於座體1底部，底座2之底面凹設有連通氣槽10之複數入氣通道21，各入氣通道21內頂部設有內縮之階部211，再以階部211內側朝上凹設有升降空間212，升降空間212頂部設有內縮之止擋面213，止擋面213內側再朝上凹設有連通至氣槽10之銜接通道214，且入氣通道21內設有外徑大於升降空間212內徑且抵持於階部211之濾網22，升降空間212內設有外徑小於升降空間212內徑且大於銜接通道214內徑且可上下往復位移之加壓閥片23，加壓閥片23中央再設有外徑小於銜接通道214內徑之穿孔231，入氣通道21內再緊配設有抵持濾網22形成定位之定位環24。

該接觸軟墊3為對應設置於底座2底面，且接觸軟墊3下方具有接觸預設物件4之吸附底面31，吸附底面31則朝上貫穿設有對正連通各入氣通道21之複數吸引孔道32。

上述之底座2對正座體1氣槽10以外處設有複數固定元件25，藉此將底座2以鎖固到座體1，且底座2於複數入氣通道21外側接觸座體1之壁面處設有密封墊圈26，利用座體1或底座2凹設有凹槽容納並擠壓密封墊圈26形成密閉狀態，亦可於座體1與真空吸引裝置12連接處設置密封墊圈26，然而有關固定及密封之技術係為習知之技術，且該細部構成非本案創作要點，茲不再贅述。

請參閱第一、二、三、四、五、六、七圖所示，由圖中可以清楚看出，該真空吸盤未使用(真空吸引裝置12未啟動)時，加壓閥片23為下落抵靠於濾網22上表面，此時空氣可經由加壓閥片23外周緣與升降空間212內壁面之間的間隙連通流動，該真空吸盤使用時，為先將接觸軟墊3抵持於預設物件4之上表面，再啟動真空吸引裝置12將氣槽10內之空氣排到外部，此時，入氣通道21、升降空間212及銜接通道214之空氣為朝氣槽10移動，則加壓閥片23便會受到空氣之推動，由抵靠於濾網22上表面朝上位移至抵持於止擋面213，則升降空間212與銜接通道214之間的連通處便會縮小到僅剩加壓閥片23中央穿孔231的面積，此時，座體1之氣槽10內部空氣排出後為呈真空狀態，而僅有加壓閥片23之穿孔231為穿透處，藉此讓氣流穿透處之面積縮小，以增大真空吸力，便可讓預設物件4被真空吸盤穩固吸引，高速移動時預設物件4也不會甩落。

由於底座2之入氣通道21及接觸軟墊3之吸引孔道32為穿孔型式，而非一般橡膠吸盤之大面積接觸型式，所以在固定的底座2面積下就可以增加吸引處數量，如圖示實施立為在底座2直徑141mm的圓形面上設置156個入氣通道21，相較於一般接觸式真空吸盤的4、8或16個吸盤，若要裝設相同於本創作數量的吸盤，其面積對比於本創作將需增加數十倍，是以，本創作在固定框架的面積下增加吸盤數量以提高吸附實體面積的機率，因此不受預設物件4的部分鏤空而影響吸附力，上述實施例之面積大小及孔道數量僅為舉例說明，非因此即侷限本創作之專利範圍。

再者，當真空吸盤使用於吸引具多個鏤空處或呈不規則狀之預設物件4時(現今有很多精密物件為了縮小體積或與其他物件共同組合成一個產品，往往在精密物件本身會有大面積被挖空)，接觸軟墊3之局部複數吸引孔道32為對正於鏤空處，此時吸引孔道32無法形成密閉，所以真空吸引裝置12啟動後，外部空氣會依序經過吸引孔道32、入氣通道21、升降空間212及銜接通道214後進入氣槽10，但因為升降空間212與銜接通道214之間的連通處縮小到僅剩加壓閥片23之穿孔231，便可減少進入氣槽10之空氣，且真空吸引裝置12排除空氣的速度為大於經過複數加壓閥片23之穿孔231進入氣槽10的速度，所以氣槽10之真空度就可減少損失，進而可讓真空吸盤增大使用範疇，及提升真空吸引之穩定性。

該接觸軟墊3為利用橡膠或矽膠等軟性發泡材質所製成，其各吸引孔道32之間均不連通，所以外部空氣僅能透過吸引孔道32進 入座體1之氣槽10，不僅讓各吸引孔道32形成獨立吸盤之效果，又可減少因未吸附到實體物件時的真空流失之情況；另，因為是利用接觸軟墊3作為底座2及預設物件4之間的隔離，接觸軟墊3底部之吸附底面31接觸預設物件4表面，由於接觸軟墊3為軟性發泡材質，便不會刮傷預設物件4表面，進而可讓加工或運輸之穩定性提升；此外，因為接觸軟墊3為軟性發泡材質，且真空吸盤所產生的吸力大，所以接觸軟墊3接觸預設物件4並進行真空吸引時，其接觸軟墊3可彈性變形，所以可讓接觸軟墊3確實的接觸預設物件4表面，即便預設物件4表面有不平整處，真空吸盤亦可確實的吸引住預設物件4，且真空吸盤不須調整位置就可吸引住預設物件4。

該底座2之入氣通道21內裝設有濾網22，透過濾網22可濾除微小異物，以避免異物進入升降空間212、銜接通道214或氣槽10內產生阻塞之問題，進而可提升使用之穩定性並減少維修；此外，座體1頂面具有清潔槽口13及其鎖固之清潔螺絲131，當產生阻塞時，則可拆除清潔螺絲131，並由清潔槽口13朝氣槽10內施以正壓吹氣，便可將阻塞之異物吹出真空吸盤，由於排除動作簡單、方便，就可達到快速排除問題之目的。

該座體1頂面具有固定部14及其周圍設有至少四個固定孔15，預設載具(圖中未示出)為與固定部14組裝，再鎖固於至少四個固定孔15形成穩固定位，讓預設載具的中心可與真空吸盤的中心對正，進而達到精準定位之功能。

請參閱第一、二、三、四、五、六、七圖所示，由圖中可 以清楚看出，該座體1所裝設真空吸引裝置12之實施例可為外接式之真空產生器或真空馬達，透過真空產生器或真空馬達直接將氣槽10內之空氣抽出，便可具有真空吸引之效果，但由於真空產生器及真空馬達需額外設置且成本高昂，故，真空吸引裝置12之另一實施例則具有位於座體1氣槽10內之至少一個U型流道121，其U型流道121具有連通到氣槽10之複數通孔1210，且U型流道121二端分別連接於座體1之穿槽11及一般空壓機(圖中未示出)，透過空壓機將空氣打入U型流道121，則利用白努利定理讓氣槽10中流速慢壓力大之空氣經由複數通孔1210進入U型流道121，便可讓氣槽10中的空氣排出而形成真空狀態，藉此讓廠商運用工廠內普遍具有的空壓機即可使用真空吸盤，廠商便不須另外購買真空產生器或真空馬達，進而可節省成本。

再者，U型流道121為具有水平排列之至少一個漸擴流道1211，且漸擴流道1211二端分別設有對應連接各穿槽11之進氣流道1212及排氣流道1213，再於穿槽11裝設有伸出到座體1上方外部之對接組件122，進氣流道1212對應之對接組件122為連接於空壓機，讓空壓機之空氣先打入進氣流道1212，再經由漸擴流道1211及排氣流道1213後排出到外部，由於漸擴流道1211具有減速增壓的效果，便可將空氣確實的推動排出到外部。

故，本創作為主要針對真空吸盤，而可於座體底部氣槽於複數穿槽處裝設真空吸引裝置，底座於底面凹設複數入氣通道，入氣通道內設有中央具穿孔之加壓閥片，使用時升降空間與銜接通道之間僅有穿孔連通以縮小面積來增大真空吸力及減少進入氣槽的空氣，且氣槽也不會破 真空，以穩固吸引、高速移動時不會甩落及增大使用範疇為主要保護重點，惟，以上所述僅為本創作之較佳實施例而已，非因此即侷限本創作之專利範圍，故舉凡運用本創作說明書及圖式內容所為之簡易修飾及等效結構變化，均應同理包含於本創作之專利範圍內，合予陳明。

綜上所述，本創作上述真空吸盤於使用時，為確實能達到其功效及目的，故本創作誠為一實用性優異之創作，為符合新型專利之申請要件，爰依法提出申請，盼 審委早日賜准本案，以保障創作人之辛苦創作，倘若 鈞局審委有任何稽疑，請不吝來函指示，創作人定當竭力配合，實感德便。

1‧‧‧座體

10‧‧‧氣槽

12‧‧‧真空吸引裝置

121‧‧‧流道

1210‧‧‧通孔

1211‧‧‧漸擴流道

14‧‧‧固定部

2‧‧‧底座

25‧‧‧固定元件

26‧‧‧密封墊圈

3‧‧‧接觸軟墊

31‧‧‧吸附底面

32‧‧‧吸引孔道

4‧‧‧預設物件

Claims (8)

1. 一種真空吸盤，包括座體、底座及接觸軟墊，其中：該座體底部為凹設有氣槽，座體頂面設有連通到氣槽之複數穿槽，再於複數穿槽處裝設有真空吸引裝置；該底座為裝設覆蓋於座體底部，底座之底面凹設有複數入氣通道，入氣通道上方凹設有升降空間，升降空間頂部設有內縮之止擋面，止擋面內側再朝上凹設有連通至氣槽之銜接通道，升降空間內設有外徑小於升降空間內徑且大於銜接通道內徑且可上下往復位移之加壓閥片，加壓閥片中央再設有外徑小於銜接通道內徑之穿孔，真空吸盤未使用時，加壓閥片為抵靠於濾網上表面，真空吸盤使用時，加壓閥片抵持於止擋面，升降空間與銜接通道之間僅有穿孔連通；該接觸軟墊為對應設置於底座底面，且接觸軟墊下方具有接觸預設物件之吸附底面，吸附底面則朝上貫穿設有對正連通各入氣通道之複數吸引孔道。
2. 如申請專利範圍第1項所述之真空吸盤，其中該座體之真空吸引裝置可為外接式之真空產生器或真空馬達。
3. 如申請專利範圍第1項所述之真空吸盤，其中該座體之真空吸引裝置具有位於氣槽內之至少一個U型流道，其U型流道具有連通到氣槽之複數通孔，且U型流道二端分別連接於座體之穿槽及預設空壓機。
4. 如申請專利範圍第3項所述之真空吸盤，其中該U型流道為具有水平排列之至少一個漸擴流道，且漸擴流道二端分別設有對應連接各穿槽之進氣流道及排氣流道，再於穿槽裝設有伸出到座體上方外部之對接 組件，進氣流道對應之對接組件為連接於預設空壓機。
5. 如申請專利範圍第1項所述之真空吸盤，其中該座體頂面設有連通到氣槽之清潔槽口，清潔槽口鎖設有清潔螺絲。
6. 如申請專利範圍第1項所述之真空吸盤，其中該座體頂面中央設有固定部，固定部周圍設有至少四個固定孔。
7. 如申請專利範圍第1項所述之真空吸盤，其中該底座之各入氣通道頂部設有內縮之階部，且入氣通道內設有外徑大於升降空間內徑且抵持於階部之濾網，入氣通道內再緊配設有抵持濾網形成定位之定位環。
8. 如申請專利範圍第1項所述之真空吸盤，其中該接觸軟墊為利用橡膠或矽膠等軟性發泡材質所製成。