WO2024070996A1 - 光学フィルム、並びに、前記光学フィルムを用いた偏光板、表面板、画像表示パネル及び画像表示装置、並びに、前記光学フィルムの製造方法、並びに、光学フィルムの選定方法、並びに、指紋拭き取り性の評価方法 - Google Patents

光学フィルム、並びに、前記光学フィルムを用いた偏光板、表面板、画像表示パネル及び画像表示装置、並びに、前記光学フィルムの製造方法、並びに、光学フィルムの選定方法、並びに、指紋拭き取り性の評価方法 Download PDF

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理哲 竹井
将史 田中
圭輔 池田
玄 古井
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Definitions

  • This disclosure relates to an optical film, a polarizing plate, a front plate, an image display panel, and an image display device using the optical film, a method for manufacturing the optical film, a method for selecting an optical film, and a method for evaluating the removability of fingerprints by wiping.
  • An optical film may be provided on the surface of an image display device such as a monitor for a television, notebook PC, or desktop PC in order to suppress reflections from the surface and to suppress glare of lighting, people, and other background objects.
  • Optical films have been proposed, for example, in Patent Documents 1 to 3.
  • the optical films in Patent Documents 1 and 2 are anti-glare films that have an anti-glare layer with an uneven surface. Optical films with an uneven surface tend to have poor fingerprint wiping properties because fingerprints get caught in the uneven surface. The better the anti-glare properties of an anti-glare film, the more likely it is that the fingerprint wiping properties will be poor. The optical films in Patent Documents 1 and 2 do not consider their anti-fouling properties at all.
  • the optical film of Patent Document 3 is a coated film in which the sliding angle of oleic acid is 32° or less.
  • the coated film of Patent Document 3 aims to make it easy to wipe off fingerprints, but the fingerprint wiping property is not good. If fingerprints on an optical film are not wiped off sufficiently, the appearance of the optical film is deteriorated due to the contrast in optical properties between a portion having fingerprint components and a portion not having fingerprint components. In particular, in the case of an optical film having an anti-reflection layer, the contrast in reflectance between a portion having fingerprint components and a portion not having fingerprint components becomes large, and the appearance of the optical film is greatly deteriorated.
  • the objective of the present disclosure is to provide an optical film having an uneven surface and an anti-reflection layer on the surface, which has excellent anti-glare properties and good fingerprint wiping properties.
  • the objective of the present disclosure is to provide a polarizing plate, a front plate, an image display panel, and an image display device having excellent anti-glare properties and good fingerprint wiping properties.
  • the objective of the present disclosure is to provide a manufacturing method for an optical film having excellent anti-glare properties and good fingerprint wiping properties.
  • the objective of the present disclosure is to provide a method for selecting an optical film having excellent anti-glare properties and good fingerprint wiping properties.
  • the objective of the present disclosure is to provide an evaluation method that can easily evaluate fingerprint wiping properties.
  • the present disclosure provides the following [1] to [15].
  • An optical film having a first surface and a second surface opposite to the first surface, the optical film has an antireflection layer and an antiglare layer in this order from the first surface to the second surface,
  • the first surface has an uneven shape,
  • the first surface has an arithmetic mean height Sa defined in ISO 25178-2:2012 of 0.05 ⁇ m or more,
  • the first surface of the optical film satisfies the following formula 1: Sw ⁇ Vmp ⁇ 2.00 (Formula 1) [In formula 1, "Sw” is the inclination angle (degrees) when a 30 ⁇ l droplet of pure water flows down on the first surface.
  • Vmp is the value of the protruding peak substantial volume (ml/m 2 ) of the first surface as defined in ISO 25178-2:2012.]
  • a polarizing plate having a polarizer, a first transparent protective plate arranged on one side of the polarizer, and a second transparent protective plate arranged on the other side of the polarizer, A polarizing plate, wherein at least one of the first transparent protective plate and the second transparent protective plate is the optical film described in [1], and the second surface of the optical film is arranged opposite the polarizer.
  • a face panel for an image display device comprising a protective film laminated onto a resin plate or a glass plate, the protective film being the optical film described in [1], and the second surface of the optical film being disposed opposite the resin plate or the glass plate.
  • An image display panel having a display element and an optical film arranged on a light exit surface side of the display element, the optical film including the optical film according to [1].
  • An image display device comprising the image display panel according to [4].
  • a method for producing the optical film according to [1] A method for producing an optical film, comprising: a first step of forming an antiglare layer on a substrate; and a second step of forming an antireflection layer on the antiglare layer.
  • a method for selecting an optical film comprising the steps of: selecting an optical film that satisfies the following selection conditions: (Optical film selection conditions) An optical film having a first surface and a second surface opposite to the first surface, the optical film has an antireflection layer and an antiglare layer in this order from the first surface to the second surface, The first surface has an uneven shape, The first surface has an arithmetic mean height Sa defined in ISO 25178-2:2012 of 0.05 ⁇ m or more, The first surface satisfies the following formula 1. Sw ⁇ Vmp ⁇ 2.00 (Formula 1) [In formula 1, "Sw” is the inclination angle (degrees) when a 30 ⁇ l droplet of pure water flows down on the first surface. In formula 1, "Vmp” is the value of the protruding peak substantial volume (ml/m 2 ) of the first surface as defined in ISO 25178-2:2012.]
  • the first surface has an uneven shape
  • the first surface has a valley volume Vvv defined in ISO 25178-2:2012 of 0.005 ml/ m2 or more
  • a droplet having a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the first surface of the optical film. The droplet is dropped perpendicularly to the first surface.
  • the static contact angle 10 seconds after the droplet is landed is measured by the ⁇ /2 method.
  • a polarizing plate comprising a polarizer, a first transparent protective plate disposed on one side of the polarizer, and a second transparent protective plate disposed on the other side of the polarizer, A polarizing plate, wherein at least one of the first transparent protective plate and the second transparent protective plate is the optical film described in [8], and the second surface of the optical film is arranged opposite the polarizer.
  • a face panel for an image display device comprising a protective film laminated onto a resin plate or a glass plate, the protective film being the optical film described in [8], and the second surface of the optical film being disposed opposite the resin plate or the glass plate.
  • An image display panel having a display element and an optical film disposed on a light exit surface side of the display element, the optical film including the optical film according to [8].
  • An image display device comprising the image display panel according to [11].
  • a method for producing the optical film according to [8] A method for producing an optical film, comprising: a first step of forming an antiglare layer on a substrate; and a second step of forming an antireflection layer on the antiglare layer.
  • a method for selecting an optical film comprising the steps of: selecting an optical film that satisfies the following selection conditions: (Optical film selection conditions) An optical film having a first surface and a second surface opposite to the first surface, the optical film has an antireflection layer and an antiglare layer in this order from the first surface to the second surface, The first surface has an uneven shape, The first surface has a valley volume Vvv defined in ISO 25178-2:2012 of 0.005 ml/ m2 or more, The drop contact angle measured by the method described below is 30.0 degrees or more. ⁇ Drop contact angle measurement> A droplet having a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the first surface of the optical film.
  • the droplet is dropped perpendicularly to the first surface.
  • the static contact angle 10 seconds after the droplet is landed is measured by the ⁇ /2 method.
  • a method for evaluating fingerprint wiping removability, using the drop contact angle measured by the following method as an evaluation index. ⁇ Drop contact angle measurement> A droplet with a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the surface of the measurement object. The droplet is dropped perpendicular to the surface. The static contact angle 10 seconds after the droplet hits the surface is measured by the ⁇ /2 method.
  • the optical film, polarizing plate, front plate, image display panel, and image display device disclosed herein have excellent anti-glare properties and good fingerprint wipe-off properties.
  • the manufacturing method for the optical film disclosed herein can easily manufacture an optical film that has excellent anti-glare properties and good fingerprint wipe-off properties.
  • the selection method for the optical film disclosed herein can efficiently select an optical film that has excellent anti-glare properties and good fingerprint wipe-off properties.
  • the evaluation method for fingerprint wipe-off properties disclosed herein can easily evaluate the fingerprint wipe-off properties of the measurement object.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating one embodiment of an optical film of the present disclosure.
  • 1 is a cross-sectional view illustrating an embodiment of an image display panel of the present disclosure.
  • FIG. 13 is a diagram for explaining the inclination angle (degrees) when a droplet of pure water flows down.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating one embodiment of an optical film of the present disclosure.
  • 1 is a cross-sectional view illustrating an embodiment of an image display panel of the present disclosure.
  • the optical film of the first embodiment of the present disclosure is as follows.
  • the first surface has an uneven shape,
  • the first surface has an arithmetic mean height Sa defined in ISO 25178-2:2012 of 0.05 ⁇ m or more,
  • the first surface of the optical film satisfies the following formula 1: Sw ⁇ Vmp ⁇ 2.00 (Formula 1)
  • Sw ⁇ Vmp ⁇ 2.00
  • Formula 1 [In formula 1, "Sw” is the inclination angle (degrees) when a 30 ⁇ l droplet of pure water flows down on the first surface.
  • Vmp is the value of the protruding peak substantial volume (ml/m 2 ) of the first surface as defined in ISO 25178-2:2012.]
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the cross-sectional shape of an optical film 100 according to a first embodiment of the present disclosure.
  • the optical film 100 in Fig. 1 has a first surface having an uneven shape and a second surface opposite to the first surface.
  • the upper surface is the first surface and the lower surface is the second surface.
  • the optical film in FIG. 1 has, from the first surface to the second surface, an antireflection layer 30, an antiglare layer 20, and a substrate 10 in this order.
  • Fig. 1 is a schematic cross-sectional view. That is, the scale of each layer constituting the optical film 100 and the scale of the concave-convex shape are schematic for ease of illustration and differ from the actual scale. The same applies to Figs. 2 and 3.
  • the optical film of the first embodiment of the present disclosure is not limited to the layered structure of FIG. 1.
  • the optical film of the first embodiment of the present disclosure may have a layered structure that does not have a substrate.
  • the optical film of the first embodiment of the present disclosure may have layers other than the substrate, the antiglare layer, and the antireflection layer.
  • the optical film according to the first embodiment of the present disclosure has a first surface.
  • the surface of the antireflection layer is preferably the first surface.
  • the first surface of the optical film of the first embodiment has an uneven shape, and the arithmetic mean height Sa defined in ISO 25178-2:2012 is 0.05 ⁇ m or more. If the first surface does not have an uneven shape, the antiglare properties of the optical film cannot be improved. By having the first surface have an uneven shape and setting Sa to 0.05 ⁇ m or more, it is easier to improve the antiglare properties of the optical film.
  • the first surface preferably has Sa of 0.10 ⁇ m or more, more preferably 0.20 ⁇ m or more, and even more preferably 0.30 ⁇ m or more. If the Sa of the first surface is too large, the scratch resistance of the optical film may decrease, so the Sa of the first surface is preferably 0.80 ⁇ m or less, more preferably 0.60 ⁇ m or less, and even more preferably 0.45 ⁇ m or less.
  • Examples of the range of Sa of the first surface include 0.05 ⁇ m to 0.80 ⁇ m, 0.05 ⁇ m to 0.60 ⁇ m, 0.05 ⁇ m to 0.45 ⁇ m, 0.10 ⁇ m to 0.80 ⁇ m, 0.10 ⁇ m to 0.60 ⁇ m, 0.10 ⁇ m to 0.45 ⁇ m, 0.20 ⁇ m to 0.80 ⁇ m, 0.20 ⁇ m to 0.60 ⁇ m, 0.20 ⁇ m to 0.45 ⁇ m, 0.30 ⁇ m to 0.80 ⁇ m, 0.30 ⁇ m to 0.60 ⁇ m, and 0.30 ⁇ m to 0.45 ⁇ m.
  • the first surface of the optical film of the first embodiment satisfies the following formula 1.
  • Sw ⁇ Vmp ⁇ 2.00 (Formula 1) [In formula 1, "Sw” is the inclination angle (degrees) when a 30 ⁇ l droplet of pure water flows down on the first surface. In formula 1, “Vmp” is the value of the protruding peak substantial volume (ml/m 2 ) of the first surface as defined in ISO 25178-2:2012.]
  • the ease of wiping off fingerprints can be improved by setting the value of Sw ⁇ Vmp of the first surface to be equal to or greater than 2.00.
  • Sw is the inclination angle (degrees) when a droplet of 30 ⁇ l of pure water flows down on the first surface.
  • the "inclination angle (degrees) when a droplet of 30 ⁇ l of pure water flows down” may be referred to as the "pure water drop inclination angle”.
  • a fingerprint contains a lot of moisture. Therefore, the smaller the Sw of the first surface, the weaker the adhesion between the first surface and the fingerprint, and the fingerprint tends to be easier to remove.
  • Vmp is the protruding peak material volume (ml/m 2 ) defined in ISO 25178-2:2012.
  • Vmp is a parameter indicating the volume of the protruding portion that is higher than the core portion.
  • the core portion corresponds to the portion having the average height in the uneven shape.
  • the larger Vmp means that the volume of the portion protruding from the core portion is larger.
  • the "portion protruding from the core portion" may be referred to as the "protruding convex portion”.
  • the optical film of the first embodiment of the present disclosure improves the fingerprint wiping property by making Sw ⁇ Vmp 2.00 or less.
  • Sw ⁇ Vmp being 2.00 or less means that Sw and Vmp are not extremely large and at least one of Sw and Vmp is small. Therefore, by making Sw ⁇ Vmp 2.00 or less, the fingerprint wiping property of the optical film can be improved.
  • Sw ⁇ Vmp is preferably 1.60 or less, more preferably 1.40 or less, and even more preferably 1.20 or less.
  • Sw ⁇ Vmp being too small means that at least one of Sw and Vmp is too small. If Sw is too small, the content of fluorine-based compounds and silicone-based compounds in the anti-reflection layer increases, and the scratch resistance of the optical film is likely to decrease. If Vmp is too small, Sa becomes small, and the anti-glare property is likely to decrease. Therefore, Sw ⁇ Vmp is preferably 0.15 or more, more preferably 0.25 or more, more preferably 0.40 or more, and more preferably 0.60 or more.
  • examples of the range of Sw ⁇ Vmp of the first surface include 0.15 to 2.00, 0.15 to 1.60, 0.15 to 1.40, 0.15 to 1.20, 0.25 to 2.00, 0.25 to 1.60, 0.25 to 1.40, 0.25 to 1.20, 0.40 to 2.00, 0.40 to 1.60, 0.40 to 1.40, 0.40 to 1.20, 0.60 to 2.00, 0.60 to 1.60, 0.60 to 1.40, and 0.60 to 1.20.
  • Sw of the first surface in order to make it easier to make Sw ⁇ Vmp 1.60 or less, Sw of the first surface is preferably 65 (degrees) or less, more preferably 40 (degrees) or less, and even more preferably 30 (degrees) or less. In the first embodiment, in order to suppress a decrease in the scratch resistance of the optical film, Sw of the first surface is preferably 10 (degrees) or more, more preferably 13 (degrees) or more, and even more preferably 17 (degrees) or more.
  • examples of the range of Sw of the first surface include 10 degrees or more and 65 degrees or less, 10 degrees or more and 40 degrees or less, 10 degrees or more and 30 degrees or less, 13 degrees or more and 65 degrees or less, 13 degrees or more and 40 degrees or less, 13 degrees or more and 30 degrees or less, 17 degrees or more and 65 degrees or less, 17 degrees or more and 40 degrees or less, and 17 degrees or more and 30 degrees or less.
  • the pure water contact angle of the first surface is preferably 100 degrees or more and 120 degrees or less, and more preferably 110 degrees or more and 115 degrees or less.
  • the pure water contact angle is measured by dropping 1.0 ⁇ L of pure water onto the surface on the first surface side, and measuring the static contact angle 10 seconds after the drop has landed according to the ⁇ /2 method.
  • the Vmp of the first surface is preferably 0.100 (ml/ m2 ) or less, more preferably 0.080 (ml/ m2 ) or less, even more preferably 0.060 (ml/ m2 ) or less, and even more preferably 0.045 (ml/ m2 ) or less.
  • the Vmp of the first surface is preferably 0.005 (ml/ m2 ) or more, more preferably 0.007 (ml/ m2 ) or more, even more preferably 0.010 (ml/ m2 ) or more, and still more preferably 0.020 (ml/ m2 ) or more.
  • Examples of the range of Vmp of the first surface include 0.005 ml/ m2 or more and 0.100 ml/ m2 or less, 0.005 ml/ m2 or more and 0.080 ml/ m2 or less, 0.005 ml/ m2 or more and 0.060 ml/ m2 or less, 0.005 ml/ m2 or more and 0.045 ml/ m2 or less, 0.007 ml/ m2 or more and 0.100 ml/ m2 or less, 0.007 ml/ m2 or more and 0.080 ml/ m2 or less, 0.007 ml/ m2 or more and 0.060 ml/m2 or less, 0.007 ml/ m2 or more and 0.045 ml/ m2 or less, 0.010 ml /m2 or more and 0.100 ml/ m2 or less, 0.010 ml/ m2 or more
  • the "pure water drop gradient angle" of an optical film is measured by the following procedures (1) to (3).
  • the following procedures (1) to (3) can be used, for example, to measure using Kyowa Interface Science's "DropMaster” series product number "DMo-701" and an accessory "SA-301".
  • the pure water may be any general-purpose pure water, and generally has a resistivity of 0.1 M ⁇ cm to 15 M ⁇ cm.
  • a sample measuring 2 cm x 8 cm is cut out from the optical film.
  • Double-sided tape is attached to the second surface of the sample, and the sample is fixed to a horizontal stand with an inclination angle of 0 degrees via the double-sided tape.
  • the size of the double-sided tape is 8 cm or more in length and 5 mm in width.
  • care is taken to prevent wrinkles from occurring in the sample and to prevent air bubbles from entering between the sample and the stand.
  • 30 ⁇ l of pure water is dropped onto the first surface of the sample.
  • the stage on which the sample is placed is gradually tilted at a rate of 2°/second. When the tip of the droplet moves 0.2835 mm or more, it is determined that the droplet has flowed down.
  • the angle of the stage when the droplet has flowed down is the "pure water descent tilt angle.”
  • the "stage angle" refers to the angle between the horizontal plane and the plane of the stage.
  • FIG. 3 is a diagram for explaining the inclination angle (degrees) when a droplet of pure water flows down. " ⁇ " in FIG. 3 corresponds to the angle of the platform.
  • reference numeral 200 indicates the horizontal plane
  • reference numeral 300 indicates the plane of the platform
  • reference numeral 400 indicates the droplet.
  • the optical film located between the plane of the platform 300 and the droplet 400 is omitted.
  • Vmp, Vvc and Vvv are calculated assuming that the areal load ratio separating the core portion and the protruding peaks is 10% and that separating the core portion and the protruding valleys is 80%.
  • Sxp which will be described later, means the difference between the height at an areal load ratio of 2.5% and the height at an areal load ratio of 50%.
  • xxx means a description common to the first and second embodiments. For example, the above definitions of Vmp, etc. are common to the first and second embodiments.
  • the surface shapes of Sa, Vmp, Vvv, Vvc, Sxp, Sal, etc. are measured using a confocal laser microscope.
  • An example of a confocal laser microscope is the "VK-X” series from Keyence Corporation.
  • Sa, Vmp, Vvv, Vvc, Sxp, and Sal can be easily calculated.
  • the measurement conditions for measuring Sa, Vmp, Vvv, Vvc, Sxp, and Sal using the aforementioned "VK-X" series are preferably in accordance with the conditions described in the Examples.
  • the F-operation is preferably plane tilt correction (area designation).
  • the measurement area is preferably a rectangle with one side of 50 ⁇ m to 200 ⁇ m, and the number of measurement points per side is preferably 500 to 2000.
  • the surface shape (Sa, Vmp, Vvv, Vvc, Sxp, and Sal), angles (pure water drop inclination angle, pure water contact angle, and drop contact angle), element ratios (F/inorganic Si, organic Si/inorganic Si, F/organic Si, etc.), and optical properties (R SCI , haze, total light transmittance, transmitted image clarity, etc.) mean, unless otherwise specified, the average values of 14 measured values obtained by excluding the maximum and minimum values from the measured values at 16 points.
  • the 16 measurement points are the centers of measurement when a 1 cm area is removed from the outer edge of the measurement sample as a margin, and lines are drawn to divide the remaining area into 5 equal parts vertically and horizontally, and the 16 intersections are the centers of measurement.
  • the measurement sample is rectangular, a 0.5 cm area is removed from the outer edge of the rectangle as a margin, and the measurement is performed with the 16 intersections of the dotted lines dividing the remaining area into 5 equal parts vertically and horizontally as the centers.
  • the average value of 14 measurement values, excluding the maximum and minimum values from the 16 measurement values, is the parameter value.
  • the measurement sample is a shape other than a rectangle, such as a circle, an ellipse, a triangle, or a pentagon, a rectangle inscribed in these shapes is drawn, and 16 measurements are performed on the rectangle using the above method.
  • the surface shape (Sa, Vmp, Vvv, Vvc, Sxp, and Sal), angles (pure water drop inclination angle, pure water contact angle, and drop contact angle), surface tension, element ratios (F/inorganic Si, organic Si/inorganic Si, F/organic Si, etc.), and optical properties (R SCI , haze, total light transmittance, transmitted image clarity, etc.) are measured at a temperature of 23 ⁇ 5° C. and a relative humidity of 40% to 65% unless otherwise specified. Furthermore, before the start of each measurement, the target sample is exposed to the above atmosphere for 30 minutes to 60 minutes before the measurement.
  • the protruding valley spatial volume Vvv of the first surface defined in ISO 25178-2:2012 is 0.005 ml/ m2 or more and 0.100 ml/ m2 or less.
  • Vvv is a parameter indicating the volume of a protruding portion deeper than the core portion.
  • the lower limit of Vvv is more preferably 0.007 ml/m 2 or more, and even more preferably 0.010 ml/m 2 or more.
  • the upper limit of Vvv is more preferably 0.080 ml/m 2 or less, and even more preferably 0.060 ml/m 2 or less.
  • Examples of the range of Vvv of the first surface include 0.005 ml/ m2 or more and 0.100 ml/ m2 or less, 0.005 ml/ m2 or more and 0.080 ml/ m2 or less, 0.005 ml/ m2 or more and 0.060 ml/ m2 or less, 0.007 ml/ m2 or more and 0.100 ml/ m2 or less, 0.007 ml/ m2 or more and 0.080 ml/ m2 or less, 0.007 ml/ m2 or more and 0.060 ml/ m2 or less, 0.010 ml/ m2 or more and 0.100 ml/m2 or less, 0.010 ml/ m2 or more and 0.080 ml/ m2 or less, and 0.010 ml/ m2 or more and 0.060 ml/ m2 or less.
  • the first surface of the optical film of the present disclosure preferably has a ratio (Vvv/Vvc) of Vvv to Vvc, which is the core spatial volume defined in ISO 25178-2:2012, of 0.10 or less.
  • the first surface of the optical film of the present disclosure preferably has a ratio of Vmp to Vvc (Vmp/Vvc) of 0.10 or less.
  • Vmp/Vvc ratio of Vmp to Vvc
  • the first surface of the optical film of the present disclosure has a minimum autocorrelation length, Sal, defined in ISO 25178-2:2012 of 4.0 ⁇ m or more and 12.0 ⁇ m or less.
  • Sal is a parameter focusing on the horizontal direction.
  • the value of "average length of roughness curve element RSm" specified in JIS B0601 is hardly affected by fine unevenness, but only by large unevenness.
  • the value of Sal is different from RSm in that it is affected not only by large unevenness, but also by fine unevenness.
  • Sal tends to be small.
  • the convex parts have a monotonous shape, Sal tends to be large.
  • the lower limit of Sal is more preferably 5.0 ⁇ m or more, and even more preferably 6.0 ⁇ m or more.
  • the upper limit of Sal is more preferably 11.0 ⁇ m or less, and even more preferably 10.0 ⁇ m or less.
  • Examples of the range of Sal of the first surface include 4.0 ⁇ m or more and 12.0 ⁇ m or less, 4.0 ⁇ m or more and 11.0 ⁇ m or less, 4.0 ⁇ m or more and 10.0 ⁇ m or less, 5.0 ⁇ m or more and 12.0 ⁇ m or less, 5.0 ⁇ m or more and 11.0 ⁇ m or less, 5.0 ⁇ m or more and 10.0 ⁇ m or less, 6.0 ⁇ m or more and 12.0 ⁇ m or less, 6.0 ⁇ m or more and 11.0 ⁇ m or less, and 6.0 ⁇ m or more and 10.0 ⁇ m or less.
  • the description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the element ratios of the optical film of the present disclosure obtained by analyzing the surface region on the first surface side by X-ray photoelectron spectroscopy satisfy the following formulas 2 to 4. 3.5 ⁇ F/inorganic Si ⁇ 10.0 (Formula 2) 0.08 ⁇ organic Si/inorganic Si ⁇ 1.00 (Formula 3) 5.0 ⁇ F/organic Si ⁇ 50.0 (Formula 4) [In formulas 2 to 4, "F” is the ratio of fluorine element, “inorganic Si” is the ratio of silicon element belonging to an inorganic silicon compound, and “organic Si” is the ratio of silicon element belonging to an organic silicon compound.]
  • the "surface region on the first side” refers to the region from the surface on the first side to a depth of 10 nm.
  • X-ray photoelectron spectroscopy may be referred to as "XPS.”
  • the element ratio of the surface region on the first side can be measured by the method described in the Examples.
  • the inorganic Si in the surface region of the first side of the optical film is mainly derived from silica particles, and the organic Si and F in the surface region of the first side of the optical film are mainly derived from the leveling agent.
  • Inorganic Si and organic Si can be separated by peak separation of inorganic and organic components from the X-ray photoelectron spectrum of the Si 2p orbital. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • inorganic Si can reduce the refractive index of the first side, but tends to deteriorate the fingerprint wiping property.
  • the fingerprint wiping property tends to be improved.
  • the fingerprint wiping property tends to be improved. Therefore, by setting F/inorganic Si to 3.5 or more, organic Si/inorganic Si to 0.08 or more, and F/organic Si to 5.0 or more and 50.0 or less, Sw can be easily reduced and formula 1 can be easily satisfied.
  • F/inorganic Si equal to or less than 10.0 and organic Si/inorganic Si equal to or less than 1.00, it is possible to easily suppress deterioration in the coatability of the antireflection layer.
  • the lower limit of F/inorganic Si is more preferably 4.0 or more, and even more preferably 4.5 or more, and the upper limit is more preferably 9.0 or less, and even more preferably 8.0 or less.
  • the lower limit of the organic Si/inorganic Si ratio is more preferably 0.10 or more, and even more preferably 0.15 or more, and the upper limit is more preferably 0.80 or less, and even more preferably 0.50 or less.
  • the lower limit of F/organic Si is more preferably 10.0 or more, even more preferably 15.0 or more, and even more preferably 22.0 or more, and the upper limit is more preferably 40.0 or less, and even more preferably 35.0 or less.
  • the description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • Examples of the range of F/inorganic Si include 3.5 to 10.0, 3.5 to 9.0, 3.5 to 8.0, 4.0 to 10.0, 4.0 to 9.0, 4.0 to 8.0, 4.5 to 10.0, 4.5 to 9.0, and 4.5 to 8.0.
  • Examples of the range of organic Si/inorganic Si include 0.08 to 1.00, 0.08 to 0.80, 0.08 to 0.50, 0.10 to 1.00, 0.10 to 0.80, 0.10 to 0.50, 0.15 to 1.00, 0.15 to 0.80, and 0.15 to 0.50.
  • Examples of the range of F/organic Si include 5.0 to 50.0, 5.0 to 40.0, 5.0 to 35.0, 10.0 to 50.0, 10.0 to 40.0, 10.0 to 35.0, 15.0 to 50.0, 15.0 to 40.0, 15.0 to 35.0, 22.0 to 50.0, 22.0 to 40.0, and 22.0 to 35.0.
  • the description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the ratio of inorganic Si to all elements is preferably 2 atomic % or more and 20 atomic % or less, based on the element ratio obtained by analyzing the surface region on the first surface side by X-ray photoelectron spectroscopy.
  • the ratio of inorganic Si to all elements 2 atomic % or more, the refractive index of the first surface can be easily reduced, making it easier to improve the antireflection properties of the optical film.
  • By making the ratio of inorganic Si 20 atomic % or less it is easy to make F/inorganic Si 3.5 or more and organic Si/inorganic Si 0.08 or more.
  • the lower limit of the proportion of inorganic Si in all elements is more preferably 3 atomic % or more, and even more preferably 4 atomic % or more, and the upper limit is more preferably 15 atomic % or less, and even more preferably 12 atomic % or less.
  • Examples of the range of the proportion of inorganic Si to all elements include 2 atomic % or more and 20 atomic % or less, 2 atomic % or more and 15 atomic % or less, 2 atomic % or more and 12 atomic % or less, 3 atomic % or more and 20 atomic % or less, 3 atomic % or more and 15 atomic % or less, 3 atomic % or more and 12 atomic % or less, 4 atomic % or more and 20 atomic % or less, 4 atomic % or more and 15 atomic % or less, and 4 atomic % or more and 12 atomic % or less.
  • the description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the optical film of the first embodiment of the present disclosure has an antireflection layer and an antiglare layer in this order from the first surface to the second surface.
  • the outermost surface on the first surface side of the optical film of the first embodiment is preferably an antireflection layer.
  • the optical film of the present disclosure may have a layer other than the antireflection layer and the antiglare layer.
  • the layer other than the antireflection layer and the antiglare layer include a substrate, an antistatic layer, and an adhesive layer.
  • the optical film of the present disclosure preferably has, from the first surface to the second surface, an antireflection layer, an antiglare layer, and a substrate in this order. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the optical film of the first embodiment preferably has a substrate for ease of production and handling.
  • the substrate is preferably one having optical transparency, smoothness, heat resistance, and excellent mechanical strength.
  • substrates include plastic films such as polyester, triacetyl cellulose (TAC), cellulose diacetate, cellulose acetate butyrate, polyamide, polyimide, polyethersulfone, polysulfone, polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetal, polyether ketone, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyurethane, and amorphous olefin (Cyclo-Olefin-Polymer: COP).
  • the substrate may be one in which two or more plastic films are bonded together.
  • polyester films include polyethylene terephthalate films and polyethylene naphthalate films.
  • TAC films and acrylic films are preferred because they are easy to improve light transmission and optical isotropy.
  • COP films and polyester films are preferred because they have excellent weather resistance. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the thickness of the substrate is preferably 5 ⁇ m or more and 300 ⁇ m or less, more preferably 20 ⁇ m or more and 200 ⁇ m or less, and even more preferably 30 ⁇ m or more and 120 ⁇ m or less.
  • the preferred upper limit of the thickness of the substrate is 100 ⁇ m or less, more preferably 80 ⁇ m or less.
  • the substrate is a low moisture permeable substrate such as polyester, COP, acrylic, etc.
  • the preferred upper limit of the thickness of the substrate for thinning is 60 ⁇ m or less, more preferably 40 ⁇ m or less.
  • the thickness of the substrate is measured by a film thickness measuring device.
  • film thickness measuring devices include a Mitutoyo Digimatic Standard Outside Micrometer (product number: MDC-25SX).
  • the thickness of the substrate may be measured at any 10 points and the average value is the above-mentioned value. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the substrate preferably has a total light transmittance according to JIS K7361-1:1997 of 70% or more, more preferably 80% or more, and even more preferably 85% or more.
  • the substrate preferably has a haze according to JIS K7136:2000 of 10% or less, more preferably 5% or less, and even more preferably 3% or less.
  • the surface of the substrate may be subjected to a physical treatment such as corona discharge treatment or a chemical treatment in order to improve adhesion.
  • the substrate may have an easy-adhesion layer on the surface. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the antiglare layer is a layer that plays a central role in providing antiglare properties.
  • the antiglare layer can be formed, for example, by (A) a method using an embossing roll, (B) an etching treatment, (C) molding using a mold, (D) forming a coating film by coating, etc.
  • C) molding using a mold is preferred, and (D) forming a coating film by coating is preferred for productivity and compatibility with a wide variety of products.
  • the antiglare layer can be formed by pouring a resin into a mold and removing the molded resin from the mold.
  • the molded resin removed from the mold may be disposed on a substrate.
  • the mold used is one having an inverted surface shape of the antiglare layer.
  • Such a mold can be prepared, for example, by the following methods (c1-1) to (c1-2) or (c2).
  • (c1-1) A shape in which Sa, Vmp, etc. are within a predetermined range is created by simulation. Furthermore, the simulated shape is inverted.
  • a mold is obtained by engraving the surface of a metal with a laser beam or processing the surface of a metal by photolithography so that the inverted shape is reflected.
  • the antiglare layer is formed by (D), for example, the following means (d1) and (d2) can be mentioned.
  • (d1) is preferable to (d2) in that the range of the surface shape such as Sa and Vmp can be easily adjusted.
  • (d1) A means for forming an antiglare layer having unevenness based on the particles by applying a coating liquid containing a binder resin and particles and drying it.
  • (d2) A method of applying a coating liquid containing a resin and a resin having poor compatibility with the resin, thereby forming unevenness by causing phase separation of the resin.
  • the thickness T of the antiglare layer is preferably from 2.0 ⁇ m to 10.0 ⁇ m, more preferably from 3.0 ⁇ m to 8.0 ⁇ m, and even more preferably from 4.0 ⁇ m to 6.0 ⁇ m, in order to balance curl suppression, mechanical strength, hardness, and toughness.
  • the thickness of the antiglare layer can be calculated by, for example, averaging 20 arbitrary points selected from a cross-sectional photograph of the optical film taken by a scanning transmission electron microscope.
  • the acceleration voltage of the STEM is preferably 10 kV to 30 kV, and the magnification of the STEM is preferably 1000 to 7000. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the antiglare layer preferably mainly contains a resin component. Furthermore, the antiglare layer may contain other components, such as particles such as organic particles and inorganic particles, nanometer-sized fine particles, and additives such as a refractive index adjuster, an antistatic agent, a leveling agent, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antioxidant, a viscosity adjuster, and a thermal polymerization initiator, as necessary.
  • a refractive index adjuster an antistatic agent, a leveling agent, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antioxidant, a viscosity adjuster, and a thermal polymerization initiator, as necessary.
  • the antiglare layer preferably contains a binder resin and particles.
  • the particles include organic particles and inorganic particles, and inorganic particles are preferred. That is, the antiglare layer preferably contains a binder resin and inorganic particles. Furthermore, the antiglare layer more preferably contains a binder resin, inorganic particles, and organic particles. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • inorganic particles include silica, alumina, zirconia, titania, etc., and silica is preferred. Among inorganic particles, amorphous inorganic particles are preferred, and amorphous silica is more preferred.
  • organic particles include particles containing one or more resins selected from polymethyl methacrylate, polyacrylic-styrene copolymer, melamine resin, polycarbonate, polystyrene, polyvinyl chloride, benzoguanamine-melamine-formaldehyde condensate, silicone, fluorine-based resin, polyester-based resin, and the like.
  • the term "irregularly shaped inorganic particles” refers to inorganic particles having no specific shape that are obtained by crushing large-diameter inorganic particles and then classifying them.
  • the particles preferably include inorganic particles.
  • the particles more preferably include amorphous inorganic particles, and further preferably include amorphous inorganic particles and organic particles.
  • the amorphous inorganic particles are preferably amorphous silica.
  • Irregular inorganic particles tend to increase Sa and decrease Sal compared to spherical particles.
  • Vmp is likely to increase, making it difficult to satisfy formula 1.
  • the particle size distribution of the irregular inorganic particles is too narrow, the coating suitability is likely to decrease.
  • the volume-based cumulative distribution of particle sizes of the irregular inorganic particles is in the range described below.
  • inorganic particles are prone to aggregation when used alone. Therefore, in the first embodiment, in order to make it easier to satisfy Sa and formula 1, it is preferable that the particle size distribution of the irregular particles is in the range described below and that organic particles are used in combination.
  • the inorganic particles such as amorphous inorganic particles have a volume-based cumulative distribution d10 of particle diameters, a volume-based cumulative distribution d50 of particle diameters, and a volume-based cumulative distribution d90 of particle diameters that satisfy the following relationships (1) and (2).
  • d10 of particle diameters a volume-based cumulative distribution d10 of particle diameters
  • d50 of particle diameters a volume-based cumulative distribution d50 of particle diameters
  • d90 of particle diameters that satisfy the following relationships (1) and (2).
  • 1.5 ⁇ d50/d10 ⁇ 4.0 (1) 1.0 ⁇ d90/d50 ⁇ 3.0
  • the d50/d10 of 1.5 or more means that the particle size distribution of the inorganic particles is wide in the region where the particle diameter is below the average. By making the d50/d10 of 1.5 or more, fine irregularities can be easily imparted to the irregular surface, so that the Sal can be easily reduced. By making the d50/d10 of 4.0 or less, the amount of inorganic particles buried in the antiglare layer can be suppressed from increasing, and the efficiency of adding the inorganic particles can be improved.
  • the d90/d50 being 1.0 or more means that the particle size distribution of the inorganic particles in the region where the particle size is equal to or larger than the average is wide. By making the d90/d50 1.0 or more, it is easy to increase Vmp and make Sal large. By making the d90/d50 3.0 or less, it is easy to suppress Vmp from becoming too large and Sal from becoming too large.
  • the lower limit of d50/d10 is more preferably 2.0 or more, and even more preferably 2.3 or more, and the upper limit is more preferably 3.5 or less, and even more preferably 3.2 or less.
  • the lower limit of d90/d50 is more preferably 1.3 or more, and even more preferably 1.5 or more, and the upper limit is more preferably 2.5 or less, and even more preferably 2.0 or less.
  • the d10, d50 and d90 of inorganic particles such as amorphous inorganic particles are measured by a laser diffraction method.
  • the inorganic particles such as amorphous inorganic particles preferably have a volume-based cumulative distribution d50 of particle diameter of 2.5 ⁇ m or more and 5.5 ⁇ m or less, more preferably 3.0 ⁇ m or more and 5.0 ⁇ m or less, and even more preferably 3.3 ⁇ m or more and 4.7 ⁇ m or less.
  • d50 volume-based cumulative distribution d50 of particle diameter of 2.5 ⁇ m or more and 5.5 ⁇ m or less, more preferably 3.0 ⁇ m or more and 5.0 ⁇ m or less, and even more preferably 3.3 ⁇ m or more and 4.7 ⁇ m or less.
  • the ratio of the thickness T of the antiglare layer to the d50 of the inorganic particles such as amorphous inorganic particles, d50/T is preferably 0.55 or more and 1.00 or less, more preferably 0.60 or more and 0.95 or less, and even more preferably 0.70 or more and 0.90 or less.
  • the thickness T of the antiglare layer and the d90 of the inorganic particles such as amorphous inorganic particles, d90/T is preferably 1.00 or more and 1.50 or less, more preferably 1.08 or more and 1.45 or less, and even more preferably 1.20 or more and 1.40 or less.
  • the content of inorganic particles such as amorphous inorganic particles is preferably 8 parts by mass or more and 40 parts by mass or less, more preferably 12 parts by mass or more and 30 parts by mass or less, and even more preferably 15 parts by mass or more and 28 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the binder resin.
  • the content of the organic particles is preferably 1 part by mass or more and 25 parts by mass or less, more preferably 3 parts by mass or more and 18 parts by mass or less, and even more preferably 8 parts by mass or more and 14 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the binder resin.
  • the content of the organic particles is preferably 1 part by mass or more and 25 parts by mass or less, more preferably 3 parts by mass or more and 18 parts by mass or less, and even more preferably 8 parts by mass or more and 14 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the binder resin.
  • organic particles have a relatively uniform particle size distribution, an increase in the content of organic particles leads to a strong tendency for Sal to become smaller. Therefore, by setting the content of organic particles to 25 parts by mass or less, it is possible to prevent Sal from becoming too small, and to easily improve the ease of wiping off fingerprints.
  • the average particle size of the organic particles is preferably 1.0 ⁇ m or more and 5.0 ⁇ m or less, more preferably 1.2 ⁇ m or more and 3.0 ⁇ m or less, and even more preferably 1.3 ⁇ m or more and 2.5 ⁇ m or less.
  • the average particle size of organic particles means a value determined as a volume average value d50 by a laser diffraction method.
  • the organic particles preferably have a narrow particle size distribution.
  • the proportion of particles within ⁇ 0.5 ⁇ m of the average particle diameter of the organic particles is preferably 80% by volume or more of the total amount of organic particles, more preferably 85% by volume or more, and even more preferably 90% by volume or more.
  • the shape of the organic particles may be spherical, discoid, rugby ball-like, irregular, etc. Among these shapes, spherical organic particles are preferred because the particle size distribution is easily controlled. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the average particle diameter of the organic particles relative to the thickness of the antiglare layer is preferably 0.20 or more and 0.70 or less, more preferably 0.23 or more and 0.50 or less, and even more preferably 0.25 or more and 0.35 or less.
  • the antiglare layer may further contain inorganic fine particles in addition to the binder resin and the particles.
  • the inorganic fine particles and the above-mentioned particles can be distinguished from each other by the average particle size.
  • inorganic fine particles examples include fine particles made of silica, alumina, zirconia, titania, etc. Among these, silica is preferable because it is easy to suppress the generation of internal haze.
  • the average particle size of the inorganic fine particles is preferably from 1 nm to 200 nm, more preferably from 2 nm to 100 nm, and even more preferably from 5 nm to 50 nm. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the binder resin preferably contains a cured product of a curable resin composition, such as a cured product of a thermosetting resin composition or a cured product of an ionizing radiation curable resin composition, and more preferably contains a cured product of an ionizing radiation curable resin composition.
  • the binder resin may contain a thermoplastic resin as long as the effects of the present disclosure are not impaired.
  • the ratio of the cured product of the curable resin composition to the total amount of the binder resin is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and even more preferably 100% by mass.
  • the thermosetting resin composition is a composition that contains at least a thermosetting resin, and is a resin composition that is cured by heating.
  • the thermosetting resin include acrylic resin, urethane resin, phenol resin, urea melamine resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, silicone resin, etc.
  • a curing agent is added to the curable resin as required. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the ionizing radiation curable resin composition is a composition containing a compound having an ionizing radiation curable functional group (hereinafter also referred to as an "ionizing radiation curable compound").
  • a compound having an ionizing radiation curable functional group hereinafter also referred to as an "ionizing radiation curable compound”
  • the ionizing radiation curable functional group include ethylenically unsaturated bond groups such as (meth)acryloyl group, vinyl group, and allyl group, as well as epoxy group, oxetanyl group, and the like.
  • ionizing radiation curable compound a compound having an ethylenically unsaturated bond group is preferred, a compound having two or more ethylenically unsaturated bond groups is more preferred, and among these, a polyfunctional (meth)acrylate-based compound having two or more ethylenically unsaturated bond groups is even more preferred.
  • a polyfunctional (meth)acrylate-based compound either a monomer or an oligomer can be used.
  • ionizing radiation refers to electromagnetic waves or charged particle beams that have an energy quantum capable of polymerizing or crosslinking molecules.
  • UV ultraviolet rays
  • EB electron beams
  • electromagnetic waves such as X-rays and ⁇ -rays
  • charged particle beams such as ⁇ -rays and ion beams
  • examples of bifunctional (meth)acrylate monomers include ethylene glycol di(meth)acrylate, bisphenol A tetraethoxydiacrylate, bisphenol A tetrapropoxydiacrylate, and 1,6-hexanediol diacrylate.
  • trifunctional or higher (meth)acrylate monomers examples include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, and isocyanuric acid-modified tri(meth)acrylate.
  • the (meth)acrylate monomer may have a part of its molecular skeleton modified, for example, with ethylene oxide, propylene oxide, caprolactone, isocyanuric acid, alkyl, cyclic alkyl, aromatic, bisphenol, or the like.
  • ethylene oxide, propylene oxide, caprolactone, isocyanuric acid alkyl, cyclic alkyl, aromatic, bisphenol, or the like.
  • polyfunctional (meth)acrylate oligomer examples include acrylate polymers such as urethane (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, and polyether (meth)acrylate.
  • the urethane (meth)acrylate can be obtained, for example, by reacting a polyhydric alcohol and an organic diisocyanate with a hydroxy (meth)acrylate.
  • Preferred epoxy (meth)acrylates are (meth)acrylates obtained by reacting a tri- or higher functional aromatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, aliphatic epoxy resin, or the like with (meth)acrylic acid, (meth)acrylates obtained by reacting a di- or higher functional aromatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, aliphatic epoxy resin, or the like with a polybasic acid and (meth)acrylic acid, and (meth)acrylates obtained by reacting a di- or higher functional aromatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, aliphatic epoxy resin, or the like with a phenol and (meth)acrylic acid.
  • the weight average molecular weight of the polyfunctional (meth)acrylate oligomer is preferably 500 or more and 3,000 or less, and more preferably 700 or more and 2,500 or less.
  • the weight average molecular weight is an average molecular weight measured by GPC analysis and converted into standard polystyrene. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • a monofunctional (meth)acrylate may be used in combination as the ionizing radiation curable compound.
  • the monofunctional (meth)acrylate include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, and isobornyl (meth)acrylate.
  • the above ionizing radiation curable compounds may be used alone or in combination of two or more. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the ionizing radiation curable composition preferably contains additives such as a photopolymerization initiator and a photopolymerization accelerator.
  • the photopolymerization initiator may be one or more selected from acetophenone, benzophenone, ⁇ -hydroxyalkylphenone, Michler's ketone, benzoin, benzyl dimethyl ketal, benzoyl benzoate, ⁇ -acyloxime ester, thioxanthones, and the like.
  • the photopolymerization accelerator can reduce the inhibition of polymerization caused by air during curing and increase the curing speed. Examples of the accelerator include p-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester and p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the ionizing radiation curable resin composition when the binder resin contains a cured product of an ionizing radiation curable resin composition, the ionizing radiation curable resin composition preferably contains a polyfunctional (meth)acrylate monomer and a polyfunctional (meth)acrylate oligomer.
  • the mass ratio of the polyfunctional (meth)acrylate monomer to the polyfunctional (meth)acrylate oligomer is preferably 5:95 to 60:40, more preferably 20:80 to 60:40, and even more preferably 40:60 to 60:40.
  • the polyfunctional (meth)acrylate oligomer By making the polyfunctional (meth)acrylate oligomer have a predetermined ratio or more, the viscosity of the coating liquid for the antiglare layer can be increased, and it is easy to suppress the sinking of the particles below the antiglare layer, and it is easy to suppress the binder resin from flowing down between the protrusions based on the particles. Therefore, it is easy to make Sa and Vvv equal to or greater than a predetermined value, and easy to make Sal equal to or less than a predetermined value. On the other hand, if the ratio of the polyfunctional (meth)acrylate oligomer is too high, the strength of the antiglare layer may decrease.
  • the ionizing radiation curable resin composition contains a predetermined amount of polyfunctional (meth)acrylate oligomer and a predetermined amount of polyfunctional (meth)acrylate monomer.
  • the coating solution for the antiglare layer preferably contains a solvent to adjust the viscosity and to make each component soluble or dispersible. Since the surface shape of the antiglare layer after coating and drying varies depending on the type of solvent, it is preferable to select the solvent in consideration of the saturated vapor pressure of the solvent, the permeability of the solvent into the substrate, etc.
  • examples of the solvent include ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclohexanone, etc.), ethers (dioxane, tetrahydrofuran, etc.), aliphatic hydrocarbons (hexane, etc.), alicyclic hydrocarbons (cyclohexane, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogenated carbons (dichloromethane, dichloroethane, etc.), esters (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, etc.), alcohols (isopropanol, butanol, cyclohexanol, etc.), cellosolves (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, etc.), glycol ethers (propylene glycol monomethyl ether acetate, etc.), cellosolv
  • the solvent in the antiglare layer coating liquid is mainly composed of a solvent with a fast evaporation rate.
  • the solvent in the antiglare layer coating liquid is mainly composed of a solvent with a fast evaporation rate.
  • main component means that the solvent accounts for 50% by mass or more of the total amount of the solvent, preferably 70% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and further preferably 97% by mass or more.
  • a solvent having a high evaporation rate means a solvent having an evaporation rate of 100 or more, where the evaporation rate of butyl acetate is taken as 100.
  • the evaporation rate of a solvent having a high evaporation rate is more preferably 120 or more and 300 or less, and even more preferably 150 or more and 220 or less.
  • solvents with a fast evaporation rate examples include methyl isobutyl ketone (evaporation rate 160), toluene (evaporation rate 200), and methyl ethyl ketone (evaporation rate 370).
  • examples of solvents with slow evaporation rates of less than 100 include cyclohexanone (evaporation rate 32) and propylene glycol monomethyl ether acetate (evaporation rate 44). The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the drying conditions can be controlled by the drying temperature and the wind speed in the dryer.
  • the drying temperature is preferably 30° C. or higher and 120° C. or lower, and the drying wind speed is preferably 0.2 m/s or higher and 50 m/s or lower.
  • the drying conditions are preferably two-stage drying in the above temperature range and wind speed range.
  • the drying temperature in the second stage is preferably higher and the wind speed is stronger than that in the first stage.
  • the drying temperature is preferably 30° C. or more and less than 60° C.
  • the drying wind speed is preferably 0.2 m/s or more and less than 7 m/s.
  • the drying temperature is preferably 60° C. or more and 120° C. or less, and the drying wind speed is preferably 7 m/s or more and 50 m/s or less.
  • the antireflection layer is preferably located on the outermost surface on the first surface side.
  • the antireflection layer examples include a single-layer structure of a low refractive index layer, a two-layer structure of a high refractive index layer and a low refractive index layer, and a multi-layer structure of three or more layers.
  • the low refractive index layer and the high refractive index layer can be formed by a general-purpose wet method or dry method.
  • the wet method the single-layer structure or two-layer structure is preferable, and in the case of the dry method, the multi-layer structure is preferable.
  • the wet method is superior to the dry method in terms of production efficiency and chemical resistance.
  • the antireflection layer in order to easily maintain the uneven shape of the antiglare layer, preferably has a single-layer structure of a low refractive index layer.
  • the description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the single layer structure is a single layer of a low refractive index layer, and the two-layer structure is formed from a high refractive index layer and a low refractive index layer.
  • the single layer structure or the two-layer structure is preferably formed by a wet method.
  • Examples of methods for forming an antireflection layer by a wet method include a method of forming the antireflection layer by a sol-gel method using a metal alkoxide or the like, a method of forming the antireflection layer by coating a resin having a low refractive index such as a fluororesin, and a method of forming the antireflection layer by coating a coating liquid in which low refractive index particles or high refractive index particles are contained in a binder resin composition.
  • the low-refractive index layer preferably contains a binder resin and low-refractive index particles.
  • the high-refractive index layer preferably contains a binder resin and high-refractive index particles.
  • the lower limit of the refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.10 or more, more preferably 1.20 or more, more preferably 1.26 or more, more preferably 1.28 or more, and more preferably 1.30 or more, and the upper limit is preferably 1.48 or less, more preferably 1.45 or less, more preferably 1.40 or less, more preferably 1.38 or less, and more preferably 1.32 or less.
  • the refractive index refers to the value at a wavelength of 550 nm.
  • the lower limit of the thickness of the low refractive index layer is preferably 80 nm or more, more preferably 85 nm or more, and more preferably 90 nm or more, and the upper limit is preferably 150 nm or less, more preferably 110 nm or less, and more preferably 105 nm or less.
  • the description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the binder resin of the low refractive index layer preferably contains a cured product of a curable resin composition such as a cured product of a thermosetting resin composition or a cured product of an ionizing radiation curable resin composition, and more preferably contains a cured product of an ionizing radiation curable resin composition.
  • the binder resin of the low refractive index layer may contain a thermoplastic resin as long as the effects of the present disclosure are not impaired.
  • Examples of the cured product of the curable resin composition for the low refractive index layer include the same cured products of the curable resin composition as exemplified for the antiglare layer.
  • the proportion of the cured product of the curable resin composition relative to the total amount of the binder resin in the low refractive index layer is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and even more preferably 97% by mass or more.
  • the description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the binder resin of the low refractive index layer may contain a thermoplastic resin.
  • a thermoplastic resin as the binder resin By containing a thermoplastic resin as the binder resin, the viscosity of the coating liquid for the low refractive index layer is increased, and the coating liquid for the low refractive index layer is less likely to flow down between the convex parts of the antiglare layer. Therefore, by containing a thermoplastic resin as the binder resin, Sa and Vvv can be easily set to a predetermined value or more, and Sal can be easily set to a predetermined value or less. Furthermore, since it is easy to leave organic Si and fluorine in the vicinity of the surface of the first side, it is easy to satisfy the element ratios of formulas 2 to 4.
  • the content of the thermoplastic resin is preferably 0.1 mass % or more and 3.0 mass % or less of the total amount of the binder resin, more preferably 0.2 mass % or more and 1.5 mass % or less, and even more preferably 0.3 mass % or more and 0.7 mass % or less.
  • thermoplastic resin examples include polystyrene-based resins, polyolefin-based resins, ABS resins (including heat-resistant ABS resins), AS resins, AN resins, polyphenylene oxide-based resins, polycarbonate-based resins, polyacetal-based resins, acrylic-based resins, polyethylene terephthalate-based resins, polybutylene terephthalate-based resins, polysulfone-based resins, and polyphenylene sulfide-based resins, and from the viewpoint of transparency, acrylic resins are preferred.
  • the weight average molecular weight of the thermoplastic resin is preferably 20,000 or more and 200,000 or less, more preferably 30,000 or more and 150,000 or less, and even more preferably 50,000 or more and 100,000 or less.
  • the description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the low refractive index particles include hollow particles and solid particles.
  • the low refractive index particles may contain only either hollow particles or solid particles, but it is preferable to contain hollow particles in order to lower the refractive index.
  • solid particles may be contained in addition to hollow particles. Note that by containing only hollow particles without containing solid particles, the effect of the present disclosure can be easily achieved.
  • the material of the hollow particles and solid particles may be any of inorganic compounds such as silica and magnesium fluoride, or organic compounds, but silica is preferred for lowering the refractive index and strength. That is, the low refractive index layer preferably contains hollow silica particles. It is also preferred that the low refractive index layer further contains solid silica particles in addition to the hollow silica particles. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the average primary particle diameter of the hollow particles is preferably smaller than the thickness of the low refractive index layer, for example, 1 nm to 150 nm.
  • the average primary particle diameter of the hollow particles is preferably 35 nm to 100 nm, more preferably 50 nm to 100 nm, and even more preferably 60 nm to 80 nm.
  • the average primary particle diameter of the solid particles is preferably smaller than the thickness of the low refractive index layer, for example, 0.5 nm to 100 nm.
  • the average primary particle diameter of the solid particles is preferably 1 nm to 30 nm, more preferably 5 nm to 20 nm, and even more preferably 10 nm to 15 nm. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the average primary particle diameters of the hollow particles, the solid particles described later, and the highly refractive particles described later are calculated by the following steps (A1) to (A3).
  • A1 The cross section of the antireflection member is imaged by a TEM or STEM.
  • the acceleration voltage of the TEM or STEM is preferably 10 kV to 30 kV, and the magnification is preferably 50,000 to 300,000.
  • A2) Randomly extract 10 particles from the observed image, and calculate the particle diameter of each particle.
  • the particle diameter is measured as the distance between two parallel lines that is the maximum distance between the two lines when the cross section of the particle is sandwiched between the two lines.
  • the content of hollow particles is preferably 100 parts by mass or more, and more preferably 150 parts by mass or more, per 100 parts by mass of the binder resin.
  • the content of hollow particles is too high, the hollow particles tend to be easily damaged or dropped off, and the mechanical strength of the low refractive index layer, such as scratch resistance, tends to decrease.
  • the content of hollow particles is too high, it may be difficult to satisfy the above formulas 2 and 3.
  • the content of hollow particles is preferably 300 parts by mass or less, more preferably 250 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the binder resin.
  • the content of the solid particles is preferably 20 parts by mass or more, and more preferably 40 parts by mass or more, based on 100 parts by mass of the binder resin.
  • the content of the solid particles is too high, the solid particles tend to aggregate.
  • the content of the solid particles is too high, it may be difficult to satisfy the above formulas 2 and 3.
  • the content of the solid particles is preferably 100 parts by mass or less, more preferably 60 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the binder resin. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the low refractive index layer preferably contains a leveling agent containing organic Si and fluorine, so that the first surface can easily satisfy the element ratios of the above formulas 2 to 4.
  • the leveling agent containing organic Si and fluorine may be a compound containing organic Si and fluorine in the molecule.
  • the leveling agent containing organic Si and fluorine may be a compound containing organic Si in the molecule and a compound containing fluorine in the molecule.
  • the low refractive index layer preferably contains a compound containing organic Si and fluorine in one molecule as a leveling agent.
  • the leveling agent preferably has a functional group reactive with the binder resin in the molecule.
  • the element ratios of the above formulas 2 to 4 can be adjusted mainly by the content of the leveling agent and the ratio of organic Si and fluorine in the leveling agent.
  • the content of the leveling agent is preferably adjusted so as to satisfy the element ratios of the above formulas 2 to 4 according to the ratio of organic Si and fluorine in the leveling agent.
  • the content of the leveling agent relative to the total solid content of the low refractive index layer is preferably 10% by mass or more and 40% by mass or less, more preferably 15% by mass or more and 40% by mass or less, and even more preferably 20% by mass or more and 40% by mass or less. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the high refractive index layer is preferably disposed closer to the antiglare layer than the low refractive index layer.
  • the lower limit of the refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.53 or more, more preferably 1.54 or more, more preferably 1.55 or more, and more preferably 1.56 or more, and the upper limit is preferably 1.85 or less, more preferably 1.80 or less, more preferably 1.75 or less, and more preferably 1.70 or less.
  • the upper limit of the thickness of the high refractive index layer is preferably 200 nm or less, more preferably 180 nm or less, and even more preferably 150 nm or less, and the lower limit is preferably 50 nm or more, and more preferably 70 nm or more.
  • the binder resin for the high refractive index layer may be the same as that for the low refractive index layer.
  • high refractive index particles include antimony pentoxide, zinc oxide, titanium oxide, cerium oxide, tin-doped indium oxide, antimony-doped tin oxide, yttrium oxide, and zirconium oxide.
  • the average primary particle size of the high refractive index particles is preferably 2 nm or more, more preferably 5 nm or more, and even more preferably 10 nm or more.
  • the average primary particle size of the high refractive index particles is preferably 200 nm or less, more preferably 100 nm or less, more preferably 80 nm or less, more preferably 60 nm or less, and even more preferably 30 nm or less.
  • the content of the high refractive index particles may be set so that the refractive index of the high refractive index layer falls within the above-mentioned range. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the coating liquid for the anti-reflection layer When anti-reflection layers such as a low refractive index layer and a high refractive index layer are formed by a wet method, it is preferable to increase the viscosity of the coating liquid for the anti-reflection layer. By increasing the viscosity of the coating liquid for the anti-reflection layer, the coating liquid for the anti-reflection layer is less likely to flow down between the convex parts of the anti-glare layer, so that even if an anti-reflection layer is formed on the anti-glare layer, the surface shape of the anti-glare layer can be easily maintained.
  • the viscosity of the coating liquid for the anti-reflection layer can be increased by adding a thermoplastic resin as a binder resin, increasing the proportion of an oligomer as an ionizing radiation curable resin composition, or selecting a solvent with a high viscosity as a solvent.
  • the viscosity of the coating liquid for the anti-reflection layer at 23° C. is preferably 0.1 mPa ⁇ s or more and 5.0 mPa ⁇ s or less.
  • the solvent for the coating liquid for the anti-reflection layer can be the same as that for the embodiment of the coating liquid for the anti-glare layer.
  • the drying conditions can be controlled by the drying temperature and the wind speed in the dryer.
  • the drying temperature is preferably 30° C. or higher and 70° C. or lower, and the drying wind speed is preferably 10 m/s or higher and 30 m/s or lower.
  • the coating liquid for the antireflection layer can be prevented from flowing down between the convex parts of the antiglare layer.
  • the surface shape such as Sa of the first surface can be easily set in the above-mentioned range, and formulas 1 to 4 can be easily satisfied.
  • the irradiation with ionizing radiation is preferably carried out after the coating solution for the antireflection layer has been dried.
  • the multilayer structure preferably formed by the dry method has a structure in which high refractive index layers and low refractive index layers are alternately laminated to a total of three or more layers. Even in the multilayer structure, the low refractive index layer is preferably disposed on the outermost surface of the optical film.
  • the high refractive index layer preferably has a thickness of 10 nm to 200 nm, a refractive index of 2.10 to 2.40, and more preferably a thickness of 20 nm to 70 nm.
  • the low refractive index layer preferably has a thickness of 5 nm to 200 nm, a refractive index of 1.33 to 1.53, and more preferably a thickness of 20 nm to 120 nm.
  • the description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the optical film of the first embodiment preferably has a total light reflectance R SCI measured by the following method of 3.0% or less. [Measurement of total light reflectance (R SCI )] A sample is prepared by attaching a black plate to the second surface side of the optical film via a transparent adhesive, and the total light reflectance (R SCI ) is measured with the optical film side of the sample as the light incident surface.
  • RSCI of the optical film is more preferably 2.5% or less, and further preferably 2.0% or less.
  • the lower limit of RSCI of the optical film is not particularly limited, but is usually 0.1% or more.
  • RSCI is the reflected light measured by applying light from all directions to the sample surface using an integrating sphere and closing the light trap corresponding to the specular reflection direction.
  • a typical RSCI measuring device is configured to comply with the geometric condition c of JIS Z8722:2009. More specifically, a typical RSCI measuring device uses D65 as the light source of an integrating sphere spectrophotometer, the position of the receiver is +8 degrees with respect to the normal line of the sample, the aperture angle of the receiver is 10 degrees, the position of the light trap is -8 degrees with respect to the normal line of the sample, and the viewing angle is 2 degrees or 10 degrees. In this specification, the viewing angle is 2 degrees.
  • An example of a measuring device that satisfies the above conditions is an integrating sphere spectrophotometer (product name: CM-2002) manufactured by Konica Minolta. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the difference between the refractive index of the transparent adhesive of the sample and the refractive index of the layer on the second surface side of the optical film is preferably within 0.05, more preferably within 0.03, and even more preferably within 0.01.
  • the difference between the refractive index of the transparent adhesive of the sample and the refractive index of the binder resin of the black board is preferably within 0.05, more preferably within 0.03, and even more preferably within 0.01.
  • the optical film preferably has a total light transmittance according to JIS K7361-1:1997 of 80% or more, more preferably 85% or more, and even more preferably 90% or more.
  • the light incident surface when measuring the total light transmittance and the haze is the second surface side of the optical film. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the optical film preferably has a haze of 20% or more and 75% or less according to JIS K7136:2000.
  • the lower limit of the haze is more preferably 30% or more, even more preferably 40% or more, and even more preferably 50% or more, and the upper limit is more preferably 70% or less, and even more preferably 65% or less.
  • Examples of the haze of the optical film include 20% to 75%, 20% to 70%, 20% to 65%, 30% to 75%, 30% to 70%, 30% to 65%, 40% to 75%, 40% to 70%, 40% to 65%, 50% to 75%, 50% to 70%, and 50% to 65%.
  • the description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the optical film preferably has an internal haze of 20% or less, more preferably 15% or less, and even more preferably 10% or less.
  • the internal haze can be measured by a general-purpose method, for example, by bonding a transparent sheet onto the first surface of the optical film via a transparent adhesive layer, thereby eliminating any irregularities on the first surface. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the transmitted image clarity of the optical film measured in accordance with JIS K7374:2007 when the transmitted image clarity when the optical comb width is 0.125 mm is defined as C0.125 , the transmitted image clarity when the optical comb width is 0.25 mm is defined as C0.25 , the transmitted image clarity when the optical comb width is 0.5 mm is defined as C0.5 , the transmitted image clarity when the optical comb width is 1.0 mm is defined as C1.0 , and the transmitted image clarity when the optical comb width is 2.0 mm is defined as C2.0 , it is preferable that the values of C0.125 , C0.25 , C0.5 , C1.0 and C2.0 are within the following ranges.
  • C0.125 is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, more preferably 30% or less, and more preferably 20% or less in order to improve antiglare properties.
  • C0.125 is preferably 1.0% or more in order to improve resolution. Examples of the range of C0.125 include 1.0% or more and 50% or less, 1.0% or more and 40% or less, 1.0% or more and 30% or less, and 1.0% or more and 20% or less.
  • C0.25 is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, more preferably 30% or less, and even more preferably 20% or less in order to improve antiglare properties.
  • C0.25 is preferably 1.0% or more in order to improve resolution.
  • Examples of the range of C0.25 include 1.0% or more and 50% or less, 1.0% or more and 40% or less, 1.0% or more and 30% or less, and 1.0% or more and 20% or less.
  • C0.5 is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, more preferably 30% or less, and even more preferably 20% or less in order to improve antiglare properties.
  • C0.5 is preferably 1.0% or more in order to improve resolution.
  • Examples of the range of C0.5 include 1.0% or more and 50% or less, 1.0% or more and 40% or less, 1.0% or more and 30% or less, and 1.0% or more and 20% or less.
  • C1.0 is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, more preferably 30% or less, and even more preferably 20% or less in order to improve antiglare properties.
  • C1.0 is preferably 1.0% or more in order to improve resolution.
  • Examples of the range of C1.0 include 1.0% or more and 50% or less, 1.0% or more and 40% or less, 1.0% or more and 30% or less, and 1.0% or more and 20% or less.
  • C2.0 is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, more preferably 30% or less, and even more preferably 20% or less in order to improve antiglare properties.
  • C2.0 is preferably 5.0% or more in order to improve resolution. Examples of the range of C2.0 include 5.0% or more and 50% or less, 5.0% or more and 40% or less, 5.0% or more and 30% or less, and 5.0% or more and 20% or less. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the sum of C0.125 , C0.5 , C1.0 and C2.0 is preferably 200% or less, more preferably 150% or less, more preferably 100% or less, and more preferably 80% or less.
  • the sum is preferably 10.0% or more. Examples of the range of the sum include 10.0% or more and 200% or less, 10.0% or more and 150% or less, 10.0% or more and 100% or less, and 10.0% or more and 80% or less. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the optical film may be in the form of a sheet cut to a predetermined size, or in the form of a roll obtained by winding a long sheet into a roll.
  • the size of the sheet is not particularly limited, but the maximum diameter is about 2 inches to 500 inches.
  • the "maximum diameter" refers to the maximum length when any two points on the optical film are connected. For example, when the optical film is rectangular, the diagonal line of the area is the maximum diameter. When the optical film is circular, the diameter of the circle is the maximum diameter.
  • the width and length of the roll are not particularly limited, but generally, the width is about 500 mm to 3000 mm, and the length is about 500 m to 5000 m.
  • the optical film in the roll form can be cut into sheets according to the size of an image display device or the like. When cutting, it is preferable to remove the ends of the roll, which have unstable physical properties.
  • the shape of the sheet is not particularly limited, and examples thereof include polygons such as triangles, rectangles, and pentagons, circles, random and indefinite shapes, etc. More specifically, when the optical film is rectangular, the aspect ratio is not particularly limited as long as it does not cause any problems as a display screen. For example, the aspect ratio may be 1:1, 4:3, 16:10, 16:9, 2:1, etc., but in vehicle-mounted applications and digital signage that are rich in design, the aspect ratio is not limited to these.
  • the surface shape of the second surface of the optical film is not particularly limited, but is preferably approximately smooth.
  • Approximately smooth means that the arithmetic mean roughness Ra of JIS B0601:1994 at a cutoff value of 0.8 mm is less than 0.03 ⁇ m, and preferably 0.02 ⁇ m or less.
  • the description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the method for producing an optical film according to the first embodiment of the present disclosure is the method for producing an optical film according to the present disclosure described above, and includes a first step of forming an antiglare layer on a substrate, and a second step of forming an antireflection layer on the antiglare layer.
  • Means for forming an antiglare layer on a substrate include the above-mentioned (A) method using an embossing roll, (B) etching treatment, (C) molding with a mold, and (D) formation of a coating film by coating.
  • A for example, a resin layer is formed on a substrate, and the resin layer is shaped using an embossing roll from the resin layer side, thereby forming an antiglare layer on the substrate.
  • method (B) for example, a layer of a photocurable resin is formed on a substrate, and then photoetched, thereby forming an antiglare layer on the substrate.
  • a resin is poured into a mold, and the molded resin is removed from the mold and placed on a substrate, thereby forming an antiglare layer on the substrate.
  • a coating film can be formed on a substrate by the above-mentioned method (d1) or (d2), thereby forming an antiglare layer on the substrate.
  • a polarizing plate according to a first embodiment of the present disclosure is a polarizing plate having a polarizer, a first transparent protective plate arranged on one side of the polarizer, and a second transparent protective plate arranged on the other side of the polarizer, At least one of the first transparent protective plate and the second transparent protective plate is the optical film of the first embodiment of the present disclosure described above, and the second surface of the optical film is arranged opposite the polarizer.
  • polarizer examples include sheet-type polarizers such as polyvinyl alcohol films, polyvinyl formal films, polyvinyl acetal films, and saponified ethylene-vinyl acetate copolymer films dyed with iodine or the like and stretched, wire-grid-type polarizers made of a large number of metal wires arranged in parallel, coating-type polarizers coated with lyotropic liquid crystal or a dichroic guest-host material, and multilayer thin-film-type polarizers.
  • These polarizers may be reflective polarizers that have the function of reflecting polarized components that are not transmitted. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • a first transparent protective plate is disposed on one side of the polarizer, and a second transparent protective plate is disposed on the other side of the polarizer. At least one of the first transparent protective plate and the second transparent protective plate is the optical film according to the first embodiment of the present disclosure described above.
  • one of the first transparent protective plate and the second transparent protective plate may be the optical film of the first embodiment of the present disclosure described above, or both of the first transparent protective plate and the second transparent protective plate may be the optical film of the first embodiment of the present disclosure described above.
  • the transparent protective plate that is not the optical film of the first embodiment of the present disclosure can be a general-purpose plastic film, glass, or the like.
  • the front panel for an image display device of the first embodiment of the present disclosure is a front panel for an image display device having a protective film bonded to a resin plate or a glass plate, the protective film being the optical film of the first embodiment of the present disclosure described above, and the second surface of the optical film being arranged opposite the resin plate or the glass plate.
  • the resin plate or glass plate a resin plate or glass plate that is generally used as a front plate of an image display device can be used.
  • the thickness of the resin plate or glass plate is preferably 10 ⁇ m or more in order to improve the strength.
  • the upper limit of the thickness of the resin plate or glass plate is usually 5000 ⁇ m or less. In order to reduce the thickness, the upper limit of the thickness of the resin plate or glass plate is preferably 1000 ⁇ m or less, more preferably 500 ⁇ m or less, and even more preferably 100 ⁇ m or less.
  • Examples of the range of the thickness of the resin plate or glass plate include 10 ⁇ m or more and 5000 ⁇ m or less, 10 ⁇ m or more and 1000 ⁇ m or less, 10 ⁇ m or more and 500 ⁇ m or less, and 10 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less.
  • the description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the image display panel of the first embodiment of the present disclosure is an image display panel having a display element and an optical film arranged on the light emission surface side of the display element, and the optical film includes the optical film of the first embodiment of the present disclosure described above (see Figure 2).
  • the optical film according to the first embodiment of the present disclosure is preferably disposed so that the second surface side faces the display element side.
  • the optical film of the first embodiment of the present disclosure is preferably disposed on the outermost surface on the light exit surface side of a display element.
  • the display element examples include a liquid crystal display element, an EL display element (an organic EL display element, an inorganic EL display element), a plasma display element, and further, an LED display element such as a micro LED display element. These display elements may have a touch panel function inside the display element.
  • the liquid crystal display mode of the liquid crystal display element examples include the IPS mode, VA mode, multi-domain mode, OCB mode, STN mode, and TSTN mode.
  • the image display panel of the present disclosure may be an image display panel with a touch panel, which has a touch panel between a display element and an optical film.
  • the size of the image display panel is not particularly limited, but the maximum diameter is about 2 inches to 500 inches. The maximum diameter means the maximum length when connecting any two points on the surface of the image display panel. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the image display device according to the first embodiment of the present disclosure includes the image display panel according to the first embodiment of the present disclosure.
  • the image display device of the first embodiment of the present disclosure is not particularly limited as long as it includes the image display panel of the first embodiment of the present disclosure.
  • the image display device of the first embodiment of the present disclosure preferably includes the image display panel of the first embodiment of the present disclosure, a drive control unit electrically connected to the image display panel, and a housing that houses these.
  • the image display device of the present disclosure requires a backlight, which is disposed on the side opposite to the light exit surface of the liquid crystal display element.
  • the size of the image display device is not particularly limited, but the maximum diameter of the effective display area is about 2 inches to 500 inches.
  • the effective display area of an image display device is an area in which an image can be displayed.
  • the image display device has a housing that surrounds a display element, the area inside the housing is the effective image area.
  • the maximum diameter of the effective image area refers to the maximum length between any two points in the effective image area. For example, if the effective image area is rectangular, the maximum diameter is the diagonal line of the area. Also, if the effective image area is circular, the maximum diameter is the diameter of the area. The description in this paragraph is common to the first and second embodiments.
  • the method for selecting an optical film according to the first embodiment of the present disclosure is to select an optical film that satisfies the following selection conditions.
  • Optical film selection conditions An optical film having a first surface and a second surface opposite to the first surface, the optical film has an antireflection layer and an antiglare layer in this order from the first surface to the second surface, The first surface has an uneven shape, The first surface has an arithmetic mean height Sa defined in ISO 25178-2:2012 of 0.05 ⁇ m or more, The first surface satisfies the following formula 1.
  • Sw ⁇ Vmp ⁇ 2.00 (Formula 1) [In formula 1, "Sw” is the inclination angle (degrees) when a 30 ⁇ l droplet of pure water flows down on the first surface. In formula 1, “Vmp” is the value of the protruding peak substantial volume (ml/m 2 ) of the first surface as defined in ISO 25178-2:2012.]
  • the method for selecting an optical film according to the first embodiment of the present disclosure may have additional selection conditions.
  • the additional selection conditions include the preferred embodiments of the optical film according to the first embodiment.
  • Examples of the additional selection conditions include the following A to D.
  • C The element ratio satisfies the following formulas 2 to 4.
  • RSCI which is the total light reflectance measured by the following method, is 3.0% or less.
  • the optical film selection method of the first embodiment of the present disclosure makes it possible to efficiently select an optical film that has excellent anti-glare properties and good fingerprint wiping properties.
  • the optical film of the second embodiment of the present disclosure is as follows.
  • the first surface has an uneven shape,
  • the first surface has a valley volume Vvv defined in ISO 25178-2:2012 of 0.005 ml/ m2 or more,
  • ⁇ Drop contact angle measurement> A droplet having a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the first surface of the optical film. The droplet is dropped perpendicularly to the first surface.
  • the static contact angle 10 seconds after the droplet hits the surface is measured by the ⁇ /2 method.
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of the cross-sectional shape of the optical film 100 according to the second embodiment of the present disclosure.
  • the optical film 100 in Fig. 4 has a first surface having an uneven shape and a second surface opposite to the first surface.
  • the upper surface is the first surface and the lower surface is the second surface.
  • the optical film in FIG. 4 has, from the first surface to the second surface, an antireflection layer 30, an antiglare layer 20, and a substrate 10 in this order.
  • Fig. 4 is a schematic cross-sectional view. That is, the scale of each layer constituting the optical film 100 and the scale of the concave-convex shape are schematic for ease of illustration and differ from the actual scale. The same is true for Fig. 5.
  • the optical film of the second embodiment of the present disclosure is not limited to the layered structure of FIG. 1.
  • the optical film of the second embodiment of the present disclosure may have a layered structure that does not have a substrate.
  • the optical film of the second embodiment of the present disclosure may have layers other than the substrate, the antiglare layer, and the antireflection layer.
  • the optical film according to the second embodiment of the present disclosure has a first surface.
  • the surface of the antireflection layer is preferably the first surface.
  • the first surface of the optical film of the second embodiment has an uneven shape, and Vvv, which is the protruding valley spatial volume defined in ISO 25178-2:2012, is 0.005 ml/ m2 or more. If the first surface does not have an uneven shape, the antiglare properties of the optical film cannot be improved. By having the first surface have an uneven shape and setting Vvv to 0.005 ml/ m2 or more, it is possible to easily improve the antiglare properties of the optical film.
  • Vvv is preferably 0.007 ml/ m2 or more, more preferably 0.010 ml/ m2 or more, more preferably 0.020 ml/ m2 or more, and even more preferably 0.030 ml/ m2 or more. If Vvv is too large, it tends to be difficult to achieve a drop contact angle of 30.0 degrees or more. Therefore, Vvv is preferably 0.100 ml/ m2 or less, more preferably 0.080 ml/ m2 or less, even more preferably 0.060 ml/ m2 or less, and even more preferably 0.045 ml/ m2 or less.
  • Vvv of the first surface is, for example, from 0.005 ml/ m2 to 0.100 ml/ m2 , from 0.005 ml/ m2 to 0.080 ml/ m2 , from 0.005 ml/ m2 to 0.060 ml/ m2 , from 0.005 ml/ m2 to 0.045 ml/ m2 , from 0.007 ml/ m2 to 0.100 ml/ m2 , from 0.007 ml/ m2 to 0.080 ml/ m2 , from 0.007 ml/ m2 to 0.060 ml/ m2 , from 0.007 ml/m2 to 0.045 ml/ m2 , from 0.010 ml/m2 to 0.100 ml/ m2 , from 0.010 ml/ m2 to 0.080 ml/ m2 , from 0.010 ml
  • the first surface of the optical film of the second embodiment has a drop contact angle of 30.0 degrees or more, as measured by the following method.
  • ⁇ Drop contact angle measurement> A droplet having a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the first surface of the optical film. The droplet is dropped perpendicularly to the first surface. The static contact angle 10 seconds after the droplet is landed is measured by the ⁇ /2 method.
  • the drop contact angle of the first surface By setting the drop contact angle of the first surface to 30.0 degrees or more, it becomes easier to improve the ease of wiping off fingerprints.
  • the relationship between the drop contact angle and the ease of wiping off fingerprints will be described below.
  • a droplet is dropped from a height of 45 mm onto the first surface of the optical film.
  • the droplet that has fallen onto the first surface is crushed by the impact of the drop, so the contact angle of the droplet immediately after the drop tends to be small.
  • the droplet is likely to wet and spread, so the contact angle of the droplet immediately after the drop tends to be small.
  • the optical film of the present disclosure has a drop contact angle of 30.0 degrees or more. That is, the optical film of the second embodiment of the present disclosure, which has a drop contact angle of 30.0 degrees or more, means that the droplet that is crushed by the impact at the time of dropping recovers to a shape close to a sphere. Therefore, the optical film of the second embodiment of the present disclosure can provide good fingerprint wiping properties despite having an uneven shape with Vvv of 0.005 ml/ m2 or more.
  • the pressure of the touch causes fingerprint components to penetrate into the uneven surface.
  • the droplet is dropped from a height of 45 mm because of the above-mentioned phenomenon (the phenomenon in which fingerprint components penetrate into the uneven surface due to pressure) being taken into consideration.
  • the amount of the droplet dropped is 5.0 ⁇ l.
  • Fingerprints contain not only water but also sebum and the like. For this reason, in the measurement of the drop contact angle in the present disclosure, a liquid with a surface tension of 30 mN/m is used instead of pure water.
  • a liquid with the following composition is used as the liquid with a surface tension of 30 mN/m.
  • the surface tension refers to a value measured using a Wilhelmy surface tensiometer specified in JIS K2241:2017.
  • ⁇ Composition of liquid with surface tension of 30 mN/m> A liquid containing 100% by mass of ethylene glycol monoethyl ether.
  • the drop contact angle is preferably 40.0 degrees or more, more preferably 45.0 degrees or more, and even more preferably 50.0 degrees or more. If the drop contact angle is too large, the content of the fluorine-based compound and the silicone-based compound in the antireflection layer increases, and the scratch resistance of the optical film is likely to decrease. Therefore, the drop contact angle is preferably 70.0 degrees or less, more preferably 60.0 degrees or less, and even more preferably 55.0 degrees or less.
  • Examples of the range of the drop contact angle of the first surface include 30.0 degrees or more and 70.0 degrees or less, 30.0 degrees or more and 60.0 degrees or less, 30.0 degrees or more and 55.0 degrees or less, 40.0 degrees or more and 70.0 degrees or less, 40.0 degrees or more and 60.0 degrees or less, 40.0 degrees or more and 55.0 degrees or less, 45.0 degrees or more and 70.0 degrees or less, 45.0 degrees or more and 60.0 degrees or less, 45.0 degrees or more and 55.0 degrees or less, 50.0 degrees or more and 70.0 degrees or less, 50.0 degrees or more and 60.0 degrees or less, and 50.0 degrees or more and 55.0 degrees or less.
  • the optical film of the second embodiment of the present disclosure preferably has a pure water contact angle of the first surface of 100 degrees or more and 120 degrees or less, and more preferably 110 degrees or more and 115 degrees or less.
  • the first surface of the optical film of the present disclosure preferably has a ratio (Vvv/Vvc) of Vvv to Vvc, which is the core spatial volume defined in ISO 25178-2:2012, of 0.10 or less.
  • the first surface of the optical film of the present disclosure preferably has a peak substantial volume Vmp defined in ISO 25178-2:2012 of 0.005 ml/m 2 or more and 0.100 ml/m 2 or less.
  • Vmp is more preferably 0.007 ml/ m2 or more, more preferably 0.010 ml/ m2 or more, and even more preferably 0.020 ml/ m2 or more.
  • Vmp is more preferably 0.080 (ml/ m2 ) or less, more preferably 0.060 (ml/ m2 ) or less, and still more preferably 0.045 (ml/ m2 ) or less.
  • the first surface of the optical film of the present disclosure has a minimum autocorrelation length, Sal, defined in ISO 25178-2:2012 of 4.0 ⁇ m or more and 12.0 ⁇ m or less.
  • the lower limit of Sal is more preferably 5.0 ⁇ m or more, and even more preferably 6.0 ⁇ m or more.
  • the upper limit of Sal is more preferably 11.0 ⁇ m or less, and even more preferably 10.0 ⁇ m or less.
  • the first surface of the optical film of the present disclosure preferably has a pole height Sxp defined in ISO 25178-2:2012 of 0.15 ⁇ m or more and 2.00 ⁇ m or less.
  • Sxp is a parameter indicating the difference between the average surface of the uneven shape and the convex parts after removing particularly high convex parts in the uneven shape.
  • the lower limit of Sxp is more preferably 0.20 ⁇ m or more, more preferably 0.25 ⁇ m or more, more preferably 0.50 ⁇ m or more, and more preferably 0.70 ⁇ m or more.
  • the upper limit of Sxp is more preferably 1.80 ⁇ m or less, more preferably 1.50 ⁇ m or less, and more preferably 1.40 ⁇ m or less.
  • Examples of the range of Sxp of the first surface are 0.15 ⁇ m or more and 2.00 ⁇ m or less, 0.15 ⁇ m or more and 1.80 ⁇ m or less, 0.15 ⁇ m or more and 1.50 ⁇ m or less, 0.15 ⁇ m or more and 1.40 ⁇ m or less, 0.20 ⁇ m or more and 2.00 ⁇ m or less, 0.20 ⁇ m or more and 1.80 ⁇ m or less, 0.20 ⁇ m or more and 1.50 ⁇ m or less, 0.20 ⁇ m or more and 1.40 ⁇ m or less, 0.25 ⁇ m or more and 2.00 ⁇ m or less, 0.25 ⁇ m or more and 1.8 0 ⁇ m or less, 0.25 ⁇ m or more and 1.50 ⁇ m or less, 0.25 ⁇ m or more and 1.40 ⁇ m or less, 0.50 ⁇ m or more and 2.00 ⁇ m or less, 0.50 ⁇ m or more and 1.80 ⁇ m or less, 0.50 ⁇ m or more and 1.50 ⁇ m or less
  • the element ratios of the optical film of the present disclosure obtained by analyzing the surface region on the first surface side by X-ray photoelectron spectroscopy satisfy the following formulas 2 to 4. 3.5 ⁇ F/inorganic Si ⁇ 10.0 (Formula 2) 0.08 ⁇ organic Si/inorganic Si ⁇ 1.00 (Formula 3) 5.0 ⁇ F/organic Si ⁇ 50.0 (Formula 4) [In formulas 2 to 4, "F” is the ratio of fluorine element, “inorganic Si” is the ratio of silicon element belonging to an inorganic silicon compound, and “organic Si” is the ratio of silicon element belonging to an organic silicon compound.]
  • inorganic Si can reduce the refractive index of the first side, but tends to deteriorate the fingerprint wiping property.
  • the fingerprint wiping property tends to be improved.
  • the fingerprint wiping property tends to be improved.
  • the drop contact angle can be easily set to 30.0 degrees or more, and the fingerprint wiping property can be easily improved. Furthermore, by making F/inorganic Si equal to or less than 10.0 and organic Si/inorganic Si equal to or less than 1.00, it is possible to easily suppress deterioration in the coatability of the antireflection layer.
  • F/inorganic Si organic Si/inorganic Si, and F/organic Si are as described above.
  • the range of the ratio of inorganic Si to all elements in the surface region of the first side of the optical film is as described above.
  • the optical film of the second embodiment of the present disclosure has an antireflection layer and an antiglare layer in this order from the first surface to the second surface. It is preferable that the outermost surface on the first surface side of the optical film of the second embodiment is an antireflection layer.
  • the optical film of the present disclosure may have layers other than the anti-reflection layer and the anti-glare layer.
  • the embodiments of the layers other than the anti-reflection layer and the anti-glare layer are as described above.
  • the optical film of the second embodiment preferably has a substrate for ease of production and handling.
  • the material of the substrate, the configuration of the substrate, the thickness of the substrate, the total light transmittance of the substrate, the haze of the substrate, and the embodiment of the surface treatment of the substrate are as described above.
  • the antiglare layer is a layer that plays a central role in providing antiglare properties.
  • the antiglare layer can be formed, for example, by (A) a method using an embossing roll, (B) an etching treatment, (C) molding using a mold, (D) forming a coating film by coating, etc.
  • C) molding using a mold is preferable, and (D) forming a coating film by coating is preferable in terms of productivity and compatibility with a wide variety of products.
  • the antiglare layer can be formed by pouring a resin into a mold and removing the molded resin from the mold.
  • the molded resin removed from the mold may be disposed on a substrate.
  • the mold used is one having an inverted surface shape of the antiglare layer.
  • Such a mold can be prepared, for example, by the following methods (c1-1) to (c1-2) or (c2).
  • (c1-1) A shape in which Vvv etc. are within a predetermined range is created by simulation. Furthermore, the simulated shape is inverted.
  • a mold is obtained by engraving the surface of a metal with a laser beam or processing the surface of a metal by photolithography so that the inverted shape is reflected.
  • the antiglare layer is formed by (D), for example, the following means (d1) and (d2) can be mentioned.
  • (d1) is preferable to (d2) in that the range of the surface shape such as Vvv can be easily adjusted.
  • (d1) A means for forming an antiglare layer having unevenness based on the particles by applying a coating liquid containing a binder resin and particles and drying it.
  • (d2) A method of applying a coating liquid containing a resin and a resin having poor compatibility with the resin, thereby forming unevenness by causing phase separation of the resin.
  • the antiglare layer preferably contains a resin component as a main component. Furthermore, the antiglare layer may contain other components as described above, if necessary.
  • the antiglare layer preferably contains a binder resin and particles.
  • the particles include organic particles and inorganic particles, and inorganic particles are preferred. That is, the antiglare layer preferably contains a binder resin and inorganic particles. Furthermore, the antiglare layer more preferably contains a binder resin, inorganic particles, and organic particles.
  • Irregular inorganic particles tend to increase Vvv and decrease Sal compared to spherical particles.
  • Vvv is likely to increase, and fingerprint wiping properties are likely to decrease.
  • the particle size distribution of the irregular inorganic particles is too narrow, application suitability is likely to decrease.
  • the volume-based cumulative distribution of particle sizes of the irregular inorganic particles is in the range described below.
  • inorganic particles tend to aggregate when used alone. Therefore, in the second embodiment, in order to set Vvv in the above range and to facilitate good fingerprint wiping properties, it is preferable to set the particle size distribution of the irregular particles in the range described below and to use organic particles in combination.
  • the inorganic particles such as amorphous inorganic particles have a volume-based cumulative distribution d10 of particle diameter, a volume-based cumulative distribution d50 of particle diameter, and a volume-based cumulative distribution d90 of particle diameter that satisfy the following relationships (1) and (2).
  • d10 of particle diameter a volume-based cumulative distribution d10 of particle diameter
  • d50 of particle diameter a volume-based cumulative distribution d50 of particle diameter
  • d90 of particle diameter 1.5 ⁇ d50/d10 ⁇ 4.0 (1) 1.0 ⁇ d90/d50 ⁇ 3.0
  • the d50/d10 of 1.5 or more means that the particle size distribution of the inorganic particles is wide in the region where the particle diameter is below the average. By making the d50/d10 of 1.5 or more, fine irregularities can be easily imparted to the irregular surface, so that the Sal can be easily reduced. By making the d50/d10 of 4.0 or less, the amount of inorganic particles buried in the antiglare layer can be suppressed from increasing, and the efficiency of adding inorganic particles can be improved.
  • the d90/d50 being 1.0 or more means that the particle size distribution of the inorganic particles in the region where the particle size is equal to or larger than the average is wide. By making the d90/d50 1.0 or more, it is easy to increase Vvv and make Sal large. By making the d90/d50 3.0 or less, it is easy to suppress Vvv from becoming too large and Sal from becoming too large.
  • the lower limit of d50/d10 is more preferably 1.8 or more, and even more preferably 2.0 or more, and the upper limit is more preferably 3.5 or less, and even more preferably 3.0 or less.
  • the lower limit of d90/d50 is more preferably 1.3 or more, and even more preferably 1.5 or more, and the upper limit is more preferably 2.5 or less, and even more preferably 2.0 or less.
  • the d10, d50 and d90 of inorganic particles such as amorphous inorganic particles can be measured by a laser diffraction method.
  • the inorganic particles such as amorphous inorganic particles preferably have a volume-based cumulative distribution d50 of particle diameter of 2.5 ⁇ m or more and 5.5 ⁇ m or less, more preferably 3.0 ⁇ m or more and 5.0 ⁇ m or less, and even more preferably 3.3 ⁇ m or more and 4.7 ⁇ m or less.
  • d50 2.5 ⁇ m or more the number of inorganic particles can be prevented from increasing too much, and therefore, Sal can be easily prevented from becoming too small.
  • d50 5.5 ⁇ m or less the number of inorganic particles can be prevented from decreasing too much, and therefore, Sal can be easily prevented from becoming too large.
  • Vvv can be easily increased.
  • the embodiment of the range of the ratio (d50/T) between the thickness T of the antiglare layer and the d50 of inorganic particles such as amorphous inorganic particles is as described above.
  • the embodiment of the range of the ratio (d90/T) between the thickness T of the antiglare layer and the d90 of inorganic particles such as amorphous inorganic particles is as described above.
  • the range of the content of inorganic particles such as amorphous inorganic particles is as described above.
  • the content of the organic particles is preferably 1 part by mass or more and 25 parts by mass or less, more preferably 3 parts by mass or more and 18 parts by mass or less, and even more preferably 8 parts by mass or more and 14 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the binder resin.
  • the content of the organic particles 1 part by mass or more it is possible to easily suppress the aggregation of the inorganic particles.
  • the content of the organic particles 1 part by mass or more it is possible to suppress the number of organic particles from being reduced too much, so that it is possible to easily form a valley between the particles. Therefore, it is possible to easily increase Vvv. Note that when the number of particles is reduced, Vmp tends to increase.
  • organic particles have a relatively uniform particle size distribution, an increase in the content of organic particles leads to a strong tendency for Sal to become smaller. Therefore, by setting the content of organic particles to 25 parts by mass or less, it is possible to prevent Sal from becoming too small, and to easily improve the ease of wiping off fingerprints.
  • the average particle size of the organic particles is preferably 1.0 ⁇ m or more and 5.0 ⁇ m or less, more preferably 1.2 ⁇ m or more and 3.0 ⁇ m or less, and even more preferably 1.3 ⁇ m or more and 2.5 ⁇ m or less.
  • the average particle diameter of the organic particles 5.0 ⁇ m or less, it is easy to prevent the number of organic particles from decreasing too much, and therefore, it is easy to form a valley between the particles. Therefore, it is easy to increase Vvv. Note that, when the number of particles decreases, Vmp tends to increase.
  • the organic particles preferably have a narrow particle size distribution.
  • the proportion of organic particles within the range of ⁇ 0.5 ⁇ m of the average particle size is preferably 80% by volume or more of the total amount of organic particles, more preferably 85% by volume or more, and even more preferably 90% by volume or more.
  • the embodiment of the shape of the organic particles is as described above.
  • the average particle diameter of the organic particles relative to the thickness of the antiglare layer is preferably 0.20 or more and 0.70 or less, more preferably 0.23 or more and 0.50 or less, and even more preferably 0.25 or more and 0.35 or less.
  • the antiglare layer may further contain inorganic fine particles in addition to the binder resin and particles.
  • the material and average particle size of the inorganic microparticles are as described above.
  • the binder resin in order to facilitate improving scratch resistance, preferably contains a cured product of a curable resin composition such as a cured product of a thermosetting resin composition or a cured product of an ionizing radiation curable resin composition, and more preferably contains a cured product of an ionizing radiation curable resin composition.
  • the binder resin may contain a thermoplastic resin as long as the effects of the present disclosure are not impaired.
  • the embodiments of the cured product of the curable resin composition and the binder resin such as a thermoplastic resin are as described above unless otherwise specified.
  • the ionizing radiation curable resin composition when the binder resin contains a cured product of an ionizing radiation curable resin composition, the ionizing radiation curable resin composition preferably contains a polyfunctional (meth)acrylate monomer and a polyfunctional (meth)acrylate oligomer.
  • the mass ratio of the polyfunctional (meth)acrylate monomer to the polyfunctional (meth)acrylate oligomer is preferably 5:95 to 60:40, more preferably 20:80 to 60:40, and even more preferably 40:60 to 60:40.
  • the ionizing radiation curable resin composition contains a predetermined amount of polyfunctional (meth)acrylate oligomer and a predetermined amount of polyfunctional (meth)acrylate monomer.
  • the coating liquid for the antiglare layer preferably contains a solvent to adjust the viscosity and to make each component dissolvable or dispersible.
  • the type and amount of the solvent are as described above unless otherwise specified.
  • the solvent in the antiglare layer coating liquid is preferably mainly composed of a solvent with a fast evaporation rate.
  • a solvent with a fast evaporation rate By increasing the evaporation rate of the solvent, it is possible to prevent the particles from sinking to the bottom of the antiglare layer, and furthermore, to make it easier to prevent the binder resin from flowing down between the protrusions based on the particles. This makes it easier to make Vvv equal to or greater than a predetermined value, and Sal equal to or less than a predetermined value.
  • the drying conditions can be controlled by the drying temperature and the wind speed in the dryer.
  • the drying temperature is preferably 30° C. or higher and 120° C. or lower, and the drying wind speed is preferably 0.2 m/s or higher and 50 m/s or lower.
  • the drying conditions are preferably carried out in two stages in the above temperature range and wind speed range. In addition, it is preferable to set the drying temperature and wind speed of the second stage drying higher than that of the first stage drying.
  • the drying temperature of the second stage is preferably 30° C.
  • the drying temperature is preferably 60° C. or more and 120° C. or less, and the drying wind speed is preferably 7 m/s or more and 50 m/s or less.
  • the antireflection layer is preferably located on the outermost surface on the first surface side.
  • the structure of the anti-reflection layer, the method of forming the layers that make up the anti-reflection layer, such as the low refractive index layer and the high refractive index layer, and the embodiments of the materials that form the low refractive index layer and the high refractive index layer are as described above unless otherwise specified.
  • the refractive index of the low refractive index layer, the thickness of the low refractive index layer, and the embodiment of the binder resin of the low refractive index layer are as described above.
  • the binder resin of the low refractive index layer may contain a thermoplastic resin.
  • a thermoplastic resin as the binder resin, the viscosity of the coating liquid for the low refractive index layer is increased, and the coating liquid for the low refractive index layer is less likely to flow down between the convex parts of the antiglare layer. Therefore, by containing a thermoplastic resin as the binder resin, it is easy to make Vvv equal to or greater than a predetermined value, and easy to make Sal equal to or less than a predetermined value. Furthermore, it is easy to make organic Si and fluorine remain near the surface of the first side, so that it is easy to satisfy the element ratios of formulas 2 to 4.
  • the content of the thermoplastic resin is preferably 0.1 mass % or more and 3.0 mass % or less of the total amount of the binder resin, more preferably 0.2 mass % or more and 1.5 mass % or less, and even more preferably 0.3 mass % or more and 0.7 mass % or less.
  • thermoplastic resin The type and weight average molecular weight of the thermoplastic resin are as described above.
  • the embodiments of the low refractive index particles such as hollow particles and solid particles, are as described above unless otherwise specified.
  • the embodiments of the average primary particle diameter of the hollow particles and the solid particles, and the contents of the hollow particles and the solid particles are as described above.
  • the low refractive index layer preferably contains a leveling agent containing organic Si and fluorine, so that the first surface can easily satisfy the element ratios of the above formulas 2 to 4.
  • the configuration of the leveling agent, the content of the leveling agent, and other embodiments are as described above.
  • the high refractive index layer is preferably disposed closer to the antiglare layer than the low refractive index layer.
  • the refractive index of the high refractive index layer, the thickness of the high refractive index layer, the binder resin of the high refractive index layer, the high refractive index particles, the average primary particle diameter of the high refractive index particles, and the content of the high refractive index particles are as described above.
  • the coating liquid for the anti-reflection layer When anti-reflection layers such as a low refractive index layer and a high refractive index layer are formed by a wet method, it is preferable to increase the viscosity of the coating liquid for the anti-reflection layer. By increasing the viscosity of the coating liquid for the anti-reflection layer, the coating liquid for the anti-reflection layer is less likely to flow down between the convex parts of the anti-glare layer, so that even if an anti-reflection layer is formed on the anti-glare layer, the surface shape of the anti-glare layer can be easily maintained.
  • the viscosity of the coating liquid for the anti-reflection layer can be increased by adding a thermoplastic resin as a binder resin, increasing the proportion of an oligomer as an ionizing radiation curable resin composition, or selecting a solvent with a high viscosity as a solvent.
  • the viscosity of the coating liquid for the anti-reflection layer at 23° C. is preferably 0.1 mPa ⁇ s or more and 5.0 mPa ⁇ s or less.
  • the solvent for the coating liquid for the anti-reflection layer can be the same as the solvent for the coating liquid for the anti-glare layer.
  • the drying conditions can be controlled by the drying temperature and the wind speed in the dryer.
  • the drying temperature is preferably 30° C. or more and 70° C. or less, and the drying wind speed is preferably 10 m/s or more and 30 m/s or less.
  • the coating liquid for the antireflection layer can be made less likely to flow down between the convex parts of the antiglare layer.
  • the surface shape such as Vvv of the first surface can be easily set in the above-mentioned range, and formulas 1 to 4 can be easily satisfied.
  • the irradiation with ionizing radiation is preferably carried out after the coating solution for the antireflection layer has been dried.
  • the total light reflectance R SCI measured by the following method is 3.0% or less.
  • Measurement of total light reflectance (R SCI ) A sample is prepared by attaching a black plate to the second surface side of the optical film via a transparent adhesive, and the total light reflectance (R SCI ) is measured with the optical film side of the sample as the light incident surface.
  • RSCI of the optical film is more preferably 2.5% or less, and further preferably 2.0% or less.
  • the lower limit of RSCI of the optical film is not particularly limited, but is usually 0.1% or more.
  • RSCI is the reflected light measured by applying light from all directions to the sample surface using an integrating sphere and closing the light trap corresponding to the specular reflection direction.
  • the embodiment of the RSCI measuring device and the embodiment of the sample used in measuring RSCI are as described above.
  • the optical film preferably has a total light transmittance according to JIS K7361-1:1997 within the above-mentioned range.
  • the optical film preferably has a haze according to JIS K7136:2000 within the above-mentioned range.
  • the optical film preferably has an internal haze within the above-mentioned range.
  • C0.125 , C0.25 , C0.5 , C1.0 and C2.0 are in the above-mentioned ranges. It is preferable that the total of C0.125 , C0.5 , C1.0 and C2.0 is in the above-mentioned range.
  • ⁇ Size, shape, etc.> The size of the optical film, the shape of the optical film, and the surface shape of the second surface of the optical film are as described above.
  • the manufacturing method of the optical film of the second embodiment of the present disclosure is the manufacturing method of the optical film of the present disclosure described above, and includes a first step of forming an antiglare layer on a substrate, and a second step of forming an antireflection layer on the antiglare layer.
  • Means for forming an antiglare layer on a substrate include the above-mentioned (A) method using an embossing roll, (B) etching treatment, (C) molding with a mold, and (D) formation of a coating film by coating.
  • A for example, a resin layer is formed on a substrate, and an embossing roll is used to apply a shape from the resin layer side, thereby forming an antiglare layer on the substrate.
  • method (B) for example, a layer of a photocurable resin is formed on a substrate, and then photoetched, thereby forming an antiglare layer on the substrate.
  • a resin is poured into a mold, and the molded resin is removed from the mold and placed on a substrate, thereby forming an antiglare layer on the substrate.
  • a coating film can be formed on a substrate by the above-mentioned method (d1) or (d2), thereby forming an antiglare layer on the substrate.
  • Methods for forming an anti-reflection layer on an anti-glare layer include, for example, the wet method or dry method described above.
  • a polarizing plate according to a second embodiment of the present disclosure is a polarizing plate having a polarizer, a first transparent protective plate arranged on one side of the polarizer, and a second transparent protective plate arranged on the other side of the polarizer, At least one of the first transparent protective plate and the second transparent protective plate is the optical film of the second embodiment of the present disclosure described above, and the second surface of the optical film is arranged opposite the polarizer.
  • ⁇ Polarizer> The embodiment of the polarizer is as described above.
  • a first transparent protective plate is disposed on one side of the polarizer, and a second transparent protective plate is disposed on the other side of the polarizer. At least one of the first transparent protective plate and the second transparent protective plate is the optical film according to the second embodiment of the present disclosure described above.
  • one of the first transparent protective plate and the second transparent protective plate may be the optical film of the second embodiment of the present disclosure described above, or both of the first transparent protective plate and the second transparent protective plate may be the optical film of the second embodiment of the present disclosure described above.
  • the transparent protective plate that is not the optical film of the second embodiment of the present disclosure can be a general-purpose plastic film, glass, or the like.
  • the polarizer and the transparent protective plate are preferably bonded together via an adhesive.
  • Any general-purpose adhesive can be used, with a PVA-based adhesive being preferred.
  • the face plate for an image display device of the second embodiment of the present disclosure is a face plate for an image display device having a protective film bonded to a resin plate or a glass plate, the protective film being the optical film of the second embodiment of the present disclosure described above, and the second surface of the optical film being arranged opposite the resin plate or the glass plate.
  • the embodiment of the resin plate or glass plate is as described above.
  • the image display panel of the second embodiment of the present disclosure is an image display panel having a display element and an optical film arranged on the light emission surface side of the display element, and the optical film includes the optical film of the second embodiment of the present disclosure described above (see Figure 5).
  • the optical film according to the second embodiment of the present disclosure is preferably disposed so that the second surface side faces the display element side.
  • the optical film according to the second embodiment of the present disclosure is preferably disposed on the outermost surface on the light exit surface side of a display element.
  • the embodiment of the display element and the embodiment of the size of the image display panel are as described above.
  • the embodiment of the image display panel with a touch panel is as described above.
  • the image display device according to the second embodiment of the present disclosure includes the image display panel according to the second embodiment of the present disclosure.
  • the image display device of the second embodiment of the present disclosure is not particularly limited as long as it includes the image display panel of the second embodiment of the present disclosure.
  • the image display device of the second embodiment of the present disclosure preferably includes the image display panel of the second embodiment of the present disclosure, a drive control unit electrically connected to the image display panel, and a housing that houses these.
  • the backlight embodiment and the size of the image display device are as described above.
  • the method for selecting an optical film according to the second embodiment of the present disclosure is to select an optical film that satisfies the following selection conditions.
  • Optical film selection conditions An optical film having a first surface and a second surface opposite to the first surface, the optical film has an antireflection layer and an antiglare layer in this order from the first surface to the second surface, The first surface has an uneven shape, The first surface has a valley volume Vvv defined in ISO 25178-2:2012 of 0.005 ml/ m2 or more, The drop contact angle measured by the method described below is 30.0 degrees or more.
  • ⁇ Drop contact angle measurement> A droplet having a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the first surface of the optical film. The droplet is dropped perpendicularly to the first surface. The static contact angle 10 seconds after the droplet hits the surface is measured by the ⁇ /2 method.
  • the image display panel of the present disclosure is included.
  • the method for selecting an optical film according to the second embodiment of the present disclosure may have additional selection conditions.
  • the additional selection conditions include the preferred embodiments of the optical film according to the second embodiment.
  • Examples of the additional selection conditions include the following A to D.
  • C The element ratio satisfies the following formulas 2 to 4.
  • RSCI which is the total light reflectance measured by the following method, is 3.0% or less.
  • the optical film selection method of the second embodiment of the present disclosure makes it possible to efficiently select an optical film that has excellent anti-glare properties and good fingerprint wiping properties.
  • the method for evaluating fingerprint wiping removability uses the drop contact angle value measured by the following measurement as an evaluation index.
  • ⁇ Drop contact angle measurement> A droplet with a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the surface of the measurement object. The droplet is dropped perpendicular to the surface. The static contact angle 10 seconds after the droplet hits the surface is measured by the ⁇ /2 method.
  • the disclosed method for evaluating fingerprint wiping-off properties makes it easy to evaluate the fingerprint wiping-off properties of a measurement object. Specifically, the smaller the drop contact angle value, the better the fingerprint wiping-off properties can be evaluated.
  • the present disclosure includes the following [1] to [34].
  • An optical film having a first surface and a second surface opposite to the first surface, the optical film has an antireflection layer and an antiglare layer in this order from the first surface to the second surface,
  • the first surface has an uneven shape,
  • the first surface has an arithmetic mean height Sa defined in ISO 25178-2:2012 of 0.05 ⁇ m or more,
  • the first surface of the optical film satisfies the following formula 1: Sw ⁇ Vmp ⁇ 2.00 (Formula 1)
  • Sw is the inclination angle (degrees) when a 30 ⁇ l droplet of pure water flows down on the first surface.
  • Vmp is the value of the protruding peak substantial volume (ml/m 2 ) of the first surface as defined in ISO 25178-2:2012.]
  • [2] The optical film according to [1], wherein the first surface has a Vmp of 0.005 ml/ m2 or more and 0.100 ml/ m2 or less.
  • [3] The optical film according to [1] or [2], wherein the first surface has a protruding valley portion spatial volume Vvv of 0.005 ml/m2 or more and 0.100 ml/ m2 or less, calculated based on an areal load ratio of 80% between the core portion and the protruding valley portion as defined in ISO 25178-2 :2012.
  • a polarizing plate comprising a polarizer, a first transparent protective plate disposed on one side of the polarizer, and a second transparent protective plate disposed on the other side of the polarizer, A polarizing plate, wherein at least one of the first transparent protective plate and the second transparent protective plate is the optical film described in any one of [1] to [11], and the second surface of the optical film is disposed opposite the polarizer.
  • a face plate for an image display device comprising a protective film laminated onto a resin plate or a glass plate, the protective film being the optical film according to any one of [1] to [11], and the second surface of the optical film being disposed opposite the resin plate or the glass plate.
  • An image display panel having a display element and an optical film arranged on a light exit surface side of the display element, the optical film comprising the optical film according to any one of [1] to [11].
  • An image display device comprising the image display panel according to [14].
  • a method for producing the optical film according to any one of [1] to [11] A method for producing an optical film, comprising: a first step of forming an antiglare layer on a substrate; and a second step of forming an antireflection layer on the antiglare layer.
  • a method for selecting an optical film comprising: selecting an optical film that satisfies the following selection conditions: (Optical film selection conditions) An optical film having a first surface and a second surface opposite to the first surface, the optical film has an antireflection layer and an antiglare layer in this order from the first surface to the second surface, The first surface has an uneven shape, The first surface has an arithmetic mean height Sa defined in ISO 25178-2:2012 of 0.05 ⁇ m or more, The first surface satisfies the following formula 1. Sw ⁇ Vmp ⁇ 2.00 (Formula 1) [In formula 1, "Sw” is the inclination angle (degrees) when a 30 ⁇ l droplet of pure water flows down on the first surface. In formula 1, "Vmp” is the value of the protruding peak substantial volume (ml/m 2 ) of the first surface as defined in ISO 25178-2:2012.]
  • the first surface has an uneven shape
  • the first surface has a valley volume Vvv defined in ISO 25178-2:2012 of 0.005 ml/ m2 or more
  • a droplet having a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the first surface of the optical film. The droplet is dropped perpendicularly to the first surface.
  • the static contact angle 10 seconds after the droplet is landed is measured by the ⁇ /2 method.
  • a polarizing plate comprising a polarizer, a first transparent protective plate arranged on one side of the polarizer, and a second transparent protective plate arranged on the other side of the polarizer, At least one of the first transparent protective plate and the second transparent protective plate is the optical film according to any one of [18] to [27], and the second surface of the optical film is disposed opposite the polarizer.
  • a face plate for an image display device comprising a protective film laminated onto a resin plate or a glass plate, the protective film being the optical film according to any one of [18] to [27], and the second surface of the optical film being disposed opposite the resin plate or the glass plate.
  • An image display panel having a display element and an optical film arranged on a light exit surface side of the display element, the optical film comprising the optical film according to any one of [18] to [27].
  • An image display device comprising the image display panel according to [30].
  • a method for producing the optical film according to [18] A method for producing an optical film, comprising: a first step of forming an antiglare layer on a substrate; and a second step of forming an antireflection layer on the antiglare layer.
  • a method for selecting an optical film comprising the steps of: selecting an optical film that satisfies the following selection conditions: (Optical film selection conditions) An optical film having a first surface and a second surface opposite to the first surface, the optical film has an antireflection layer and an antiglare layer in this order from the first surface to the second surface, The first surface has an uneven shape, The first surface has a valley volume Vvv defined in ISO 25178-2:2012 of 0.005 ml/ m2 or more, The drop contact angle measured by the method described below is 30.0 degrees or more. ⁇ Drop contact angle measurement> A droplet having a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the first surface of the optical film.
  • the droplet is dropped perpendicularly to the first surface.
  • the static contact angle 10 seconds after the droplet is landed is measured by the ⁇ /2 method.
  • a method for evaluating fingerprint wiping removability, using the drop contact angle measured by the following method as an evaluation index. ⁇ Drop contact angle measurement> A droplet with a surface tension of 30 mN/m is dropped from a height of 45 mm onto the surface of the measurement object. The droplet is dropped perpendicular to the surface. The static contact angle 10 seconds after the droplet hits the surface is measured by the ⁇ /2 method.
  • Sample 1-1 Measurement of surface shape
  • the optical films of the examples and comparative examples were cut to 10 cm x 10 cm.
  • the cut locations were selected from random locations after visually checking for any abnormalities such as dust or scratches.
  • Sample 1 was produced by bonding the substrate side of the cut optical film to a glass plate (thickness 2.0 mm) measuring 10 cm long x 10 cm wide via an optically transparent adhesive sheet (product name: Panaclean PD-S1, thickness 25 ⁇ m) made by Panac Corporation.
  • sample 1 was set so as to be fixed and in close contact with the measurement stage, and then measurement and analysis were performed on the surface shape of the first surface of each sample under the following measurement condition 1, image processing condition 1, and analysis condition 1.
  • the measurement and analysis software used was a multi-file analysis application (version 1.3.1.120).
  • Measurement Condition 1 Laser wavelength: 408 nm
  • Measurement optical system Confocal optical system Objective lens: 150x Zoom: 1x Measurement area: 93.95 ⁇ m x 70.44 ⁇ m Number of measurement points: 1024 x 768 points
  • Measurement conditions Transparent object surface shape / High accuracy / Double scan
  • the analysis software displayed "Sa,” “Vmp,” “Vvv,” “Vvc,” “Sal,” and “Sxp” for each measurement area, and these were used as the measured values.
  • a contact angle meter (DM-300, Kyowa Interface Science Co., Ltd.), 1.0 ⁇ L of pure water was dropped onto the surface of the first side of each sample, and the static contact angle 10 seconds after the drop landed was measured according to the ⁇ /2 method.
  • a syringe with a needle coated with fluororesin was used.
  • the measuring device used was a contact angle meter (DropMaster series product number "DMo-701" from Kyowa Interface Science Co., Ltd., with "SA-301" as an accessory).
  • Element ratio Measurement pieces were cut out from the optical films of the examples and comparative examples. Using an X-ray photoelectron spectrometer, the X-ray photoelectron spectrum of the C1s orbital, O1s orbital, Si2p orbital, and F1s orbital of the surface region on the first side of each measurement piece was measured under the conditions described below. Peak separation was performed for each X-ray photoelectron spectrum to determine the ratio of F element, Si element, etc. In addition, the ratio of Si element (inorganic Si) belonging to the inorganic silicon compound and Si element (organic Si) belonging to the organic silicon compound was determined from the X-ray photoelectron spectrum of the Si2p orbital.
  • Total light reflectance The optical films of the examples and comparative examples were cut into pieces of 10 cm x 10 cm. The cut locations were selected randomly after visually checking for any abnormalities such as dust or scratches. The material side was attached to a black board measuring 10 cm long x 10 cm wide (Kuraray Co., Ltd., product name: Comoglass DFA2CG 502K (black) series, Sample 2 was prepared by bonding the two sheets of paper together to a thickness of 2 mm. The total light reflectance (R SCI ) was measured from the first surface side of Sample 2 using an integrating sphere spectrophotometer (manufactured by Konica Minolta, Inc., product name: CM-2002). is D65, the receiver position is +8 degrees relative to the normal to the sample, the receiver aperture angle is 10 degrees, the light trap position is -8 degrees relative to the normal to the sample, and the field of view is The angle was 2 degrees.
  • CM-2002 integrating sphere spectrophotometer
  • Haze (Hz) The optical films of the examples and comparative examples were cut into 10 cm squares. The cut locations were randomly selected after visually checking for any abnormalities such as dust or scratches.
  • the haze of each sample was measured according to JIS K7136:2000 using a haze meter (HM-150, manufactured by Murakami Color Research Laboratory).
  • the power switch of the device was turned on and the device was left on for 15 minutes or more in order to allow the light source to stabilize, and calibration was performed without setting anything in the entrance opening, after which the measurement sample was set in the entrance opening and measurement was performed.
  • the light incident surface was set on the substrate side.
  • the optical films of the examples and comparative examples all had a total light transmittance of 90% or more.
  • Blackness Sample 2 prepared in 1-4 was used as the sample. The sample was observed in the same manner as in 1-4, except that the observer's line of sight was changed to about 160 cm from the floor. Twenty subjects evaluated the display based on the following evaluation points. The twenty subjects were five people from each age group, from their 20s to their 50s. The average score of the twenty subjects was calculated and ranked according to the following criteria. The higher the ranking of the following criteria, the better the blackness of the black display area.
  • Sample 2 prepared in 1-4 was placed on a horizontal table with a height of 70 cm with the uneven surface facing up. The sample was placed so that it was almost directly under the illumination light. The sample was observed from the front (however, the observer was made to not block the illumination light), and the reflection of the illumination light on the uneven surface was evaluated according to the following evaluation criteria.
  • the lighting was a Hf32-type straight tube three-wavelength neutral white fluorescent lamp, and the lighting position was 2 m above the horizontal table in the vertical direction.
  • the illuminance on the uneven surface of the sample was evaluated in the range of 500 lux to 1000 lux.
  • the observer's line of sight was about 120 cm from the floor.
  • Fingerprint wiping ability 0.1 ml of the following artificial dirt was soaked into a cloth.
  • the soaking time was 10 seconds.
  • the cloth used was "Kimtowel Wiper" (trade name) manufactured by Nippon Paper Crecia Co., Ltd.
  • the artificial dirt soaked into the rag was transferred to the surface of the rubber at a load of 300 g/ cm2 .
  • the shape of the rubber was a cylinder with a diameter of 12 mm.
  • the transfer time was 5 seconds.
  • the artificial dirt transferred to the surface of the rubber was transferred to the first surface of Sample 2 at a load of 300 g/ cm2 .
  • the transfer time was 5 seconds.
  • the L * value, a * value, and b * value of the total light reflection SCI of the area where the artificial dirt was transferred were measured from the first surface side of Sample 2.
  • the obtained L * value, a * value, and b * value are designated as L1, a1, and b1.
  • the black plate side of Sample 2 to which the artificial dirt had been transferred was attached to the base of a Gakushin abrasion tester (manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd., product name "AB-301").
  • the color difference ( ⁇ E) was calculated by the following formula, and the color difference value was ranked according to the following criteria: The higher the rank of the following criteria, the better the fingerprint wiping property.
  • ⁇ E ⁇ (L1 - L2) 2 + (a1 - a2) 2 + (b1 - b2) 2 ⁇ 1/2 ⁇ Artificial dirt> A liquid containing approximately 45% by mass of oleic acid, approximately 25% by mass of triolein, approximately 20% by mass of cholesterol oleate, approximately 4% by mass of liquid paraffin, approximately 4% by mass of squalene, and approximately 2% by mass of cholesterol (artificial plaque manufactured by Isekyusha (compliant with contaminated liquid JIS C9606:2007)).
  • Example 1-1 The following antiglare layer coating solution 1-1 was applied onto a substrate (a triacetyl cellulose resin film having a thickness of 80 ⁇ m, manufactured by Fujifilm Corporation). The substrate was then dried at 50° C. and a wind speed of 2 m/s for 40 seconds, and further dried at 70° C. and a wind speed of 15 m/s for 45 seconds. The substrate was then irradiated with ultraviolet light in a nitrogen atmosphere having an oxygen concentration of 200 ppm or less, so that the accumulated light amount was 50 mJ/ cm2 , to form an antiglare layer having a thickness of 5.5 ⁇ m.
  • a substrate a triacetyl cellulose resin film having a thickness of 80 ⁇ m, manufactured by Fujifilm Corporation.
  • the substrate was then dried at 50° C. and a wind speed of 2 m/s for 40 seconds, and further dried at 70° C. and a wind speed of 15 m/s for 45 seconds.
  • the substrate was then irradiated with ultraviolet light
  • the following low refractive index layer coating solution 1-1 was applied onto the antiglare layer. Then, it was dried at 40°C and a wind speed of 20 m/s for 15 seconds, and further dried at 70°C and a wind speed of 15 m/s for 30 seconds. Next, it was irradiated with ultraviolet light in a nitrogen atmosphere with an oxygen concentration of 200 ppm or less so that the integrated light amount was 150 mJ/ cm2 , forming a low refractive index layer with a thickness of 0.10 ⁇ m, and an optical film of Example 1-1 was obtained. The refractive index of the low refractive index layer was 1.31.
  • Examples 1-2, 1-3, 1-5, and 1-6 Optical films of Examples 1-2, 1-3, 1-5, and 1-6 were obtained in the same manner as in Example 1-1, except that the antiglare layer coating solution 1-1 was changed to the following antiglare layer coating solutions 1-2 to 1-5.
  • Examples 1 to 4 An optical film of Example 1-4 was obtained in the same manner as in Example 1-1, except that the antiglare layer coating solution 1-1 was changed to the following antiglare layer coating solution 1-2, and the low refractive index layer coating solution 1-1 was changed to the following low refractive index layer coating solution 1-2.
  • Example 1-7 An optical film of Example 1-7 was obtained in the same manner as in Example 1-1, except that the antiglare layer coating solution 1-1 was changed to the following antiglare layer coating solution 1-6 and the thickness of the antiglare layer was set to 4.8 ⁇ m.
  • Example 1-8 An optical film of Example 1-8 was obtained in the same manner as in Example 1-1, except that the antiglare layer coating solution 1-1 was changed to the following antiglare layer coating solution 1-2 and the low refractive index layer coating solution 1-1 was changed to the following low refractive index layer coating solution 1-3.
  • the refractive index of the low refractive index layer was 1.36.
  • Comparative Example 1-1 An optical film of Comparative Example 1-1 was obtained in the same manner as in Example 1-1, except that the low refractive index layer coating solution 1-1 was changed to the following low refractive index layer coating solution 1-4.
  • Comparative Examples 1-2 to 1-3 Optical films of Comparative Examples 1-2 to 1-3 were obtained in the same manner as in Comparative Example 1-1, except that the antiglare layer coating solution 1-1 was changed to the following antiglare layer coating solutions 1-2 to 1-3.
  • Comparative Examples 1 to 4 An optical film of Comparative Example 1-4 was obtained in the same manner as in Example 1-1, except that the antiglare layer coating solution 1-1 was changed to the following antiglare layer coating solution 1-7 and the thickness of the antiglare layer was set to 5.0 ⁇ m.
  • Urethane acrylate A 30 parts (Mitsubishi Chemical Corporation, product name: U-1700B: molecular weight 2,000, functional group number 10) Urethane acrylate B 10 parts (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product name: U-15HA: molecular weight 2,300, number of functional groups 15) Pentaerythritol triacrylate 60 parts (Toagosei Co., Ltd., product name: M-305)
  • Silica particles 3 parts surface-treated amorphous silica, d10: 1.0 ⁇ m, d50: 3.0 ⁇ m, d90: 4.8 ⁇ m)
  • Organic particles B 0.5 parts (spherical polyacrylic-styrene copolymer, average particle size 1.5 ⁇ m, refractive index 1.595)
  • Photopolymerization initiator 5.0 parts (IGM Resins B.V., product name: Omnirad 184) Photopolymerization initiator 1.0 part (IGM Resins B.
  • Example and Comparative Example of Second Embodiment 3 Measurement and Evaluation The optical films of the Examples and Comparative Examples were measured and evaluated as follows. The atmosphere during each measurement and evaluation was a temperature of 23 ⁇ 5° C. and a relative humidity of 40% to 65%. Before each measurement and evaluation, the target sample was exposed to the atmosphere for 30 minutes to 60 minutes before the measurement and evaluation. The results are shown in Tables 3 and 4.
  • a contact angle meter (model number: DM-300, Kyowa Interface Science Co., Ltd.) was used as the measuring device.
  • ⁇ Liquid composition> A liquid containing 100% by mass of ethylene glycol monoethyl ether (Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, product number: Mixture for wetting tension test No. 30)
  • Total light reflectance (R SCI ) The total light reflectance (R SCI ) of the optical films of the examples and comparative examples was measured by the same method as in 1-4 above.
  • Example 2-1 The following antiglare layer coating solution 2-1 was applied onto a substrate (a triacetyl cellulose resin film having a thickness of 80 ⁇ m, manufactured by Fujifilm Corporation). The substrate was then dried at 50° C. and a wind speed of 2 m/s for 40 seconds, and further dried at 70° C. and a wind speed of 15 m/s for 45 seconds. The substrate was then irradiated with ultraviolet light in a nitrogen atmosphere having an oxygen concentration of 200 ppm or less, so that the integrated light amount was 50 mJ/ cm2 , to form an antiglare layer having a thickness of 5.5 ⁇ m.
  • a substrate a triacetyl cellulose resin film having a thickness of 80 ⁇ m, manufactured by Fujifilm Corporation.
  • the substrate was then dried at 50° C. and a wind speed of 2 m/s for 40 seconds, and further dried at 70° C. and a wind speed of 15 m/s for 45 seconds.
  • the substrate was then irradiated with ultraviolet light in
  • the following low refractive index layer coating solution 2-1 was applied onto the antiglare layer. Then, it was dried at 40°C and a wind speed of 20 m/s for 15 seconds, and further dried at 70°C and a wind speed of 15 m/s for 30 seconds. Next, it was irradiated with ultraviolet light so that the integrated light amount was 150 mJ/ cm2 in a nitrogen atmosphere with an oxygen concentration of 200 ppm or less, to form a low refractive index layer with a thickness of 0.10 ⁇ m, and an optical film of Example 2-1 was obtained.
  • the refractive index of the low refractive index layer was 1.31.
  • Urethane acrylate A 30 parts (Mitsubishi Chemical Corporation, product name: U-1700B: molecular weight 2,000, functional group number 10) Urethane acrylate B 10 parts (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product name: U-15HA: molecular weight 2,300, number of functional groups 15) Pentaerythritol triacrylate 60 parts (Toagosei Co., Ltd., product name: M-305)
  • Silica particles 23 parts surface-treated amorphous silica, d10: 1.2 ⁇ m, d50: 3.7 ⁇ m, d90: 6.2 ⁇ m)
  • Organic particles B 8 parts (spherical polyacrylic-styrene copolymer, average particle size 1.5 ⁇ m, refractive index 1.595)
  • Photopolymerization initiator 5.0 parts (IGM Resins B.V., product name: Omnirad 184) Photopolymerization initiator 1.0 part (IGM
  • Example 2-2, 2-3, 2-5, and 2-6 Optical films of Examples 2-2, 2-3, 2-5, and 2-6 were obtained in the same manner as in Example 2-1, except that the antiglare layer coating solution 2-1 was changed to the following antiglare layer coating solutions 2-2 to 2-5.
  • Example 2-4 An optical film of Example 2-4 was obtained in the same manner as in Example 2-1, except that the antiglare layer coating solution 2-1 was changed to the following antiglare layer coating solution 2-2, and the low refractive index layer coating solution 2-1 was changed to the following low refractive index layer coating solution 2-2.
  • Example 2-7 An optical film of Example 2-7 was obtained in the same manner as in Example 2-1, except that the antiglare layer coating solution 2-1 was changed to the following antiglare layer coating solution 2-6 and the thickness of the antiglare layer was set to 4.8 ⁇ m.
  • Example 2-8 An optical film of Example 2-8 was obtained in the same manner as in Example 2-1, except that the antiglare layer coating solution 2-1 was changed to the following antiglare layer coating solution 2-2 and the low refractive index layer coating solution 2-1 was changed to the following low refractive index layer coating solution 2-3.
  • the refractive index of the low refractive index layer was 1.36.
  • Comparative Example 2-1 An optical film of Comparative Example 2-1 was obtained in the same manner as in Example 2-1, except that the low refractive index layer coating solution 2-1 was changed to the following low refractive index layer coating solution 2-4.
  • Comparative Examples 2-2 to 2-3 Optical films of Comparative Examples 2-2 to 2-3 were obtained in the same manner as in Comparative Example 2-1, except that the antiglare layer coating solution 2-1 was changed to the following antiglare layer coating solutions 2-2 to 2-3.
  • Comparative Example 2-4 An optical film of Comparative Example 2-4 was obtained in the same manner as in Example 2-1, except that the antiglare layer coating solution 2-1 was changed to the following antiglare layer coating solution 2-7 and the thickness of the antiglare layer was set to 5.0 ⁇ m.
  • Urethane acrylate A 30 parts (Mitsubishi Chemical Corporation, product name: U-1700B: molecular weight 2,000, functional group number 10) Urethane acrylate B 10 parts (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product name: U-15HA: molecular weight 2,300, number of functional groups 15) Pentaerythritol triacrylate 60 parts (Toagosei Co., Ltd., product name: M-305)
  • Organic particles B 10 parts (spherical polyacrylic-styrene copolymer, average particle size 1.5 ⁇ m, refractive index 1.595)
  • Photopolymerization initiator 5.0 parts (IGM Resins B.V., product name: Omnirad 184) Photopolymerization initiator 1.0 part (IGM Resins B.
  • Urethane acrylate A 30 parts (Mitsubishi Chemical Corporation, product name: U-1700B: molecular weight 2,000, functional group number 10) Urethane acrylate B 10 parts (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product name: U-15HA: molecular weight 2,300, number of functional groups 15) Pentaerythritol triacrylate 60 parts (Toagosei Co., Ltd., product name: M-305)
  • Silica particles 3 parts surface-treated amorphous silica, d10: 0.08, d50: 2.8 ⁇ m, d90: 4.5 ⁇ m)
  • Organic particles B 0.5 parts (spherical polyacrylic-styrene copolymer, average particle size 1.5 ⁇ m, refractive index 1.595)
  • Photopolymerization initiator 5.0 parts (IGM Resins B.V., product name: Omnirad 184) Photopolymerization initiator 1.0 part (IGM Resin
  • Substrate 20 Antiglare layer 30: Antireflection layer 100:
  • Optical film 110 Display element 120: Image display panel 200: Horizontal surface 300: Plane of base 400: Liquid droplet

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Abstract

防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な光学フィルムを提供する。　第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、前記第１面は凹凸形状を有し、前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、前記第１面が下記式１を満たす、光学フィルム。　Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００　（式１） ［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］

Description

光学フィルム、並びに、前記光学フィルムを用いた偏光板、表面板、画像表示パネル及び画像表示装置、並びに、前記光学フィルムの製造方法、並びに、光学フィルムの選定方法、並びに、指紋拭き取り性の評価方法
　本開示は、光学フィルム、並びに、前記光学フィルムを用いた偏光板、表面板、画像表示パネル及び画像表示装置、並びに、前記光学フィルムの製造方法、並びに、光学フィルムの選定方法、並びに、指紋拭き取り性の評価方法に関する。
　テレビ、ノートＰＣ、デスクトップＰＣのモニター等の画像表示装置の表面には、照明及び人物等の背景の映り込みを抑制したり、表面の反射を抑制したりするために、光学フィルムが設置される場合がある。
　光学フィルムとしては、例えば、特許文献１～３等が提案されている。
国際公開第２０１９／０２６４６６号 国際公開第２０１９／０２６４７１号 特開２０１９－８５４７３号公報
　特許文献１～２の光学フィルムは、表面に凹凸が形成された防眩層を有する防眩フィルムである。表面に凹凸形状を有する光学フィルムは、凹凸形状に指紋が入り込むことにより、指紋拭き取り性が低下する傾向がある。防眩フィルムは、防眩性を良好にするほど指紋拭き取り性が低下する傾向が高くなる。特許文献１～２の光学フィルムは、防汚性について何ら検討していない。
　特許文献３の光学フィルムは、オレイン酸の滑落角が３２°以下であるコートフィルムである。特許文献３のコートフィルムは、指紋を拭き取りやすくすることを課題としているが、指紋拭き取り性が良好とはいえないものであった。
　光学フィルムに付着した指紋が十分に拭き取られない場合、指紋成分を有する箇所と、指紋成分を有さない箇所との光学特性のコントラストにより、光学フィルムの見栄えが低下してしまう。特に、反射防止層を有する光学フィルムの場合、指紋成分を有する箇所と、指紋成分を有さない箇所との反射率のコントラストが大きくなり、光学フィルムの見栄えが大きく低下してしまう。
　本開示は、表面に凹凸形状を有し、かつ、表面に反射防止層を有する光学フィルムにおいて、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な光学フィルムを提供することを課題とする。本開示は、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な偏光板、表面板、画像表示パネル及び画像表示装置を提供することを課題とする。本開示は、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な光学フィルムの製造方法を提供することを課題とする。本開示は、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な光学フィルムの選定方法を提供することを課題とする。本開示は、指紋拭き取り性を簡易に評価し得る評価方法を提供することを課題とする。
　本開示は、以下の［１］～［１５］を提供する。
［１］　第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
　前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
　前記第１面は凹凸形状を有し、
　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、
　前記第１面が下記式１を満たす、光学フィルム。
　Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００　（式１）
　［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
［２］　偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第一の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第二の透明保護板とを有する偏光板であって、
　前記第一の透明保護板及び前記第二の透明保護板の少なくとも一方が、［１］に記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記偏光子とが対向して配置された、偏光板。
［３］　樹脂板又はガラス板上に保護フィルムを貼り合わせた画像表示装置用の表面板であって、前記保護フィルムが［１］に記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記樹脂板又は前記ガラス板とが対向して配置された、画像表示装置用の表面板。
［４］　表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムを有する画像表示パネルであって、前記光学フィルムとして［１］に記載の光学フィルムを含む、画像表示パネル。
［５］　［４］に記載の画像表示パネルを含む、画像表示装置。
［６］　［１］に記載の光学フィルムの製造方法であって、
　基材上に防眩層を形成する第１の工程と、前記防眩層上に反射防止層を形成する第２の工程とを有する、光学フィルム製造方法。
［７］　下記の選定条件を満たす光学フィルムを選定する、光学フィルムの選定方法。
（光学フィルムの選定条件）
　第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
　前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
　前記第１面は凹凸形状を有し、
　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、
　前記第１面が下記式１を満たす。
　Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００　（式１）
　［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
［８］　第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面を有する光学フィルムであって、
　前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
　前記第１面は凹凸形状を有し、
　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される突出谷部空間体積であるＶｖｖが０．００５ｍｌ／ｍ２以上であり、
　下記の手法により測定される落下式接触角が３０．０度以上である、光学フィルム。
＜落下式接触角の測定＞
　前記光学フィルムの前記第１面に対して、表面張力が３０ｍＮ／ｍの液滴を４５ｍｍの高さから落下させる。前記液滴は、前記第１面の垂直方向から落下させる。着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法により測定する。
［９］　偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第一の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第二の透明保護板とを有する偏光板であって、
　前記第一の透明保護板及び前記第二の透明保護板の少なくとも一方が、［８］に記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記偏光子とが対向して配置された、偏光板。
［１０］　樹脂板又はガラス板上に保護フィルムを貼り合わせた画像表示装置用の表面板であって、前記保護フィルムが［８］に記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記樹脂板又は前記ガラス板とが対向して配置された、画像表示装置用の表面板。
［１１］　表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムを有する画像表示パネルであって、前記光学フィルムとして［８］に記載の光学フィルムを含む、画像表示パネル。
［１２］　［１１］に記載の画像表示パネルを含む、画像表示装置。
［１３］　［８］に記載の光学フィルムの製造方法であって、
　基材上に防眩層を形成する第１の工程と、前記防眩層上に反射防止層を形成する第２の工程とを有する、光学フィルム製造方法。
［１４］　下記の選定条件を満たす光学フィルムを選定する、光学フィルムの選定方法。
（光学フィルムの選定条件）
　第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
　前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
　前記第１面は凹凸形状を有し、
　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される突出谷部空間体積であるＶｖｖが０．００５ｍｌ／ｍ２以上であり、
　下記の手法により測定される落下式接触角が３０．０度以上である。
＜落下式接触角の測定＞
　前記光学フィルムの前記第１面に対して、表面張力が３０ｍＮ／ｍの液滴を４５ｍｍの高さから落下させる。前記液滴は、前記第１面の垂直方向から落下させる。着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法により測定する。
［１５］　下記の測定により測定した落下式接触角の値を評価指標とする、指紋拭き取り性の評価方法。
＜落下式接触角の測定＞
　測定対象物の表面に対して、表面張力が３０ｍＮ／ｍの液滴を４５ｍｍの高さから落下させる。前記液滴は、前記表面の垂直方向から落下させる。着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法により測定する。
　本開示の光学フィルム、偏光板、表面板、画像表示パネル及び画像表示装置は、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性を良好にすることができる。本開示の光学フィルムの製造方法は、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な光学フィルムを、簡易に製造することができる。本開示の光学フィルムの選定方法は、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な光学フィルムを、効率よく選定することができる。本開示の指紋拭き取り性の評価方法は、測定対象物の指紋拭き取り性を簡易に評価することができる。
本開示の光学フィルムの一実施形態を示す概略断面図である。 本開示の画像表示パネルの一実施形態を示す断面図である。 純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）を説明するための図である。 本開示の光学フィルムの一実施形態を示す概略断面図である。 本開示の画像表示パネルの一実施形態を示す断面図である。
　以下、本開示の実施形態を説明する。
［第１実施形態の光学フィルム］
　本開示の第１実施形態の光学フィルムは、以下のものである。
　第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
　前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
　前記第１面は凹凸形状を有し、
　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、
　前記第１面が下記式１を満たす、光学フィルム。
　Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００　（式１）
　［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
　図１は、本開示の第１実施形態の光学フィルム１００の断面形状の概略断面図である。
　図１の光学フィルム１００は、凹凸形状を有する第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面を有している。図１では、上側の面が第１面、下側の面が第２面である。
　図１の光学フィルムは、第１面から第２面に向けて、反射防止層３０、防眩層２０及び基材１０をこの順に有している。
　図１は模式的な断面図である。すなわち、光学フィルム１００を構成する各層の縮尺、及び凹凸形状の縮尺は、図示しやすくするために模式化したものであり、実際の縮尺とは相違している。図２及び３も同様である。
　本開示の第１実施形態の光学フィルムは、図１の積層構成に限定されない。例えば、本開示の第１実施形態の光学フィルムは、基材を有さない積層構成であってもよい。本開示の第１実施形態の光学フィルムは、基材、防眩層及び反射防止層以外の層を有するものであってもよい。
＜第１面＞
　本開示の第１実施形態の光学フィルムは第１面を有する。本開示の第１実施形態の光学フィルムは、反射防止層の表面が第１面であることが好ましい。
　第１実施形態の光学フィルムの第１面は、凹凸形状を有し、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上である。第１面が凹凸形状を有さない場合、光学フィルムの防眩性を良好にすることができない。第１面が凹凸形状を有し、かつ、Ｓａを０．０５μｍ以上とすることにより、光学フィルムの防眩性を良好にしやすくできる。
　第１実施形態の第１面は、Ｓａが０．１０μｍ以上であることが好ましく、０．２０μｍ以上であることがより好ましく、０．３０μｍ以上であることがさらに好ましい。
　第１面のＳａが大きすぎると、光学フィルムの耐擦傷性が低下する場合がある。このため、第１面のＳａは、０．８０μｍ以下であることが好ましく、０．６０μｍ以下であることがより好ましく、０．４５μｍ以下であることがさらに好ましい。
　第１面のＳａの範囲の実施形態は、０．０５μｍ以上０．８０μｍ以下、０．０５μｍ以上０．６０μｍ以下、０．０５μｍ以上０．４５μｍ以下、０．１０μｍ以上０．８０μｍ以下、０．１０μｍ以上０．６０μｍ以下、０．１０μｍ以上０．４５μｍ以下、０．２０μｍ以上０．８０μｍ以下、０．２０μｍ以上０．６０μｍ以下、０．２０μｍ以上０．４５μｍ以下、０．３０μｍ以上０．８０μｍ以下、０．３０μｍ以上０．６０μｍ以下、０．３０μｍ以上０．４５μｍ以下が挙げられる。
　第１実施形態の光学フィルムの第１面は、下記式１を満たす。
　Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００　（式１）
　［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
　第１実施形態において、第１面のＳｗ×Ｖｍｐの値を２．００以上とすることにより、指紋拭き取り性を良好にしやすくできる。Ｓｗ×Ｖｍｐと、指紋拭き取り性との関係を以下に説明する。
　Ｓｗは、第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。本明細書において、「３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）」のことを「純水降下傾斜角」と称する場合がある。指紋には多くの水分が含まれている。このため、第１面のＳｗが小さいほど、第１面と指紋との付着性が弱くなり、指紋を除去しやすくなる傾向がある。しかし、第１面のＳｗを小さくするだけでは、指紋拭き取り性を良好にできない場合があった。特に、光学フィルムの防眩性を良好にした場合、第１面のＳｗを小さくするだけでは、指紋拭き取り性を良好にすることは困難であった。
　Ｖｍｐは、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）である。Ｖｍｐは、コア部よりも高さの高い突出した部分の体積を示すパラメータである。コア部は、凹凸形状の中で、平均的な高さを有する部分に相当する。Ｖｍｐが大きいほど、コア部よりも突出した部分の体積が大きいことを意味している。本明細書において、「コア部よりも突出した部分」のことを、「突出した凸部」と称する場合がある。ＳａとＶｍｐとは必ずしも相関しないが、防眩性を良好にするためにＳａを大きくすると、Ｖｍｐが大きくなる傾向がある。そして、Ｖｍｐが大きくなると、突出した凸部の間に指紋が入り込みやすくなるため、指紋拭き取り性が低下しやすくなる。突出した凸部の間に指紋が入り込むことを抑制するために、第１面のＶｍｐを小さくすると、光学フィルムの防眩性を良好にしにくくなる。また、第１面のＶｍｐを小さくするだけでは、光学フィルムの指紋拭き取り性を良好にすることは困難である。
　上記のように、Ｓｗのみを調整すること、及び、Ｖｍｐのみを調整することでは、防眩性を有する光学フィルムの指紋拭き取り性を良好にすることは困難であった。そこで、本開示の第１実施形態の光学フィルムは、Ｓｗ×Ｖｍｐを２．００以下とすることで、指紋拭き取り性を良好にしている。Ｓｗ×Ｖｍｐが２．００以下であることは、Ｓｗ及びＶｍｐが極端に大きくなく、かつ、Ｓｗ及びＶｍｐの少なくとも何れかが小さいことを意味している。このため、Ｓｗ×Ｖｍｐを２．００以下とすることで、光学フィルムの指紋拭き取り性を良好にすることができる。
　第１実施形態において、Ｓｗ×Ｖｍｐは、１．６０以下であることが好ましく、１．４０以下であることがより好ましく、１．２０以下であることがさらに好ましい。
　Ｓｗ×Ｖｍｐが小さ過ぎることは、Ｓｗ及びＶｍｐの少なくとも何れかが小さ過ぎることを意味する。Ｓｗが小さ過ぎる場合、反射防止層中のフッ素系化合物及びシリコーン系化合物の含有量が増加し、光学フィルムの耐擦傷性が低下しやすくなる。Ｖｍｐが小さ過ぎる場合、Ｓａが小さくなり防眩性が低下しやすくなる。このため、Ｓｗ×Ｖｍｐは、０．１５以上であることが好ましく、０．２５以上であることがより好ましく、０．４０以上であることがより好ましく、０．６０以上であることがより好ましい。
　第１実施形態において、第１面のＳｗ×Ｖｍｐの範囲の実施形態は、０．１５以上２．００以下、０．１５以上１．６０以下、０．１５以上１．４０以下、０．１５以上１．２０以下、０．２５以上２．００以下、０．２５以上１．６０以下、０．２５以上１．４０以下、０．２５以上１．２０以下、０．４０以上２．００以下、０．４０以上１．６０以下、０．４０以上１．４０以下、０．４０以上１．２０以下、０．６０以上２．００以下、０．６０以上１．６０以下、０．６０以上１．４０以下、０．６０以上１．２０以下が挙げられる。
　第１実施形態において、第１面のＳｗは、Ｓｗ×Ｖｍｐを１．６０以下にしやすくするため、６５（度）以下であることが好ましく、４０（度）以下であることがより好ましく、３０（度）以下であることがさらに好ましい。
　第１実施形態において、第１面のＳｗは、光学フィルムの耐擦傷性の低下を抑制するため、１０（度）以上であることが好ましく、１３（度）以上であることがより好ましく、１７（度）以上であることがより好ましい。
　第１実施形態において、第１面のＳｗの範囲の実施形態は、１０度以上６５度以下、１０度以上４０度以下、１０度以上３０度以下、１３度以上６５度以下、１３度以上４０度以下、１３度以上３０度以下、１７度以上６５度以下、１７度以上４０度以下、１７度以上３０度以下が挙げられる。
　本開示の第１実施形態の光学フィルムは、第１面の純水接触角が１００度以上１２０度以下であることが好ましく、１１０度以上１１５度以下であることがより好ましい。
　本明細書において、純水接触角は、第１面側の表面に純水を１．０μＬ滴下し、着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法に従って計測する。
　第１実施形態において、第１面のＶｍｐは、Ｓｗ×Ｖｍｐを１．６０以下にしやすくするため、０．１００（ｍｌ／ｍ２）以下であることが好ましく、０．０８０（ｍｌ／ｍ２）以下であることがより好ましく、０．０６０（ｍｌ／ｍ２）以下であることがより好ましく、０．０４５（ｍｌ／ｍ２）以下であることがより好ましい。
　第１実施形態において、第１面のＶｍｐは、防眩性を良好にしやすくするため、０．００５（ｍｌ／ｍ２）以上であることが好ましく、０．００７（ｍｌ／ｍ２）以上であることがより好ましく、０．０１０（ｍｌ／ｍ２）以上であることがより好ましく、０．０２０（ｍｌ／ｍ２）以上であることがより好ましい。
　第１面のＶｍｐの範囲の実施形態は、０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下、０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．０８０ｍｌ／ｍ２以下、０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．０６０ｍｌ／ｍ２以下、０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．０４５ｍｌ／ｍ２以下、０．００７ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下、０．００７ｍｌ／ｍ２以上０．０８０ｍｌ／ｍ２以下、０．００７ｍｌ／ｍ２以上０．０６０ｍｌ／ｍ２以下、０．００７ｍｌ／ｍ２以上０．０４５ｍｌ／ｍ２以下、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上０．０８０ｍｌ／ｍ２以下、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上０．０６０ｍｌ／ｍ２以下、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上０．０４５ｍｌ／ｍ２以下、０．０２０ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下、０．０２０ｍｌ／ｍ２以上０．０８０ｍｌ／ｍ２以下、０．０２０ｍｌ／ｍ２以上０．０６０ｍｌ／ｍ２以下、０．０２０ｍｌ／ｍ２以上０．０４５ｍｌ／ｍ２以下が挙げられる。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　本明細書において、光学フィルムの「純水降下傾斜角」は、下記（１）～（３）の手順で測定する。下記（１）～（３）の手順の測定は、例えば、協和界面科学社の「DropMaster」シリーズの品番「DMo-701」を用いて、付属品として「SA-301」を用いることにより測定できる。
　純水は、汎用の純水を用いることができる。純水は、一般的には、比抵抗値が０．１ＭΩ・ｃｍ以上１５ＭΩ・ｃｍ以下である。
（１）光学フィルムから２ｃｍ×８ｃｍの大きさのサンプルを切り出す。サンプルの第２面側に両面テープを貼り付け、両面テープを介して、サンプルと、傾斜角が０度の水平な台とを固定する。両面テープの大きさは、長さ８ｃｍ以上、幅５ｍｍとする。サンプルと台とを固定する際には、サンプルに皺が生じないようにするとともに、サンプルと台との間に気泡が入らないようにする。
（２）サンプルの第１面に３０μｌの純水を滴下する。
（３）サンプルを設置した台を２°／１秒の速度で徐々に傾斜させる。液滴の先端が０．２８３５ｍｍ以上動いた時に、液滴が流れ落ちたと判定する。液滴が流れ落ちた時の台の角度を、「純水降下傾斜角」とする。「台の角度」は、水平面と台の平面との成す角を意味する。
　図３は、純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）を説明するための図である。図３の「θ」は、台の角度に相当する。図３において、符号２００は水平面、符号３００は台の平面、符号４００は液滴を示す。図３では、台の平面３００と、液液４００との間に位置する光学フィルムを省略している。
　本明細書において、Ｖｍｐ、Ｖｖｃ及びＶｖｖは、コア部と突出山部を分離する負荷面積率を１０％、コア部と突出谷部を分離する負荷面積率を８０％、として算出したものである。
　本明細書において、後述するＳｘｐは、負荷面積率２．５％の高さと、負荷面積率５０％の高さとの差分を意味する。
　「本明細書において、ｘｘｘ。」との記載は、特に断りのない限り、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載を意味する。例えば、上記のＶｍｐ等の定義は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　本明細書において、Ｓａ、Ｖｍｐ、Ｖｖｖ、Ｖｖｃ、Ｓｘｐ及びＳａｌ等の表面形状は、共焦点レーザー顕微鏡を用いて測定する。共焦点レーザー顕微鏡としては、キーエンス社の「ＶＫ－Ｘ」シリーズ等が挙げられる。また、前述の「ＶＫ－Ｘ」シリーズの「マルチファイル解析アプリケーション」を用いることにより、Ｓａ、Ｖｍｐ、Ｖｖｖ、Ｖｖｃ、Ｓｘｐ及びＳａｌを簡易に算出することができる。
　前述の「ＶＫ－Ｘ」シリーズを用いて、Ｓａ、Ｖｍｐ、Ｖｖｖ、Ｖｖｃ、Ｓｘｐ及びＳａｌを測定する際の測定条件は、実施例に記載の条件に従うことが好ましい。例えば、Ｆ－オペレーションは平面傾き補正（領域指定）とすることが好ましい。測定領域は１辺が５０μｍ以上２００μｍ以下の長方形が好ましく、測定点は１辺あたりで５００点以上２０００点以下であることが好ましい。
　本明細書において、表面形状（Ｓａ、Ｖｍｐ、Ｖｖｖ、Ｖｖｃ、Ｓｘｐ及びＳａｌ）、角度（純水降下傾斜角、純水接触角及び落下式接触角）、元素比率（Ｆ／無機Ｓｉ、有機Ｓｉ／無機Ｓｉ、Ｆ／有機Ｓｉ等）、光学物性（ＲＳＣＩ、ヘイズ、全光線透過率、透過像鮮明度等）は、特に断りのない限り、１６箇所の測定値から最大値及び最小値を除いた１４の測定値の平均値を意味する。
　本明細書において、１６の測定箇所は、測定サンプルの外縁から１ｃｍの領域を余白として除き、残りの領域に関して、縦方向及び横方向を５等分する線を引いた際の、交点の１６箇所を測定の中心とする。例えば、測定サンプルが長方形の場合、長方形の外縁から０．５ｃｍの領域を余白として除き、残りの領域を縦方向及び横方向に５等分した点線の交点の１６箇所を中心として測定を行う。そして、１６箇所の測定値から最大値及び最小値を除いた１４の測定値の平均値を、パラメータの値とする。測定サンプルが円形、楕円形、三角形、五角形等の長方形以外の形状の場合、これら形状に内接する長方形を描き、前記長方形に関して、上記手法により１６箇所の測定を行う。
　本明細書において、表面形状（Ｓａ、Ｖｍｐ、Ｖｖｖ、Ｖｖｃ、Ｓｘｐ及びＳａｌ）、角度（純水降下傾斜角、純水接触角及び落下式接触角）、表面張力、元素比率（Ｆ／無機Ｓｉ、有機Ｓｉ／無機Ｓｉ、Ｆ／有機Ｓｉ等）、光学物性（ＲＳＣＩ、ヘイズ、全光線透過率、透過像鮮明度等）は、特に断りのない限り、温度２３±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下で測定したものとする。また、各測定の開始前に、対象サンプルを前記雰囲気に３０分以上６０分以下晒してから測定を行うものとする。
　本開示の第１実施形態の光学フィルムは、第１面のＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される突出谷部空間体積であるＶｖｖが０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下であることが好ましい。Ｖｖｖは、コア部よりも深さの深い突出した部分の体積を示すパラメータである。Ｖｖｖを０．００５ｍｌ／ｍ２以上とすることにより、防眩性をより良好にしやすくできる。Ｖｖｖを０．１００ｍｌ／ｍ２以下とすることにより、指紋拭き取り性をより良好にしやすくできる。
　Ｖｖｖの下限は、０．００７ｍｌ／ｍ２以上であることがより好ましく、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上であることがさらに好ましい。Ｖｖｖの上限は、０．０８０ｍｌ／ｍ２以下であることがより好ましく、０．０６０ｍｌ／ｍ２以下であることがさらに好ましい。
　第１面のＶｖｖの範囲の実施形態は、０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下、０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．０８０ｍｌ／ｍ２以下、０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．０６０ｍｌ／ｍ２以下、０．００７ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下、０．００７ｍｌ／ｍ２以上０．０８０ｍｌ／ｍ２以下、０．００７ｍｌ／ｍ２以上０．０６０ｍｌ／ｍ２以下、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上０．０８０ｍｌ／ｍ２以下、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上０．０６０ｍｌ／ｍ２以下が挙げられる。
　第１実施形態において、本開示の光学フィルムの第１面は、Ｖｖｖと、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定されるコア部空間体積であるＶｖｃとの比（Ｖｖｖ／Ｖｖｃ）が、０．１０以下であることが好ましい。Ｖｖｖ／Ｖｖｃを０．１０以下とすることにより、指紋拭き取り性をより良好にしやすくできる。Ｖｖｖ／Ｖｖｃは、０．０９以下であることがより好ましく、０．０８以下であることがさらに好ましい。
　第１実施形態において、本開示の光学フィルムの第１面は、Ｖｍｐと、Ｖｖｃとの比（Ｖｍｐ／Ｖｖｃ）が、０．１０以下であることが好ましい。Ｖｍｐ／Ｖｖｃを０．１０以下とすることにより、指紋拭き取り性をより良好にしやすくできる。Ｖｖｖ／Ｖｖｃは、０．０９以下であることがより好ましく、０．０８以下であることがさらに好ましい。
　第１実施形態において、本開示の光学フィルムの第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される最小自己相関長さであるＳａｌが４．０μｍ以上１２．０μｍ以下であることが好ましい。
　Ｓａｌは、横方向に着目したパラメータである。Ｓａｌが小さいほど、第１面は、凹凸が密集している形状を有し、Ｓａｌが大きいほど、第１面は、凹凸の間隔が広い形状を有している。ＪＩＳ　Ｂ０６０１に規定される「粗さ曲線要素の平均長ＲＳｍ」の値には、微細な凹凸は殆ど影響せず、大きな凹凸のみが影響する。一方、Ｓａｌの値には、大きな凹凸が影響するだけではなく、微細な凹凸も影響する点で、ＲＳｍと相違している。また、凹凸の間隔が広くても、凸部が小さかったり、凹凸形状が複雑であったりすると、Ｓａｌは小さくなる傾向がある。また、凸部が単調な形状であると、Ｓａｌが大きくなる傾向がある。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　Ｓａｌを４．０μｍ以上とすることにより、指紋拭き取り性をより良好にしやすくできる。Ｓａｌを１２．０μｍ以下とすることにより、防眩性をより良好にしやすくできる。
　Ｓａｌの下限は、５．０μｍ以上であることがより好ましく、６．０μｍ以上であることがさらに好ましい。Ｓａｌの上限は、１１．０μｍ以下であることがより好ましく、１０．０μｍ以下であることがさらに好ましい。
　第１面のＳａｌの範囲の実施形態は、４．０μｍ以上１２．０μｍ以下、４．０μｍ以上１１．０μｍ以下、４．０μｍ以上１０．０μｍ以下、５．０μｍ以上１２．０μｍ以下、５．０μｍ以上１１．０μｍ以下、５．０μｍ以上１０．０μｍ以下、６．０μｍ以上１２．０μｍ以下、６．０μｍ以上１１．０μｍ以下、６．０μｍ以上１０．０μｍ以下が挙げられる。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　第１実施形態において、本開示の光学フィルムは、第１面側の表面領域をＸ線光電子分光法により分析して得られる元素比率が、下記の式２～４を満たすことが好ましい。
　３．５≦Ｆ／無機Ｓｉ≦１０．０　（式２）
　０．０８≦有機Ｓｉ／無機Ｓｉ≦１．００　（式３）
　５．０≦Ｆ／有機Ｓｉ≦５０．０　（式４）
［式２～４中、「Ｆ」はフッ素元素の比率であり、「無機Ｓｉ」は無機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率であり、「有機Ｓｉ」は有機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率である。］
　本明細書において、「第１面側の表面領域」とは、第１面側の表面から深さ１０ｎｍまでの領域を表す。本明細書において、「Ｘ線光電子分光法」のことを、「ＸＰＳ」と称する場合がある。本明細書において、第１面側の表面領域の元素比率は、実施例に記載の手法により測定できる。
　光学フィルムの第１面の表面領域の無機Ｓｉは、主にシリカ粒子に由来する。光学フィルムの第１面の表面領域の有機Ｓｉ及びＦは、主にレベリング剤に由来する。
　Ｓｉ２ｐ軌道のＸ線光電子スペクトルから、無機成分と有機成分とをピーク分離することにより、無機Ｓｉと有機Ｓｉとを分けることができる。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　光学フィルムの第１面の表面領域において、無機Ｓｉは、第１面の屈折率を低くすることができる一方で、指紋拭き取り性を悪化させる傾向がある。また、光学フィルムの第１面の表面領域において、無機Ｓｉに対して有機Ｓｉ及びＦを所定量以上含むことにより、指紋拭き取り性を良好にする傾向がある。さらに、光学フィルムの第１面の表面領域において、有機ＳｉとＦとをバランスよく含むことにより、指紋拭き取り性を良好にする傾向がある。したがって、Ｆ／無機Ｓｉを３．５以上、かつ、有機Ｓｉ／無機Ｓｉを０．０８以上、かつ、Ｆ／有機Ｓｉを５．０以上５０．０以下とすることにより、Ｓｗを小さくしやすくでき、式１を満たしやすくできる。
　また、Ｆ／無機Ｓｉを１０．０以下、かつ、有機Ｓｉ／無機Ｓｉを１．００以下とすることにより、反射防止層の塗工性の低下を抑制しやすくできる。
　Ｆ／無機Ｓｉは、下限が４．０以上であることがより好ましく、４．５以上であることがさらに好ましく、上限が９．０以下であることがより好ましく、８．０以下であることがさらに好ましい。
　有機Ｓｉ／無機Ｓｉは、下限が０．１０以上であることがより好ましく、０．１５以上であることがさらに好ましく、上限が０．８０以下であることがより好ましく、０．５０以下であることがさらに好ましい。
　Ｆ／有機Ｓｉは、下限が１０．０以上であることがより好ましく、１５．０以上であることがさらに好ましく、２２．０以上であることがよりさらに好ましく、上限が４０．０以下であることがより好ましく、３５．０以下であることがさらに好ましい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　Ｆ／無機Ｓｉの範囲の実施形態は、３．５以上１０．０以下、３．５以上９．０以下、３．５以上８．０以下、４．０以上１０．０以下、４．０以上９．０以下、４．０以上８．０以下、４．５以上１０．０以下、４．５以上９．０以下、４．５以上８．０以下が挙げられる。
　有機Ｓｉ／無機Ｓｉの範囲の実施形態は、０．０８以上１．００以下、０．０８以上０．８０以下、０．０８以上０．５０以下、０．１０以上１．００以下、０．１０以上０．８０以下、０．１０以上０．５０以下、０．１５以上１．００以下、０．１５以上０．８０以下、０．１５以上０．５０以下が挙げられる。
　Ｆ／有機Ｓｉの範囲の実施形態は、５．０以上５０．０以下、５．０以上４０．０以下、５．０以上３５．０以下、１０．０以上５０．０以下、１０．０以上４０．０以下、１０．０以上３５．０以下、１５．０以上５０．０以下、１５．０以上４０．０以下、１５．０以上３５．０以下、２２．０以上５０．０以下、２２．０以上４０．０以下、２２．０以上３５．０以下が挙げられる。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　本開示の光学フィルムは、第１面側の表面領域をＸ線光電子分光法により分析して得られる元素比率に関して、全元素に対する無機Ｓｉの割合が２原子％以上２０原子％以下であることが好ましい。全元素に対する無機Ｓｉの割合を２原子％以上とすることにより、第１面の屈折率を低くしやすくできるため、光学フィルムの反射防止性を良好にしやすくできる。無機Ｓｉの割合を２０原子％以下とすることにより、Ｆ／無機Ｓｉを３．５以上、かつ、有機Ｓｉ／無機Ｓｉを０．０８以上にしやすくできる。
　全元素に対する無機Ｓｉの割合は、下限が３原子％以上であることがより好ましく、４原子％以上であることがさらに好ましく、上限が１５原子％以下であることがより好ましく、１２原子％以下であることがさらに好ましい。
　全元素に対する無機Ｓｉの割合の範囲の実施形態は、２原子％以上２０原子％以下、２原子％以上１５原子％以下、２原子％以上１２原子％以下、３原子％以上２０原子％以下、３原子％以上１５原子％以下、３原子％以上１２原子％以下、４原子％以上２０原子％以下、４原子％以上１５原子％以下、４原子％以上１２原子％以下が挙げられる。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
＜積層構成＞
　本開示の第１実施形態の光学フィルムは、第１面から第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有する。第１実施形態の光学フィルムの第１面側の最表面は反射防止層であることが好ましい。
　本開示の光学フィルムは、反射防止層及び防眩層以外の層を有していてもよい。反射防止層及び防眩層以外の層としては、基材、帯電防止層、接着剤層等が挙げられる。
　本開示の光学フィルムは、第１面から第２面に向けて、反射防止層、防眩層及び基材をこの順に有することが好ましい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
《基材》
　第１実施形態の光学フィルムは、製造の容易性、及び、取り扱い性のため、基材を有することが好ましい。
　基材としては、光透過性、平滑性及び耐熱性を備え、さらに機械的強度に優れたものが好ましい。このような基材としては、ポリエステル、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン及び非晶質オレフィン（Ｃｙｃｌｏ－Ｏｌｅｆｉｎ－Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）等のプラスチックフィルムが挙げられる。基材は、２枚以上のプラスチックフィルムを貼り合わせたものであってもよい。
　プラスチックフィルムの中でも、機械的強度及び寸法安定性のため、延伸加工されたポリエステルフィルムが好ましく、二軸延伸加工されたポリエステルフィルムがより好ましい。ポリエステルフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等が挙げられる。ＴＡＣフィルム、アクリルフィルムは、光透過性及び光学的等方性を良好にしやすいため好適である。ＣＯＰフィルム、ポリエステルフィルムは耐候性に優れるため好適である。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　基材の厚みは、５μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以上２００μｍ以下であることがより好ましく、３０μｍ以上１２０μｍ以下であることがさらに好ましい。
　光学フィルムを薄膜化したい場合は、基材の厚みの好ましい上限は１００μｍ以下であり、より好ましい上限は８０μｍ以下である。また、基材がポリエステル、ＣＯＰ、アクリル等の低透湿性基材の場合には、薄膜化のための基材の厚さの好ましい上限は６０μｍ以下であり、より好ましい上限は４０μｍ以下である。大画面の場合であっても、基材の厚みの上限が前述した範囲であれば、歪みを生じにくくさせることができる点でも好適である。
　本明細書において、基材の厚みは、膜厚測定器で測定する。膜厚測定器としては、ミツトヨ社のデジマチック標準外側マイクロメーター（品番：ＭＤＣ－２５ＳＸ）等が挙げられる。基材の厚みは、任意の１０点を測定した平均値が上記数値であればよい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　基材は、ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１：１９９７の全光線透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、８５％以上であることがさらに好ましい。
　基材は、ＪＩＳ　Ｋ７１３６：２０００のヘイズが１０％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましく、３％以下であることがさらに好ましい。
　基材の表面には、接着性向上のために、コロナ放電処理等の物理的な処理を施したり、化学的な処理を施したりしてもよい。また、基材は、表面に易接着層を有するものであってもよい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
《防眩層》
　第１実施形態において、防眩層は、防眩性の中心を担う層である。
　第１実施形態において、防眩層は、例えば、（Ａ）エンボスロールを用いた方法、（Ｂ）エッチング処理、（Ｃ）型による成型、（Ｄ）塗布による塗膜の形成等により形成できる。安定した表面形状を得やすくするためには（Ｃ）の型による成型が好適であり、生産性及び多品種対応のためには（Ｄ）の塗布による塗膜の形成が好適である。
　（Ｃ）の手段では、例えば、型に樹脂を流し込み、成形した樹脂を型から取り出すことにより、防眩層を形成することができる。型から取り出した成形した樹脂は、基材上に配置してもよい。型は、防眩層の表面形状を反転した型を用いる。このような型は、例えば、下記の（ｃ１-１）～（ｃ１-２）、あるいは、下記の（ｃ２）の手法で作製することができる。
（ｃ１-１）Ｓａ及びＶｍｐ等が所定の範囲となる形状をシミュレーションで作成する。さらに、シミュレーションした形状を反転する。
（ｃ１－２）反転した形状が反映されるように、金属の表面をレーザー光で彫刻したり、金属の表面をフォトリソグラフィにより加工したりすることにより、型を得る。
（ｃ２）汎用の電気鋳造法により、（Ｄ）で作製した防眩層の形状を反転した型を得る。
　（Ｄ）により防眩層を形成する場合、例えば、下記の（ｄ１）及び（ｄ２）の手段が挙げられる。（ｄ１）は、（ｄ２）よりもＳａ及びＶｍｐ等の表面形状の範囲を調整しやすい点で好ましい。
（ｄ１）バインダー樹脂及び粒子を含む塗布液を塗布、乾燥し、粒子に基づく凹凸を有する防眩層を形成する手段。
（ｄ２）任意の樹脂と、前記樹脂と相溶性の悪い樹脂を含む塗布液を塗布して、樹脂を相分離させて凹凸を形成する手段。
－厚み－
　防眩層の厚みＴは、カール抑制、機械的強度、硬度及び靭性とのバランスのため、２．０μｍ以上１０．０μｍ以下であることが好ましく、３．０μｍ以上８．０μｍ以下であることがより好ましく、４．０μｍ以上６．０μｍ以下であることがさらに好ましい。
　本明細書において、防眩層の厚みは、例えば、走査型透過電子顕微鏡による光学フィルムの断面写真の任意の箇所を２０点選び、その平均値により算出できる。ＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ以上３０ｋＶ以下、ＳＴＥＭの倍率は１０００倍以上７０００倍以下とすることが好ましい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
－成分－
　防眩層は、主として樹脂成分を含むことが好ましい。さらに、防眩層は、必要に応じて、有機粒子及び無機粒子等の粒子；ナノメートル単位の微粒子；屈折率調整剤、帯電防止剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、粘度調整剤及び熱重合開始剤等の添加剤；等のその他の成分を含んでもよい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　防眩層は、バインダー樹脂及び粒子を含むことが好ましい。
　粒子は有機粒子及び無機粒子が挙げられ、無機粒子が好ましい。すなわち、防眩層は、バインダー樹脂及び無機粒子を含むことが好ましい。また、防眩層は、バインダー樹脂、無機粒子及び有機粒子を含むことがより好ましい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
―粒子―
　無機粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びチタニア等が挙げられ、シリカが好ましい。無機粒子の中でも、不定形無機粒子が好ましく、不定形シリカがより好ましい。
　有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル－スチレン共重合体、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ベンゾグアナミン－メラミン－ホルムアルデヒド縮合物、シリコーン、フッ素系樹脂及びポリエステル系樹脂等から選ばれる１種以上の樹脂を含む粒子が挙げられる。
　不定形無機粒子とは、大粒径の無機粒子を粉砕した後、分級して得られた特定の形状を持たない無機粒子のことを意味する。
　粒子としては、無機粒子を含むことが好ましい。また、粒子として、不定形無機粒子を含むことがより好ましく、不定形無機粒子及び有機粒子を含むことがさらに好ましい。不定形無機粒子としては、不定形シリカが好ましい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　不定形無機粒子は、球形の粒子に比べて、Ｓａを大きくしやすく、Ｓａｌを小さくしやすい傾向がある。しかし、不定形無機粒子の粒子径分布が広すぎると、Ｖｍｐが大きくなりやすくなるため、式１を満たしにくくなる。特に、不定形無機粒子が凝集すると、Ｖｍｐはより大きくなり、式１をより満たしにくくなる。一方、不定形無機粒子の粒子径分布が狭すぎると、塗布適性が低下しやすい。このため、不定形無機粒子は、粒子径の体積基準の累積分布が後述する範囲であることが好ましい。しかし、無機粒子は単独で使用すると凝集しやすい。したがって、第１実施形態において、Ｓａ及び式１を満たしやすくするためには、不定形粒子の粒子径分布を後述する範囲として、かつ、有機粒子を併用することが好ましい。
　第１実施形態において、不定形無機粒子等の無機粒子は、粒子径の体積基準の累積分布ｄ１０と、粒子径の体積基準の累積分布ｄ５０と、粒子径の体積基準の累積分布ｄ９０とが、下記（１）及び（２）の関係を満たす、ことが好ましい。
　１．５≦ｄ５０／ｄ１０≦４．０　（１）
　１．０≦ｄ９０／ｄ５０≦３．０　（２）
　ｄ５０／ｄ１０が１．５以上であることは、粒子径が平均以下の領域における無機粒子の粒度分布が広いことを意味している。ｄ５０／ｄ１０を１．５以上とすることにより、凹凸表面に細かい凹凸が付与されやすくなるため、Ｓａｌを小さくしやすくできる。ｄ５０／ｄ１０を４．０以下とすることにより、防眩層に埋没する無機粒子の量が増えることを抑制し、無機粒子の添加効率を上げることができる。
　ｄ９０／ｄ５０が１．０以上であることは、粒子径が平均以上の領域における無機粒子の粒度分布が広いことを意味している。ｄ９０／ｄ５０を１．０以上とすることにより、Ｖｍｐを大きくしやすく、かつ、Ｓａｌを大きくしやすくできる。ｄ９０／ｄ５０を３．０以下とすることにより、Ｖｍｐが大きくなり過ぎること、及び、Ｓａｌが大きくなり過ぎることを抑制しやすくできる。
　ｄ５０／ｄ１０は、下限は２．０以上であることより好ましく、２．３以上であることがさらに好ましく、上限は３．５以下であることより好ましく、３．２以下であることがさらに好ましい。
　ｄ９０／ｄ５０は、下限は１．３以上であることより好ましく、１．５以上であることがさらに好ましく、上限は２．５以下であることより好ましく、２．０以下であることがさらに好ましい。
　本明細書において、不定形無機粒子等の無機粒子のｄ１０、ｄ５０及びｄ９０は、レーザー回折法により測定する。
　第１実施形態において、不定形無機粒子等の無機粒子は、粒子径の体積基準の累積分布ｄ５０が、２．５μｍ以上５．５μｍ以下であることが好ましく、３．０μｍ以上５．０μｍ以下であることがより好ましく、３．３μｍ以上４．７μｍ以下であることがさらに好ましい。
　ｄ５０を２．５μｍ以上とすることにより、無機粒子の個数が増え過ぎることを抑制できるため、Ｓａｌが小さくなり過ぎることを抑制しやすくできる。ｄ５０を５．５μｍ以下とすることにより、無機粒子の個数が減り過ぎることを抑制できるため、Ｓａｌが大きくなり過ぎることを抑制しやすくできる。
　防眩層の厚みＴと、不定形無機粒子等の無機粒子のｄ５０とは、ｄ５０／Ｔが０．５５以上１．００以下であることが好ましく、０．６０以上０．９５以下であることがより好ましく、０．７０以上０．９０以下であることがさらに好ましい。
　ｄ５０／Ｔを０．５５以上とすることにより、Ｓａｌを小さくしやすくできる。ｄ５０／Ｔを１．００以下とすることにより、Ｓａｌを大きくしやすくできる。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　防眩層の厚みＴと、不定形無機粒子等の無機粒子のｄ９０とは、ｄ９０／Ｔが１．００以上１．５０以下であることが好ましく、１．０８以上１．４５以下であることがより好ましく、１．２０以上１．４０以下であることがさらに好ましい。
　ｄ９０／Ｔを１．００以上とすることにより、Ｖｍｐを大きくしやすくできる。ｄ９０／Ｔを１．５０以下とすることにより、Ｖｍｐを小さくしやすくできる。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　不定形無機粒子等の無機粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して、８質量部以上４０質量部以下であることが好ましく、１２質量部以上３０質量部以下であることがより好ましく、１５質量部以上２８質量部以下であることがさらに好ましい。
　不定形無機粒子等の無機粒子の含有量を８質量部以上とすることにより、無機粒子の個数が減り過ぎることを抑制できるため、無機粒子が緻密に配置され、無機粒子の間に谷が形成される。このため、Ｖｖｖが所定の値以上となり、さらに、Ｓａｌが大きくなり過ぎないため、防眩性を良好にしやすくできる。
　不定形無機粒子等の無機粒子の含有量を４０質量部以下とすることにより、無機粒子の個数が増え過ぎることを抑制できるため、Ｓａｌが小さくなり過ぎることを抑制しやすくできる。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　第１実施形態において、有機粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して、１質量部以上２５質量部以下であることが好ましく、３量部以上１８質量部以下であることがより好ましく、８質量部以上１４質量部以下であることがさらに好ましい。
　有機粒子の含有量を１質量部以上とすることにより、無機粒子の凝集を抑制しやすくできる。また、有機粒子の含有量を１質量部以上とすることにより、有機粒子の個数が減り過ぎることを抑制できるため、Ｖｍｐが大きくなり過ぎることを抑制しやすくできる。
　有機粒子は粒子径分布が比較的均一であるため、有機粒子の含有量が増加すると、Ｓａｌが小さくなる傾向が強くなる。このため、有機粒子の含有量を２５質量部以下とすることにより、Ｓａｌが小さくなり過ぎることを抑制し、指紋拭き取り性を良好にしやすくできる。
　第１実施形態において、有機粒子の平均粒子径は、１．０μｍ以上５．０μｍ以下であることが好ましく、１．２μｍ以上３．０μｍ以下であることがより好ましく、１．３μｍ以上２．５μｍ以下であることがさらに好ましい。
　有機粒子の平均粒子径を１．０μｍ以上とすることにより、有機粒子の個数が増え過ぎることを抑制できるため、Ｓａｌが小さくなり過ぎることを抑制しやすくできる。このため、有機粒子の平均粒子径を１．０μｍ以上とすることにより、指紋拭き取り性を良好にしやすくできる。有機粒子の平均粒子径を５．０μｍ以下とすることにより、有機粒子の個数が減り過ぎることを抑制できるため、Ｖｍｐが大きくなり過ぎることを抑制しやすくできる。
　本明細書において、有機粒子の平均粒子径は、レーザー回折法における体積平均値ｄ５０として求められる値を意味する。
　第１実施形態において、有機粒子は、粒度分布が狭いものが好ましい。具体的には、第１実施形態において、有機粒子は、平均粒子径の±０．５μｍの範囲内の粒子の割合が、有機粒子の全量の８０体積％以上であることが好ましく、８５体積％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。不定形無機粒子等の無機粒子の粒度分布を広くする一方で、有機粒子の粒度分布を狭くすることで、Ｖｍｐを小さくして式１を満たしやすくできる。
　有機粒子の形状としては、球状、円盤状、ラグビーボール状、不定形等が挙げられる。これらの形状の中でも、粒度分布を制御しやすいため、球状の有機粒子が好ましい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　第１実施形態において、防眩層の厚みに対する有機粒子の平均粒子径（有機粒子の平均粒子径／防眩層の厚み）は、０．２０以上０．７０以下であることが好ましく、０．２３以上０．５０以下であることがより好ましく、０．２５以上０．３５以下であることがさらに好ましい。有機粒子の平均粒子径／防眩層の厚みを前記範囲とすることにより、Ｖｍｐ、Ｓａ及びＳａｌを上述した範囲にしやすくできる。
―無機微粒子―
　防眩層は、バインダー樹脂及び粒子に加えて、さらに無機微粒子を含んでいてもよい。本明細書において、無機微粒子と上述した粒子とは、平均粒子径で区別できる。
　防眩層が無機微粒子を含むことにより、粒子の屈折率と、防眩層の粒子以外の組成物の屈折率との差が小さくなり、内部ヘイズを小さくしやすくできる。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びチタニア等からなる微粒子が挙げられる。これらの中でも、内部ヘイズの発生を抑制しやすいシリカが好適である。
　無機微粒子の平均粒子径は、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、２ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることがより好ましく、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
―バインダー樹脂―
　バインダー樹脂は、耐擦傷性を良好にしやすくするため、熱硬化性樹脂組成物の硬化物又は電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物等の硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましく、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがより好ましい。
　バインダー樹脂は、本開示の効果を阻害しない範囲で、熱可塑性樹脂を含んでいてもよい。
　バインダー樹脂の全量に対する硬化性樹脂組成物の硬化物の割合は、耐擦傷性を良好にしやすくするため、８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましく、１００質量％であることがさらに好ましい。
　熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。
　熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物（以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう）を含む組成物である。
　電離放射線硬化性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する、多官能（メタ）アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能（メタ）アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
　本明細書において、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味する。電離放射線は、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　多官能（メタ）アクリレート系化合物のうち、２官能（メタ）アクリレート系モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡテトラエトキシジアクリレート、ビスフェノールＡテトラプロポキシジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート等が挙げられる。
　３官能以上の（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　上記（メタ）アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよい。例えば、上記（メタ）アクリレート系モノマーは、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等により、分子骨格の一部を変性したものも使用することができる。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　多官能（メタ）アクリレート系オリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等のアクリレート系重合体等が挙げられる。
　ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
　好ましいエポキシ（メタ）アクリレートは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、及び２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートである。
　多官能（メタ）アクリレート系オリゴマーの重量平均分子量は、５００以上３０００以下であることが好ましく、７００以上２５００以下であることがより好ましい。
　本明細書において、重量平均分子量は、ＧＰＣ分析によって測定され、かつ標準ポリスチレンで換算された平均分子量である。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　防眩層塗布液の粘度を調整するなどの目的で、電離放射線硬化性化合物として、単官能（メタ）アクリレートを併用してもよい。単官能（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート及びイソボルニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　上記電離放射線硬化性化合物は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　電離放射線硬化性化合物が紫外線硬化性化合物である場合には、電離放射線硬化性組成物は、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
　光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α－ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α－アシルオキシムエステル、チオキサントン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
　光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものである。促進剤としては、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等が挙げられる。
本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。　
　第１実施形態において、バインダー樹脂が電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含む場合、電離放射線硬化性樹脂組成物は、多官能（メタ）アクリレートモノマー及び多官能（メタ）アクリレートオリゴマーを含むことが好ましい。
　第１実施形態において、多官能（メタ）アクリレートモノマーと多官能（メタ）アクリレートオリゴマーとの質量比は、５：９５～６０：４０であることが好ましく、２０：８０～６０：４０であることがより好ましく、４０：６０～６０：４０であることがさらに好ましい。
　多官能（メタ）アクリレートモノマーを所定の割合以上とすることにより、防眩層の耐擦傷性を良好にしやすくできる。
　多官能（メタ）アクリレートオリゴマーを所定の割合以上とすることにより、防眩層用塗布液の粘度を高め、防眩層の下方に粒子が沈むことを抑制しやすくできるとともに、粒子に基づく凸部の間にバインダー樹脂が流れ落ちることを抑制しやすくできる。このため、Ｓａ及びＶｖｖを所定の値以上にしやすく、かつＳａｌを所定の値以下にしやすくできる。一方、多官能（メタ）アクリレートオリゴマーの割合が多くなり過ぎると、防眩層の強度が低下する場合がある。また、防眩層用塗布液の粘度が高すぎると、Ｖｍｐが大きくなり過ぎたり、Ｓａｌが小さくなり過ぎたりする場合がある。このため、電離放射線硬化性樹脂組成物は、所定量の多官能（メタ）アクリレートオリゴマーと、所定量の多官能（メタ）アクリレートモノマーとを含むことが好ましい。
―溶剤、乾燥条件―
　防眩層塗布液は、粘度を調節したり、各成分を溶解または分散可能としたりするために溶剤を含むことが好ましい。溶剤の種類によって、塗布、乾燥した後の防眩層の表面形状が異なるため、溶剤の飽和蒸気圧、基材への溶剤の浸透性等を考慮して溶剤を選定することが好ましい。
　具体的には、溶剤は、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、アルコール類（イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、グリコールエーテル類（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合物であってもよい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　第１実施形態において、防眩層塗布液中の溶剤は、蒸発速度が速い溶剤を主成分とすることが好ましい。溶剤の蒸発速度を速くすることにより、粒子が防眩層の下部に沈むことを抑制し、さらには、粒子に基づく凸部の間にバインダー樹脂が流れ落ちることを抑制しやすくできる。このため、Ｓａ及びＶｖｖを所定の値以上にしやすく、かつＳａｌを所定の値以下にしやすくできる。
　主成分とは、溶剤の全量の５０質量％以上であることを意味し、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上、さらに好ましくは９７質量％以上である。
　本明細書において、蒸発速度が速い溶剤は、酢酸ブチルの蒸発速度を１００とした際に、蒸発速度が１００以上の溶剤を意味する。蒸発速度が速い溶剤の蒸発速度は、１２０以上３００以下であることがより好ましく、１５０以上２２０以下であることがさらに好ましい。
　蒸発速度が速い溶剤としては、例えば、メチルイソブチルケトン（蒸発速度１６０）、トルエン（蒸発速度２００）、メチルエチルケトン（蒸発速度３７０）が挙げられる。
　一方、蒸発速度が１００未満の蒸発速度が遅い溶剤としては、シクロヘキサノン（蒸発速度３２）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（蒸発速度４４）が挙げられる。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　第１実施形態において、防眩層塗布液から防眩層を形成する際には、乾燥条件を制御することが好ましい。
　乾燥条件は、乾燥温度及び乾燥機内の風速により制御することができる。乾燥温度は３０℃以上１２０℃以下が好ましく、乾燥風速は０．２ｍ／ｓ以上５０ｍ／ｓ以下が好ましい。また、乾燥により防眩層の表面形状を制御するために、電離放射線の照射は塗布液の乾燥後に行うことが好適である。
　乾燥条件は、上記の温度範囲及び風速範囲において、２段階の乾燥を実施することが好ましい。そして、１段階目の乾燥に比べて、２段階目の乾燥を、乾燥温度を高温として、かつ、風速を強くすることが好ましい。１段階目にゆっくり乾燥させることで、不定形無機粒子の表面をバインダー樹脂が覆った際に、バインダー樹脂の表面に不定形無機粒子の形状を反映させやすくできる。また、１段階目の乾燥より２段階目の乾燥温度を高温として、風速を強くすることにより、有機粒子の凝集を抑制しやすくできる。したがって、２段階の乾燥とすることにより、Ｖｍｐが大きくなり過ぎることを抑制しやすく、かつＳａｌを所定の値以下にしやすくできる。
　１段階目の乾燥は、乾燥温度を３０℃以上６０℃未満、乾燥風速を０．２ｍ／ｓ以上７ｍ／ｓ未満とすることが好ましい。２段階目の乾燥は、乾燥温度を６０℃以上１２０℃以下、乾燥風速を７ｍ／ｓ以上５０ｍ／ｓ以下とすることが好ましい。
《反射防止層》
　第１実施形態において、反射防止層は、第１面側の最表面に位置することが好ましい。
　反射防止層は、例えば、低屈折率層の単層構造；高屈折率層と低屈折率層の２層構造；３層構造以上の多層構造；が挙げられる。低屈折率層及び高屈折率層は、汎用のウェット法又はドライ法等により形成することができる。ウェット法の場合は前記単層構造又は２層構造が好ましく、ドライ法の場合は前記多層構造が好ましい。
　ウェット法は、生産効率及び耐薬品性の点で、ドライ法よりも優れている。
　本開示の光学フィルムでは、防眩層の凹凸形状を維持しやすくするため、反射防止層は低屈折率層の単層構造であることが好ましい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
―単層構造又は２層構造の場合―
　単層構造は低屈折率層の単層であり、２層構造は高屈折率層及び低屈折率層から形成される。単層構造又は２層構造は、ウェット法により好ましく形成される。
　ウェット法により反射防止層を形成する方法としては、金属アルコキシド等を用いてゾルゲル法により形成する手法、フッ素樹脂のような低屈折率の樹脂を塗工して形成する手法、バインダー樹脂組成物に低屈折率粒子又は高屈折率粒子を含有させた塗布液を塗工して形成する手法が挙げられる。
　ウェット法の中でも、密着性及び耐擦傷性のために、バインダー樹脂組成物に低屈折率粒子又は高屈折率粒子塗布液により、反射防止層を形成することが好ましい。すなわち、低屈折率層は、バインダー樹脂及び低屈折率粒子を含むことが好ましい。また、高屈折率層は、バインダー樹脂及び高屈折率粒子を含むことが好ましい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　低屈折率層の屈折率は、下限は、１．１０以上が好ましく、１．２０以上がより好ましく、１．２６以上がより好ましく、１．２８以上がより好ましく、１．３０以上がより好ましく、上限は、１．４８以下が好ましく、１．４５以下がより好ましく、１．４０以下がより好ましく、１．３８以下がより好ましく、１．３２以下がより好ましい。
　本明細書において、屈折率は、波長５５０ｎｍにおける値を意味するものとする。
　低屈折率層の厚みは、下限は、８０ｎｍ以上が好ましく、８５ｎｍ以上がより好ましく、９０ｎｍ以上がより好ましく、上限は、１５０ｎｍ以下が好ましく、１１０ｎｍ以下がより好ましく、１０５ｎｍ以下がより好ましい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　低屈折率層のバインダー樹脂は、耐擦傷性をより良くするため、熱硬化性樹脂組成物の硬化物又は電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物等の硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましく、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがより好ましい。
　低屈折率層のバインダー樹脂は、本開示の効果を阻害しない範囲で、熱可塑性樹脂を含んでいてもよい。
　低屈折率層の硬化性樹脂組成物の硬化物としては、防眩層で例示した硬化性樹脂組成物の硬化物と同様のものが挙げられる。
　低屈折率層のバインダー樹脂の全量に対する硬化性樹脂組成物の硬化物の割合は８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましく、９７質量％以上であることがさらに好ましい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　第１実施形態において、低屈折率層のバインダー樹脂は、熱可塑性樹脂を含んでいてもよい。バインダー樹脂として熱可塑性樹脂を含むことにより、低屈折率層用塗布液の粘度を高め、低屈折率層用塗布液が防眩層の凸部の間に流れ落ちにくくなる。このため、バインダー樹脂として熱可塑性樹脂を含むことにより、Ｓａ及びＶｖｖを所定の値以上にしやすく、かつ、Ｓａｌを所定の値以下にしやすくできる。さらに、第１面の表面近傍に有機Ｓｉ及びフッ素を残存させやすくなるため、式２～４の元素比率を満たしやすくできる。一方、低屈折率層用塗布液の粘度が高くなり過ぎると、反射防止層用塗布液の塗布時に防眩層の表面に欠陥が生じる場合がある。
　熱可塑性樹脂の含有量は、上述した作用及び塗膜強度のため、バインダー樹脂の全量の０．１質量％以上３．０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０．２質量％以上１．５質量％以下、さらに好ましくは０．３質量％以上０．７質量％以下である。
　熱可塑性樹脂としては、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ＡＢＳ樹脂（耐熱ＡＢＳ樹脂を含む）、ＡＳ樹脂、ＡＮ樹脂、ポリフェニレンオキサイド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリブチレンテフタレート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、およびポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられ、透明性の観点からアクリル系樹脂が好ましい。
　熱可塑性樹脂の重量平均分子量は、２万以上２０万以下であることが好ましく、３万以上１５万以下であることがより好ましく、５万以上１０万以下であることがさらに好ましい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　低屈折率粒子は、中空粒子及び中実粒子が挙げられる。低屈折率粒子としては、中空粒子及び中実粒子の何れか一方のみを含んでいてもよいが、屈折率を低くするため、中空粒子を含むことが好ましい。低屈折率層の塗膜強度の低下を抑制するためには、中空粒子に加えて、さらに中実粒子を含んでいてもよい。なお、中実粒子を含まず、中空粒子のみを含むことにより、本開示の効果を発揮しやすくできる。
　中空粒子及び中実粒子の材質は、シリカ及びフッ化マグネシウム等の無機化合物、有機化合物のいずれであってもよいが、低屈折率化及び強度のためにシリカが好ましい。すなわち、低屈折率層は、中空シリカ粒子を含むことが好ましい。また、低屈折率層は、中空シリカ粒子に加えて、さらに中実シリカ粒子を含むことも好ましい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　中空粒子の平均一次粒子径は、低屈折率層の厚みより小さいものが好ましく、例えば、１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下が挙げられる。中空粒子の平均一次粒子径は、３５ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることがより好ましく、６０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
　中実粒子の平均一次粒子径は、低屈折率層の厚みより小さいものが好ましく、例えば、０．５ｎｍ以上１００ｎｍ以下が挙げられる。中実粒子の平均一次粒子径は、１ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることが好ましく、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　中空粒子及び後述する中実粒子、並びに、後述する高屈折粒子の平均一次粒子径は、以下の（Ａ１）～（Ａ３）の作業により算出する。
（Ａ１）反射防止部材の断面をＴＥＭ又はＳＴＥＭで撮像する。ＴＥＭ又はＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ～３０ｋＶ、倍率は５万～３０万倍とすることが好ましい。
（Ａ２）観察画像から任意の１０個の粒子を抽出し、個々の粒子の粒子径を算出する。粒子径は、粒子の断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、該２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。
（Ａ３）同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子径の数平均から得られる値を粒子の平均一次粒子径とする。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　中空粒子の含有量が多くなるほど、バインダー樹脂中の中空粒子の充填率が高くなり、低屈折率層の屈折率が低下する。このため、中空粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して１００質量部以上であることが好ましく、１５０質量部以上であることがより好ましい。
　一方で、中空粒子の含有量が多すぎると、中空粒子が損傷したり、脱落したりしやすくなって、低屈折率層の耐擦傷性等の機械的強度が低下する傾向がある。また、中空粒子の含有量が多すぎると、上記式２及び３を満たしにくくなる場合がある。このため、中空粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して３００質量部以下であることが好ましく、２５０質量部以下であることがより好ましい。
　中実粒子の含有量は、低屈折率層の耐擦傷性を良好にするために、バインダー樹脂１００質量部に対して２０質量部以上であることが好ましく、４０質量部以上であることがより好ましい。
　一方で、中実粒子の含有量が多すぎると、中実粒子が凝集しやすくなる。また、中実粒子の含有量が多すぎると、上記式２及び３を満たしにくくなる場合がある。このため、中実粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して１００質量部以下であることが好ましく、６０質量部以下であることがより好ましい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　第１実施形態において、低屈折率層は、第１表面が上記式２～４の元素比率を満たしやすくするため、有機Ｓｉ及びフッ素を含むレベリング剤を含むことが好ましい。
　有機Ｓｉ及びフッ素を含むレベリング剤は、分子内に有機Ｓｉ及びフッ素を含む化合物であってもよい。また、有機Ｓｉ及びフッ素を含むレベリング剤は、分子内に有機Ｓｉを含む化合物と、分子内にフッ素を含む化合物とを併用してもよい。バインダー樹脂との相溶性を良くしやすくするため、低屈折率層は、レベリング剤として、１つの分子内に有機Ｓｉ及びフッ素を含む化合物を含むことが好ましい。レベリング剤は、分子内にバインダー樹脂と反応性を有する官能基を有することが好ましい。
　上記式２～４の元素比率は、主に、レベリング剤の含有量、及び、レベリング剤内の有機Ｓｉ及びフッ素の割合により調整できる。しかし、レベリング剤の含有量、及び、レベリング剤内の有機Ｓｉ及びフッ素の割合だけでは、防眩層の凸部の間に流れ落ちる低屈折率層用塗布液の量をコントロールすることは難しい。上記式２～４の元素比率を満たしやすくするためには、低屈折率層用塗布液の粘度を高くしたり、低屈折率層用塗布液の乾燥条件を制御したりして、防眩層の凸部の間に流れ落ちる低屈折率層用塗布液の量を少なくすることが好ましい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　レベリング剤の好ましい含有量は、レベリング剤内の有機Ｓｉ及びフッ素の割合に応じて、上記式２～４の元素比率を満たすように調整することが好ましい。
　本開示の一実施形態では、低屈折率層の全固形分に対するレベリング剤の含有量は、１０質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、１５質量％以上４０質量％以下であることがより好ましく、２０質量％以上４０質量％以下であることがさらに好ましい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　高屈折率層は、低屈折率層よりも防眩層側に配置することが好ましい。
　高屈折率層の屈折率は、下限は、１．５３以上が好ましく、１．５４以上がより好ましく、１．５５以上がより好ましく、１．５６以上がより好ましく、上限は、１．８５以下が好ましく、１．８０以下がより好ましく、１．７５以下がより好ましく、１．７０以下がより好ましい。
　高屈折率層の厚みは、上限は、２００ｎｍ以下が好ましく、１８０ｎｍ以下がより好ましく、１５０ｎｍ以下がさらに好ましく、下限は、５０ｎｍ以上が好ましく、７０ｎｍ以上がより好ましい。
　高屈折率層のバインダー樹脂としては、低屈折率層のバインダー樹脂と同様のものが挙げられる。
　高屈折率粒子としては、五酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、スズドープ酸化インジウム、アンチモンドープ酸化スズ、酸化イットリウム及び酸化ジルコニウム等が挙げられる。
　高屈折率粒子の平均一次粒子径は、２ｎｍ以上が好ましく、５ｎｍ以上がより好ましく、１０ｎｍ以上がさらに好ましい。また、高屈折率粒子の平均一次粒子径は、白化抑制及び透明性の観点から、２００ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましく、８０ｎｍ以下がより好ましく、６０ｎｍ以下がより好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましい。
　高屈折率粒子の含有量は、高屈折率層の屈折率が上述した範囲となるような含有量とすればよい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　低屈折率層及び高屈折率層等の反射防止層をウェット法により形成する場合、反射防止層用塗布液の粘度を高くすることが好ましい。反射防止層用塗布液の粘度を高くすることにより、反射防止層用塗布液が防眩層の凸部の間に流れ落ちにくくなるため、防眩層上に反射防止層を形成しても、防眩層の表面形状を維持しやすくできる。このため、反射防止層用塗布液の粘度を適度に高くすることにより、Ｓａ及びＶｖｖを所定の値以上にしやすく、かつ、Ｓａｌを所定の値以下にしやすくできる。さらに、第１面の表面近傍に有機Ｓｉ及びフッ素を残存させやすくなるため、式２～４の元素比率を満たしやすくできる。例えば、バインダー樹脂として熱可塑性樹脂を添加したり、電離放射線硬化性樹脂組成物としてオリゴマーの割合を増やしたり、溶剤として粘度の高い溶剤を選択したりすることなどにより、反射防止層用塗布液の粘度を高くすることができる。
　一方、反射防止層用塗布液の粘度を高くし過ぎると、反射防止層用塗布液の塗布時に防眩層の表面に欠陥が生じる場合がある。
　このため、反射防止層用塗布液の２３℃の粘度は、０．１ｍＰａ・ｓ以上５．０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。
　反射防止層用塗布液の溶剤としては、防眩層用塗布液の実施形態と同様のものが挙げられる。
　反射防止層塗布液から防眩層を形成する際には、乾燥条件を制御することが好ましい。
　乾燥条件は、乾燥温度及び乾燥機内の風速により制御することができる。乾燥温度は３０℃以上７０℃以下が好ましく、乾燥風速は１０ｍ／ｓ以上３０ｍ／ｓ以下が好ましい。乾燥温度を低温とすることにより、反射防止層用塗布液の粘度を高くしやすくできる。また、風速を強くすることにより、反射防止層用塗布液の粘度を速やかに上げることができる。したがって、反射防止層用塗布液を比較的低温、かつ、強い風速で乾燥することにより、反射防止層用塗布液が防眩層の凸部の間に流れ落ちにくくすることができる。すなわち、反射防止層用塗布液を比較的低温、かつ、強い風速で乾燥することにより、第１面のＳａ等の表面形状を上述した範囲にしやすくでき、かつ、式１～４を満たしやすくできる。
　電離放射線の照射は反射防止層用塗布液の乾燥後に行うことが好適である。
―３層構造以上の多層構造の場合―
　ドライ法により好ましく形成される多層構造は、高屈折率層と低屈折率層とを交互に合計３層以上積層された構成である。多層構造においても、低屈折率層は、光学フィルムの最表面に配置することが好ましい。
　高屈折率層は、厚みは１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、屈折率は２．１０以上２．４０以下であることが好ましい。高屈折率層の厚みは２０ｎｍ以上７０ｎｍ以下であることがより好ましい。
　低屈折率層は、厚みは５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、屈折率は１．３３以上１．５３以下であることが好ましい。低屈折率層の厚みは２０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下であることがより好ましい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
＜光学特性＞
　第１実施形態の光学フィルムは、下記の手法により測定される全光線反射率であるＲＳＣＩが３．０％以下であることが好ましい。
［全光線反射率（ＲＳＣＩ）の測定］
　前記光学フィルムの前記第２面側に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記光学フィルム側を光入射面として全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定する。
　ＲＳＣＩを３．０％以下とすることにより、照度が強い光が第１面に入射しない環境において、黒表示部の黒味を高めやすくできるため、コントラストを良好にしやすくできる。光学フィルムのＲＳＣＩは、２．５％以下であることがより好ましく、２．０％以下であることがさらに好ましい。光学フィルムのＲＳＣＩの下限は特に制限されないが、通常は０．１％以上である。
　通常、ＲＳＣＩを３．０％以下とした場合、指紋成分を有する箇所と、指紋成分を有さない箇所との反射率のコントラストが大きくなり、光学フィルムの見栄えが大きく低下しやすくなる。しかし、本開示の光学フィルムは、式１を満たすことにより指紋拭き取り性が良好であるため、ＲＳＣＩを３．０％以下としても、光学フィルムの見栄えが低下することを抑制しやすくできる。
　ＲＳＣＩは、積分球を用いてサンプル表面にあらゆる方向から光を与え、正反射方向に相当するライトトラップを閉じて測定される反射光である。
　代表的なＲＳＣＩの測定装置は、ＪＩＳ　Ｚ８７２２：２００９の幾何条件ｃに準拠した構成となっている。より具体的には、代表的なＲＳＣＩの測定装置は、積分球分光光度計の光源としてＤ６５を用い、受光器の位置はサンプルの法線に対して＋８度であり、受光器の開口角は１０度であり、ライトトラップの位置はサンプルの法線に対して－８度であり、視野角は２度又は１０度である。本明細書では視野角を２度としている。
　上記条件を満たす測定装置としては、例えば、コニカミノルタ社製の積分球分光光度計（商品名：ＣＭ－２００２）が挙げられる。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　サンプルの透明粘着剤の屈折率と、光学フィルムの第２面側の層の屈折率との差は、０．０５以内であることが好ましく、０．０３以内であることがより好ましく、０．０１以内であることがさらに好ましい。サンプルの透明粘着剤の屈折率と、黒色板のバインダー樹脂の屈折率との差は、０．０５以内であることが好ましく、０．０３以内であることがより好ましく、０．０１以内であることがさらに好ましい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　光学フィルムは、ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１：１９９７の全光線透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。
　全光線透過率及びヘイズを測定する際の光入射面は、光学フィルムの第２面側とする。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　光学フィルムは、ＪＩＳ　Ｋ７１３６：２０００のヘイズが２０％以上７５％以下であることが好ましい。ヘイズは、下限は３０％以上であることがより好ましく、４０％以上であることがさらに好ましく、５０％以上であることがよりさらに好ましく、上限は７０％以下であることがより好ましく、６５％以下であることがさらに好ましい。
　ヘイズを２０％以上とすることにより、防眩性を良好にしやすくできる。また、ヘイズを７５％以下とすることにより、映像の解像度の低下を抑制しやすくできる。
　光学フィルムのヘイズの実施形態は、２０％以上７５％以下、２０％以上７０％以下、２０％以上６５％以下、３０％以上７５％以下、３０％以上７０％以下、３０％以上６５％以下、４０％以上７５％以下、４０％以上７０％以下、４０％以上６５％以下、５０％以上７５％以下、５０％以上７０％以下、５０％以上６５％以下が挙げられる。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　光学フィルムは、映像の解像度及びコントラストを良好にしやすくするために、内部ヘイズが２０％以下であることが好ましく、１５％以下であることがより好ましく、１０％以下であることがさらに好ましい。
　内部ヘイズは汎用の手法で測定することができ、例えば、光学フィルムの第１表面上に透明粘着剤層を介して透明シートを貼り合わせるなどして、第１表面の凹凸を潰すことにより測定することができる。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　光学フィルムは、ＪＩＳ　Ｋ７３７４：２００７に準拠して測定した透過像鮮明度に関して、光学櫛の幅が０．１２５ｍｍの透過像鮮明度をＣ0.125、光学櫛の幅が０．２５ｍｍの透過像鮮明度をＣ0.25、光学櫛の幅が０．５ｍｍの透過像鮮明度をＣ0.5、光学櫛の幅が１．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ1.0、光学櫛の幅が２．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ2.0と定義した際に、Ｃ0.125、Ｃ0.25、Ｃ0.5、Ｃ1.0及びＣ2.0の値が下記の範囲であることが好ましい。
　Ｃ0.125は、防眩性を良好にするため、５０％以下が好ましく、４０％以下がより好ましく、３０％以下がより好ましく、２０％以下がより好ましい。Ｃ0.125は、解像度を良好にするため、１．０％以上が好ましい。Ｃ0.125の範囲としては、１．０％以上５０％以下、１．０％以上４０％以下、１．０％以上３０％以下、１．０％以上２０％以下が挙げられる。
　Ｃ0.25は、防眩性を良好にするため、５０％以下が好ましく、４０％以下がより好ましく、３０％以下がより好ましく、２０％以下がより好ましい。Ｃ0.25は、解像度を良好にするため、１．０％以上が好ましい。Ｃ0.25の範囲としては、１．０％以上５０％以下、１．０％以上４０％以下、１．０％以上３０％以下、１．０％以上２０％以下が挙げられる。
　Ｃ0.5は、防眩性を良好にするため、５０％以下が好ましく、４０％以下がより好ましく、３０％以下がより好ましく、２０％以下がより好ましい。Ｃ0.5は、解像度を良好にするため、１．０％以上が好ましい。Ｃ0.5の範囲としては、１．０％以上５０％以下、１．０％以上４０％以下、１．０％以上３０％以下、１．０％以上２０％以下が挙げられる。
　Ｃ1.0は、防眩性を良好にするため、５０％以下が好ましく、４０％以下がより好ましく、３０％以下がより好ましく、２０％以下がより好ましい。Ｃ1.0は、解像度を良好にするため、１．０％以上が好ましい。Ｃ1.0の範囲としては、１．０％以上５０％以下、１．０％以上４０％以下、１．０％以上３０％以下、１．０％以上２０％以下が挙げられる。
　Ｃ2.0は、防眩性を良好にするため、５０％以下が好ましく、４０％以下がより好ましく、３０％以下がより好ましく、２０％以下がより好ましい。Ｃ2.0は、解像度を良好にするため、５．０％以上が好ましい。Ｃ2.0の範囲としては、５．０％以上５０％以下、５．０％以上４０％以下、５．０％以上３０％以下、５．０％以上２０％以下が挙げられる。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
　光学フィルムは、防眩性を良好にするため、Ｃ0.125、Ｃ0.5、Ｃ1.0及びＣ2.0の合計が、２００％以下が好ましく、１５０％以下がより好ましく、１００％以下がより好ましく、８０％以下がより好ましい。前記合計は、解像度を良好にするため、１０．０％以上が好ましい。前記合計の範囲としては、１０．０％以上２００％以下、１０．０％以上１５０％以下、１０．０％以上１００％以下、１０．０％以上８０％以下が挙げられる。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
＜大きさ、形状等＞
　光学フィルムは、所定の大きさにカットした枚葉状の形態でもよいし、長尺シートをロール状に巻き取ったロール状の形態であってもよい。枚葉の大きさは特に限定されないが、最大径が２インチ以上５００インチ以下程度である。「最大径」とは、光学フィルムの任意の２点を結んだ際の最大長さをいうものとする。例えば、光学フィルムが長方形の場合は、該領域の対角線が最大径となる。光学フィルムが円形の場合は、円の直径が最大径となる。
　ロール状の幅及び長さは特に限定されないが、一般的には、幅は５００ｍｍ以上３０００ｍｍ以下、長さは５００ｍ以上５０００ｍ以下程度である。ロール状の形態の光学フィルムは、画像表示装置等の大きさに合わせて、枚葉状にカットして用いることができる。カットする際、物性が安定しないロール端部は除外することが好ましい。
　枚葉の形状も特に限定されず、例えば、三角形、四角形、五角形等の多角形、円形、ランダムな不定形等の形状が挙げられる。より具体的には、光学フィルムが四角形状である場合には、縦横比は表示画面として問題がなければ特に限定されない。例えば、横：縦＝１：１、４：３、１６：１０、１６：９、２：１等が挙げられるが、デザイン性に富む車載用途やデジタルサイネージにおいては、このような縦横比に限定されない。
　光学フィルムの第２表面の表面形状は特に限定されないが、略平滑であることが好ましい。略平滑とは、カットオフ値０．８ｍｍにおける、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：１９９４の算術平均粗さＲａが０．０３μｍ未満であることを意味し、好ましくは０．０２μｍ以下である。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
［第１実施形態の光学フィルムの製造方法］
　本開示の第１実施形態の光学フィルムの製造方法は、上述した本開示の光学フィルムの製造方法であって、基材上に防眩層を形成する第１の工程と、前記防眩層上に反射防止層を形成する第２の工程とを有するものである。
　基材上に防眩層を形成する手段としては、上述した、（Ａ）エンボスロールを用いた方法、（Ｂ）エッチング処理、（Ｃ）型による成型、（Ｄ）塗布による塗膜の形成、が挙げられる。
　（Ａ）の方法の場合、例えば、基材上に樹脂層を形成し、樹脂層側からエンボスロールを用いて賦型することにより、基材上に防眩層を形成できる。
　（Ｂ）の方法の場合、例えば、基材上に光硬化性樹脂の層を形成し、フォトエッチングすることにより、基材上に防眩層を形成できる。
　（Ｃ）の方法の場合、例えば、型に樹脂を流し込み、成形した樹脂を型から取り出すとともに、基材上に配置することにより、基材上に防眩層を形成することができる。
　（Ｄ）の方法の場合、例えば、基材上に、上述した（ｄ１）又は（ｄ２）の手法により塗膜を形成することにより、基材上に防眩層を形成することができる。
　防眩層上に反射防止層を形成する手段としては、例えば、上述した、ウェット法又はドライ法が挙げられる。
［第１実施形態の偏光板］
　本開示の第１実施形態の偏光板は、偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第一の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第二の透明保護板とを有する偏光板であって、
　前記第一の透明保護板及び前記第二の透明保護板の少なくとも一方が、上述した本開示の第１実施形態の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記偏光子とが対向して配置されたものである。
＜偏光子＞
　偏光子としては、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン－酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等のシート型偏光子；平行に並べられた多数の金属ワイヤからなるワイヤーグリッド型偏光子；リオトロピック液晶や二色性ゲスト－ホスト材料を塗布した塗布型偏光子；多層薄膜型偏光子；等が挙げられる。これらの偏光子は、透過しない偏光成分を反射する機能を備えた反射型偏光子であってもよい。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
＜透明保護板＞
　偏光子の一方の側には第一の透明保護板、他方の側には第二の透明保護板が配置される。第一の透明保護板及び第二の透明保護板の少なくとも一方は、上述した本開示の第１実施形態の光学フィルムである。
　本開示の偏光板は、第一の透明保護板及び第二の透明保護板の一方が上述した本開示の　第１実施形態の光学フィルムであってもよいし、第一の透明保護板及び第二の透明保護板の両方が上述した本開示の第１実施形態の光学フィルムであってもよい。
　第一の透明保護板及び第二の透明保護板のうち、本開示の第１実施形態の光学フィルムではない透明保護板としては、汎用のプラスチックフィルム及びガラス等を用いることができる。
　偏光子と透明保護板とは、接着剤を介して貼り合わせることが好ましい。接着剤は汎用の接着剤を用いることができ、ＰＶＡ系接着剤が好ましい。
［第１実施形態の画像表示装置用の表面板］
　本開示の第１実施形態の画像表示装置用の表面板は、樹脂板又はガラス板上に保護フィルムを貼り合わせた画像表示装置用の表面板であって、前記保護フィルムが上述した本開示の第１実施形態の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記樹脂板又は前記ガラス板とが対向して配置されたものである。
　樹脂板又はガラス板としては、画像表示装置の表面板として汎用的に使用されている樹脂板又はガラス板を用いることができる。
　樹脂板又はガラス板の厚みは、強度を良好にするため、１０μｍ以上であることが好ましい。樹脂板又はガラス板の厚みの上限は、通常は５０００μｍ以下である。薄型化のためには、樹脂板又はガラス板の厚みの上限は、１０００μｍ以下であることが好ましく、５００μｍ以下であることがより好ましく、１００μｍ以下であることがさらに好ましい。
　樹脂板又はガラス板の厚みの範囲の実施形態は、１０μｍ以上５０００μｍ以下、１０μｍ以上１０００μｍ以下、１０μｍ以上５００μｍ以下、１０μｍ以上１００μｍ以下が挙げられる。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
［第１実施形態の画像表示パネル］
　本開示の第１実施形態の画像表示パネルは、表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムを有する画像表示パネルであって、前記光学フィルムとして上述した本開示の第１実施形態の光学フィルムを含むものである（図２参照）。
　画像表示パネル内において、本開示の第１実施形態の光学フィルムは、第２面側が表示素子側を向くように配置することが好ましい。
　画像表示パネル内において、本開示の第１実施形態の光学フィルムは、表示素子の光出射面側の最表面に配置することが好ましい。
　表示素子としては、液晶表示素子、ＥＬ表示素子（有機ＥＬ表示素子、無機ＥＬ表示素子）、プラズマ表示素子等が挙げられ、さらには、マイクロＬＥＤ表示素子等のＬＥＤ表示素子が挙げられる。これら表示素子は、表示素子の内部にタッチパネル機能を有していてもよい。
　液晶表示素子の液晶の表示方式としては、ＩＰＳ方式、ＶＡ方式、マルチドメイン方式、ＯＣＢ方式、ＳＴＮ方式、ＴＳＴＮ方式等が挙げられる。
　また、本開示の画像表示パネルは、表示素子と光学フィルムとの間にタッチパネルを有するタッチパネル付きの画像表示パネルであってもよい。
　画像表示パネルの大きさは特に限定されないが、最大径が２インチ以上５００インチ以下程度である。最大径とは、画像表示パネルの面内の任意の２点を結んだ際の最大長さを意味する。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
［第１実施形態の画像表示装置］
　本開示の第１実施形態の画像表示装置は、本開示の第１実施形態の画像表示パネルを含むものである。
　本開示の第１実施形態の画像表示装置は、本開示の第１実施形態の画像表示パネルを含むものであれば特に限定されない。本開示の第１実施形態の画像表示装置は、本開示の第１実施形態の画像表示パネルと、前記画像表示パネルに電気的に接続された駆動制御部と、これらを収容する筐体とを備えることが好ましい。
　表示素子が液晶表示素子である場合、本開示の画像表示装置にはバックライトが必要である。バックライトは、液晶表示素子の光出射面側とは反対側に配置される。
　画像表示装置の大きさは特に限定されないが、有効表示領域の最大径が２インチ以上５００インチ以下程度である。
　画像表示装置の有効表示領域とは、画像を表示し得る領域である。例えば、画像表示装置が表示素子を囲う筐体を有する場合、筐体の内側の領域が有効画像領域となる。
　なお、有効画像領域の最大径とは、有効画像領域内の任意の２点を結んだ際の最大長さをいうものとする。例えば、有効画像領域が長方形の場合は、該領域の対角線が最大径となる。また、有効画像領域が円形の場合は、該領域の直径が最大径となる。
　本段落の記載は、第１実施形態及び第２実施形態に共通する記載である。
［第１実施形態の光学フィルムの選定方法］
　本開示の第１実施形態の光学フィルムの選定方法は、下記の選定条件を満たす光学フィルムを選定するものである。
（光学フィルムの選定条件）
　第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
　前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
　前記第１面は凹凸形状を有し、
　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、
　前記第１面が下記式１を満たす。
　Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００　（式１）
　［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
　本開示の第１実施形態の光学フィルムの選定方法では、追加の選定条件を有していてもよい。追加の選定条件としては、第１実施形態の光学フィルムの好適な実施形態が挙げられる。追加の選定条件としては、例えば、下記Ａ～Ｄが挙げられる。
　Ａ：Ｖｍｐが０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下。
　Ｂ：前記光学フィルムが、前記第１面から前記第２面に向けて、前記反射防止層、前記防眩層及び基材をこの順に有する。
　Ｃ：元素比率が、下記の式２～４を満たす。
　　　３．５≦Ｆ／無機Ｓｉ≦１０．０　（式２）
　　　０．０８≦有機Ｓｉ／無機Ｓｉ≦１．００　（式３）
　　　５．０≦Ｆ／有機Ｓｉ≦５０．０　（式４）
　Ｄ：下記の手法により測定される全光線反射率であるＲＳＣＩが３．０％以下。
［全光線反射率（ＲＳＣＩ）の測定］
　前記光学フィルムの前記第２面側に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記光学フィルム側を光入射面として全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定する。
　本開示の第１実施形態の光学フィルムの選定方法によれば、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な光学フィルムを、効率よく選定することができる。
［第２実施形態の光学フィルム］
　本開示の第２実施形態の光学フィルムは、以下のものである。
　第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
　前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
　前記第１面は凹凸形状を有し、
　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される突出谷部空間体積であるＶｖｖが０．００５ｍｌ／ｍ２以上であり、
　下記の手法により測定される落下式接触角が３０．０度以上である、光学フィルム。
＜落下式接触角の測定＞
　前記光学フィルムの前記第１面に対して、表面張力が３０ｍＮ／ｍの液滴を４５ｍｍの高さから落下させる。前記液滴は、前記第１面の垂直方向から落下させる。着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法により測定する。
　図４は、本開示の第２実施形態の光学フィルム１００の断面形状の概略断面図である。
　図４の光学フィルム１００は、凹凸形状を有する第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面を有している。図４では、上側の面が第１面、下側の面が第２面である。
　図４の光学フィルムは、第１面から第２面に向けて、反射防止層３０、防眩層２０及び基材１０をこの順に有している。
　図４は模式的な断面図である。すなわち、光学フィルム１００を構成する各層の縮尺、及び凹凸形状の縮尺は、図示しやすくするために模式化したものであり、実際の縮尺とは相違している。図５も同様である。
　本開示の第２実施形態の光学フィルムは、図１の積層構成に限定されない。例えば、本開示の第２実施形態の光学フィルムは、基材を有さない積層構成であってもよい。本開示の第２実施形態の光学フィルムは、基材、防眩層及び反射防止層以外の層を有するものであってもよい。
＜第１面＞
　本開示の第２実施形態の光学フィルムは第１面を有する。本開示の第２実施形態の光学フィルムは、反射防止層の表面が第１面であることが好ましい。
　第２実施形態の光学フィルムの第１面は、凹凸形状を有し、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される突出谷部空間体積であるＶｖｖが０．００５ｍｌ／ｍ２以上である。第１面が凹凸形状を有さない場合、光学フィルムの防眩性を良好にすることができない。第１面が凹凸形状を有し、かつ、Ｖｖｖを０．００５ｍｌ／ｍ２以上とすることにより、光学フィルムの防眩性を良好にしやすくできる。
　Ｖｖｖは、０．００７ｍｌ／ｍ２以上であることが好ましく、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上であることがより好ましく、０．０２０ｍｌ／ｍ２以上であることがより好ましく、０．０３０ｍｌ／ｍ２以上であることがより好ましい。
　Ｖｖｖが大きすぎると、落下式接触角を３０．０度以上にし難くなる傾向がある。このため、Ｖｖｖは、０．１００ｍｌ／ｍ２以下であることが好ましく、０．０８０ｍｌ／ｍ２以下であることがより好ましく、０．０６０ｍｌ／ｍ２以下であることがより好ましく、０．０４５ｍｌ／ｍ２以下であることがより好ましい。
　第１面のＶｖｖの範囲の実施形態は、０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下、０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．０８０ｍｌ／ｍ２以下、０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．０６０ｍｌ／ｍ２以下、０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．０４５ｍｌ／ｍ２以下、０．００７ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下、０．００７ｍｌ／ｍ２以上０．０８０ｍｌ／ｍ２以下、０．００７ｍｌ／ｍ２以上０．０６０ｍｌ／ｍ２以下、０．００７ｍｌ／ｍ２以上０．０４５ｍｌ／ｍ２以下、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上０．０８０ｍｌ／ｍ２以下、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上０．０６０ｍｌ／ｍ２以下、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上０．０４５ｍｌ／ｍ２以下、０．０２０ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下、０．０２０ｍｌ／ｍ２以上０．０８０ｍｌ／ｍ２以下、０．０２０ｍｌ／ｍ２以上０．０６０ｍｌ／ｍ２以下、０．０２０ｍｌ／ｍ２以上０．０４５ｍｌ／ｍ２以下、０．０３０ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下、０．０３０ｍｌ／ｍ２以上０．０８０ｍｌ／ｍ２以下、０．０３０ｍｌ／ｍ２以上０．０６０ｍｌ／ｍ２以下、０．０３０ｍｌ／ｍ２以上０．０４５ｍｌ／ｍ２以下が挙げられる。
　第２実施形態の光学フィルムの第１面は、下記の手法により測定される落下式接触角が３０．０度以上である。
＜落下式接触角の測定＞
　前記光学フィルムの前記第１面に対して、表面張力が３０ｍＮ／ｍの液滴を４５ｍｍの高さから落下させる。前記液滴は、前記第１面の垂直方向から落下させる。着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法により測定する。
　第１面の落下式接触角を３０．０度以上とすることにより、指紋拭き取り性を良好にしやすくできる。落下式接触角と、指紋拭き取り性との関係を以下に説明する。
　本開示の落下式接触角の測定では、光学フィルムの第１面に対して、液滴を４５ｍｍの高さから落下させる。第１面に落下した液滴は、落下時の衝撃によりつぶれた形状となるため、落下直後の液滴の接触角は小さくなる傾向がある。特に、Ｖｖｖが所定の値以上の凹凸形状を有する光学フィルムの場合、液滴が濡れ広がりやすいため、落下直後の液滴の接触角が小さくなる傾向が高くなる。
　光学フィルムの第１面上において、つぶれた形状で存在する液液は拭き取り難い。本開示の落下式接触角の測定では、着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法により測定している。そして、本開示の光学フィルムは、落下式接触角が３０．０度以上である。すなわち、落下式接触角が３０．０度以上である本開示の第２実施形態の光学フィルムは、落下時の衝撃でつぶれた形状となった液滴が、球形に近い形状に回復することを意味している。このため、本開示の第２実施形態の光学フィルムは、Ｖｖｖが０．００５ｍｌ／ｍ２以上である凹凸形状を有するにも関わらず、指紋拭き取り性を良好にすることができる。
　光学フィルムの表面を指で触ると、触った時の圧力により、指紋成分が凹凸形状の内部に浸透する。本開示の落下式接触角の測定において、液滴を４５ｍｍの高さから落下させる理由は、前述した現象（圧力により指紋成分が凹凸形状の内部に浸透する現象）を考慮したためである。
　落下式接触角の測定において、滴下する液滴の量は５．０μｌとする。
　指紋には、水だけではなく、皮脂等も含まれている。このため、本開示の落下式接触角の測定では、純水ではなく、表面張力が３０ｍＮ／ｍの液体を用いている。本明細書では、表面張力が３０ｍＮ／ｍの液体としては、下記の組成の液体を用いた。本明細書において、表面張力は、ＪＩＳ　Ｋ２２４１：２０１７で規定するウィルヘルミー表面張力計により測定した値を意味する。
＜表面張力が３０ｍＮ／ｍの液体の組成＞
　エチレングリコールモノエチルエーテルを１００質量％含む液体。
　落下式接触角は、４０．０度以上であることが好ましく、４５．０度以上であることがより好ましく、５０．０度以上であることがさらに好ましい。
　落下式接触角が大きすぎる場合、反射防止層中のフッ素系化合物及びシリコーン系化合物の含有量が増加し、光学フィルムの耐擦傷性が低下しやすくなる。このため、落下式接触角は７０．０度以下であることが好ましく、６０．０度以下であることがより好ましく、５５．０度以下であることがさらに好ましい。
　第１面の落下式接触角の範囲の実施形態は、３０．０度以上７０．０度以下、３０．０度以上６０．０度以下、３０．０度以上５５．０度以下、４０．０度以上７０．０度以下、４０．０度以上６０．０度以下、４０．０度以上５５．０度以下、４５．０度以上７０．０度以下、４５．０度以上６０．０度以下、４５．０度以上５５．０度以下、５０．０度以上７０．０度以下、５０．０度以上６０．０度以下、５０．０度以上５５．０度以下が挙げられる。
　本開示の第２実施形態の光学フィルムは、第１面の純水接触角が１００度以上１２０度以下であることが好ましく、１１０度以上１１５度以下であることがより好ましい。
　第２実施形態において、本開示の光学フィルムの第１面は、Ｖｖｖと、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定されるコア部空間体積であるＶｖｃとの比（Ｖｖｖ／Ｖｖｃ）が、０．１０以下であることが好ましい。Ｖｖｖ／Ｖｖｃを０．１０以下とすることにより、指紋拭き取り性をより良好にしやすくできる。Ｖｖｖ／Ｖｖｃは、０．０９以下であることがより好ましく、０．０８以下であることがさらに好ましい。
　第２実施形態において、本開示の光学フィルムの第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積であるＶｍｐが０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下であることが好ましい。
　第１面のＶｍｐを０．００５ｍｌ／ｍ２以上とすることにより防眩性を良好にしやすくできる。Ｖｍｐは、０．００７ｍｌ／ｍ２以上であることがより好ましく、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上であることがより好ましく、０．０２０ｍｌ／ｍ２以上であることがより好ましい。
　第１面のＶｍｐを０．１００ｍｌ／ｍ２以下とすることにより、光学フィルムの耐擦傷性を良好にしやすくできる。Ｖｍｐは、０．０８０（ｍｌ／ｍ２）以下であることがより好ましく、０．０６０（ｍｌ／ｍ２）以下であることがより好ましく、０．０４５（ｍｌ／ｍ２）以下であることがより好ましい。
　第２実施形態において、本開示の光学フィルムの第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される最小自己相関長さであるＳａｌが４．０μｍ以上１２．０μｍ以下であることが好ましい。
　Ｓａｌを４．０μｍ以上とすることにより、指紋拭き取り性をより良好にしやすくできる。Ｓａｌを１２．０μｍ以下とすることにより、防眩性をより良好にしやすくできる。
　Ｓａｌの下限は、５．０μｍ以上であることがより好ましく、６．０μｍ以上であることがさらに好ましい。Ｓａｌの上限は、１１．０μｍ以下であることがより好ましく、１０．０μｍ以下であることがさらに好ましい。
　第２実施形態において、本開示の光学フィルムの第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される極点高さであるＳｘｐが０．１５μｍ以上２．００μｍ以下であることが好ましい。
　Ｓｘｐは、凹凸形状の中で特に高い凸部を取り除いた後の、凹凸形状の平均面と凸部との差分を示すパラメータである。Ｓｘｐを０．１５μｍ以上とすることにより、防眩性を良好にしやすくできる。Ｓｘｐを２．００μｍ以下とすることにより、指紋拭き取り性をより良好にしやすくできる。
　Ｓｘｐの下限は、０．２０μｍ以上であることがより好ましく、０．２５μｍ以上であることがより好ましく、０．５０μｍ以上であることがより好ましく、０．７０μｍ以上であることがより好ましい。Ｓｘｐの上限は、１．８０μｍ以下であることがより好ましく、１．５０μｍ以下であることがより好ましく、１．４０μｍ以下であることがより好ましい。
　第１面のＳｘｐの範囲の実施形態は、０．１５μｍ以上２．００μｍ以下、０．１５μｍ以上１．８０μｍ以下、０．１５μｍ以上１．５０μｍ以下、０．１５μｍ以上１．４０μｍ以下、０．２０μｍ以上２．００μｍ以下、０．２０μｍ以上１．８０μｍ以下、０．２０μｍ以上１．５０μｍ以下、０．２０μｍ以上１．４０μｍ以下、０．２５μｍ以上２．００μｍ以下、０．２５μｍ以上１．８０μｍ以下、０．２５μｍ以上１．５０μｍ以下、０．２５μｍ以上１．４０μｍ以下、０．５０μｍ以上２．００μｍ以下、０．５０μｍ以上１．８０μｍ以下、０．５０μｍ以上１．５０μｍ以下、０．５０μｍ以上１．４０μｍ以下、０．７０μｍ以上２．００μｍ以下、０．７０μｍ以上１．８０μｍ以下、０．７０μｍ以上１．５０μｍ以下、０．７０μｍ以上１．４０μｍ以下が挙げられる。
　第２実施形態において、本開示の光学フィルムは、第１面側の表面領域をＸ線光電子分光法により分析して得られる元素比率が、下記の式２～４を満たすことが好ましい。
　３．５≦Ｆ／無機Ｓｉ≦１０．０　（式２）
　０．０８≦有機Ｓｉ／無機Ｓｉ≦１．００　（式３）
　５．０≦Ｆ／有機Ｓｉ≦５０．０　（式４）
［式２～４中、「Ｆ」はフッ素元素の比率であり、「無機Ｓｉ」は無機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率であり、「有機Ｓｉ」は有機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率である。］
　光学フィルムの第１面の表面領域において、無機Ｓｉは、第１面の屈折率を低くすることができる一方で、指紋拭き取り性を悪化させる傾向がある。また、光学フィルムの第１面の表面領域において、無機Ｓｉに対して有機Ｓｉ及びＦを所定量以上含むことにより、指紋拭き取り性を良好にする傾向がある。さらに、光学フィルムの第１面の表面領域において、有機ＳｉとＦとをバランスよく含むことにより、指紋拭き取り性を良好にする傾向がある。したがって、Ｆ／無機Ｓｉを３．５以上、かつ、有機Ｓｉ／無機Ｓｉを０．０８以上、かつ、Ｆ／有機Ｓｉを５．０以上５０．０以下とすることにより、落下式接触角を３０．０度以上にしやすくでき、指紋拭き取り性を良好にしやすくできる。
　また、Ｆ／無機Ｓｉを１０．０以下、かつ、有機Ｓｉ／無機Ｓｉを１．００以下とすることにより、反射防止層の塗工性の低下を抑制しやすくできる。
　Ｆ／無機Ｓｉ、有機Ｓｉ／無機Ｓｉ、Ｆ／有機Ｓｉの好ましい範囲の実施形態は上述した通りである。
　光学フィルムの第１面の表面領域の全元素に対する無機Ｓｉの割合の範囲の実施形態は、上述した通りである。
＜積層構成＞
　本開示の第２実施形態の光学フィルムは、第１面から第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有する。第２実施形態の光学フィルムの第１面側の最表面は反射防止層であることが好ましい。
　上述したように、本開示の光学フィルムは、反射防止層及び防眩層以外の層を有していてもよい。反射防止層及び防眩層以外の層の実施形態は上述した通りである。
《基材》
　第２実施形態の光学フィルムは、製造の容易性、及び、取り扱い性のため、基材を有することが好ましい。
　基材の材質、基材の構成、基材の厚み、基材の全光線透過率、基材のヘイズ、基材の表面処理の実施形態は上述した通りである。
《防眩層》
　第２実施形態において、防眩層は、防眩性の中心を担う層である。
　第２実施形態において、防眩層は、例えば、（Ａ）エンボスロールを用いた方法、（Ｂ）エッチング処理、（Ｃ）型による成型、（Ｄ）塗布による塗膜の形成等により形成できる。安定した表面形状を得やすくするためには（Ｃ）の型による成型が好適であり、生産性及び多品種対応のためには（Ｄ）の塗布による塗膜の形成が好適である。
　（Ｃ）の手段では、例えば、型に樹脂を流し込み、成形した樹脂を型から取り出すことにより、防眩層を形成することができる。型から取り出した成形した樹脂は、基材上に配置してもよい。型は、防眩層の表面形状を反転した型を用いる。このような型は、例えば、下記の（ｃ１-１）～（ｃ１-２）、あるいは、下記の（ｃ２）の手法で作製することができる。
（ｃ１-１）Ｖｖｖ等が所定の範囲となる形状をシミュレーションで作成する。さらに、シミュレーションした形状を反転する。
（ｃ１－２）反転した形状が反映されるように、金属の表面をレーザー光で彫刻したり、金属の表面をフォトリソグラフィにより加工したりすることにより、型を得る。
（ｃ２）汎用の電気鋳造法により、（Ｄ）で作製した防眩層の形状を反転した型を得る。
　（Ｄ）により防眩層を形成する場合、例えば、下記の（ｄ１）及び（ｄ２）の手段が挙げられる。（ｄ１）は、（ｄ２）よりもＶｖｖ等の表面形状の範囲を調整しやすい点で好ましい。
（ｄ１）バインダー樹脂及び粒子を含む塗布液を塗布、乾燥し、粒子に基づく凹凸を有する防眩層を形成する手段。
（ｄ２）任意の樹脂と、前記樹脂と相溶性の悪い樹脂を含む塗布液を塗布して、樹脂を相分離させて凹凸を形成する手段。
－厚み－
　防眩層の厚みＴの範囲の実施形態は上述した通りである。
－成分－
　上述したように、防眩層は、主として樹脂成分を含むことが好ましい。さらに、防眩層は、必要に応じて、上述したその他の成分を含んでもよい。
　上述したように、防眩層は、バインダー樹脂及び粒子を含むことが好ましい。
　粒子は有機粒子及び無機粒子が挙げられ、無機粒子が好ましい。すなわち、防眩層は、バインダー樹脂及び無機粒子を含むことが好ましい。また、防眩層は、バインダー樹脂、無機粒子及び有機粒子を含むことがより好ましい。
―粒子―
　無機粒子及び有機粒子の材質の実施形態、無機粒子及び有機粒子の形状の実施形態は、特に言及しない限り上述した通りである。
　不定形無機粒子は、球形の粒子に比べて、Ｖｖｖを大きくしやすく、Ｓａｌを小さくしやすい傾向がある。しかし、不定形無機粒子の粒子径分布が広すぎると、Ｖｖｖが大きくなりやすくなるため、指紋拭き取り性が低下しやすくなる。特に、不定形無機粒子が凝集すると、Ｖｖｖはより大きくなり、指紋拭き取り性がより低下しやすくなる。一方、不定形無機粒子の粒子径分布が狭すぎると、塗布適性が低下しやすい。このため、不定形無機粒子は、粒子径の体積基準の累積分布が後述する範囲であることが好ましい。しかし、無機粒子は単独で使用すると凝集しやすい。したがって、第２実施形態において、Ｖｖｖを上記範囲として、かつ、指紋拭き取り性を良好にしやすくするためには、不定形粒子の粒子径分布を後述する範囲として、かつ、有機粒子を併用することが好ましい。
　第２実施形態において、不定形無機粒子等の無機粒子は、粒子径の体積基準の累積分布ｄ１０と、粒子径の体積基準の累積分布ｄ５０と、粒子径の体積基準の累積分布ｄ９０とが、下記（１）及び（２）の関係を満たす、ことが好ましい。
　１．５≦ｄ５０／ｄ１０≦４．０　（１）
　１．０≦ｄ９０／ｄ５０≦３．０　（２）
　ｄ５０／ｄ１０が１．５以上であることは、粒子径が平均以下の領域における無機粒子の粒度分布が広いことを意味している。ｄ５０／ｄ１０を１．５以上とすることにより、凹凸表面に細かい凹凸が付与されやすくなるため、Ｓａｌを小さくしやすくできる。ｄ５０／ｄ１０を４．０以下とすることにより、防眩層に埋没する無機粒子の量が増えることを抑制し、無機粒子の添加効率を上げることができる。
　ｄ９０／ｄ５０が１．０以上であることは、粒子径が平均以上の領域における無機粒子の粒度分布が広いことを意味している。ｄ９０／ｄ５０を１．０以上とすることにより、Ｖｖｖを大きくしやすく、かつ、Ｓａｌを大きくしやすくできる。ｄ９０／ｄ５０を３．０以下とすることにより、Ｖｖｖが大きくなり過ぎること、及び、Ｓａｌが大きくなり過ぎることを抑制しやすくできる。
　ｄ５０／ｄ１０は、下限は１．８以上であることより好ましく、２．０以上であることがさらに好ましく、上限は３．５以下であることより好ましく、３．０以下であることがさらに好ましい。
　ｄ９０／ｄ５０は、下限は１．３以上であることより好ましく、１．５以上であることがさらに好ましく、上限は２．５以下であることより好ましく、２．０以下であることがさらに好ましい。
　不定形無機粒子等の無機粒子のｄ１０、ｄ５０及びｄ９０は、レーザー回折法により測定することができる。
　第２実施形態において、不定形無機粒子等の無機粒子は、粒子径の体積基準の累積分布ｄ５０が、２．５μｍ以上５．５μｍ以下であることが好ましく、３．０μｍ以上５．０μｍ以下であることがより好ましく、３．３μｍ以上４．７μｍ以下であることがさらに好ましい。
　ｄ５０を２．５μｍ以上とすることにより、無機粒子の個数が増え過ぎることを抑制できるため、Ｓａｌが小さくなり過ぎることを抑制しやすくできる。ｄ５０を５．５μｍ以下とすることにより、無機粒子の個数が減り過ぎることを抑制できるため、Ｓａｌが大きくなり過ぎることを抑制しやすくできる。また、無機粒子の個数が減り過ぎることを抑制することにより、粒子の間に谷を形成しやすくできるため、Ｖｖｖを大きくしやすくできる。
　防眩層の厚みＴと、不定形無機粒子等の無機粒子のｄ５０との比（ｄ５０／Ｔ）の範囲の実施形態は、上述した通りである。
　防眩層の厚みＴと、不定形無機粒子等の無機粒子のｄ９０との比（ｄ９０／Ｔ）の範囲の実施形態は、上述した通りである。
　不定形無機粒子等の無機粒子の含有量の範囲の実施形態は、上述した通りである。
　第２実施形態において、有機粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して、１質量部以上２５質量部以下であることが好ましく、３量部以上１８質量部以下であることがより好ましく、８質量部以上１４質量部以下であることがさらに好ましい。
　有機粒子の含有量を１質量部以上とすることにより、無機粒子の凝集を抑制しやすくできる。また、有機粒子の含有量を１質量部以上とすることにより、有機粒子の個数が減り過ぎることを抑制できるため、粒子の間に谷を形成しやすくできる。このため、Ｖｖｖを大きくしやすくできる。なお、粒子の数が減ると、Ｖｍｐが増加する傾向がある。
　有機粒子は粒子径分布が比較的均一であるため、有機粒子の含有量が増加すると、Ｓａｌが小さくなる傾向が強くなる。このため、有機粒子の含有量を２５質量部以下とすることにより、Ｓａｌが小さくなり過ぎることを抑制し、指紋拭き取り性を良好にしやすくできる。
　第２実施形態において、有機粒子の平均粒子径は、１．０μｍ以上５．０μｍ以下であることが好ましく、１．２μｍ以上３．０μｍ以下であることがより好ましく、１．３μｍ以上２．５μｍ以下であることがさらに好ましい。
　有機粒子の平均粒子径を１．０μｍ以上とすることにより、有機粒子の個数が増え過ぎることを抑制できるため、Ｓａｌが小さくなり過ぎることを抑制しやすくできる。このため、有機粒子の平均粒子径を１．０μｍ以上とすることにより、指紋拭き取り性を良好にしやすくできる。有機粒子の平均粒子径を５．０μｍ以下とすることにより、有機粒子の個数が減り過ぎることを抑制できるため、粒子の間に谷を形成しやすくできる。このため、Ｖｖｖを大きくしやすくでき。なお、粒子の数が減ると、Ｖｍｐが増加する傾向がある。
　第２実施形態において、有機粒子は、粒度分布が狭いものが好ましい。具体的には、第２実施形態において、有機粒子は、平均粒子径の±０．５μｍの範囲内の粒子の割合が、有機粒子の全量の８０体積％以上であることが好ましく、８５体積％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。有機粒子の粒度分布を狭くすることで、均一な粒径の有機粒子が緻密に配置されて、Ｖｖｖが大きくなり過ぎることを抑制しやすくできる。
　有機粒子の形状の実施形態は上述した通りである。
　第２実施形態において、防眩層の厚みに対する有機粒子の平均粒子径（有機粒子の平均粒子径／防眩層の厚み）は、０．２０以上０．７０以下であることが好ましく、０．２３以上０．５０以下であることがより好ましく、０．２５以上０．３５以下であることがさらに好ましい。有機粒子の平均粒子径／防眩層の厚みを前記範囲とすることにより、Ｖｖｖ及びＳａｌを上述した範囲にしやすくできる。
―無機微粒子―
　上述したように、防眩層は、バインダー樹脂及び粒子に加えて、さらに無機微粒子を含んでいてもよい。
　無機微粒子の材質及び平均粒子径の実施形態は、上述した通りである。
―バインダー樹脂―
　上述したように、バインダー樹脂は、耐擦傷性を良好にしやすくするため、熱硬化性樹脂組成物の硬化物又は電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物等の硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましく、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがより好ましい。
　上述したように、バインダー樹脂は、本開示の効果を阻害しない範囲で、熱可塑性樹脂を含んでいてもよい。
　硬化性樹脂組成物の硬化物及び熱可塑性樹脂等のバインダー樹脂の実施形態は、特に言及しない限り上述した通りである。
　第２実施形態において、バインダー樹脂が電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含む場合、電離放射線硬化性樹脂組成物は、多官能（メタ）アクリレートモノマー及び多官能（メタ）アクリレートオリゴマーを含むことが好ましい。
　第２実施形態において、多官能（メタ）アクリレートモノマーと多官能（メタ）アクリレートオリゴマーとの質量比は、５：９５～６０：４０であることが好ましく、２０：８０～６０：４０であることがより好ましく、４０：６０～６０：４０であることがさらに好ましい。
　多官能（メタ）アクリレートモノマーを所定の割合以上とすることにより、防眩層の耐擦傷性を良好にしやすくできる。
　多官能（メタ）アクリレートオリゴマーを所定の割合以上とすることにより、防眩層用塗布液の粘度を高め、防眩層の下方に粒子が沈むことを抑制しやすくできるとともに、粒子に基づく凸部の間にバインダー樹脂が流れ落ちることを抑制しやすくできる。このため、Ｖｖｖを所定の値以上にしやすく、かつＳａｌを所定の値以下にしやすくできる。一方、多官能（メタ）アクリレートオリゴマーの割合が多くなり過ぎると、防眩層の強度が低下する場合がある。また、防眩層用塗布液の粘度が高すぎると、Ｖｍｐが大きくなり過ぎたり、Ｓａｌが小さくなり過ぎたりする場合がある。このため、電離放射線硬化性樹脂組成物は、所定量の多官能（メタ）アクリレートオリゴマーと、所定量の多官能（メタ）アクリレートモノマーとを含むことが好ましい。
―溶剤、乾燥条件―
　上述したように、防眩層塗布液は、粘度を調節したり、各成分を溶解または分散可能としたりするために溶剤を含むことが好ましい。
　溶剤の種類及び配合量等の実施形態は、特に言及しない限り上述した通りである。
　第２実施形態において、防眩層塗布液中の溶剤は、蒸発速度が速い溶剤を主成分とすることが好ましい。溶剤の蒸発速度を速くすることにより、粒子が防眩層の下部に沈むことを抑制し、さらには、粒子に基づく凸部の間にバインダー樹脂が流れ落ちることを抑制しやすくできる。このため、Ｖｖｖを所定の値以上にしやすく、かつＳａｌを所定の値以下にしやすくできる。
　第２実施形態において、防眩層塗布液から防眩層を形成する際には、乾燥条件を制御することが好ましい。
　乾燥条件は、乾燥温度及び乾燥機内の風速により制御することができる。乾燥温度は３０℃以上１２０℃以下が好ましく、乾燥風速は０．２ｍ／ｓ以上５０ｍ／ｓ以下が好ましい。また、乾燥により防眩層の表面形状を制御するために、電離放射線の照射は塗布液の乾燥後に行うことが好適である。
　乾燥条件は、上記の温度範囲及び風速範囲において、２段階の乾燥を実施することが好ましい。そして、１段階目の乾燥に比べて、２段階目の乾燥を、乾燥温度を高温として、かつ、風速を強くすることが好ましい。１段階目にゆっくり乾燥させることで、不定形無機粒子の表面をバインダー樹脂が覆った際に、バインダー樹脂の表面に不定形無機粒子の形状を反映させやすくできる。また、１段階目の乾燥より２段階目の乾燥温度を高温として、風速を強くすることにより、有機粒子の凝集を抑制しやすくできるため、有機粒子を緻密に配置しやすくできる。したがって、２段階の乾燥とすることにより、Ｖｖｖを所定の値以上にしやすく、かつＳａｌを所定の値以下にしやすくできる。
　１段階目の乾燥は、乾燥温度を３０℃以上６０℃未満、乾燥風速を０．２ｍ／ｓ以上７ｍ／ｓ未満とすることが好ましい。２段階目の乾燥は、乾燥温度を６０℃以上１２０℃以下、乾燥風速を７ｍ／ｓ以上５０ｍ／ｓ以下とすることが好ましい。
《反射防止層》
　第２実施形態において、反射防止層は、第１面側の最表面に位置することが好ましい。
　反射防止層の構造、低屈折率層及び高屈折率層等の反射防止層を構成する層の形成方法、低屈折率層及び高屈折率層を形成する材料の実施形態は、特に言及しない限り上述した通りである。
　低屈折率層の屈折率、低屈折率層の厚み、低屈折率層のバインダー樹脂の実施形態は上述したとおりである。
　第２実施形態において、低屈折率層のバインダー樹脂は、熱可塑性樹脂を含んでいてもよい。バインダー樹脂として熱可塑性樹脂を含むことにより、低屈折率層用塗布液の粘度を高め、低屈折率層用塗布液が防眩層の凸部の間に流れ落ちにくくなる。このため、バインダー樹脂として熱可塑性樹脂を含むことにより、Ｖｖｖを所定の値以上にしやすく、かつ、Ｓａｌを所定の値以下にしやすくできる。さらに、第１面の表面近傍に有機Ｓｉ及びフッ素を残存させやすくなるため、式２～４の元素比率を満たしやすくできる。一方、低屈折率層用塗布液の粘度が高くなり過ぎると、反射防止層用塗布液の塗布時に防眩層の表面に欠陥が生じる場合がある。
　熱可塑性樹脂の含有量は、上述した作用及び塗膜強度のため、バインダー樹脂の全量の０．１質量％以上３．０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０．２質量％以上１．５質量％以下、さらに好ましくは０．３質量％以上０．７質量％以下である。
　熱可塑性樹脂の種類及び重量平均分子量の実施形態は、上述した通りである。
　中空粒子及び中実粒子等の低屈折率粒子の実施形態は、特に言及しない限り上述した通りである。
　中空粒子及び中実粒子の平均一次粒子径、中空粒子及び中実粒子の含有量の実施形態は上述した通りである。
　第２実施形態において、低屈折率層は、第１表面が上記式２～４の元素比率を満たしやすくするため、有機Ｓｉ及びフッ素を含むレベリング剤を含むことが好ましい。
　前記レベリング剤の構成、前記レベリング剤の含有量等の実施形態は上述した通りである。
　上述したように、高屈折率層は、低屈折率層よりも防眩層側に配置することが好ましい。
　高屈折率層の屈折率、高屈折率層の厚み、高屈折率層のバインダー樹脂、高屈折率粒子、高屈折率粒子の平均一次粒子径、及び高屈折率粒子の含有量の実施形態は上述した通りである。
　低屈折率層及び高屈折率層等の反射防止層をウェット法により形成する場合、反射防止層用塗布液の粘度を高くすることが好ましい。反射防止層用塗布液の粘度を高くすることにより、反射防止層用塗布液が防眩層の凸部の間に流れ落ちにくくなるため、防眩層上に反射防止層を形成しても、防眩層の表面形状を維持しやすくできる。このため、反射防止層用塗布液の粘度を適度に高くすることにより、Ｖｖｖを所定の値以上にしやすく、かつ、Ｓａｌを所定の値以下にしやすくできる。さらに、第１面の表面近傍に有機Ｓｉ及びフッ素を残存させやすくなるため、式２～４の元素比率を満たしやすくできる。例えば、バインダー樹脂として熱可塑性樹脂を添加したり、電離放射線硬化性樹脂組成物としてオリゴマーの割合を増やしたり、溶剤として粘度の高い溶剤を選択したりすることなどにより、反射防止層用塗布液の粘度を高くすることができる。
　一方、反射防止層用塗布液の粘度を高くし過ぎると、反射防止層用塗布液の塗布時に防眩層の表面に欠陥が生じる場合がある。
　このため、反射防止層用塗布液の２３℃の粘度は、０．１ｍＰａ・ｓ以上５．０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。
　反射防止層用塗布液の溶剤としては、防眩層用塗布液の溶剤の実施形態と同様のものが挙げられる。
　反射防止層塗布液から防眩層を形成する際には、乾燥条件を制御することが好ましい。
　乾燥条件は、乾燥温度及び乾燥機内の風速により制御することができる。乾燥温度は３０℃以上７０℃以下が好ましく、乾燥風速は１０ｍ／ｓ以上３０ｍ／ｓ以下が好ましい。乾燥温度を低温とすることにより、反射防止層用塗布液の粘度を高くしやすくできる。また、風速を強くすることにより、反射防止層用塗布液の粘度を速やかに上げることができる。したがって、反射防止層用塗布液を比較的低温、かつ、強い風速で乾燥することにより、反射防止層用塗布液が防眩層の凸部の間に流れ落ちにくくすることができる。すなわち、反射防止層用塗布液を比較的低温、かつ、強い風速で乾燥することにより、第１面のＶｖｖ等の表面形状を上述した範囲にしやすくでき、かつ、式１～４を満たしやすくできる。
　電離放射線の照射は反射防止層用塗布液の乾燥後に行うことが好適である。
―３層構造以上の多層構造の場合―
　３層構造以上の反射防止層の積層構成、各層の厚みの実施形態は、上述した通りである。
＜光学特性＞
　第２実施形態の光学フィルムは、下記の手法により測定される全光線反射率であるＲＳＣＩが３．０％以下であることが好ましい。
［全光線反射率（ＲＳＣＩ）の測定］
　前記光学フィルムの前記第２面側に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記光学フィルム側を光入射面として全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定する。
　ＲＳＣＩを３．０％以下とすることにより、照度が強い光が第１面に入射しない環境において、黒表示部の黒味を高めやすくできるため、コントラストを良好にしやすくできる。光学フィルムのＲＳＣＩは、２．５％以下であることがより好ましく、２．０％以下であることがさらに好ましい。光学フィルムのＲＳＣＩの下限は特に制限されないが、通常は０．１％以上である。
　通常、ＲＳＣＩを３．０％以下とした場合、指紋成分を有する箇所と、指紋成分を有さない箇所との反射率のコントラストが大きくなり、光学フィルムの見栄えが大きく低下しやすくなる。しかし、本開示の光学フィルムは、落下式接触角を高くすることにより指紋拭き取り性が良好であるため、ＲＳＣＩを３．０％以下としても、光学フィルムの見栄えが低下することを抑制しやすくできる。
　ＲＳＣＩは、積分球を用いてサンプル表面にあらゆる方向から光を与え、正反射方向に相当するライトトラップを閉じて測定される反射光である。
　ＲＳＣＩの測定装置、ＲＳＣＩを測定する際に用いるサンプルの実施形態は上述した通りである。
　光学フィルムは、ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１：１９９７の全光線透過率が上述した範囲であることが好ましい。光学フィルムは、ＪＩＳ　Ｋ７１３６：２０００のヘイズが上述した範囲であることが好ましい。光学フィルムは、内部ヘイズが上述した範囲であることが好ましい。
　光学フィルムは、ＪＩＳ　Ｋ７３７４：２００７に準拠して測定した透過像鮮明度に関して、Ｃ0.125、Ｃ0.25、Ｃ0.5、Ｃ1.0及びＣ2.0が上述した範囲であることが好ましい。光学フィルムは、Ｃ0.125、Ｃ0.5、Ｃ1.0及びＣ2.0の合計が上述した範囲であることが好ましい。
＜大きさ、形状等＞
　光学フィルムの大きさ、光学フィルムの形状、光学フィルムの第２表面の表面形状の実施形態は上述した通りである。
［第２実施形態の光学フィルムの製造方法］
　本開示の第２実施形態の光学フィルムの製造方法は、上述した本開示の光学フィルムの製造方法であって、基材上に防眩層を形成する第１の工程と、前記防眩層上に反射防止層を形成する第２の工程とを有するものである。
　基材上に防眩層を形成する手段としては、上述した、（Ａ）エンボスロールを用いた方法、（Ｂ）エッチング処理、（Ｃ）型による成型、（Ｄ）塗布による塗膜の形成、が挙げられる。
　（Ａ）の方法の場合、例えば、基材上に樹脂層を形成し、樹脂層側からエンボスロールを用いて賦型することにより、基材上に防眩層を形成できる。
　（Ｂ）の方法の場合、例えば、基材上に光硬化性樹脂の層を形成し、フォトエッチングすることにより、基材上に防眩層を形成できる。
　（Ｃ）の方法の場合、例えば、型に樹脂を流し込み、成形した樹脂を型から取り出すとともに、基材上に配置することにより、基材上に防眩層を形成することができる。
　（Ｄ）の方法の場合、例えば、基材上に、上述した（ｄ１）又は（ｄ２）の手法により塗膜を形成することにより、基材上に防眩層を形成することができる。
　防眩層上に反射防止層を形成する手段としては、例えば、上述した、ウェット法又はドライ法が挙げられる。
［第２実施形態の偏光板］
　本開示の第２実施形態の偏光板は、偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第一の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第二の透明保護板とを有する偏光板であって、
　前記第一の透明保護板及び前記第二の透明保護板の少なくとも一方が、上述した本開示の第２実施形態の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記偏光子とが対向して配置されたものである。
＜偏光子＞
　偏光子の実施形態は上述した通りである。
＜透明保護板＞
　偏光子の一方の側には第一の透明保護板、他方の側には第二の透明保護板が配置される。第一の透明保護板及び第二の透明保護板の少なくとも一方は、上述した本開示の第２実施形態の光学フィルムである。
　本開示の偏光板は、第一の透明保護板及び第二の透明保護板の一方が上述した本開示の第２実施形態の光学フィルムであってもよいし、第一の透明保護板及び第二の透明保護板の両方が上述した本開示の第２実施形態の光学フィルムであってもよい。
　第一の透明保護板及び第二の透明保護板のうち、本開示の第２実施形態の光学フィルムではない透明保護板としては、汎用のプラスチックフィルム及びガラス等を用いることができる。
　偏光子と透明保護板とは、接着剤を介して貼り合わせることが好ましい。接着剤は汎用の接着剤を用いることができ、ＰＶＡ系接着剤が好ましい。
［第２実施形態の画像表示装置用の表面板］
　本開示の第２実施形態の画像表示装置用の表面板は、樹脂板又はガラス板上に保護フィルムを貼り合わせた画像表示装置用の表面板であって、前記保護フィルムが上述した本開示の第２実施形態の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記樹脂板又は前記ガラス板とが対向して配置されたものである。
　樹脂板又はガラス板の実施形態は上述した通りである。
［第２実施形態の画像表示パネル］
　本開示の第２実施形態の画像表示パネルは、表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムを有する画像表示パネルであって、前記光学フィルムとして上述した本開示の第２実施形態の光学フィルムを含むものである（図５参照）。
　画像表示パネル内において、本開示の第２実施形態の光学フィルムは、第２面側が表示素子側を向くように配置することが好ましい。
　画像表示パネル内において、本開示の第２実施形態の光学フィルムは、表示素子の光出射面側の最表面に配置することが好ましい。
　表示素子の実施形態及び画像表示パネルの大きさの実施形態は上述した通りである。タッチパネル付きの画像表示パネルの実施形態は上述した通りである。
［第２実施形態の画像表示装置］
　本開示の第２実施形態の画像表示装置は、本開示の第２実施形態の画像表示パネルを含むものである。
　本開示の第２実施形態の画像表示装置は、本開示の第２実施形態の画像表示パネルを含むものであれば特に限定されない。本開示の第２実施形態の画像表示装置は、本開示の第２実施形態の画像表示パネルと、前記画像表示パネルに電気的に接続された駆動制御部と、これらを収容する筐体とを備えることが好ましい。
　バックライトの実施形態、画像表示装置の大きさの実施形態は、上述した通りである。
［第２実施形態の光学フィルムの選定方法］
　本開示の光第２実施形態の学フィルムの選定方法は、下記の選定条件を満たす光学フィルムを選定するものである。
（光学フィルムの選定条件）
　第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
　前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
　前記第１面は凹凸形状を有し、
　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される突出谷部空間体積であるＶｖｖが０．００５ｍｌ／ｍ２以上であり、
　下記の手法により測定される落下式接触角が３０．０度以上である。
＜落下式接触角の測定＞
　前記光学フィルムの前記第１面に対して、表面張力が３０ｍＮ／ｍの液滴を４５ｍｍの高さから落下させる。前記液滴は、前記第１面の垂直方向から落下させる。着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法により測定する。
本開示の画像表示パネルを含むものである。
　本開示の第２実施形態の光学フィルムの選定方法では、追加の選定条件を有していてもよい。追加の選定条件としては、第２実施形態の光学フィルムの好適な実施形態が挙げられる。追加の選定条件としては、例えば、下記Ａ～Ｄが挙げられる。
　Ａ：Ｖｖｖ／Ｖｖｃが、０．１０以下。
　Ｂ：前記光学フィルムが、前記第１面から前記第２面に向けて、前記反射防止層、前記防眩層及び基材をこの順に有する。
　Ｃ：元素比率が、下記の式２～４を満たす。
　　　３．５≦Ｆ／無機Ｓｉ≦１０．０　（式２）
　　　０．０８≦有機Ｓｉ／無機Ｓｉ≦１．００　（式３）
　　　５．０≦Ｆ／有機Ｓｉ≦５０．０　（式４）
　Ｄ：下記の手法により測定される全光線反射率であるＲＳＣＩが３．０％以下。
［全光線反射率（ＲＳＣＩ）の測定］
　前記光学フィルムの前記第２面側に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記光学フィルム側を光入射面として全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定する。
　本開示の第２実施形態の光学フィルムの選定方法によれば、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な光学フィルムを、効率よく選定することができる。
［指紋拭き取り性の評価方法］
　本開示の指紋拭き取り性の評価方法は、下記の測定により測定した落下式接触角の値を評価指標とするものである。
＜落下式接触角の測定＞
　測定対象物の表面に対して、表面張力が３０ｍＮ／ｍの液滴を４５ｍｍの高さから落下させる。前記液滴は、前記表面の垂直方向から落下させる。着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法により測定する。
　本開示の指紋拭き取り性の評価方法によれば、測定対象物の指紋拭き取り性を簡易に評価することができる。具体的には、落下式接触角の値が小さいほど、指紋拭き取り性が良好であると評価することができる。
　本開示は、以下の［１］～［３４］を含む。
［１］　第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
　前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
　前記第１面は凹凸形状を有し、
　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、
　前記第１面が下記式１を満たす、光学フィルム。
　Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００　（式１）
　［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
［２］　前記第１面は、Ｖｍｐが０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下である、［１］に記載の光学フィルム。
［３］　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定され、コア部と突出谷部を分離する負荷面積率を８０％として算出した突出谷部空間体積であるＶｖｖが０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下である、［１］又は［２］に記載の光学フィルム。
［４］　前記第１面は、Ｖｖｖと、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定されるコア部空間体積であるＶｖｃとの比（Ｖｖｖ／Ｖｖｃ）が、０．１０以下である、［３］に記載の光学フィルム。
［５］　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される最小自己相関長さであるＳａｌが４．０μｍ以上１２．０μｍ以下である、［１］～［４］の何れかに記載の光学フィルム。
［６］　前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、前記反射防止層、前記防眩層及び基材をこの順に有する、［１］～［５］の何れかに記載の光学フィルム。
［７］　前記防眩層が、バインダー樹脂及び粒子を含む、［１］～［６］の何れかに記載の光学フィルム。
［８］　前記光学フィルムは、前記第１面側の表面領域をＸ線光電子分光法により分析して得られる元素比率が、下記の式２～４を満たす、［１］～［６］の何れかに記載の光学フィルム。
　３．５≦Ｆ／無機Ｓｉ≦１０．０　（式２）
　０．０８≦有機Ｓｉ／無機Ｓｉ≦１．００　（式３）
　５．０≦Ｆ／有機Ｓｉ≦５０．０　（式４）
［式２～４中、「Ｆ」はフッ素元素の比率であり、「無機Ｓｉ」は無機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率であり、「有機Ｓｉ」は有機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率である。］
［９］　前記Ｘ線光電子分光法により分析して得られる元素比率に関して、全元素に対する無機Ｓｉの割合が２原子％以上２０原子％以下である、［８］に記載の光学フィルム。
［１０］　前記光学フィルムは、下記の手法により測定される全光線反射率であるＲＳＣＩが３．０％以下である、［１］～［９］の何れかに記載の光学フィルム。
［全光線反射率（ＲＳＣＩ）の測定］
　前記光学フィルムの前記第２面側に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記光学フィルム側を光入射面として全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定する。
［１１］　ＪＩＳ　Ｋ７１３６：２０００のヘイズが２０％以上７５％以下である、［１］～［１０］の何れかに記載の光学フィルム。
［１２］　偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第一の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第二の透明保護板とを有する偏光板であって、
　前記第一の透明保護板及び前記第二の透明保護板の少なくとも一方が、［１］～［１１］の何れかに記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記偏光子とが対向して配置された、偏光板。
［１３］　樹脂板又はガラス板上に保護フィルムを貼り合わせた画像表示装置用の表面板であって、前記保護フィルムが［１］～［１１］の何れかに記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記樹脂板又は前記ガラス板とが対向して配置された、画像表示装置用の表面板。
［１４］　表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムを有する画像表示パネルであって、前記光学フィルムとして［１］～［１１］の何れかに記載の光学フィルムを含む、画像表示パネル。
［１５］　［１４］に記載の画像表示パネルを含む、画像表示装置。
［１６］　［１］～［１１］の何れかに記載の光学フィルムの製造方法であって、
　基材上に防眩層を形成する第１の工程と、前記防眩層上に反射防止層を形成する第２の工程とを有する、光学フィルム製造方法。
［１７］　下記の選定条件を満たす光学フィルムを選定する、光学フィルムの選定方法。
（光学フィルムの選定条件）
　第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
　前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
　前記第１面は凹凸形状を有し、
　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、
　前記第１面が下記式１を満たす。
　Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００　（式１）
　［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
［１８］　第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面を有する光学フィルムであって、
　前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
　前記第１面は凹凸形状を有し、
　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される突出谷部空間体積であるＶｖｖが０．００５ｍｌ／ｍ２以上であり、
　下記の手法により測定される落下式接触角が３０．０度以上である、光学フィルム。
＜落下式接触角の測定＞
　前記光学フィルムの前記第１面に対して、表面張力が３０ｍＮ／ｍの液滴を４５ｍｍの高さから落下させる。前記液滴は、前記第１面の垂直方向から落下させる。着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法により測定する。
［１９］　前記第１面は、Ｖｖｖと、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定されるコア部空間体積であるＶｖｃとの比（Ｖｖｖ／Ｖｖｃ）が、０．１０以下である、［１８］に記載の光学フィルム。
［２０］　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される最小自己相関長さであるＳａｌが４．０μｍ以上１２．０μｍ以下である、［１８］又は［１９］に記載の光学フィルム。
［２１］　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定され、負荷面積率２．５％の高さと、負荷面積率５０％の高さとの差分を意味する極点高さであるＳｘｐが０．１５μｍ以上２．００μｍ以である、［１８］～［２０］の何れかに記載の光学フィルム。
［２２］　前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、前記反射防止層、前記防眩層及び基材をこの順に有する、［１８］～［２１］の何れかに記載の光学フィルム。
［２３］　前記防眩層が、バインダー樹脂及び粒子を含む、［１８］～［２２］の何れかに記載の光学フィルム。
［２４］　前記光学フィルムは、前記第１面側の表面領域をＸ線光電子分光法により分析して得られる元素比率が、下記の式２～４を満たす、［１８］～［２３］の何れかに記載の光学フィルム。
　３．５≦Ｆ／無機Ｓｉ≦１０．０　（式２）
　０．０８≦有機Ｓｉ／無機Ｓｉ≦１．００　（式３）
　５．０≦Ｆ／有機Ｓｉ≦５０．０　（式４）
［式２～４中、「Ｆ」はフッ素元素の比率であり、「無機Ｓｉ」は無機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率であり、「有機Ｓｉ」は有機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率である。］
［２５］　前記Ｘ線光電子分光法により分析して得られる元素比率に関して、全元素に対する無機Ｓｉの割合が２原子％以上２０原子％以下である、［２４］に記載の光学フィルム。
［２６］　前記光学フィルムは、下記の手法により測定される全光線反射率であるＲＳＣＩが３．０％以下である、［１８］～［２５］の何れかに記載の光学フィルム。
［全光線反射率（ＲＳＣＩ）の測定］
　前記光学フィルムの前記第２面側に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記光学フィルム側を光入射面として全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定する。
［２７］　ＪＩＳ　Ｋ７１３６：２０００のヘイズが２０％以上７５％以下である、請求項［１８］～［２６］の何れかに記載の光学フィルム。
［２８］　偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第一の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第二の透明保護板とを有する偏光板であって、
　前記第一の透明保護板及び前記第二の透明保護板の少なくとも一方が、［１８］～［２７］の何れかに記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記偏光子とが対向して配置された、偏光板。
［２９］　樹脂板又はガラス板上に保護フィルムを貼り合わせた画像表示装置用の表面板であって、前記保護フィルムが［１８］～［２７］の何れかに記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記樹脂板又は前記ガラス板とが対向して配置された、画像表示装置用の表面板。
［３０］　表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムを有する画像表示パネルであって、前記光学フィルムとして［１８］～［２７］の何れかに記載の光学フィルムを含む、画像表示パネル。
［３１］　［３０］に記載の画像表示パネルを含む、画像表示装置。
［３２］　［１８］に記載の光学フィルムの製造方法であって、
　基材上に防眩層を形成する第１の工程と、前記防眩層上に反射防止層を形成する第２の工程とを有する、光学フィルム製造方法。
［３３］　下記の選定条件を満たす光学フィルムを選定する、光学フィルムの選定方法。
（光学フィルムの選定条件）
　第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
　前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
　前記第１面は凹凸形状を有し、
　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される突出谷部空間体積であるＶｖｖが０．００５ｍｌ／ｍ２以上であり、
　下記の手法により測定される落下式接触角が３０．０度以上である。
＜落下式接触角の測定＞
　前記光学フィルムの前記第１面に対して、表面張力が３０ｍＮ／ｍの液滴を４５ｍｍの高さから落下させる。前記液滴は、前記第１面の垂直方向から落下させる。着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法により測定する。
［３４］　下記の測定により測定した落下式接触角の値を評価指標とする、指紋拭き取り性の評価方法。
＜落下式接触角の測定＞
　測定対象物の表面に対して、表面張力が３０ｍＮ／ｍの液滴を４５ｍｍの高さから落下させる。前記液滴は、前記表面の垂直方向から落下させる。着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法により測定する。
　次に、本開示を実施例により更に詳細に説明するが、本開示はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、「部」及び「％」は特に断りのない限り質量基準とする。
《第１実施形態の実施例及び比較例》
１．測定及び評価
　以下のように、実施例及び比較例の光学フィルムの測定及び評価を行った。各測定及び評価時の雰囲気は、温度２３±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下とした。また、各測定及び評価の開始前に、対象サンプルを前記雰囲気に３０分以上６０分以下晒してから測定及び評価を行った。結果を表１又は２に示す。
１－１．表面形状の測定
　実施例及び比較例の光学フィルムを１０ｃｍ×１０ｃｍに切断した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。切断した光学フィルムの基材側をパナック社の光学透明粘着シート（商品名：パナクリーンPD-S1、厚み２５μｍ）を介して、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの大きさのガラス板（厚み２．０ｍｍ）に貼り合わせたサンプル１を作製した。
　共焦点レーザー顕微鏡（ＶＫ－Ｘ２５０(制御部)、ＶＫ－Ｘ２６０(測定部)）を用いて、計測ステージにサンプル１が固定かつ密着した状態となるようにセットしたのち、以下の測定条件１、画像処理条件１及び解析条件１にて、各サンプルの第１面の表面形状の測定及び解析を行った。なお、測定・解析ソフトにはマルチファイル解析アプリケーション（バージョン１．３．１．１２０）を用いた。
（測定条件１）
レーザー波長：４０８ｎｍ
測定用光学系：共焦点光学系
対物レンズ：１５０倍
Ｚｏｏｍ：１倍
測定領域：９３．９５μｍ×７０．４４μｍ
測定点の数：１０２４×７６８点
測定条件：透明体表面形状／高精度／ダブルスキャンあり
（画像処理条件１）
・ＤＣＬ／ＢＣＬ：ＤＣＬ＝１３０００，ＢＣＬ＝６５５３５，処理方法：周囲の画素から補完する
・高さカットレベル：強
（解析条件１）
・領域：全領域
・フィルター種別：ガウシアン
・Ｓ－フィルター：０．２５μｍ
・Ｆ－オペレーション：平面傾き補正（領域指定）
・Ｌ－フィルター：なし
・終端効果の補正：ＯＮ
・Ｓａｌ算出時のｓ：ｓ＝０．２０
・Ｓｘｐ算出時のｐ，ｑ：ｐ＝２．５％，ｑ＝５０．０％
　解析ソフトから、各測定領域の「Ｓａ」、「Ｖｍｐ」、「Ｖｖｖ」、「Ｖｖｃ」、「Ｓａｌ」、「Ｓｘｐ」を表示させて、測定値とした。
１－２．接触角
＜通常の接触角＞
　実施例及び比較例の光学フィルムを１０ｃｍ四方に切断した。切断した光学フィルムの基材側を、透明粘着シートを介して、ガラス板（縦１０ｃｍ×横１０ｃｍ、厚み２．０ｍｍ）に貼り合わせて測定用のサンプルを作製した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、光学フィルムのランダムな部位から選択した。光学フィルムとガラス板とを貼り合わせる際には、光学フィルムに皺が生じないようにするとともに、光学フィルムとガラス板との間に気泡が入らないようにした。
　接触角計（ＤＭ－３００、協和界面科学社）を用いて、各サンプルの第１面側の表面に純水を１．０μＬ滴下し、着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法に従って計測した。純水を滴下する際には、シリンジの針部がフッ素樹脂コートされたシリンジを用いた。
＜純水降下傾斜角＞
　明細書本文の（１）～（３）の手順に従い、各サンプルの純水降下傾斜角Ｓｗを測定した。測定装置は、接触角計（協和界面科学社の「DropMaster」シリーズの品番「DMo-701」。付属品として「SA-301」を使用）を用いた。
１－３．元素比率
　実施例及び比較例の光学フィルムから測定用片を切り出した。Ｘ線光電子分光分析装置を用いて、以下に記載する条件で、各測定用片の第１面側の表面領域のＣ１ｓ軌道、Ｏ１ｓ軌道、Ｓｉ２ｐ軌道、及び、Ｆ１ｓ軌道のＸ線光電子スペクトルを測定した。各Ｘ線光電子スペクトルについてピーク分離を行い、Ｆ元素及びＳｉ元素等の比率を求めた。また、Ｓｉ２ｐ軌道のＸ線光電子スペクトルから、無機ケイ素化合物に帰属するＳｉ元素（無機Ｓｉ）、及び、有機ケイ素化合物に帰属するＳｉ元素（有機Ｓｉ）、の割合を求めた。
＜測定＞
装置：島津製作所社製の商品名「Kratos　Nova」
Ｘ線源：ＡｌＫα
Ｘ線出力：１５０Ｗ
エミッション電流：１０ｍＡ
加速電圧：１５ｋＶ
測定領域：３００×７００μｍ
帯電中和機構：ON
パスエネルギー(ナロースペクトル測定時)：40eV
１－４．全光線反射率（ＲＳＣＩ）
　実施例及び比較例の光学フィルムを１０ｃｍ×１０ｃｍに切断した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。切断した光学フィルムの基材側をパナック社の光学透明粘着シート（商品名：パナクリーンPD-S1）を介して、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの大きさの黒色板（クラレ社、商品名：コモグラス　ＤＦＡ２ＣＧ　５０２Ｋ（黒）系、厚み２ｍｍ）に貼り合わせたサンプル２を作製した。
　積分球分光光度計（コニカミノルタ株式会社製、商品名：ＣＭ－２００２）を用い、サンプル２の第１面側から、全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定した。積分球分光光度計の光源はＤ６５、受光器の位置はサンプルの法線に対して＋８度であり、受光器の開口角は１０度であり、ライトトラップの位置はサンプルの法線に対して－８度であり、視野角は２度であった。
１－５．ヘイズ（Ｈｚ）
　実施例及び比較例の光学フィルムを１０ｃｍ四方に切断した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。ヘイズメーター（ＨＭ－１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、各サンプルのＪＩＳ　Ｋ７１３６：２０００のヘイズを測定した。
　光源が安定するよう事前に装置の電源スイッチをＯＮにしてから１５分以上待ち、入口開口に何もセットせずに校正を行い、その後に入口開口に測定サンプルをセットして測定した。光入射面は基材側とした。
　なお、実施例及び比較例の光学フィルムは、何れも全光線透過率が９０％以上であった。
１－６．透過像鮮明度
　実施例及び比較例の光学フィルムを１０ｃｍ四方に切断した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。スガ試験機社製の写像性測定器（商品名：ＩＣＭ－１Ｔ）を用いて、ＪＩＳ　Ｋ７３７４：２００７に準拠して、サンプルの透過像鮮明度を測定した。光学櫛の幅は０．１２５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ、２．０ｍｍの５つとした。測定時の光入射面は基材側とした。Ｃ0.125、Ｃ0.25、Ｃ0.5、Ｃ1.0及びＣ2.0の値と、Ｃ0.125、Ｃ0.5、Ｃ1.0及びＣ2.0の合計値を表２に示す。
１－７．黒味
　サンプルは、１－４で作製したサンプル２を用いた。観測者の目線を床から１６０ｃｍ前後に変更した以外は、１－４と同様にして、サンプルを観察した。
　下記評価ポイントに基づき、２０人の被験者が評価した。２０人の被験者は、２０歳台～５０歳台の各年代で５名ずつとした。２０人の評価の平均点を算出し、下記基準によりランク付けした。下記基準のランクが高いほど、黒表示部の黒味が良好であるといえる。
＜評価ポイント＞
（１）白さが感じられず十分に黒く感じられるもの：３点
（２）黒いがやや白さが感じられるもの：２点
（３）白さが気になるもの：１点
＜評価基準＞
Ａ：平均点が２．５以上
Ｂ：平均点が２．０以上２．５未満
Ｃ：平均点が１．５以上２．０未満
Ｄ：平均点が１．５未満
１－８．防眩性
　明室環境下で、高さ７０ｃｍの水平な台に、１－４で作製したサンプル２の凹凸表面が上になるように設置した。その際、照明光の概ね真下になるようにサンプルを設置した。サンプルを正面から観察して（ただし、観察者が照明光を遮らないようにした）、下記の評価基準で凹凸表面への照明光の映り込みを評価した。
　照明は、Ｈｆ３２形の直管三波長形昼白色蛍光灯を用い、照明の位置は水平台から鉛直方向２ｍ上方の高さとした。サンプルの凹凸表面上の照度が５００ｌｕｘ以上１０００ｌｕｘ以下となる範囲で評価した。観測者の目線は床から１２０ｃｍ前後とした。観測者は、視力０．７以上の健康な３０歳台の人とした。
＜評価基準＞
Ａ：照明の輪郭がなく、位置も分からない
Ｂ：照明の輪郭はないが、位置がぼんやりと分かる
Ｃ：照明の輪郭と位置がぼんやりと分かる
Ｄ：照明の輪郭のぼやけが弱く、位置もはっきりと分かる
１－９．指紋拭き取り性
　下記の人工垢０．１ｍｌをウエスに染み込ませた。染み込ませる時間は１０秒とした。ウエスは、日本製紙クレシア社の商品名「キムタオル　ワイパー」を用いた。
　ウエスに染み込ませた人工垢を、ゴムの表面に３００ｇ／ｃｍ２の荷重で転写した。ゴムの形状は、直径１２ｍｍの円柱形状とした。転写時間は５秒とした。ゴムの表面に転写した人工垢を、３００ｇ／ｃｍ２の荷重でサンプル２の第１面に転写した。転写時間は５秒とした。分光測色計（コニカミノルタ株式会社製、商品名：ＣＭ－６００ｄ）を用い、サンプル２の第１面側から、人工垢が転写した箇所の全光線反射ＳＣＩのＬ＊値、ａ＊値及びｂ＊値を測定した。得られたＬ＊値、ａ＊値及びｂ＊値を、Ｌ１、ａ１及びｂ１とする。
　次いで、人工垢を転写したサンプル２の黒色板側を、学振摩耗試験機（テスター産業（株）製、商品名「ＡＢ－３０１」）の土台に貼り合わせた。前記試験機の摩擦子にウエスを取り付け、下記の拭き取り条件でサンプル２の第１面に転写した人工垢を拭き取った。ウエスは、アズワン社の商品名「ASPURE　PROPREA　II」を用いた。分光測色計（コニカミノルタ株式会社製、商品名：ＣＭ－６００ｄ）を用い、サンプル２の第１面側から、人工垢を拭き取った箇所の全光線反射ＳＣＩのＬ＊値、ａ＊値及びｂ＊値を測定した。得られたＬ＊値、ａ＊値及びｂ＊値を、Ｌ２、ａ２及びｂ２とする。
　下記式により、色差（ΔＥ）を算出し、色差の値により下記基準によりランク付けした。下記基準のランクが高いほど、指紋拭き取り性が良好であるといえる。
　ΔＥ＝｛（Ｌ１－Ｌ２）２＋（ａ１－ａ２）２＋（ｂ１－ｂ２）２｝１／２
＜人工垢＞
　オレイン酸を約４５質量％、トリオレインを約２５質量％、オレイン酸コレステロールを約２０質量％、流動パラフィンを約４％、スクアレンを約４％、コレステロールを約２％含む液体（伊勢久社製の人工垢（ＪＩＳ　Ｃ９６０６：２００７の汚染液に準拠））。
＜拭き取り条件＞
・移動速度：１００ｍｍ／秒
・荷重：１５０ｇ／ｃｍ２
・拭き取り回数：片道１回
＜評価基準＞
Ａ：色差が２以下
Ｂ：色差が２超４以下
Ｃ：色差が４超７以下
Ｄ：色差が７超
１－１０．総合評価
　防眩性及び指紋拭き取り性の２つの評価を元に、下記の基準で総合評価を行った。
＜評価基準＞
Ａ：２つの評価の全てがＡであるもの。
Ｂ：２つの評価のうち、１つがＡであり、１つがＢであるもの。
Ｃ：２つの評価のうち、２つともＢであるもの。
Ｄ：２つの評価の中に、１つでもＣ又はＤがあるもの。
２．光学フィルムの作製
［実施例１－１］
　基材（厚み８０μｍのトリアセチルセルロース樹脂フィルム、富士フイルム社）上に、下記の防眩層塗布液１－１を塗布した。次いで、５０℃、風速２ｍ／ｓで４０秒間乾燥し、さらに、７０℃風速１５ｍ／ｓで４５秒間乾燥した。次いで、酸素濃度２００ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下にて積算光量が５０ｍＪ／ｃｍ２になるように紫外線を照射して、厚み５．５μｍの防眩層を形成した。
　次いで、防眩層上に、下記の低屈折率層塗布液１－１を塗布した。次いで、４０℃、風速２０ｍ／ｓで１５秒間乾燥し、さらに、７０℃風速１５ｍ／ｓで３０秒間乾燥した。次いで、酸素濃度２００ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下にて積算光量が１５０ｍＪ／ｃｍ２になるように紫外線を照射して、厚み０．１０μｍの低屈折率層を形成し、実施例１－１の光学フィルムを得た。低屈折率層の屈折率は１．３１であった。
＜防眩層塗布液１－１＞
・ウレタンアクリレートＡ　５０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１１００Ｈ：分子量８００、官能基数６）
・ウレタンアクリレートＢ　１０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　４０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子　２３部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：１．２μｍ、ｄ５０：３．８μｍ、ｄ９０：６．５μｍ）
・有機粒子Ｂ　８部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤　５．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤　１．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤　０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン）　１９５部
・溶剤（シクロヘキサノン）　５部
・溶剤（メチルイソブチルケトン）　１５部
＜低屈折率層塗布液１－１＞
・多官能アクリレート　１００部
（東亜合成社製、商品名「アロニックス　Ｍ－４００」）
・アクリルポリマー　０．５部（重量平均分子量：４０，０００）
・中空シリカ粒子　１８０部
（平均一次粒子径７５ｎｍ、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されてなる粒子）
・反応性官能基を有するフッ素系シリコーン系レベリング剤　６００部
（信越化学社、商品名「ＫＹ１２０３」、固形分：２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・光重合開始剤　５．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」）
・溶剤（メチルイソブチルケトン）　１１，０００部
・溶剤（１－メトキシ－２－プロピルアセテート）　１，３００部
［実施例１－２，１－３，１－５，１－６］
　防眩層塗布液１－１を下記の防眩層塗布液１－２～１－５に変更した以外は、実施例１－１と同様にして、実施例１－２，１－３，１－５，１－６の光学フィルムを得た。
［実施例１－４］
　防眩層塗布液１－１を下記の防眩層塗布液１－２に変更し、低屈折率層塗布液１－１を下記の低屈折率層塗布液１－２に変更した以外は、実施例１－１と同様にして、実施例１－４の光学フィルムを得た。
［実施例１－７］
　防眩層塗布液１－１を下記の防眩層塗布液１－６に変更し、防眩層の厚みを４．８μｍとした以外は、実施例１－１と同様にして、実施例１－７の光学フィルムを得た。
［実施例１－８］
　防眩層塗布液１－１を下記の防眩層塗布液１－２に変更し、低屈折率層塗布液１－１を下記の低屈折率層塗布液１－３に変更した以外は、実施例１－１と同様にして、実施例１－８の光学フィルムを得た。低屈折率層の屈折率は１．３６であった。
［比較例１－１］
　低屈折率層塗布液１－１を下記の低屈折率層塗布液１－４に変更した以外は、実施例１－１と同様にして、比較例１－１の光学フィルムを得た。
［比較例１－２～１－３］
　防眩層塗布液１－１を下記の防眩層塗布液１－２～１－３に変更した以外は、比較例１－１と同様にして、比較例１－２～１－３の光学フィルムを得た。
［比較例１－４］
　防眩層塗布液１－１を下記の防眩層塗布液１－７に変更し、防眩層の厚みを５．０μｍとした以外は、実施例１－１と同様にして、比較例１－４の光学フィルムを得た。
＜防眩層塗布液１－２＞
・ウレタンアクリレートＡ　５０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１１００Ｈ：分子量８００、官能基数６）
・ウレタンアクリレートＢ　１０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　４０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子　２１部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：１．２μｍ、ｄ５０：３．８μｍ、ｄ９０：６．５μｍ）
・有機粒子Ｂ　１０部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤　５．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤　１．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤　０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン）　１８５部
・溶剤（シクロヘキサノン）　１５部
・溶剤（メチルイソブチルケトン）　１５部
＜防眩層塗布液１－３＞
・ウレタンアクリレートＡ　５０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１１００Ｈ：分子量８００、官能基数６）
・ウレタンアクリレートＢ　１０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　４０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子　１９部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：１．２μｍ、ｄ５０：３．８μｍ、ｄ９０：６．５μｍ）
・有機粒子Ａ　３部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５１５）
・有機粒子Ｂ　５部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤　５．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤　１．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤　０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン）　１６５部
・溶剤（シクロヘキサノン）　２０部
・溶剤（メチルイソブチルケトン）　３０部
＜防眩層塗布液１－４＞
・ウレタンアクリレートＡ　５０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１１００Ｈ：分子量８００、官能基数６）
・ウレタンアクリレートＢ　１０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　４０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子　２０部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：１．２μｍ、ｄ５０：３．８μｍ、ｄ９０：６．５μｍ）
・有機粒子Ａ　８部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５１５）
・有機粒子Ｂ　２部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤　５．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤　１．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤　０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン）　１９０部
・溶剤（シクロヘキサノン）　１０部
・溶剤（メチルイソブチルケトン）　１５部
＜防眩層塗布液１－５＞
・ウレタンアクリレートＡ　５０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１１００Ｈ：分子量８００、官能基数６）
・ウレタンアクリレートＢ　１０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　４０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子　１０部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：１．０μｍ、ｄ５０：３．０μｍ、ｄ９０：４．８μｍ）
・有機粒子Ａ　５部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５１５）
・有機粒子Ｂ　５部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤　５．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤　１．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤　０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン）　１７０部
・溶剤（シクロヘキサノン）　４０部
・溶剤（メチルイソブチルケトン）　５部
＜防眩層塗布液１－６＞
・ウレタンアクリレートＣ　５０部
（三菱ケミカル社、商品名：Ｕ－１７００Ｂ：分子量２，０００、官能基数１０）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　５０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・有機粒子Ｃ　１１部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径３．０μｍ、屈折率１．５９５）
・無機超微粒子　７０部
（表面に反応性官能基が導入されたシリカ、溶剤：ＭＩＢＫ、固形分：３０％）
（平均一次粒子径１２ｎｍ）
・光重合開始剤　５．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤　１．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤　０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン）　１７０部
・溶剤（シクロヘキサノン）　２５部
＜防眩層塗布液１－７＞
・ウレタンアクリレートＡ　３０部
（三菱ケミカル社、商品名：Ｕ－１７００Ｂ：分子量２，０００、官能基数１０）
・ウレタンアクリレートＢ　１０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　６０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子　３部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：１．０μｍ、ｄ５０：３．０μｍ、ｄ９０：４．８μｍ）
・有機粒子Ｂ　０．５部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤　５．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤　１．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤　０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン）　１８０部
・溶剤（シクロヘキサノン）　５部
・溶剤（メチルイソブチルケトン）　２５部
＜低屈折率層塗布液１－２＞
・多官能アクリレート　１８０部
（東亜合成社製、商品名「アロニックス　Ｍ－４００」）
・中空シリカ粒子　１００部
（平均一次粒子径７５ｎｍ、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されてなる粒子）
・反応性官能基を有するフッ素系シリコーン系レベリング剤　６００部
（信越化学社、商品名「ＫＹ１２０３」、固形分：２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・光重合開始剤　５部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」）
・溶剤（メチルイソブチルケトン）　１１，０００部
・溶剤（１－メトキシ－２－プロピルアセテート）　１，３００部
＜低屈折率層塗布液１－３＞
・多官能アクリレート　１００部
（東亜合成社製、商品名「アロニックス　Ｍ－４００」）
・中空シリカ粒子　１００部
（平均一次粒子径７５ｎｍ、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されてなる粒子）
・アクリルポリマー　０．５部（重量平均分子量：４０，０００）
・反応性官能基を有するフッ素系シリコーン系レベリング剤　２５０部
（信越化学社、商品名「ＫＹ１２０３」、固形分：２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・光重合開始剤　５部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」）
・溶剤（メチルイソブチルケトン）　１１，０００部
・溶剤（１－メトキシ－２－プロピルアセテート）　１，３００部
＜低屈折率層塗布液１－４＞
・多官能アクリレート　１００部
（東亜合成社製、商品名「アロニックス　Ｍ－４００」）
・アクリルポリマー　０．５部（重量平均分子量：４０，０００）
・中空シリカ粒子　１８０部
（平均一次粒子径７５ｎｍ、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されてなる粒子）
・反応性官能基を有するフッ素系シリコーン系レベリング剤　１５０部
（信越化学社、商品名「ＫＹ１２０３」、固形分：２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・光重合開始剤　５．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」）
・溶剤（メチルイソブチルケトン）　１１，０００部
・溶剤（１－メトキシ－２－プロピルアセテート）　１，３００部
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　表１の結果から、第１実施形態の実施例の光学フィルムは、防眩性及び指紋拭き取り性を良好にし得ることが確認できる。
《第２実施形態の実施例及び比較例》
３．測定及び評価
　以下のように、実施例及び比較例の光学フィルムの測定及び評価を行った。各測定及び評価時の雰囲気は、温度２３±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下とした。また、各測定及び評価の開始前に、対象サンプルを前記雰囲気に３０分以上６０分以下晒してから測定及び評価を行った。結果を表３又は４に示す。
３－１．表面形状の測定
　上記１－１と同様の手法により、実施例及び比較例の光学フィルムの表面形状を測定した。
３－２．接触角
＜通常の接触角＞
　上記１－２と同様の手法により、実施例及び比較例の光学フィルムの通常の接触角を測定した。
＜落下式接触角＞
　表面張力が３０ｍＮ／ｍの液滴を、シリンジの針部がフッ素樹脂コートされたシリンジに入れた。各サンプルの第１面に対して、表面張力が３０ｍＮ／ｍの液滴を、４５ｍｍの高さから自然落下させた。落下した液滴の量は５．０μｌであった。液体は下記の組成のものを用いた。液滴は、第１面の垂直方向から落下させた。着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法により測定した。測定装置は、接触角計（品番：ＤＭ－３００、協和界面科学社）を用いた。
＜液体の組成＞
　エチレングリコールモノエチルエーテルを１００質量％含む液体（富士フィルム和光純薬社、品番：ぬれ張力試験用混合液No.30）
３－３．元素比率
　上記１－３と同様の手法により、実施例及び比較例の光学フィルムの第１面側の表面領域の元素比率を測定した。
３－４．全光線反射率（ＲＳＣＩ）
　上記１－４と同様の手法により、実施例及び比較例の光学フィルムの全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定した。
３－５．ヘイズ（Ｈｚ）
　上記１－５と同様の手法により、実施例及び比較例の光学フィルムのヘイズを測定した。
　なお、実施例及び比較例の光学フィルムは、何れも全光線透過率が９０％以上であった。
３－６．透過像鮮明度
　上記１－６と同様の手法により、実施例及び比較例の光学フィルムの透過像鮮明度を測定した。
３－７．黒味
　上記１－７と同様の手法により、実施例及び比較例の光学フィルムの黒味を評価した。
３－８．防眩性
　上記１－８と同様の手法により、実施例及び比較例の光学フィルムの防眩性を評価した。
３－９．指紋拭き取り性
　上記１－９と同様の手法により、実施例及び比較例の光学フィルムの指紋拭き取り性を評価した。
３－１０．総合評価
　上記１－１０と同様の基準により、実施例及び比較例の光学フィルムの総合評価を行った。
４．光学フィルムの作製
［実施例２－１］
　基材（厚み８０μｍのトリアセチルセルロース樹脂フィルム、富士フイルム社）上に、下記の防眩層塗布液２－１を塗布した。次いで、５０℃、風速２ｍ／ｓで４０秒間乾燥し、さらに、７０℃風速１５ｍ／ｓで４５秒間乾燥した。次いで、酸素濃度２００ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下にて積算光量が５０ｍＪ／ｃｍ２になるように紫外線を照射して、厚み５．５μｍの防眩層を形成した。
　次いで、防眩層上に、下記の低屈折率層塗布液２－１を塗布した。次いで、４０℃、風速２０ｍ／ｓで１５秒間乾燥し、さらに、７０℃風速１５ｍ／ｓで３０秒間乾燥した。次いで、酸素濃度２００ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下にて積算光量が１５０ｍＪ／ｃｍ２になるように紫外線を照射して、厚み０．１０μｍの低屈折率層を形成し、実施例２－１の光学フィルムを得た。低屈折率層の屈折率は１．３１であった。
＜防眩層塗布液２－１＞
・ウレタンアクリレートＡ　３０部
（三菱ケミカル社、商品名：Ｕ－１７００Ｂ：分子量２，０００、官能基数１０）
・ウレタンアクリレートＢ　１０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　６０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子　２３部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：１．２μｍ、ｄ５０：３．７μｍ、ｄ９０：６．２μｍ）
・有機粒子Ｂ　８部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤　５．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤　１．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤　０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン）　１９０部
・溶剤（シクロヘキサノン）　５部
・溶剤（メチルイソブチルケトン）　２０部
＜低屈折率層塗布液２－１＞
・多官能アクリレート　１００部
（東亜合成社製、商品名「アロニックス　Ｍ－４００」）
・アクリルポリマー　０．５部（重量平均分子量：４０，０００）
・中空シリカ粒子　１８０部
（平均一次粒子径７５ｎｍ、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されてなる粒子）
・反応性官能基を有するフッ素系シリコーン系レベリング剤　６００部
（信越化学社、商品名「ＫＹ１２０３」、固形分：２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・光重合開始剤　５．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」）
・溶剤（メチルイソブチルケトン）　１１，０００部
・溶剤（１－メトキシ－２－プロピルアセテート）　１，３００部
［実施例２－２，２－３，２－５，２－６］
　防眩層塗布液２－１を下記の防眩層塗布液２－２～２－５に変更した以外は、実施例２－１と同様にして、実施例２－２，２－３，２－５，２－６の光学フィルムを得た。
［実施例２－４］
　防眩層塗布液２－１を下記の防眩層塗布液２－２に変更し、低屈折率層塗布液２－１を下記の低屈折率層塗布液２－２に変更した以外は、実施例２－１と同様にして、実施例２－４の光学フィルムを得た。
［実施例２－７］
　防眩層塗布液２－１を下記の防眩層塗布液２－６に変更し、防眩層の厚みを４．８μｍとした以外は、実施例２－１と同様にして、実施例２－７の光学フィルムを得た。
［実施例２－８］
　防眩層塗布液２－１を下記の防眩層塗布液２－２に変更し、低屈折率層塗布液２－１を下記の低屈折率層塗布液２－３に変更した以外は、実施例２－１と同様にして、実施例２－８の光学フィルムを得た。低屈折率層の屈折率は１．３６であった。
［比較例２－１］
　低屈折率層塗布液２－１を下記の低屈折率層塗布液２－４に変更した以外は、実施例２－１と同様にして、比較例２－１の光学フィルムを得た。
［比較例２－２～２－３］
　防眩層塗布液２－１を下記の防眩層塗布液２－２～２－３に変更した以外は、比較例２－１と同様にして、比較例２－２～２－３の光学フィルムを得た。
［比較例２－４］
　防眩層塗布液２－１を下記の防眩層塗布液２－７に変更し、防眩層の厚みを５．０μｍとした以外は、実施例２－１と同様にして、比較例２－４の光学フィルムを得た。
＜防眩層塗布液２－２＞
・ウレタンアクリレートＡ　３０部
（三菱ケミカル社、商品名：Ｕ－１７００Ｂ：分子量２，０００、官能基数１０）
・ウレタンアクリレートＢ　１０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　６０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子　２１部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：１．２μｍ、ｄ５０：３．７μｍ、ｄ９０：６．２μｍ）
・有機粒子Ｂ　１０部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤　５．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤　１．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤　０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン）　１８０部
・溶剤（シクロヘキサノン）　１５部
・溶剤（メチルイソブチルケトン）　２０部
＜防眩層塗布液２－３＞
・ウレタンアクリレートＡ　３０部
（三菱ケミカル社、商品名：Ｕ－１７００Ｂ：分子量２，０００、官能基数１０）
・ウレタンアクリレートＢ　１０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　６０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子　１９部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：１．２μｍ、ｄ５０：３．７μｍ、ｄ９０：６．２μｍ）
・有機粒子Ａ　３部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５１５）
・有機粒子Ｂ　５部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤　５．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤　１．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤　０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン）　１７５部
・溶剤（シクロヘキサノン）　１５部
・溶剤（メチルイソブチルケトン）　２５部
＜防眩層塗布液２－４＞
・ウレタンアクリレートＡ　３０部
（三菱ケミカル社、商品名：Ｕ－１７００Ｂ：分子量２，０００、官能基数１０）
・ウレタンアクリレートＢ　１０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　６０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子　２０部
（表面処理不定形シリカ、ｄ５０：３．５μｍ）
・有機粒子Ａ　８部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５１５）
・有機粒子Ｂ　２部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤　５．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤　１．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤　０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン）　２００部
・溶剤（シクロヘキサノン）　５部
・溶剤（メチルイソブチルケトン）　１０部
＜防眩層塗布液２－５＞
・ウレタンアクリレートＡ　３０部
（三菱ケミカル社、商品名：Ｕ－１７００Ｂ：分子量２，０００、官能基数１０）
・ウレタンアクリレートＢ　１０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　６０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子　１０部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：０．０８、ｄ５０：２．８μｍ、ｄ９０：４．５μｍ）
・有機粒子Ａ　５部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５１５）
・有機粒子Ｂ　５部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤　５．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤　１．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤　０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン）　１８０部
・溶剤（シクロヘキサノン）　３０部
・溶剤（メチルイソブチルケトン）　５部
＜防眩層塗布液２－６＞
・ウレタンアクリレートＣ　６０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１１００Ｈ：分子量８００、官能基数６）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　４０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・有機粒子Ｃ　１１部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径３．０μｍ、屈折率１．５９５）
・無機超微粒子　７０部
（表面に反応性官能基が導入されたシリカ、溶剤：ＭＩＢＫ、固形分；３０％）
（平均一次粒子径１２ｎｍ）
・光重合開始剤　５．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤　１．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤　０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン）　１８０部
・溶剤（シクロヘキサノン）　１５部
＜防眩層塗布液２－７＞
・ウレタンアクリレートＡ　３０部
（三菱ケミカル社、商品名：Ｕ－１７００Ｂ：分子量２，０００、官能基数１０）
・ウレタンアクリレートＢ　１０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　６０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子　３部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：０．０８、ｄ５０：２．８μｍ、ｄ９０：４．５μｍ）
・有機粒子Ｂ　０．５部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤　５．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤　１．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤　０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン）　１８０部
・溶剤（シクロヘキサノン）　５部
・溶剤（メチルイソブチルケトン）　２５部
＜低屈折率層塗布液２－２＞
・多官能アクリレート　１８０部
（東亜合成社製、商品名「アロニックス　Ｍ－４００」）
・中空シリカ粒子　１００部
（平均一次粒子径７５ｎｍ、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されてなる粒子）
・反応性官能基を有するフッ素系シリコーン系レベリング剤　６００部
（信越化学社、商品名「ＫＹ１２０３」、固形分：２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・光重合開始剤　５部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」）
・溶剤（メチルイソブチルケトン）　１１，０００部
・溶剤（１－メトキシ－２－プロピルアセテート）　１，３００部
＜低屈折率層塗布液２－３＞
・多官能アクリレート　１００部
（東亜合成社製、商品名「アロニックス　Ｍ－４００」）
・アクリルポリマー　０．５部（重量平均分子量：４０，０００）
・中空シリカ粒子　１００部
（平均一次粒子径７５ｎｍ、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されてなる粒子）
・反応性官能基を有するフッ素系シリコーン系レベリング剤　２５０部
（信越化学社、商品名「ＫＹ１２０３」、固形分：２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・光重合開始剤　５部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」）
・溶剤（メチルイソブチルケトン）　１１，０００部
・溶剤（１－メトキシ－２－プロピルアセテート）　１，３００部
＜低屈折率層塗布液２－４＞
・多官能アクリレート　１００部
（東亜合成社製、商品名「アロニックス　Ｍ－４００」）
・アクリルポリマー　０．５部（重量平均分子量：４０，０００）
・中空シリカ粒子　１８０部
（平均一次粒子径７５ｎｍ、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されてなる粒子）
・反応性官能基を有するフッ素系シリコーン系レベリング剤　１５０部
（信越化学社、商品名「ＫＹ１２０３」、固形分：２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・光重合開始剤　５．０部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」）
・溶剤（メチルイソブチルケトン）　１１，０００部
・溶剤（１－メトキシ－２－プロピルアセテート）　１，３００部
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　表３の結果から、第２実施形態の実施例の光学フィルムは、防眩性及び指紋拭き取り性を良好にし得ることが確認できる。
　１０：基材
　２０：防眩層
　３０：反射防止層
１００：光学フィルム
１１０：表示素子
１２０：画像表示パネル
２００：水平面
３００：台の平面
４００：液滴

 

Claims (34)

  1. 　第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
    　前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
    　前記第１面は凹凸形状を有し、
    　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、
    　前記第１面が下記式１を満たす、光学フィルム。
    　Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００　（式１）
    　［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
  2. 　前記第１面は、Ｖｍｐが０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下である、請求項１に記載の光学フィルム。
  3. 　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定され、コア部と突出谷部を分
    離する負荷面積率を８０％として算出した突出谷部空間体積であるＶｖｖが０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下である、請求項１又は２に記載の光学フィルム。
  4. 　前記第１面は、Ｖｖｖと、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定されるコア部空間体積であるＶｖｃとの比（Ｖｖｖ／Ｖｖｃ）が、０．１０以下である、請求項３に記載の光学フィルム。
  5. 　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される最小自己相関長さであるＳａｌが４．０μｍ以上１２．０μｍ以下である、請求項１又は２に記載の光学フィルム。
  6. 　前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、前記反射防止層、前記防眩層及び基材をこの順に有する、請求項１又は２に記載の光学フィルム。
  7. 　前記防眩層が、バインダー樹脂及び粒子を含む、請求項１又は２に記載の光学フィルム。
  8. 　前記光学フィルムは、前記第１面側の表面領域をＸ線光電子分光法により分析して得られる元素比率が、下記の式２～４を満たす、請求項１又は２に記載の光学フィルム。
    　３．５≦Ｆ／無機Ｓｉ≦１０．０　（式２）
    　０．０８≦有機Ｓｉ／無機Ｓｉ≦１．００　（式３）
    　５．０≦Ｆ／有機Ｓｉ≦５０．０　（式４）
    ［式２～４中、「Ｆ」はフッ素元素の比率であり、「無機Ｓｉ」は無機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率であり、「有機Ｓｉ」は有機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率である。］
  9. 　前記Ｘ線光電子分光法により分析して得られる元素比率に関して、全元素に対する無機Ｓｉの割合が２原子％以上２０原子％以下である、請求項８に記載の光学フィルム。
  10. 　前記光学フィルムは、下記の手法により測定される全光線反射率であるＲＳＣＩが３．０％以下である、請求項１又は２に記載の光学フィルム。
    ［全光線反射率（ＲＳＣＩ）の測定］
    　前記光学フィルムの前記第２面側に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記光学フィルム側を光入射面として全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定する。
  11. 　ＪＩＳ　Ｋ７１３６：２０００のヘイズが２０％以上７５％以下である、請求項１又は２に記載の光学フィルム。
  12. 　偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第一の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第二の透明保護板とを有する偏光板であって、
    　前記第一の透明保護板及び前記第二の透明保護板の少なくとも一方が、請求項１又は２に記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記偏光子とが対向して配置された、偏光板。
  13. 　樹脂板又はガラス板上に保護フィルムを貼り合わせた画像表示装置用の表面板であって、前記保護フィルムが請求項１又は２に記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記樹脂板又は前記ガラス板とが対向して配置された、画像表示装置用の表面板。
  14. 　表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムを有する画像表示パネルであって、前記光学フィルムとして請求項１又は２に記載の光学フィルムを含む、画像表示パネル。
  15. 　請求項１４に記載の画像表示パネルを含む、画像表示装置。
  16. 　請求項１に記載の光学フィルムの製造方法であって、
    　基材上に防眩層を形成する第１の工程と、前記防眩層上に反射防止層を形成する第２の工程とを有する、光学フィルム製造方法。
  17. 　下記の選定条件を満たす光学フィルムを選定する、光学フィルムの選定方法。
    （光学フィルムの選定条件）
    　第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
    　前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
    　前記第１面は凹凸形状を有し、
    　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、
    　前記第１面が下記式１を満たす。
    　Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００　（式１）
    　［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
  18. 　第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面を有する光学フィルムであって、
    　前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
    　前記第１面は凹凸形状を有し、
    　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される突出谷部空間体積であるＶｖｖが０．００５ｍｌ／ｍ２以上であり、
    　下記の手法により測定される落下式接触角が３０．０度以上である、光学フィルム。
    ＜落下式接触角の測定＞
    　前記光学フィルムの前記第１面に対して、表面張力が３０ｍＮ／ｍの液滴を４５ｍｍの高さから落下させる。前記液滴は、前記第１面の垂直方向から落下させる。着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法により測定する。
  19. 　前記第１面は、Ｖｖｖと、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定されるコア部空間体積であるＶｖｃとの比（Ｖｖｖ／Ｖｖｃ）が、０．１０以下である、請求項１８に記載の光学フィルム。
  20. 　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される最小自己相関長さであるＳａｌが４．０μｍ以上１２．０μｍ以下である、請求項１８又は１９に記載の光学フィルム。
  21. 　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定され、負荷面積率２．５％の高さと、負荷面積率５０％の高さとの差分を意味する極点高さであるＳｘｐが０．１５μｍ以上２．００μｍ以である、請求項１８又は１９に記載の光学フィルム。
  22. 　前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、前記反射防止層、前記防眩層及び基材をこの順に有する、請求項１８又は１９に記載の光学フィルム。
  23. 　前記防眩層が、バインダー樹脂及び粒子を含む、請求項１８又は１９に記載の光学フィルム。
  24. 　前記光学フィルムは、前記第１面側の表面領域をＸ線光電子分光法により分析して得られる元素比率が、下記の式２～４を満たす、請求項１８又は１９に記載の光学フィルム。
    　３．５≦Ｆ／無機Ｓｉ≦１０．０　（式２）
    　０．０８≦有機Ｓｉ／無機Ｓｉ≦１．００　（式３）
    　５．０≦Ｆ／有機Ｓｉ≦５０．０　（式４）
    ［式２～４中、「Ｆ」はフッ素元素の比率であり、「無機Ｓｉ」は無機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率であり、「有機Ｓｉ」は有機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率である。］
  25. 　前記Ｘ線光電子分光法により分析して得られる元素比率に関して、全元素に対する無機Ｓｉの割合が２原子％以上２０原子％以下である、請求項２４に記載の光学フィルム。
  26. 　前記光学フィルムは、下記の手法により測定される全光線反射率であるＲＳＣＩが３．０％以下である、請求項１８又は１９に記載の光学フィルム。
    ［全光線反射率（ＲＳＣＩ）の測定］
    　前記光学フィルムの前記第２面側に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記光学フィルム側を光入射面として全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定する。
  27. 　ＪＩＳ　Ｋ７１３６：２０００のヘイズが２０％以上７５％以下である、請求項１８又は１９に記載の光学フィルム。
  28. 　偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第一の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第二の透明保護板とを有する偏光板であって、
    　前記第一の透明保護板及び前記第二の透明保護板の少なくとも一方が、請求項１８又は１９に記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記偏光子とが対向して配置された、偏光板。
  29. 　樹脂板又はガラス板上に保護フィルムを貼り合わせた画像表示装置用の表面板であって、前記保護フィルムが請求項１８又は１９に記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記樹脂板又は前記ガラス板とが対向して配置された、画像表示装置用の表面板。
  30. 　表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムを有する画像表示パネルであって、前記光学フィルムとして請求項１８又は１９に記載の光学フィルムを含む、画像表示パネル。
  31. 　請求項３０に記載の画像表示パネルを含む、画像表示装置。
  32. 　請求項１８に記載の光学フィルムの製造方法であって、
    　基材上に防眩層を形成する第１の工程と、前記防眩層上に反射防止層を形成する第２の工程とを有する、光学フィルム製造方法。
  33. 　下記の選定条件を満たす光学フィルムを選定する、光学フィルムの選定方法。
    （光学フィルムの選定条件）
    　第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
    　前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
    　前記第１面は凹凸形状を有し、
    　前記第１面は、ＩＳＯ　２５１７８－２：２０１２に規定される突出谷部空間体積であるＶｖｖが０．００５ｍｌ／ｍ２以上であり、
    　下記の手法により測定される落下式接触角が３０．０度以上である。
    ＜落下式接触角の測定＞
    　前記光学フィルムの前記第１面に対して、表面張力が３０ｍＮ／ｍの液滴を４５ｍｍの高さから落下させる。前記液滴は、前記第１面の垂直方向から落下させる。着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法により測定する。
  34. 　下記の測定により測定した落下式接触角の値を評価指標とする、指紋拭き取り性の評価方法。
    ＜落下式接触角の測定＞
    　測定対象物の表面に対して、表面張力が３０ｍＮ／ｍの液滴を４５ｍｍの高さから落下させる。前記液滴は、前記表面の垂直方向から落下させる。着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法により測定する。
     

     
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