TWI840430B - 基板收納容器的成形方法、模具和基板收納容器 - Google Patents
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Abstract
本發明提供基板收納容器的成形方法、模具和基板收納容器,基板收納容器(1)的成形方法具有:容器主體成形工序,在具有定模(M2)和動模(M1)的模具(M)的內部的成形空間(M0)中,在正交於通過容器主體(2)的開口周緣部(28)的端緣整個周向的平面(P1)的方向(P2)相對於作為動模(M1)相對於定模(M2)的移動方向的水平方向(L1),向成規定的角度(a2)的方向傾斜的狀態下,對容器主體(2)進行成形;以及拉拔工序,使動模(M1)以從定模(M2)後退的方式移動,從動模(M1)拔出在成形空間(M0)中成形的容器主體(2)。
Description
本發明涉及對由半導體晶片等構成的基板進行收納、保管、輸送、運輸等時使用的基板收納容器的成形方法、模具和基板收納容器。
作為用於收納由半導體晶片構成的基板並在工廠內的工序中進行輸送的基板收納容器以往公知一種包括容器主體和蓋體的結構的(例如參照專利文獻1~專利文獻4)。
容器主體的一端部具有形成有容器主體開口部的開口周緣部。容器主體的另一端部具有封閉的筒狀的壁部。在容器主體內形成有基板收納空間。基板收納空間由壁部包圍而形成,能夠收納多個基板。蓋體能夠相對於開口周緣部裝拆,並且能夠封閉容器主體開口部。側方基板支承部以在基板收納空間內成對的方式設置在壁部。蓋體未封閉容器主體開口部時,側方基板支承部能夠在使相鄰的基板彼此以規定的間隔分離而並列的狀態下支承多個基板的邊緣部。
在蓋體的部分、且在封閉容器主體開口部時與基板收納空間相對的部分設置有前部保持構件。由蓋體封閉容器主體開口部時,前部保持構件能夠支承多個基板的邊緣部。此外,以與前部保持構件成對的方式在壁部設置有後側基板支承部。後側基板支承部能夠支承多個基板的邊緣部。由蓋體封閉容器主體開口部時,後側基板支承部與前部保持構件協同動作來支承多個基板,由此在使相鄰的基板彼此以規定的間隔分離而並列的狀態下保持多個基板。
現有技術文獻
專利文獻1:日本專利公開公報特開2016-186967號
專利文獻2:日本專利公報4584023號
專利文獻3:日本專利公報4030280號
專利文獻4:日本專利公報4150465號
在以往的基板收納容器中,需要相對於側方基板支承部在X、Y、Z方向的各方向上將基板承載於精密的位置。這是因為在對基板進行各種處理來製作成半導體晶片的過程中,通過裝置基板頻繁地進出基板收納容器,此時為了防止基板的破損、擦傷等。因此,一般來說,在承載基板的側方基板支承部的上表面的部分即與基板接觸的部分設置有突起,為了通過突起進行基板的精密的位置調整並成為相對於基板的最小的接觸面積,突起具有與基板的外周點接觸或線接觸數毫米的形狀。
通過注塑成形來成形並製造基板收納容器。並且,為了形成所述突起,需要在對基板收納容器進行成形的模具的對側方基板支承部進行成形的部分刻有成為突起的形狀的部分。但是,以往,相對於未將側方基板支承部一體成形於容器主體的情況,在想要將側方基板支承部一體成形於容器主體的內表面的情況下,從模具對容器主體進行脫模時,突起成為底切。因此,在一體成形的情況下需要在模具上設置滑動結構。
如果在模具上設置滑動結構,則模具的工作動作變得複雜,為了防止模具破損而需要降低動作速度。其結果,產生成形週期變長而生產效率下降的問題。此外,由於模具的結構複雜,所以難以為了吸收熔化樹脂的熱量而將使冷卻水在模具內迴圈的模具的冷卻回路以最佳回路設置在最佳的位置,從而產生冷卻時間延長的問題。
本發明的目的在於提供基板收納容器的成形方法、模具和基板收納容器,不在模具上設置滑動結構而能夠將容器主體和側方基板支承部一體成形。
本發明涉及一種基板收納容器的成形方法,所述基板收納容器包括:容器主體,在內部形成有能夠收納多個基板的基板收納空間,在一端部具有開口周緣部,所述開口周緣部形成有與所述基板收納空間連通的容器主體開口部;蓋體,能夠相對於所述開口周緣部裝拆,能夠以由所述開口周緣部包圍的位置關係封閉所述容器主體開口部;以及側方基板支承部,以在所述基板收納空間內成對的方式一體成形地設置於所述容器主體,在所述蓋體未封閉所述容器主體開口部時,能夠在使所述多個基板中相鄰的基板彼此以規定的間隔分離而並列的狀態下支承所述多個基板的邊緣部,所述側方基板支承部形成為具有沿連接所述容器主體的一端部的所述容器主體開口部和所述容器主體的相對於所述一端部的另一端部的方向延伸的上表面和下表面的板狀,所述側方基板支承部的上表面具有在支承所述基板的邊緣部時與所述基板接觸的基板接觸部,所述基板接觸部具有凸塊,所述凸塊的頂部在支承所述基板的邊緣部時與所述基板接觸,所述容器主體和所述側方基板支承部一體成形,所述基板收納容器的成形方法的特徵在於具有:容器主體成形工序,在具有定模和動模的模具的內部的成形空間中,在正交於通過所述容器主體的開口周緣部的端緣整個周向的平面的方向相對於作為所述動模相對於所述定模的移動方向的水平方向,向成規定的角度的方向傾斜的狀態下,對所述容器主體進行成形;以及拉拔工序,使所述動模以從所述定模後退的方式移動,從所述動模拔出在所述成形空間中成形的所述容器主體。
此外,優選的是,所述凸塊的所述容器主體的一端部的所述容器主體開口部側和所述容器主體的另一端部側分別由作為平坦面的一端部側斜面和另一端部側斜面構成,在所述容器主體成形工序中成形並位於所述成形空間的所述容器主體中的所述凸塊的所述另一端部側斜面以水平方向為基準傾斜的方向與正交於通過位於所述成形空間的所述容器主體的開口周緣部的端緣整個周向的平面的方向以水平方向為基準傾斜的方向,向將水平方向作為邊界線的相同側傾斜。此外,優選的是,所述規定的角度為0.1°以上、1°以下。
此外,本發明還涉及一種對基板收納容器進行成形的模具,所述基板收納容器包括:容器主體,在內部形成有能夠收納多個基板的基板收納空間,在一端部具有開口周緣部,所述開口周緣部形成有與所述基板收納空間連通的容器主體開口部;蓋體,能夠相對於所述開口周緣部裝拆,能夠以由所述開口周緣部包圍的位置關係封閉所述容器主體開口部;以及側方基板支承部,以在所述基板收納空間內成對的方式一體成形地設置於所述容器主體,在所述蓋體未封閉所述容器主體開口部時,能夠在使所述多個基板中相鄰的基板彼此以規定的間隔分離而並列的狀態下支承所述多個基板的邊緣部,所述側方基板支承部形成為具有沿連接所述容器主體的一端部的所述容器主體開口部和所述容器主體的相對於所述一端部的另一端部的方向延伸的上表面和下表面的板狀,所述側方基板支承部的上表面具有在支承所述基板的邊緣部時與所述基板接觸的基板接觸部,所述基板接觸部具有凸塊,所述凸塊的頂部在支承所述基板的邊緣部時與所述基板接觸,所述容器主體和所述側方基板支承部一體成形,所述模具的特徵在於具有:定模;動模,能夠相對於所述定模移動;以及成形空間,是由所述定模和所述動模形成的模具內部的成形空間,在正交於通過所述容器主體的開口周緣部的端緣整個周向的平面的方向相對於作為所述動模相對於所述定模的移動方向的水平方向,向成規定的角度的方向傾斜的狀態下,對所述容器主體進行成形。
此外,優選的是,所述凸塊的所述容器主體的一端部的所述容器主體開口部側和所述容器主體的另一端部側分別由作為平坦面的一端部側斜面和另一端部側斜面構成,位於所述成形空間的所述容器主體中的所述凸塊的所述另一端部側斜面以水平方向為基準傾斜的方向與正交於通過位於所述成形空間的所述容器主體的開口周緣部的端緣整個周向的平面的方向以水平方向為基準傾斜的方向,向將水平方向作為邊界線的相同側傾斜。此外,優選的是,所述規定的角度為0.1°以上、1°以下。
此外,本發明還涉及一種基板收納容器,容器主體,在內部形成有能夠收納多個基板的基板收納空間,在一端部具有開口周緣部,所述開口周緣部形成有與所述基板收納空間連通的容器主體開口部;蓋體,能夠相對於所述開口周緣部裝拆,能夠以由所述開口周緣部包圍的位置關係封閉所述容器主體開口部;以及側方基板支承部,以在所述基板收納空間內成對的方式一體成形地設置於所述容器主體,在所述蓋體未封閉所述容器主體開口部時,能夠在使所述多個基板中相鄰的基板彼此以規定的間隔分離而並列的狀態下支承所述多個基板的邊緣部,所述側方基板支承部形成為具有沿連接所述容器主體的一端部的所述容器主體開口部和所述容器主體的相對於所述一端部的另一端部的方向延伸的上表面和下表面的板狀,所述側方基板支承部的上表面具有在支承所述基板的邊緣部時與所述基板接觸的基板接觸部,所述基板接觸部具有凸塊,所述凸塊的頂部在支承所述基板的邊緣部時與所述基板接觸,所述凸塊的所述容器主體的一端部的所述容器主體開口部側和所述容器主體的另一端部側分別由作為平坦面的一端部側斜面和另一端部側斜面構成。
此外,優選的是,平行於作為在具有定模和動模的模具的內部的成形空間中對所述容器主體進行成形後使動模移動的方向的水平方向產生移動方向線,所述容器主體中的所述凸塊的所述另一端部側斜面以所述移動方向線為基準傾斜的方向與正交於通過所述容器主體的開口周緣部的端緣整個周向的平面的方向以所述移動方向線為基準傾斜的方向,向將所述移動方向線作為邊界線的相同側傾斜。
此外,優選的是,所述移動方向線與正交於通過所述容器主體的開口周緣部的端緣整個周向的平面的方向成規定的角度,所述規定的角度為0.1°以上、1°以下。
按照本發明,能夠提供基板收納容器的成形方法、模具和基板收納容器,在模具上不設置滑動結構而能夠將容器主體和側方基板支承部一體成形。
下面,參照附圖,對第一種實施方式的基板收納容器1和模具M進行說明。
圖1是表示在基板收納容器1中收納有多個基板W的情況的分解立體圖。圖2是表示基板收納容器1的容器主體2的上方立體圖。圖3是表示基板收納容器1的容器主體2的下方立體圖。圖4是表示基板收納容器1的容器主體2的側剖視圖。
另外,在圖4中,為了便於說明,省略了供氣用過濾部90、肋235和頂部凸緣236的圖示。
在此,為了便於說明,將從後述的容器主體2朝向蓋體3的方向(圖1中的從右上朝向左下的方向)定義為前方向D11,將其相反的方向定義為後方向D12,將它們一起定義為前後方向D1。此外,將從後述的下壁24朝向上壁23的方向(圖1中的上方向)定義為上方向D21,將其相反的方向定義為下方向D22,將它們一起定義為上下方向D2。此外,將從後述的第二側壁26朝向第一側壁25的方向(圖1中的從右下朝向左上的方向)定義為左方向D31,將其相反的方向定義為右方向D32,將它們一起定義為左右方向D3。在主要的附圖中圖示了表示這些方向的箭頭。
此外,收納於基板收納容器1的基板W(參照圖1)是圓盤狀的矽晶片、玻璃晶片和藍寶石晶片等,是用於工業的薄的基板。本實施方式中的基板W是直徑300mm的矽晶片。
如圖1所示,基板收納容器1收納由如上所述的矽晶片構成的基板W,用作在工廠內的工序中輸送的工序內容器,或者用作發貨容器,該發貨容器用於通過陸運方式、空運方式和海運方式等運輸方式來運輸基板,該基板收納容器1由容器主體2和蓋體3構成。容器主體2包括作為側方基板支承部的基板支承板狀部5和後側基板支承部6(參照圖2等),蓋體3包括作為蓋體側基板支承部的未圖示的前部保持構件。
容器主體2具有筒狀的壁部20,該壁部20在一端部形成有容器主體開口部21而另一端部封閉。在容器主體2內形成有基板收納空間27。基板收納空間27由壁部20包圍而形成。在壁部20的部分、且在形成有基板收納空間27的部分設置有基板支承板狀部5。如圖1所示,在基板收納空間27內能夠收納多個基板W。
基板支承板狀部5在基板收納空間27內以成對的方式與壁部20一體成形地設置。基板支承板狀部5在蓋體3未封閉容器主體開口部21時,通過與多個基板W的邊緣部抵接,能夠在使相鄰的基板W彼此以規定的間隔分離而並列的狀態下支承多個基板W的邊緣部。後側基板支承部6在基板支承板狀部5的後側以與基板支承板狀部5一體成形的方式設置。
後側基板支承部6(參照圖2等)在基板收納空間27內以與後述的未圖示的前部保持構件成對的方式與壁部20一體成形地設置。後側基板支承部6在蓋體3封閉容器主體開口部21時,通過與多個基板W的邊緣部抵接,能夠支承多個基板W的邊緣部的後部。
蓋體3能夠相對於形成容器主體開口部21的開口周緣部28(圖1等)裝拆,能夠封閉容器主體開口部21。未圖示的前部保持構件設置在蓋體3的部分、且在蓋體3封閉容器主體開口部21時與基板收納空間27相對的部分。未圖示的前部保持構件在基板收納空間27的內部配置成與後側基板支承部6成對。
未圖示的前部保持構件在蓋體3封閉容器主體開口部21時,通過與多個基板W的邊緣部抵接,能夠支承多個基板W的邊緣部的前部。未圖示的前部保持構件在蓋體3封閉容器主體開口部21時,通過與後側基板支承部6協同動作來支承多個基板W,以使相鄰的基板W彼此以規定的間隔分離而並列的狀態進行保持。
基板收納容器1由塑膠材料等樹脂構成,在沒有特別說明的情況下,作為該材料的樹脂可以列舉的是:聚碳酸酯、環烯烴聚合物、聚醚醯亞胺、聚醚酮、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚醚醚酮和液晶聚合物這種熱塑性樹脂或它們的合金等。在賦予導電性的情況下,在這些成形材料的樹脂中選擇性地添加碳纖維、碳粉、碳奈米管和導電性聚合物等導電性物質。此外,為了提高剛性,也可以添加玻璃纖維或碳纖維等。
以下,對各部分進行詳細說明。
如圖1所示,容器主體2的壁部20具有:後壁22、上壁23、下壁24、第一側壁25和第二側壁26。後壁22、上壁23、下壁24、第一側壁25和第二側壁26由上述材料構成且以一體成形的方式構成。
第一側壁25與第二側壁26相對,上壁23與下壁24相對。上壁23的後端、下壁24的後端、第一側壁25的後端和第二側壁26的後端全部與後壁22連接。上壁23的前端、下壁24的前端、第一側壁25的前端和第二側壁26的前端構成形成大體長方形狀的容器主體開口部21的開口周緣部28。
開口周緣部28設置在容器主體2的一端部,後壁22位於容器主體2的另一端部。由壁部20的外表面形成的容器主體2的外形是箱狀。壁部20的內表面、即後壁22的內表面、上壁23的內表面、下壁24的內表面、第一側壁25的內表面和第二側壁26的內表面形成由它們包圍的基板收納空間27。形成於開口周緣部28的容器主體開口部21與由壁部20包圍而形成於容器主體2內部的基板收納空間27連通。在基板收納空間27中最多能夠收納25個基板W。
如圖1所示,在上壁23和下壁24的部分、且在開口周緣部28的附近部分形成有向基板收納空間27的外方凹陷的插銷卡合凹部231A、231B、241A、241B。插銷卡合凹部231A、231B、241A、241B在上壁23和下壁24的左右兩端部附近各形成有一個、合計形成有四個。
如圖1所示,在上壁23的外表面上與上壁23一體成形地設置有肋235。肋235提高了容器主體2的剛性。此外,在上壁23的中央部固定有頂部凸緣236。頂部凸緣236是如下構件:在AMHS(自動晶片輸送系統)、PGV(晶片基板輸送台車)等中懸掛基板收納容器1時在基板收納容器1中被鉤掛而懸掛的部分。
如圖3所示,在下壁24的四角,作為氣道210(參照圖4)形成有作為兩種類的貫通孔的供氣孔242和排氣孔243(參照圖3)。在本實施方式中,下壁24的前部的兩個部位的貫通孔是用於排出容器主體2內部的氣體的排氣孔243,後部的兩個部位的貫通孔是用於向容器主體2的內部供給氣體的供氣孔242。在作為供氣孔242的貫通孔配置有供氣用過濾部90,在作為排氣孔243的貫通孔配置有排氣用過濾部91。因此,供氣用過濾部90和排氣用過濾部91的內部的氣體流道構成能夠連通基板收納空間27和容器主體2的外部空間的氣道210的一部分。此外,供氣用過濾部90和排氣用過濾部91配置於壁部20,在供氣用過濾部90和排氣用過濾部91中,在容器主體2的外部的空間和基板收納空間27之間氣體能夠通過。
基板支承板狀部5分別設置於第一側壁25和第二側壁26,在左右方向D3上以成對的方式設置在基板收納空間27內。具體地說,如圖4等所示,基板支承板狀部5具有板部51,該板部51形成為具有沿連接容器主體2的一端部的容器主體開口部21和容器主體2的相對於一端部的另一端部的後壁22的方向延伸的上表面和下表面的板狀。板部51和容器主體2的壁部20的第一側壁25、第二側壁26由樹脂材料一體成形而構成,板部51由第一側壁25或第二側壁26支承。
板部51具有板狀的大體圓弧形狀。分別在第一側壁25和第二側壁26沿上下方向D2各設置有25個、合計設置有50個板部51。相鄰的板部51在上下方向D2上以10mm~12mm間隔相互分離並以平行的位置關係配置。另外,在位於最上方的板部51的上方還與板部51平行地配置有一個板狀的構件59,但是這是對位於最上方而插入基板收納空間27內的基板W在該插入時起到導向件作用的構件。
此外,設置於第一側壁25的25個板部51和設置於第二側壁26的25個板部51具有在左右方向D3上彼此相對的位置關係。此外,50個板部51和平行於板部51的起到板狀的導向件作用的構件59具有與下壁24的內表面平行的位置關係。在板部51的上表面設置有凸塊511、512。支承於板部51的基板W僅與凸塊511、512的突出端接觸而不與板部51面接觸。
更具體地說,板部51的凸塊511、512分別具有山脊的形狀,該山脊形成於板部51的上表面並沿左右方向延伸,並且向前後方向分別向下傾斜,該山脊的頂部由連接向該前後方向分別向下傾斜的斜面的上端部之間的曲面構成。如圖5所示,凸塊511的容器主體2的容器主體開口部21側(前方向D11側)的板部51的上表面的部分由作為平坦面的一端部側斜面5111構成。凸塊511的容器主體2的後壁22側(後方向D12側)的板部51的上表面的部分由作為平坦面的另一端部側斜面5112構成。
圖5是表示基板收納容器1的容器主體2在模具M的成形空間M0中成形後模具M開模的情況的簡要說明圖。另外,在圖5中,為了便於說明,圖示了在板部51支承基板W的情況,但是實際上在成形於模具M的動模M1的狀態的容器主體2中,基板W並未支承於板部51。
此外,凸塊512的容器主體2的容器主體開口部21側的板部51的上表面的部分由作為平坦面的一端部側斜面5121構成。一端部側斜面5121的前端部與另一端部側斜面5112的後端部連接。凸塊512的容器主體2的後壁22側的板部51的上表面的部分由作為平坦面的另一端部側斜面5122構成。
如圖6所示,在左右方向上的位於板部51的端緣的側面形成有移動方向線5101。移動方向線5101以與水平方向平行的方式生成,所述水平方向是如後所述在具有定模M2和動模M1的模具M內部的成形空間M0中將容器主體2成形後,用於脫模的開模時使動模M1移動的方向。另一端部側斜面5112、5122均向與如下傾斜方向相同側傾斜:沿與通過容器主體2的開口周緣部28的端緣整個周向的平面P1正交的方向延伸的線P2以移動方向線5101為基準而傾斜的方向。
圖6是表示基板收納容器1的基板支承板狀部5的板部51的放大側視圖。成形空間M0實際上在模具M開模前的狀態下形成在動模M1和定模M2之間,但是為了便於說明,在圖5中將容器主體2的位置圖示為成形空間M0。
在此,“向相同側傾斜”意味著如下情況:在考慮了平行於與成為基準的移動方向線5101平行的水平方向的線L1和相對於線L1傾斜的(不平行的)線A和線B的情況下,如果線L1以及線A、線B延長則必定產生交點,但是在從該交點沿線L1朝向一個方向前進時,線A和線B在將線L1作為邊界線的相同側離開線L1的情況下,線A和線B“向相同側傾斜”。
具體地說,在本實施方式中,如果著眼於與移動方向線5101平行的水平方向的線L1(圖5中的下側的線L1)和沿與通過容器主體2的開口周緣部28的端緣整個周向的平面P1正交的方向延伸的線P2,則線L1和線P2在開口周緣部28產生交點,如果從該交點沿線L1朝向作為一個方向的後方向D12前進,則在將線L1作為邊界線的圖5中的上側,線P2離開線L1。
接著,如果著眼於與移動方向線5101平行的水平方向的線L1(圖5中的下側的線L1)和另一端部側斜面5112,則線L1和另一端部側斜面5112在凸塊511產生交點,如果從該交點沿線L1朝向作為一個方向的後方向D12前進,則在將線L1作為邊界線的圖5中的上側,另一端部側斜面5112離開線L1。
此外,如果著眼於與移動方向線5101平行的水平方向的線L1(圖5中的下側的線L1)和另一端部側斜面5122,則線L1和另一端部側斜面5122,雖然在圖5中未圖示,但是如果將另一端部側斜面5122沿大體前方向D11延長,則產生與線L1交叉的交點。如果從該交點沿線L1向作為一個方向的後方向D12前進,則在將線L1作為邊界線的圖5中的上側,另一端部側斜面5122離開線L1。由此,線P2與另一端部側斜面5112和另一端部側斜面5122以線L1為基準向相同側傾斜。
在此,關於一端部側斜面5111、5121,在考慮與線L1交叉的交點的情況下,如果從交點沿線L1朝向後方向D12前進,則在將線L1作為邊界線的圖5中的上側,一端部側斜面5111、5121離開線L1。因此,線P2與一端部側斜面5111、5121以線L1為基準向相同側傾斜。因此,如後所述,使動模M1沿線L1移動來開模時,一端部側斜面5111、5121和另一端部側斜面5112、5122的全部相對於線L1未成為底切而形成有脫模斜度。另外,在板部51的下表面也同樣未成為底切而形成有脫模斜度。
以與鉛垂方向一致的垂直線V1為基準在圖5所示的側視圖中平面P1傾斜的角度a1和線P2以水平方向的線L1為基準而傾斜的角度a2相等,是0.1°以上、1°以下,在本實施方式中是0.6°。這是因為如果小於0.1°,則不能得到凸塊511、512的充分的突出量。此外,如果超過1°,則在容器主體2中的其他部分產生成為底切的部分的可能性升高。因此,通過使角度a1和角度a2為0.1°以上、1°以下,擴大了能夠可靠地確保脫模斜度的範圍,能夠順暢地進行脫模。
這種結構的基板支承板狀部5能夠在使多個基板W中相鄰的基板W彼此以規定的間隔分離的狀態下、且在相互平行的位置關係的狀態下支承多個基板W的邊緣部。
如圖4所示,後側基板支承部6具有後側端緣支承部60。後側端緣支承部60以在基板支承板狀部5的板部51的後端部與板部51一體成形的方式構成。另外,後側基板支承部6可以與基板支承板狀部5分開、即後側端緣支承部60可以由與基板支承板狀部5的板部51分開(例如單獨部件)構成的後部保持構件構成。
後側端緣支承部60設置有與基板收納空間27中能夠收納的每一個基板W對應的個數,具體地說設置有25個。配置於第一側壁25和第二側壁26的後側端緣支承部60在前後方向D1上具有與後述的未圖示的前部保持構件成對的位置關係。通過在基板收納空間27內收納基板W並關閉蓋體3,後側端緣支承部60夾持並支承基板W的邊緣部的端緣。
如圖2等所示,後壁22具有作為氣體噴出噴嘴部的突出部8。突出部8為兩個,並且成對,以肋狀向容器主體開口部21突出,平行地從後壁22的上端部延伸至下端部。即,突出部8具有中空的柱狀。突出部8的內部空間由隔壁部81分隔為前側空間和後側空間。
前側空間構成氣體流出前保持室803,後側空間構成與氣道210(參照圖4等)連通的氣體滯留室801,該氣道210能夠連通基板收納空間27和容器主體2的外部空間。
突出部8具有將流入氣道210的氣體向基板收納空間27供給的多個開口部802。氣體滯留室801構成通過暫時存積吹掃氣體並加壓而在氣道210和突出部8的開口部802之間以規定的量均勻地保持來自氣道210的氣體的氣體均勻保持部,並且該氣體均勻保持部構成能夠使吹掃氣體從多個開口部802以均勻化的流量流出的氣體流量均勻化部。
作為氣體的氮氣等不活潑氣體或除去了水分(1%以下)的乾燥空氣(以下稱為吹掃氣體)等能夠通過氣道210。如圖4所示,氣道210具有氣體流入部211和水平方向延伸部212,水平方向延伸部212與氣體滯留室801的下端部連接。
氣體流入部211由圓筒狀的氣體供給裝置連接部202的內部空間構成,該圓筒狀的氣體供給裝置連接部202形成於下壁24的後端部並向下方向D22突出而形成供氣孔242。水平方向延伸部212沿下壁24的外表面(下表面)在下壁24的外側從氣體流入部211的上端部向後方向D12(圖4的右方向)延伸,並且由下壁24的外表面和與下壁24相比向下側突出的下側流道形成部203之間的空間構成。並且,與水平方向延伸部212連接的氣體滯留室801如上所述由突出部8的後側空間構成,並且從水平方向延伸部212的後端部向上方向D21延伸至後壁22的上端部。
在隔壁部81形成有吹掃氣體從氣體滯留室801流入的微小的流入口811。流入口811形成有多個,流入口811的總面積比開口部802的總面積小。
氣體供給裝置連接部202的下端部的開口構成供氣孔242。在氣體供給裝置連接部202固定有供氣用過濾部90。排氣孔243由下壁24的貫通孔構成,在該貫通孔固定有排氣用過濾部91。排氣用過濾部91使氣體通過設置在排氣用過濾部91內部的未圖示的通氣膜從容器主體2的外部空間向基板收納空間27的方向、或從基板收納空間27向容器主體2的外部空間的方向通過。此時,未圖示的通氣膜阻止包含於氣體的顆粒等通過,從而進行氣體的過濾。
如圖1等所示,蓋體3具有與容器主體2的開口周緣部28的形狀大體一致的大體長方形狀。蓋體3能夠相對於容器主體2的開口周緣部28裝拆,通過在開口周緣部28安裝蓋體3,蓋體3能夠封閉容器主體開口部21。在蓋體3的內表面(圖1所示的蓋體3背側的面)、且在當蓋體3封閉容器主體開口部21時與臺階部分的面(密封面281)相對的面上安裝有環狀的密封構件4,該臺階部分的面形成在緊鄰開口周緣部28的後方向D12的位置上。密封構件4由能夠彈性變形的聚酯系、聚烯烴系等各種熱塑性彈性體和氟橡膠製品、矽橡膠製品等構成。密封構件4配置成環繞蓋體3的外周緣部一周。
蓋體3安裝於開口周緣部28時,密封構件4由密封面281和蓋體3的內表面夾持而彈性變形,蓋體3以密封容器主體開口部21的狀態封閉。通過從開口周緣部28取下蓋體3,能夠將基板W相對於容器主體2內的基板收納空間27進出。
在蓋體3中設置有插銷機構。插銷機構設置在蓋體3的左右兩端部附近,如圖1所示,包括能夠從蓋體3的上邊向上方向D21突出的兩個上側插銷部32A和能夠從蓋體3的下邊向下方向D22突出的兩個未圖示的下側插銷部。兩個上側插銷部32A配置在蓋體3上邊的左右兩端附近,兩個未圖示的下側插銷部配置在蓋體3下邊的左右兩端附近。
在蓋體3的外表面設置有操作部33。通過從蓋體3的前側對操作部33進行操作,能夠使上側插銷部32A、未圖示的下側插銷部分別從蓋體3的上邊、下邊突出,此外,也能夠成為分別不從上邊、下邊突出的狀態。上側插銷部32A從蓋體3的上邊向上方向D21突出並與容器主體2的插銷卡合凹部231A、231B卡合,並且,未圖示的下側插銷部從蓋體3的下邊向下方向D22突出並與容器主體2的插銷卡合凹部241A、241B卡合,由此蓋體3固定於容器主體2的開口周緣部28。
在蓋體3的內側形成有向基板收納空間27的外方凹陷的凹部(未圖示)。在凹部(未圖示)和凹部的外側的蓋體3的部分固定設置有前部保持構件(未圖示)。
前部保持構件(未圖示)具有前部保持構件基板承接部(未圖示)。前部保持構件基板承接部(未圖示)以在左右方向D3上以規定的間隔分離並成對的方式各配置有兩個。以上述方式成對地各配置兩個的前部保持構件基板承接部在上下方向D2上以並列的狀態設置有25對。通過在基板收納空間27內收納基板W並關閉蓋體3,前部保持構件基板承接部夾持並支承基板W的邊緣部的端緣。
如上所述的基板收納容器1的容器主體2通過如下方式成形而製造。
首先,進行容器主體成形工序。在容器主體成形工序中,如圖5所示,在具有定模M2和動模M1的模具M內部的成形空間M0中,如上所述,在以開口周緣部28的上邊為中心轉動角度a1而傾斜成使包括容器主體的後壁22的後部抬起的狀態下,對容器主體進行成形。以上是容器主體成形工序。
接著,進行拉拔工序。在拉拔工序中,在模具M內部的成形空間M0中,在容器主體2固化後,如圖5所示,使動模M1以從定模M2後退的方式移動來進行開模。此時的動模M1的移動方向是水平方向,是沿著線L1的方向。因此,如上所述,使動模M1沿線L1移動來開模時,一端部側斜面5111、5121和另一端部側斜面5112、5122全部相對於線L1未成為底切而形成脫模斜度,因此對於一體成形有凸塊511、512的容器主體2的板部51,能夠使動模M1移動而開模來進行脫模。另外,容器主體2中的其他全部部分也未成為底切,對於容器主體2的整體,能夠使動模M1移動而開模來進行脫模。
按照上述結構的本實施方式的基板收納容器1,能夠得到以下效果。
如上所述,將容器主體2和側方基板支承部5一體成形的基板收納容器1的成形方法具有:容器主體成形工序,在具有定模M2和動模M1的模具M的內部的成形空間M0中,在平行於與通過容器主體2的開口周緣部28的端緣整個周向的平面P1正交的方向的線P2相對於作為動模M1相對於定模M2的移動方向的水平方向,向成規定角度a2的方向傾斜的狀態下,對容器主體2進行成形;以及拉拔工序,使動模M1以從定模M2後退的方式移動,從動模M1拔出在成形空間M0中成形的容器主體2。
並且,凸塊511、512的容器主體2的一端部的容器主體開口部21側和容器主體2的另一端部側分別由作為平坦面的一端部側斜面5111、5121和另一端部側斜面5112、5122構成,在容器主體成形工序中成形並位於成形空間M0的容器主體2中的凸塊511、512的另一端部側斜面5112、5122以與水平方向平行的線L1為基準而傾斜的方向與在規定的角度a1(=角度a2)的情況下線P2以線L1為基準而傾斜的方向,向以線L1為基準的相同側傾斜,該線P2沿著與通過容器主體2的開口周緣部28的端緣整個周向的平面P1正交的方向。
通過上述結構,即使構成側方基板支承部的板部51的上表面的基板接觸部是具有凸塊511、512的結構,在拔出所述容器主體2的拉拔工序中,凸塊511、512的部分也不會成為底切而是形成脫模斜度。因此,能夠將一體成形有形成有凸塊511、512的板部51的容器主體2直接從動模M1拔出來進行脫模。
其結果,在對基板收納容器1的容器主體2進行成形的模具M中,能夠作為不設置滑動結構的結構,因此能夠防止產生因滑動結構而產生的模具M的分割部,從而能夠防止毛刺的產生,此外,能夠抑制對容器主體2進行成形的模具M的費用,該容器主體2一體成形有形成有凸塊511、512的板部51。由此,對於基板收納容器1的容器主體2能夠容易從動模M1拔出來進行脫模,因此能夠抑制製造基板收納容器1的容器主體2的費用。
此外,規定的角度a1(=角度a2)是0.1°以上、1°以下。通過這種結構,能夠得到凸塊511、512的充分的突出量,並且能夠在容器主體2的各部分中不產生底切。因此,通過將角度a1和角度a2作為0.1°以上、1°以下,可靠地擴大了能夠確保脫模斜度的範圍,從而能夠順暢地進行脫模。此外,能夠充分地確保在基板W的下側所需要的板部51和基板W之間的間隙,並且能夠使基板W與凸塊511、512點接觸。
本發明並不限定於上述實施方式,能夠在記載於申請專利範圍的技術範圍內進行變形。
例如,在本實施方式中,凸塊511、凸塊512的雙方設置於板部51,但是並不限定於這種結構。例如,可以在一個板部設置一個凸塊。
此外,容器主體和蓋體的形狀、能夠收納於容器主體的基板W的個數和尺寸並不限定於本實施方式中的容器主體2和蓋體3的形狀、能夠收納於容器主體2的基板W的個數和尺寸。此外,本實施方式中的基板W是直徑300mm的矽晶片,但是並不限定於該值。
此外,在本實施方式中,在下壁24的前部設置有兩個排氣用過濾部91,並且在下壁24的後部設置有兩個供氣用過濾部90,但是並不限定於這種結構。例如,可以在下壁24的後部設置兩個排氣用過濾部91,並且在下壁24的前部設置兩個供氣用過濾部90。此外,排氣用過濾部和供氣用過濾部可以不是各設置兩個。此外,排氣用過濾部91並不限定於安裝在下壁24。排氣用過濾部91可以安裝於下壁24以外的壁部、蓋體,例如可以安裝於下壁和蓋體的兩方。
1:基板收納容器
2:容器主體
3:蓋體
4:密封構件
5:基板支承板狀部
6:後側基板支承部
8:突出部
20:壁部
21:容器主體開口部
22:後壁
23:上壁
24:下壁
25:第一側壁
26:第二側壁
27:基板收納空間
28:開口周緣部
33:操作部
32A:上側插銷部
51:板部
59:構件
60:後側端緣支承部
81:隔壁部
90:供氣用過濾部
91:排氣用過濾部
202:氣體供給裝置連接部
203:下側流道形成部
210:氣道
211:氣體流入部
212:水平方向延伸部
231A、231B、241A、241B:插銷卡合凹部
235:肋
236:頂部凸緣
242:供氣孔
243:排氣孔
281:密封面
511、512:凸塊(基板接觸部)
801:氣體滯留室
802:開口部
803:氣體流出前保持室
811:流入口
5101:移動方向線
5111、5121:一端部側斜面
5112、5122:另一端部側斜面
D1:前後方向
D2:上下方向
D3:左右方向
D11:前方向
D12:後方向
D21:上方向
D22:下方向
D31:左方向
D32:右方向
L1:線
V1:垂直線
M:模具
M0:成形空間
M1:動模
M2:定模
P1:面
P2:線
W:基板
a1、a2:角度
圖1是表示在本發明一種實施方式的基板收納容器1中收納有多個基板W的情況的分解立體圖。
圖2是表示本發明一種實施方式的基板收納容器1的容器主體2的上方立體圖。
圖3是表示本發明一種實施方式的基板收納容器1的容器主體2的下方立體圖。
圖4是表示本發明一種實施方式的基板收納容器1的容器主體2的側剖視圖。
圖5是表示本發明一種實施方式的基板收納容器1的容器主體2在模具M的成形空間M0中成形後模具M開模的情況的簡要說明圖。
圖6是表示本發明一種實施方式的基板收納容器1的基板支承板狀部5的板部51的放大側視圖。
2:容器主體
20:壁部
22:後壁
23:上壁
24:下壁
27:基板收納空間
28:開口周緣部
51:板部
511、512:凸塊(基板接觸部)
5101:移動方向線
5111、5121:一端部側斜面
5112、5122:另一端部側斜面
L1:線
V1:垂直線
M:模具
M0:成形空間
M1:動模
M2:定模
P1:面
P2:線
W:基板
a1、a2:角度
D1:前後方向
D2:上下方向
D11:前方向
D12:後方向
D21:上方向
D22:下方向
Claims (8)
- 一種基板收納容器的成形方法, 所述基板收納容器包括: 一容器主體,在一內部形成有能夠收納多個基板的一基板收納空間,在一端部具有一開口周緣部,所述開口周緣部形成有與所述基板收納空間連通的一容器主體開口部; 一蓋體,能夠相對於所述開口周緣部裝拆,能夠以由所述開口周緣部包圍的位置關係封閉所述容器主體開口部;以及 一側方基板支承部,以在所述基板收納空間內成對的方式一體成形地設置於所述容器主體,在所述蓋體未封閉所述容器主體開口部時,能夠在使所述多個基板中相鄰的基板彼此以規定的一間隔分離而並列的狀態下支承所述多個基板的邊緣部, 所述側方基板支承部形成為具有沿連接所述容器主體的所述一端部的所述容器主體開口部和所述容器主體的相對於所述一端部的另一端部的方向延伸的一上表面和一下表面的一板狀, 所述側方基板支承部的所述上表面具有在支承所述基板的邊緣部時與所述基板接觸的一基板接觸部, 所述基板接觸部具有一凸塊,所述凸塊的頂部在支承所述基板的邊緣部時與所述基板接觸,所述容器主體和所述側方基板支承部一體成形, 所述基板收納容器的成形方法的特徵在於具有: 一容器主體成形工序,在具有一定模和一動模的一模具的內部的一成形空間中,在正交於通過所述容器主體的所述開口周緣部的一端緣整個周向的平面的方向相對於作為所述動模相對於所述定模的移動方向的一水平方向,向成一規定的角度的方向傾斜的狀態下,對所述容器主體進行成形;以及 一拉拔工序,使所述動模以從所述定模後退的方式移動,從所述動模拔出在所述成形空間中成形的所述容器主體。
- 如請求項1所述的基板收納容器的成形方法,其中 所述凸塊的所述容器主體的所述一端部的所述容器主體開口部側和所述容器主體的所述另一端部側分別由作為一平坦面的一端部側斜面和另一端部側斜面構成, 在所述容器主體成形工序中成形並位於所述成形空間的所述容器主體中的所述凸塊的所述另一端部側斜面以所述水平方向為基準傾斜的方向與正交於通過位於所述成形空間的所述容器主體的所述開口周緣部的所述端緣整個周向的平面的方向以所述水平方向為基準傾斜的方向,向將所述水平方向作為一邊界線的相同側傾斜。
- 如請求項1或2所述的基板收納容器的成形方法,其中所述規定的角度為0.1°以上、1°以下。
- 一種模具,用於對基板收納容器進行成形, 所述基板收納容器包括: 一容器主體,在一內部形成有能夠收納多個基板的一基板收納空間,在一端部具有一開口周緣部,所述開口周緣部形成有與所述基板收納空間連通的一容器主體開口部; 一蓋體,能夠相對於所述開口周緣部裝拆,能夠以由所述開口周緣部包圍的位置關係封閉所述容器主體開口部;以及 一側方基板支承部,以在所述基板收納空間內成對的方式一體成形地設置於所述容器主體,在所述蓋體未封閉所述容器主體開口部時,能夠在使所述多個基板中相鄰的基板彼此以規定的一間隔分離而並列的狀態下支承所述多個基板的邊緣部, 所述側方基板支承部形成為具有沿連接所述容器主體的所述一端部的所述容器主體開口部和所述容器主體的相對於所述一端部的另一端部的方向延伸的一上表面和一下表面的一板狀, 所述側方基板支承部的所述上表面具有在支承所述基板的邊緣部時與所述基板接觸的一基板接觸部, 所述基板接觸部具有一凸塊,所述凸塊的頂部在支承所述基板的邊緣部時與所述基板接觸,所述容器主體和所述側方基板支承部一體成形, 所述模具的特徵在於具有: 一定模; 一動模,能夠相對於所述定模移動;以及 一成形空間,是由所述定模和所述動模形成的模具內部的一成形空間,在正交於通過所述容器主體的所述開口周緣部的一端緣整個周向的平面的方向相對於作為所述動模相對於所述定模的移動方向的一水平方向,向成一規定的角度的方向傾斜的狀態下,對所述容器主體進行成形。
- 如請求項4所述的模具,其中 所述凸塊的所述容器主體的所述一端部的所述容器主體開口部側和所述容器主體的所述另一端部側分別由作為一平坦面的一端部側斜面和另一端部側斜面構成, 位於所述成形空間的所述容器主體中的所述凸塊的所述另一端部側斜面以所述水平方向為基準傾斜的方向與正交於通過位於所述成形空間的所述容器主體的所述開口周緣部的所述端緣整個周向的平面的方向以所述水平方向為基準傾斜的方向,向將水平方向作為一邊界線的相同側傾斜。
- 如請求項4或5所述的模具,其中所述規定的角度為0.1°以上、1°以下。
- 一種基板收納容器,其特徵在於包括: 一容器主體,在一內部形成有能夠收納多個基板的一基板收納空間,在一端部具有一開口周緣部,所述開口周緣部形成有與所述基板收納空間連通的一容器主體開口部; 一蓋體,能夠相對於所述開口周緣部裝拆,能夠以由所述開口周緣部包圍的位置關係封閉所述容器主體開口部;以及 一側方基板支承部,以在所述基板收納空間內成對的方式一體成形地設置於所述容器主體,在所述蓋體未封閉所述容器主體開口部時,能夠在使所述多個基板中相鄰的基板彼此以規定的一間隔分離而並列的狀態下支承所述多個基板的邊緣部,所述側方基板支承部形成為具有沿連接所述容器主體的所述一端部的所述容器主體開口部和所述容器主體的相對於所述一端部的另一端部的方向延伸的一上表面和一下表面的一板狀,所述側方基板支承部的所述上表面具有在支承所述基板的邊緣部時與所述基板接觸的一基板接觸部,所述基板接觸部具有一凸塊,所述凸塊的頂部在支承所述基板的邊緣部時與所述基板接觸,所述凸塊的所述容器主體的所述一端部的所述容器主體開口部側和所述容器主體的所述另一端部側分別由作為一平坦面的一端部側斜面和另一端部側斜面構成;其中,平行於作為在具有一定模和一動模的一模具的內部的一成形空間中對所述容器主體進行成形後使動模移動的方向的一水平方向產生一移動方向線,所述容器主體中的所述凸塊的所述另一端部側斜面以所述移動方向線為基準傾斜的方向與正交於通過所述容器主體的所述開口周緣部的一端緣整個周向的平面的方向以所述移動方向線為基準傾斜的方向,向將所述移動方向線作為一邊界線的相同側傾斜。
- 如請求項7所述的基板收納容器,其中所述移動方向線與正交於通過所述容器主體的所述開口周緣部的所述端緣整個周向的平面的方向成一規定的角度,所述規定的角度為0.1°以上、1°以下。
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---|---|---|---|---|
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6185268U (zh) * | 1984-11-09 | 1986-06-04 | ||
US20090194456A1 (en) * | 2006-07-07 | 2009-08-06 | Entegris, Inc. | Wafer cassette |
JP2010267761A (ja) * | 2009-05-14 | 2010-11-25 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 基板収納容器 |
TW201838042A (zh) * | 2017-04-05 | 2018-10-16 | 日商未來兒股份有限公司 | 基板收納容器 |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3256584B2 (ja) * | 1992-12-15 | 2002-02-12 | 三菱電機株式会社 | 半導体ウエハ密閉容器、半導体処理装置及び半導体ウエハ搬送装置 |
JP3249623B2 (ja) * | 1993-02-23 | 2002-01-21 | 淀川化成株式会社 | 基板用カセット |
TW296361B (zh) * | 1995-06-26 | 1997-01-21 | Kakizaki Seisakusho Kk | |
US5788082A (en) * | 1996-07-12 | 1998-08-04 | Fluoroware, Inc. | Wafer carrier |
US6428729B1 (en) | 1998-05-28 | 2002-08-06 | Entegris, Inc. | Composite substrate carrier |
KR100686226B1 (ko) * | 2000-02-08 | 2007-02-22 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치용 글래스 적재 카세트 |
JP4030280B2 (ja) | 2001-08-24 | 2008-01-09 | 信越ポリマー株式会社 | 基板収納容器及びその製造方法 |
JP4181926B2 (ja) * | 2003-06-10 | 2008-11-19 | 信越ポリマー株式会社 | 基板収納容器 |
US7926663B2 (en) * | 2005-05-06 | 2011-04-19 | Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. | Substrate storage container and method of producing the same |
JP4584023B2 (ja) | 2005-05-17 | 2010-11-17 | 信越ポリマー株式会社 | 基板収納容器及びその製造方法 |
KR20110011132A (ko) * | 2009-07-28 | 2011-02-08 | (주)제니스월드 | 기판 버퍼 카세트 |
JP5268858B2 (ja) * | 2009-10-23 | 2013-08-21 | 信越ポリマー株式会社 | 基板収納容器 |
JP5826569B2 (ja) * | 2011-09-12 | 2015-12-02 | 積水化成品工業株式会社 | 板状体の搬送用容器 |
WO2014080454A1 (ja) * | 2012-11-20 | 2014-05-30 | ミライアル株式会社 | 基板収納容器 |
JP6185268B2 (ja) * | 2013-03-26 | 2017-08-23 | 信越ポリマー株式会社 | 基板収納容器 |
US9960064B2 (en) * | 2013-06-19 | 2018-05-01 | Miraial Co., Ltd. | Substrate storing container |
WO2015107674A1 (ja) * | 2014-01-17 | 2015-07-23 | ミライアル株式会社 | 基板収納容器 |
KR102223033B1 (ko) * | 2014-04-29 | 2021-03-04 | 삼성전자주식회사 | 웨이퍼 수납장치 |
SG10201901758WA (en) * | 2014-08-28 | 2019-03-28 | Entegris Inc | Substrate container |
JP6391515B2 (ja) * | 2015-03-27 | 2018-09-19 | 信越ポリマー株式会社 | 基板収納容器及びその製造方法 |
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CN110337713B (zh) * | 2017-02-27 | 2023-06-27 | 未来儿股份有限公司 | 基板收纳容器 |
WO2018179324A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | ミライアル株式会社 | 基板収納容器 |
KR102020294B1 (ko) * | 2017-09-15 | 2019-09-11 | (주)상아프론테크 | 슬롯 구조체 및 이를 포함하는 웨이퍼 보관 용기 |
KR102477834B1 (ko) * | 2017-11-15 | 2022-12-16 | 신에츠 폴리머 가부시키가이샤 | 기판 수납 용기 |
-
2018
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-
2019
- 2019-10-25 TW TW108138691A patent/TWI840430B/zh active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6185268U (zh) * | 1984-11-09 | 1986-06-04 | ||
US20090194456A1 (en) * | 2006-07-07 | 2009-08-06 | Entegris, Inc. | Wafer cassette |
JP2010267761A (ja) * | 2009-05-14 | 2010-11-25 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 基板収納容器 |
TW201838042A (zh) * | 2017-04-05 | 2018-10-16 | 日商未來兒股份有限公司 | 基板收納容器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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