TWI843695B - 光學膜、以及使用上述光學膜之偏光板、表面板、影像顯示面板及影像顯示裝置、以及上述光學膜之製造方法、以及光學膜之篩選方法 - Google Patents

光學膜、以及使用上述光學膜之偏光板、表面板、影像顯示面板及影像顯示裝置、以及上述光學膜之製造方法、以及光學膜之篩選方法 Download PDF

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Abstract

本發明提供一種防眩性優異且指紋擦去性良好之光學膜。 一種光學膜，其具有第1面、及與上述第1面相反側之面的第2面，且上述光學膜自上述第1面朝向上述第2面依序具有抗反射層及防眩層，上述第1面具有凹凸形狀，上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之算術平均高度即Sa為0.05 μm以上，上述第1面滿足下述式1。 Sw×Vmp≦2.00      （式1） [式1中，「Sw」係於上述第1面上30 μl之純水之液滴流下時之傾斜角（度）；式1中，「Vmp」係上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之突出峰部實體體積（ml/m 2）之值]

Description

光學膜、以及使用上述光學膜之偏光板、表面板、影像顯示面板及影像顯示裝置、以及上述光學膜之製造方法、以及光學膜之篩選方法
本發明係關於一種光學膜、以及使用上述光學膜之偏光板、表面板、影像顯示面板及影像顯示裝置、以及上述光學膜之製造方法、以及光學膜之篩選方法、以及指紋擦去性之評價方法。
於電視、筆記型PC、桌上型PC之顯示器等影像顯示裝置之表面，有時會設置光學膜，以抑制照明及人物等背景之映入、或抑制表面之反射。 作為光學膜，例如已提出有專利文獻1～3等。 [先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1:國際公開第2019/026466號 專利文獻2:國際公開第2019/026471號 專利文獻3:日本特開2019-85473號公報
[發明所欲解決之課題]
專利文獻1～2之光學膜係具有在表面形成有凹凸之防眩層之防眩膜。在表面具有凹凸形狀之光學膜由於指紋會進入至凹凸形狀，故而有指紋擦去性降低之傾向。防眩膜具有越使防眩性變得良好，指紋擦去性越降低之傾向。專利文獻1～2之光學膜未對防污性進行任何研究。
專利文獻3之光學膜係油酸之滑移角為32°以下之塗層膜。專利文獻3之塗層膜雖然以容易擦去指紋為課題，但無法說指紋擦去性良好。 於無法充分擦去附著於光學膜之指紋之情形時，因具有指紋成分之位置、與不具有指紋成分之位置之光學特性之對比，而光學膜之美觀降低。尤其於具有抗反射層之光學膜之情形時，具有指紋成分之位置、與不具有指紋成分之位置之反射率之對比變大，光學膜之美觀大幅降低。
本發明之課題設為提供一種光學膜，其在表面具有凹凸形狀且在表面具有抗反射層，上述光學膜之防眩性優異且指紋擦去性良好。本發明之課題設為提供：防眩性優異且指紋擦去性良好之偏光板、表面板、影像顯示面板及影像顯示裝置。本發明課題設為提供一種防眩性優異且指紋擦去性良好之光學膜之製造方法。本發明課題設為提供一種防眩性優異且指紋擦去性良好之光學膜之篩選方法。本發明之課題設為提供一種可簡便地評價指紋擦去性之評價方法。 [解決課題之技術手段]
本發明提供以下之[1]～[15]。 [1]一種光學膜，其具有第1面、及與上述第1面相反側之面的第2面，且 上述光學膜自上述第1面朝向上述第2面依序具有抗反射層及防眩層， 上述第1面具有凹凸形狀， 上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之算術平均高度即Sa為0.05 μm以上， 上述第1面滿足下述式1： Sw×Vmp≦2.00      （式1） [式1中，Sw：係於上述第1面上30 μl之純水之液滴流下時之傾斜角（度）；式1中，Vmp：係上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之突出峰部實體體積（ml/m 2）之值]。 [2]一種偏光板，其具有偏光元件、配置於上述偏光元件之一側的第一透明保護板、及配置於上述偏光元件之另一側的第二透明保護板，且 上述第一透明保護板及上述第二透明保護板之至少一者為[1]所記載之光學膜，且上述光學膜之上述第2面與上述偏光元件對向地配置。 [3]一種影像顯示裝置用之表面板，其係於樹脂板或玻璃板上貼合保護膜而成，且上述保護膜為[1]所記載之光學膜，上述光學膜之上述第2面與上述樹脂板或上述玻璃板對向地配置。 [4]一種影像顯示面板，其具有顯示元件、及配置於上述顯示元件之光出射面側之光學膜，且包含[1]所記載之光學膜作為上述光學膜。 [5]一種影像顯示裝置，其包含[4]所記載之影像顯示面板。 [6]一種光學膜製造方法，其係[1]所記載之光學膜之製造方法，且具有： 於基材上形成防眩層之第1步驟、及於上述防眩層上形成抗反射層之第2步驟。 [7]一種光學膜之篩選方法，其篩選滿足下述篩選條件之光學膜， （光學膜之篩選條件） 為具有第1面、及與上述第1面相反側之面的第2面之光學膜，且 上述光學膜自上述第1面朝向上述第2面依序具有抗反射層及防眩層， 上述第1面具有凹凸形狀， 上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之算術平均高度即Sa為0.05 μm以上， 上述第1面滿足下述式1： Sw×Vmp≦2.00      （式1） [式1中，Sw：係於上述第1面上30 μl之純水之液滴流下時之傾斜角（度）；式1中，Vmp：係上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之突出峰部實體體積（ml/m 2）之值]。
[8]一種光學膜，其具有第1面、及與上述第1面相反側之面的第2面，且 上述光學膜自上述第1面朝向上述第2面依序具有抗反射層及防眩層， 上述第1面具有凹凸形狀， 上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之突出谷部空間體積即Vvv為0.005 ml/m 2以上， 藉由下述手法而測定之滴落式接觸角為30.0度以上， ＜滴落式接觸角之測定＞ 使表面張力為30 mN/m之液滴自45 mm之高度滴落至上述光學膜之上述第1面；上述液滴係自上述第1面之垂直方向滴落；藉由θ/2法測定液滴附著10秒後之靜態接觸角。 [9]一種偏光板，其具有偏光元件、配置於上述偏光元件之一側的第一透明保護板、及配置於上述偏光元件之另一側的第二透明保護板，且 上述第一透明保護板及上述第二透明保護板之至少一者為[8]所記載之光學膜，上述光學膜之上述第2面與上述偏光元件對向地配置。 [10]一種影像顯示裝置用之表面板，其係於樹脂板或玻璃板上貼合保護膜而成，且上述保護膜為[8]所記載之光學膜，上述光學膜之上述第2面與上述樹脂板或上述玻璃板對向地配置。 [11]一種影像顯示面板，其具有顯示元件、及配置於上述顯示元件之光出射面側之光學膜，且包含[8]所記載之光學膜作為上述光學膜。 [12]一種影像顯示裝置，其包含[11]所記載之影像顯示面板。 [13]一種光學膜製造方法，其係[8]所記載之光學膜之製造方法，且具有： 於基材上形成防眩層之第1步驟、及於上述防眩層上形成抗反射層之第2步驟。 [14]一種光學膜之篩選方法，其篩選滿足下述篩選條件之光學膜， （光學膜之篩選條件） 為具有第1面、及與上述第1面相反側之面的第2面之光學膜，且 上述光學膜自上述第1面朝向上述第2面依序具有抗反射層及防眩層， 上述第1面具有凹凸形狀， 上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之突出谷部空間體積即Vvv為0.005 ml/m 2以上， 藉由下述手法而測定之滴落式接觸角為30.0度以上， ＜滴落式接觸角之測定＞ 使表面張力為30 mN/m之液滴自45 mm之高度滴落至上述光學膜之上述第1面；上述液滴係自上述第1面之垂直方向滴落；藉由θ/2法測定液滴附著10秒後之靜態接觸角。 [15]一種指紋擦去性之評價方法，其係將藉由下述測定所測得之滴落式接觸角之值作為評價指標， ＜滴落式接觸角之測定＞ 使表面張力為30 mN/m之液滴自45 mm之高度滴落至測定對象物之表面；上述液滴係自上述表面之垂直方向滴落；藉由θ/2法測定液滴附著10秒後之靜態接觸角。 [發明之效果]
本發明之光學膜、偏光板、表面板、影像顯示面板及影像顯示裝置之防眩性優異、且可使指紋擦去性變得良好。本發明之光學膜之製造方法可簡便地製造防眩性優異且指紋擦去性良好之光學膜。本發明之光學膜之篩選方法可效率良好地篩選防眩性優異且指紋擦去性良好之光學膜。本發明之指紋擦去性之評價方法可簡便地評價測定對象物之指紋擦去性。
以下，對本發明之實施方式進行說明。 [第1實施方式之光學膜] 本發明之第1實施方式之光學膜係以下者。 一種光學膜，其具有第1面、及與上述第1面相反側之面的第2面，且 上述光學膜自上述第1面朝向上述第2面依序具有抗反射層及防眩層， 上述第1面具有凹凸形狀， 上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之算術平均高度即Sa為0.05 μm以上， 上述第1面滿足下述式1。 Sw×Vmp≦2.00      （式1） [式1中，「Sw」係於上述第1面上30 μl之純水之液滴流下時之傾斜角（度）；式1中，「Vmp」係上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之突出峰部實體體積（ml/m 2）之值]
圖1係本發明之第1實施方式之光學膜100之剖面形狀之概略剖視圖。 圖1之光學膜100具有：具有凹凸形狀之第1面、及與上述第1面相反側之面的第2面。圖1中，上側之面為第1面，下側之面為第2面。 圖1之光學膜自第1面朝向第2面依序具有抗反射層30、防眩層20及基材10。 圖1係示意性剖視圖。即，構成光學膜100之各層之縮小比例、及凹凸形狀之縮小比例係為了容易圖示而模式化，與實際之縮小比例不同。圖2及3亦同樣如此。
本發明之第1實施方式之光學膜並不限定於圖1之積層構成。例如，本發明之第1實施方式之光學膜亦可為不具有基材之積層構成。本發明之第1實施方式之光學膜亦可具有除基材、防眩層及抗反射層以外之層。
＜第1面＞ 本發明之第1實施方式之光學膜具有第1面。本發明之第1實施方式之光學膜較佳為抗反射層之表面為第1面。
第1實施方式之光學膜之第1面具有凹凸形狀，且由ISO 25178-2：2012規定之算術平均高度即Sa為0.05 μm以上。於第1面不具有凹凸形狀之情形時，無法使光學膜之防眩性變得良好。藉由使第1面具有凹凸形狀，且將Sa設為0.05 μm以上，可容易使光學膜之防眩性變得良好。
第1實施方式之第1面較佳為Sa為0.10 μm以上，更佳為0.20 μm以上，進而較佳為0.30 μm以上。 若第1面之Sa過大，則有時導致光學膜之耐擦傷性降低。因此，第1面之Sa較佳為0.80 μm以下，更佳為0.60 μm以下，進而較佳為0.45 μm以下。
第1面之Sa之範圍之實施方式可例舉：0.05 μm以上0.80 μm以下、0.05 μm以上0.60 μm以下、0.05 μm以上0.45 μm以下、0.10 μm以上0.80 μm以下、0.10 μm以上0.60 μm以下、0.10 μm以上0.45 μm以下、0.20 μm以上0.80 μm以下、0.20 μm以上0.60 μm以下、0.20 μm以上0.45 μm以下、0.30 μm以上0.80 μm以下、0.30 μm以上0.60 μm以下、0.30 μm以上0.45 μm以下。
第1實施方式之光學膜之第1面滿足下述式1。 Sw×Vmp≦2.00      （式1） [式1中，「Sw」係於上述第1面上30 μl之純水之液滴流下時之傾斜角（度）；式1中，「Vmp」係上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之突出峰部實體體積（ml/m 2）之值]
第1實施方式中，藉由將第1面之Sw×Vmp之值設為2.00以上，可容易使指紋擦去性變得良好。於以下對Sw×Vmp、與指紋擦去性之關係進行說明。 Sw係於第1面上30 μl之純水之液滴流下時之傾斜角（度）。本說明書中，有時將「30 μl之純水之液滴流下時之傾斜角（度）」稱為「純水下降傾斜角」。指紋中含有大量水分。因此，第1面之Sw越小，則第1面與指紋之附著性越弱，有容易去除指紋之傾向。但是，僅使第1面之Sw變小，有時無法使指紋擦去性變得良好。尤其於使光學膜之防眩性變得良好之情形時，若僅使第1面之Sw變小，則難以使指紋擦去性變得良好。 Vmp係由ISO 25178-2：2012規定之突出峰部實體體積（ml/m 2）。Vmp係表示高度較核心部高之突出部分之體積的參數。核心部相當於凹凸形狀中具有平均高度之部分。Vmp越大，意味著較核心部突出之部分之體積越大。本說明書中，有時將「較核心部突出之部分」稱為「突出之凸部」。Sa與Vmp未必有關聯，但若為了使防眩性變得良好而使Sa變大，則Vmp有變大之傾向。並且，若Vmp變大，則指紋容易進入至突出之凸部之間，因此指紋擦去性容易降低。若為了抑制指紋進入至突出之凸部之間，而使第1面之Vmp變小，則難以使光學膜之防眩性變得良好。又，若僅使第1面之Vmp變小，則難以使光學膜之指紋擦去性變得良好。 如上所述，若僅調整Sw、及僅調整Vmp，則難以使具有防眩性之光學膜之指紋擦去性變得良好。因此，本發明之第1實施方式之光學膜藉由將Sw×Vmp設為2.00以下，而使指紋擦去性變得良好。Sw×Vmp為2.00以下意味著Sw及Vmp未變得極大且Sw及Vmp之至少任一者較小。因此，藉由將Sw×Vmp設為2.00以下，可使光學膜之指紋擦去性變得良好。
第1實施方式中，Sw×Vmp較佳為1.60以下，更佳為1.40以下，進而較佳為1.20以下。 Sw×Vmp過小意味著Sw及Vmp之至少任一者過小。於Sw過小之情形時，抗反射層中之氟系化合物及聚矽氧系化合物之含量增加，光學膜之耐擦傷性容易降低。於Vmp過小之情形時，Sa變小，防眩性容易降低。因此，Sw×Vmp較佳為0.15以上，更佳為0.25以上，更佳為0.40以上，更佳為0.60以上。
第1實施方式中，第1面之Sw×Vmp之範圍之實施方式可例舉：0.15以上2.00以下、0.15以上1.60以下、0.15以上1.40以下、0.15以上1.20以下、0.25以上2.00以下、0.25以上1.60以下、0.25以上1.40以下、0.25以上1.20以下、0.40以上2.00以下、0.40以上1.60以下、0.40以上1.40以下、0.40以上1.20以下、0.60以上2.00以下、0.60以上1.60以下、0.60以上1.40以下、0.60以上1.20以下。
第1實施方式中，為了容易將Sw×Vmp設為1.60以下，第1面之Sw較佳為65（度）以下，更佳為40（度）以下，進而較佳為30（度）以下。 第1實施方式中，為了抑制光學膜之耐擦傷性之降低，第1面之Sw較佳為10（度）以上，更佳為13（度）以上，更佳為17（度）以上。
第1實施方式中，第1面之Sw之範圍之實施方式可例舉：10度以上65度以下、10度以上40度以下、10度以上30度以下、13度以上65度以下、13度以上40度以下、13度以上30度以下、17度以上65度以下、17度以上40度以下、17度以上30度以下。
本發明之第1實施方式之光學膜較佳為第1面之純水接觸角為100度以上120度以下，更佳為110度以上115度以下。 本說明書中，純水接觸角係將純水1.0 μL滴加至第1面側之表面，依據θ/2法測量液滴附著10秒後之靜態接觸角。
第1實施方式中，為了容易將Sw×Vmp設為1.60以下，第1面之Vmp較佳為0.100（ml/m 2）以下，更佳為0.080（ml/m 2）以下，更佳為0.060（ml/m 2）以下，更佳為0.045（ml/m 2）以下。 第1實施方式中，為了容易使防眩性變得良好，第1面之Vmp較佳為0.005（ml/m 2）以上，更佳為0.007（ml/m 2）以上，更佳為0.010（ml/m 2）以上，更佳為0.020（ml/m 2）以上。
第1面之Vmp之範圍之實施方式可例舉：0.005 ml/m 2以上0.100 ml/m 2以下、0.005 ml/m 2以上0.080 ml/m 2以下、0.005 ml/m 2以上0.060 ml/m 2以下、0.005 ml/m 2以上0.045 ml/m 2以下、0.007 ml/m 2以上0.100 ml/m 2以下、0.007 ml/m 2以上0.080 ml/m 2以下、0.007 ml/m 2以上0.060 ml/m 2以下、0.007 ml/m 2以上0.045 ml/m 2以下、0.010 ml/m 2以上0.100 ml/m 2以下、0.010 ml/m 2以上0.080 ml/m 2以下、0.010 ml/m 2以上0.060 ml/m 2以下、0.010 ml/m 2以上0.045 ml/m 2以下、0.020 ml/m 2以上0.100 ml/m 2以下、0.020 ml/m 2以上0.080 ml/m 2以下、0.020 ml/m 2以上0.060 ml/m 2以下、0.020 ml/m 2以上0.045 ml/m 2以下。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
本說明書中，光學膜之「純水下降傾斜角」係根據下述（1）～（3）之步驟進行測定。下述（1）～（3）之步驟之測定例如可藉由使用協和界面科學公司之「DropMaster」系列之商品號「DMo-701」，並使用作為附屬件之「SA-301」而測定。 純水可使用通用之純水。一般而言，純水之比電阻值為0.1 MΩ・cm以上15 MΩ・cm以下。
（1）自光學膜切出2 cm×8 cm之大小之樣品。於樣品之第2面側貼附雙面膠帶，經由雙面膠帶來固定樣品、與傾斜角為0度之水平之載台。雙面膠帶之大小設為長度8 cm以上、寬度5 mm。於固定樣品與載台時，使樣品不產生褶皺，並且使樣品與載台之間不進入氣泡。 （2）於樣品之第1面滴加30 μl之純水。 （3）使設置有樣品之載台以2°/1秒之速度緩慢地傾斜。於液滴之前端移動了0.2835 mm以上時，判定為液滴流下。將液滴流下時之載台之角度作為「純水下降傾斜角」。「載台之角度」意指水平面與載台之平面所成之角。
圖3係用以對純水之液滴流下時之傾斜角（度）進行說明之圖。圖3之「θ」相當於載台之角度。圖3中，符號200表示水平面，符號300表示載台之平面，符號400表示液滴。圖3中，省略了位於載台之平面300、與液滴400之間之光學膜。
本說明書中，Vmp、Vvc及Vvv係將分離核心部與突出峰部之負載面積率設為10%、將分離核心部與突出谷部之負載面積率設為80%而算出者。 本說明書中，下述Sxp意指負載面積率2.5%之高度與負載面積率50%之高度之差量。 關於「本說明書中，xxx」之記載，只要無特別說明，便意指第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。例如上述Vmp等之定義係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
本說明書中，Sa、Vmp、Vvv、Vvc、Sxp及Sal等表面形狀係使用共焦雷射顯微鏡進行測定。作為共焦雷射顯微鏡，可例舉基恩斯公司之「VK-X」系列等。又，藉由使用上述「VK-X」系列之「多檔案解析應用程式（Multi-file Analysis Application）」，可簡便地算出Sa、Vmp、Vvv、Vvc、Sxp及Sal。 關於使用上述「VK-X」系列來測定Sa、Vmp、Vvv、Vvc、Sxp及Sal時之測定條件，較佳為依據實施例中所記載之條件。例如，F-操作較佳為設為平面傾斜修正（區域指定）。測定區域較佳為1邊為50 μm以上200 μm以下之長方形，測定點較佳為每邊500點以上2000點以下。
本說明書中，關於表面形狀（Sa、Vmp、Vvv、Vvc、Sxp及Sal）、角度（純水下降傾斜角、純水接觸角及滴落式接觸角）、元素比率（F/無機Si、有機Si/無機Si、F/有機Si等）、光學物性（R SCI、霧度、全光線穿透率、穿透影像清晰度等），只要無特別說明，便意指自16個位置之測定值去除最大值及最小值所得之14個測定值之平均值。 本說明書中，16個測定位置係將自測定樣品之外緣起1 cm之區域作為空白而排除，對於剩餘區域，畫出將縱向及橫向進行5等分之線，將此時之交點之16個位置作為測定中心。例如，於測定樣品為長方形之情形時，將自長方形之外緣起0.5 cm之區域作為空白而排除，以「沿縱向及橫向將剩餘之區域5等分之虛線之交點之16個位置」作為中心進行測定。然後，將自16個位置之測定值去除最大值及最小值所得之14個測定值之平均值作為參數之值。於測定樣品為圓形、橢圓形、三角形、五邊形等除長方形以外之形狀之情形時，描繪出與該等形狀內切之長方形，對於上述長方形，藉由上述手法來進行16個位置之測定。
本說明書中，關於表面形狀（Sa、Vmp、Vvv、Vvc、Sxp及Sal）、角度（純水下降傾斜角、純水接觸角及滴落式接觸角）、表面張力、元素比率（F/無機Si、有機Si/無機Si、F/有機Si等）、光學物性（R SCI、霧度、全光線穿透率、穿透影像清晰度等），只要無特別說明，便於溫度23±5℃、相對濕度40%以上65%以下進行測定。又，於各測定之開始前，將對象樣品於上述環境中暴露30分鐘以上60分鐘以下後進行測定。
本發明之第1實施方式之光學膜較佳為第1面之由ISO 25178-2：2012規定之突出谷部空間體積即Vvv為0.005 ml/m 2以上0.100 ml/m 2以下。Vvv係表示深度較核心部深之突出部分之體積的參數。藉由將Vvv設為0.005 ml/m 2以上，可容易使防眩性變得更良好。藉由將Vvv設為0.100 ml/m 2以下，可容易使指紋擦去性變得更良好。 Vvv之下限更佳為0.007 ml/m 2以上，進而較佳為0.010 ml/m 2以上。Vvv之上限更佳為0.080 ml/m 2以下，進而較佳為0.060 ml/m 2以下。 第1面之Vvv之範圍之實施方式可例舉：0.005 ml/m 2以上0.100 ml/m 2以下、0.005 ml/m 2以上0.080 ml/m 2以下、0.005 ml/m 2以上0.060 ml/m 2以下、0.007 ml/m 2以上0.100 ml/m 2以下、0.007 ml/m 2以上0.080 ml/m 2以下、0.007 ml/m 2以上0.060 ml/m 2以下、0.010 ml/m 2以上0.100 ml/m 2以下、0.010 ml/m 2以上0.080 ml/m 2以下、0.010 ml/m 2以上0.060 ml/m 2以下。
第1實施方式中，本發明之光學膜之第1面較佳為Vvv與Vvc之比（Vvv/Vvc）為0.10以下，上述Vvc為由ISO 25178-2：2012規定之核心部空間體積。藉由將Vvv/Vvc設為0.10以下，可容易使指紋擦去性變得更良好。Vvv/Vvc更佳為0.09以下，進而較佳為0.08以下。
第1實施方式中，本發明之光學膜之第1面較佳為Vmp與Vvc之比（Vmp/Vvc）為0.10以下。藉由將Vmp/Vvc設為0.10以下，可容易使指紋擦去性變得更良好。Vvv/Vvc更佳為0.09以下，進而較佳為0.08以下。
第1實施方式中，本發明之光學膜之第1面較佳為由ISO 25178-2：2012規定之最小自相關長度即Sal為4.0 μm以上12.0 μm以下。
Sal係著眼於橫向之參數。Sal越小，第1面越具有凹凸密集之形狀，Sal越大，第1面越具有凹凸之間隔較寬之形狀。對於由JIS B0601規定之「粗糙度曲線要素之平均長度RSm」之值，微細之凹凸幾乎不會產生影響，只有較大之凹凸會產生影響。另一方面，Sal之值與RSm之不同之處在於，不僅較大之凹凸會產生影響，微細之凹凸亦會產生影響。又，即便凹凸之間隔較寬，若凸部較小、或凹凸形狀複雜，則Sal亦有變小之傾向。又，若凸部為單調之形狀，則Sal有變大之傾向。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
藉由將Sal設為4.0 μm以上，可容易使指紋擦去性變得更良好。藉由將Sal設為12.0 μm以下，可容易使防眩性變得更良好。 Sal之下限更佳為5.0 μm以上，進而較佳為6.0 μm以上。Sal之上限更佳為11.0 μm以下，進而較佳為10.0 μm以下。
第1面之Sal之範圍之實施方式可例舉：4.0 μm以上12.0 μm以下、4.0 μm以上11.0 μm以下、4.0 μm以上10.0 μm以下、5.0 μm以上12.0 μm以下、5.0 μm以上11.0 μm以下、5.0 μm以上10.0 μm以下、6.0 μm以上12.0 μm以下、6.0 μm以上11.0 μm以下、6.0 μm以上10.0 μm以下。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
第1實施方式中，本發明之光學膜較佳為藉由X射線光電子光譜法對第1面側之表面區域進行分析而獲得之元素比率滿足下述之式2～4。 3.5≦F/無機Si≦10.0     （式2） 0.08≦有機Si/無機Si≦1.00 （式3） 5.0≦F/有機Si≦50.0     （式4） [式2～4中，「F」係氟元素之比率，「無機Si」係歸屬於無機矽化合物之矽元素之比率，「有機Si」係歸屬於有機矽化合物之矽元素之比率]
本說明書中，「第1面側之表面區域」表示自第1面側之表面起至深度10 nm為止之區域。本說明書中，有時將「X射線光電子光譜法」稱為「XPS」。本說明書中，第1面側之表面區域之元素比率可藉由實施例中所記載之手法進行測定。
光學膜之第1面之表面區域之無機Si主要源自二氧化矽粒子。光學膜之第1面之表面區域之有機Si及F主要源自調平劑。 根據Si2p軌道之X射線光電子光譜，對無機成分與有機成分進行峰分離，藉此可區分無機Si與有機Si。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
於光學膜之第1面之表面區域，無機Si可降低第1面之折射率，另一方面，有使指紋擦去性變差之傾向。又，於光學膜之第1面之表面區域，藉由包含相對於無機Si在特定量以上之有機Si及F，而有使指紋擦去性變得良好之傾向。進而，於光學膜之第1面之表面區域，藉由平衡良好地包含有機Si與F，有使指紋擦去性變得良好之傾向。因此，藉由將F/無機Si設為3.5以上，且將有機Si/無機Si設為0.08以上，且將F/有機Si設為5.0以上50.0以下，可容易減小Sw，可容易滿足式1。 又，藉由將F/無機Si設為10.0以下，且將有機Si/無機Si設為1.00以下，可容易抑制抗反射層之塗佈性之降低。
F/無機Si之下限更佳為4.0以上，進而較佳為4.5以上，上限更佳為9.0以下，進而較佳為8.0以下。 有機Si/無機Si之下限更佳為0.10以上，進而較佳為0.15以上，上限更佳為0.80以下，進而較佳為0.50以下。 F/有機Si之下限更佳為10.0以上，進而較佳為15.0以上，進而更佳為22.0以上，上限更佳為40.0以下，進而較佳為35.0以下。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
F/無機Si之範圍之實施方式可例舉：3.5以上10.0以下、3.5以上9.0以下、3.5以上8.0以下、4.0以上10.0以下、4.0以上9.0以下、4.0以上8.0以下、4.5以上10.0以下、4.5以上9.0以下、4.5以上8.0以下。 有機Si/無機Si之範圍之實施方式可例舉：0.08以上1.00以下、0.08以上0.80以下、0.08以上0.50以下、0.10以上1.00以下、0.10以上0.80以下、0.10以上0.50以下、0.15以上1.00以下、0.15以上0.80以下、0.15以上0.50以下。 F/有機Si之範圍之實施方式可例舉：5.0以上50.0以下、5.0以上40.0以下、5.0以上35.0以下、10.0以上50.0以下、10.0以上40.0以下、10.0以上35.0以下、15.0以上50.0以下、15.0以上40.0以下、15.0以上35.0以下、22.0以上50.0以下、22.0以上40.0以下、22.0以上35.0以下。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
本發明之光學膜較佳為關於藉由X射線光電子光譜法對第1面側之表面區域進行分析而獲得之元素比率，無機Si相對於全部元素之比率為2原子%以上20原子%以下。藉由將無機Si相對於全部元素之比率設為2原子%以上，可容易降低第1面之折射率，因此可容易使光學膜之抗反射性變得良好。藉由將無機Si之比率設為20原子%以下，可容易使F/無機Si成為3.5以上，且使有機Si/無機Si成為0.08以上。 無機Si相對於全部元素之比率之下限更佳為3原子%以上，進而較佳為4原子%以上，上限更佳為15原子%以下，進而較佳為12原子%以下。 無機Si相對於全部元素之比率之範圍之實施方式可例舉：2原子%以上20原子%以下、2原子%以上15原子%以下、2原子%以上12原子%以下、3原子%以上20原子%以下、3原子%以上15原子%以下、3原子%以上12原子%以下、4原子%以上20原子%以下、4原子%以上15原子%以下、4原子%以上12原子%以下。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
＜積層構成＞ 本發明之第1實施方式之光學膜自第1面朝向第2面依序具有抗反射層及防眩層。第1實施方式之光學膜之第1面側之最表面較佳為抗反射層。
本發明之光學膜亦可具有除抗反射層及防眩層以外之層。作為除抗反射層及防眩層以外之層，可例舉：基材、抗靜電層、接著劑層等。 本發明之光學膜較佳為自第1面朝向第2面依序具有抗反射層、防眩層及基材。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中所共通之記載。
《基材》 為了製造之容易性、及操作性，第1實施方式之光學膜較佳為具有基材。
作為基材，較佳為具備透光性、平滑性及耐熱性，進而機械強度優異者。作為此種基材，可例舉：聚酯、三乙醯纖維素（TAC）、二乙酸纖維素、醋酸丁酸纖維素、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯縮醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚胺酯（polyurethane）及非晶質烯烴（環烯烴聚合物；Cyclo-Olefin-Polymer：COP）等塑膠膜。基材亦可為2片以上之塑膠膜貼合而成者。 塑膠膜中，為了機械強度及尺寸穩定性，較佳為經延伸加工之聚酯膜，更佳為經雙軸延伸加工之聚酯膜。作為聚酯膜，可例舉聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚萘二甲酸乙二酯膜等。TAC膜、丙烯酸膜由於容易使透光性及光學各向同性變得良好，故較佳。COP膜、聚酯膜由於耐候性優異，故較佳。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
基材之厚度較佳為5 μm以上300 μm以下，更佳為20 μm以上200 μm以下，進而較佳為30 μm以上120 μm以下。 於欲對光學膜進行薄膜化之情形時，基材之厚度之較佳上限為100 μm以下，更佳上限為80 μm以下。又，於基材為聚酯、COP、丙烯酸等低透濕性基材之情形時，用以薄膜化之基材之厚度之較佳上限為60 μm以下，更佳上限為40 μm以下。即便於大螢幕之情形時，只要基材之厚度之上限處於上述範圍內，可不易產生應變，就該方面而言，亦較佳。 本說明書中，基材之厚度係利用膜厚測定器進行測定。作為膜厚測定器，可例舉Mitutoyo公司之數位型標準外側測微計（商品號：MDC-25SX）等。關於基材之厚度，只要對任意10點進行測定所得之平均值為上述數值即可。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
基材之由JIS K7361-1：1997規定之全光線穿透率較佳為70%以上，更佳為80%以上，進而較佳為85%以上。 基材較佳為由JIS K7136：2000規定之霧度為10%以下，更佳為5%以下，進而較佳為3%以下。 為了提高接著性，可對基材之表面實施電暈放電處理等物理處理、或實施化學處理。又，基材亦可為表面具有易接著層者。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
《防眩層》 第1實施方式中，防眩層係擔任防眩性之中心之層。 第1實施方式中，防眩層例如可藉由（A）使用壓紋輥之方法、（B）蝕刻處理、（C）利用模具進行之成型、（D）利用塗佈進行之塗膜形成等來形成。為了容易獲得穩定之表面形狀，較佳為（C）之利用模具進行之成型，為了生產性及應對多種類，較佳為（D）之利用塗佈進行之塗膜形成。
（C）之手段中，例如可向模具中流入樹脂，將所成形之樹脂自模具中取出，藉此形成防眩層。自模具中取出之經成形之樹脂可配置於基材上。模具係使用反轉了防眩層之表面形狀之模具。此種模具例如可藉由下述之（c1-1）～（c1-2）、或下述之（c2）之手法來製作。 （c1-1）利用模擬製作Sa及Vmp等成為特定範圍之形狀。進而，將模擬出之形狀反轉。 （c1-2）以反映出反轉了形狀之方式，利用雷射光對金屬之表面進行雕刻、或利用光微影法對金屬之表面進行加工，藉此獲得模具。
（c2）藉由通用之電鑄法，獲得反轉了（D）中所製作之防眩層之形狀之模具。
於藉由（D）來形成防眩層之情形時，例如可例舉下述之（d1）及（d2）之手段。就較（d2）更容易調整Sa及Vmp等表面形狀之範圍之方面而言（d1）較佳。 （d1）係塗佈包含黏合劑樹脂及粒子之塗佈液並進行乾燥，形成具有基於粒子之凹凸之防眩層的手段。 （d2）係塗佈包含任意樹脂、及與上述樹脂之相容性較差之樹脂的塗佈液，並使樹脂進行相分離而形成凹凸之手段。
-厚度- 至於防眩層之厚度T，為了與捲曲抑制、機械強度、硬度及韌性之平衡，較佳為2.0 μm以上10.0 μm以下，更佳為3.0 μm以上8.0 μm以下，進而較佳為4.0 μm以上6.0 μm以下。 本說明書中，防眩層之厚度例如可選擇利用掃描式穿透式電子顯微鏡所獲得之光學膜之剖面照片之任意20個位置，根據其平均值而算出。較佳為STEM之加速電壓設為10 kv以上30 kV以下，STEM之倍率設為1000倍以上7000倍以下。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
-成分- 防眩層較佳為主要包含樹脂成分。進而，防眩層亦可視需要包含：有機粒子及無機粒子等粒子；奈米單位之微粒子；折射率調整劑、抗靜電劑、調平劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、抗氧化劑、黏度調整劑及熱聚合起始劑等添加劑等其他成分。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
防眩層較佳為包含黏合劑樹脂及粒子。 粒子可例舉有機粒子及無機粒子，較佳為無機粒子。即，防眩層較佳為包含黏合劑樹脂及無機粒子。又，防眩層更佳為包含黏合劑樹脂、無機粒子及有機粒子。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
―粒子― 作為無機粒子，可例舉二氧化矽、氧化鋁、氧化鋯及氧化鈦等，較佳為二氧化矽。無機粒子中，較佳為不定形無機粒子，更佳為不定形二氧化矽。 作為有機粒子，可例舉包含選自由聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、三聚氰胺樹脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、苯并胍胺-三聚氰胺-甲醛縮合物、聚矽氧、氟系樹脂及聚酯系樹脂等中之一種以上之樹脂的粒子。 所謂不定形無機粒子意指將大粒徑無機粒子粉碎後進行分級而獲得之不具有特定形狀之無機粒子。 作為粒子，較佳為包含無機粒子。又，作為粒子，更佳為包含不定形無機粒子，進而較佳為包含不定形無機粒子及有機粒子。作為不定形無機粒子，較佳為不定形二氧化矽。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
不定形無機粒子具有與球形粒子相比，容易增大Sa、容易減小Sal之傾向。但是，若不定形無機粒子之粒徑分佈過廣，則Vmp容易變大，因此難以滿足式1。尤其是若不定形無機粒子凝集，則Vmp變得更大，更難以滿足式1。另一方面，若不定形無機粒子之粒徑分佈過窄，則塗佈適應性容易降低。因此，不定形無機粒子較佳為粒徑之體積基準之累積分佈處於下述範圍內。但是，若單獨使用無機粒子，則容易凝集。因此，第1實施方式中，為了容易滿足Sa及式1，較佳為將不定形粒子之粒徑分佈設為下述範圍，且併用有機粒子。
第1實施方式中，不定形無機粒子等無機粒子較佳為粒徑之體積基準之累積分佈d10、粒徑之體積基準之累積分佈d50、及粒徑之體積基準之累積分佈d90滿足下述（1）及（2）之關係。 1.5≦d50/d10≦4.0  （1） 1.0≦d90/d50≦3.0  （2）
d50/d10為1.5以上意味著粒徑為平均以下之區域內之無機粒子之粒度分佈較廣。藉由將d50/d10設為1.5以上，而容易對凹凸表面賦予細小之凹凸，因此可容易減小Sal。藉由將d50/d10設為4.0以下，可抑制埋藏於防眩層中之無機粒子之量增加，可提高無機粒子之添加效率。 d90/d50為1.0以上意味著粒徑為平均以上之區域內之無機粒子之粒度分佈較廣。藉由將d90/d50設為1.0以上，可容易增大Vmp、且容易增大Sal。藉由將d90/d50設為3.0以下，可容易抑制Vmp變得過大、及Sal變得過大。
d50/d10之下限更佳為2.0以上，進而較佳為2.3以上，上限更佳為3.5以下，進而較佳為3.2以下。 d90/d50之下限更佳為1.3以上，進而較佳為1.5以上，上限更佳為2.5以下，進而較佳為2.0以下。 本說明書中，不定形無機粒子等無機粒子之d10、d50及d90係藉由雷射繞射法進行測定。
第1實施方式中，不定形無機粒子等無機粒子較佳為粒徑之體積基準之累積分佈d50為2.5 μm以上5.5 μm以下，更佳為3.0 μm以上5.0 μm以下，進而較佳為3.3 μm以上4.7 μm以下。 藉由將d50設為2.5 μm以上，可抑制無機粒子之個數過度增加，因此可容易抑制Sal變得過小。藉由將d50設為5.5 μm以下，可抑制無機粒子之個數過度減少，因此可容易抑制Sal變得過大。
防眩層之厚度T、與不定形無機粒子等無機粒子之d50較佳為d50/T為0.55以上1.00以下，更佳為0.60以上0.95以下，進而較佳為0.70以上0.90以下。 藉由將d50/T設為0.55以上，可容易減小Sal。藉由將d50/T設為1.00以下，可容易增大Sal。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
防眩層之厚度T、與不定形無機粒子等無機粒子之d90較佳為d90/T為1.00以上1.50以下，更佳為1.08以上1.45以下，進而較佳為1.20以上1.40以下。 藉由將d90/T設為1.00以上，可容易增大Vmp。藉由將d90/T設為1.50以下，可容易減小Vmp。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
至於不定形無機粒子等無機粒子之含量，相對於黏合劑樹脂100質量份，較佳為8質量份以上40質量份以下，更佳為12質量份以上30質量份以下，進而較佳為15質量份以上28質量份以下。 藉由將不定形無機粒子等無機粒子之含量設為8質量份以上，可抑制無機粒子之個數過度減少，因此會緻密地配置無機粒子，於無機粒子之間形成谷。因此，Vvv成為特定值以上，進而Sal不會變得過大，因此可容易使防眩性變得良好。 藉由將不定形無機粒子等無機粒子之含量設為40質量份以下，可抑制無機粒子之個數過度增多，因此可容易抑制Sal變得過小。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
第1實施方式中，相對於黏合劑樹脂100質量份，有機粒子之含量較佳為1質量份以上25質量份以下，更佳為3質量份以上18質量份以下，進而較佳為8質量份以上14質量份以下。 藉由將有機粒子之含量設為1質量份以上，可容易抑制無機粒子之凝集。又，藉由將有機粒子之含量設為1質量份以上，可抑制有機粒子之個數過度減少，因此可容易抑制Vmp變得過大。 有機粒子由於粒徑分佈相對均勻，故而若有機粒子之含量增加，則Sal變小之傾向增強。因此，藉由將有機粒子之含量設為25質量份以下，可抑制Sal變得過小，可容易使指紋擦去性變得良好。
第1實施方式中，有機粒子之平均粒徑較佳為1.0 μm以上5.0 μm以下，更佳為1.2 μm以上3.0 μm以下，進而較佳為1.3 μm以上2.5 μm以下。 藉由將有機粒子之平均粒徑設為1.0 μm以上，可抑制有機粒子之個數過度增多，因此可容易抑制Sal變得過小。因此，藉由將有機粒子之平均粒徑設為1.0 μm以上，可容易使指紋擦去性變得良好。藉由將有機粒子之平均粒徑設為5.0 μm以下，可抑制有機粒子之個數過度減少，因此可容易抑制Vmp變得過大。 本說明書中，有機粒子之平均粒徑意指以雷射繞射法中之體積平均值d50求出之值。
第1實施方式中，有機粒子較佳為粒度分佈較窄者。具體而言，第1實施方式中，有機粒子較佳為平均粒徑之±0.5 μm之範圍內之粒子之比率為有機粒子之總量之80體積%以上，更佳為85體積%以上，進而較佳為90%以上。藉由使不定形無機粒子等無機粒子之粒度分佈變廣，另一方面使有機粒子之粒度分佈變窄，可容易減小Vmp而滿足式1。
作為有機粒子之形狀，可例舉球狀、圓盤狀、橄欖球狀、不定形等。該等形狀中，為了容易控制粒度分佈，較佳為球狀之有機粒子。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
第1實施方式中，有機粒子之平均粒徑相對於防眩層之厚度（有機粒子之平均粒徑/防眩層之厚度）較佳為0.20以上0.70以下，更佳為0.23以上0.50以下，進而較佳為0.25以上0.35以下。藉由將有機粒子之平均粒徑/防眩層之厚度設為上述範圍，可容易使Vmp、Sa及Sal成為上述範圍。
―無機微粒子― 防眩層可除黏合劑樹脂及粒子以外進而包含無機微粒子。本說明書中，無機微粒子與上述粒子可以平均粒徑進行區別。 藉由使防眩層包含無機微粒子，而使粒子之折射率、與防眩層之除粒子以外之組成物之折射率之差變小，可容易減小內部霧度。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
作為無機微粒子，可例舉由二氧化矽、氧化鋁、氧化鋯及氧化鈦等所構成之微粒子。其等中，較佳為容易抑制內部霧度之產生之二氧化矽。 無機微粒子之平均粒徑較佳為1 nm以上200 nm以下，更佳為2 nm以上100 nm以下，進而較佳為5 nm以上50 nm以下。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
―黏合劑樹脂― 為了容易使耐擦傷性變得良好，黏合劑樹脂較佳為包含熱硬化性樹脂組成物之硬化物或游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物等硬化性樹脂組成物之硬化物，更佳為包含游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物。 黏合劑樹脂亦可於不阻礙本發明之效果之範圍內包含熱塑性樹脂。 至於硬化性樹脂組成物之硬化物相對於黏合劑樹脂之總量之比率，為了容易使耐擦傷性變得良好，較佳為80質量%以上，更佳為90質量%以上，進而較佳為100質量%。 熱硬化性樹脂組成物係至少包含熱硬化性樹脂，且藉由加熱而硬化之樹脂組成物。 作為熱硬化性樹脂，可例舉：丙烯酸樹脂、胺酯（urethane）樹脂、酚系樹脂、脲三聚氰胺樹脂、環氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚矽氧樹脂等。於熱硬化性樹脂組成物中，視需要向該等硬化性樹脂添加硬化劑。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
游離輻射硬化性樹脂組成物係包含具有游離輻射硬化性官能基之化合物（以下，亦稱為「游離輻射硬化性化合物」）之組成物。 作為游離輻射硬化性官能基，可例舉：(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等乙烯性不飽和鍵結基、及環氧基、氧雜環丁基等。作為游離輻射硬化性化合物，較佳為具有乙烯性不飽和鍵結基之化合物，更佳為具有2個以上乙烯性不飽和鍵結基之化合物，其中，進而較佳為具有2個以上乙烯性不飽和鍵結基之多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物。作為多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物，可使用單體及低聚物之任一種。 本說明書中，游離輻射意指電磁波或帶電粒子束中具有能夠使分子聚合或交聯之能量量子者。游離輻射通常可使用紫外線（UV）或電子束（EB），此外，亦可使用X射線、γ射線等電磁波、α射線、離子束等帶電粒子束。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
作為多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物中之2官能(甲基)丙烯酸酯系單體，可例舉：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A四乙氧基二丙烯酸酯、雙酚A四丙氧基二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯等。 作為3官能以上之(甲基)丙烯酸酯系單體，例如可例舉：三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸改質三(甲基)丙烯酸酯等。 上述(甲基)丙烯酸酯系單體亦可為對分子骨架之一部分進行了改質者。例如上述(甲基)丙烯酸酯系單體亦可使用以環氧乙烷、環氧丙烷、己內酯、異三聚氰酸、烷基、環狀烷基、芳香族、雙酚等對分子骨架之一部分進行改質所得者。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
作為多官能(甲基)丙烯酸酯系低聚物，可例舉：胺酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯等丙烯酸酯系聚合物等。 胺酯(甲基)丙烯酸酯例如可藉由多元醇及有機二異氰酸酯與羥基(甲基)丙烯酸酯之反應而獲得。 較佳之環氧(甲基)丙烯酸酯係：使3官能以上之芳香族環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等與(甲基)丙烯酸反應而獲得之(甲基)丙烯酸酯；使2官能以上之芳香族環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等及多元酸及(甲基)丙烯酸反應而獲得之(甲基)丙烯酸酯；以及，使2官能以上之芳香族環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等及酚類及(甲基)丙烯酸反應而獲得之(甲基)丙烯酸酯。 多官能(甲基)丙烯酸酯系低聚物之重量平均分子量較佳為500以上3000以下，更佳為700以上2500以下。 本說明書中，重量平均分子量係藉由GPC分析進行測定，且以標準聚苯乙烯進行換算所得之平均分子量。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
亦可為了調整防眩層塗佈液之黏度等目的，而併用單官能(甲基)丙烯酸酯作為游離輻射硬化性化合物。作為單官能(甲基)丙烯酸酯，可例舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯及(甲基)丙烯酸異莰酯等。 上述游離輻射硬化性化合物可單獨使用一種，或者組合兩種以上而使用。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
於游離輻射硬化性化合物為紫外線硬化性化合物之情形時，游離輻射硬化性組成物較佳為包含光聚合起始劑或光聚合促進劑等添加劑。 作為光聚合起始劑，可例舉選自苯乙酮、二苯甲酮、α-羥烷基苯酮、米其勒酮、安息香、二苯甲醯二甲基縮酮（benzil dimethyl ketal）、苯甲醯基苯甲酸酯、α-醯基肟酯、9-氧硫 類等中之一種以上。 光聚合促進劑能夠減輕硬化時由空氣所導致之聚合阻礙，加快硬化速度。作為促進劑，可例舉對二甲胺基苯甲酸異戊酯、對二甲胺基苯甲酸乙酯等。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
第1實施方式中，於黏合劑樹脂包含游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物之情形時，游離輻射硬化性樹脂組成物較佳為包含多官能(甲基)丙烯酸酯單體及多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物。 第1實施方式中，多官能(甲基)丙烯酸酯單體與多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物之質量比較佳為5：95～60：40，更佳為20：80～60：40，進而較佳為40：60～60：40。 藉由將多官能(甲基)丙烯酸酯單體設為特定比率以上，可容易使防眩層之耐擦傷性變得良好。 藉由將多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物設為特定比率以上，可容易提高防眩層用塗佈液之黏度，並容易抑制粒子下沉至防眩層之下方，並且可容易抑制黏合劑樹脂流下至基於粒子之凸部之間。因此，可容易使Sa及Vvv成為特定值以上，且可容易使Sal成為特定值以下。另一方面，若多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物之比率變得過多，則有時導致防眩層之強度降低。又，若防眩層用塗佈液之黏度過高，則有時導致Vmp變得過大，或Sal變得過小。因此，游離輻射硬化性樹脂組成物較佳為包含特定量之多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物、及特定量之多官能(甲基)丙烯酸酯單體。
―溶劑、乾燥條件― 防眩層塗佈液較佳為包含溶劑，以調節黏度，或能夠使各成分溶解或分散。塗佈、乾燥後之防眩層之表面形狀會根據溶劑之種類而有所不同，因此較佳為考慮溶劑之飽和蒸氣壓、溶劑對基材之滲透性等而篩選溶劑。 具體而言，溶劑例如可例示酮類（丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮（MIBK）、環己酮等）、醚類（二烷、四氫呋喃等）、脂肪族烴類（己烷等）、脂環式烴類（環己烷等）、芳香族烴類（甲苯、二甲苯等）、鹵化碳類（二氯甲烷、二氯乙烷等）、酯類（乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等）、醇類（異丙醇、丁醇、環己醇等）、賽路蘇類（甲基賽路蘇、乙基賽路蘇等）、二醇醚類（丙二醇單甲醚乙酸酯等）、乙酸賽路蘇類、亞碸類（二甲基亞碸等）、醯胺類（二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等）等，亦可為其等之混合物。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
第1實施方式中，防眩層塗佈液中之溶劑較佳為以蒸發速度較快之溶劑作為主成分。藉由使溶劑之蒸發速度變快，而抑制粒子下沉至防眩層之下部，進而可容易抑制黏合劑樹脂流下至基於粒子之凸部之間。因此，可容易使Sa及Vvv成為特定值以上，且可容易使Sal成為特定值以下。
主成分意指為溶劑之總量之50質量%以上，較佳為70質量%以上，更佳為90質量%以上，進而較佳為97質量%以上。 本說明書中，蒸發速度較快之溶劑意指將乙酸丁酯之蒸發速度設為100時蒸發速度為100以上之溶劑。蒸發速度較快之溶劑之蒸發速度更佳為120以上300以下，進而較佳為150以上220以下。 作為蒸發速度較快之溶劑，例如可例舉：甲基異丁基酮（蒸發速度160）、甲苯（蒸發速度200）、甲基乙基酮（蒸發速度370）。 另一方面，作為蒸發速度未達100之蒸發速度較慢之溶劑，可例舉：環己酮（蒸發速度32）、丙二醇單甲醚乙酸酯（蒸發速度44）。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
第1實施方式中，於由防眩層塗佈液形成防眩層時，較佳為控制乾燥條件。 乾燥條件可藉由乾燥溫度及乾燥機內之風速進行控制。乾燥溫度較佳為30℃以上120℃以下，乾燥風速較佳為0.2 m/s以上50 m/s以下。又，為了藉由乾燥來控制防眩層之表面形狀，較佳為於塗佈液之乾燥後進行游離輻射之照射。 乾燥條件較佳為於上述溫度範圍及風速範圍內實施2個階段之乾燥。並且，對於第2階段之乾燥，較佳為相較於第1階段之乾燥，將乾燥溫度設為高溫，且使風速增強。藉由在第1階段緩慢地乾燥，於黏合劑樹脂覆蓋不定形無機粒子之表面時，可容易於黏合劑樹脂之表面反映出不定形無機粒子之形狀。又，藉由相較於第1階段之乾燥，將第2階段之乾燥溫度設為高溫，且使風速增強，可容易抑制有機粒子之凝集。因此，藉由設為2個階段之乾燥，可容易抑制Vmp變得過大，且可容易使Sal成為特定值以下。 第1階段之乾燥較佳為將乾燥溫度設為30℃以上且未達60℃，將乾燥風速設為0.2 m/s以上且未達7 m/s。第2階段之乾燥較佳為將乾燥溫度設為60℃以上120℃以下，將乾燥風速設為7 m/s以上50 m/s以下。
《抗反射層》 第1實施方式中，抗反射層較佳為位於第1面側之最表面。
抗反射層例如可例舉：低折射率層之單層構造；高折射率層與低折射率層之2層構造；3層構造以上之多層構造。低折射率層及高折射率層可藉由通用之濕式法或乾式法等形成。於濕式法之情形時，較佳為上述單層構造或2層構造，於乾式法之情形時，較佳為上述多層構造。 就生產效率及耐化學品性之方面而言，濕式法優於乾式法。 本發明之光學膜中，為了容易維持防眩層之凹凸形狀，抗反射層較佳為低折射率層之單層構造。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
―單層構造或2層構造之情形― 單層構造為低折射率層之單層，2層構造由高折射率層及低折射率層所形成。單層構造或2層構造係藉由濕式法而更加良好地形成。 作為藉由濕式法來形成抗反射層之方法，可例舉：使用金屬烷氧化物等並藉由溶膠凝膠法來形成之手法；塗佈如氟樹脂之低折射率樹脂而形成之手法；塗佈黏合劑樹脂組成物中含有低折射率粒子或高折射率粒子之塗佈液而形成之手法。 濕式法中，為了密接性及耐擦傷性，較佳為藉由黏合劑樹脂組成物中含有低折射率粒子或高折射率粒子之塗佈液來形成抗反射層。即，低折射率層較佳為包含黏合劑樹脂及低折射率粒子。又，高折射率層較佳為包含黏合劑樹脂及高折射率粒子。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
低折射率層之折射率之下限較佳為1.10以上，更佳為1.20以上，更佳為1.26以上，更佳為1.28以上，更佳為1.30以上，上限較佳為1.48以下，更佳為1.45以下，更佳為1.40以下，更佳為1.38以下，更佳為1.32以下。 本說明書中，折射率意指於波長550 nm之值。 低折射率層之厚度之下限較佳為80 nm以上，更佳為85 nm以上，更佳為90 nm以上，上限較佳為150 nm以下，更佳為110 nm以下，更佳為105 nm以下。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
關於低折射率層之黏合劑樹脂，為了使耐擦傷性變得更良好，較佳為包含熱硬化性樹脂組成物之硬化物或游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物等硬化性樹脂組成物之硬化物，更佳為包含游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物。 低折射率層之黏合劑樹脂亦可於不阻礙本發明之效果之範圍內包含熱塑性樹脂。 作為低折射率層之硬化性樹脂組成物之硬化物，可例舉與防眩層中所例示之硬化性樹脂組成物之硬化物相同者。 相對於低折射率層之黏合劑樹脂之總量，硬化性樹脂組成物之硬化物之比率較佳為80質量%以上，更佳為90質量%以上，進而較佳為97質量%以上。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
第1實施方式中，低折射率層之黏合劑樹脂亦可包含熱塑性樹脂。藉由包含熱塑性樹脂作為黏合劑樹脂，而提高低折射率層用塗佈液之黏度，使低折射率層用塗佈液變得不易流下至防眩層之凸部之間。因此，藉由包含熱塑性樹脂作為黏合劑樹脂，可容易使Sa及Vvv成為特定值以上，且可容易使Sal成為特定值以下。進而，由於變得容易於第1面之表面附近殘存有機Si及氟，故而可容易滿足式2～4之元素比率。另一方面，若低折射率層用塗佈液之黏度變得過高，則於抗反射層用塗佈液之塗佈時有時在防眩層之表面產生缺陷。 為了上述作用及塗膜強度，熱塑性樹脂之含量較佳為黏合劑樹脂之總量之0.1質量%以上3.0質量%以下，更佳為0.2質量%以上1.5質量%以下，進而較佳為0.3質量%以上0.7質量%以下。
作為熱塑性樹脂，可例舉聚苯乙烯系樹脂、聚烯烴系樹脂、ABS樹脂（包含耐熱ABS樹脂）、AS樹脂、AN樹脂、聚伸苯醚系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚縮醛系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂、聚對苯二甲酸丁二酯系樹脂、聚碸系樹脂、及聚苯硫醚系樹脂等，就透明性之觀點而言，較佳為丙烯酸系樹脂。 熱塑性樹脂之重量平均分子量較佳為2萬以上20萬以下，更佳為3萬以上15萬以下，進而較佳為5萬以上10萬以下。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
低折射率粒子可例舉中空粒子及實心粒子。作為低折射率粒子，可僅含中空粒子及實心粒子中之任一種，但為了使折射率降低，較佳為包含中空粒子。為了抑制低折射率層之塗膜強度之降低，亦可除中空粒子以外進而包含實心粒子。再者，藉由不包含實心粒子而僅包含中空粒子，可容易發揮本發明之效果。 中空粒子及實心粒子之材質可為二氧化矽及氟化鎂等無機化合物、有機化合物中之任一種，但為了低折射率化及強度，較佳為二氧化矽。即，低折射率層較佳為包含中空二氧化矽粒子。又，低折射率層亦較佳為除中空二氧化矽粒子以外進而包含實心二氧化矽粒子。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
中空粒子之平均一次粒徑較佳為小於低折射率層之厚度者，例如可例舉1 nm以上150 nm以下。中空粒子之平均一次粒徑較佳為35 nm以上100 nm以下，更佳為50 nm以上100 nm以下，進而較佳為60 nm以上80 nm以下。 實心粒子之平均一次粒徑較佳為小於低折射率層之厚度者，例如可例舉0.5 nm以上100 nm以下。實心粒子之平均一次粒徑較佳為1 nm以上30 nm以下，更佳為5 nm以上20 nm以下，進而較佳為10 nm以上15 nm以下。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
中空粒子及下述實心粒子、以及下述高折射粒子之平均一次粒徑係藉由以下之（A1）～（A3）之操作而算出。 （A1）利用TEM或STEM來拍攝抗反射構件之剖面。較佳為將TEM或STEM之加速電壓設為10 kv～30 kV，將倍率設為5萬～30萬倍。 （A2）自觀察影像選出任意10個粒子，算出各個粒子之粒徑。粒徑係如下測定，即，用任意平行之2根直線夾住粒子之剖面時，測定如該2根直線間距離變得最大之2根直線之組合中之直線間距離，將其作為上述粒徑。 （A3）於相同樣品之其他畫面之觀察影像中進行5次相同之操作，將根據合計50個粒徑之數量平均所獲得之值作為粒子之平均一次粒徑。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
中空粒子之含量越多，則黏合劑樹脂中之中空粒子之填充率越高，低折射率層之折射率越低。因此，相對於黏合劑樹脂100質量份，中空粒子之含量較佳為100質量份以上，更佳為150質量份以上。 另一方面，若中空粒子之含量過多，則中空粒子容易損傷、或脫落，有低折射率層之耐擦傷性等機械強度降低之傾向。又，若中空粒子之含量過多，則有變得難以滿足上述式2及3之情況。因此，相對於黏合劑樹脂100質量份，中空粒子之含量較佳為300質量份以下，更佳為250質量份以下。 至於實心粒子之含量，為了使低折射率層之耐擦傷性變得良好，相對於黏合劑樹脂100質量份，較佳為20質量份以上，更佳為40質量份以上。 另一方面，若實心粒子之含量過多，則實心粒子容易凝集。又，若實心粒子之含量過多，則有變得難以滿足上述式2及3之情況。因此，相對於黏合劑樹脂100質量份，實心粒子之含量較佳為100質量份以下，更佳為60質量份以下。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
第1實施方式中，為了使第1表面容易滿足上述式2～4之元素比率，低折射率層較佳為含有包含有機Si及氟之調平劑。
包含有機Si及氟之調平劑可為於分子內包含有機Si及氟之化合物。又，包含有機Si及氟之調平劑亦可併用於分子內包含有機Si之化合物、及於分子內包含氟之化合物。為了容易使與黏合劑樹脂之相容性變得良好，低折射率層較佳為包含於1個分子內包含有機Si及氟之化合物作為調平劑。調平劑較佳為於分子內具有與黏合劑樹脂具有反應性之官能基。 上述式2～4之元素比率可主要藉由調平劑之含量、及調平劑內之有機Si及氟之比率進行調整。但是，僅憑調平劑之含量、及調平劑內之有機Si及氟之比率，難以控制流下至防眩層之凸部之間的低折射率層用塗佈液之量。為了容易滿足上述式2～4之元素比率，較佳為調高低折射率層用塗佈液之黏度、或控制低折射率層用塗佈液之乾燥條件，以減少流下至防眩層之凸部之間的低折射率層用塗佈液之量。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
調平劑之較佳含量較佳為根據調平劑內之有機Si及氟之比率，以滿足上述式2～4之元素比率之方式進行調整。 本發明之一實施方式中，相對於低折射率層之總固形物成分，調平劑之含量較佳為10質量%以上40質量%以下，更佳為15質量%以上40質量%以下，進而較佳為20質量%以上40質量%以下。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
高折射率層較佳為配置於較低折射率層靠近防眩層側。 高折射率層之折射率之下限較佳為1.53以上，更佳為1.54以上，更佳為1.55以上，更佳為1.56以上，上限較佳為1.85以下，更佳為1.80以下，更佳為1.75以下，更佳為1.70以下。 高折射率層之厚度之上限較佳為200 nm以下，更佳為180 nm以下，進而較佳為150 nm以下，下限較佳為50 nm以上，更佳為70 nm以上。 作為高折射率層之黏合劑樹脂，可例舉與低折射率層之黏合劑樹脂相同者。 作為高折射率粒子，可例舉五氧化二銻、氧化鋅、氧化鈦、氧化鈰、摻錫氧化銦、摻銻氧化錫、氧化釔及氧化鋯等。 高折射率粒子之平均一次粒徑較佳為2 nm以上，更佳為5 nm以上，進而較佳為10 nm以上。又，就抑制白化及透明性之觀點而言，高折射率粒子之平均一次粒徑較佳為200 nm以下，更佳為100 nm以下，更佳為80 nm以下，更佳為60 nm以下，更佳為30 nm以下。 高折射率粒子之含量只要設為如高折射率層之折射率成為上述範圍之含量即可。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
於藉由濕式法來形成低折射率層及高折射率層等抗反射層之情形時，較佳為提高抗反射層用塗佈液之黏度。藉由提高抗反射層用塗佈液之黏度，而使抗反射層用塗佈液不易流下至防眩層之凸部之間，因此即便於防眩層上形成抗反射層，亦可容易維持防眩層之表面形狀。因此，藉由適度地提高抗反射層用塗佈液之黏度，可容易使Sa及Vvv成為特定值以上，且可容易使Sal成為特定值以下。進而，由於容易於第1面之表面附近殘存有機Si及氟，故而可容易滿足式2～4之元素比率。例如藉由添加熱塑性樹脂作為黏合劑樹脂，或者增加作為游離輻射硬化性樹脂組成物之低聚物之比率，或者選擇黏度較高之溶劑作為溶劑等，可提高抗反射層用塗佈液之黏度。 另一方面，若過度提高抗反射層用塗佈液之黏度，則於抗反射層用塗佈液之塗佈時有時在防眩層之表面產生缺陷。 因此，抗反射層用塗佈液之23℃之黏度較佳為0.1 mPa・s以上5.0 mPa・s以下。
作為抗反射層用塗佈液之溶劑，可例舉與防眩層用塗佈液之實施方式相同者。
於由抗反射層塗佈液形成抗反射層時，較佳為控制乾燥條件。 乾燥條件可藉由乾燥溫度及乾燥機內之風速進行控制。乾燥溫度較佳為30℃以上70℃以下，乾燥風速較佳為10 m/s以上30 m/s以下。藉由將乾燥溫度設為低溫，可容易提高抗反射層用塗佈液之黏度。又，藉由使風速增強，可迅速地提升抗反射層用塗佈液之黏度。因此，藉由以相對較低之溫度、且較強之風速對抗反射層用塗佈液進行乾燥，可使抗反射層用塗佈液不易流下至防眩層之凸部之間。即，藉由以相對較低之溫度、且較強之風速對抗反射層用塗佈液進行乾燥，可容易使第1面之Sa等表面形狀處於上述範圍內，且可容易滿足式1～4。 游離輻射之照射較佳為於抗反射層用塗佈液之乾燥後進行。
―3層構造以上之多層構造之情形― 藉由乾式法而較佳地形成之多層構造係將高折射率層與低折射率層交替地積層合計3層以上而成之構成。於多層構造中，低折射率層亦較佳為配置於光學膜之最表面。 高折射率層之厚度較佳為10 nm以上200 nm以下，折射率較佳為2.10以上2.40以下。高折射率層之厚度更佳為20 nm以上70 nm以下。 低折射率層之厚度較佳為5 nm以上200 nm以下，折射率較佳為1.33以上1.53以下。低折射率層之厚度更佳為20 nm以上120 nm以下。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
＜光學特性＞ 第1實施方式之光學膜較佳為藉由下述手法而測定之全光線反射率即R SCI為3.0%以下。 [全光線反射率（R SCI）之測定] 製作樣品，上述樣品係於上述光學膜之上述第2面側，經由透明黏著劑貼合黑色板而成。將上述樣品之上述光學膜側設為光入射面而測定全光線反射率（R SCI）。
藉由將R SCI設為3.0%以下，於照度較強之光不入射至第1面之環境下，可容易提高黑色顯示部之黑色調，因此可容易使對比度變得良好。光學膜之R SCI更佳為2.5%以下，進而較佳為2.0%以下。光學膜之R SCI之下限並無特別限制，通常為0.1%以上。
通常而言，於將R SCI設為3.0%以下之情形時，具有指紋成分之位置、與不具有指紋成分之位置之反射率之對比變大，光學膜之美觀容易大幅降低。但是，本發明之光學膜藉由滿足式1，而具有良好之指紋擦去性，因此即便將R SCI設為3.0%以下，亦可容易抑制光學膜之美觀降低。
R SCI係使用積分球對樣品表面提供來自所有方向之光，並關閉相當於鏡面反射方向之光阱而測定之反射光。 具有代表性之R SCI之測定裝置係依據JIS Z8722：2009之幾何條件c之構成。更具體而言，具有代表性之R SCI之測定裝置係使用D65作為積分球分光光度計之光源，光接收器之位置相對於樣品之法線為+8度，光接收器之開口角為10度，光阱之位置相對於樣品之法線為-8度，視野角為2度或10度。本說明書中，將視野角設為2度。 作為滿足上述條件之測定裝置，例如可例舉柯尼卡美能達公司製造之積分球分光光度計（商品名：CM-2002）。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
樣品之透明黏著劑之折射率、與光學膜之第2面側之層之折射率的差較佳為0.05以內，更佳為0.03以內，進而較佳為0.01以內。樣品之透明黏著劑之折射率、與黑色板之黏合劑樹脂之折射率的差較佳為0.05以內，更佳為0.03以內，進而較佳為0.01以內。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
光學膜較佳為由JIS K7361-1：1997規定之全光線穿透率為80%以上，更佳為85%以上，進而較佳為90%以上。 測定全光線穿透率及霧度時之光入射面設為光學膜之第2面側。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
光學膜較佳為由JIS K7136：2000規定之霧度為20%以上75%以下。霧度之下限更佳為30%以上，進而較佳為40%以上，進而更佳為50%以上，上限更佳為70%以下，進而較佳為65%以下。 藉由將霧度設為20%以上，可容易使防眩性變得良好。又，藉由將霧度設為75%以下，可容易抑制影像之解析度之降低。 光學膜之霧度之實施方式可例舉：20%以上75%以下、20%以上70%以下、20%以上65%以下、30%以上75%以下、30%以上70%以下、30%以上65%以下、40%以上75%以下、40%以上70%以下、40%以上65%以下、50%以上75%以下、50%以上70%以下、50%以上65%以下。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
為了容易使影像之解析度及對比度變得良好，光學膜較佳為內部霧度為20%以下，更佳為15%以下，進而較佳為10%以下。 內部霧度可藉由通用之手法進行測定，例如可藉由在光學膜之第1表面上經由透明黏著劑層貼合透明片材等，破壞第1表面之凹凸而測定。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
光學膜中，關於依據JIS K7374：2007所測定之穿透影像清晰度，於將光梳之寬度為0.125 mm之穿透影像清晰度定義為C 0.125，將光梳之寬度為0.25 mm之穿透影像清晰度定義為C 0.25，將光梳之寬度為0.5 mm之穿透影像清晰度定義為C 0.5，將光梳之寬度為1.0 mm之穿透影像清晰度定義為C 1.0，將光梳之寬度為2.0 mm之穿透影像清晰度定義為C 2.0時，C 0.125、C 0.25、C 0.5、C 1.0及C 2.0之值較佳為處於下述範圍內。 為了使防眩性變得良好，C 0.125較佳為50%以下，更佳為40%以下，更佳為30%以下，更佳為20%以下。為了使解析度變得良好，C 0.125較佳為1.0%以上。作為C 0.125之範圍，可例舉：1.0%以上50%以下、1.0%以上40%以下、1.0%以上30%以下、1.0%以上20%以下。 為了使防眩性變得良好，C 0.25較佳為50%以下，更佳為40%以下，更佳為30%以下，更佳為20%以下。為了使解析度變得良好，C 0.25較佳為1.0%以上。作為C 0.25之範圍，可例舉：1.0%以上50%以下、1.0%以上40%以下、1.0%以上30%以下、1.0%以上20%以下。 為了使防眩性變得良好，C 0.5較佳為50%以下，更佳為40%以下，更佳為30%以下，更佳為20%以下。為了使解析度變得良好，C 0.5較佳為1.0%以上。作為C 0.5之範圍，可例舉：1.0%以上50%以下、1.0%以上40%以下、1.0%以上30%以下、1.0%以上20%以下。 為了使防眩性變得良好，C 1.0較佳為50%以下，更佳為40%以下，更佳為30%以下，更佳為20%以下。為了使解析度變得良好，C 1.0較佳為1.0%以上。作為C 1.0之範圍，可例舉：1.0%以上50%以下、1.0%以上40%以下、1.0%以上30%以下、1.0%以上20%以下。 為了使防眩性變得良好，C 2.0較佳為50%以下，更佳為40%以下，更佳為30%以下，更佳為20%以下。為了使解析度變得良好，C 2.0較佳為5.0%以上。作為C 2.0之範圍，可例舉：5.0%以上50%以下、5.0%以上40%以下、5.0%以上30%以下、5.0%以上20%以下。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
光學膜中，為了使防眩性變得良好，C 0.125、C 0.5、C 1.0及C 2.0之合計較佳為200%以下，更佳為150%以下，更佳為100%以下，更佳為80%以下。為了使解析度變得良好，上述合計較佳為10.0%以上。作為上述合計之範圍，可例舉：10.0%以上200%以下、10.0%以上150%以下、10.0%以上100%以下、10.0%以上80%以下。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
＜大小、形狀等＞ 光學膜可為切割成特定大小之單片狀形態，亦可為將長條片材卷取成捲筒狀之捲筒狀形態。單片之大小並無特別限定，係最大徑約為2英吋以上500英吋以下。「最大徑」係指連結光學膜之任意2點時之最大長度。例如於光學膜為長方形之情形時，該區域之對角線成為最大徑。於光學膜為圓形之情形時，圓之直徑成為最大徑。 捲筒狀之寬度及長度並無特別限定，一般而言，寬度約為500 mm以上3000 mm以下，長度約為500 m以上5000 m以下。捲筒狀形態之光學膜可根據影像顯示裝置等之大小切割成單片狀而使用。於切割時，較佳為將物性不穩定之捲筒端部排除。 單片之形狀亦無特別限定，例如可例舉：三角形、四邊形、五邊形等多邊形、圓形、隨機之不定形等形狀。更具體而言，於光學膜為四邊形狀之情形時，關於縱橫比，只要作為顯示畫面無問題，則並無特別限定。例如可例舉橫：縱＝1：1、4：3、16：10、16：9、2：1等，但於富有設計性之車載用途或數位標牌中，並不限定於此種縱橫比。 光學膜之第2表面之表面形狀並無特別限定，較佳為大致平滑。大致平滑意指臨界值0.8 mm時之由JIS B0601：1994規定之算術平均粗糙度Ra未達0.03 μm，較佳為0.02 μm以下。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
[第1實施方式之光學膜之製造方法] 本發明之第1實施方式之光學膜之製造方法係上述本發明之光學膜之製造方法，其具有：於基材上形成防眩層之第1步驟、及於上述防眩層上形成抗反射層之第2步驟。
作為於基材上形成防眩層之手段，可例舉上述（A）使用壓紋輥之方法、（B）蝕刻處理、（C）利用模具進行之成型、（D）利用塗佈進行之塗膜形成。 於（A）方法之情形時，例如可於基材上形成樹脂層，自樹脂層側使用壓紋輥進行賦型，藉此於基材上形成防眩層。 於（B）方法之情形時，例如可於基材上形成光硬化性樹脂之層，並進行光蝕刻，藉此於基材上形成防眩層。 於（C）方法之情形時，例如可將樹脂流入至模具中，將經成形之樹脂自模具中取出，並且配置於基材上，藉此於基材上形成防眩層。 於（D）方法之情形時，例如可於基材上藉由上述（d1）或（d2）之手法形成塗膜，藉此於基材上形成防眩層。
作為於防眩層上形成抗反射層之手段，例如可例舉上述濕式法或乾式法。
[第1實施方式之偏光板] 本發明之第1實施方式之偏光板具有偏光元件、配置於上述偏光元件之一側的第一透明保護板、及配置於上述偏光元件之另一側的第二透明保護板，且 上述第一透明保護板及上述第二透明保護板之至少一者為上述本發明之第1實施方式之光學膜，且上述光學膜之上述第2面與上述偏光元件對向地配置。
＜偏光元件＞ 作為偏光元件，例如可例舉：利用碘等進行染色並進行延伸所得之聚乙烯醇膜、聚乙烯醇縮甲醛膜、聚乙烯縮醛膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化膜等片材型偏光元件；由平行地排列之多根金屬線所構成之線柵型偏光元件；塗佈有溶致性液晶或二色性賓-主材料之塗佈型偏光元件；多層薄膜型偏光元件等。該等偏光元件亦可為具備反射不穿透之偏光成分之功能的反射型偏光元件。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
＜透明保護板＞ 於偏光元件之一側配置第一透明保護板，於另一側配置第二透明保護板。第一透明保護板及第二透明保護板之至少一者係上述本發明之第1實施方式之光學膜。 本發明之偏光板既可第一透明保護板及第二透明保護板之一者為上述本發明之第1實施方式之光學膜，又可第一透明保護板及第二透明保護板兩者為上述本發明之第1實施方式之光學膜。
作為第一透明保護板及第二透明保護板中並非本發明之第1實施方式之光學膜的透明保護板，可使用通用之塑膠膜及玻璃等。
偏光元件與透明保護板較佳為經由接著劑進行貼合。接著劑可使用通用之接著劑，較佳為PVA系接著劑。
[第1實施方式之影像顯示裝置用之表面板] 本發明之第1實施方式之影像顯示裝置用之表面板係於樹脂板或玻璃板上貼合保護膜而成，且上述保護膜為上述本發明之第1實施方式之光學膜，上述光學膜之上述第2面與上述樹脂板或上述玻璃板對向地配置。
作為樹脂板或玻璃板，可使用通用地用作影像顯示裝置之表面板之樹脂板或玻璃板。 至於樹脂板或玻璃板之厚度，為了使強度變得良好，較佳為10 μm以上。樹脂板或玻璃板之厚度之上限通常為5000 μm以下。為了薄型化，樹脂板或玻璃板之厚度之上限較佳為1000 μm以下，更佳為500 μm以下，進而較佳為100 μm以下。 樹脂板或玻璃板之厚度之範圍之實施方式可例舉：10 μm以上5000 μm以下、10 μm以上1000 μm以下、10 μm以上500 μm以下、10 μm以上100 μm以下。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
[第1實施方式之影像顯示面板] 本發明之第1實施方式之影像顯示面板具有顯示元件、及配置於上述顯示元件之光出射面側之光學膜，且包含上述本發明之第1實施方式之光學膜作為上述光學膜（參照圖2）。
於影像顯示面板內，本發明之第1實施方式之光學膜較佳為配置成第2面側朝向顯示元件側。 於影像顯示面板內，本發明之第1實施方式之光學膜較佳為配置於顯示元件之光出射面側之最表面。
作為顯示元件，可例舉液晶顯示元件、EL顯示元件（有機EL顯示元件、無機EL顯示元件）、電漿顯示元件等，進而可例舉微型LED顯示元件等LED顯示元件。該等顯示元件亦可於顯示元件之內部具有觸控面板功能。 作為液晶顯示元件之液晶之顯示方式，可例舉：IPS方式、VA方式、多域方式、OCB方式、STN方式、TSTN方式等。 又，本發明之影像顯示面板亦可為於顯示元件與光學膜之間具有觸控面板之附帶觸控面板之影像顯示面板。 影像顯示面板之大小並無特別限定，最大徑約為2英吋以上500英吋以下。最大徑意指連結影像顯示面板之面內之任意2點時之最大長度。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
[第1實施方式之影像顯示裝置] 本發明之第1實施方式之影像顯示裝置係包含本發明之第1實施方式之影像顯示面板者。
本發明之第1實施方式之影像顯示裝置只要為包含本發明之第1實施方式之影像顯示面板者，便無特別限定。本發明之第1實施方式之影像顯示裝置較佳為具備：本發明之第1實施方式之影像顯示面板、與上述影像顯示面板電性連接之驅動控制部、及收容其等之殼體。
於顯示元件為液晶顯示元件之情形時，本發明之影像顯示裝置中需要背光源。背光源配置於液晶顯示元件之與光出射面側相反側。 影像顯示裝置之大小並無特別限定，有效顯示區域之最大徑約為2英吋以上500英吋以下。 影像顯示裝置之有效顯示區域係指能夠顯示影像之區域。例如於影像顯示裝置具有包住顯示元件之殼體之情形時，殼體之內側之區域成為有效影像區域。 再者，有效影像區域之最大徑係指連結有效影像區域內之任意2點時之最大長度。例如於有效影像區域為長方形之情形時，該區域之對角線成為最大徑。又，於有效影像區域為圓形之情形時，該區域之直徑成為最大徑。 本段落之記載係第1實施方式及第2實施方式中共通之記載。
[第1實施方式之光學膜之篩選方法] 本發明之第1實施方式之光學膜之篩選方法篩選滿足下述篩選條件之光學膜。 （光學膜之篩選條件） 為具有第1面、及與上述第1面相反側之面的第2面之光學膜， 上述光學膜自上述第1面朝向上述第2面依序具有抗反射層及防眩層， 上述第1面具有凹凸形狀， 上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之算術平均高度即Sa為0.05 μm以上， 上述第1面滿足下述式1。 Sw×Vmp≦2.00      （式1） [式1中，「Sw」係於上述第1面上30 μl之純水之液滴流下時之傾斜角（度）；式1中，「Vmp」係上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之突出峰部實體體積（ml/m 2）之值]
於本發明之第1實施方式之光學膜之篩選方法中，亦可具有追加之篩選條件。作為追加之篩選條件，可例舉第1實施方式之光學膜之較佳之實施方式。作為追加之篩選條件，例如可例舉下述A～D。 A：Vmp為0.005 ml/m 2以上0.100 ml/m 2以下。 B：上述光學膜自上述第1面朝向上述第2面依序具有上述抗反射層、上述防眩層及基材。 C：元素比率滿足下述之式2～4。 3.5≦F/無機Si≦10.0     （式2） 0.08≦有機Si/無機Si≦1.00 （式3） 5.0≦F/有機Si≦50.0     （式4） D：藉由下述手法而測定之全光線反射率即R SCI為3.0%以下。 [全光線反射率（R SCI）之測定] 製作樣品，上述樣品係於上述光學膜之上述第2面側，經由透明黏著劑貼合黑色板而成。將上述樣品之上述光學膜側設為光入射面而測定全光線反射率（R SCI）。
根據本發明之第1實施方式之光學膜之篩選方法，可效率良好地篩選防眩性優異且指紋擦去性良好之光學膜。
[第2實施方式之光學膜] 本發明之第2實施方式之光學膜係如下所述者。 一種光學膜，其具有第1面、及與上述第1面相反側之面的第2面，且 上述光學膜自上述第1面朝向上述第2面依序具有抗反射層及防眩層， 上述第1面具有凹凸形狀， 上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之突出谷部空間體積即Vvv為0.005 ml/m 2以上， 藉由下述手法而測定之滴落式接觸角為30.0度以上。 ＜滴落式接觸角之測定＞ 使表面張力為30 mN/m之液滴自45 mm之高度滴落至上述光學膜之上述第1面。上述液滴係自上述第1面之垂直方向滴落。藉由θ/2法測定液滴附著10秒後之靜態接觸角。
圖4係本發明之第2實施方式之光學膜100之剖面形狀之概略剖視圖。 圖4之光學膜100具有：具有凹凸形狀之第1面、及與上述第1面相反側之面的第2面。圖4中，上側之面為第1面，下側之面為第2面。 圖4之光學膜自第1面朝向第2面依序具有抗反射層30、防眩層20及基材10。 圖4係示意性剖視圖。即，構成光學膜100之各層之縮小比例、及凹凸形狀之縮小比例係為了容易圖示而模式化者，與實際之縮小比例不同。圖5亦同樣如此。
本發明之第2實施方式之光學膜並不限定於圖1之積層構成。例如本發明之第2實施方式之光學膜亦可為不具有基材之積層構成。本發明之第2實施方式之光學膜亦可具有除基材、防眩層及抗反射層以外之層。
＜第1面＞ 本發明之第2實施方式之光學膜具有第1面。本發明之第2實施方式之光學膜較佳為抗反射層之表面為第1面。
第2實施方式之光學膜之第1面具有凹凸形狀，且由ISO 25178-2：2012規定之突出谷部空間體積即Vvv為0.005 ml/m 2以上。於第1面不具有凹凸形狀之情形時，無法使光學膜之防眩性變得良好。藉由使第1面具有凹凸形狀，且將Vvv設為0.005 ml/m 2以上，可容易使光學膜之防眩性變得良好。
Vvv較佳為0.007 ml/m 2以上，更佳為0.010 ml/m 2以上，更佳為0.020 ml/m 2以上，更佳為0.030 ml/m 2以上。 若Vvv過大，則有難以使滴落式接觸角成為30.0度以上之傾向。因此，Vvv較佳為0.100 ml/m 2以下，更佳為0.080 ml/m 2以下，更佳為0.060 ml/m 2以下，更佳為0.045 ml/m 2以下。
第1面之Vvv之範圍之實施方式可例舉：0.005 ml/m 2以上0.100 ml/m 2以下、0.005 ml/m 2以上0.080 ml/m 2以下、0.005 ml/m 2以上0.060 ml/m 2以下、0.005 ml/m 2以上0.045 ml/m 2以下、0.007 ml/m 2以上0.100 ml/m 2以下、0.007 ml/m 2以上0.080 ml/m 2以下、0.007 ml/m 2以上0.060 ml/m 2以下、0.007 ml/m 2以上0.045 ml/m 2以下、0.010 ml/m 2以上0.100 ml/m 2以下、0.010 ml/m 2以上0.080 ml/m 2以下、0.010 ml/m 2以上0.060 ml/m 2以下、0.010 ml/m 2以上0.045 ml/m 2以下、0.020 ml/m 2以上0.100 ml/m 2以下、0.020 ml/m 2以上0.080 ml/m 2以下、0.020 ml/m 2以上0.060 ml/m 2以下、0.020 ml/m 2以上0.045 ml/m 2以下、0.030 ml/m 2以上0.100 ml/m 2以下、0.030 ml/m 2以上0.080 ml/m 2以下、0.030 ml/m 2以上0.060 ml/m 2以下、0.030 ml/m 2以上0.045 ml/m 2以下。
第2實施方式之光學膜之第1面之藉由下述手法而測定之滴落式接觸角為30.0度以上。 ＜滴落式接觸角之測定＞ 使表面張力為30 mN/m之液滴自45 mm之高度滴落至上述光學膜之上述第1面。上述液滴係自上述第1面之垂直方向滴落。藉由θ/2法測定液滴附著10秒後之靜態接觸角。
藉由將第1面之滴落式接觸角設為30.0度以上，可容易使指紋擦去性變得良好。於以下說明滴落式接觸角、與指紋擦去性之關係。 於本發明之滴落式接觸角之測定中，使液滴自45 mm之高度滴落至光學膜之第1面。滴落至第1面之液滴因滴落時之衝擊而成為壓扁形狀，因此剛滴落後之液滴之接觸角有變小之傾向。尤其於具有Vvv為特定值以上之凹凸形狀之光學膜之情形時，液滴容易潤濕擴散，因此剛滴落後之液滴之接觸角變小之傾向變高。 於光學膜之第1面上，以壓扁形狀存在之液滴難以擦去。本發明之滴落式接觸角之測定係藉由θ/2法來測定液滴附著10秒後之靜態接觸角。並且，本發明之光學膜之滴落式接觸角為30.0度以上。即，滴落式接觸角為30.0度以上之本發明之第2實施方式之光學膜意指因滴落時之衝擊而成為壓扁形狀之液滴恢復至接近球形之形狀。因此，即便本發明之第2實施方式之光學膜具有Vvv為0.005 ml/m 2以上之凹凸形狀，亦可使指紋擦去性變得良好。
當手指接觸光學膜之表面時，指紋成分會因接觸時之壓力而滲透至凹凸形狀之內部。於本發明之滴落式接觸角之測定中，使液滴自45 mm之高度滴落之理由在於考慮到了上述現象（指紋成分因壓力而滲透至凹凸形狀之內部之現象）。 於滴落式接觸角之測定中，所滴加之液滴之量設為5.0 μl。
指紋中不僅包含水，亦包含皮脂等。因此，於本發明之滴落式接觸角之測定中，不使用純水，而使用了表面張力為30 mN/m之液體。本說明書中，作為表面張力為30 mN/m之液體，使用了下述組成之液體。本說明書中，表面張力意指利用JIS K2241：2017所規定之偉赫爾米（Wilhelmy）表面張力計所測得之值。 ＜表面張力為30 mN/m之液體之組成＞ 包含100質量%之乙二醇單乙醚之液體。
滴落式接觸角較佳為40.0度以上，更佳為45.0度以上，進而較佳為50.0度以上。 於滴落式接觸角過大之情形時，抗反射層中之氟系化合物及聚矽氧系化合物之含量增加，光學膜之耐擦傷性容易降低。因此，滴落式接觸角較佳為70.0度以下，更佳為60.0度以下，進而較佳為55.0度以下。
第1面之滴落式接觸角之範圍之實施方式可例舉：30.0度以上70.0度以下、30.0度以上60.0度以下、30.0度以上55.0度以下、40.0度以上70.0度以下、40.0度以上60.0度以下、40.0度以上55.0度以下、45.0度以上70.0度以下、45.0度以上60.0度以下、45.0度以上55.0度以下、50.0度以上70.0度以下、50.0度以上60.0度以下、50.0度以上55.0度以下。
本發明之第2實施方式之光學膜較佳為第1面之純水接觸角為100度以上120度以下，更佳為110度以上115度以下。
第2實施方式中，本發明之光學膜之第1面較佳為Vvv與Vvc之比（Vvv/Vvc）為0.10以下，上述Vvc為由ISO 25178-2：2012規定之核心部空間體積。藉由將Vvv/Vvc設為0.10以下，可容易使指紋擦去性變得更良好。Vvv/Vvc更佳為0.09以下，進而較佳為0.08以下。
第2實施方式中，本發明之光學膜之第1面較佳為由ISO 25178-2：2012規定之突出峰部實體體積即Vmp為0.005 ml/m 2以上0.100 ml/m 2以下。 藉由將第1面之Vmp設為0.005 ml/m 2以上，可容易使防眩性變得良好。Vmp更佳為0.007 ml/m 2以上，更佳為0.010 ml/m 2以上，更佳為0.020 ml/m 2以上。 藉由將第1面之Vmp設為0.100 ml/m 2以下，可容易使光學膜之耐擦傷性變得良好。Vmp更佳為0.080（ml/m 2）以下，更佳為0.060（ml/m 2）以下，更佳為0.045（ml/m 2）以下。
第2實施方式中，本發明之光學膜之第1面較佳為由ISO 25178-2：2012規定之最小自相關長度即Sal為4.0 μm以上12.0 μm以下。
藉由將Sal設為4.0 μm以上，可容易使指紋擦去性變得更良好。藉由將Sal設為12.0 μm以下，可容易使防眩性變得更良好。 Sal之下限更佳為5.0 μm以上，進而較佳為6.0 μm以上。Sal之上限更佳為11.0 μm以下，進而較佳為10.0 μm以下。
第2實施方式中，本發明之光學膜之第1面較佳為由ISO 25178-2：2012規定之極點高度即Sxp為0.15 μm以上2.00 μm以下。 Sxp係表示「將凹凸形狀中尤其高之凸部去除後之凹凸形狀之平均面與凸部」之差量的參數。藉由將Sxp設為0.15 μm以上，可容易使防眩性變得良好。藉由將Sxp設為2.00 μm以下，可容易使指紋擦去性變得更良好。 Sxp之下限更佳為0.20 μm以上，更佳為0.25 μm以上，更佳為0.50 μm以上，更佳為0.70 μm以上。Sxp之上限更佳為1.80 μm以下，更佳為1.50 μm以下，更佳為1.40 μm以下。 第1面之Sxp之範圍之實施方式可例舉：0.15 μm以上2.00 μm以下、0.15 μm以上1.80 μm以下、0.15 μm以上1.50 μm以下、0.15 μm以上1.40 μm以下、0.20 μm以上2.00 μm以下、0.20 μm以上1.80 μm以下、0.20 μm以上1.50 μm以下、0.20 μm以上1.40 μm以下、0.25 μm以上2.00 μm以下、0.25 μm以上1.80 μm以下、0.25 μm以上1.50 μm以下、0.25 μm以上1.40 μm以下、0.50 μm以上2.00 μm以下、0.50 μm以上1.80 μm以下、0.50 μm以上1.50 μm以下、0.50 μm以上1.40 μm以下、0.70 μm以上2.00 μm以下、0.70 μm以上1.80 μm以下、0.70 μm以上1.50 μm以下、0.70 μm以上1.40 μm以下。
第2實施方式中，本發明之光學膜較佳為藉由X射線光電子光譜法對第1面側之表面區域進行分析而獲得之元素比率滿足下述之式2～4。 3.5≦F/無機Si≦10.0     （式2） 0.08≦有機Si/無機Si≦1.00 （式3） 5.0≦F/有機Si≦50.0     （式4） [式2～4中，「F」係氟元素之比率，「無機Si」係歸屬於無機矽化合物之矽元素之比率，「有機Si」係歸屬於有機矽化合物之矽元素之比率]
於光學膜之第1面之表面區域內，無機Si可降低第1面之折射率，另一方面，有使指紋擦去性變差之傾向。又，於光學膜之第1面之表面區域內，藉由相對於無機Si含有特定量以上之有機Si及F，而有使指紋擦去性變得良好之傾向。進而，於光學膜之第1面之表面區域內，藉由平衡良好地包含有機Si與F，而有使指紋擦去性變得良好之傾向。因此，藉由將F/無機Si設為3.5以上，且將有機Si/無機Si設為0.08以上，且將F/有機Si設為5.0以上50.0以下，可容易使滴落式接觸角成為30.0度以上，可容易使指紋擦去性變得良好。 又，藉由將F/無機Si設為10.0以下，且將有機Si/無機Si設為1.00以下，可容易抑制抗反射層之塗佈性之降低。
F/無機Si、有機Si/無機Si、F/有機Si之較佳範圍之實施方式如上所述。
光學膜之第1面之表面區域之無機Si相對於全部元素之比率的範圍之實施方式如上所述。
＜積層構成＞ 本發明之第2實施方式之光學膜自第1面朝向第2面依序具有抗反射層及防眩層。第2實施方式之光學膜之第1面側之最表面較佳為抗反射層。
如上所述，本發明之光學膜亦可具有除抗反射層及防眩層以外之層。除抗反射層及防眩層以外之層之實施方式如上所述。
《基材》 第2實施方式之光學膜由於製造之容易性、及操作性，故而較佳為具有基材。
基材之材質、基材之構成、基材之厚度、基材之全光線穿透率、基材之霧度、基材之表面處理之實施方式如上所述。
《防眩層》 第2實施方式中，防眩層係擔任防眩性之中心之層。 第2實施方式中，防眩層例如可藉由（A）使用壓紋輥之方法、（B）蝕刻處理、（C）利用模具進行之成型、（D）利用塗佈進行之塗膜形成等來形成。為了容易獲得穩定之表面形狀，較佳為（C）之利用模具進行之成型，為了生產性及應對多種類，較佳為（D）之利用塗佈進行之塗膜形成。
（C）之手段中，例如可將樹脂流入至模具中，將經成形之樹脂自模具中取出，藉此形成防眩層。自模具中取出之經成形之樹脂可配置於基材上。模具使用反轉了防眩層之表面形狀之模具。此種模具例如可藉由下述之（c1-1）～（c1-2）、或下述之（c2）之手法來製作。 （c1-1）利用模擬製作Vvv等成為特定範圍之形狀。進而將模擬出之形狀反轉。 （c1-2）以反映出反轉了形狀之方式，利用雷射光對金屬之表面進行雕刻、或利用光微影法對金屬之表面進行加工，藉此獲得模具。
（c2）藉由通用之電鑄法，獲得反轉了（D）中所製作之防眩層之形狀之模具。
於藉由（D）來形成防眩層之情形時，例如可例舉下述之（d1）及（d2）之手段。就較（d2）更容易調整Vvv等表面形狀之範圍之方面而言（d1）較佳。 （d1）係塗佈包含黏合劑樹脂及粒子之塗佈液並進行乾燥，形成具有基於粒子之凹凸之防眩層的手段。 （d2）係塗佈包含任意樹脂、及與上述樹脂之相容性較差之樹脂的塗佈液，並使樹脂進行相分離而形成凹凸之手段。
-厚度- 防眩層之厚度T之範圍之實施方式如上所述。
-成分- 如上所述，防眩層較佳為主要包含樹脂成分。進而，防眩層亦可視需要包含上述其他成分。
如上所述，防眩層較佳為包含黏合劑樹脂及粒子。 粒子可例舉有機粒子及無機粒子，較佳為無機粒子。即，防眩層較佳為包含黏合劑樹脂及無機粒子。又，防眩層更佳為包含黏合劑樹脂、無機粒子及有機粒子。
―粒子― 關於無機粒子及有機粒子之材質之實施方式、無機粒子及有機粒子之形狀之實施方式，只要未特別提及，便如上所述。
不定形無機粒子具有與球形粒子相比，容易增大Vvv、容易減小Sal之傾向。但是，若不定形無機粒子之粒徑分佈過廣，則Vvv容易變大，因此指紋擦去性容易降低。尤其是若不定形無機粒子凝集，則Vvv變得更大，指紋擦去性更容易降低。另一方面，若不定形無機粒子之粒徑分佈過窄，則塗佈適應性容易降低。因此，不定形無機粒子較佳為粒徑之體積基準之累積分佈處於下述範圍內。但是，若單獨使用無機粒子，則容易凝集。因此，第2實施方式中，為了將Vvv設為上述範圍且容易使指紋擦去性變得良好，較佳為將不定形粒子之粒徑分佈設為下述範圍，且併用有機粒子。
第2實施方式中，不定形無機粒子等無機粒子較佳為粒徑之體積基準之累積分佈d10、粒徑之體積基準之累積分佈d50、及粒徑之體積基準之累積分佈d90滿足下述（1）及（2）之關係。 1.5≦d50/d10≦4.0  （1） 1.0≦d90/d50≦3.0  （2）
d50/d10為1.5以上意味著粒徑為平均以下之區域內之無機粒子之粒度分佈較廣。藉由將d50/d10設為1.5以上，而容易對凹凸表面賦予細小之凹凸，因此可容易減小Sal。藉由將d50/d10設為4.0以下，可抑制埋藏於防眩層中之無機粒子之量增加，可提高無機粒子之添加效率。 d90/d50為1.0以上意味著粒徑為平均以上之區域內之無機粒子之粒度分佈較廣。藉由將d90/d50設為1.0以上，可容易增大Vvv、且容易增大Sal。藉由將d90/d50設為3.0以下，可容易抑制Vvv變得過大、及Sal變得過大。
d50/d10之下限更佳為1.8以上，進而較佳為2.0以上，上限更佳為3.5以下，進而較佳為3.0以下。 d90/d50之下限更佳為1.3以上，進而較佳為1.5以上，上限更佳為2.5以下，進而較佳為2.0以下。 不定形無機粒子等無機粒子之d10、d50及d90可藉由雷射繞射法進行測定。
第2實施方式中，不定形無機粒子等無機粒子較佳為粒徑之體積基準之累積分佈d50為2.5 μm以上5.5 μm以下，更佳為3.0 μm以上5.0 μm以下，進而較佳為3.3 μm以上4.7 μm以下。 藉由將d50設為2.5 μm以上，可抑制無機粒子之個數過度增加，因此可容易抑制Sal變得過小。藉由將d50設為5.5 μm以下，可抑制無機粒子之個數過度減少，因此可容易抑制Sal變得過大。又，藉由抑制無機粒子之個數過度減少，可容易於粒子之間形成谷，因此可容易增大Vvv。
防眩層之厚度T、與不定形無機粒子等無機粒子之d50之比（d50/T）的範圍之實施方式如上所述。
防眩層之厚度T、與不定形無機粒子等無機粒子之d90之比（d90/T）的範圍之實施方式如上所述。
不定形無機粒子等無機粒子之含量之範圍之實施方式如上所述。
第2實施方式中，有機粒子之含量較佳為相對於黏合劑樹脂100質量份為1質量份以上25質量份以下，更佳為3質量份以上18質量份以下，進而較佳為8質量份以上14質量份以下。 藉由將有機粒子之含量設為1質量份以上，可容易抑制無機粒子之凝集。又，藉由將有機粒子之含量設為1質量份以上，可抑制有機粒子之個數過度減少，因此可容易於粒子之間形成谷。因此，可容易增大Vvv。再者，若粒子之數量減少，則有Vmp增加之傾向。 有機粒子由於粒徑分佈相對均勻，故而若有機粒子之含量增加，則Sal變小之傾向變強。因此，藉由將有機粒子之含量設為25質量份以下，而抑制Sal變得過小，可容易使指紋擦去性變得良好。
第2實施方式中，有機粒子之平均粒徑較佳為1.0 μm以上5.0 μm以下，更佳為1.2 μm以上3.0 μm以下，進而較佳為1.3 μm以上2.5 μm以下。 藉由將有機粒子之平均粒徑設為1.0 μm以上，可抑制有機粒子之個數過度增加，因此可容易抑制Sal變得過小。因此，藉由將有機粒子之平均粒徑設為1.0 μm以上，可容易使指紋擦去性變得良好。藉由將有機粒子之平均粒徑設為5.0 μm以下，可抑制有機粒子之個數過度減少，因此可容易於粒子之間形成谷。因此，可容易增大Vvv。再者，若粒子之數量減少，則有Vmp增加之傾向。
第2實施方式中，有機粒子較佳為粒度分佈較窄者。具體而言，第2實施方式中，有機粒子較佳為平均粒徑之±0.5 μm之範圍內之粒子之比率為有機粒子之總量之80體積%以上，更佳為85體積%以上，進而較佳為90%以上。藉由使有機粒子之粒度分佈變窄，而緻密地配置均勻粒徑之有機粒子，可容易抑制Vvv變得過大。
有機粒子之形狀之實施方式如上所述。
第2實施方式中，有機粒子之平均粒徑相對於防眩層之厚度（有機粒子之平均粒徑/防眩層之厚度）較佳為0.20以上0.70以下，更佳為0.23以上0.50以下，進而較佳為0.25以上0.35以下。藉由將有機粒子之平均粒徑/防眩層之厚度設為上述範圍，可容易使Vvv及Sal處於上述範圍內。
―無機微粒子― 如上所述，防眩層可除黏合劑樹脂及粒子以外進而包含無機微粒子。
無機微粒子之材質及平均粒徑之實施方式如上所述。
―黏合劑樹脂― 如上所述，為了使耐擦傷性變得良好，黏合劑樹脂較佳為包含熱硬化性樹脂組成物之硬化物或游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物等硬化性樹脂組成物之硬化物，更佳為包含游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物。 如上所述，黏合劑樹脂亦可於不阻礙本發明之效果之範圍內包含熱塑性樹脂。 硬化性樹脂組成物之硬化物及熱塑性樹脂等黏合劑樹脂之實施方式只要未特別提及，便如上所述。
第2實施方式中，於黏合劑樹脂包含游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物之情形時，游離輻射硬化性樹脂組成物較佳為包含多官能(甲基)丙烯酸酯單體及多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物。 第2實施方式中，多官能(甲基)丙烯酸酯單體與多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物之質量比較佳為5：95～60：40，更佳為20：80～60：40，進而較佳為40：60～60：40。 藉由將多官能(甲基)丙烯酸酯單體設為特定比率以上，可容易使防眩層之耐擦傷性變得良好。 藉由將多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物設為特定比率以上，可容易提高防眩層用塗佈液之黏度，並容易抑制粒子下沉至防眩層之下方，並且可容易抑制黏合劑樹脂流下至基於粒子之凸部之間。因此，可容易使Vvv成為特定值以上，且容易使Sal成為特定值以下。另一方面，若多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物之比率變得過多，則有時導致防眩層之強度降低。又，若防眩層用塗佈液之黏度過高，則有時導致Vmp變得過大，或Sal變得過小。因此，游離輻射硬化性樹脂組成物較佳為包含特定量之多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物、及特定量之多官能(甲基)丙烯酸酯單體。
―溶劑、乾燥條件― 如上所述，防眩層塗佈液較佳為包含溶劑，以調節黏度，或能夠使各成分溶解或分散。 溶劑之種類及摻合量等之實施方式只要未特別提及，便如上所述。
第2實施方式中，防眩層塗佈液中之溶劑較佳為以蒸發速度較快之溶劑作為主成分。藉由使溶劑之蒸發速度變快，而抑制粒子下沉至防眩層之下部，進而可容易抑制黏合劑樹脂流下至基於粒子之凸部之間。因此，可容易使Vvv成為特定值以上，且容易使Sal成為特定值以下。
第2實施方式中，於由防眩層塗佈液形成防眩層時，較佳為控制乾燥條件。 乾燥條件可藉由乾燥溫度及乾燥機內之風速進行控制。乾燥溫度較佳為30℃以上120℃以下，乾燥風速較佳為0.2 m/s以上50 m/s以下。又，為了藉由乾燥來控制防眩層之表面形狀，較佳為於塗佈液之乾燥後進行游離輻射之照射。 乾燥條件較佳為於上述溫度範圍及風速範圍內實施2個階段之乾燥。並且，對於第2階段之乾燥，較佳為相較於第1階段之乾燥，將乾燥溫度設為高溫，且使風速增強。藉由在第1階段緩慢地乾燥，於黏合劑樹脂覆蓋不定形無機粒子之表面時，可容易於黏合劑樹脂之表面反映出不定形無機粒子之形狀。又，藉由相較於第1階段之乾燥，將第2階段之乾燥溫度設為高溫，且使風速增強，可容易抑制有機粒子之凝集，因此可容易緻密地配置有機粒子。因此，藉由設為2個階段之乾燥，可容易使Vvv成為特定值以上，且可容易使Sal成為特定值以下。 第1階段之乾燥較佳為將乾燥溫度設為30℃以上且未達60℃，將乾燥風速設為0.2 m/s以上且未達7 m/s。第2階段之乾燥較佳為將乾燥溫度設為60℃以上120℃以下，將乾燥風速設為7 m/s以上50 m/s以下。
《抗反射層》 第2實施方式中，抗反射層較佳為位於第1面側之最表面。
關於抗反射層之構造、構成低折射率層及高折射率層等抗反射層之層之形成方法、形成低折射率層及高折射率層之材料之實施方式，只要未特別提及，便如上所述。
低折射率層之折射率、低折射率層之厚度、低折射率層之黏合劑樹脂之實施方式如上所述。
第2實施方式中，低折射率層之黏合劑樹脂可包含熱塑性樹脂。藉由包含熱塑性樹脂作為黏合劑樹脂，而提高低折射率層用塗佈液之黏度，使低折射率層用塗佈液不易流下至防眩層之凸部之間。因此，藉由包含熱塑性樹脂作為黏合劑樹脂，可容易使Vvv成為特定值以上，且可容易使Sal成為特定值以下。進而，由於容易於第1面之表面附近殘存有機Si及氟，故而可容易滿足式2～4之元素比率。另一方面，若低折射率層用塗佈液之黏度變得過高，則於抗反射層用塗佈液之塗佈時有時在防眩層之表面產生缺陷。 為了上述作用及塗膜強度，熱塑性樹脂之含量較佳為黏合劑樹脂之總量之0.1質量%以上3.0質量%以下，更佳為0.2質量%以上1.5質量%以下，進而較佳為0.3質量%以上0.7質量%以下。
熱塑性樹脂之種類及重量平均分子量之實施方式如上所述。
關於中空粒子及實心粒子等低折射率粒子之實施方式，只要未特別提及，便如上所述。 中空粒子及實心粒子之平均一次粒徑、中空粒子及實心粒子之含量之實施方式如上所述。
第2實施方式中，為了使第1表面容易滿足上述式2～4之元素比率，低折射率層較佳為含有包含有機Si及氟之調平劑。
上述調平劑之構成、上述調平劑之含量等之實施方式如上所述。
如上所述，高折射率層較佳為配置於較低折射率層靠近防眩層側。 高折射率層之折射率、高折射率層之厚度、高折射率層之黏合劑樹脂、高折射率粒子、高折射率粒子之平均一次粒徑、及高折射率粒子之含量之實施方式如上所述。
於藉由濕式法來形成低折射率層及高折射率層等抗反射層之情形時，較佳為提高抗反射層用塗佈液之黏度。藉由提高抗反射層用塗佈液之黏度，而使抗反射層用塗佈液不易流下至防眩層之凸部之間，因此即便於防眩層上形成抗反射層，亦可容易維持防眩層之表面形狀。因此，藉由適度地提高抗反射層用塗佈液之黏度，可容易使Vvv成為特定值以上，且可容易使Sal成為特定值以下。進而，由於容易於第1面之表面附近殘存有機Si及氟，故而可容易滿足式2～4之元素比率。例如藉由添加熱塑性樹脂作為黏合劑樹脂，或者增加作為游離輻射硬化性樹脂組成物之低聚物之比率，或者選擇黏度較高之溶劑作為溶劑等，可提高抗反射層用塗佈液之黏度。 另一方面，若過度提高抗反射層用塗佈液之黏度，則於抗反射層用塗佈液之塗佈時有時在防眩層之表面產生缺陷。 因此，抗反射層用塗佈液之23℃之黏度較佳為0.1 mPa・s以上5.0 mPa・s以下。
作為抗反射層用塗佈液之溶劑，可例舉與防眩層用塗佈液之溶劑之實施方式相同者。
於由抗反射層塗佈液形成抗反射層時，較佳為控制乾燥條件。 乾燥條件可藉由乾燥溫度及乾燥機內之風速進行控制。乾燥溫度較佳為30℃以上70℃以下，乾燥風速較佳為10 m/s以上30 m/s以下。藉由將乾燥溫度設為低溫，可容易提高抗反射層用塗佈液之黏度。又，藉由使風速增強，可迅速地提升抗反射層用塗佈液之黏度。因此，藉由以相對較低之溫度、且較強之風速對抗反射層用塗佈液進行乾燥，可使抗反射層用塗佈液不易流下至防眩層之凸部之間。即，藉由以相對較低之溫度、且較強之風速對抗反射層用塗佈液進行乾燥，可容易使第1面之Vvv等表面形狀處於上述範圍內，且可容易滿足式1～4。 游離輻射之照射較佳為於抗反射層用塗佈液之乾燥後進行。
―3層構造以上之多層構造之情形― 3層構造以上之抗反射層之積層構成、各層之厚度之實施方式如上所述。
＜光學特性＞ 第2實施方式之光學膜較佳為藉由下述手法而測定之全光線反射率即R SCI為3.0%以下。 [全光線反射率（R SCI）之測定] 製作樣品，上述樣品係於上述光學膜之上述第2面側，經由透明黏著劑貼合黑色板而成。將上述樣品之上述光學膜側設為光入射面而測定全光線反射率（R SCI）。
藉由將R SCI設為3.0%以下，於照度較強之光不入射至第1面之環境下，可容易提高黑色顯示部之黑色調，因此可容易使對比度變得良好。光學膜之R SCI更佳為2.5%以下，進而較佳為2.0%以下。光學膜之R SCI之下限並無特別限制，通常為0.1%以上。
通常而言，於將R SCI設為3.0%以下之情形時，具有指紋成分之位置、與不具有指紋成分之位置之反射率之對比變大，光學膜之美觀容易大幅降低。但是，本發明之光學膜藉由提高滴落式接觸角，而使指紋擦去性變得良好，因此即便將R SCI設為3.0%以下，亦可容易抑制光學膜之美觀降低。
R SCI係使用積分球對樣品表面提供來自所有方向之光，並關閉相當於鏡面反射方向之光阱而測定之反射光。 R SCI之測定裝置、測定R SCI時所使用之樣品之實施方式如上所述。
光學膜較佳為由JIS K7361-1：1997規定之全光線穿透率處於上述範圍內。光學膜較佳為由JIS K7136：2000規定之霧度處於上述範圍內。光學膜較佳為內部霧度處於上述範圍內。
光學膜較佳為關於依據JIS K7374：2007所測定之穿透影像清晰度，C 0.125、C 0.25、C 0.5、C 1.0及C 2.0處於上述範圍內。光學膜較佳為C 0.125、C 0.5、C 1.0及C 2.0之合計處於上述範圍內。
＜大小、形狀等＞ 光學膜之大小、光學膜之形狀、光學膜之第2表面之表面形狀之實施方式如上所述。
[第2實施方式之光學膜之製造方法] 本發明之第2實施方式之光學膜之製造方法係上述本發明之光學膜之製造方法，且具有：於基材上形成防眩層之第1步驟、及於上述防眩層上形成抗反射層之第2步驟。
作為於基材上形成防眩層之手段，可例舉上述（A）使用壓紋輥之方法、（B）蝕刻處理、（C）利用模具進行之成型、（D）利用塗佈進行之塗膜形成。 於（A）方法之情形時，例如可於基材上形成樹脂層，自樹脂層側使用壓紋輥進行賦型，藉此於基材上形成防眩層。 於（B）方法之情形時，例如可於基材上形成光硬化性樹脂之層，並進行光蝕刻，藉此於基材上形成防眩層。 於（C）方法之情形時，例如可將樹脂流入至模具中，將經成形之樹脂自模具中取出，並且配置於基材上，藉此於基材上形成防眩層。 於（D）方法之情形時，例如可於基材上藉由上述（d1）或（d2）之手法形成塗膜，藉此於基材上形成防眩層。
作為於防眩層上形成抗反射層之手段，例如可例舉濕式法或乾式法。
[第2實施方式之偏光板] 本發明之第2實施方式之偏光板具有偏光元件、配置於上述偏光元件之一側的第一透明保護板、及配置於上述偏光元件之另一側的第二透明保護板，且 上述第一透明保護板及上述第二透明保護板之至少一者為上述本發明之第2實施方式之光學膜，上述光學膜之上述第2面與上述偏光元件對向地配置。
＜偏光元件＞ 偏光元件之實施方式如上所述。
＜透明保護板＞ 於偏光元件之一側配置第一透明保護板，於另一側配置第二透明保護板。第一透明保護板及第二透明保護板之至少一者係上述本發明之第2實施方式之光學膜。 本發明之偏光板既可第一透明保護板及第二透明保護板之一者為上述本發明之第2實施方式之光學膜，又可第一透明保護板及第二透明保護板兩者為上述本發明之第2實施方式之光學膜。
作為第一透明保護板及第二透明保護板中並非本發明之第2實施方式之光學膜的透明保護板，可使用通用之塑膠膜及玻璃等。
偏光元件與透明保護板較佳為經由接著劑進行貼合。接著劑可使用通用之接著劑，較佳為PVA系接著劑。
[第2實施方式之影像顯示裝置用之表面板] 本發明之第2實施方式之影像顯示裝置用之表面板係於樹脂板或玻璃板上貼合保護膜而成，且上述保護膜為上述本發明之第2實施方式之光學膜，上述光學膜之上述第2面與上述樹脂板或上述玻璃板對向地配置。
樹脂板或玻璃板之實施方式如上所述。
[第2實施方式之影像顯示面板] 本發明之第2實施方式之影像顯示面板具有顯示元件、及配置於上述顯示元件之光出射面側之光學膜，且包含上述本發明之第2實施方式之光學膜作為上述光學膜（參照圖5）。
於影像顯示面板內，本發明之第2實施方式之光學膜較佳為配置成第2面側朝向顯示元件側。 於影像顯示面板內，本發明之第2實施方式之光學膜較佳為配置於顯示元件之光出射面側之最表面。
顯示元件之實施方式及影像顯示面板之大小之實施方式如上所述。附帶觸控面板之影像顯示面板之實施方式如上所述。
[第2實施方式之影像顯示裝置] 本發明之第2實施方式之影像顯示裝置係包含本發明之第2實施方式之影像顯示面板者。
本發明之第2實施方式之影像顯示裝置只要為包含本發明之第2實施方式之影像顯示面板者，便無特別限定。本發明之第2實施方式之影像顯示裝置較佳為具備：本發明之第2實施方式之影像顯示面板、與上述影像顯示面板電性連接之驅動控制部、及收容其等之殼體。
背光源之實施方式、影像顯示裝置之大小之實施方式如上所述。
[第2實施方式之光學膜之篩選方法] 本發明之第2實施方式之光學膜之篩選方法篩選滿足下述篩選條件之光學膜。 （光學膜之篩選條件） 為具有第1面、及與上述第1面相反側之面的第2面之光學膜，且 上述光學膜自上述第1面朝向上述第2面依序具有抗反射層及防眩層， 上述第1面具有凹凸形狀， 上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之突出谷部空間體積即Vvv為0.005 ml/m 2以上， 藉由下述手法而測定之滴落式接觸角為30.0度以上。 ＜滴落式接觸角之測定＞ 使表面張力為30 mN/m之液滴自45 mm之高度滴落至上述光學膜之上述第1面。上述液滴係自上述第1面之垂直方向滴落。藉由θ/2法測定液滴附著10秒後之靜態接觸角。
於本發明之第2實施方式之光學膜之篩選方法中，亦可具有追加之篩選條件。作為追加之篩選條件，可例舉第2實施方式之光學膜之較佳之實施方式。作為追加之篩選條件，例如可例舉下述A～D。 A：Vvv/Vvc為0.10以下。 B：上述光學膜自上述第1面朝向上述第2面依序具有上述抗反射層、上述防眩層及基材。 C：元素比率滿足下述之式2～4。 3.5≦F/無機Si≦10.0     （式2） 0.08≦有機Si/無機Si≦1.00 （式3） 5.0≦F/有機Si≦50.0     （式4） D：藉由下述手法而測定之全光線反射率即R SCI為3.0%以下。 [全光線反射率（R SCI）之測定] 製作樣品，上述樣品係於上述光學膜之上述第2面側，經由透明黏著劑貼合黑色板而成。將上述樣品之上述光學膜側設為光入射面而測定全光線反射率（R SCI）。
根據本發明之第2實施方式之光學膜之篩選方法，可效率良好地篩選防眩性優異且指紋擦去性良好之光學膜。
[指紋擦去性之評價方法] 本發明之指紋擦去性之評價方法係將藉由下述測定所測得之滴落式接觸角之值作為評價指標。 ＜滴落式接觸角之測定＞ 使表面張力為30 mN/m之液滴自45 mm之高度滴落至測定對象物之表面。上述液滴係自上述表面之垂直方向滴落。藉由θ/2法測定液滴附著10秒後之靜態接觸角。
根據本發明之指紋擦去性之評價方法，可簡便地評價測定對象物之指紋擦去性。具體而言，滴落式接觸角之值越小，越可評價為指紋擦去性良好。
本發明包含以下之[1]～[34]。 [1]一種光學膜，其具有第1面、及與上述第1面相反側之面的第2面，且 上述光學膜自上述第1面朝向上述第2面依序具有抗反射層及防眩層， 上述第1面具有凹凸形狀， 上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之算術平均高度即Sa為0.05 μm以上， 上述第1面滿足下述式1： Sw×Vmp≦2.00      （式1） [式1中，Sw：係於上述第1面上30 μl之純水之液滴流下時之傾斜角（度）；式1中，Vmp：係上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之突出峰部實體體積（ml/m 2）之值]。 [2]如[1]所記載之光學膜，其中，上述第1面之Vmp為0.005 ml/m 2以上0.100 ml/m 2以下。 [3]如[1]或[2]所記載之光學膜，其中，上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之突出谷部空間體積即Vvv為0.005 ml/m 2以上0.100 ml/m 2以下，上述突出谷部空間體積係將分離核心部與突出谷部之負載面積率設為80%而算出。 [4]如[3]所記載之光學膜，其中，上述第1面之Vvv與Vvc之比（Vvv/Vvc）為0.10以下，上述Vvc為由ISO 25178-2：2012規定之核心部空間體積。 [5]如[1]至[4]中任一項所記載之光學膜，其中，上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之最小自相關長度即Sal為4.0 μm以上12.0 μm以下。 [6]如[1]至[5]中任一項所記載之光學膜，其自上述第1面朝向上述第2面依序具有上述抗反射層、上述防眩層及基材。 [7]如[1]至[6]中任一項所記載之光學膜，其中，上述防眩層包含黏合劑樹脂及粒子。 [8]如[1]至[6]中任一項所記載之光學膜，其藉由X射線光電子光譜法對上述第1面側之表面區域進行分析而獲得之元素比率滿足下述之式2～4： 3.5≦F/無機Si≦10.0     （式2） 0.08≦有機Si/無機Si≦1.00 （式3） 5.0≦F/有機Si≦50.0     （式4） [式2～4中，F係氟元素之比率，無機Si係歸屬於無機矽化合物之矽元素之比率，有機Si係歸屬於有機矽化合物之矽元素之比率]。 [9]如[8]所記載之光學膜，其中，關於藉由上述X射線光電子光譜法進行分析而獲得之元素比率，無機Si相對於全部元素之比率為2原子%以上20原子%以下。 [10]如[1]至[9]中任一項所記載之光學膜，其藉由下述手法而測定之全光線反射率即R SCI為3.0%以下， [全光線反射率（R SCI）之測定] 製作樣品，上述樣品係於上述光學膜之上述第2面側，經由透明黏著劑貼合黑色板而成；將上述樣品之上述光學膜側設為光入射面而測定全光線反射率（R SCI）。 [11]如[1]至[10]中任一項所記載之光學膜，其中，由JIS K7136：2000規定之霧度為20%以上75%以下。 [12]一種偏光板，其具有偏光元件、配置於上述偏光元件之一側的第一透明保護板、及配置於上述偏光元件之另一側的第二透明保護板，且 上述第一透明保護板及上述第二透明保護板之至少一者為[1]至[11]中任一項所記載之光學膜，且上述光學膜之上述第2面與上述偏光元件對向地配置。 [13]一種影像顯示裝置用之表面板，其係於樹脂板或玻璃板上貼合保護膜而成，且上述保護膜為[1]至[11]中任一項所記載之光學膜，上述光學膜之上述第2面與上述樹脂板或上述玻璃板對向地配置。 [14]一種影像顯示面板，其具有顯示元件、及配置於上述顯示元件之光出射面側之光學膜，且包含[1]至[11]中任一項所記載之光學膜作為上述光學膜。 [15]一種影像顯示裝置，其包含[14]所記載之影像顯示面板。 [16]一種光學膜製造方法，其係[1]至[11]中任一項所記載之光學膜之製造方法，且具有： 於基材上形成防眩層之第1步驟、及於上述防眩層上形成抗反射層之第2步驟。 [17]一種光學膜之篩選方法，其篩選滿足下述篩選條件之光學膜， （光學膜之篩選條件） 為具有第1面、及與上述第1面相反側之面的第2面之光學膜，且 上述光學膜自上述第1面朝向上述第2面依序具有抗反射層及防眩層， 上述第1面具有凹凸形狀， 上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之算術平均高度即Sa為0.05 μm以上， 上述第1面滿足下述式1： Sw×Vmp≦2.00      （式1） [式1中，Sw：係於上述第1面上30 μl之純水之液滴流下時之傾斜角（度）；式1中，Vmp：係上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之突出峰部實體體積（ml/m 2）之值]。
[18]一種光學膜，其具有第1面、及與上述第1面相反側之面的第2面，且 上述光學膜自上述第1面朝向上述第2面依序具有抗反射層及防眩層， 上述第1面具有凹凸形狀， 上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之突出谷部空間體積即Vvv為0.005 ml/m 2以上， 藉由下述手法而測定之滴落式接觸角為30.0度以上， ＜滴落式接觸角之測定＞ 使表面張力為30 mN/m之液滴自45 mm之高度滴落至上述光學膜之上述第1面；上述液滴係自上述第1面之垂直方向滴落；藉由θ/2法測定液滴附著10秒後之靜態接觸角。 [19]如[18]所記載之光學膜，其中，上述第1面之Vvv與Vvc之比（Vvv/Vvc）為0.10以下，上述Vvc為由ISO 25178-2：2012規定之核心部空間體積。 [20]如[18]或[19]所記載之光學膜，其中，上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之最小自相關長度即Sal為4.0 μm以上12.0 μm以下。 [21]如[18]至[20]中任一項所記載之光學膜，其中，上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之極點高度即Sxp為0.15 μm以上2.00 μm以下，上述極點高度意指負載面積率2.5%之高度與負載面積率50%之高度之差量。 [22]如[18]至[21]中任一項所記載之光學膜，其自上述第1面朝向上述第2面依序具有上述抗反射層、上述防眩層及基材。 [23]如[18]至[22]中任一項所記載之光學膜，其中，上述防眩層包含黏合劑樹脂及粒子。 [24]如[18]至[23]中任一項所記載之光學膜，其藉由X射線光電子光譜法對上述第1面側之表面區域進行分析而獲得之元素比率滿足下述之式2～4： 3.5≦F/無機Si≦10.0     （式2） 0.08≦有機Si/無機Si≦1.00 （式3） 5.0≦F/有機Si≦50.0     （式4） [式2～4中，F係氟元素之比率，無機Si係歸屬於無機矽化合物之矽元素之比率，有機Si係歸屬於有機矽化合物之矽元素之比率]。 [25]如[24]所記載之光學膜，其中，關於藉由上述X射線光電子光譜法進行分析而獲得之元素比率，無機Si相對於全部元素之比率為2原子%以上20原子%以下。 [26]如[18]至[25]中任一項所記載之光學膜，其藉由下述手法而測定之全光線反射率即R SCI為3.0%以下， [全光線反射率（R SCI）之測定] 製作樣品，上述樣品係於上述光學膜之上述第2面側，經由透明黏著劑貼合黑色板而成；將上述樣品之上述光學膜側設為光入射面而測定全光線反射率（R SCI）。 [27]如請求項[18]至[26]中任一項所記載之光學膜，其中，由JIS K7136：2000規定之霧度為20%以上75%以下。 [28]一種偏光板，其具有偏光元件、配置於上述偏光元件之一側的第一透明保護板、及配置於上述偏光元件之另一側的第二透明保護板，且 上述第一透明保護板及上述第二透明保護板之至少一者為[18]至[27]中任一項所記載之光學膜，上述光學膜之上述第2面與上述偏光元件對向地配置。 [29]一種影像顯示裝置用之表面板，其係於樹脂板或玻璃板上貼合保護膜而成，且上述保護膜為[18]至[27]中任一項所記載之光學膜，上述光學膜之上述第2面與上述樹脂板或上述玻璃板對向地配置。 [30]一種影像顯示面板，其具有顯示元件、及配置於上述顯示元件之光出射面側之光學膜，且包含[18]至[27]中任一項所記載之光學膜作為上述光學膜。 [31]一種影像顯示裝置，其包含[30]所記載之影像顯示面板。 [32]一種光學膜製造方法，其係[18]所記載之光學膜之製造方法，且具有： 於基材上形成防眩層之第1步驟、及於上述防眩層上形成抗反射層之第2步驟。 [33]一種光學膜之篩選方法，其篩選滿足下述篩選條件之光學膜， （光學膜之篩選條件） 為具有第1面、及與上述第1面相反側之面的第2面之光學膜，且 上述光學膜自上述第1面朝向上述第2面依序具有抗反射層及防眩層， 上述第1面具有凹凸形狀， 上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之突出谷部空間體積即Vvv為0.005 ml/m 2以上， 藉由下述手法而測定之滴落式接觸角為30.0度以上， ＜滴落式接觸角之測定＞ 使表面張力為30 mN/m之液滴自45 mm之高度滴落至上述光學膜之上述第1面；上述液滴係自上述第1面之垂直方向滴落；藉由θ/2法測定液滴附著10秒後之靜態接觸角。 [34]一種指紋擦去性之評價方法，其係將藉由下述測定所測得之滴落式接觸角之值作為評價指標， ＜滴落式接觸角之測定＞ 使表面張力為30 mN/m之液滴自45 mm之高度滴落至測定對象物之表面；上述液滴係自上述表面之垂直方向滴落；藉由θ/2法測定液滴附著10秒後之靜態接觸角。 [實施例]
其次，藉由實施例來更詳細地說明本發明，但本發明不受該等例任何限定。再者，「份」及「%」只要無特別說明，便採用質量基準。
《第1實施方式之實施例及比較例》 1.測定及評價 如下所述，進行實施例及比較例之光學膜之測定及評價。各測定及評價時之環境設為溫度23±5℃、相對濕度40%以上65%以下。又，於各測定及評價開始前，將對象樣品於上述環境中暴露30分鐘以上60分鐘以下後進行測定及評價。將結果示於表1或2。
1-1.表面形狀之測定 將實施例及比較例之光學膜切割成10 cm×10 cm。切割位置係以目視確認到無污物或傷痕等異常之處後，自隨機位置進行選擇。將所切割之光學膜之基材側經由Panac公司之光學透明黏著片材（商品名：Panaclean PD-S1，厚度25 μm）貼合縱10 cm×橫10 cm之大小之玻璃板（厚度2.0 mm）而製作樣品1。 使用共焦雷射顯微鏡（VK-X250（控制部）、VK-X260（測定部）），以成為樣品1固定且密接於測量平台之狀態之方式進行設置後，於以下之測定條件1、影像處理條件1及解析條件1下進行各樣品之第1面之表面形狀之測定及解析。再者，關於測定解析軟體，使用多檔案解析應用軟體（版本1.3.1.120）。
（測定條件1） 雷射波長：408 nm 測定用光學系統：共焦光學系統 物鏡：150倍 放縮（Zoom）：1倍 測定區域：93.95 μm×70.44 μm 測定點之數量：1024×768點 測定條件：透明體表面形狀/高精度/有雙重掃描
（影像處理條件1） ・DCL/BCL：DCL＝13000，BCL＝65535，處理方法：根據周圍像素補全 ・高度切削水準（height cut level）：強 （解析條件1） ・區域：全區域 ・濾波器類別：高斯（Gaussian） ・S-濾波器：0.25 μm ・F-操作：平面傾斜修正（區域指定） ・L-過濾器：無 ・末端效應之修正：開（ON） ・計算Sal時之s：s＝0.20 ・計算Sxp時之p、q：p＝2.5%、q＝50.0%
根據解析軟體，顯示各測定區域之「Sa」、「Vmp」、「Vvv」、「Vvc」、「Sal」、「Sxp」，作為測定值。
1-2.接觸角 ＜通常之接觸角＞ 將實施例及比較例之光學膜切割成10 cm見方。將所切割之光學膜之基材側經由透明黏著片材貼合於玻璃板（縱10 cm×橫10 cm，厚度2.0 mm）而製作測定用樣品。切割位置係以目視確認到無污物或傷痕等異常之處後，自光學膜之隨機位置進行選擇。於貼合光學膜與玻璃板時，使光學膜不產生褶皺，並且使光學膜與玻璃板之間不進入氣泡。 使用接觸角測量儀（DM-300，協和界面科學公司），將1.0 μL之純水滴加至各樣品之第1面側之表面，依據θ/2法測量液滴附著10秒後之靜態接觸角。於滴加純水時，使用注射器之針部經氟樹脂塗佈之注射器。 ＜純水下降傾斜角＞ 依據說明書正文之（1）～（3）之步驟測定各樣品之純水下降傾斜角Sw。測定裝置使用接觸角測量儀（協和界面科學公司之「DropMaster」系列之商品號「DMo-701」，使用作為附屬件之「SA-301」）。
1-3.元素比率 自實施例及比較例之光學膜切出測定用片。使用X射線光電子分光分析裝置，於以下所記載之條件下，測定各測定用片之第1面側之表面區域之C1s軌道、O1s軌道、Si2p軌道、及F1s軌道之X射線光電子光譜。對各X射線光電子光譜進行峰分離，求出F元素及Si元素等之比率。又，根據Si2p軌道之X射線光電子光譜求出歸屬於無機矽化合物之Si元素（無機Si）、及歸屬於有機矽化合物之Si元素（有機Si）之比率。 ＜測定＞ 裝置：島津製作所公司製造之商品名「Kratos Nova」 X射線源：AlKα X射線輸出：150 W 發射電流：10 mA 加速電壓：15 kV 測定區域：300×700 μm 靜電中和機構：開（ON） 通過能量（窄光譜測定時）：40 eV
1-4.全光線反射率（R SCI） 將實施例及比較例之光學膜切割成10 cm×10 cm。切割位置係以目視確認到無污物或傷痕等異常之處後，自隨機位置進行選擇。將所切割之光學膜之基材側經由Panac公司之光學透明黏著片材（商品名：Panaclean PD-S1）貼合於縱10 cm×橫10 cm之大小之黑色板（可樂麗公司，商品名：Como Glass DFA2CG 502K（黑）系，厚度2 mm）而製作樣品2。 使用積分球分光光度計（柯尼卡美能達股份有限公司製造，商品名：CM-2002），自樣品2之第1面側來測定全光線反射率（R SCI）。積分球分光光度計之光源為D65，光接收器之位置相對於樣品之法線為+8度，光接收器之開口角為10度，光阱之位置相對於樣品之法線為-8度，視野角為2度。
1-5.霧度（Hz） 將實施例及比較例之光學膜切割成10 cm見方。切割位置係以目視確認到無污物或傷痕等異常之處後，自隨機位置進行選擇。使用霧度計（HM-150，村上色彩技術研究所製造），測定各樣品之由JIS K7136：2000規定之霧度。 事先將裝置之電源開關設為開後等待15分鐘以上以使光源變得穩定，於入口開口不設置任何物品而進行校正，然後於入口開口設置測定樣品進行測定。將光入射面設為基材側。 再者，實施例及比較例之光學膜之全光線穿透率均為90%以上。
1-6.穿透影像清晰度 將實施例及比較例之光學膜切割成10 cm見方。切割位置係以目視確認到無污物或傷痕等異常之處後，自隨機位置進行選擇。使用Suga Test Instruments公司製造之影像清晰度測定器（商品名：ICM-1T），依據JIS K7374：2007來測定樣品之穿透影像清晰度。光梳之寬度設為0.125 mm、0.25 mm、0.5 mm、1.0 mm、2.0 mm這5種。測定時之光入射面設為基材側。將C 0.125、C 0.25、C 0.5、C 1.0及C 2.0之值、與C 0.125、C 0.5、C 1.0及C 2.0之合計值示於表2。
1-7.黑色調 樣品使用1-4中所製作之樣品2。將觀測者之視線變更為距離地板160 cm左右，除此以外，與1-4同樣地觀察樣品。 由20位受試者基於下述評價點進行評價。20位受試者係在20多歲～50多歲之各年齡段每個年齡段選擇5位。算出20人之評價之平均分，基於下述基準進行等級劃分。下述基準之等級越高，則越可以說黑色顯示部之黑色調良好。 ＜評價點＞ （1）覺得夠黑而未覺得發白者：3分 （2）雖為黑色但略感發白者：2分 （3）發白而引人注意：1分 ＜評價基準＞ A：平均分為2.5以上 B：平均分為2.0以上且未達2.5 C：平均分為1.5以上且未達2.0 D：平均分未達1.5
1-8.防眩性 於亮室環境下，以1-4中所製作之樣品2之凹凸表面朝上之方式設置於高度70 cm之水平台上。此時，將樣品設置成位於照明光之大致正下方。自正面觀察樣品（但是，使觀察者不會遮擋照明光），根據下述評價基準來評價照明光對凹凸表面之映入。 照明使用Hf32型之直管三波長型晝白色螢光燈，照明位置設為自水平台起鉛直方向2 m上方之高度。於樣品之凹凸表面上之照度成為500 lux以上1000 lux以下之範圍內進行評價。觀測者之視線設為距離地板120 cm左右。觀測者係選擇視力在0.7以上之健康的30多歲之人。 ＜評價基準＞ A：無照明之輪廓，亦不知道位置 B：雖無照明之輪廓，但隱約知道位置 C：隱約知道照明之輪廓與位置 D：照明之輪廓之模糊較弱，亦明確知道位置
1-9.指紋擦去性 使下述人工污垢0.1 ml滲入至擦拭布中。滲入時間設為10秒。擦拭布使用NIPPON PAPER CRECIA公司之商品名「Kimtowel Wiper」。 將滲入至擦拭布中之人工污垢以300 g/cm 2之負載轉印至橡膠之表面。橡膠之形狀設為直徑12 mm之圓柱形狀。轉印時間設為5秒。將經轉印至橡膠之表面之人工污垢以300 g/cm 2之負載轉印至樣品2之第1面。轉印時間設為5秒。使用分光測色計（柯尼卡美能達股份有限公司製造，商品名：CM-600d），自樣品2之第1面側測定轉印有人工污垢之位置之全光線反射SCI之L ＊值、a ＊值及b ＊值。將所獲得之L ＊值、a ＊值及b ＊值設為L1、a1及b1。 繼而，將轉印有人工污垢之樣品2之黑色板側貼合於學振磨耗試驗機（TESTER SANGYO（股）製造，商品名「AB-301」）之基座。將擦拭布安裝於上述試驗機之摩擦元件，於下述擦去條件下擦去轉印至樣品2之第1面之人工污垢。擦拭布使用AS ONE公司之商品名「ASPURE PROPREA II」。使用分光測色計（柯尼卡美能達股份有限公司製造，商品名：CM-600d），自樣品2之第1面側測定擦去人工污垢後之位置之全光線反射SCI之L ＊值、a ＊值及b ＊值。將所獲得之L ＊值、a ＊值及b ＊值設為L2、a2及b2。 根據下述式算出色差（ΔE），根據色差之值並基於下述基準進行等級劃分。下述基準之等級越高，越可以說指紋擦去性良好。 ΔE＝｛（L1－L2） 2＋（a1－a2） 2＋（b1－b2） 2｝ 1/2＜人工污垢＞ 其係包含下述成分的液體：約45質量%之油酸、約25質量%之三油酸甘油酯、約20質量%之油酸膽固醇酯、約4%之液態石蠟、約4%之角鯊烯、及約2%之膽固醇（伊勢久公司製造之人工污垢（依據JIS C9606：2007之污染液））。 ＜擦去條件＞ ・移動速度：100 mm/秒 ・負載：150 g/cm 2・擦去次數：單向1次 ＜評價基準＞ A：色差為2以下 B：色差超過2且為4以下 C：色差超過4且為7以下 D：色差超過7
1-10.綜合評價 基於防眩性及指紋擦去性之2個評價，根據下述基準進行綜合評價。 ＜評價基準＞ A：2個評價全部為A者。 B：2個評價中1個為A且1個為B者。 C：2個評價中2個均為B者。 D：2個評價中有1個C或D者。
2.光學膜之製作 [實施例1-1] 於基材（厚度80 μm之三乙醯纖維素樹脂膜，FUJIFILM公司）上塗佈下述防眩層塗佈液1-1。繼而，於50℃、風速2 m/s乾燥40秒鐘，進而於70℃、風速15 m/s乾燥45秒鐘。繼而，於氧濃度200 ppm以下之氮氣環境下，以累計光量成為50 mJ/cm 2之方式照射紫外線，形成厚度5.5 μm之防眩層。 繼而，於防眩層上塗佈下述低折射率層塗佈液1-1。繼而，於40℃、風速20 m/s乾燥15秒鐘，進而於70℃、風速15 m/s乾燥30秒鐘。繼而，於氧濃度200 ppm以下之氮氣環境下，以累計光量成為150 mJ/cm 2之方式照射紫外線，形成厚度0.10 μm之低折射率層，獲得實施例1-1之光學膜。低折射率層之折射率為1.31。
＜防眩層塗佈液1-1＞ ・胺酯丙烯酸酯A 50份 （新中村化學工業公司，商品名：U-1100H：分子量800，官能基數6） ・胺酯丙烯酸酯B 10份 （新中村化學工業公司，商品名：U-15HA：分子量2,300，官能基數15） ・新戊四醇三丙烯酸酯 40份 （東亞合成公司，商品名：M-305） ・二氧化矽粒子 23份 （表面處理不定形二氧化矽，d10：1.2 μm，d50：3.8 μm，d90：6.5 μm） ・有機粒子B 8份 （球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物，平均粒徑1.5 μm，折射率1.595） ・光聚合起始劑 5.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad184） ・光聚合起始劑 1.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad907） ・聚矽氧系調平劑 0.1份 （Momentive Performance Materials，商品名：TSF4460） ・溶劑（甲苯） 195份 ・溶劑（環己酮） 5份 ・溶劑（甲基異丁基酮） 15份
＜低折射率層塗佈液1-1＞ ・多官能丙烯酸酯 100份 （東亞合成公司製造，商品名「ARONIX M-400」） ・丙烯酸聚合物 0.5份（重量平均分子量：40,000） ・中空二氧化矽粒子 180份 （平均一次粒徑75 nm，經具有甲基丙烯醯基之矽烷偶合劑表面處理之粒子） ・具有反應性官能基之氟系聚矽氧系調平劑 600份 （信越化學公司，商品名「KY1203」，固形物成分：20%，溶劑：甲基異丁基酮） ・光聚合起始劑 5.0份 （IGM Resins公司，商品名「Omnirad127」） ・溶劑（甲基異丁基酮） 11,000份 ・溶劑（乙酸1-甲氧基-2-丙酯） 1,300份
[實施例1-2、1-3、1-5、1-6] 除了將防眩層塗佈液1-1變更為下述防眩層塗佈液1-2～1-5以外，以與實施例1-1同樣的方法而獲得實施例1-2、1-3、1-5、1-6之光學膜。
[實施例1-4] 除了將防眩層塗佈液1-1變更為下述防眩層塗佈液1-2，並將低折射率層塗佈液1-1變更為下述低折射率層塗佈液1-2以外，以與實施例1-1同樣的方法而獲得實施例1-4之光學膜。
[實施例1-7] 除了將防眩層塗佈液1-1變更為下述防眩層塗佈液1-6，並將防眩層之厚度設為4.8 μm以外，以與實施例1-1同樣的方法而獲得實施例1-7之光學膜。
[實施例1-8] 除了將防眩層塗佈液1-1變更為下述防眩層塗佈液1-2，並將低折射率層塗佈液1-1變更為下述低折射率層塗佈液1-3以外，以與實施例1-1同樣的方法而獲得實施例1-8之光學膜。低折射率層之折射率為1.36。
[比較例1-1] 除了將低折射率層塗佈液1-1變更為下述低折射率層塗佈液1-4以外，以與實施例1-1同樣的方法而獲得比較例1-1之光學膜。
[比較例1-2～1-3] 除了將防眩層塗佈液1-1變更為下述防眩層塗佈液1-2～1-3以外，以與比較例1-1同樣的方法而獲得比較例1-2～1-3之光學膜。
[比較例1-4] 除了將防眩層塗佈液1-1變更為下述防眩層塗佈液1-7，並將防眩層之厚度設為5.0 μm以外，以與實施例1-1同樣的方法而獲得比較例1-4之光學膜。
＜防眩層塗佈液1-2＞ ・胺酯丙烯酸酯A 50份 （新中村化學工業公司，商品名：U-1100H：分子量800，官能基數6） ・胺酯丙烯酸酯B 10份 （新中村化學工業公司，商品名：U-15HA：分子量2,300，官能基數15） ・新戊四醇三丙烯酸酯 40份 （東亞合成公司，商品名：M-305） ・二氧化矽粒子 21份 （表面處理不定形二氧化矽，d10：1.2 μm，d50：3.8 μm，d90：6.5 μm） ・有機粒子B 10份 （球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物，平均粒徑1.5 μm，折射率1.595） ・光聚合起始劑 5.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad184） ・光聚合起始劑 1.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad907） ・聚矽氧系調平劑 0.1份 （Momentive Performance Materials，商品名：TSF4460） ・溶劑（甲苯） 185份 ・溶劑（環己酮） 15份 ・溶劑（甲基異丁基酮） 15份
＜防眩層塗佈液1-3＞ ・胺酯丙烯酸酯A 50份 （新中村化學工業公司，商品名：U-1100H：分子量800，官能基數6） ・胺酯丙烯酸酯B 10份 （新中村化學工業公司，商品名：U-15HA：分子量2,300，官能基數15） ・新戊四醇三丙烯酸酯 40份 （東亞合成公司，商品名：M-305） ・二氧化矽粒子 19份 （表面處理不定形二氧化矽，d10：1.2 μm，d50：3.8 μm，d90：6.5 μm） ・有機粒子A 3份 （球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物，平均粒徑1.5 μm，折射率1.515） ・有機粒子B 5份 （球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物，平均粒徑1.5 μm，折射率1.595） ・光聚合起始劑 5.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad184） ・光聚合起始劑 1.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad907） ・聚矽氧系調平劑 0.1份 （Momentive Performance Materials，商品名：TSF4460） ・溶劑（甲苯） 165份 ・溶劑（環己酮） 20份 ・溶劑（甲基異丁基酮） 30份
＜防眩層塗佈液1-4＞ ・胺酯丙烯酸酯A 50份 （新中村化學工業公司，商品名：U-1100H：分子量800，官能基數6） ・胺酯丙烯酸酯B 10份 （新中村化學工業公司，商品名：U-15HA：分子量2,300，官能基數15） ・新戊四醇三丙烯酸酯 40份 （東亞合成公司，商品名：M-305） ・二氧化矽粒子 20份 （表面處理不定形二氧化矽，d10：1.2 μm，d50：3.8 μm，d90：6.5 μm） ・有機粒子A 8份 （球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物，平均粒徑1.5 μm，折射率1.515） ・有機粒子B 2份 （球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物，平均粒徑1.5 μm，折射率1.595） ・光聚合起始劑 5.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad184） ・光聚合起始劑 1.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad907） ・聚矽氧系調平劑 0.1份 （Momentive Performance Materials，商品名：TSF4460） ・溶劑（甲苯） 190份 ・溶劑（環己酮） 10份 ・溶劑（甲基異丁基酮） 15份
＜防眩層塗佈液1-5＞ ・胺酯丙烯酸酯A 50份 （新中村化學工業公司，商品名：U-1100H：分子量800，官能基數6） ・胺酯丙烯酸酯B 10份 （新中村化學工業公司，商品名：U-15HA：分子量2,300，官能基數15） ・新戊四醇三丙烯酸酯 40份 （東亞合成公司，商品名：M-305） ・二氧化矽粒子 10份 （表面處理不定形二氧化矽，d10：1.0 μm，d50：3.0 μm，d90：4.8 μm） ・有機粒子A 5份 （球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物，平均粒徑1.5 μm，折射率1.515） ・有機粒子B 5份 （球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物，平均粒徑1.5 μm，折射率1.595） ・光聚合起始劑 5.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad184） ・光聚合起始劑 1.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad907） ・聚矽氧系調平劑 0.1份 （Momentive Performance Materials，商品名：TSF4460） ・溶劑（甲苯） 170份 ・溶劑（環己酮） 40份 ・溶劑（甲基異丁基酮） 5份
＜防眩層塗佈液1-6＞ ・胺酯丙烯酸酯C 50份 （Mitsubishi Chemical公司，商品名：U-1700B：分子量2,000，官能基數10） ・新戊四醇三丙烯酸酯 50份 （東亞合成公司，商品名：M-305） ・有機粒子C 11份 （球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物，平均粒徑3.0 μm，折射率1.595） ・無機超微粒子 70份 （表面導入有反應性官能基之二氧化矽，溶劑：MIBK，固形物成分：30%） （平均一次粒徑12 nm） ・光聚合起始劑 5.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad184） ・光聚合起始劑 1.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad907） ・聚矽氧系調平劑 0.1份 （Momentive Performance Materials，商品名：TSF4460） ・溶劑（甲苯） 170份 ・溶劑（環己酮） 25份
＜防眩層塗佈液1-7＞ ・胺酯丙烯酸酯A 30份 （Mitsubishi Chemical公司，商品名：U-1700B：分子量2,000，官能基數10） ・胺酯丙烯酸酯B 10份 （新中村化學工業公司，商品名：U-15HA：分子量2,300，官能基數15） ・新戊四醇三丙烯酸酯 60份 （東亞合成公司，商品名：M-305） ・二氧化矽粒子 3份 （表面處理不定形二氧化矽，d10：1.0 μm，d50：3.0 μm，d90：4.8 μm） ・有機粒子B 0.5份 （球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物，平均粒徑1.5 μm，折射率1.595） ・光聚合起始劑 5.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad184） ・光聚合起始劑 1.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad907） ・聚矽氧系調平劑 0.1份 （Momentive Performance Materials，商品名：TSF4460） ・溶劑（甲苯） 180份 ・溶劑（環己酮） 5份 ・溶劑（甲基異丁基酮） 25份
＜低折射率層塗佈液1-2＞ ・多官能丙烯酸酯 180份 （東亞合成公司製造，商品名「ARONIX M-400」） ・中空二氧化矽粒子 100份 （平均一次粒徑75 nm，經具有甲基丙烯醯基之矽烷偶合劑表面處理之粒子） ・具有反應性官能基之氟系聚矽氧系調平劑 600份 （信越化學公司，商品名「KY1203」，固形物成分：20%，溶劑：甲基異丁基酮） ・光聚合起始劑 5份 （IGM Resins公司，商品名「Omnirad127」） ・溶劑（甲基異丁基酮） 11,000份 ・溶劑（乙酸1-甲氧基-2-丙酯） 1,300份
＜低折射率層塗佈液1-3＞ ・多官能丙烯酸酯 100份 （東亞合成公司製造，商品名「ARONIX M-400」） ・中空二氧化矽粒子 100份 （平均一次粒徑75 nm，經具有甲基丙烯醯基之矽烷偶合劑表面處理之粒子） ・丙烯酸聚合物 0.5份（重量平均分子量：40,000） ・具有反應性官能基之氟系聚矽氧系調平劑 250份 （信越化學公司，商品名「KY1203」，固形物成分：20%，溶劑：甲基異丁基酮） ・光聚合起始劑 5份 （IGM Resins公司，商品名「Omnirad127」） ・溶劑（甲基異丁基酮） 11,000份 ・溶劑（乙酸1-甲氧基-2-丙酯） 1,300份
＜低折射率層塗佈液1-4＞ ・多官能丙烯酸酯 100份 （東亞合成公司製造，商品名「ARONIX M-400」） ・丙烯酸聚合物 0.5份（重量平均分子量：40,000） ・中空二氧化矽粒子 180份 （平均一次粒徑75 nm，經具有甲基丙烯醯基之矽烷偶合劑表面處理之粒子） ・具有反應性官能基之氟系聚矽氧系調平劑 150份 （信越化學公司，商品名「KY1203」，固形物成分：20%，溶劑：甲基異丁基酮） ・光聚合起始劑 5.0份 （IGM Resins公司，商品名「Omnirad127」） ・溶劑（甲基異丁基酮） 11,000份 ・溶劑（乙酸1-甲氧基-2-丙酯） 1,300份
[表1]
通常之接觸角(度) 純水下降傾斜角Sw (度) Vmp (ml/m 2) Sw×Vmp Sa (μm) Vvv (ml/m 2) Sal (μm) Vvc (ml/m 2) R SCI(%) 元素比率(XPS) 黑色調 防眩性 指紋擦去性 綜合
F/無機Si 有機Si/無機Si F/有機Si
實施例1-1 112.3 20.3 0.044 0.893 0.39 0.04 7.12 0.714 1.79 5.54 0.246 22.5 A A A A
實施例1-2 110.5 18.8 0.034 0.639 0.41 0.033 8.27 0.647 1.82 8.22 0.297 27.7 A A A A
實施例1-3 111.1 22 0.045 0.990 0.38 0.047 11.21 0.675 1.68 6.88 0.268 25.7 A A A A
實施例1-4 115.7 43.1 0.031 1.336 0.039 0.035 9.11 0.683 1.85 3.86 0.089 43.4 A A B B
實施例1-5 111.6 62.1 0.024 1.490 0.44 0.042 7.62 0.494 1.8 4.03 0.081 49.8 A A B B
實施例1-6 112.6 23.8 0.010 0.238 0.16 0.01 9.69 0.133 1.87 4.89 0.209 23.4 A B A B
實施例1-7 111.5 24.4 0.007 0.171 0.07 0.007 11.43 0.134 1.66 5.31 0.25 21.2 A B A B
實施例1-8 111.1 40.1 0.033 1.323 0.38 0.032 9.84 0.691 2.83 4.16 0.087 47.8 B A A A
比較例1-1 111 74.7 0.040 2.988 0.38 0.046 6.69 0.739 1.95 2.79 0.055 50.7 A A D D
比較例1-2 112.3 68.6 0.033 2.264 0.42 0.033 8.02 0.684 1.69 3.02 0.06 50.3 A A C D
比較例1-3 111.5 71.2 0.040 2.848 0.35 0.04 12.38 0.646 1.88 3.05 0.057 53.5 A A D D
比較例1-4 111.1 41.3 0.002 0.083 0.04 0.002 17.97 0.031 1.77 4.51 0.21 21.5 A D A D
[表2]
防眩層塗佈液 低折射率層塗佈液 霧度（%） 穿透清晰度（%）
C 0.125 C 0.25 C 0.5 C 1.0 C 2.0
實施例1-1 1-1 1-1 63 2.3 1.8 1.8 3.0 10.3
實施例1-2 1-2 1-1 54 2.5 1.3 1.5 1.7 10.8
實施例1-3 1-3 1-1 44 3.6 4.5 5.3 6.1 14.4
實施例1-4 1-2 1-2 51 2.9 11.9 2.2 2.6 12.1
實施例1-5 1-4 1-1 60 10.5 9.7 10.3 11.7 17.1
實施例1-6 1-5 1-1 29 30.3 31.1 32.2 33.0 43.7
實施例1-7 1-6 1-1 44 12.0 11.2 10.7 11.6 31.8
實施例1-8 1-2 1-3 51 2.1 1.4 1.5 2.0 9.8
比較例1-1 1-1 1-4 65 2.2 1.3 1.5 2.6 13.2
比較例1-2 1-2 1-4 50 2.1 1.1 1.4 1.8 9.9
比較例1-3 1-3 1-4 43 3.0 3.2 3.3 4.0 12.0
比較例1-4 1-7 1-1 3 61.7 61.2 65.0 72.1 78.5
自表1之結果可確認到第1實施方式之實施例之光學膜可使防眩性及指紋擦去性變得良好。
《第2實施方式之實施例及比較例》 3.測定及評價 如上所述，進行實施例及比較例之光學膜之測定及評價。各測定及評價時之環境設為溫度23±5℃、相對濕度40%以上65%以下。又，於各測定及評價開始前，將對象樣品於上述環境中暴露30分鐘以上60分鐘以下後進行測定及評價。將結果示於表3或4。
3-1.表面形狀之測定 藉由與上述1-1相同之手法，測定實施例及比較例之光學膜之表面形狀。
3-2.接觸角 ＜通常之接觸角＞ 藉由與上述1-2相同之手法，測定實施例及比較例之光學膜之通常之接觸角。 ＜滴落式接觸角＞ 將表面張力為30 mN/m之液滴添加至注射器之針部經氟樹脂塗佈之注射器中。使表面張力為30 mN/m之液滴自45 mm之高度自然滴落至各樣品之第1面。所滴落之液滴之量為5.0 μl。液體使用下述組成者。液滴係自第1面之垂直方向滴落。藉由θ/2法測定液滴附著10秒後之靜態接觸角。測定裝置使用接觸角測量儀（商品號：DM-300，協和界面科學公司）。 ＜液體之組成＞ 包含100質量%之乙二醇單乙醚之液體（FUJIFILM Wako Pure Chemical公司，商品號：潤濕張力試驗用混合液No.30）
3-3.元素比率 藉由與上述1-3相同之手法，測定實施例及比較例之光學膜之第1面側之表面區域之元素比率。
3-4.全光線反射率（R SCI） 藉由與上述1-4相同之手法，測定實施例及比較例之光學膜之全光線反射率（R SCI）。
3-5.霧度（Hz） 藉由與上述1-5相同之手法，測定實施例及比較例之光學膜之霧度。 再者，實施例及比較例之光學膜之全光線穿透率均為90%以上。
3-6.穿透影像清晰度 藉由與上述1-6相同之手法，測定實施例及比較例之光學膜之穿透影像清晰度。
3-7.黑色調 藉由與上述1-7相同之手法，評價實施例及比較例之光學膜之黑色調。
3-8.防眩性 藉由與上述1-8相同之手法，評價實施例及比較例之光學膜之防眩性。
3-9.指紋擦去性 藉由與上述1-9相同之手法，評價實施例及比較例之光學膜之指紋擦去性。
3-10.綜合評價 根據與上述1-10相同之基準，進行實施例及比較例之光學膜之綜合評價。
4.光學膜之製作 [實施例2-1] 於基材（厚度80 μm之三乙醯纖維素樹脂膜，FUJIFILM公司）上塗佈下述防眩層塗佈液2-1。繼而，於50℃、風速2 m/s乾燥40秒鐘，進而於70℃、風速15 m/s乾燥45秒鐘。繼而，於氧濃度200 ppm以下之氮氣環境下，以累計光量成為50 mJ/cm 2之方式照射紫外線，形成厚度5.5 μm之防眩層。 繼而，於防眩層上塗佈下述低折射率層塗佈液2-1。繼而，於40℃、風速20 m/s乾燥15秒鐘，進而於70℃、風速15 m/s乾燥30秒鐘。繼而，於氧濃度200 ppm以下之氮氣環境下，以累計光量成為150 mJ/cm 2之方式照射紫外線，形成厚度0.10 μm之低折射率層，獲得實施例2-1之光學膜。低折射率層之折射率為1.31。
＜防眩層塗佈液2-1＞ ・胺酯丙烯酸酯A 30份 （Mitsubishi Chemical公司，商品名：U-1700B：分子量2,000，官能基數10） ・胺酯丙烯酸酯B 10份 （新中村化學工業公司，商品名：U-15HA：分子量2,300，官能基數15） ・新戊四醇三丙烯酸酯 60份 （東亞合成公司，商品名：M-305） ・二氧化矽粒子 23份 （表面處理不定形二氧化矽，d10：1.2 μm，d50：3.7 μm，d90：6.2 μm） ・有機粒子B 8份 （球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物，平均粒徑1.5 μm，折射率1.595） ・光聚合起始劑 5.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad184） ・光聚合起始劑 1.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad907） ・聚矽氧系調平劑 0.1份 （Momentive Performance Materials，商品名：TSF4460） ・溶劑（甲苯） 190份 ・溶劑（環己酮） 5份 ・溶劑（甲基異丁基酮） 20份
＜低折射率層塗佈液2-1＞ ・多官能丙烯酸酯 100份 （東亞合成公司製造，商品名「ARONIX M-400」） ・丙烯酸聚合物 0.5份（重量平均分子量：40,000） ・中空二氧化矽粒子 180份 （平均一次粒徑75 nm，經具有甲基丙烯醯基之矽烷偶合劑表面處理之粒子） ・具有反應性官能基之氟系聚矽氧系調平劑 600份 （信越化學公司，商品名「KY1203」，固形物成分：20%，溶劑：甲基異丁基酮） ・光聚合起始劑 5.0份 （IGM Resins公司，商品名「Omnirad127」） ・溶劑（甲基異丁基酮） 11,000份 ・溶劑（乙酸1-甲氧基-2-丙酯） 1,300份
[實施例2-2、2-3、2-5、2-6] 除了將防眩層塗佈液2-1變更為下述防眩層塗佈液2-2～2-5以外，以與實施例2-1同樣的方法而獲得實施例2-2、2-3、2-5、2-6之光學膜。
[實施例2-4] 除了將防眩層塗佈液2-1變更為下述防眩層塗佈液2-2，並將低折射率層塗佈液2-1變更為下述低折射率層塗佈液2-2以外，以與實施例2-1同樣的方法而獲得實施例2-4之光學膜。
[實施例2-7] 除了將防眩層塗佈液2-1變更為下述防眩層塗佈液2-6，並將防眩層之厚度設為4.8 μm以外，以與實施例2-1同樣的方法而獲得實施例2-7之光學膜。
[實施例2-8] 除了將防眩層塗佈液2-1變更為下述防眩層塗佈液2-2，並將低折射率層塗佈液2-1變更為下述低折射率層塗佈液2-3以外，以與實施例2-1同樣的方法而獲得實施例2-8之光學膜。低折射率層之折射率為1.36。
[比較例2-1] 除了將低折射率層塗佈液2-1變更為下述低折射率層塗佈液2-4以外，以與實施例2-1同樣的方法而獲得比較例2-1之光學膜。
[比較例2-2～2-3] 除了將防眩層塗佈液2-1變更為下述防眩層塗佈液2-2～2-3以外，以與比較例2-1同樣的方法而獲得比較例2-2～2-3之光學膜。
[比較例2-4] 除了將防眩層塗佈液2-1變更為下述防眩層塗佈液2-7，並將防眩層之厚度設為5.0 μm以外，以與實施例2-1同樣的方法而獲得比較例2-4之光學膜。
＜防眩層塗佈液2-2＞ ・胺酯丙烯酸酯A 30份 （Mitsubishi Chemical公司，商品名：U-1700B：分子量2,000，官能基數10） ・胺酯丙烯酸酯B 10份 （新中村化學工業公司，商品名：U-15HA：分子量2,300，官能基數15） ・新戊四醇三丙烯酸酯 60份 （東亞合成公司，商品名：M-305） ・二氧化矽粒子 21份 （表面處理不定形二氧化矽，d10：1.2 μm，d50：3.7 μm，d90：6.2 μm） ・有機粒子B 10份 （球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物，平均粒徑1.5 μm，折射率1.595） ・光聚合起始劑 5.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad184） ・光聚合起始劑 1.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad907） ・聚矽氧系調平劑 0.1份 （Momentive Performance Materials，商品名：TSF4460） ・溶劑（甲苯） 180份 ・溶劑（環己酮） 15份 ・溶劑（甲基異丁基酮） 20份
＜防眩層塗佈液2-3＞ ・胺酯丙烯酸酯A 30份 （Mitsubishi Chemical公司，商品名：U-1700B：分子量2,000，官能基數10） ・胺酯丙烯酸酯B 10份 （新中村化學工業公司，商品名：U-15HA：分子量2,300，官能基數15） ・新戊四醇三丙烯酸酯 60份 （東亞合成公司，商品名：M-305） ・二氧化矽粒子 19份 （表面處理不定形二氧化矽，d10：1.2 μm，d50：3.7 μm，d90：6.2 μm） ・有機粒子A 3份 （球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物，平均粒徑1.5 μm，折射率1.515） ・有機粒子B 5份 （球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物，平均粒徑1.5 μm，折射率1.595） ・光聚合起始劑 5.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad184） ・光聚合起始劑 1.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad907） ・聚矽氧系調平劑 0.1份 （Momentive Performance Materials，商品名：TSF4460） ・溶劑（甲苯） 175份 ・溶劑（環己酮） 15份 ・溶劑（甲基異丁基酮） 25份
＜防眩層塗佈液2-4＞ ・胺酯丙烯酸酯A 30份 （Mitsubishi Chemical公司，商品名：U-1700B：分子量2,000，官能基數10） ・胺酯丙烯酸酯B 10份 （新中村化學工業公司，商品名：U-15HA：分子量2,300，官能基數15） ・新戊四醇三丙烯酸酯 60份 （東亞合成公司，商品名：M-305） ・二氧化矽粒子 20份 （表面處理不定形二氧化矽，d50：3.5 μm） ・有機粒子A 8份 （球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物，平均粒徑1.5 μm，折射率1.515） ・有機粒子B 2份 （球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物，平均粒徑1.5 μm，折射率1.595） ・光聚合起始劑 5.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad184） ・光聚合起始劑 1.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad907） ・聚矽氧系調平劑 0.1份 （Momentive Performance Materials，商品名：TSF4460） ・溶劑（甲苯） 200份 ・溶劑（環己酮） 5份 ・溶劑（甲基異丁基酮） 10份
＜防眩層塗佈液2-5＞ ・胺酯丙烯酸酯A 30份 （Mitsubishi Chemical公司，商品名：U-1700B：分子量2,000，官能基數10） ・胺酯丙烯酸酯B 10份 （新中村化學工業公司，商品名：U-15HA：分子量2,300，官能基數15） ・新戊四醇三丙烯酸酯 60份 （東亞合成公司，商品名：M-305） ・二氧化矽粒子 10份 （表面處理不定形二氧化矽，d10：0.08，d50：2.8 μm，d90：4.5 μm） ・有機粒子A 5份 （球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物，平均粒徑1.5 μm，折射率1.515） ・有機粒子B 5份 （球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物，平均粒徑1.5 μm，折射率1.595） ・光聚合起始劑 5.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad184） ・光聚合起始劑 1.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad907） ・聚矽氧系調平劑 0.1份 （Momentive Performance Materials，商品名：TSF4460） ・溶劑（甲苯） 180份 ・溶劑（環己酮） 30份 ・溶劑（甲基異丁基酮） 5份
＜防眩層塗佈液2-6＞ ・胺酯丙烯酸酯C 60份 （新中村化學工業公司，商品名：U-1100H：分子量800，官能基數6） ・新戊四醇三丙烯酸酯 40份 （東亞合成公司，商品名：M-305） ・有機粒子C 11份 （球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物，平均粒徑3.0 μm，折射率1.595） ・無機超微粒子 70份 （表面導入有反應性官能基之二氧化矽，溶劑：MIBK，固形物成分：30%） （平均一次粒徑12 nm） ・光聚合起始劑 5.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad184） ・光聚合起始劑 1.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad907） ・聚矽氧系調平劑 0.1份 （Momentive Performance Materials，商品名：TSF4460） ・溶劑（甲苯） 180份 ・溶劑（環己酮） 15份
＜防眩層塗佈液2-7＞ ・胺酯丙烯酸酯A 30份 （Mitsubishi Chemical公司，商品名：U-1700B：分子量2,000，官能基數10） ・胺酯丙烯酸酯B 10份 （新中村化學工業公司，商品名：U-15HA：分子量2,300，官能基數15） ・新戊四醇三丙烯酸酯 60份 （東亞合成公司，商品名：M-305） ・二氧化矽粒子 3份 （表面處理不定形二氧化矽，d10：0.08，d50：2.8 μm，d90：4.5 μm） ・有機粒子B 0.5份 （球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物，平均粒徑1.5 μm，折射率1.595） ・光聚合起始劑 5.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad184） ・光聚合起始劑 1.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad907） ・聚矽氧系調平劑 0.1份 （Momentive Performance Materials，商品名：TSF4460） ・溶劑（甲苯） 180份 ・溶劑（環己酮） 5份 ・溶劑（甲基異丁基酮） 25份
＜低折射率層塗佈液2-2＞ ・多官能丙烯酸酯 180份 （東亞合成公司製造，商品名「ARONIX M-400」） ・中空二氧化矽粒子 100份 （平均一次粒徑75 nm，經具有甲基丙烯醯基之矽烷偶合劑表面處理之粒子） ・具有反應性官能基之氟系聚矽氧系調平劑 600份 （信越化學公司，商品名「KY1203」，固形物成分：20%，溶劑：甲基異丁基酮） ・光聚合起始劑 5份 （IGM Resins公司，商品名「Omnirad127」） ・溶劑（甲基異丁基酮） 11,000份 ・溶劑（乙酸1-甲氧基-2-丙酯） 1,300份
＜低折射率層塗佈液2-3＞ ・多官能丙烯酸酯 100份 （東亞合成公司製造，商品名「ARONIX M-400」） ・丙烯酸聚合物 0.5份（重量平均分子量：40,000） ・中空二氧化矽粒子 100份 （平均一次粒徑75 nm，經具有甲基丙烯醯基之矽烷偶合劑表面處理之粒子） ・具有反應性官能基之氟系聚矽氧系調平劑 250份 （信越化學公司，商品名「KY1203」，固形物成分：20%，溶劑：甲基異丁基酮） ・光聚合起始劑 5份 （IGM Resins公司，商品名「Omnirad127」） ・溶劑（甲基異丁基酮） 11,000份 ・溶劑（乙酸1-甲氧基-2-丙酯） 1,300份
＜低折射率層塗佈液2-4＞ ・多官能丙烯酸酯 100份 （東亞合成公司製造，商品名「ARONIX M-400」） ・丙烯酸聚合物 0.5份（重量平均分子量：40,000） ・中空二氧化矽粒子 180份 （平均一次粒徑75 nm，經具有甲基丙烯醯基之矽烷偶合劑表面處理之粒子） ・具有反應性官能基之氟系聚矽氧系調平劑 150份 （信越化學公司，商品名「KY1203」，固形物成分：20%，溶劑：甲基異丁基酮） ・光聚合起始劑 5.0份 （IGM Resins公司，商品名「Omnirad127」） ・溶劑（甲基異丁基酮） 11,000份 ・溶劑（乙酸1-甲氧基-2-丙酯） 1,300份
[表3]
通常之接觸角(度) 滴落式接觸角(度) Vvv (ml/m 2) Vvc (ml/m 2) Vvv/Vvc Vmp (ml/m 2) Sxp (μm) Sal (μm) R SCI(%) 元素比率(XPS) 黑色調 防眩性 指紋擦去性 綜合
F/無機Si 有機Si/無機Si F/有機Si
實施例2-1 112.3 49.8 0.041 0.707 0.058 0.044 1.390 6.86 1.95 5.66 0.246 23 A A A A
實施例2-2 110.5 55.0 0.032 0.640 0.050 0.032 1.220 8.12 1.74 7.53 0.312 24.1 A A A A
實施例2-3 111.1 51.2 0.042 0.600 0.070 0.037 1.180 11 1.7 6.11 0.253 24.2 A A A A
實施例2-4 116.2 34.2 0.030 0.610 0.049 0.029 1.190 9.26 1.86 3.76 0.082 45.9 A A B B
實施例2-5 111.6 42.5 0.043 0.467 0.092 0.044 0.700 4.6 1.86 4.09 0.084 48.7 A A B B
實施例2-6 112.6 50.3 0.009 0.132 0.068 0.019 0.240 10.5 1.68 4.9 0.212 23.1 A B A B
實施例2-7 111.5 51.6 0.007 0.123 0.057 0.006 0.210 11.1 1.65 5.34 0.231 23.1 A B A B
實施例2-8 111.1 35.6 0.031 0.620 0.050 0.030 1.250 8.91 2.86 4.23 0.093 45.5 B A A A
比較例2-1 111.0 17.1 0.042 0.656 0.064 0.046 1.370 6.76 1.99 2.85 0.054 52.8 A A D D
比較例2-2 112.3 21.9 0.030 0.612 0.049 0.033 1.250 8.31 1.71 3.21 0.061 52.6 A A C D
比較例2-3 111.5 15.5 0.038 0.585 0.065 0.035 1.160 10.8 1.74 2.98 0.06 49.7 A A D D
比較例2-4 111.1 46.2 0.002 0.031 0.064 0.003 0.110 15.6 1.71 4.61 0.213 21.6 A D B D
[表4]
防眩層塗佈液 低折射率層塗佈液 霧度（%） 穿透清晰度（%）
C 0.125 C 0.25 C 0.5 C 1.0 C 2.0
實施例2-1 2-1 2-1 61 2.5 1.9 1.9 3.2 11.2
實施例2-2 2-2 2-1 52 2.5 1.3 1.5 1.7 10.9
實施例2-3 2-3 2-1 41 3.3 4.1 4.9 5.6 13.2
實施例2-4 2-2 2-2 49 2.7 1.6 1.8 1.9 11.7
實施例2-5 2-4 2-1 70 11.1 10.3 10.9 12.4 18.2
實施例2-6 2-5 2-1 25 28.6 29.3 30.3 31.1 41.2
實施例2-7 2-6 2-1 42 12.4 11.6 11.1 12.0 32.9
實施例2-8 2-2 2-3 50 2.3 1.5 1.6 2.1 10.5
比較例2-1 2-1 2-4 60 2.2 1.3 1.5 2.6 13.2
比較例2-2 2-2 2-4 51 2.3 1.2 1.5 2.0 10.9
比較例2-3 2-3 2-4 41 3.1 3.3 3.5 4.2 12.5
比較例2-4 2-7 2-1 3 69.0 68.5 72.7 80.6 87.8
自表3之結果可確認到第2實施方式之實施例之光學膜可使防眩性及指紋擦去性變得良好。
10:基材 20:防眩層 30:抗反射層 100:光學膜 110:顯示元件 120:影像顯示面板 200:水平面 300:載台之平面 400:液滴
[圖1]係表示本發明之光學膜之一實施方式之概略剖視圖。 [圖2]係表示本發明之影像顯示面板之一實施方式之剖視圖。 [圖3]係用以對純水之液滴流下時之傾斜角（度）進行說明之圖。 [圖4]係表示本發明之光學膜之一實施方式之概略剖視圖。 [圖5]係表示本發明之影像顯示面板之一實施方式之剖視圖。

Claims (17)

  1. 一種光學膜，其具有第1面、及與上述第1面相反側之面的第2面，且 上述光學膜自上述第1面朝向上述第2面依序具有抗反射層及防眩層， 上述第1面具有凹凸形狀， 上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之算術平均高度即Sa為0.05 μm以上，且由ISO 25178-2：2012規定之最小自相關長度即Sal為4.0 μm以上12.0 μm以下， 上述第1面滿足下述式1： Sw×Vmp≦2.00      （式1） [式1中，Sw：係於上述第1面上30 μl之純水之液滴流下時之傾斜角（度）；式1中，Vmp：係上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之突出峰部實體體積（ml/m 2）之值]。
  2. 如請求項1之光學膜，其中，上述第1面之Vmp為0.005 ml/m 2以上0.100 ml/m 2以下。
  3. 如請求項1或2之光學膜，其中，上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之突出谷部空間體積即Vvv為0.005 ml/m 2以上0.100 ml/m 2以下，上述突出谷部空間體積係將分離核心部與突出谷部之負載面積率設為80%而算出。
  4. 如請求項3之光學膜，其中，上述第1面之Vvv與Vvc之比（Vvv/Vvc）為0.10以下，上述Vvc為由ISO 25178-2：2012規定之核心部空間體積。
  5. 如請求項1或2之光學膜，其中，上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之最小自相關長度即Sal為4.0 μm以上11.21 μm以下。
  6. 如請求項1或2之光學膜，其自上述第1面朝向上述第2面依序具有上述抗反射層、上述防眩層及基材。
  7. 如請求項1或2之光學膜，其中，上述防眩層包含黏合劑樹脂及粒子。
  8. 如請求項1或2之光學膜，其藉由X射線光電子光譜法對上述第1面側之表面區域進行分析而獲得之元素比率滿足下述之式2～4： 3.5≦F/無機Si≦10.0     （式2） 0.08≦有機Si/無機Si≦1.00 （式3） 5.0≦F/有機Si≦50.0     （式4） [式2～4中，F係氟元素之比率，無機Si係歸屬於無機矽化合物之矽元素之比率，有機Si係歸屬於有機矽化合物之矽元素之比率]。
  9. 如請求項8之光學膜，其中，關於藉由上述X射線光電子光譜法進行分析而獲得之元素比率，無機Si相對於全部元素之比率為2原子%以上20原子%以下。
  10. 如請求項1或2之光學膜，其藉由下述手法而測定之全光線反射率即R SCI為3.0%以下， [全光線反射率（R SCI）之測定] 製作樣品，上述樣品係於上述光學膜之上述第2面側，經由透明黏著劑貼合黑色板而成；將上述樣品之上述光學膜側設為光入射面而測定全光線反射率（R SCI）。
  11. 如請求項1或2之光學膜，其中，由JIS K7136：2000規定之霧度為20%以上75%以下。
  12. 一種偏光板，其具有偏光元件、配置於上述偏光元件之一側的第一透明保護板、及配置於上述偏光元件之另一側的第二透明保護板，且 上述第一透明保護板及上述第二透明保護板之至少一者為請求項1或2之光學膜，且上述光學膜之上述第2面與上述偏光元件對向地配置。
  13. 一種影像顯示裝置用之表面板，其係於樹脂板或玻璃板上貼合保護膜而成，且上述保護膜為請求項1或2之光學膜，上述光學膜之上述第2面與上述樹脂板或上述玻璃板對向地配置。
  14. 一種影像顯示面板，其具有顯示元件、及配置於上述顯示元件之光出射面側之光學膜，且包含請求項1或2之光學膜作為上述光學膜。
  15. 一種影像顯示裝置，其包含請求項14之影像顯示面板。
  16. 一種光學膜製造方法，其係請求項1之光學膜之製造方法，且具有： 於基材上形成防眩層之第1步驟、及於上述防眩層上形成抗反射層之第2步驟。
  17. 一種光學膜之篩選方法，其篩選滿足下述篩選條件之光學膜， （光學膜之篩選條件） 為具有第1面、及與上述第1面相反側之面的第2面之光學膜，且 上述光學膜自上述第1面朝向上述第2面依序具有抗反射層及防眩層， 上述第1面具有凹凸形狀， 上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之算術平均高度即Sa為0.05 μm以上，且由ISO 25178-2：2012規定之最小自相關長度即Sal為4.0 μm以上12.0 μm以下， 上述第1面滿足下述式1： Sw×Vmp≦2.00      （式1） [式1中，Sw：係於上述第1面上30 μl之純水之液滴流下時之傾斜角（度）；式1中，Vmp：係上述第1面之由ISO 25178-2：2012規定之突出峰部實體體積（ml/m 2）之值]。
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