TWI836038B - 硬化性樹脂組成物、硬化膜、積層體、硬化膜的製造方法及半導體器件 - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 165
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 39
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 19
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 243
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 122
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 110
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims abstract description 64
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims abstract description 60
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 55
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 55
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 136
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 104
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 88
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 53
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 47
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 47
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 47
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 45
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 42
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 24
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 23
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 claims description 12
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 12
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 11
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 9
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 33
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 25
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 25
- 239000010408 film Substances 0.000 description 146
- -1 1,3-diaminocyclopentane Cyclohexane Chemical compound 0.000 description 119
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 106
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 71
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 65
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 40
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 39
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 33
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 32
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 32
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 30
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 29
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 29
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 28
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 26
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 25
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 25
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 24
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 21
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000002585 base Substances 0.000 description 20
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 20
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 19
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 18
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 18
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 18
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 17
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 17
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 16
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 16
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 16
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 16
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 13
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 13
- WTFAGPBUAGFMQX-UHFFFAOYSA-N 1-[2-[2-(2-aminopropoxy)propoxy]propoxy]propan-2-amine Chemical compound CC(N)COCC(C)OCC(C)OCC(C)N WTFAGPBUAGFMQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 12
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 12
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229920002577 polybenzoxazole Polymers 0.000 description 12
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 12
- QQGYZOYWNCKGEK-UHFFFAOYSA-N 5-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)oxy]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(OC=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 QQGYZOYWNCKGEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 11
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 11
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 11
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 10
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 10
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 10
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 9
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 9
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 9
- 150000003949 imides Chemical group 0.000 description 9
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 8
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 8
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 7
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 7
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 7
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 7
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 6
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 6
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 6
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 6
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 6
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 6
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 6
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 6
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 6
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 6
- HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-phenylethanone Chemical class NCC(=O)C1=CC=CC=C1 HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- 125000004849 alkoxymethyl group Chemical group 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 5
- 229940053200 antiepileptics fatty acid derivative Drugs 0.000 description 5
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 5
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 5
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 5
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 5
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 4
- OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 5-valerolactone Chemical compound O=C1CCCCO1 OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FFOPEPMHKILNIT-UHFFFAOYSA-N Isopropyl butyrate Chemical compound CCCC(=O)OC(C)C FFOPEPMHKILNIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 4
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000005129 aryl carbonyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 4
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 4
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 4
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 4
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N heptan-3-one Chemical compound CCCCC(=O)CC NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N isoamyl acetate Chemical compound CC(C)CCOC(C)=O MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N limonene Chemical compound CC(=C)C1CCC(C)=CC1 XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 4
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 4
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SVUOLADPCWQTTE-UHFFFAOYSA-N 1h-1,2-benzodiazepine Chemical compound N1N=CC=CC2=CC=CC=C12 SVUOLADPCWQTTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OJPDDQSCZGTACX-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(2-hydroxyethyl)anilino]ethanol Chemical compound OCCN(CCO)C1=CC=CC=C1 OJPDDQSCZGTACX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 3
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 3
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 3
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940049706 benzodiazepine Drugs 0.000 description 3
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 3
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 3
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000001046 glycoluril group Chemical class [H]C12N(*)C(=O)N(*)C1([H])N(*)C(=O)N2* 0.000 description 3
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 3
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OC HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 3
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical group 0.000 description 3
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 3
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical group OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 2
- 125000002030 1,2-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:1])=C([*:2])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 1-Ethyl-2-pyrrolidinone Chemical compound CCN1CCCC1=O ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidine-3-carboxamide Chemical compound C1C(C(=O)N)CCN1CC1=CC=CC=C1 HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCOCC(C)OC(C)=O DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HFZLSTDPRQSZCQ-UHFFFAOYSA-N 1-pyrrolidin-3-ylpyrrolidine Chemical compound C1CCCN1C1CNCC1 HFZLSTDPRQSZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 1H-tetrazole Chemical compound C=1N=NNN=1 KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWVHTXAYIKBMEE-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyacetophenone Chemical class OCC(=O)C1=CC=CC=C1 ZWVHTXAYIKBMEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ICPWFHKNYYRBSZ-UHFFFAOYSA-M 2-methoxypropanoate Chemical compound COC(C)C([O-])=O ICPWFHKNYYRBSZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DOHSYWCDRJLXSV-UHFFFAOYSA-N 2-methoxypropyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OCC(C)OC DOHSYWCDRJLXSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SYUYTOYKQOAVDW-UHFFFAOYSA-N 2-nitrosonaphthalen-1-ol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=C(N=O)C=CC2=C1 SYUYTOYKQOAVDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MGADZUXDNSDTHW-UHFFFAOYSA-N 2H-pyran Chemical group C1OC=CC=C1 MGADZUXDNSDTHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbenzidine Chemical group C1=C(N)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FPQQSJJWHUJYPU-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethylamino)propyliminomethylidene-ethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN=C=NCCCN(C)C FPQQSJJWHUJYPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Thiodianiline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1SC1=CC=C(N)C=C1 ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FWOLORXQTIGHFX-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-2,3,5,6-tetrafluorophenyl)-2,3,5,6-tetrafluoroaniline Chemical group FC1=C(F)C(N)=C(F)C(F)=C1C1=C(F)C(F)=C(N)C(F)=C1F FWOLORXQTIGHFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYIMZXITLDTULQ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-2-methylphenyl)-3-methylaniline Chemical group CC1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1C QYIMZXITLDTULQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSUWBBMPVXVSOA-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carbonochloridoylphenoxy)benzoyl chloride Chemical compound C1=CC(C(=O)Cl)=CC=C1OC1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 OSUWBBMPVXVSOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical group OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N Pentyl formate Chemical compound CCCCCOC=O DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical group CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical group C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 125000002102 aryl alkyloxo group Chemical group 0.000 description 2
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N biuret Chemical group NC(=O)NC(N)=O OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N bpda Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 2
- WQAQPCDUOCURKW-UHFFFAOYSA-N butanethiol Chemical compound CCCCS WQAQPCDUOCURKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N butanoic acid ethyl ester Natural products CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N butyl butanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- VEZUQRBDRNJBJY-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone oxime Chemical compound ON=C1CCCCC1 VEZUQRBDRNJBJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004427 diamine group Chemical group 0.000 description 2
- 125000006159 dianhydride group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001990 dicarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 2
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 125000005678 ethenylene group Chemical group [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 description 2
- UHKJHMOIRYZSTH-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxypropanoate Chemical compound CCOC(C)C(=O)OCC UHKJHMOIRYZSTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHRLOJCOIKOQGL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)OC WHRLOJCOIKOQGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJAKCEHATXBFJT-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-oxobutanoate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)CC FJAKCEHATXBFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)CCOC IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 2
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 2
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 2
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- VPVSTMAPERLKKM-UHFFFAOYSA-N glycoluril Chemical compound N1C(=O)NC2NC(=O)NC21 VPVSTMAPERLKKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 150000002466 imines Chemical group 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- OCVXZQOKBHXGRU-UHFFFAOYSA-N iodine(1+) Chemical compound [I+] OCVXZQOKBHXGRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical group OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 229940087305 limonene Drugs 0.000 description 2
- 235000001510 limonene Nutrition 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 2
- YVWPDYFVVMNWDT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-ethoxypropanoate Chemical compound CCOC(C)C(=O)OC YVWPDYFVVMNWDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XPIWVCAMONZQCP-UHFFFAOYSA-N methyl 2-oxobutanoate Chemical compound CCC(=O)C(=O)OC XPIWVCAMONZQCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 2
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylpyridin-2-amine Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=N1 PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical class [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N propyl 2-oxopropanoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=O ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 238000006798 ring closing metathesis reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 2
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 2
- KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N succinimide Chemical compound O=C1CCC(=O)N1 KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical group 0.000 description 2
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 2
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004901 trioxanes Chemical class 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGSHZSDDBWTHDU-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC(=O)C(C)=NOS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 PGSHZSDDBWTHDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRUDPRFGMHTPFJ-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) acetate Chemical compound CC(=O)ON=C(C)C(C)=O MRUDPRFGMHTPFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKCKRZWCOYHBEC-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) benzoate Chemical compound CC(=O)C(C)=NOC(=O)C1=CC=CC=C1 SKCKRZWCOYHBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFFCVOSCPLKMLG-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) propanoate Chemical compound CCC(=O)ON=C(C)C(C)=O JFFCVOSCPLKMLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQLZSJJJXHJANW-UHFFFAOYSA-N (3-oxopentan-2-ylideneamino) acetate Chemical compound CCC(=O)C(C)=NOC(C)=O HQLZSJJJXHJANW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZENGILVLUJGJX-IHWYPQMZSA-N (Z)-acetaldehyde oxime Chemical compound C\C=N/O FZENGILVLUJGJX-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- IPEBJCNYCFJZHC-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrachloro-5,6-diisocyanatobenzene Chemical compound ClC1=C(Cl)C(Cl)=C(N=C=O)C(N=C=O)=C1Cl IPEBJCNYCFJZHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC=NC(N)=N1 VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGJSXRVXTHVRSN-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trioxane Chemical group C1OCOCO1 BGJSXRVXTHVRSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOBDFTUDYRPGJY-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(ethenylsulfonyl)propan-2-ol Chemical compound C=CS(=O)(=O)CC(O)CS(=O)(=O)C=C SOBDFTUDYRPGJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC(CN=C=O)=C1 RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940005561 1,4-benzoquinone Drugs 0.000 description 1
- OHLKMGYGBHFODF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=C(CN=C=O)C=C1 OHLKMGYGBHFODF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBMQNRKSAWNXBT-UHFFFAOYSA-N 1,4-diaminoanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(N)=CC=C2N FBMQNRKSAWNXBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=C(N=C=O)C=C1 ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDMDQYCEEKCBGR-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatocyclohexane Chemical compound O=C=NC1CCC(N=C=O)CC1 CDMDQYCEEKCBGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 1,5-Naphthalene diisocyanate Chemical compound C1=CC=C2C(N=C=O)=CC=CC2=C1N=C=O SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWBVCOPVKXNMMZ-UHFFFAOYSA-N 1,5-diaminoanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=C(N)C=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2N VWBVCOPVKXNMMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATOUXIOKEJWULN-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-2,2,4-trimethylhexane Chemical compound O=C=NCCC(C)CC(C)(C)CN=C=O ATOUXIOKEJWULN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGLRLXLDMZCFBP-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-2,4,4-trimethylhexane Chemical compound O=C=NCC(C)CC(C)(C)CCN=C=O QGLRLXLDMZCFBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940008841 1,6-hexamethylene diisocyanate Drugs 0.000 description 1
- KAMCBFNNGGVPPW-UHFFFAOYSA-N 1-(ethenylsulfonylmethoxymethylsulfonyl)ethene Chemical compound C=CS(=O)(=O)COCS(=O)(=O)C=C KAMCBFNNGGVPPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITBRQMPOQQZNFT-UHFFFAOYSA-N 1-(trifluoromethyl)-4-[4-(trifluoromethyl)phenyl]benzene Chemical group C1=CC(C(F)(F)F)=CC=C1C1=CC=C(C(F)(F)F)C=C1 ITBRQMPOQQZNFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDSVPKGMYHANML-UHFFFAOYSA-N 1-[2-[1-(2-aminopropoxy)propan-2-yloxy]ethoxy]propan-2-amine Chemical compound CC(N)COCCOC(C)COCC(C)N RDSVPKGMYHANML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical group C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical group C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylazepan-2-one Chemical compound C=CN1CCCCCC1=O JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006219 1-ethylpentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YXAOOTNFFAQIPZ-UHFFFAOYSA-N 1-nitrosonaphthalen-2-ol Chemical compound C1=CC=CC2=C(N=O)C(O)=CC=C21 YXAOOTNFFAQIPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Natural products C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-L 2,2-diethylpropanedioate Chemical compound CCC(CC)(C([O-])=O)C([O-])=O LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WCZNKVPCIFMXEQ-UHFFFAOYSA-N 2,3,5,6-tetramethylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CC1=C(C)C(N)=C(C)C(C)=C1N WCZNKVPCIFMXEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVDSMYGTJDFNHN-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethylbenzene-1,3-diamine Chemical compound CC1=CC(C)=C(N)C(C)=C1N ZVDSMYGTJDFNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-D Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWAPJIHJXDYDPW-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethyl-p-phenylenediamine Chemical compound CC1=CC(N)=C(C)C=C1N BWAPJIHJXDYDPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYXHDJJYVDLECA-UHFFFAOYSA-N 2,5-diphenylcyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical compound O=C1C=C(C=2C=CC=CC=2)C(=O)C=C1C1=CC=CC=C1 QYXHDJJYVDLECA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUMMBDBTERQYCG-UHFFFAOYSA-N 2,6-bis(hydroxymethyl)-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC(CO)=C(O)C(CO)=C1 KUMMBDBTERQYCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LESMLVDJJCWZAJ-UHFFFAOYSA-N 2-(diphenylphosphorylmethyl)-1,3,5-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1CP(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 LESMLVDJJCWZAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJVFGGSBEZLRFB-UHFFFAOYSA-N 2-[(3,5-diaminophenyl)methoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCC1=CC(N)=CC(N)=C1 RJVFGGSBEZLRFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUZSJKBFHATJHV-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-[4-(2-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1OC1=CC=C(C(C=2C=CC(OC=3C(=CC=CC=3)N)=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 YUZSJKBFHATJHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXVXPASMKWYBFD-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-hydroxy-3-(hydroxymethyl)-5-methylphenyl]methyl]-6-(hydroxymethyl)-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC(CO)=C(O)C(CC=2C(=C(CO)C=C(C)C=2)O)=C1 BXVXPASMKWYBFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSTZGVRUOMBULC-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4-[2-(3-amino-4-hydroxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenol Chemical compound C1=C(O)C(N)=CC(C(C=2C=C(N)C(O)=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=C1 MSTZGVRUOMBULC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHIDYCYNRPVZCK-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4-[2-(3-amino-4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C(N)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C(N)=C1 UHIDYCYNRPVZCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPUFCLGAODQFLG-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-(4-aminophenyl)cyclohexa-2,4-diene-1,1-diol Chemical group C1C(O)(O)C(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 NPUFCLGAODQFLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDRNVPNSQJRIRN-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-[2-(4-amino-3-hydroxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenol Chemical compound C1=C(O)C(N)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(N)C(O)=C1 ZDRNVPNSQJRIRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDFAWEKPFLGRAK-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-[2-(4-amino-3-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(N)C(O)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(N)C(O)=C1 JDFAWEKPFLGRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSHISXQEKIKSGC-UHFFFAOYSA-N 2-aminoethyl 2-methylprop-2-enoate;hydron;chloride Chemical compound Cl.CC(=C)C(=O)OCCN XSHISXQEKIKSGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXGVMFHEKMGWMA-UHFFFAOYSA-N 2-benzofuran Chemical group C1=CC=CC2=COC=C21 UXGVMFHEKMGWMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTSDQEHXNNLUEA-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylsulfonylacetamide Chemical compound NC(=O)CS(=O)(=O)C=C KTSDQEHXNNLUEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical class OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenyl]methyl]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1CC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006290 2-hydroxybenzyl group Chemical group [H]OC1=C(C([H])=C([H])C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)CC1=CC=CC=C1 RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNYJRJRHKRZXEO-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CC(C)C1=CC(N)=CC=C1N WNYJRJRHKRZXEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAIUNKRWKOVEES-UHFFFAOYSA-N 3,3',5,5'-tetramethylbenzidine Chemical group CC1=C(N)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N)=C(C)C=2)=C1 UAIUNKRWKOVEES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethoxybenzidine Chemical group C1=C(N)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C(N)=CC=2)=C1 JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSTOKWSFWGCZMH-UHFFFAOYSA-N 3,3'-diaminobenzidine Chemical group C1=C(N)C(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C(N)=C1 HSTOKWSFWGCZMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDXAWLJRERMRKF-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethyl-1h-pyrazole Chemical compound CC=1C=C(C)NN=1 SDXAWLJRERMRKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDXGRHCEHPFUSU-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)aniline Chemical group NC1=CC=CC(C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 NDXGRHCEHPFUSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQFRTJPVZSPBFI-UHFFFAOYSA-N 3-(trifluoromethyl)benzene-1,2-diamine Chemical compound NC1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1N PQFRTJPVZSPBFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZYZUFNSKAIYCJ-UHFFFAOYSA-N 3-[(3-aminocyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1C(N)CCCC1CC1CC(N)CCC1 ZZYZUFNSKAIYCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKOFBUUFHALZGK-UHFFFAOYSA-N 3-[(3-aminophenyl)methyl]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(CC=2C=C(N)C=CC=2)=C1 CKOFBUUFHALZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCFMKTNJZCYBBJ-UHFFFAOYSA-N 3-[1-(2,3-dicarboxyphenyl)ethyl]phthalic acid Chemical compound C=1C=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=1C(C)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O UCFMKTNJZCYBBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDLIVMVGLBFHOC-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(2,3-dicarboxyphenyl)propyl]phthalic acid Chemical compound C(=O)(O)C1=C(C=CC=C1C(=O)O)C(C)CC1=C(C(=CC=C1)C(=O)O)C(=O)O IDLIVMVGLBFHOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(3-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C=C(N)C=CC=3)C=CC=2)=C1 DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFTFTIALAXXIMU-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[2-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(=CC=2)C(C=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=C1 MFTFTIALAXXIMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPXCORHXFPYJEH-UHFFFAOYSA-N 3-[[3-aminopropyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilyl]propan-1-amine Chemical compound NCCC[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCN GPXCORHXFPYJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCC1(CC)COC1 FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[4-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]methoxymethyl]oxetane Chemical compound C=1C=C(COCC2(CC)COC2)C=CC=1COCC1(CC)COC1 LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006291 3-hydroxybenzyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical compound C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXFPEBPIARQUIG-UHFFFAOYSA-N 4'-hydroxyacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 TXFPEBPIARQUIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WECDUOXQLAIPQW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Methylene bis(2-methylaniline) Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(CC=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 WECDUOXQLAIPQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYYKXFEKMGYLZ-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C=1C=C2C(=O)OC(=O)C2=CC=1C1=CC=CC2=C1C(=O)OC2=O FYYYKXFEKMGYLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQBIGPMJQUKYAH-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-diaminophenoxy)benzene-1,2-diamine Chemical compound C1=C(N)C(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C(N)=C1 RQBIGPMJQUKYAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVJXASLHNGDGTJ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-2,3,6-trifluorophenyl)-2,3,5-trifluoroaniline Chemical compound FC1=C(F)C(N)=CC(F)=C1C1=C(F)C=C(N)C(F)=C1F UVJXASLHNGDGTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSJAPRRUOIMQSN-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-2-fluorophenyl)-3-fluoroaniline Chemical group FC1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1F LSJAPRRUOIMQSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWCCEIUKGFGDDS-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-2-methylphenyl)-3-methylaniline Chemical group CC1=C(C=CC(=C1)N)C1=C(C=C(N)C=C1)C.CC1=C(C=CC(=C1)N)C1=C(C=C(C=C1)N)C VWCCEIUKGFGDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQWWWAQUMVHHQN-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-4-phenylcyclohexa-1,5-dien-1-yl)aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1C1=CCC(N)(C=2C=CC=CC=2)C=C1 QQWWWAQUMVHHQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDBMKUGEVIQCGQ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-aminophenyl)-2,3-dimethylaniline Chemical group C1=C(N)C(C)=C(C)C(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 BDBMKUGEVIQCGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMHOXRVODFQGCA-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-amino-3,5-dimethylphenyl)methyl]-2,6-dimethylaniline Chemical compound CC1=C(N)C(C)=CC(CC=2C=C(C)C(N)=C(C)C=2)=C1 OMHOXRVODFQGCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminocyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1CC1CCC(N)CC1 DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGPJBCCVSFQQED-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminophenyl)-[[dimethyl(trimethylsilyloxy)silyl]oxy-dimethylsilyl]oxy-methylsilyl]oxysilylaniline Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1[Si](C)(O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C)O[SiH2]C1=CC=C(N)C=C1 SGPJBCCVSFQQED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJJNNSUCZDJDLP-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(3,4-dicarboxyphenyl)ethyl]phthalic acid Chemical compound C=1C=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=CC=1C(C)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 IJJNNSUCZDJDLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASNOFHCTUSIHOM-UHFFFAOYSA-N 4-[10-(4-aminophenyl)anthracen-9-yl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(C1=CC=CC=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=C(N)C=C1 ASNOFHCTUSIHOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APXJLYIVOFARRM-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(3,4-dicarboxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 APXJLYIVOFARRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYAGBVEAJGCFB-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(3,4-dicarboxyphenyl)propan-2-yl]phthalic acid Chemical compound C=1C=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 GEYAGBVEAJGCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEKFRNOZJSYWKZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(N)C=C1 BEKFRNOZJSYWKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHNUHZHQLCGZDA-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)ethyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CCC1=CC=C(N)C=C1 UHNUHZHQLCGZDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYEDGEXYGKWJPB-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)propan-2-yl]aniline Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(N)C=C1 ZYEDGEXYGKWJPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTKJRDQWPMBSFN-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-aminophenyl)-1,1,2,2,3,3-hexafluoropropyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1=CC=C(N)C=C1 LTKJRDQWPMBSFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOVVHULZWVFIOX-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-aminophenyl)phenyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 BOVVHULZWVFIOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GACNZKUFHGKSEX-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-aminophenyl)-1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1=CC=C(N)C=C1 GACNZKUFHGKSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBLYIUPUXAWDMA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)-3,5-bis(trifluoromethyl)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]-2,6-bis(trifluoromethyl)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=C(C(F)(F)F)C=C(C(C=2C=C(C(OC=3C=CC(N)=CC=3)=C(C=2)C(F)(F)F)C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1C(F)(F)F HBLYIUPUXAWDMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCFYKCXKADGLPS-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)-3,5-dimethylphenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]-2,6-dimethylphenoxy]aniline Chemical compound CC1=CC(C(C=2C=C(C)C(OC=3C=CC(N)=CC=3)=C(C)C=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=CC(C)=C1OC1=CC=C(N)C=C1 VCFYKCXKADGLPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]phenoxy]aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWFSADBGACLBMH-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-[4-amino-2-(trifluoromethyl)phenoxy]phenyl]phenoxy]-3-(trifluoromethyl)aniline Chemical group FC(F)(F)C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C=2C=CC(OC=3C(=CC(N)=CC=3)C(F)(F)F)=CC=2)C=C1 IWFSADBGACLBMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPCDFSDBIWVMJC-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-[4-amino-3-(trifluoromethyl)phenoxy]phenyl]phenoxy]-2-(trifluoromethyl)aniline Chemical group C1=C(C(F)(F)F)C(N)=CC=C1OC1=CC=C(C=2C=CC(OC=3C=C(C(N)=CC=3)C(F)(F)F)=CC=2)C=C1 DPCDFSDBIWVMJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LACZRKUWKHQVKS-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-amino-2-(trifluoromethyl)phenoxy]phenoxy]-3-(trifluoromethyl)aniline Chemical compound FC(F)(F)C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1C(F)(F)F LACZRKUWKHQVKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVKGJHAQGWCWDI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-amino-2-(trifluoromethyl)phenyl]-3-(trifluoromethyl)aniline Chemical group FC(F)(F)C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1C(F)(F)F NVKGJHAQGWCWDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPAKXKXRPMFMLR-UHFFFAOYSA-N 4-[5-(4-aminophenyl)-1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-decafluoropentyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1=CC=C(N)C=C1 FPAKXKXRPMFMLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTFKTVSBXEXKF-UHFFFAOYSA-N 4-[7-(4-aminophenyl)-1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-tetradecafluoroheptyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1=CC=C(N)C=C1 BOTFKTVSBXEXKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003143 4-hydroxybenzyl group Chemical group [H]C([*])([H])C1=C([H])C([H])=C(O[H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- DGHJKOUXAHNRAP-UHFFFAOYSA-N 4-methyloxadiazole Chemical class CC1=CON=N1 DGHJKOUXAHNRAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQMIJLIXKMKFQW-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbenzene-1,2,3,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C1C1=CC=CC=C1 CQMIJLIXKMKFQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPDXWXPSCKSIII-UHFFFAOYSA-N 4-propan-2-ylbenzene-1,3-diamine Chemical compound CC(C)C1=CC=C(N)C=C1N IPDXWXPSCKSIII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 4H-1,2,4-triazole Chemical compound C=1N=CNN=1 NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002373 5 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHBXLZQQVCDGPA-UHFFFAOYSA-N 5-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)sulfonyl]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(S(=O)(=O)C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 ZHBXLZQQVCDGPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKVUYEYANWFIJX-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1h-pyrazole Chemical compound CC1=CC=NN1 XKVUYEYANWFIJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZWRYPGAUIOOMK-UHFFFAOYSA-N 5-nitroso-8-quinolinol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=C(N=O)C2=C1 RZWRYPGAUIOOMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-2h-tetrazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NNN=N1 MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004070 6 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDUZWPPSSHEDFK-VVXQKDJTSA-N C(C(C)(C)C)C([C@H](O)[C@H](O)CO)O Chemical compound C(C(C)(C)C)C([C@H](O)[C@H](O)CO)O XDUZWPPSSHEDFK-VVXQKDJTSA-N 0.000 description 1
- GTTUGTRPTCKTHF-UPQMTBSMSA-N C(C=C)(=O)O.C(C=C)(=O)O.C(C=C)(=O)O.C(C(C)(C)C)C([C@H](O)[C@H](O)CO)O Chemical compound C(C=C)(=O)O.C(C=C)(=O)O.C(C=C)(=O)O.C(C(C)(C)C)C([C@H](O)[C@H](O)CO)O GTTUGTRPTCKTHF-UPQMTBSMSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FCKYPQBAHLOOJQ-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane-1,2-diaminetetraacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)C1CCCCC1N(CC(O)=O)CC(O)=O FCKYPQBAHLOOJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000009261 D 400 Substances 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N Docosanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010059866 Drug resistance Diseases 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000682907 Fusidium Species 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBUCNCOMADRQHX-UHFFFAOYSA-N N-Nitrosodiphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1N(N=O)C1=CC=CC=C1 UBUCNCOMADRQHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQVWYOYUZDUNRW-UHFFFAOYSA-N N-Phenyl-1-naphthylamine Chemical compound C=1C=CC2=CC=CC=C2C=1NC1=CC=CC=C1 XQVWYOYUZDUNRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZERHIULMFGESH-UHFFFAOYSA-N N-phenylacetamide Chemical compound CC(=O)NC1=CC=CC=C1 FZERHIULMFGESH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWGWXYUPRTXVSY-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CC1=CC=C(C)C=C1 Chemical class N=C=O.N=C=O.CC1=CC=C(C)C=C1 GWGWXYUPRTXVSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQBRAHLFLCMLBA-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CC1=CC=CC(C)=C1 Chemical class N=C=O.N=C=O.CC1=CC=CC(C)=C1 UQBRAHLFLCMLBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOMPUFACNHSNPC-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CC1=CC=CC=C1C Chemical compound N=C=O.N=C=O.CC1=CC=CC=C1C XOMPUFACNHSNPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005700 Putrescine Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- DPQRMIPRAHPPNE-UHFFFAOYSA-N [(1-oxo-1-phenylpropan-2-ylidene)amino] acetate Chemical compound CC(=O)ON=C(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 DPQRMIPRAHPPNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNZDJSGUWLGTLA-UHFFFAOYSA-N [(1-oxo-1-phenylpropan-2-ylidene)amino] benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(C)=NOC(=O)C1=CC=CC=C1 ZNZDJSGUWLGTLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDYVWDMHYNGVGE-UHFFFAOYSA-N [2-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCCCC1CN BDYVWDMHYNGVGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N [2-[[4-methyl-3-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]carbonylamino]phenyl]carbamoyloxymethyl]-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound CC1=CC=C(NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C)C=C1NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLBRROYTTDFLDX-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCCC(CN)C1 QLBRROYTTDFLDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIVQCJOGAHNXBO-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] propanoate Chemical compound CCC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HIVQCJOGAHNXBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCC(CN)CC1 OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 125000004062 acenaphthenyl group Chemical group C1(CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- 229960001413 acetanilide Drugs 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPTNXMGXEGQYSY-UHFFFAOYSA-N acetic acid;1-methoxybutan-1-ol Chemical compound CC(O)=O.CCCC(O)OC IPTNXMGXEGQYSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXAJQJMDEXJWFB-UHFFFAOYSA-N acetone oxime Chemical compound CC(C)=NO PXAJQJMDEXJWFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000000641 acridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 125000005042 acyloxymethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 239000004844 aliphatic epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004419 alkynylene group Chemical group 0.000 description 1
- MKSISPKJEMTIGI-LWTKGLMZSA-K aluminum (Z)-oxido-oxidoimino-phenylazanium Chemical compound [Al+3].[O-]\N=[N+](/[O-])c1ccccc1.[O-]\N=[N+](/[O-])c1ccccc1.[O-]\N=[N+](/[O-])c1ccccc1 MKSISPKJEMTIGI-LWTKGLMZSA-K 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000845 anti-microbial effect Effects 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- PAQKRBLMHQTWAS-UHFFFAOYSA-N azane;n-hydroxy-n-naphthalen-1-ylnitrous amide Chemical compound N.C1=CC=C2C(N(N=O)O)=CC=CC2=C1 PAQKRBLMHQTWAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 125000003828 azulenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- XDLDASNSMGOEMX-UHFFFAOYSA-N benzene benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1 XDLDASNSMGOEMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCAIEATUVJFSMC-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1C(O)=O GCAIEATUVJFSMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical group C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003310 benzodiazepinyl group Chemical class N1N=C(C=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical class C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N benzyl N-[2-hydroxy-4-(3-oxomorpholin-4-yl)phenyl]carbamate Chemical compound OC1=C(NC(=O)OCC2=CC=CC=C2)C=CC(=C1)N1CCOCC1=O FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- TUQQUUXMCKXGDI-UHFFFAOYSA-N bis(3-aminophenyl)methanone Chemical compound NC1=CC=CC(C(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 TUQQUUXMCKXGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N bis(4-aminophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N)C=C1 ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- VTTONGPRPXSUTJ-UHFFFAOYSA-N bufotenin Chemical compound C1=C(O)C=C2C(CCN(C)C)=CNC2=C1 VTTONGPRPXSUTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006226 butoxyethyl group Chemical group 0.000 description 1
- IWPATTDMSUYMJV-UHFFFAOYSA-N butyl 2-methoxyacetate Chemical compound CCCCOC(=O)COC IWPATTDMSUYMJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- QZHPTGXQGDFGEN-UHFFFAOYSA-N chromene Chemical group C1=CC=C2C=C[CH]OC2=C1 QZHPTGXQGDFGEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005578 chrysene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 125000000332 coumarinyl group Chemical class O1C(=O)C(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical group 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- SSJXIUAHEKJCMH-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-diamine Chemical compound NC1CCCCC1N SSJXIUAHEKJCMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKJLNMAFNRKWGR-UHFFFAOYSA-N cyclohexatrienamine Chemical group NC1=CC=C=C[CH]1 UKJLNMAFNRKWGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- KQWGXHWJMSMDJJ-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl isocyanate Chemical compound O=C=NC1CCCCC1 KQWGXHWJMSMDJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- FKZZENYNVOPGCD-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-2,4-dien-1-ylbenzene iron Chemical class [Fe].C1=CC(C=C1)c1ccccc1 FKZZENYNVOPGCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYJQGGALXPHWLV-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,2-diamine Chemical compound NC1CCCC1N MYJQGGALXPHWLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQWRZCZEOLZBQF-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,3-diamine Chemical compound NC1CCC(N)C1 ZQWRZCZEOLZBQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 125000004855 decalinyl group Chemical group C1(CCCC2CCCCC12)* 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000005595 deprotonation Effects 0.000 description 1
- 238000010537 deprotonation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- FSEUPUDHEBLWJY-HWKANZROSA-N diacetylmonoxime Chemical compound CC(=O)C(\C)=N\O FSEUPUDHEBLWJY-HWKANZROSA-N 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- BEPAFCGSDWSTEL-UHFFFAOYSA-N dimethyl malonate Chemical compound COC(=O)CC(=O)OC BEPAFCGSDWSTEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Natural products C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 1
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 1
- 125000005677 ethinylene group Chemical group [*:2]C#C[*:1] 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- NDMXSCGMYOVVJE-UHFFFAOYSA-N ethoxymethyl acetate Chemical compound CCOCOC(C)=O NDMXSCGMYOVVJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005745 ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- WNIHNYUROPJCLW-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxy-2-methylpropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)(C)OCC WNIHNYUROPJCLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OCC CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVPMEZSWYJEBNP-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methoxy-2-methylpropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)(C)OC WVPMEZSWYJEBNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLEKJZUYWFJPMB-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methoxyacetate Chemical compound CCOC(=O)COC JLEKJZUYWFJPMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDMWUMUNUXUYKT-UHFFFAOYSA-N ethyl [(1-oxo-1-phenylpropan-2-ylidene)amino] carbonate Chemical compound CCOC(=O)ON=C(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 YDMWUMUNUXUYKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEFVIWRASFVYLL-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol bis(2-aminoethyl)tetraacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCOCCOCCN(CC(O)=O)CC(O)=O DEFVIWRASFVYLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 230000009878 intermolecular interaction Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000002510 isobutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N isocrotonic acid Chemical compound C\C=C/C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N isothiazole Chemical group C=1C=NSC=1 ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002372 labelling Methods 0.000 description 1
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical group CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- PPFNAOBWGRMDLL-UHFFFAOYSA-N methyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OC PPFNAOBWGRMDLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMQHTNSMOHHSCU-UHFFFAOYSA-N methyl acetate;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.COC(C)=O ZMQHTNSMOHHSCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQIOSYKVBBWRRI-UHFFFAOYSA-N methylphosphonyl difluoride Chemical group CP(F)(F)=O PQIOSYKVBBWRRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZKALVNREMFLWAN-UHFFFAOYSA-N n-(4-methylpentan-2-ylidene)hydroxylamine Chemical compound CC(C)CC(C)=NO ZKALVNREMFLWAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNYZBFWKVMKMRM-UHFFFAOYSA-N n-benzhydrylidenehydroxylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=NO)C1=CC=CC=C1 DNYZBFWKVMKMRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N n-butan-2-ylidenehydroxylamine Chemical compound CCC(C)=NO WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N n-methylidenehydroxylamine Chemical compound ON=C SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KADGVXXDDWDKBX-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,4,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C21 KADGVXXDDWDKBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDLRSIQOZFLEPK-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,5,8-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 HDLRSIQOZFLEPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSCIZKMHZPGBNI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,3,5,8-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C2=CC(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C21 DSCIZKMHZPGBNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-diamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1N KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTVNOVQHSGMMOV-UHFFFAOYSA-N naphthalenetetracarboxylic dianhydride Chemical compound C1=CC(C(=O)OC2=O)=C3C2=CC=C2C(=O)OC(=O)C1=C32 YTVNOVQHSGMMOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical group C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002921 oxetanes Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- JQQSUOJIMKJQHS-UHFFFAOYSA-N pentaphenyl group Chemical group C1=CC=CC2=CC3=CC=C4C=C5C=CC=CC5=CC4=C3C=C12 JQQSUOJIMKJQHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- JGGWKXMPICYBKC-UHFFFAOYSA-N phenanthrene-1,8,9,10-tetracarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C(C(O)=O)C2=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C3C(C(=O)O)=CC=CC3=C21 JGGWKXMPICYBKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDOWQLZANAYVLL-UHFFFAOYSA-N phenanthridine Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=NC2=C1 RDOWQLZANAYVLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001791 phenazinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C12)* 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- DYFXGORUJGZJCA-UHFFFAOYSA-N phenylmethanediamine Chemical compound NC(N)C1=CC=CC=C1 DYFXGORUJGZJCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 150000003009 phosphonic acids Chemical group 0.000 description 1
- 125000000612 phthaloyl group Chemical group C(C=1C(C(=O)*)=CC=CC1)(=O)* 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- CLYVDMAATCIVBF-UHFFFAOYSA-N pigment red 224 Chemical compound C=12C3=CC=C(C(OC4=O)=O)C2=C4C=CC=1C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C4=CC=C3C1=C42 CLYVDMAATCIVBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- CDQXHVDVGLVACE-UHFFFAOYSA-N propan-2-amine Chemical compound [CH2]C(C)N CDQXHVDVGLVACE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005767 propoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[#8]C([H])([H])* 0.000 description 1
- AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N propylenediamine Chemical compound CC(N)CN AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIROPXUFDXCYLG-UHFFFAOYSA-N pyridine-2,5-diamine Chemical compound NC1=CC=C(N)N=C1 MIROPXUFDXCYLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 235000021003 saturated fats Nutrition 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229960002317 succinimide Drugs 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005329 tetralinyl group Chemical group C1(CCCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 150000003536 tetrazoles Chemical group 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 125000005000 thioaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical group 0.000 description 1
- 125000004953 trihalomethyl group Chemical group 0.000 description 1
- GRPURDFRFHUDSP-UHFFFAOYSA-N tris(prop-2-enyl) benzene-1,2,4-tricarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=C(C(=O)OCC=C)C(C(=O)OCC=C)=C1 GRPURDFRFHUDSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N vinylphosphonic acid Chemical class OP(O)(=O)C=C ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract
本發明提供一種包含選自包括聚醯亞胺前驅物及苯并㗁唑前驅物之群組中之至少1種聚合物前驅物及由下述式(1-1)表示之化合物之硬化性樹脂組成物、藉由硬化上述硬化性樹脂組成物而成之硬化膜、包含上述硬化膜之積層體、上述硬化膜的製造方法以及包含上述硬化膜或上述積層體之半導體器件。在式(1-1)中,X1
表示-O-或-S-,L1
表示式量為1,000以下的2價連結基,R1
及R2
分別獨立地表示1價有機基團,R1
和R2
及L中的至少1個包含具有乙烯性不飽和基之基團。
Description
本發明有關一種硬化性樹脂組成物、硬化膜、積層體、硬化膜的製造方法及半導體器件。
對聚醯亞胺樹脂、聚苯并㗁唑樹脂等聚合物的前驅物(以下,亦將聚醯亞胺樹脂的前驅物及聚苯并㗁唑樹脂的前驅物統稱為“含雜環聚合物前驅物”。)進行環化來硬化之樹脂的耐熱性及絕緣性優異,因此可適用於各種用途。作為上述用途並無特別限定,但若以實際安裝用半導體器件為例,則可舉出作為絕緣膜或密封材料的素材或保護膜的利用。又,亦用作撓性基板的基底膜或覆蓋膜等。
例如,在上述用途中,將含雜環聚合物前驅物以含有含雜環聚合物前驅物之硬化性樹脂組成物的形態使用。將該種硬化性樹脂組成物例如藉由塗佈等適用於基材上,之後,藉由加熱等環化上述含雜環聚合物前驅物,能夠在基材上形成已硬化之樹脂。能夠藉由公知的塗佈方法等適用硬化性樹脂組成物,因此,可以說例如所適用的硬化性樹脂組成物的形狀、大小、適用位置等設計的自由度高等製造上的適應性優異。從除了聚醯亞胺樹脂等所具有的高性能以外,製造上的適應性亦優異的觀點考慮,越來越期待含有含雜環聚合物前驅物之硬化性樹脂組成物的產業上的應用拓展。
例如,專利文獻1中記載有一種聚醯亞胺樹脂組成物,其特徵為包含聚醯亞胺和特定結構的雙醯亞胺化合物或特定結構的雙異醯亞胺化合物。
[專利文獻1]日本特開2007-137960號公報
在藉由硬化包含聚醯亞胺前驅物等含雜環聚合物前驅物之硬化性樹脂組成物而成之硬化膜的形成中,例如,在藉由在硬化膜上進一步適用並硬化硬化性樹脂組成物而製作積層體時等,存在所形成之硬化膜與顯影液或其他組成物接觸的情況。
因此,在硬化性樹脂組成物中,例如,從對顯影液的耐性或抑制由與其他組成物的接觸導致之硬化膜的溶解等觀點考慮,期待提供一種所獲得之硬化膜的耐藥品性優異之硬化性樹脂組成物。
本發明的目的在於提供一種所獲得之硬化膜的耐藥品性優異之硬化性樹脂組成物、藉由硬化上述硬化性樹脂組成物而成之硬化膜、包含上述硬化膜之積層體、上述硬化膜的製造方法及包含上述硬化膜或上述積層體之半導體器件。
以下,示出本發明的代表性實施態樣的例子。
<1>一種硬化性樹脂組成物,其係包含:
選自包括聚醯亞胺前驅物及苯并㗁唑前驅物之群組中之至少1種聚合物前驅物;及
由下述式(1-1)表示之化合物,
[化學式1]
在式(1-1)中,X1
表示-O-或-S-,L1
表示式量為1,000以下的2價連結基,R1
及R2
分別獨立地表示1價有機基團,R1
和R2
及L1
中的至少1個包含具有乙烯性不飽和基之基團。
<2>如<1>所述之硬化性樹脂組成物,其中具有上述乙烯性不飽和基之基團係(甲基)丙烯醯氧基。
<3>如<1>或<2>所述之硬化性樹脂組成物,其中上述L1
中的連結鏈長為1~4。
<4>如<1>~<3>之任一項所述之硬化性樹脂組成物,其中上述L1
係具有由下述式(L-1)~下述式(L-3)中的任1個表示之部分結構之基團。
[化學式2]
在式(L-1)~式(L-3)中,*1
分別表示與式(1-1)中的-C(=O)-的一側所包含之碳原子的鍵結部位,*2
分別表示與式(1-1)中的-C(=O)-的另一側所包含之碳原子的鍵結部位,波浪線部分分別獨立地表示與其他結構的鍵結部位。
<5>如<1>~<4>之任一項所述之硬化性樹脂組成物,其中上述R1
的式量及上述R2
的式量均為80~500。
<6>如<1>~<5>之任一項所述之硬化性樹脂組成物,其係進一步包含具有複數個能夠與選自包括羥基及硫醇基之群組中之至少1種基團縮合之基團之化合物。
<7>如<1>~<6>之任一項所述之硬化性樹脂組成物,其係進一步包含光自由基聚合起始劑。
<8>如<1>~<7>之任一項所述之硬化性樹脂組成物,其係包含聚醯亞胺前驅物作為上述聚合物前驅物。
<9>如<8>所述之硬化性樹脂組成物,其中上述聚醯亞胺前驅物具有由下述式(1)表示之重複單元,
[化學式3]
在式(1)中,A1
及A2
分別獨立地表示-O-或-NH-,R111
表示2價有機基團,R115
表示4價有機基團,R113
及R114
分別獨立地表示氫原子或1價有機基團。
<10>如<9>所述之硬化性樹脂組成物,其中上述式(1)的R113
及R114
中的至少1個包含自由基聚合性基團。
<11>如<1>~<10>之任一項所述之硬化性樹脂組成物,其係用於形成再配線層用層間絕緣膜。
<12>一種硬化膜,其係藉由硬化<1>~<11>之任一項所述之硬化性樹脂組成物而成。
<13>一種積層體,其係包含2層以上<12>所述之硬化膜,在任意上述硬化膜彼此之間包含金屬層。
<14>一種硬化膜的製造方法,其係包括將<1>~<11>之任一項所述之硬化性樹脂組成物適用於基材而形成膜之膜形成製程。
<15>如<14>所述之硬化膜的製造方法,其係包括對上述膜進行曝光之曝光製程及對上述膜進行顯影之顯影製程。
<16>如<14>或<15>所述之硬化膜的製造方法,其係包括在50~450℃下加熱上述膜之加熱製程。
<17>一種半導體器件,其係包含<12>所述之硬化膜或<13>所述之積層體。
<18>一種化合物,其係由下述式(1-1)表示,
[化學式4]
在式(1-1)中,X1
表示-O-或-S-,L1
表示式量為1,000以下的2價連結基,R1
及R2
分別獨立地表示1價有機基團,R1
和R2
及L1
中的至少1個包含具有乙烯性不飽和基之基團。
[發明效果]
根據本發明,提供一種所獲得之硬化膜的耐藥品性優異之硬化性樹脂組成物、藉由硬化上述硬化性樹脂組成物而成之硬化膜、包含上述硬化膜之積層體、上述硬化膜的製造方法及包含上述硬化膜或上述積層體之半導體器件。
以下,對本發明的主要實施形態進行說明。然而,本發明並不限於所明示之實施形態。
在本說明書中利用“~”記號表示之數值範圍表示將記載於“~”的前後之數值分別作為下限值及上限值包括之範圍。
在本說明書中“製程”這一術語不僅表示獨立的製程,只要能夠實現該製程的所需作用,則亦表示包括無法與其他製程明確區分之製程。
關於本說明書中的基團(原子團)的標記,未標註經取代及未經取代之標記同時包括不具有取代基之基團(原子團)和具有取代基之基團(原子團)。例如,“烷基”不僅包括不具有取代基之烷基(未經取代的烷基),還包括具有取代基之烷基(取代烷基)。
在本說明書中,“曝光”只要無特別限定,除了利用光的曝光以外,還包括利用電子束、離子束等粒子束之曝光。又,作為用於曝光之光,可舉出水銀燈的明線光譜、以準分子雷射為代表之遠紫外線、極紫外線(EUV光)、X射線、電子束等光化射線或放射線。
在本說明書中,“(甲基)丙烯酸酯”表示“丙烯酸酯”及“甲基丙烯酸酯”這兩者或其中任1個,“(甲基)丙烯酸”表示“丙烯酸”及“甲基丙烯酸”這兩者或其中任1個,“(甲基)丙烯醯基”表示“丙烯醯基”及“甲基丙烯醯基”這兩者或其中任1個。
在本說明書中,結構式中的Me表示甲基,Et表示乙基,Bu表示丁基,Ph表示苯基。
在本說明書中,總固體成分表示從組成物的總成分去除溶劑之成分的總質量。又,在本說明書中,固體成分濃度係除了溶劑以外的其他成分相對於組成物的總質量的質量百分率。
在本說明書中,只要沒有特別說明,則重量平均分子量(Mw)及數平均分子量(Mn)基於凝膠滲透層析法(GPC測定),並定義為聚苯乙烯換算值。在本說明書中,重量平均分子量(Mw)及數平均分子量(Mn)例如能夠利用HLC-8220GPC(TOSOH CORPORATION製),並使用保護管柱HZ-L、TSKgel Super HZM-M、TSKgel Super HZ4000、TSKgel Super HZ3000、TSKgel Super HZ2000(TOSOH CORPORATION製)作為管柱來求出。該等分子量只要沒有特別說明,將使用THF(四氫呋喃)測定者作為洗提液。又,只要沒有特別說明,GPC測定中的檢測使用UV線(紫外線)的波長254nm檢測器。
在本說明書中,關於構成積層體之各層的位置關係,記載為“上”或“下”時,所關注的複數層中成為基準的層的上側或下側存在其他層即可。亦即,在成為基準的層與上述其他層之間可以進一步夾有第3層或第3要件,而成為基準的層與上述其他層無需接觸。又,只要沒有特別說明,將對基材堆疊層之方向稱為“上”,或在存在感光層時,將從基材朝向感光層的方向稱為“上”,將其相反方向稱為“下”。此外,該等上下方向的設定是為了本說明書中的便利,在實際態樣中,本說明書中的“上”方向亦可以與鉛垂上朝向不同。
在本說明書中,只要沒有特別說明,作為組成物中包含之各成分,組成物可以包含符合該成分的2種以上的化合物。又,只要沒有特別說明,組成物中的各成分的含量表示符合該成分的所有化合物的合計含量。
在本說明書中,只要沒有特別說明,溫度為23℃,氣壓為101,325Pa(1氣壓)。
在本說明書中,較佳態樣的組合為更佳態樣。
(硬化性樹脂組成物)
本發明的硬化性樹脂組成物包含選自包括聚醯亞胺前驅物及苯并㗁唑前驅物之群組中之至少1種聚合物前驅物及由下述式(1-1)表示之化合物。
又,本發明的硬化性樹脂組成物進一步包含後述之光自由基聚合起始劑為較佳。
[化學式5]
在式(1-1)中,X1
表示-O-或-S-,L1
表示式量為1,000以下的2價連結基,R1
及R2
分別獨立地表示1價有機基團,R1
和R2
及L1
中的至少1個包含具有乙烯性不飽和基之基團。
藉由本發明的硬化性樹脂組成物獲得之硬化膜的耐藥品性優異。
獲得上述效果之機制尚不明確,但可推測如下。
認為對本發明的硬化性樹脂組成物或包含上述硬化性樹脂組成物中的乙烯性不飽和基的至少一部分聚合之聚合物成分之組成物例如進行加熱時,源自式(1-1)表示之化合物之由下述式(1-1-1)表示之結構藉由環化成為由下述式(1-1-2)表示之醯亞胺結構。
[化學式6]
在上述式(1-1-1)及式(1-1-2)中,X1
的含義與上述式(1-1)中的X1
相同,LA
係上述式(1-1)中的L1
或源自L1
之結構,*及波浪線部分分別獨立地表示與其他結構的鍵結部位。
LA
例如表示上述式(1-1)中的L1
或藉由上述L1
中的乙烯性不飽和基與其他乙烯性不飽和基聚合而形成之結構。又,*例如表示與上述式(1-1)中的R2
的鍵結部位或與藉由上述R2
中的乙烯性不飽和基和其他乙烯性不飽和基聚合而形成之結構的鍵結部位。
又,在由式(1-1)表示之化合物中,R2
及L1
中的至少1個包含具有乙烯性不飽和基之基團,因此認為上述醯亞胺結構最終包含在硬化膜中的聚合物成分中。
因此,認為加熱後所獲得之硬化膜中包含具有源自由式(1-1)表示之化合物之醯亞胺結構之聚合物成分。認為具有該種醯亞胺結構之聚合物成分的聚合物成分彼此的分子間相互作用強,因此上述硬化膜成為牢固的膜,且耐藥品性優異。
又,認為根據本發明的硬化性樹脂組成物,硬化製程中的聚醯亞胺前驅物及苯并㗁唑前驅物的醯亞胺化反應率高,且容易獲得斷裂伸長率優異之硬化膜。
其中,在專利文獻1中,關於包含由式(1-1)表示之化合物之硬化性樹脂組成物,既無記載亦無暗示。又,在專利文獻1的硬化性樹脂組成物中,硬化膜的耐藥品性具有進一步提高的餘地。
以下,對本發明的硬化性樹脂組成物中包含之成分進行詳細說明。
<含雜環聚合物前驅物>
本發明的硬化性樹脂組成物含有含雜環聚合物前驅物。
作為上述含雜環聚合物前驅物,本發明的硬化性樹脂組成物包含選自包括聚醯亞胺前驅物及聚苯并㗁唑前驅物之群組中之至少1種前驅物,包含聚醯亞胺前驅物為較佳。
〔聚醯亞胺前驅物〕
從所獲得之硬化膜的膜強度的觀點考慮,聚醯亞胺前驅物具有由下述式(1)表示之重複單元為較佳。
[化學式7]
在式(1)中,A1
及A2
分別獨立地表示-O-或-NH-,R111
表示2價有機基團,R115
表示4價有機基團,R113
及R114
分別獨立地表示氫原子或1價有機基團。
-A1
及A2
-
在式(1)中的A1
及A2
分別獨立地表示-O-或-NH-,-O-為較佳。
-R111
-
式(1)中的R111
表示2價有機基團。作為2價有機基團,例示直鏈狀或支鏈狀的脂肪族基、環狀的脂肪族基及芳香族基、雜芳香族基或將該等組合2個以上之基團,碳數2~20的直鏈的脂肪族基、碳數3~20的支鏈的脂肪族基、碳數3~20的環狀的脂肪族基、碳數6~20的芳香族基或將該等組合2個以上之基團為較佳,碳數6~20的芳香族基為更佳。
式(1)中的R111
衍生自二胺為較佳。作為在聚醯亞胺前驅物的製造中所使用之二胺,可舉出直鏈狀或支鏈狀脂肪族、環狀脂肪族或芳香族二胺等。二胺可以僅使用1種亦可以使用2種以上。
具體而言,二胺係包含碳數2~20的直鏈脂肪族基、碳數3~20的支鏈狀或環狀脂肪族基、碳數6~20的芳香族基或將該等組合2個以上之基團之二胺為較佳,包含碳數6~20的芳香族基之二胺為更佳。作為芳香族基的例,可舉出下述芳香族基。
[化學式8]
式中,A係單鍵或者可以經氟原子取代之碳數1~10的脂肪族烴基、-O-、-C(=O)-、-S-、-S(=O)2
-、-NHC(=O)-或將該等組合2個以上之基團為較佳,單鍵或選自可以經氟原子取代之碳數1~3的伸烷基、-O-、-C(=O)-、-S-及S(=O)2
-中之基團為更佳,選自包括-CH2
-、-O-、-S-、-S(=O)2
-、-C(CF3
)2
-及-C(CH3
)2
-之群組中之2價基團為進一步較佳。
作為二胺,具體而言可舉出選自1,2-二胺基乙烷、1,2-二胺基丙烷、1,3-二胺基丙烷、1,4-二胺基丁烷、1,6-二胺基己烷;1,2-二胺基環戊烷或1,3-二胺基環戊烷、1,2-二胺基環己烷、1,3-二胺基環己烷或1,4-二胺基環己烷、1,2-雙(胺基甲基)環己烷、1,3-雙(胺基甲基)環己烷或1,4-雙(胺基甲基)環己烷、雙-(4-胺基環己基)甲烷、雙-(3-胺基環己基)甲烷、4,4’-二胺基-3,3’-二甲基環己基甲烷或異佛爾酮二胺;間苯二胺或對苯二胺、二胺基甲苯、4,4’-二胺基聯苯或3,3’-二胺基聯苯、4,4’-二胺基二苯醚、3,3-二胺基二苯醚、4,4’-二胺基二苯基甲烷或3,3’-二胺基二苯基甲烷、4,4’-二胺基二苯基碸或3,3’-二胺基二苯基碸、4,4’-二胺基二苯硫醚或3,3’-二胺基二苯硫醚、4,4’-二胺基二苯甲酮或3,3’-二胺基二苯甲酮、3,3’-二甲基-4,4’-二胺基聯苯、2,2’-二甲基-4,4’-二胺基聯苯(4,4’-二胺基-2,2’-二甲基聯苯)、3,3’-二甲氧基-4,4’-二胺基聯苯、2,2-雙(4-胺基苯基)丙烷、2,2-雙(4-胺基苯基)六氟丙烷、2,2-雙(3-羥基-4-胺基苯基)丙烷、2,2-雙(3-羥基-4-胺基苯基)六氟丙烷、2,2-雙(3-胺基-4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(3-胺基-4-羥基苯基)六氟丙烷、雙(3-胺基-4-羥基苯基)碸、雙(4-胺基-3-羥基苯基)碸、4,4’-二胺基對聯三苯、4,4’-雙(4-胺基苯氧基)聯苯、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸、雙[4-(2-胺基苯氧基)苯基]碸、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、9,10-雙(4-胺基苯基)蒽、3,3’-二甲基-4,4’-二胺基二苯基碸、1,3-雙(4-胺基苯氧基)苯、1,3-雙(3-胺基苯氧基)苯、1,3-雙(4-胺基苯基)苯、3,3’-二乙基-4,4’-二胺基二苯基甲烷、3,3’-二甲基-4,4’-二胺基二苯基甲烷、4,4’-二胺基八氟聯苯、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]六氟丙烷、9,9-雙(4-胺基苯基)-10-氫蒽、3,3’,4,4’-四胺基聯苯、3,3’,4,4’-四胺基二苯醚、1,4-二胺基蒽醌、1,5-二胺基蒽醌、3,3-二羥基-4,4’-二胺基聯苯、9,9’-雙(4-胺基苯基)茀、4,4’-二甲基-3,3’-二胺基二苯基碸、3,3’,5,5’-四甲基-4,4’-二胺基二苯基甲烷、2-(3’,5’-二胺基苯甲醯氧基)甲基丙烯酸乙酯、2,4-二胺基枯烯或2,5-二胺基枯烯、2,5-二甲基-對苯二胺、乙醯胍胺、2,3,5,6-四甲基-對苯二胺、2,4,6-三甲基-間苯二胺、雙(3-胺基丙基)四甲基二矽氧烷、2,7-二胺基茀、2,5-二胺基吡啶、1,2-雙(4-胺基苯基)乙烷、二胺基苯甲醯苯胺、二胺基苯甲酸的酯、1,5-二胺基萘、二胺基三氟甲苯、1,3-雙(4-胺基苯基)六氟丙烷、1,4-雙(4-胺基苯基)八氟丁烷、1,5-雙(4-胺基苯基)十氟戊烷、1,7-雙(4-胺基苯基)十四氟庚烷、2,2-雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]六氟丙烷、2,2-雙[4-(2-胺基苯氧基)苯基]六氟丙烷、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)-3,5-二甲基苯基]六氟丙烷、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)-3,5-雙(三氟甲基)苯基]六氟丙烷、對雙(4-胺基-2-三氟甲基苯氧基)苯、4,4’-雙(4-胺基-2-三氟甲基苯氧基)聯苯、4,4’-雙(4-胺基-3-三氟甲基苯氧基)聯苯、4,4’-雙(4-胺基-2-三氟甲基苯氧基)二苯基碸、4,4’-雙(3-胺基-5-三氟甲基苯氧基)二苯基碸、2,2-雙[4-(4-胺基-3-三氟甲基苯氧基)苯基]六氟丙烷、3,3’,5,5’-四甲基-4,4’-二胺基聯苯、4,4’-二胺基-2,2’-雙(三氟甲基)聯苯、2,2’,5,5’,6,6’-六氟聯甲苯胺及4,4’-二胺基四聯苯中之至少1種二胺。
又,以下所示之二胺(DA-1)~(DA-18)亦為較佳。
[化學式9]
[化學式10]
又,作為較佳例,亦可舉出在主鏈具有至少2個伸烷基二醇單元之二胺。較佳為在一分子中組合包含2個以上的乙二醇鏈、丙二醇鏈中的任1個或兩者之二胺,更佳為不包含芳香環之二胺。作為具體例,可舉出JEFFAMINE(註冊商標)KH-511、JEFFAMINE(註冊商標)ED-600、JEFFAMINE(註冊商標)ED-900、JEFFAMINE(註冊商標)ED-2003、JEFFAMINE(註冊商標)EDR-148、JEFFAMINE(註冊商標)EDR-176、D-200、D-400、D-2000、D-4000(以上商品名,HUNTSMAN公司製)、1-(2-(2-(2-胺基丙氧基)乙氧基)丙氧基)丙烷-2-胺、1-(1-(1-(2-胺基丙氧基)丙烷-2-基)氧基)丙烷-2-胺等,但並不限定於該等。
以下示出JEFFAMINE(註冊商標)KH-511、JEFFAMINE(註冊商標)ED-600、JEFFAMINE(註冊商標)ED-900、JEFFAMINE(註冊商標)ED-2003、JEFFAMINE(註冊商標)EDR-148、JEFFAMINE(註冊商標)EDR-176的結構。
[化學式11]
上述中,x、y、z為算術平均值。
從所得到之硬化膜的柔軟性的觀點考慮,式(1)中的R111
由-Ar0
-L0
-Ar0
-表示為較佳。Ar0
分別獨立地為芳香族烴基(碳數6~22為較佳,6~18為更佳,6~10為特佳),伸苯基為較佳。L0
表示單鍵或可以經氟原子取代之碳數1~10的脂肪族烴基、-O-、-C(=O)-、-S-、-S(=O)2
-、-NHCO-或將該等組合2個以上之基團。L0
的較佳範圍的含義與上述A相同。
從i射線透射率的觀點考慮,式(1)中的R111
係由下述式(51)或式(61)表示之2價有機基團為較佳。尤其,從i射線透射率、易獲得的觀點考慮,由式(61)表示之2價有機基團為更佳。
[化學式12]
在式(51)中,R50
~R57
分別獨立為氫原子、氟原子或1價有機基團,R50
~R57
中的至少1個為氟原子、甲基、氟甲基、二氟甲基或三氟甲基,*分別獨立地表示與其他結構的鍵結部位。
作為R50
~R57
的1價有機基團,可舉出碳數1~10(較佳為碳數1~6)的未經取代的烷基、碳數1~10(較佳為碳數1~6)的氟化烷基等。
[化學式13]
在式(61)中,R58
及R59
分別獨立地為氟原子、氟甲基、二氟甲基或三氟甲基。
作為賦予式(51)或(61)的結構之二胺化合物,可舉出二甲基-4,4’-二胺基聯苯、2,2’-雙(三氟甲基)-4,4’-二胺基聯苯、2,2’-雙(氟)-4,4’-二胺基聯苯、4,4’-二胺基八氟聯苯等。可以使用該等中的1種亦可以組合使用2種以上。
-R115
-
式(1)中的R115
表示4價有機基團。作為4價有機基團,包含芳香環之4價有機基團為較佳,由下述式(5)或式(6)表示之基團為更佳。
[化學式14]
R112
的含義與A相同,較佳範圍亦相同。*分別獨立地表示與其他結構的鍵結部位。
關於由式(1)中的R115
表示之4價有機基團,具體而言,可舉出從四羧酸二酐去除酸二酐基之後殘存之四羧酸殘基等。四羧酸二酐可以僅使用1種亦可以使用2種以上。四羧酸二酐係由下述式(7)表示之化合物為較佳。
[化學式15]
R115
表示4價有機基團。R115
的含義與式(1)的R115
相同。
作為四羧酸二酐的具體例,可例示選自均苯四甲酸、均苯四甲酸二酐(PMDA)、3,3’,4,4’-聯苯四羧酸二酐、3,3’,4,4’-二苯硫醚四羧酸二酐、3,3’,4,4’-二苯基碸四羧酸二酐、3,3’,4,4’-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3’,4,4’-二苯基甲烷四羧酸二酐、2,2’,3,3’-二苯基甲烷四羧酸二酐、2,3,3’,4’-聯苯四羧酸二酐、2,3,3’,4’-二苯甲酮四羧酸二酐、4,4’-氧代二鄰苯二甲酸二酐、2,3,6,7-萘四羧酸二酐、1,4,5,7-萘四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(2,3-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)六氟丙烷二酐、1,3-二苯基六氟丙烷-3,3,4,4-四羧酸二酐、1,4,5,6-萘四羧酸二酐、2,2’,3,3’-二苯基四羧酸二酐、3,4,9,10-苝四羧酸二酐、1,2,4,5-萘四羧酸二酐、1,4,5,8-萘四羧酸二酐、1,8,9,10-菲四羧酸二酐、1,1-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、1,2,3,4-苯四羧酸二酐及該等的碳數1~6的烷基衍生物及碳數1~6的烷氧基衍生物中之至少1種。
又,作為較佳例還可舉出下述中所示出之四羧酸二酐(DAA-1)~(DAA-5)。
[化學式16]
-R113
及R114
-
式(1)中的R113
及R114
分別獨立地表示氫原子或1價有機基團。R113
及R114
中的至少1個含有自由基聚合性基團為較佳,兩者均含有自由基聚合性基團為更佳。作為自由基聚合性基團,為藉由自由基的作用,能夠進行交聯反應之基團,且作為較佳例,可舉出具有乙烯性不飽和鍵之基團。
作為具有乙烯性不飽和鍵之基團,可舉出乙烯基、烯丙基、(甲基)丙烯醯基、由下述式(III)表示之基團等。
[化學式17]
在式(III)中,R200
表示氫原子或甲基,甲基為較佳。
在式(III)中,R201
表示碳數2~12的伸烷基、-CH2
CH(OH)CH2
-或碳數4~30的(聚)氧化伸烷基(作為伸烷基,碳數1~12為較佳,1~6為更佳,1~3為特佳;重複數為1~12為較佳,1~6為更佳,1~3為特佳)。此外,(聚)氧化伸烷基表示氧化伸烷基或聚氧化伸烷基。
關於較佳之R201
的例子,可舉出伸乙基、伸丙基、三亞甲基、四亞甲基、1,2-丁二基、1,3-丁二基、五亞甲基、六亞甲基、八亞甲基、十二亞甲基、-CH2
CH(OH)CH2
-,伸乙基、伸丙基、三亞甲基、-CH2
CH(OH)CH2
-為更佳。
特佳為R200
係甲基,R201
係伸乙基。
在式(III)中,*表示與其他結構的鍵結部位。
作為本發明中的聚醯亞胺前驅物的較佳的實施形態,作為R113
或R114
的1價有機基團可舉出具有1、2或3個酸基,較佳為具有1個酸基之脂肪族基、芳香族基及芳烷基等。具體而言,可舉出具有酸基之碳數6~20的芳香族基、具有酸基之碳數7~25的芳烷基。更具體而言,可舉出具有酸基之苯基及具有酸基之苄基。酸基係羥基為較佳。亦即,R113
或R114
係具有羥基之基團為較佳。
作為由R113
或R114
表示之1價有機基團,可較佳地使用提高顯影液的溶解度之取代基。
從對水性顯影液的溶解性的觀點考慮,R113
或R114
係氫原子、2-羥基芐基、3-羥基芐基及4-羥基芐基為更佳。
從對有機溶劑的溶解度的觀點考慮,R113
或R114
係1價有機基團為較佳。作為1價有機基團,直鏈或支鏈的烷基、環狀烷基、芳香族基為較佳,被芳香族基取代之烷基為更佳。
烷基的碳數係1~30為較佳(當為環狀時為3以上)。烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任1個。作為直鏈或支鏈烷基,例如,可舉出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十二烷基、十四烷基,十八烷基、異丙基、異丁基、第二丁基、第三丁基、1-乙基戊基及2-乙基己基。環狀烷基可以為單環環狀烷基,亦可以為多環環狀烷基。作為單環環狀的烷基,例如,可舉出環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環庚基及環辛基。作為多環環狀的烷基,例如,可舉出金剛烷基、降莰基、莰基、莰烯基(camphenyl)、十氫萘基、三環癸烷基、四環癸烷基、莰二醯基、二環己基及蒎烯基(pinenyl)。又,作為被芳香族基取代之烷基,被以下所述之芳香族基取代之直鏈烷基為較佳。
作為芳香族基,具體而言為經取代或未經取代的芳香族烴基(作為構成基團之環狀結構,可舉出苯環、萘環、聯苯環、茀環、戊搭烯環、茚環、薁環、庚搭烯環、茚烯環、苝環、稠五苯環、苊烯環、菲環、蒽環、稠四苯環、䓛環、三伸苯環等)或經取代或未經取代的芳香族雜環基(作為構成基團之環狀結構,茀環、吡咯環、呋喃環、噻吩環、咪唑環、㗁唑環、噻唑環、吡啶環、吡𠯤環、嘧啶環、嗒𠯤環、吲口巾環、吲哚環、苯并呋喃環、苯并噻吩環、異苯并呋喃環、喹口巾環、喹啉環、呔𠯤環、萘啶環、喹㗁啉環、喹唑啉環、異喹啉環、咔唑環、啡啶環、吖啶環、啡啉環、噻蒽環、色烯環、口山口星環、啡㗁噻環、啡噻𠯤環或啡𠯤環)。
又,聚醯亞胺前驅物中,在重複單元中具有氟原子亦為較佳。聚醯亞胺前驅物中的氟原子含量為10質量%以上為較佳,20質量%以上為更佳。上限並無特別限制,實際上為50質量%以下。
又,以提高與基材的密接性為目的,可以使具有矽氧烷結構之脂肪族基與由式(1)表示之重複單元共聚合。具體而言,作為二胺成分,可舉出雙(3-胺基丙基)四甲基二矽氧烷、雙(對胺基苯基)八甲基五矽氧烷等。
由式(1)表示之重複單元係由式(1-A)或式(1-B)表示之重複單元為較佳。
[化學式18]
A11
及A12
表示-O-或-NH-,R111
及R112
分別獨立地表示2價有機基團,R113
及R114
分別獨立地表示氫原子或1價有機基團,R113
及R114
中的至少一者係包含自由基聚合性基團之基團為較佳,自由基聚合性基團為更佳。
A11
、A12
、R111
、R113
及R114
的較佳範圍的含義分別與式(1)中的A1
、A2
、R111
、R113
及R114
的較佳範圍相同。
R112
的較佳範圍的含義與式(5)中R112
相同,其中氧原子為更佳。
式中羰基在苯環的鍵結位置在式(1-A)中為4、5、3’、4’為較佳。在式(1-B)中,1、2、4、5為較佳。
聚醯亞胺前驅物中,由式(1)表示之重複單元可以為1種亦可以為2種以上。又,可以包含由式(1)表示之重複單元的結構異構體。又,除了上述式(1)的重複單元以外,聚醯亞胺前驅物還可以包含其他種類的重複單元。
作為本發明的聚醯亞胺前驅物的一實施形態,可例示總重複單元的50莫耳%以上,進而為70莫耳%以上,尤其90莫耳%以上為由式(1)表示之重複單元之聚醯亞胺前驅物。作為上限,實際為100莫耳%以下。
聚醯亞胺前驅物的重量平均分子量(Mw)較佳為2,000~500,000,更佳為5,000~100,000,進一步較佳為10,000~50,000。又,數平均分子量(Mn)較佳為800~250,000,更佳為2,000~50,000,進一步較佳為4,000~25,000。
聚醯亞胺前驅物的分子量的分散度為1.5~3.5為較佳,2~3為更佳。
在本說明書中,分子量的分散度表示將重量平均分子量除以數平均分子量之值(重量平均分子量/數平均分子量)。
聚醯亞胺前驅物可藉由使二羧酸或二羧酸衍生物與二胺反應而獲得。較佳為使用鹵化劑對二羧酸或二羧酸衍生物進行鹵化之後,使其與二胺反應而獲得。
聚醯亞胺前驅物的製造方法中,進行反應時,使用有機溶劑為較佳。有機溶劑可以為1種亦可以為2種以上。
作為有機溶劑,能夠依原料適當設定,可例示吡啶、二乙二醇二甲醚(二甘二甲醚)、N-甲基吡咯啶酮及N-乙基吡咯啶酮。
製造聚醯亞胺前驅物時,包括析出固體之製程為較佳。具體而言,使反應液中的聚醯亞胺前驅物沉澱於水中並使其溶解於可溶解四氫呋喃等聚醯亞胺前驅物之溶劑,藉此能夠進行固體析出。
〔聚苯并㗁唑前驅物〕
聚苯并㗁唑前驅物包含由下述式(2)表示之重複單元為較佳。
[化學式19]
在式(2)中,R121
表示2價有機基團,R122
表示4價有機基團,R123
及R124
分別獨立地表示氫原子或1價有機基團。
-R121
-
在式(2)中,R121
表示2價有機基團。作為2價有機基團,包含脂肪族基(碳數1~24為較佳,1~12為更佳,1~6為特佳)及芳香族基(碳數6~22為較佳,6~14為更佳,6~12為特佳)中的至少1種之基團為較佳。作為構成R121
之芳香族基,可舉出上述式(1)的R111
的例子。作為上述脂肪族基,直鏈脂肪族基為較佳。R121
源自4,4’-氧代二苯甲醯氯為較佳。
-R122
-
在式(2)中,R122
表示4價有機基團。作為4價有機基團,含義與上述式(1)中的R115
相同,較佳的範圍亦相同。R122
源自2,2’-雙(3-胺基-4-羥基苯基)六氟丙烷為較佳。
-R123
及R124
-
R123
及R124
分別獨立地表示氫原子或1價有機基團,含義與上述式(1)中的R113
及R114
相同,較佳範圍亦相同。
除了上述式(2)的重複單元以外,聚苯并㗁唑前驅物還可以包含其他種類的重複單元。
從能夠抑制伴隨閉環產生之硬化膜的翹曲的觀點考慮,聚苯并㗁唑前驅物還包含由下述式(SL)表示之二胺殘基來作為其他種類的重複單元為較佳。
[化學式20]
Z具有a結構和b結構,R1s
為氫原子或碳數1~10的烴基(較佳為碳數1~6,更佳為碳數1~3),R2s
為碳數1~10的烴基(較佳為碳數1~6,更佳為碳數1~3),R3s
、R4s
、R5s
、R6s
中的至少1個為芳香族基(較佳為碳數6~22,更佳為碳數6~18,特佳為碳數6~10),剩餘部分為氫原子或碳數1~30(較佳為碳數1~18,更佳為碳數1~12,特佳為碳數1~6)的有機基團,且可以分別相同亦可以不同。a結構及b結構的聚合可以為嵌段聚合或隨機聚合。Z部分中,較佳為a結構為5~95莫耳%,b結構為95~5莫耳%,a+b為100莫耳%。
在式(SL)中,作為較佳的Z,可舉出b結構中的R5s
及R6s
為苯基者。又,由式(SL)表示之結構的分子量為400~4,000為較佳,500~3,000為更佳。分子量能夠藉由通常所使用之凝膠滲透層析法求出。藉由將上述分子量設為上述範圍,能夠兼備降低聚苯并㗁唑前驅物的脫水閉環後的彈性率,且抑制翹曲之效果和提高溶解性之效果。
聚苯并㗁唑前驅物包含由式(SL)表示之二胺殘基作為其他種類的重複單元時,從可提高硬化性樹脂組成物的鹼溶性的方面考慮,進而包含從四羧酸二酐去除酸二酐基之後殘存之四羧酸殘基來作為重複單元為較佳。作為該種四羧酸殘基的例子,可舉出式(1)中的R115
的例子。
聚苯并㗁唑前驅物的重量平均分子量(Mw)較佳為2,000~500,000,更佳為5,000~100,000,進一步較佳為10,000~50,000。又,數平均分子量(Mn)較佳為800~250,000,更佳為2,000~50,000,進一步較佳為4,000~25,000。
聚苯并㗁唑前驅物的分子量的分散度為1.5~3.5為較佳,2~3為更佳。
本發明的硬化性樹脂組成物中的含雜環聚合物前驅物的含量相對於硬化性樹脂組成物的總固體成分為20質量%以上為較佳,30質量%以上為更佳,40質量%以上為進一步較佳,50質量%以上為進一步較佳,60質量%以上為更進一步較佳,70質量%以上為再進一步較佳。又,本發明的硬化性樹脂組成物中的含雜環聚合物前驅物的含量相對於硬化性樹脂組成物的總固體成分為99.5質量%以下為較佳,99質量%以下為更佳,98質量%以下為進一步較佳,97質量%以下為又進一步較佳,95質量%以下為更進一步較佳。
本發明的硬化性樹脂組成物可以僅包含1種含雜環聚合物前驅物,亦可以包含2種以上。當包含2種以上時,合計量成為上述範圍為較佳。
<由式(1-1)表示之化合物>
本發明的硬化性樹脂組成物包含由下述式(1-1)表示之化合物。
[化學式21]
在式(1-1)中,X1
表示-O-或-S-,L1
表示式量為1,000以下的2價連結基,R1
及R2
分別獨立地表示1價有機基團,R1
和R2
及L1
中的至少1個包含具有乙烯性不飽和基之基團。
〔乙烯性不飽和基〕
在由式(1-1)表示之化合物中,上述R1
和上述R2
及上述L1
中的至少1個包含具有乙烯性不飽和基之基團。
亦即,由式(1-1)表示之化合物係每1分子至少包含2個具有乙烯性不飽和基之基團之化合物。
由式(1-1)表示之化合物中的具有上述乙烯性不飽和基之基團數為2~8為較佳,2~6為更佳。
又,由式(1-1)表示之化合物中的具有上述乙烯性不飽和基之基團可以相同,亦可以不同。
具有上述乙烯性不飽和基之基團係選自包括烯丙基、乙烯基苯基、(甲基)丙烯醯胺基及(甲基)丙烯醯氧基之群組中之至少1種為較佳,(甲基)丙烯醯氧基為更佳,甲基丙烯醯氧基為進一步較佳。
又,作為具有上述乙烯性不飽和基之基團,由式(1-1)表示之化合物例如可以包含甲基丙烯醯胺基和甲基丙烯醯氧基等,包含不同的2種以上的基團。
又,上述乙烯性不飽和基係自由基聚合性基團為較佳。
又,在由式(1-1)表示之化合物1g中的上述乙烯性不飽和基的量(莫耳量)為5.0~7.0mmol/g為較佳,5.5~6.5mmol/g為更佳。
〔X1
〕
X1
表示-O-或-S-,從容易形成上述醯亞胺結構的觀點,保管時的化合物的穩定性或後述之與具有複數個能夠與羥基縮合之基團之化合物的反應性的觀點、加熱製程中的自由基聚合反應性的觀點考慮,-O-為較佳。
〔R1
〕
式R1
包含具有乙烯性不飽和基之基團,係由下述式(A-1)表示之基為較佳。
[化學式22]
在式(A-1)中,R12
表示氫原子或烷基,L11
表示單鍵或2價有機基團,L12
表示n1+1價有機基團,n1表示1以上的整數,*表示與式(1-1)中的X1
的鍵結部位。
在式(A-1)中,R12
係氫原子或甲基為較佳,甲基為更佳。
在式(A-1)中,L11
分別獨立地表示單鍵或伸烷基、伸芳基、酯鍵(-C(=O)O-)、醚鍵(-O-)、羰基(-C(=O)-)、胺甲酸乙酯鍵(-O-C(=O)-NRN1
-)、脲鍵(-NRN1
-C(=O)-NRN1
-)、醯胺鍵(-C(=O)-NRN1
-)、胺基(-NRN1
-)或將該等組合2個以上之基團為較佳,單鍵或伸烷基、酯鍵、醚鍵、羰基或將該等組合2個以上之基團為更佳。
上述伸烷基係碳數1~20的伸烷基為較佳,碳數2~10的伸烷基為更佳。
上述伸芳基係碳數6~20的伸芳基為較佳,伸苯基為更佳。
RN1
表示氫原子或烴基,氫原子、烷基或芳基為較佳,氫原子、碳數1~4的烷基或苯基為更佳,氫原子為進一步較佳。RN1
在分子中存在複數個時,複數個RN1
可以相同,亦可以不同。
在式(A-1)中,L12
係烴基、酯鍵、醚鍵、羰基、胺甲酸乙酯鍵、脲鍵、醯胺鍵、胺基或將該等組合2個以上之基團為較佳,飽和脂肪族烴基、酯鍵、醚鍵或將該等組合2個以上之基團為更佳。
又,在式(A-1)中,L12
係飽和脂肪族烴基或L12
的與式(1-1)中的X1
鍵合之部位係飽和脂肪族烴基,且將選自包括飽和脂肪族烴基、芳香族烴基、酯鍵、醚鍵、羰基、胺甲酸乙酯鍵、脲鍵、醯胺鍵及胺基之群組中之至少2個基團組合之基團為較佳。
作為上述飽和脂肪族烴基,碳數1~20的飽和脂肪族烴基為較佳,碳數2~10的飽和脂肪族烴基為更佳。
又,作為上述芳香族烴基,碳數6~20的芳香族烴基為較佳,從苯中去除2~6個氫原子之基團為更佳。
在式(A-1)中,n1係1~10的整數為較佳,1~6的整數為更佳,1~4的整數為進一步較佳,1或2為特佳,1為最佳。
n1為1時,L11
係單鍵,L12
係伸烷基為較佳,L11
係單鍵,L12
係碳數2~10的伸烷基為更佳。
〔R2
〕
R2
包含具有乙烯性不飽和基之基團時,R2
的較佳態樣與上述R1
的較佳態樣相同。
R2
不包含具有乙烯性不飽和基之基團時,R2
係烴基為較佳,烷基或芳基為更佳,碳數1~12的烷基或苯基為進一步較佳。
〔R1
及R2
的式量〕
R1
的式量為80~500為較佳。上述式量為100以上為更佳,110以上為進一步較佳。又,上述式量為450以下為更佳,400以下為進一步較佳。
R2
的式量為80~500為較佳。上述式量為100以上為更佳,120以上為進一步較佳。又,上述式量為450以下為更佳,400以下為進一步較佳。
R1
的式量及R2
的式量均為80~500為較佳。R1
的式量及R2
的式量均為80~500時,R1
的式量與R2
的式量可以不同。上述式量為100以上為更佳,120以上為進一步較佳。又,上述式量為450以下為更佳,400以下為進一步較佳。
在本說明書中,R1
(或R2
)的式量表示R1
(或R2
)中包含之原子的原子量的總和。
〔L1
〕
L1
的式量為1,000以下,20~1,000為較佳,20~900為更佳,20~800為進一步較佳。
在本說明書中,L1
的式量表示L1
中包含之原子的原子量的總和。
L1
中的連結鏈長為1~4為較佳,1、2、3、或4為更佳,2或3為更佳。
在本說明書中,L1
的連結鏈長表示在L1
中包含之原子且在由下述式(1-1’)表示之化合物中的2個碳原子C1
與C2
之間存在的原子數中最小的數。
下述式(1-1’)係分別對上述式(1-1)中的碳原子記載C1
及C2
標記者,式(1-1’)中的R1
、R2
、X1
及L1
的含義分別與式(1-1)中的R1
、R2
、X1
及L1
相同。
例如,由下述式(BR)表示之化合物中的L1
係1,2-伸苯基,連結鏈長為2。
[化學式23]
L1
的兩末端的鍵結位置上的原子均為碳原子為較佳。L1
的兩末端的鍵結位置表示上述式(1-1’)中的L1
與碳原子C1
的鍵結部位及L1
與碳原子C2
的鍵結部位這2處。
從上述醯亞胺結構的形成效率的觀點考慮,在L1
中的碳原子C1
與碳原子C2
之間存在之結構係芳香環結構的一部分或不飽和脂肪族烴結構為較佳,苯環結構(特佳為1,2-伸苯基)的一部分或順式伸乙烯基為更佳。上述苯環結構或順式伸乙烯基可以進一步具有公知的取代基。例如,L1
包含具有乙烯性不飽和基之基團時,作為上述公知的取代基,可以具有包含具有乙烯性不飽和基之基團之取代基。
又,L1
可以在除了在上述式(1-1’)中的碳原子C1
與碳原子C2
之間存在之結構以外的部位進一步包含醯亞胺環化部位。由式(1-1)表示之化合物中的醯亞胺環化部位表示藉由加熱形成醯亞胺環之部位,例如,可舉出將上述式(1-1)中的L1
去除之結構(在下述式(1-1A)及下述式(1-1B)中記載之2個結構的組合)。
[化學式24]
在式(1-1A)及式(1-1B)中,*分別獨立地表示與其他結構的鍵結部位,R1A
、R2A
及X1A
的含義分別與式(1-1)中的R1
、R2
及X1
相同,較佳態樣亦相同。又,在由式(1-1A)表示之結構及由式(1-1B)表示之結構之間存在之結構係芳香環結構的一部分或不飽和脂肪族烴結構為較佳。
式L1
中的由式(1-1A)表示之結構及由式(1-1B)表示之結構的連結鏈長為1~4為較佳,2或3為更佳。
式L1
中的由式(1-1A)表示之結構及由式(1-1B)表示之結構的連結鏈長係指L1
中包含之原子,且表示在由式(1-1A)表示之結構中的*與由式(1-1B)表示之結構中的*之間存在之原子數中最小的數。例如,在由上述式(BR)表示之化合物中,相當於L1
的結構中的由式(1-1A)表示之結構及由式(1-1B)表示之結構的連結鏈長為2。
作為L1
在除了在上述式(1-1’)中的碳原子C1
與碳原子C2
之間存在之結構以外的結構中進一步包含醯亞胺環化部位之化合物的例子,可舉出由後述式(B-21~B-36)表示之化合物等。
L1
係具有由下述式(L-1)~下述式(L-3)中的任1個表示之部分結構之基團為較佳。
[化學式25]
在式(L-1)~式(L-3)中,*1
分別表示與式(1-1)中的-C(=O)-的一側所包含之碳原子的鍵結部位,*2
分別表示與式(1-1)中的-C(=O)-的另一側所包含之碳原子的鍵結部位,波浪線部分分別獨立地表示與其他結構的鍵結部位。
在式(L-1)中,波浪線部分均為與氫原子的鍵結部位為較佳。
作為具有由式(L-1)表示之部分結構之L1
的例子,可舉出下述結構。
在下述結構中,*1
及*2
的含義分別與式(L-1)中的*1
及*2
相同。
[化學式26]
在式(L-2)中,波浪線部分係與氫原子、鹵素原子、烴基、上述式(1-1A)中記載之結構、上述式(1-1B)中記載之結構或將該等組合2個以上之基團的鍵結部位為較佳。上述烴基可以被公知的取代基取代。
作為具有由式(L-2)表示之部分結構之L1
的例子,可舉出下述結構。
在下述結構中,*1
及*2
的含義分別與式(L-2)中的*1
及*2
相同,Z1
及Z2
中的1個表示與由式(1-1A)表示之結構中的*的鍵結部位,另1個表示與由式(1-1B)表示之結構中的*的鍵結部位。
[化學式27]
在式(L-3)中,波浪線部分係與氫原子、鹵素原子、烴基、上述式(1-1A)中記載之結構、上述式(1-1B)中記載之結構或將該等組合2個以上之基團的鍵結部位為較佳。上述烴基可以被公知的取代基取代。
作為具有由式(L-3)表示之部分結構之L1
的例子,可舉出下述結構。
在下述結構中,*1
及*2
的含義分別與式(L-3)中的*1
及*2
相同,Z1
及Z2
中的1個表示與由式(1-1A)表示之結構中的*的鍵結部位,另一表示與由式(1-1B)表示之結構中的*的鍵結部位。
[化學式28]
從解析度的觀點考慮,作為由式(1-1)表示之化合物,亦可較佳地舉出L1
在除了在碳原子C1
與碳原子C2
之間存在之結構以外的結構中各具有1個由式(1-1A)表示之結構及由式(1-1B)表示之結構之化合物。
作為L1
在除了在碳原子C1
與碳原子C2
之間存在之結構以外的結構中各具有1個由式(1-1A)表示之結構及由式(1-1B)表示之結構之化合物,可較佳地舉出由下述式(1-2)表示之化合物。
[化學式29]
在式(1-2)中,L2
表示4價有機基團,R1
、R2
及X1
分別獨立地表示與式(1-1)中的R1
、R2
及X1
相同的基團,C1
~C4
分別獨立地表示碳原子。
在式(1-2)中,L2
係烴基或將烴基和選自包括-O-、-C(=O)-及-S(=O)2
-之群組中之至少1個組合之基團為較佳。L2
中的上述烴基可以被鹵素基等的公知的取代基取代。
又,L2
包含選自包括乙烯性不飽和鍵及芳香環結構之群組中之至少1種為較佳。
L2
中的C1
與C2
的連結鏈長為1~4為較佳,2或3為更佳。
L2
中的C3
與C4
的連結鏈長為1~4為較佳,2或3為更佳。
L2
中的C1
與C4
的連結鏈長為2以上為較佳,3以上為更佳,4~20為進一步較佳。
L2
中的C2
與C3
的連結鏈長為2以上為較佳,3以上為更佳,4~20為進一步較佳。
L2
中的A與B的連結鏈長係指L2
中包含之原子,且表示在2個碳原子A與B之間存在之原子數中最小的數。
L2
的式量為20~500為較佳,20~400為更佳。
在本說明書中,L2
的式量表示L2
中包含之原子的原子量的總和。
L2
係由下述式(1-3)或式(1-4)中的任1個表示之基團為較佳。
[化學式30]
在下述式(1-3)或式(1-4)中,A1、A2及A3分別獨立地表示環結構,A表示單鍵或2價連結基,*1
表示與式(1-2)中的C1
的鍵結部位、*2
表示與式(1-2)中的C2
的鍵結部位,*3
表示與式(1-2)中的C3
的鍵結部位,*4
表示與式(1-2)中的C4
的鍵結部位。
在式(1-3)中,A1表示單環結構、縮合環結構、交聯環結構或螺環結構為較佳,單環結構、縮合環結構或交聯環結構為更佳,單環芳香環結構或單環脂肪環結構為進一步較佳。
又,A1可以為烴環,亦可以為雜環,烴環為較佳。作為上述雜環中的雜原子,可舉出氧原子、氮原子、硫原子等。
作為A1,可舉出苯環、萘環、環丁烷環、環戊烷環、環己烷環、二環戊烷環、二環戊烯環、環己烯環、四氫萘環等。
A1中的環結構可以被烷基、鹵素基等公知的取代基取代。
又,在A1中,*1
及*2
在環結構中的相鄰位置存在為較佳,*3
及*4
在相鄰位置存在為較佳。
在本說明書中,A及B在環結構的相鄰位置存在表示A在作為環結構中的某一環員的原子中存在,且B在作為與環結構中的上述原子相鄰之環員的原子中存在。例如環結構係苯環結構時,A及B在相鄰位置存在表示A及B在苯環結構中的鄰位存在。
在式(1-4)中,A2及A3分別獨立地表示單環結構、縮合環結構、交聯環結構或螺環結構為較佳,單環結構、縮合環結構或交聯環結構為更佳,單環芳香環結構或單環脂肪環結構為進一步較佳,單環芳香環結構為特佳,苯環結構為最佳。
又,A2及A3可以分別獨立地為烴環或雜環,均為烴環為較佳。作為上述雜環中的雜原子,可舉出氧原子、氮原子、硫原子等。
A2或A3中的環結構可以被烷基、鹵素基等公知的取代基取代。
在A2中,*1
及*2
在環結構中的相鄰位置存在為較佳。
在A3中,*3
及*4
在環結構中的相鄰位置存在為較佳。
在式(1-4)中,A表示2價連結基,2價的烴基、2價的雜環基、酯鍵、醚鍵、羰基、磺醯基、胺甲酸乙酯鍵、脲鍵、醯胺鍵或將該等組合2個以上之基團為較佳,烴基、酯鍵、醚鍵、磺醯基或將該等組合2個以上之基團為更佳。
作為上述烴基,脂肪族烴基、芳香族烴基或將該等組合2個以上之基團為較佳。
又,上述烴基的碳數為6~30為較佳。
作為上述烴基,伸烷基、伸烯基、伸炔基、伸芳基或將該等組合2個以上之基團為較佳。
上述烴基可以被鹵素基等的公知的取代基取代。
作為上述雜環基,可舉出作為雜原子將氧原子、硫原子或氮原子作為環員包含之雜環基。
上述雜環基可以為脂肪族雜環基,亦可以為芳香族雜環基,芳香族雜環基為較佳。
上述雜環基係從5員環或6員環的雜環去除2個氫原子之基團為較佳。
作為上述雜環基中的雜環,可舉出噻吩環、呋喃環、吡啶環、嘧啶環、吡咯環、吡唑環、三唑環、咪唑環等,噻吩環、呋喃環為較佳。
上述雜環基可以具有公知的取代基。又,上述雜環可以進一步與其他的環形成縮合環。作為上述其他環,並無特別限定,烴環或雜環即可。
除此以外,L1
或L2
的結構例如考慮醯亞胺結構的形成效率、有機溶劑溶解性等來選擇即可。
〔分子量〕
由式(1-1)表示之化合物的分子量例如考慮環化溫度、揮發性等來確定即可,100以上為較佳,150以上為更佳,200以上為更佳,250以上為進一步較佳。作為上限,並無特別限定,2,000以下為較佳。
〔環化溫度〕
形成由式(1-1)表示之化合物中的上述醯亞胺結構之溫度(環化溫度)為130℃以上為較佳,140℃以上為更佳,150℃以上為進一步較佳,160℃以上為更進一步較佳。作為上限,350℃以下為較佳,300℃以下為更佳,250℃以下為進一步較佳。
藉由設為在更低溫度下形成醯亞胺結構之化合物,能夠減少硬化性樹脂組成物的硬化所需的能量。
另一方面,藉由將環化溫度設為上述下限值以上,提高硬化性樹脂組成物的保存穩定性。
將由式(1-1)表示之化合物在耐壓膠囊中,以5℃/分鐘加熱至500℃時,求出溫度最低的發熱峰的峰值溫度作為上述環化溫度。
〔具體例〕
作為由式(1-1)表示之化合物的具體例,可舉出下述化合物,但並不限定於該等化合物。
[化學式31]
[化學式32]
[化學式33]
[化學式34]
[化學式35]
[化學式36]
〔合成方法〕
由式(1-1)表示之化合物的合成方法並無特別限定,例如,藉由對二羧酸酐加成醇化合物之後,在碳二亞胺化合物的存在下,使其與胺化合物縮合來合成。
具體而言,例如,向鄰苯二甲酸酐添加甲基丙烯酸羥乙酯並加熱攪拌,藉此可獲得鄰苯二甲酸單酯化合物。接著,在1-(3-二甲基胺基丙基)-3-乙基碳二亞胺鹽酸鹽的存在下,添加甲基丙烯酸胺基乙酯鹽酸鹽並在約10℃下攪拌,藉此可獲得B-2。
〔含量〕
從提高硬化性組成物的保存穩定性及所獲得之硬化膜的斷裂伸長率等觀點考慮,由式(1-1)表示之化合物的含量相對於硬化性樹脂組成物的總固體成分為0.005~50質量%為較佳。下限為0.05質量%以上為更佳,0.5質量%以上為進一步較佳,1質量%以上為特佳。
從硬化膜的耐藥品性和斷裂伸長率的觀點考慮,上述含量的上限為30質量%以下為較佳,20質量%以下為更佳,15質量%以下為進一步較佳。
本發明的硬化性樹脂組成物可以包含1種由式(1-1)表示之化合物,亦可以包含2種以上。包含2種以上時,合計量成為上述範圍為較佳。
<具有複數個能夠與選自包括羥基及硫醇基之群組中之至少1種基團縮合之基團之化合物>
本發明的硬化性樹脂組成物包含具有複數個能夠與選自包括羥基及硫醇基之群組中之至少1種基團縮合之基團之化合物為較佳。
認為對本發明的硬化性樹脂組成物進行加熱時,例如由上述式(1-1-1)表示之結構與由上述式(1-1-2)表示之結構一同生成由下述式(1-1-3)表示之結構。認為由該式(1-1-3)表示之結構藉由具有複數個能夠與選自包括上述羥基及硫醇基之群組中之至少1種基團縮合之基團之化合物交聯,更容易獲得耐藥品性優異之硬化膜。
[化學式37]
在上述式(1-1-3)中,X1
的含義與上述式(1-1)中的X1
相同,波浪線部分表示與其他結構的鍵結部位。
在上述式(1-1-3)中,波浪線部分例如表示與上述式(1-1)中的R1
或藉由上述R1
中的乙烯性不飽和基和其他乙烯性不飽和基聚合而形成之結構的鍵結部位。
作為能夠與選自包括羥基及硫醇基之群組中之至少1種基團縮合之基團,可舉出異氰酸酯基、羥甲基、烷氧基甲基、環氧基、氧雜環丁基、乙烯基磺酸基(CH2
=CH-SO2
-)等。
具有複數個能夠與選自包括羥基及硫醇基之群組中之至少1種基團縮合之基團之化合物可以單獨具有1種該等基團,亦可以具有2種以上。
〔具有異氰酸酯基之化合物〕
從保存穩定性的觀點考慮,異氰酸酯基係被公知的封端劑封端之封端異氰酸酯基為較佳。
封端劑係具有與異氰酸酯基進行加成反應而生成胺甲酸乙酯鍵、脲鍵之基團之化合物,例如可舉出甲醇、乙醇等醇系封端劑、苯酚、甲酚等酚系封端劑、甲醛肟、乙醛肟、甲基乙基酮肟、甲基異丁基酮肟、環己酮肟、丙酮肟、二乙醯一肟、二苯甲酮肟等肟系封端劑、乙醯胺苯、ε-己內醯胺、γ-丁內醯胺等醯胺系封端劑、丙二酸二甲酯、丙二酸二乙酯、乙醯乙酸甲酯等活性亞甲基系封端劑、丁基硫醇等硫醇系封端劑、琥珀醯亞胺、順丁烯二酸醯亞胺等醯亞胺系封端劑、咪唑、2-甲基咪唑等咪唑系封端劑、脲、硫脲等脲系封端劑、N-苯胺基甲酸苯酯等胺基甲酸系封端劑、二苯胺、苯胺等胺系封端劑、次乙亞胺、聚乙烯亞胺等亞胺系封端劑、吡唑、3-甲基吡唑、3,5-二甲基吡唑等吡唑系封端劑等。
該等封端劑考慮藉由解離而產生異氰酸酯基之溫度等來選擇即可。
作為具有異氰酸酯基之化合物(以下,亦稱為異氰酸酯化合物),只要具有異氰酸酯基或封端異氰酸酯基之化合物,則並無特別限制,從硬化性的觀點考慮,在1分子內具有2個以上異氰酸酯基或封端異氰酸酯基之化合物為較佳。上述異氰酸酯基或封端異氰酸酯基數的上限並無特別限定,6以下為較佳。
又,作為具有異氰酸酯基之化合物,其骨架並無特別限定,只要在1分子中具有2個異氰酸酯基則可以是任意者,可以為脂肪族、脂環族或芳香族的聚異氰酸酯,例如,能夠較佳地使用2,4-甲苯二異氰酸酯、2,6-甲苯二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、1,6-六亞甲基二異氰酸酯、1,3-三亞甲基二異氰酸酯、1,4-四亞甲基二異氰酸酯、2,2,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯、2,4,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯、1,9-壬亞甲基二異氰酸酯、1,10-癸亞甲基二異氰酸酯、1,4-環己烷二異氰酸酯、2,2’-二乙醚二異氰酸酯、二苯甲烷-4,4’-二異氰酸酯、鄰二甲苯二異氰酸酯、間二甲苯二異氰酸酯、對二甲苯二異氰酸酯、亞甲基雙(環己基異氰酸酯)、環己烷-1,3-二亞甲基二異氰酸酯、環己烷-1,4-二亞甲基二異氰酸酯、1,5-萘二異氰酸酯、對伸苯基二異氰酸酯、3,3’-亞甲基二甲苯-4,4’-二異氰酸酯、4,4’-二苯醚二異氰酸酯、四氯伸苯二異氰酸酯、降莰烷基二異氰酸酯、氫化1,3-二甲苯二異氰酸酯、氫化1,4-二甲苯二異氰酸酯等異氰酸酯化合物以及該當的多聚體及衍生自該等化合物之預聚物型骨架的化合物或該等化合物中的異氰酸酯基藉由上述封端劑被保護之化合物。
其中,將選自包括甲苯二異氰酸酯(TDI)、二苯甲烷二異氰酸酯(MDI)、六亞甲基二異氰酸酯(HDI)、異佛爾酮二異氰酸酯(IPDI)及該等的多聚體之群組中之化合物保護之封端異氰酸酯化合物為較佳,選自包括六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯及該等多聚體之群組中之化合物中的異氰酸酯基藉由上述封端劑被保護之化合物亦即封端異氰酸酯化合物為更佳。
作為異氰酸酯化合物的多聚體,只要為二聚體以上的多聚體,則並無特別限制,能夠例示縮二脲體、異氰脲酸酯體、加成體等,縮二脲體為較佳。
〔具有複數個羥甲基之化合物或具有複數個烷氧基甲基之化合物〕
作為具有複數個羥甲基之化合物,可舉出羥甲基化三聚氰胺、羥甲基化苯并胍胺、羥甲基化甘脲等。
作為具有複數個烷氧基甲基之化合物,烷氧基甲基化三聚氰胺、烷氧基甲基化苯并胍胺、烷氧基甲基化甘脲及烷氧基甲基化脲等為較佳。該等例如能夠藉由將羥甲基化三聚氰胺、羥甲基化苯并胍胺、羥甲基化甘脲或羥甲基化脲的羥甲基轉化為烷氧基甲基來獲得。該烷氧基甲基的種類並未特別限定,例如,能夠舉出甲氧基甲基、乙氧基甲基、丙氧基甲基、丁氧基甲基等,從脫氣的產生量的觀點考慮,甲氧基甲基為特佳。在該等化合物中,可舉出烷氧基甲基化三聚氰胺、烷氧基甲基化苯并胍胺、烷氧基甲基化甘脲作為較佳化合物,從透明性的觀點考慮,烷氧基甲基化甘脲為特佳。
〔具有複數個環氧基或氧雜環丁基之化合物〕
作為在分子內具有2個以上的環氧基之化合物,能夠舉出雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等。該等能夠作為市售品獲得。例如,作為在分子內具有2個以上的環氧基之化合物,可舉出JER152、JER157S70、JER157S65、JER806、JER828、JER1007(Mitsubishi Chemical Corporation.製)等在日本特開2011-221494號公報的0189段中記載之市售品等。
作為在分子內具有2個以上的氧雜環丁烷基之化合物,能夠舉出1,4-雙{[(3-乙基-3-氧雜環丁基)甲氧基]甲基}苯、1,4-苯二羧酸-雙[(3-乙基-3-氧雜環丁基)甲基]酯等。作為具體例,可舉出TOAGOSEI CO., LTD.製的ARONE OXETANE系列(例如,OXT-121、OXT-221、OXT-191、OXT-223)。
〔具有複數個乙烯基磺酸基之化合物〕
作為具有複數個乙烯基磺酸基(CH2
=CH-SO2
-)之化合物,例如可舉出1,3-雙乙烯基磺醯基-2-丙醇、1,2-雙(乙烯基磺醯基乙醯胺)乙烷、雙(乙烯基磺醯基甲基)醚等。
〔含量〕
從組成物的保存穩定性及提高所獲得之硬化膜的斷裂伸長率等觀點考慮,具有複數個能夠與選自包括羥基及硫醇基之群組中之至少1種基團縮合之基團之化合物的含量相對於硬化性樹脂組成物的總固體成分為0.005~50質量%為較佳。下限為0.05質量%以上為更佳,0.5質量%以上為進一步較佳,1質量%以上為特佳。
又,具有複數個能夠與選自包括羥基及硫醇基之群組中之至少1種基團縮合之基團之化合物的含量相對於由式(1-1)表示之化合物的總質量為1質量%~200質量%為較佳,10質量%~100質量%為更佳。
本發明的硬化性樹脂組成物可以包含1種具有複數個能夠與選自包括羥基及硫醇基之群組中之至少1種基團縮合之基團之化合物,亦可以包含2種以上。包含2種以上時,合計量成為上述範圍為較佳。
<鎓鹽>
本發明的硬化性樹脂組成物包含鎓鹽為較佳。
鎓鹽的種類等並無特別限定,可較佳地舉出銨鹽、亞胺鹽、鋶鹽、錪鹽或鏻鹽。
其中,從熱穩定性高的觀點考慮,銨鹽或亞胺鹽為較佳,從與聚合物的相溶性的觀點考慮,鋶鹽、錪鹽或鏻鹽為較佳。
又,鎓鹽係具有鎓結構之陽離子與陰離子的鹽,上述陽離子與陰離子可以經由共價鍵鍵結,亦可以不經由共價鍵鍵結。
亦即,鎓鹽可以為在同一分子結構內具有陽離子部和陰離子部之分子內鹽,亦可以為分別係不同分子的陽離子分子與陰離子分子進行離子鍵結之分子間鹽,分子間鹽為較佳。又,在本發明的硬化性樹脂組成物中,上述陽離子部或陽離子分子與上述陰離子部或陰離子分子可以藉由離子鍵鍵結,亦可以解離。
作為鎓鹽中的陽離子,銨陽離子、吡啶鎓陽離子、鋶陽離子、錪陽離子或鏻陽離子為較佳,選自包括四烷基銨陽離子、鋶陽離子及錪陽離子之群組中之至少1種陽離子為更佳。
本發明中使用的鎓鹽亦可以為熱鹼產生劑。
熱鹼產生劑表示藉由加熱產生鹼之化合物,例如,可舉出若加熱至40℃以上則產生鹼之酸性化合物等。
〔銨鹽〕
在本發明中,銨鹽表示銨陽離子與陰離子的鹽。
-銨陽離子-
作為銨陽離子,第四銨陽離子為較佳。
又,作為銨陽離子,由下述式(101)表示之陽離子為較佳。
[化學式38]
在式(101)中,R1
~R4
分別獨立地表示氫原子或烴基,R1
~R4
中的至少2個可以分別鍵結而形成環。
在式(101)中,R1
~R4
分別獨立為烴基為較佳,烷基或芳基為更佳,碳數1~10的烷基或碳數6~12的芳基為進一步較佳。R1
~R4
可具有取代基,作為取代基,可舉出羥基、芳基、烷氧基、芳氧基、芳基羰基、烷基羰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、醯氧基等。
R1
~R4
中的至少2個分別鍵結而形成環時,上述環可以包含雜原子。作為上述雜原子,可舉出氮原子。
銨陽離子由下述式(Y1-1)及(Y1-2)中的任1個表示為較佳。
[化學式39]
在式(Y1-1)及(Y1-2)中,R101
表示n價有機基團,R1
的含義與式(101)中的R1
相同,Ar101
及Ar102
分別獨立地表示芳基,n表示1以上的整數。
在式(Y1-1)中,R101
係脂肪族烴、芳香族烴或從該等所鍵結之結構去除n個氫原子之基團為較佳,碳數2~30的飽和脂肪族烴、從苯或萘去除n個氫原子之基團為更佳。
在式(Y1-1)中,n為1~4為較佳,1或2為更佳,1為進一步較佳。
在式(Y1-2)中,Ar101
及Ar102
分別獨立為苯基或萘基為較佳,苯基為更佳。
-陰離子-
作為銨鹽中的陰離子,選自羧酸根陰離子、苯酚陰離子、磷酸根陰離子及硫酸根陰離子中的1種為較佳,從兼顧鹽的穩定性和熱分解性的理由考慮,羧酸根陰離子為更佳。亦即,銨鹽係銨陽離子與羧酸根陰離子的鹽為更佳。
羧酸根陰離子係具有2個以上的羧基之2價以上的羧酸的陰離子為較佳,2價的羧酸的陰離子為更佳。根據該態樣,能夠進一步提高硬化性樹脂組成物的穩定性、硬化性及顯影性。尤其,藉由使用2價羧酸的陰離子,能夠進一步提高硬化性樹脂組成物的穩定性、硬化性及顯影性。
羧酸根陰離子由下述式(X1)表示為較佳。
[化學式40]
在式(X1)中,EWG表示拉電子基團。
本實施形態中拉電子基團係指哈密特取代基常數σm表示正的值者。其中,σm在都野雄甫總說、Journal of Synthetic Organic Chemistry, Japan第23卷第8號(1965)p.631-642中有詳細說明。此外,本實施形態中的拉電子基團並不限定於上述文獻中所記載之取代基。
作為σm表示正的值之取代基的例子,可舉出CF3
基(σm=0.43)、CF3
C(=O)基(σm=0.63)、HC≡C基(σm=0.21)、CH2
=CH基(σm=0.06)、Ac基(σm=0.38)、MeOC(=O)基(σm=0.37)、MeC(=O)CH=CH基(σm=0.21)、PhC(=O)基(σm=0.34)、H2
NC(=O)CH2
基(σm=0.06)等。此外,Me表示甲基,Ac表示乙醯基,Ph表示苯基。(以下,相同)。
EWG係由下述式(EWG-1)~(EWG-6)表示之基團為較佳。
[化學式41]
在式(EWG-1)~(EWG-6)中,Rx1
~Rx3
分別獨立地表示氫原子、烷基、烯基、芳基、羥基或羧基,Ar表示芳香族基。
在本發明中,羧酸根陰離子由下述式(XA)表示為較佳。
[化學式42]
在式(XA)中,L10
表示單鍵或選自包括伸烷基、伸烯基、芳香族基、-NRX
-及該等的組合中的2價連結基,RX
表示氫原子、烷基、烯基或芳基。
作為羧酸根陰離子的具體例,可舉出順丁烯二酸根陰離子、鄰苯二甲酸根陰離子、N-苯基亞胺基二乙酸根陰離子及草酸根陰離子。
從特定前驅物的環化容易在低溫下進行且容易提高硬化性樹脂組成物的保存穩定性的觀點考慮,本發明中的鎓鹽包含銨陽離子作為陽離子且上述鎓鹽包含共軛酸的pKa(pKaH)為2.5以下的陰離子作為陰離子為較佳,包含1.8以下的陰離子為更佳。
上述pKa的下限並無特別限定,從所產生之鹼不易中和且改善特定前驅物等的環化效率的觀點考慮,-3以上為較佳,-2以上為更佳。
作為上述pKa,能夠參考Determination of Organic Structures by Physical Methods(著者:Brown,H.C.,McDaniel,D.H.,Hafliger,O.,Nachod,F.C.;編著:Braude,E.A.,Nachod, F.C.;Academic Press,New York,1955)或Data for Biochemical Research(著者:Dawson,R.M.C.et al;Oxford,Clarendon Press,1959)中記載之值。關於未記載於該等文獻之化合物,使用利用ACD/pKa(ACD/Labs製)的軟體並藉由結構式算出的值。
作為銨鹽的具體例,能夠舉出以下的化合物,但本發明並不限定於此。
[化學式43]
〔亞胺鹽〕
在本發明中,亞胺鹽表示亞胺陽離子與陰離子的鹽。作為陰離子,可例示與上述銨鹽中的陰離子相同者,較佳態樣亦相同。
-亞胺陽離子-
作為亞胺陽離子,吡啶鎓陽離子為較佳。
又,作為亞胺陽離子,由下述式(102)表示之陽離子亦較佳。
[化學式44]
在式(102)中,R5
及R6
分別獨立地表示氫原子或烴基,R7
表示烴基,R5
~R7
中的至少2個可以分別鍵結而形成環。
在式(102)中,R5
及R6
的含義與上述式(101)中的R1
~R4
相同,較佳態樣亦相同。
在式(102)中,R7
與R5
及R6
中的至少1個鍵結而形成環為較佳。上述環可以包含雜原子。作為上述雜原子,可舉出氮原子。又,作為上述環,吡啶環為較佳。
亞胺陽離子係由下述式(Y1-3)~(Y1-5)中的任1個表示者為較佳。
[化學式45]
在式(Y1-3)~(Y1-5)中,R101
表示n價有機基團,R5
的含義與式(102)中的R5
相同,R7
的含義式(102)中的R7
相同,n表示1以上的整數,m表示0~4的整數。
在式(Y1-3)中,R101
係脂肪族烴、芳香族烴或從該等所鍵結之結構去除n個氫原子之基團為較佳,碳數2~30的飽和脂肪族烴、從苯或萘去除n個氫原子之基團為更佳。
在式(Y1-3)中,n為1~4為較佳,1或2為更佳,1為進一步較佳。
在式(Y1-5)中,m為1~4為較佳,1或2為更佳,1為進一步較佳。
作為亞胺鹽的具體例,能夠舉出以下化合物,但本發明並不限定於此。
[化學式46]
〔鋶鹽〕
在本發明中,鋶鹽表示鋶陽離子與陰離子的鹽。作為陰離子,可例示與上述銨鹽中的陰離子相同者,較佳態樣亦相同。
-鋶陽離子-
作為鋶陽離子,第三鋶陽離子為較佳,三芳基鋶陽離子為更佳。
又,作為鋶陽離子,由下述式(103)表示之陽離子為較佳。
[化學式47]
在式(103)中,R8
~R10
分別獨立地表示烴基。
R8
~R10
分別獨立為烷基或芳基為較佳,碳數1~10的烷基或碳數6~12的芳基為更佳,碳數6~12的芳基為進一步較佳,苯基為進一步較佳。
R8
~R10
可具有取代基,作為取代基的例子,可舉出羥基、芳基、烷氧基、芳氧基、芳基羰基、烷基羰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、醯氧基等。其中,作為取代基,具有烷基或烷氧基為較佳,具有支鏈烷基或烷氧基為更佳,具有碳數3~10的支鏈烷基或碳數1~10的烷氧基為進一步較佳。
R8
~R10
可以為同一基團,亦可以為不同的基團,從合成適性上的觀點考慮,同一基團為較佳。
〔錪鹽〕
在本發明中,錪鹽表示錪陽離子與陰離子的鹽。作為陰離子,可例示與上述銨鹽中的陰離子相同者,較佳態樣亦相同。
-錪陽離子-
作為錪陽離子,二芳基錪陽離子為較佳。
又,作為錪陽離子,由下述式(104)表示之陽離子為較佳。
[化學式48]
在式(104)中,R11
及R12
分別獨立地表示烴基。
R11
及R12
分別獨立為烷基或芳基為較佳,碳數1~10的烷基或碳數6~12的芳基為更佳,碳數6~12的芳基為進一步較佳,苯基為進一步較佳。
R11
及R12
可具有取代基,作為取代基,可舉出羥基、芳基、烷氧基、芳氧基、芳基羰基、烷基羰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、醯氧基等。其中,作為取代基,具有烷基或烷氧基為較佳,具有支鏈烷基或烷氧基為更佳,具有碳數3~10的支鏈烷基或碳數1~10的烷氧基為進一步較佳。
R11
及R12
可以為同一基團,亦可以為不同的基團,從合成適性上的觀點考慮,同一基團為較佳。
〔鏻鹽〕
在本發明中,鏻鹽表示鏻陽離子與陰離子的鹽。作為陰離子,可例示與上述銨鹽中的陰離子相同者,較佳態樣亦相同。
-鏻陽離子-
作為鏻陽離子,第四鏻陽離子為較佳,可舉出四烷基鏻陽離子、三芳基單烷基鏻陽離子等。
又,作為鏻陽離子,由下述式(105)表示之陽離子為較佳。
[化學式49]
在式(105)中,R13
~R16
分別獨立地表示氫原子或烴基。
R13
~R16
分別獨立為烷基或芳基為較佳,碳數1~10的烷基或碳數6~12的芳基為更佳,碳數6~12的芳基為進一步較佳,苯基為進一步較佳。
R13
~R16
可具有取代基,作為取代基,可舉出羥基、芳基、烷氧基、芳氧基、芳基羰基、烷基羰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、醯氧基等。其中,作為取代基,具有烷基或烷氧基為較佳,具有支鏈烷基或烷氧基為更佳,具有碳數3~10的支鏈烷基或碳數1~10的烷氧基為進一步較佳。
R13
~R16
可以為同一基團,亦可以為不同的基團,從合成適性上的觀點考慮,同一基團為較佳。
本發明的硬化性樹脂組成物包含鎓鹽時,鎓鹽的含量相對於本發明的硬化性樹脂組成物的總固體成分為0.1~50質量%為較佳。下限為0.5質量%以上為更佳,0.85質量%以上為進一步較佳,1質量%以上為再進一步較佳。上限為30質量%以下為更佳,20質量%以下為進一步較佳,10質量%以下為再進一步較佳,可以為5質量%以下,亦可以為4質量%以下。
鎓鹽能夠使用1種或2種以上。使用2種以上時,總量為上述範圍為較佳。
<熱鹼產生劑>
本發明的硬化性樹脂組成物可以包含熱鹼產生劑。
熱鹼產生劑可以為符合上述鎓鹽之化合物,亦可以為除上述鎓鹽以外的其他熱鹼產生劑。
作為其他熱鹼產生劑,可舉出非離子系熱鹼產生劑。
作為非離子系熱鹼產生劑,可舉出由式(B1)或式(B2)表示之化合物。
[化學式50]
在式(B1)及式(B2)中,Rb1
、Rb2
及Rb3
分別獨立為不具有第三胺結構之有機基團、鹵素原子或氫原子。其中,Rb1
及Rb2
不會同時成為氫原子。又,Rb1
、Rb2
及Rb3
均不具有羧基。此外,在本說明書中,第三胺結構係指3價的氮原子的3個鍵結鍵均與烴系的碳原子進行共價鍵結之結構。因此,在所鍵結之碳原子係形成羰基之碳原子時,亦即在與氮原子一同形成醯胺基時,不限於此。
式(B1)、(B2)中,Rb1
、Rb2
及Rb3
中的至少1個包含環狀結構為較佳,至少2個包含環狀結構為更佳。作為環狀結構,可以為單環及縮合環中的任1個,單環或2個單環縮合的縮合環為較佳。單環係5員環或6員環為較佳,6員環為較佳。單環係環己烷環及苯環為較佳,環己烷環為更佳。
更具體而言,Rb1
及Rb2
係氫原子、烷基(碳數1~24為較佳,2~18為更佳,3~12為進一步較佳)、烯基(碳數2~24為較佳,2~18為更佳,3~12為進一步較佳)、芳基(碳數6~22為較佳,6~18為更佳,6~10為進一步較佳)或芳烷基(碳數7~25為較佳,7~19為更佳,7~12為進一步較佳)為較佳。該等基團可以在發揮本發明的效果之範圍內具有取代基。Rb1
與Rb2
可以相互鍵結而形成環。作為所形成之環,4~7員的含氮雜環為較佳。尤其,Rb1
及Rb2
係可具有取代基之直鏈、支鏈或環狀的烷基(碳數1~24為較佳,2~18為更佳,3~12為進一步較佳)為較佳,可具有取代基之環烷基(碳數3~24為較佳,3~18為更佳,3~12為進一步較佳)為更佳,可具有取代基之環己基為進一步較佳。
作為Rb3
,可舉出烷基(碳數1~24為較佳,2~18為更佳,3~12為進一步較佳)、芳基(碳數6~22為較佳,6~18為更佳,6~10為進一步較佳)、烯基(碳數2~24為較佳,2~12為更佳,2~6為進一步較佳)、芳烷基(碳數7~23為較佳,7~19為更佳,7~12為進一步較佳)、芳烯基(碳數8~24為較佳,8~20為更佳,8~16為進一步較佳)、烷氧基(碳數1~24為較佳,2~18為更佳,3~12為進一步較佳)、芳氧基(碳數6~22為較佳,6~18為更佳,6~12為進一步較佳)、或芳烷氧基(碳數7~23為較佳,7~19為更佳,7~12為進一步較佳)。其中,環烷基(碳數3~24為較佳,3~18為更佳,3~12為進一步較佳)、芳烯基、芳烷氧基為較佳。在發揮本發明的效果之範圍內Rb3
可進一步具有取代基。
由式(B1)表示之化合物係由下述式(B1-1)或下述式(B1-2)表示之化合物為較佳。
[化學式51]
式中,Rb11
及Rb12
和Rb31
及Rb32
的含義分別與式(B1)中的Rb1
及Rb2
相同。
Rb13
係烷基(碳數1~24為較佳,2~18為更佳,3~12為進一步較佳)、烯基(碳數2~24為較佳,2~18為更佳,3~12為進一步較佳)、芳基(碳數6~22為較佳,6~18為更佳,6~12為進一步較佳)、芳烷基(碳數7~23為較佳,7~19為更佳,7~12為進一步較佳),可在發揮本發明的效果之範圍內具有取代基。其中,Rb13
係芳烷基為較佳。
Rb33
及Rb34
分別獨立為氫原子、烷基(碳數1~12為較佳,1~8為更佳,1~3為進一步較佳)、烯基(碳數2~12為較佳,2~8為更佳,2~3為進一步較佳)、芳基(碳數6~22為較佳,6~18為更佳,6~10為進一步較佳)、芳烷基(碳數7~23為較佳,7~19為更佳,7~11為進一步較佳),氫原子為較佳。
Rb35
係烷基(碳數1~24為較佳,1~12為更佳,3~8為進一步較佳)、烯基(碳數2~12為較佳,2~10為更佳,3~8為進一步較佳)、芳基(碳數6~22為較佳,6~18為更佳,6~12為進一步較佳)、芳烷基(碳數7~23為較佳,7~19為更佳,7~12為進一步較佳),芳基為較佳。
由式(B1-1)表示之化合物係由式(B1-1a)表示之化合物亦較佳。
[化學式52]
Rb11
及Rb12
的含義與式(B1-1)中Rb11
及Rb12
相同。
Rb15
及Rb16
係氫原子、烷基(碳數1~12為較佳,1~6為更佳,1~3為進一步較佳)、烯基(碳數2~12為較佳,2~6為更佳,2~3為進一步較佳)、芳基(碳數6~22為較佳,6~18為更佳,6~10為進一步較佳)、芳烷基(碳數7~23為較佳,7~19為更佳,7~11為進一步較佳),氫原子或甲基為較佳。
Rb17
係烷基(碳數1~24為較佳,1~12為更佳,3~8為進一步較佳)、烯基(碳數2~12為較佳,2~10為更佳,3~8為進一步較佳)、芳基(碳數6~22為較佳,6~18為更佳,6~12為進一步較佳)、芳烷基(碳數7~23為較佳,7~19為更佳,7~12為進一步較佳),其中芳基為較佳。
非離子系熱鹼產生劑的分子量為800以下為較佳,600以下為更佳,500以下為進一步較佳。作為下限,100以上為較佳,200以上為更佳,300以上為進一步較佳。
關於作為熱鹼產生劑的化合物的具體例或其他熱鹼產生劑的具體例,能夠舉出以下化合物。
[化學式53]
[化學式54]
[化學式55]
熱鹼產生劑的含量相對於本發明的硬化性樹脂組成物的總固體成分為0.1~50質量%為較佳。下限為0.5質量%以上為更佳,1質量%以上為進一步較佳。上限為30質量%以下為更佳,20質量%以下為進一步較佳。熱鹼產生劑能夠使用1種或2種以上。使用2種以上時,總量為上述範圍為較佳。
<光聚合起始劑>
本發明的硬化性樹脂組成物包含光聚合起始劑為較佳。
光聚合起始劑係光自由基聚合起始劑為較佳。作為光自由基聚合起始劑,並無特別限制,能夠從公知的光自由基聚合起始劑中適當選擇。例如,對紫外線區域至可見區域的光線具有感光性之光自由基聚合起始劑為較佳。又,可以為與光激發之敏化劑產生一些作用,並生成活性自由基之活性劑。
光自由基聚合起始劑至少含有1種在約300~800nm(較佳為330~500nm)的範圍內至少具有約50L·mol-1
·cm-1
莫耳吸光係數之化合物為較佳。化合物的莫耳吸光係數能夠利用公知的方法來進行測定。例如,藉由紫外可見分光光度計(Varian公司製Cary-5 spectrophotometer),並使用乙酸乙酯溶劑而於0.01g/L的濃度下進行測定為較佳。
作為光自由基聚合起始劑,能夠任意使用公知的化合物。例如,可舉出鹵化烴衍生物(例如具有三𠯤骨架之化合物、具有㗁二唑骨架之化合物、具有三鹵甲基之化合物等)、醯基氧化膦等醯基膦化合物、六芳基雙咪唑、肟衍生物等肟化合物、有機過氧化物、硫化合物、酮化合物、芳香族鎓鹽、酮肟醚、胺基苯乙酮化合物、羥基苯乙酮、偶氮系化合物、疊氮化合物、茂金屬化合物、有機硼化合物、鐵芳烴錯合物等。關於該等的詳細內容,能夠參考日本特開2016-027357號公報的0165~0182段、國際公開第2015/199219號的0138~0151段的記載,該內容編入本說明書中。
作為酮化合物,例如,可例示日本特開2015-087611號公報的0087段中記載之化合物,該內容編入本說明書中。市售品中,還可較佳地使用KAYACURE DETX(Nippon Kayaku Co.,Ltd.製)。
作為光自由基聚合起始劑,還能夠較佳地使用羥基苯乙酮化合物、胺基苯乙酮化合物及醯基膦化合物。更具體而言,例如,還能夠使用日本特開平10-291969號公報中所記載之胺基苯乙酮系起始劑、日本專利第4225898號中所記載之醯基氧化膦系起始劑。
作為羥基苯乙酮系起始劑,能夠使用IRGACURE 184(IRGACURE為註冊商標)、DAROCUR 1173、IRGACURE 500、IRGACURE-2959、IRGACURE 127(商品名:均為BASF公司製)。
作為胺基苯乙酮系起始劑,能夠使用作為市售品之IRGACURE 907、IRGACURE 369及IRGACURE 379(商品名:均為BASF公司製)。
作為胺基苯乙酮系起始劑,還能夠使用吸收極大波長與365nm或405nm等波長光源匹配之日本特開2009-191179號公報中記載之化合物。
作為醯基膦系起始劑,可舉出2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-氧化膦等。又,能夠使用作為市售品之IRGACURE-819或IRGACURE-TPO(商品名:均為BASF公司製)。
作為茂金屬化合物,例示IRGACURE-784(BASF公司製)等。
作為光自由基聚合起始劑,更佳為舉出肟化合物。藉由使用肟化合物,能夠進一步有效地提高曝光寬容度。肟化合物中,曝光寬容度(曝光餘量)較廣,且還作為光硬化促進劑而發揮功能,因此為特佳。
作為肟化合物的具體例,能夠使用日本特開2001-233842號公報中記載之化合物、日本特開2000-080068號公報中記載之化合物、日本特開2006-342166號公報中記載之化合物。
作為較佳的肟化合物,例如可舉出下述結構的化合物、3-苯甲醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-乙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-丙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、2-乙醯氧基亞胺基戊烷-3-酮、2-乙醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、2-苯甲醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、3-(4-甲苯磺醯氧基)亞胺基丁烷-2-酮以及2-乙氧基羰氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮等。在本發明的硬化性樹脂組成物中,尤其作為光自由基聚合起始劑而使用肟化合物(肟系光聚合起始劑)為較佳。肟系光聚合起始劑在分子內具有由>C=N-O-C(=O)-表示之連結基。
[化學式56]
市售品中,還可較佳地使用IRGACURE OXE 01、IRGACURE OXE 02、IRGACURE OXE 03、IRGACURE OXE 04(以上為BASF公司製)、ADEKA OPTOMER N-1919(ADEKA CORPORATION製、日本特開2012-014052號公報中所記載之光自由基聚合起始劑2)。又,能夠使用TR-PBG-304(Changzhou Tronly New Electronic Materials CO.,LTD.製)、ADEKA ARKLS NCI-831及ADEKA ARKLS NCI-930(ADEKA CORPORATION製)。又,能夠使用DFI-091(DAITO CHEMIX Co.,Ltd.製)。
還能夠使用具有氟原子之肟化合物。作為該種肟化合物的具體例,可舉出日本特開2010-262028號公報中記載之化合物、日本特表2014-500852號公報的0345段中記載之化合物24、36~40、日本特開2013-164471號公報的0101段中記載之化合物(C-3)等。
作為最佳之肟化合物,可舉出日本特開2007-269779號公報中所示出之具有特定取代基之肟化合物或日本特開2009-191061號公報中所示出之具有硫芳基之肟化合物等。
從曝光靈敏度的觀點考慮,光自由基聚合起始劑係選自包括三鹵甲基三𠯤化合物、苄基二甲基縮酮化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦化合物、氧化膦化合物、茂金屬化合物、肟化合物、三芳基咪唑二聚體、鎓鹽化合物、苯并噻唑化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物及其衍生物、環戊二烯基-苯-鐵錯合物及其鹽、鹵甲基㗁二唑化合物、3-芳基取代香豆素化合物之群組中之化合物為較佳。
更佳的光自由基聚合起始劑係三鹵甲基三𠯤化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦化合物、氧化膦化合物、茂金屬化合物、肟化合物、三芳基咪唑二聚體、鎓鹽化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物,選自包括三鹵甲基三𠯤化合物、α-胺基酮化合物、肟化合物、三芳基咪唑二聚體、二苯甲酮化合物之群組中之至少1種化合物為進一步較佳,使用茂金屬化合物或肟化合物為更進一步較佳,肟化合物為更進一步較佳。
又,光自由基聚合起始劑還能夠使用二苯甲酮、N,N’-四甲基-4,4’-二胺基二苯甲酮(米其勒酮(Michler’s ketone))等N,N’-四烷基-4,4’-二胺基二苯甲酮,2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-口末啉基苯基)-丁酮-1,2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-口末啉基-丙酮-1等芳香族酮、烷基蒽醌等與芳香環進行縮環而成之醌類、安息香烷基醚等安息香醚化合物、安息香、烷基安息香等安息香化合物、苄基二甲基縮酮等苄基衍生物等。又,還能夠使用由下述式(I)表示之化合物。
[化學式57]
在式(I)中,RI00
係碳數1~20的烷基、藉由1個以上的氧原子而中斷之碳數2~20的烷基、碳數1~12的烷氧基、苯基、碳數1~20的烷基、碳數1~12的烷氧基、鹵素原子、環戊基、環己基、碳數2~12的烯基、被藉由因1個以上的氧原子而中斷之碳數2~18的烷基及碳數1~4的烷基中的至少1個取代之苯基或聯苯基,RI01
係由式(II)表示之基團,或者係與RI00
相同的基團,RI02
~RI04
各自獨立地為碳數1~12的烷基、碳數1~12的烷氧基或鹵素。
[化學式58]
式中,RI05
~RI07
與上述式(I)的RI02
~RI04
相同。
又,光自由基聚合起始劑還能夠使用國際公開第2015/125469號的0048~0055段中記載之化合物。
包含光聚合起始劑時,其含量相對於本發明的硬化性樹脂組成物的總固體成分為0.1~30質量%為較佳,更佳為0.1~20質量%,進一步較佳為0.5~15質量%,更進一步較佳為1.0~10質量%。光聚合起始劑可以僅含有1種亦可以含有2種以上。含有2種以上的光聚合起始劑時,其合計為上述範圍為較佳。
<熱聚合起始劑>
作為聚合起始劑,本發明的硬化性樹脂組成物可包含熱聚合起始劑,尤其可包含熱自由基聚合起始劑。熱自由基聚合起始劑係藉由熱的能量而產生自由基,並起始或促進具有聚合性之化合物的聚合反應之化合物。藉由添加熱自由基聚合起始劑,能夠進行含雜環聚合物前驅物的環化,並且進行含雜環聚合物前驅物的聚合反應,因此能夠實現更高度的耐熱化。
作為熱自由基聚合起始劑,具體而言,可舉出日本特開2008-063554號公報的0074~0118段中記載之化合物。
含有熱自由基聚合起始劑時,其含量相對於本發明的硬化性樹脂組成物的總固體成分為0.1~30質量%為較佳,更佳為0.1~20質量%,進一步較佳為5~15質量%。熱自由基聚合起始劑可以僅含有1種亦可以含有2種以上。含有2種以上的熱自由基聚合起始劑時,其合計為上述範圍為較佳。
<聚合性化合物>
〔自由基聚合性化合物〕
本發明的硬化性樹脂組成物包含聚合性化合物為較佳。
該聚合性化合物的定義中不包括由上述式(1-1)表示之化合物及具有複數個能夠與選自包括上述之羥基及硫醇基之群組中之至少1種基團縮合之基團之化合物。
作為聚合性化合物,能夠使用自由基聚合性化合物。自由基聚合性化合物係具有自由基聚合性基團之化合物。作為自由基聚合性基團,可舉出乙烯基、烯丙基、乙烯基苯基、(甲基)丙烯醯基等具有乙烯性不飽和鍵之基團。自由基聚合性基團係(甲基)丙烯醯基為較佳,從反應性的觀點考慮,(甲基)丙烯醯氧基為更佳。
自由基聚合性化合物所具有之自由基聚合性基團的數量可以為1個,亦可以為2個以上,自由基聚合性化合物具有2個以上的自由基聚合性基團為較佳,具有3個以上為更佳。上限為15個以下為較佳,10個以下為更佳,8個以下為進一步較佳。
自由基聚合性化合物的分子量為2,000以下為較佳,1,500以下為更佳,900以下為進一步較佳。自由基聚合性化合物的分子量的下限為100以上為較佳。
從顯影性的觀點考慮,本發明的硬化性樹脂組成物包含至少1種含有2個以上的自由基聚合性基團之2官能以上的自由基聚合性化合物為較佳,包含至少1種3官能以上的自由基聚合性化合物為更佳。又,可以為2官能自由基聚合性化合物與3官能以上的自由基聚合性化合物的混合物。例如2官能以上的聚合性單體的官能基數表示1分子中的自由基聚合性基團數為2個以上。
作為自由基聚合性化合物的具體例,可舉出不飽和羧酸(例如,丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、異巴豆酸、順丁烯二酸等)或其酯類、醯胺類,較佳為不飽和羧酸與多元醇化合物的酯及不飽和羧酸與多元胺化合物的醯胺類。又,還可較佳地使用具有羥基、胺基、氫硫基等親和性取代基之不飽和羧酸酯或醯胺類與單官能或多官能異氰酸酯類或環氧類的加成反應物、與單官能或多官能的羧酸的脫水縮合反應物等。又,具有異氰酸酯基或環氧基等親電子性取代基之不飽和羧酸酯或醯胺類與單官能或多官能醇類、胺類、硫醇類的加成反應物,進而具有鹵素基或甲苯磺醯氧基等脫離性取代基之不飽和羧酸酯或醯胺類與單官能或多官能醇類、胺類、硫醇類的取代反應物亦為較佳。又,作為另一例,替代上述不飽和羧酸,能夠使用被不飽和膦酸、苯乙烯等乙烯基苯衍生物、乙烯醚、烯丙醚等取代之化合物組。作為具體例,能夠參考日本特開2016-027357號公報的0113~0122段的記載,該等內容編入本說明書中。
又,自由基聚合性化合物於常壓下具有100℃以上的沸點的化合物亦較佳。作為其例,可舉出聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯醯氧基丙基)醚、三(丙烯醯氧基乙基)異三聚氰酸酯、甘油或三羥甲基乙烷等在多官能醇中加成環氧乙烷或環氧丙烷後進行(甲基)丙烯酸酯化之化合物、日本特公昭48-041708號公報、日本特公昭50-006034號公報、日本特開昭51-037193號各公報中所記載之(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類、日本特開昭48-064183號、日本特公昭49-043191號、日本特公昭52-030490號各公報中所記載之聚酯丙烯酸酯類,作為環氧樹脂與(甲基)丙烯酸的反應產物的環氧丙烯酸酯類等多官能的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯;以及該等的混合物。又,日本特開2008-292970號公報的0254~0257段中記載之化合物亦較佳。又,還能夠舉出使多官能羧酸與(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等具有環狀醚基及乙烯性不飽和鍵之化合物進行反應而獲得的多官能(甲基)丙烯酸酯等。
又,作為除了上述以外的較佳的自由基聚合性化合物,還能夠使用日本特開2010-160418號公報、日本特開2010-129825號公報、日本專利第4364216號公報等中所記載之具有茀環,且具有2個以上的包含乙烯性不飽和鍵的基團的化合物或卡多(cardo)樹脂。
進而,作為其他例子,還能夠舉出日本特公昭46-043946號公報、日本特公平01-040337號公報、日本特公平01-040336號公報中所記載之特定的不飽和化合物、日本特開平02-025493號公報中所記載之乙烯基膦酸系化合物等。又,還能夠使用日本特開昭61-022048號公報中所記載之包含全氟烷基的化合物。進而,還能夠使用“Journal of the Adhesion Society of Japan”vol.20、No.7、300~308頁(1984年)中作為光硬化性單體及寡聚物所介紹者。
除了上述以外,亦能夠較佳地使用日本特開2015-034964號公報的0048~0051段中記載之化合物、國際公開第2015/199219號的0087~0131段中記載之化合物,該等內容編入本說明書中。
又,在日本特開平10-062986號公報中作為式(1)及式(2)且與其具體例一同記載之如下化合物還能用作自由基聚合性化合物,該化合物係在多官能醇中加成環氧乙烷或環氧丙烷後進行(甲基)丙烯酸酯化而成的化合物。
進而,還能夠使用日本特開2015-187211號公報的0104~0131段中記載之化合物來用作其他自由基聚合性化合物,並將該等內容編入本說明書中。
作為自由基聚合性化合物,二新戊四醇三丙烯酸酯(作為市售品為KAYARAD D-330;Nippon Kayaku Co.,Ltd.製)、二新戊四醇四丙烯酸酯(作為市售品為KAYARAD D-320;Nippon Kayaku Co.,Ltd.製、A-TMMT:Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.製)、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯(作為市售品為KAYARAD D-310;Nippon Kayaku Co.,Ltd.製)、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(作為市售品為KAYARAD DPHA;Nippon Kayaku Co.,Ltd.製、A-DPH;Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.製)及該等的(甲基)丙烯醯基經由乙二醇殘基或丙二醇殘基鍵結之結構為較佳。亦能夠使用該等的寡聚物類型。
作為自由基聚合性化合物的市售品,例如可舉出Sartomer Company, Inc製的作為具有4個伸乙氧基鏈之4官能丙烯酸酯之SR-494、作為具有4個乙烯氧基鏈之2官能丙烯酸甲酯之Sartomer Company, Inc製SR-209、231、239、Nippon Kayaku Co.,Ltd.製的作為具有6個伸戊氧基鏈之6官能丙烯酸酯之DPCA-60、作為具有3個異伸丁氧基鏈之3官能丙烯酸酯之TPA-330、胺基甲酸酯寡聚物UAS-10、UAB-140(NIPPON PAPER INDUSTRIES CO.,LTD.製)、NK酯M-40G、NK酯4G、NK酯M-9300、NK酯A-9300、UA-7200(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd製)、DPHA-40H(Nippon Kayaku Co.,Ltd.製)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(Kyoeisha chemical Co.,Ltd.製)、BLEMMER PME400(NOF CORPORATION.製)等。
作為自由基聚合性化合物,如日本特公昭48-041708號公報、日本特開昭51-037193號公報、日本特公平02-032293號公報、日本特公平02-016765號公報中所記載之那樣的胺基甲酸酯丙烯酸酯類、日本特公昭58-049860號公報、日本特公昭56-017654號公報、日本特公昭62-039417號公報、日本特公昭62-039418號公報中所記載之具有環氧乙烷系骨架之胺基甲酸酯化合物類亦為較佳。進而,作為自由基聚合性化合物,還能夠使用日本特開昭63-277653號公報、日本特開昭63-260909號公報、日本特開平01-105238號公報中所記載之於分子內具有胺基結構或硫化物結構之化合物。
自由基聚合性化合物可以為具有羧基、磷酸基等酸基之自由基聚合性化合物。具有酸基之自由基聚合性化合物中,脂肪族多羥基化合物與不飽和羧酸的酯為較佳,使脂肪族多羥基化合物的未反應的羥基與非芳香族羧酸酐反應而具有酸基之自由基聚合性化合物為更佳。特佳為使脂肪族多羥基化合物的未反應的羥基與非芳香族羧酸酐反應而具有酸基之自由基聚合性化合物中,脂肪族多羥基化合物係新戊四醇或二新戊四醇之化合物。作為市售品,例如,作為TOAGOSEI CO.,Ltd.製多元酸改質丙烯酸類寡聚物,可舉出M-510、M-520等。
具有酸基之自由基聚合性化合物的較佳的酸值為0.1~40mgKOH/g,特佳為5~30mgKOH/g。自由基聚合性化合物的酸值只要在上述範圍內,則製造上的操作性優異,進而顯影性優異。又,聚合性良好。上述酸價遵照JIS K 0070:1992的記載進行測定。
從抑制伴隨硬化膜的彈性率控制之翹曲的觀點考慮,本發明的硬化性樹脂組成物能夠較佳地使用單官能自由基聚合性化合物來作為自由基聚合性化合物。作為單官能自由基聚合性化合物,可較佳地使用正丁基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、2-羥乙基(甲基)丙烯酸酯、丁氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、卡必醇(甲基)丙烯酸酯、環己基(甲基)丙烯酸酯、芐基(甲基)丙烯酸酯、苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、縮水甘油基(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸衍生物、N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基己內醯胺等N-乙烯基化合物類、烯丙基縮水甘油醚、鄰苯二甲酸二烯丙酯、偏苯三酸三烯丙酯等烯丙基化合物類等。作為單官能自由基聚合性化合物,為了抑制曝光前的揮發,於常壓下具有100℃以上的沸點之化合物亦為較佳。
〔除了上述之自由基聚合性化合物以外的聚合性化合物〕
本發明的樹脂組成物還能夠含有除了上述之自由基聚合性化合物以外的聚合性化合物。作為除了上述之自由基聚合性化合物以外的聚合性化合物,可舉出具有羥甲基、醯氧基甲基之化合物;苯并㗁𠯤化合物。
-具有羥甲基、或醯氧基甲基之化合物-
作為具有羥甲基、或醯氧基甲基之化合物,由下述式(AM1)、(AM4)或(AM5)表示之化合物為較佳。
[化學式59]
(式中,t表示1~20的整數,R104
表示碳數1~200的t價有機基團,R105
表示由-OR106
或-OCO-R107
表示之基團,R106
表示氫原子,R107
表示碳數1~10的有機基團。)
[化學式60]
(式中,R404
表示碳數1~200的2價有機基團,R405
表示由-OR406
或-OCO-R407
表示之基團,R406
表示氫原子,R407
表示碳數1~10的有機基團。)
[化學式61]
(式中,u表示3~8的整數,R504
表示碳數1~200的u價有機基團,R505
表示由-OR506
或-OCO-R507
表示之基團,R506
表示氫原子,R507
表示碳數1~10的有機基團。)
作為由式(AM4)表示之化合物的具體例,可舉出46DMOC、46DMOEP(以上為商品名,ASAHI YUKIZAI CORPORATION製)、DML-MBPC、DML-MBOC、DML-OCHP、DML-PCHP、DML-PC、DML-PTBP、DML-34X、DML-EP、DML-POP、dimethylolBisOC-P、DML-PFP、DML-PSBP、DML-MTrisPC(以上為商品名,Honshu Chemical Industry Co., Ltd.製)等。
又,由式(AM5)表示之化合物的具體例,可舉出TriML-P、TriML-35XL、TML-HQ、TML-BP、TML-pp-BPF、TML-BPA、TMOM-BP、HML-TPPHBA、HML-TPHAP、HMOM-TPPHBA、HMOM-TPHAP(以上為商品名,Honshu Chemical Industry Co., Ltd.製)、TM-BIP-A(商品名,ASAHI YUKIZAI CORPORATION製)。
-苯并㗁𠯤化合物(具有聚苯并㗁唑基之化合物)-
苯并㗁𠯤化合物因源自開環加成反應之交聯反應而在硬化時不產生脫氣,進而減少熱收縮而抑制產生翹曲,因此為較佳。
作為苯并㗁𠯤化合物的較佳的例子,可舉出B-a型苯并㗁𠯤、B-m型苯并㗁𠯤(以上商品名,Shikoku Chemicals Corporation製)、聚羥基苯乙烯樹脂的苯并㗁𠯤加成物、酚醛清漆型二氫苯并㗁𠯤化合物。該等可以單獨使用,或者可以混合2種以上。
含有聚合性化合物時,其含量相對於本發明的硬化性樹脂組成物的總固體成分為大於0質量%且60質量%以下為較佳。下限為5質量%以上為更佳。上限為50質量%以下為更佳,30質量%以下為進一步較佳。
又,從進一步提高耐藥品性的觀點考慮,本發明的硬化性樹脂組成物亦能夠設為將聚合性化合物的含量相對於硬化性樹脂組成物的總質量低於5質量%之態樣。在上述態樣中,上述含量低於3質量%為較佳,低於1質量%為更佳。又,上述含量的下限並無特別限定,0質量%以上即可。
其他聚合性化合物可以單獨使用1種亦可以混合使用2種以上。當同時使用2種以上時,其合計量成為上述範圍為較佳。
<溶劑>
本發明的硬化性樹脂組成物含有溶劑為較佳。溶劑能夠任意使用公知的溶劑。溶劑較佳為有機溶劑。作為有機溶劑,可舉出酯類、醚類、酮類、芳香族烴類、亞碸類、醯胺類等化合物。
作為酯類,例如作為較佳者,可舉出乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、甲酸戊酯、乙酸異戊酯、丙酸丁酯、丁酸異丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、γ-丁內酯、ε-己內酯、δ-戊內酯、烷氧基乙酸烷基酯(例如,烷氧基乙酸甲酯、烷氧基乙酸乙酯、烷氧基乙酸丁酯(例如,甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等))、3-烷氧基丙酸烷基酯類(例如,3-烷氧基丙酸甲酯、3-烷氧基丙酸乙酯等(例如,3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯等))、2-烷氧基丙酸烷基酯類(例如,2-烷氧基丙酸甲酯、2-烷氧基丙酸乙酯、2-烷氧基丙酸丙酯等(例如,2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯))、2-烷氧基-2-甲基丙酸甲酯及2-烷氧基-2-甲基丙酸乙酯(例如,2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等)、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-氧代丁酸甲酯、2-氧代丁酸乙酯等。
作為醚類,例如作為較佳者,可舉出二乙二醇二甲醚、四氫呋喃、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯等。
作為酮類,例如作為較佳者,可舉出甲基乙基酮、環己酮、環戊酮、2-庚酮、3-庚酮等。
作為芳香族烴類,例如作為較佳者,可舉出甲苯、二甲苯、苯甲醚、檸檬烯等。
作為亞碸類,例如作為較佳者,可舉出二甲基亞碸。
作為醯胺類,作為較佳者,可舉出N-甲基-2-吡咯啶酮、N-乙基-2-吡咯啶酮、N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基甲醯胺等。
關於溶劑,從塗佈面性狀的改良等的觀點考慮,混合2種以上之形態亦為較佳。
本發明中,選自3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纖劑乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、環己酮、環戊酮、γ-丁內酯、二甲基亞碸、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、N-甲基-2-吡咯啶酮、丙二醇甲醚及丙二醇甲醚乙酸酯中之1種溶劑或由2種以上構成之混合溶劑為較佳。同時使用二甲基亞碸和γ-丁內酯為特佳。
關於溶劑的含量,從塗佈性的觀點考慮,設為本發明的硬化性樹脂組成物的總固體成分濃度成為5~80質量%之量為較佳,設為成為5~75質量%之量為更佳,設為成為10~70質量%之量為進一步較佳,設為成為40~70質量%為更進一步較佳。溶劑的含量依所希望的厚度和塗佈方法來進行調節即可。
溶劑可以僅含有1種亦可以含有2種以上。當含有2種以上溶劑時,其合計為上述範圍為較佳。
<遷移抑制劑>
本發明的硬化性樹脂組成物還包含遷移抑制劑為較佳。藉由包含遷移抑制劑,能夠有效地抑制源自金屬層(金屬配線)的金屬離子轉移到硬化性樹脂組成物層內。
作為遷移抑制劑,並無特別限制,可舉出具有雜環(吡咯環、呋喃環、噻吩環、咪唑環、㗁唑環、噻唑環、吡唑環、異㗁唑環、異噻唑環、四唑環、吡啶環、嗒𠯤環、嘧啶環、吡𠯤環、哌啶環、哌𠯤環、口末啉環、2H-吡喃環及6H-吡喃環、三𠯤環)之化合物、具有硫脲類及氫硫基之化合物、受阻酚系化合物、水楊酸衍生物系化合物、醯肼衍生物系化合物。尤其,能夠較佳地使用1,2,4-三唑、苯并三唑等三唑系化合物、1H-四唑、5-苯基四唑等四唑系化合物。
或者,亦能夠使用捕捉鹵素離子等陰離子之離子捕捉劑。
作為其他遷移抑制劑,能夠使用日本特開2013-015701號公報的0094段中記載之防鏽劑、日本特開2009-283711號公報的0073~0076段中記載之化合物、日本特開2011-059656號公報的0052段中記載之化合物、日本特開2012-194520號公報的0114、0116段及0118段中記載之化合物、國際公開第2015/199219號的0166段中記載之化合物等。
作為遷移抑制劑的具體例,可舉出下述化合物。
[化學式62]
硬化性樹脂組成物具有遷移抑制劑時,遷移抑制劑的含量相對於硬化性樹脂組成物的總固體成分為0.01~5.0質量%為較佳,0.05~2.0質量%為更佳,0.1~1.0質量%為進一步較佳。
遷移抑制劑可以為僅1種亦可以為2種以上。當遷移抑制劑為2種以上時,其合計為上述範圍為較佳。
<聚合抑制劑>
本發明的硬化性樹脂組成物包含聚合抑制劑為較佳。
作為聚合抑制劑,例如可較佳地使用對苯二酚、對甲氧基苯酚、二-第三丁基-對甲酚、鄰苯三酚、對-第三丁基鄰苯二酚、1,4-苯醌、二苯基-對苯醌、4,4’-硫代雙(3-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,2’-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、N-亞硝基-N-苯基羥基胺鋁鹽、啡噻𠯤、N-亞硝基二苯胺、N-苯基萘胺、伸乙基二胺四乙酸、1,2-環己二胺四乙酸、乙二醇醚二胺四乙酸、2,6-二-第三丁基-4-甲基苯酚、5-亞硝基-8-羥基喹啉、1-亞硝基-2-萘酚、2-亞硝基-1-萘酚、2-亞硝基-5-(N-乙基-N-磺基丙基胺)苯酚、N-亞硝基-N-(1-萘基)羥胺銨鹽、雙(4-羥基-3,5-第三丁基)苯基甲烷等。又,亦能夠使用日本特開2015-127817號公報的0060段中記載之聚合抑制劑及國際公開第2015/125469號的0031~0046段中記載之化合物。
又,能夠使用下述化合物(Me為甲基)。
[化學式63]
本發明的硬化性樹脂組成物具有聚合抑制劑時,聚合抑制劑的含量相對於本發明的硬化性樹脂組成物的總固體成分為0.01~5質量%為較佳,0.02~3質量%為更佳,0.05~2.5質量%為進一步較佳。
聚合抑制劑可以為僅1種亦可以為2種以上。當聚合抑制劑為2種以上時,其合計為上述範圍為較佳。
<金屬接著性改良劑>
本發明的硬化性樹脂組成物包含用於提高與使用於電極或配線等之金屬材料的接著性之金屬接著性改良劑為較佳。作為金屬接著性改良劑,可舉出矽烷偶合劑等。
作為矽烷偶合劑的例,可舉出國際公開第2015/199219號的0167段中記載之化合物、日本特開2014-191002號公報的0062~0073段中記載之化合物、國際公開第2011/080992號的0063~0071段中記載之化合物、日本特開2014-191252號公報的0060~0061段中記載之化合物、日本特開2014-041264號公報的0045~0052段中記載之化合物、國際公開第2014/097594號的0055段中記載之化合物。又,如日本特開2011-128358號公報的0050~0058段中所記載那樣使用不同的2種以上的矽烷偶合劑亦為較佳。又,矽烷偶合劑使用下述化合物亦為較佳。以下式中,Et表示乙基。
[化學式64]
又,作為金屬接著性改良劑,還能夠使用日本特開2014-186186號公報的0046~0049段中記載之化合物、日本特開2013-072935號公報的0032~0043段中記載之硫化物系化合物。
金屬接著性改良劑的含量相對於含雜環聚合物前驅物100質量份較佳為0.1~30質量份,更佳為0.5~15質量份的範圍,進一步較佳為0.5~5質量份的範圍。藉由設為上述下限值以上,硬化製程後的硬化膜與金屬層的接著性變良好,藉由設為上述上限值以下,硬化製程後的硬化膜的耐熱性、機械特性變良好。金屬接著性改良劑可以僅為1種亦可以為2種以上。使用2種以上時,其合計為上述範圍為較佳。
<其他添加劑>
本發明的硬化性樹脂組成物在不損害本發明的效果之範圍內,能夠根據需要配合各種添加物,例如,熱酸產生劑、N-苯基二乙醇胺等敏化劑、鏈轉移劑、界面活性劑、高級脂肪酸衍生物、無機粒子、硬化劑、硬化觸媒、填充劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、凝聚抑制劑等。配合該等添加劑時,將其合計配合量設為硬化性樹脂組成物的固體成分的3質量%以下為較佳。
〔敏化劑〕
本發明的硬化性樹脂組成物可包含敏化劑。敏化劑吸收特定的活性放射線而成為電子激發狀態。成為電子激發狀態之敏化劑與熱硬化促進劑、熱自由基聚合起始劑、光自由基聚合起始劑等接觸,而產生電子轉移、能量轉移、發熱等作用。藉此,熱硬化促進劑、熱自由基聚合起始劑、光自由基聚合起始劑發生化學變化而分解,並生成自由基、酸或鹼。
作為敏化劑,可舉出N-苯基二乙醇胺等敏化劑。
又,作為敏化劑,亦可以使用增感色素。
關於增感色素的詳細內容,能夠參考日本特開2016-027357號公報的0161~0163段的記載,並將該內容編入本說明書中。
本發明的硬化性樹脂組成物包含敏化劑時,敏化劑的含量相對於本發明的硬化性樹脂組成物的總固體成分為0.01~20質量%為較佳,0.1~15質量%為更佳,0.5~10質量%為進一步較佳。敏化劑可以單獨使用1種亦可以併用2種以上。
〔鏈轉移劑〕
本發明的硬化性樹脂組成物可含有鏈轉移劑。鏈轉移劑例如於高分子詞典第三版(高分子學會(The Society of Polymer Science, Japan)編,2005年)683-684頁中被定義。作為鏈轉移劑,例如使用在分子內具有SH、PH、SiH及GeH之化合物群組。該等向低活性自由基供給氫而生成自由基,或者經氧化之後,藉由去質子而可生成自由基。尤其,能夠較佳地使用硫醇化合物。
又,鏈轉移劑亦能夠使用國際公開第2015/199219號的0152~0153段中記載之化合物。
本發明的硬化性樹脂組成物具有鏈轉移劑時,鏈轉移劑的含量相對於本發明的硬化性樹脂組成物的總固體成分100質量份為0.01~20質量份為較佳,1~10質量份為更佳,1~5質量份為進一步較佳。鏈轉移劑可以為僅1種亦可以為2種以上。當鏈轉移劑為2種以上時,其合計為上述範圍為較佳。
〔界面活性劑〕
從更加提高塗佈性的觀點考慮,本發明的硬化性樹脂組成物中可以添加各種界面活性劑。作為界面活性劑,能夠使用氟系界面活性劑、非離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、陰離子系界面活性劑、矽酮系界面活性劑等各種界面活性劑。又,下述界面活性劑亦較佳。在下述式中,表示主鏈的重複單元之括號表示各重複單元的含量(莫耳%),表示側鏈的重複單元之括號表示各重複單元的重複數。
[化學式65]
又,界面活性劑亦能夠使用國際公開第2015/199219號的0159~0165段中記載之化合物。
本發明的硬化性樹脂組成物具有界面活性劑時,界面活性劑的含量相對於本發明的硬化性樹脂組成物的總固體成分為0.001~2.0質量%為較佳,更佳為0.005~1.0質量%。界面活性劑可以為僅1種亦可以為2種以上。當界面活性劑為2種以上時,其合計為上述範圍為較佳。
〔高級脂肪酸衍生物〕
為了防止因氧導致的聚合阻礙,本發明的硬化性樹脂組成物中可以添加二十二酸或二十二酸醯胺之類的高級脂肪酸衍生物而在塗佈後的乾燥過程中偏在於硬化性樹脂組成物的表面。
又,高級脂肪酸衍生物亦能夠使用國際公開第2015/199219號的0155段中記載之化合物。
本發明的硬化性樹脂組成物含有高級脂肪酸衍生物時,高級脂肪酸衍生物的含量相對於本發明的硬化性樹脂組成物的總固體成分為0.1~10質量%為較佳。高級脂肪酸衍生物可以為僅1種亦可以為2種以上。當高級脂肪酸衍生物為2種以上時,其合計為上述範圍為較佳。
<關於其他含有物質的限制>
從塗佈面性狀的觀點考慮,本發明的硬化性樹脂組成物的水分含量小於5質量%為較佳,小於1質量%為更佳,小於0.6質量%為進一步較佳。
從絕緣性的觀點考慮,本發明的硬化性樹脂組成物的金屬含量小於5質量ppm(parts per million(百萬分率))為較佳,小於1質量ppm為更佳,小於0.5質量ppm為進一步較佳。作為金屬,可舉出鈉、鉀、鎂、鈣、鐵、鉻、鎳等。包含複數種金屬時,該等金屬的合計為上述範圍為較佳。
又,作為減少意外包含在本發明的硬化性樹脂組成物中的金屬雜質之方法,能夠舉出如下方法:作為構成本發明的硬化性樹脂組成物之原料而選擇金屬含量較少的原料,對構成本發明的硬化性樹脂組成物之原料進行過濾器過濾,用聚四氟乙烯等對裝置內進行內襯而在盡可能抑制污染的條件下進行蒸餾等方法。
若考慮作為半導體材料的用途,且從配線腐蝕性的觀點考慮,本發明的硬化性樹脂組成物中,鹵素原子的含量小於500質量ppm為較佳,小於300質量ppm為更佳,小於200質量ppm為進一步較佳。其中,以鹵素離子的狀態存在者小於5質量ppm為較佳,小於1質量ppm為更佳,小於0.5質量ppm為進一步較佳。作為鹵素原子,可舉出氯原子及溴原子。氯原子及溴原子或氯離子及溴離子的合計分別為上述範圍為較佳。
作為本發明的硬化性樹脂組成物的收容容器,能夠使用以往公知的收容容器。又,作為收容容器,以抑制雜質混入原材料或硬化性樹脂組成物中為目的,使用由6種6層樹脂構成容器內壁之多層瓶、將6種樹脂形成為7層結構之瓶亦為較佳。作為該種容器,例如可舉出日本特開2015-123351號公報中記載之容器。
<硬化性樹脂組成物的製備>
本發明的硬化性樹脂組成物能夠藉由混合上述各成分來製備。混合方法並無特別限定,能夠藉由以往公知的方法來進行。
又,以去除硬化性樹脂組成物中的灰塵或微粒等異物為目的,進行使用過濾器之過濾為較佳。過濾器孔徑為1μm以下為較佳,0.5μm以下為更佳,0.1μm以下為進一步較佳。過濾器的材質係聚四氟乙烯、聚乙烯或尼龍為較佳。過濾器可以使用藉由有機溶劑預先清洗者。過濾器的過濾製程中,可以並聯或串聯複數種過濾器而使用。當使用複數種過濾器時,可以組合使用孔徑或材質不同之過濾器。又,可以將各種材料過濾複數次。過濾複數次時,可以為循環過濾。又,可以在加壓之後進行過濾。在加壓之後進行過濾時,進行加壓之壓力為0.05MPa以上且0.3MPa以下為較佳。
除了使用過濾器之過濾以外,還可以進行使用吸附材料之雜質去除處理。還可以組合過濾器過濾和使用吸附材料之雜質去除處理。作為吸附材料,能夠使用公知的吸附材料。例如,可舉出矽膠、沸石等無機系吸附材料、活性碳等有機系吸附材料。
<硬化性樹脂組成物的用途>
本發明的硬化性樹脂組成物用於形成再配線層用層間絕緣膜為較佳。
又,還能夠用於半導體器件的絕緣膜的形成或應力緩衝膜的形成等。
(硬化膜、積層體、半導體器件及該等的製造方法)
接著,對硬化膜、積層體、半導體裝置及該等的製造方法進行說明。
本發明的硬化膜藉由硬化本發明的硬化性樹脂組成物而成。本發明的硬化膜的膜厚例如能夠設為0.5μm以上,且能夠設為1μm以上。又,作為上限值,能夠設為100μm以下,且還能夠設為30μm以下。
可以將本發明的硬化膜積層2層以上,進而積層3~7層來作為積層體。本發明的積層體包含2層以上的硬化膜,在任意上述硬化膜彼此之間包含金屬層之態樣為較佳。例如,可較佳地舉出至少包含依次積層有第一硬化膜、金屬層、第二硬化膜這3個層之層結構之積層體。上述第一硬化膜及上述第二硬化膜均為本發明的硬化膜,例如,可較佳地舉出上述第一硬化膜及上述第二硬化膜均為藉由硬化本發明的硬化性樹脂組成物而成之膜之態樣。用於形成上述第一硬化膜之本發明的硬化性樹脂組成物和用於形成上述第二硬化膜之本發明的硬化性樹脂組成物可以為組成相同的組成物,亦可以為組成不同之組成物。本發明的積層體中的金屬層可較佳地用作再配線層等的金屬配線。
作為能夠適用本發明的硬化膜的領域,可舉出半導體器件的絕緣膜、再配線層用層間絕緣膜、應力緩衝膜等。除此以外,可舉出密封膜、基板材料(柔性印刷電路板的基底膜或覆蓋膜、層間絕緣膜)或藉由對如上述實際安裝用途的絕緣膜進行蝕刻而形成圖案之情況等。關於該等用途,例如,能夠參考Science & Technology Co.,Ltd.“聚醯亞胺的高功能化和應用技術”2008年4月、柿本雅明/監修、CMC技術圖書館“聚醯亞胺材料的基礎和開發”2011年11月發行、日本聚醯亞胺・芳香族系高分子研究會/編“最新聚醯亞胺 基礎和應用”NTS,2010年8月等。
又,本發明中的硬化膜還能夠用於膠印版面或網版版面等版面的製造、蝕刻成型部件的用途、電子尤其微電子中的保護漆及介電層的製造等中。
本發明的硬化膜的製造方法(以下,亦簡稱為“本發明的製造方法”。)包括將本發明的硬化性樹脂組成物適用於基材而形成膜之膜形成製程為較佳。
本發明的硬化膜的製造方法包括上述膜形成製程以及對上述膜進行曝光之曝光製程及對上述膜進行顯影之顯影製程為較佳。
又,本發明的硬化膜的製造方法包括上述膜形成製程及根據需要之上述顯影製程,且包括在50~450℃下加熱上述膜之加熱製程為更佳。
具體而言,包括以下的(a)~(d)的製程亦較佳。
(a)將硬化性樹脂組成物適用於基材而形成膜(硬化性樹脂組成物層)之膜形成製程
(b)膜形成製程之後,對膜進行曝光之曝光製程
(c)對經曝光之上述膜進行顯影之顯影製程
(d)將經顯影之上述膜在50~450℃下加熱之加熱製程
藉由在上述加熱製程中進行加熱,能夠進一步硬化利用曝光硬化之樹脂層。在該加熱製程中,例如上述熱鹼產生劑分解,可獲得充分的硬化性。
本發明的較佳實施形態之積層體的製造方法包括本發明的硬化膜的製造方法。本實施形態的積層體的製造方法按照上述之硬化膜的製造方法,形成硬化膜之後,進而再次進行(a)的製程或(a)~(c)的製程、或者(a)~(d)的製程。尤其,依次將上述各製程進行複數次,例如2~5次(亦即,合計3~6次)為較佳。藉由如此對硬化膜進行積層,能夠形成積層體。在本發明中,尤其在設置有硬化膜之部分之上或硬化膜之間或該兩者中設置金屬層為較佳。此外,在積層體的製造中,無需重複(a)~(d)的製程全部,如上述,能夠藉由進行複數次至少(a)、較佳為(a)~(c)或(a)~(d)的製程而獲得硬化膜的積層體。
<膜形成製程(層形成製程)>
本發明的較佳實施形態之製造方法包括將硬化性樹脂組成物適用於基材而形成膜(層狀)之膜形成製程(層形成製程)。
基材的種類能夠依用途而適當設定,但並無特別限制,可舉出矽、氮化矽、多晶矽、氧化矽、非晶矽等半導體製作基材、石英、玻璃、光學膜、陶瓷材料、蒸鍍膜、磁性膜、反射膜、Ni、Cu、Cr、Fe等金屬基材、紙、SOG(Spin On Glass)、TFT(薄膜晶體管)陣列基材、電漿顯示面板(PDP)的電極板等。本發明中,尤其半導體製作基材為較佳,矽基材為更佳。
又,作為基材,例如使用板狀的基材(基板)。
又,在樹脂層的表面或金屬層的表面形成硬化性樹脂組成物層時,樹脂層或金屬層成為基材。
作為將硬化性樹脂組成物適用於基材之方法,塗佈為較佳。
具體而言,作為適用方法,可例示浸塗法、氣刀塗佈法、簾式塗佈法、線棒塗佈法、凹版塗佈法、擠壓塗佈法、噴塗法、旋塗法、狹縫塗佈法及噴墨法等。從硬化性樹脂組成物層的厚度均勻性的觀點考慮,更佳為旋塗法、狹縫塗佈法、噴塗法、噴墨法。依方法調整適當的固體成分濃度或塗佈條件,藉此能夠得到所希望的厚度的樹脂層。又,能夠依基材的形狀適當選擇塗佈方法,只要為晶圓等圓形基材,則旋塗法或噴塗法、噴墨法等為較佳,且只要為矩形基材,則狹縫塗佈法或噴塗法、噴墨法等為較佳。在旋塗法的情況下,例如能夠以500~2,000rpm的轉速適用10秒~1分鐘左右。
又,亦能夠適用將藉由上述賦予方法預先在偽支撐體上賦予而形成之塗膜轉印在基材上之方法。
關於轉印方法,在本發明中,亦能夠較佳地利用日本特開2006-023696號公報的0023、0036~0051段或日本特開2006-047592號公報的0096~0108段中記載之製作方法。
<乾燥製程>
本發明的製造方法還可以包括在形成上述膜(硬化性樹脂組成物層)之後,膜形成製程(層形成製程)之後,為了去除溶劑而進行乾燥之製程。較佳之乾燥溫度為50~150℃,70℃~130℃為更佳,90℃~110℃為進一步較佳。作為乾燥時間,例示30秒~20分鐘,1分鐘~10分鐘為較佳,3分鐘~7分鐘為更佳。
<曝光製程>
本發明的製造方法可以包括對上述膜(硬化性樹脂組成物層)進行曝光之曝光製程。曝光量只要能夠使硬化性樹脂組成物硬化,則無特別限定,例如,以波長365nm下的曝光能量換算計照射100~10,000mJ/cm2
為較佳,照射200~8,000mJ/cm2
為更佳。
曝光波長能夠在190~1,000nm的範圍內適當設定,240~550nm為較佳。
關於曝光波長,若以與光源的關係描述,則可舉出(1)半導體雷射(波長830nm、532nm、488nm、405nm etc.)、(2)金屬鹵化物燈、(3)高壓水銀燈、g射線(波長436nm)、h射線(波長405nm)、i射線(波長365nm)、寬(g、h、i射線的3波長)、(4)準分子雷射、KrF準分子雷射(波長248nm)、ArF準分子雷射(波長193nm)、F2準分子雷射(波長157nm)、(5)極紫外線;EUV(波長13.6nm)、(6)電子束等。關於本發明中的硬化性樹脂組成物,尤其基於高壓水銀燈之曝光為較佳,其中,基於i射線之曝光為較佳。藉此,尤其可得到高的曝光靈敏度。
<顯影製程>
本發明的製造方法可以包括對經曝光之膜(硬化性樹脂組成物層)進行顯影(對上述膜進行顯影)之顯影製程。藉由進行顯影,未曝光之部分(非曝光部)被去除。關於顯影方法,只要能夠形成所希望的圖案,則無特別限制,例如,能夠採用旋覆浸沒、噴霧、浸漬、超音波等顯影方法。
顯影使用顯影液來進行。關於顯影液,只要可去除未曝光之部分(非曝光部),則能夠無特別限制地使用。顯影液包含有機溶劑為較佳,顯影液包含90%以上的有機溶劑為更佳。本發明中,顯影液包含ClogP值為-1~5的有機溶劑為較佳,包含ClogP值為0~3的有機溶劑為更佳。ClogP值能夠藉由ChemBioDraw(化學生物圖)輸入結構式而作為計算值來求出。
關於有機溶劑,作為酯類,例如可較佳地舉出乙酸乙酯、乙酸正丁酯、甲酸戊酯、乙酸異戊酯、乙酸異丁酯、丙酸丁酯、丁酸異丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、γ-丁內酯、ε-己內酯、δ-戊內酯、烷氧基乙酸烷基酯(例:烷氧基乙酸甲酯、烷氧基乙酸乙酯、烷氧基乙酸丁酯(例如,甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等))、3-烷氧基丙酸烷基酯類(例:3-烷氧基丙酸甲酯、3-烷氧基丙酸乙酯等(例如,3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯等))、2-烷氧基丙酸烷基酯類(例:2-烷氧基丙酸甲酯、2-烷氧基丙酸乙酯、2-烷氧基丙酸丙酯等(例如,2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯))、2-烷氧基-2-甲基丙酸甲酯及2-烷氧基-2-甲基丙酸乙酯(例如,2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等)、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-氧代丁酸甲酯、2-氧代丁酸乙酯等,以及作為醚類,例如可較佳地舉出二乙二醇二甲醚、四氫呋喃、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯等,以及作為酮類,例如可較佳地舉出甲基乙基酮、環己酮、環戊酮、2-庚酮、3-庚酮、N-甲基-2-吡咯啶酮等,以及作為芳香族烴類,例如可較佳地舉出甲苯、二甲苯、大茴香醚、檸檬烯等,以及作為亞碸類,可較佳地舉出二甲基亞碸。
本發明中,尤其環戊酮、γ-丁內酯為較佳,環戊酮為更佳。
顯影液的50質量%以上為有機溶劑為較佳,70質量%以上為有機溶劑為更佳,90質量%以上為有機溶劑為進一步較佳。又,顯影液的100質量%可以為有機溶劑。
作為顯影時間,10秒~5分鐘為較佳。顯影時的顯影液的溫度並無特別限定,通常能夠在20~40℃下進行。
在使用顯影液之處理之後,進而可以進行沖洗。沖洗以與顯影液不同之溶劑進行為較佳。例如,能夠使用硬化性樹脂組成物中包含的溶劑進行沖洗。沖洗時間為5秒~1分鐘為較佳。
<加熱製程>
本發明的製造方法包括將經顯影之上述膜在50~450℃下加熱之製程(加熱製程)為較佳。
在膜形成製程(層形成製程)、乾燥製程及顯影製程之後包括加熱製程為較佳。在加熱製程中,例如藉由上述熱鹼產生劑分解而產生鹼,並進行含雜環聚合物前驅物的環化反應。又,本發明的硬化性樹脂組成物雖可以包含除了含雜環聚合物前驅物以外的自由基聚合性化合物,但除了未反應的含雜環聚合物前驅物以外的自由基聚合性化合物的硬化等亦能夠在該製程中進行。作為加熱製程中層的加熱溫度(最高加熱溫度),50℃以上為較佳,80℃以上為更佳,140℃以上為進一步較佳,150℃以上為更進一步較佳,160℃以上為又進一步較佳,170℃以上為再進一步較佳。作為上限,500℃以下為較佳,450℃以下為更佳,350℃以下為進一步較佳,250℃以下為更進一步較佳,220℃以下為又進一步較佳。
關於加熱,從加熱開始時的溫度至最高加熱溫度以1~12℃/分鐘的升溫速度進行為較佳,2~10℃/分鐘為更佳,3~10℃/分鐘為進一步較佳。藉由將升溫速度設為1℃/分鐘以上,能夠確保生產性的同時防止胺的過度揮發,藉由將升溫速度設為12℃/分鐘以下,能夠緩和硬化膜的殘存應力。
加熱開始時的溫度為20℃~150℃為較佳,20℃~130℃為更佳,25℃~120℃為進一步較佳。加熱開始時的溫度係指,開始加熱至最高加熱溫度之製程時的溫度。例如,將硬化性樹脂組成物適用於基材上之後進行乾燥時,為該乾燥後的膜(層)的溫度,例如從比硬化性樹脂組成物中所含有之溶劑的沸點低30~200℃的溫度開始逐漸升溫為較佳。
加熱時間(最高加熱溫度下的加熱時間)為10~360分鐘為較佳,20~300分鐘為更佳,30~240分鐘為進一步較佳。
尤其形成多層積層體時,從硬化膜的層間的密接性的觀點考慮,於180℃~320℃的加熱溫度下進行加熱為較佳,於180℃~260℃下進行加熱為更佳。其理由雖不確定,但認為其原因如下,亦即藉由設為該溫度,層間的含雜環聚合物前驅物的乙炔基彼此進行交聯反應。
加熱可以分階段進行。作為例子,可以進行以3℃/分鐘從25℃升溫至180℃,且在180℃下保持60分鐘,以2℃/分鐘從180℃升溫至200℃,且在200℃下保持120分鐘之前處理製程。作為前處理製程之加熱溫度為100~200℃為較佳,110~190℃為更佳,120~185℃為進一步較佳。在該前處理製程中,如美國專利9159547號說明書中所記載,照射紫外線的同時進行處理亦為較佳。藉由該等前處理製程能夠提高膜的特性。前處理製程在10秒~2小時左右的短時間內進行即可,15秒~30分鐘為更佳。前處理可以為兩階段以上的製程,例如可以在100~150℃的範圍內進行前處理製程1,然後於150~200℃的範圍內進行前處理製程2。
進而,可以在加熱之後進行冷卻,作為該情況下的冷卻速度,1~5℃/分鐘為較佳。
關於加熱製程,從防止含雜環聚合物前驅物分解的方面考慮,藉由使氮、氦、氬等惰性氣體流過等,在低氧濃度的環境下進行為較佳。氧濃度為50ppm(體積比)以下為較佳,20ppm(體積比)以下為更佳。
<金屬層形成製程>
本發明的製造方法包括在顯影後的膜(硬化性樹脂組成物層)的表面形成金屬層之金屬層形成製程為較佳。
作為金屬層,無特別限定,能夠使用現有的金屬種類,例示出銅、鋁、鎳、釩、鈦、鉻、鈷、金及鎢,銅及鋁為更佳,銅為進一步較佳。
金屬層的形成方法無特別限定,能夠適用現有的方法。例如,能夠使用日本特開2007-157879號公報、日本特表2001-521288號公報、日本特開2004-214501號公報、日本特開2004-101850號公報中記載之方法。例如,可考慮光微影、剝離、電解電鍍、無電解電鍍、蝕刻、印刷及組合該等之方法等。更具體而言,可舉出組合濺射、光微影及蝕刻之圖案化方法、組合光微影與電解電鍍之圖案化方法。
作為金屬層的厚度,在最厚的壁厚部,0.1~50μm為較佳,1~10μm為更佳。
<積層製程>
本發明的製造方法還包括積層製程為較佳。
積層製程係包括在硬化膜(樹脂層)或金屬層的表面,再次依次進行(a)膜形成製程(層形成製程)、(b)曝光製程、(c)顯影製程、(d)加熱製程之一系列製程。其中,可以為僅重複(a)的膜形成製程之態樣。又,亦可以設為(d)加熱製程在積層的最後或中間統括進行之態樣。亦即,亦可以設為如下態樣:重複進行規定次數的(a)~(c)的製程,之後進行(d)的加熱,藉此將被積層之硬化性樹脂組成物層統括硬化。又,(c)顯影製程之後可以包括(e)金屬層形成製程,此時可以每次進行(d)的加熱,亦可以在積層規定次數之後統括進行(d)的加熱。積層製程中還可以適當包括上述乾燥製程和加熱製程等是毋庸置疑的。
在積層製程之後進而進行積層製程時,可以在上述加熱製程之後,在上述曝光製程之後或在上述金屬層形成製程之後,進而進行表面活化處理製程。作為表面活化處理,例示出電漿處理。
上述積層製程進行2~5次為較佳,進行3~5次為更佳。
例如,如樹脂層/金屬層/樹脂層/金屬層/樹脂層/金屬層等樹脂層為3層以上且7層以下的結構為較佳,3層以上且5層以下為進一步較佳。
本發明中,尤其在設置金屬層之後,進一步以覆蓋上述金屬層的方式,形成上述硬化性樹脂組成物的硬化膜(樹脂層)之態樣為較佳。具體而言,可舉出依次重複(a)膜形成製程、(b)曝光製程、(c)顯影製程、(e)金屬層形成製程、(d)加熱製程之態樣或依次重複(a)膜形成製程、(b)曝光製程、(c)顯影製程、(e)金屬層形成製程,並在最後或中間統括設置(d)加熱製程之態樣。藉由交替進行積層硬化性樹脂組成物層(樹脂層)之積層製程和金屬層形成製程,能夠交替積層硬化性樹脂組成物層(樹脂層)和金屬層。
本發明亦揭示包含本發明的硬化膜或積層體之半導體器件。作為將本發明的硬化性樹脂組成物使用在再配線層用層間絕緣膜的形成中之半導體器件的具體例,能夠參考日本特開2016-027357號公報的0213~0218段的記載及圖1的記載,並將該等內容編入本說明書中。
[實施例]
以下,舉出實施例對本發明進行進一步詳細的說明。以下的實施例中所示出之材料、使用量、比例、處理內容、處理步驟等只要不脫離本發明的宗旨,則能夠適當進行變更。因此,本發明的範圍並不限定於以下所示之具體例。只要無特別說明,則“份”、“%”為質量基準。
<合成例1>
〔源自均苯四甲酸二酐、4,4’-二胺基二苯醚及苄醇的聚醯亞胺前驅物(A-1:不具有自由基聚合性基團之聚醯亞胺前驅物)的合成〕
使14.06g(64.5毫莫耳)的均苯四甲酸二酐(在140℃下乾燥12小時)和14.22g(131.58毫莫耳)的苄醇懸浮於50mL的N-甲基吡咯啶酮,並用分子篩進行了乾燥。將懸浮液在100℃下加熱了3小時。將反應混合物冷卻至室溫,並添加了21.43g(270.9毫莫耳)的吡啶及90mL的N-甲基吡咯啶酮。接著,將反應混合物冷卻至-10℃,將溫度保持在-10±4℃的同時經10分鐘添加了16.12g(135.5毫莫耳)的SOCl2
。添加SOCl2
期間,黏度增加。用50mL的N-甲基吡咯啶酮稀釋之後,在室溫下將反應混合物攪拌了2小時。接著,將11.08g(58.7毫莫耳)的4,4’-二胺基二苯醚溶解於100mL的N-甲基吡咯啶酮而成之溶液在-5~0℃的溫度範圍內調整,並且經20分鐘將其滴加至反應混合物中。接著,在0℃下使反應混合物反應1小時之後,添加70g的乙醇,並在室溫下攪拌了一晚。接著,使聚醯亞胺前驅物在5升水中沉澱,以5,000rpm的速度將水-聚醯亞胺前驅物混合物攪拌了15分鐘。藉由過濾去除聚醯亞胺前驅物,在4升水中再次攪拌30分鐘,並再次進行了過濾。接著,在減壓下,在45℃下將所獲得之聚醯亞胺前驅物乾燥了3天。該聚醯亞胺前驅物的重量平均分子量為18,000。
[化學式66]
<合成例2>
〔源自均苯四甲酸二酐、4,4’-二胺基二苯醚及甲基丙烯酸-2-羥基乙酯的聚醯亞胺前驅物(A-2:具有自由基聚合性基團之聚醯亞胺前驅物)的合成〕
將14.06g(64.5毫莫耳)的均苯四甲酸二酐(在140℃下乾燥了12小時)、16.8g(129毫莫耳)的甲基丙烯酸-2-羥基乙酯、0.05g的對苯二酚、20.4g(258毫莫耳)的吡啶及100g的二甘醇二甲醚(二乙二醇二甲醚)進行混合,在60℃的溫度下攪拌18小時,藉此製造了均苯四甲酸與甲基丙烯酸-2-羥基乙酯的二酯。接著,藉由SOCl2
將所獲得之二酯氯化之後,以與合成例1相同的方法用4,4’-二胺基二苯醚轉換為聚醯亞胺前驅物,並以與合成例1相同的方法獲得了聚醯亞胺前驅物。該聚醯亞胺前驅物的重量平均分子量為19,000。
[化學式67]
<合成例3>
〔源自4,4’-氧二鄰苯二甲酸酐、4,4’-二胺基二苯醚及甲基丙烯酸-2-羥基乙酯的聚醯亞胺前驅物(A-3:具有自由基聚合性基團之聚醯亞胺前驅物)的合成〕
將20.0g(64.5毫莫耳)的4,4’-氧二鄰苯二甲酸酐(在140℃下乾燥了12小時)、16.8g(129毫莫耳)的甲基丙烯酸-2-羥基乙酯、0.05g的對苯二酚、20.4g(258毫莫耳)的吡啶及100g的二甘醇二甲醚進行混合,在60℃的溫度下攪拌18小時而製造了4,4’-氧二鄰苯二甲酸酐與甲基丙烯酸-2-羥基乙酯的二酯。接著,藉由SOCl2
將所獲得之二酯氯化之後,以與合成例1相同的方法用4,4’-二胺基二苯醚轉換為聚醯亞胺前驅物,並以與合成例1相同的方法獲得了聚醯亞胺前驅物。該聚醯亞胺前驅物的重量平均分子量為18,000。
[化學式68]
<合成例4>
〔源自4,4’-氧二鄰苯二甲酸酐、4,4’-二胺基-2,2’-二甲基聯苯(鄰聯甲苯胺)及甲基丙烯酸-2-羥基乙酯的聚醯亞胺前驅物(A-4:具有自由基聚合性基團之聚醯亞胺前驅物)的合成〕
將20.0g(64.5毫莫耳)的4,4’-氧二鄰苯二甲酸酐(在140℃下乾燥了12小時)、16.8g(129毫莫耳)的甲基丙烯酸-2-羥基乙酯、0.05g的對苯二酚、20.4g(258毫莫耳)的吡啶及100g的二甘醇二甲醚進行混合,在60℃的溫度下攪拌18小時而製造了4,4’-氧二鄰苯二甲酸酐與甲基丙烯酸-2-羥基乙酯的二酯。接著,藉由SOCl2
將所獲得之二酯氯化之後,以與合成例1相同的方法用4,4’-二胺基-2,2’-二甲基聯苯轉換為聚醯亞胺前驅物,並以與合成例1相同的方法獲得了聚醯亞胺前驅物。該聚醯亞胺前驅物的重量平均分子量為19,000。
[化學式69]
<合成例5>
〔源自2,2’-雙(3-胺基-4-羥基苯基)六氟丙烷、4,4’-氧代二苯甲醯氯的聚苯并㗁唑前驅物(A-5)的合成〕
向N-甲基-2-吡咯啶酮100mL添加2,2’-雙(3-胺基-4-羥基苯基)六氟丙烷13.92g並進行了攪拌溶解。接著,將溫度保持在0~5℃的同時經10分鐘滴加11.21g的4,4’-氧代二苯甲醯氯之後,持續攪拌了60分鐘。接著,使聚苯并㗁唑前驅物在6升水中沉澱,以5000rpm的速度將水-聚苯并㗁唑前驅物混合物攪拌了15分鐘。過濾去除聚苯并㗁唑前驅物,在6升水中再次攪拌30分鐘,並再次進行了過濾。接著,在減壓下,以45℃將所獲得之聚苯并㗁唑前驅物乾燥了3天。該聚苯并㗁唑前驅物的重量平均分子量為15,000。
[化學式70]
<合成例6>
〔源自4,4’-氧二鄰苯二甲酸二酐、4,4’-二胺基二苯醚及甲基丙烯酸-2-羥基乙酯的聚醯亞胺前驅物(A-6:具有自由基聚合性基團之聚醯亞胺前驅物)的合成〕
將4,4’-氧二鄰苯二甲酸二酐(ODPA)155.1g放入分離式燒瓶中,並添加了甲基丙烯酸-2-羥基乙酯(HEMA)134.0g及γ-丁內酯400ml。一邊在室溫下攪拌,一邊添加吡啶79.1g,藉此獲得了反應混合物。基於反應之發熱結束後,冷卻至室溫,進而靜置了16小時。
接著,在冰冷下,將二環己碳二亞胺(DCC)206.3g溶解於γ-丁內酯180ml之溶液一邊攪拌一邊經40分鐘添加到了反應混合物。接著,一邊攪拌一邊經60分鐘添加了將4,4’-二胺基二苯醚93.0g懸浮於γ-丁內酯350ml之懸浮液。進而在室溫下攪拌2小時之後,添加乙醇30ml並攪拌了1小時。之後,添加了γ-丁內酯400ml。藉由過濾去除反應混合物生成之沉澱物,藉此獲得了反應液。
將所獲得之反應液添加到3升的乙醇中,生成了由粗聚合物構成之沉澱物。濾取所生成之粗聚合物,溶解於四氫呋喃1.5升,藉此獲得了粗聚合物溶液。將所獲得之粗聚合物溶液滴加於28升水中,使聚合物沉澱,濾取所獲得之沉澱物之後進行真空乾燥,藉此獲得了粉末狀的聚合物A-6。測定該聚合物A-6的重量平均分子量(Mw)之結果,為20,000。
<合成例7>
〔源自3,3’,4,4’-聯苯四羧酸二酐、4,4’-二胺基二苯醚及甲基丙烯酸-2-羥基乙酯的聚醯亞胺前驅物(A-7:具有自由基聚合性基團之聚醯亞胺前驅物)的合成〕
在合成例7中,使用3,3’4,4’-聯苯四羧酸二酐147.1g來代替4,4’-氧二鄰苯二甲酸二酐155.1g,除此以外,以與合成例6中記載之方法相同的方法進行反應,藉此獲得了聚合物A-7。測定該聚合物A-7的重量平均分子量(Mw)之結果,為22,000。
<合成例8>
〔化合物B-1的合成〕
對鄰苯二甲酸酐50.0g(0.338mmol)、甲基丙烯酸羥乙酯66.4g(0.51mmol)的混合物添加4-甲氧基苯酚250mg和二甲胺基吡啶(DMAP)2.1g作為聚合抑制劑,加熱至60℃~65℃並攪拌了2小時。反應結束後,冷卻至室溫後,緩慢注入了碳酸氫鈉55.2g、水550ml、乙酸乙酯200ml的混合液中。攪拌30分鐘之後,移除了乙酸乙酯層。用乙酸乙酯150ml提取水層,移除了乙酸乙酯溶液。再次進行了該操作。對所獲得之水層添加乙酸乙酯500ml,用濃鹽酸調整為pH2~3之後,進行了提取。用飽和食鹽水清洗3次乙酸乙酯溶液,並用無水硫酸鈉進行了乾燥。進行水浴的溫度為40℃。獲得了中間體B-1A的無色透明的油狀物121g(產率:100%)。基於HPLC(高速液相色譜法)的測定的純度為97%。
對5.57g(0.02mmol)的中間體B-1A、4.22g(0.022mmol)的1-(3-二甲胺基丙基)-3-乙基碳二亞胺鹽酸鹽添加乙腈50ml,並在室溫進行了攪拌。將該溶液冷卻至10℃之後,緩慢滴加了三乙胺2.02g(0.02mmol)。滴加結束後,在5℃~10℃下一邊攪拌30分鐘一邊注入並進行了提取。反應結束後,將其一邊攪拌一邊注入乙酸乙酯150ml和3質量%稀鹽酸水150ml的溶液中,並進行了提取。用無水硫酸鈉乾燥乙酸乙酯溶液之後,添加4-甲氧基苯酚50mg,在減壓下蒸餾去除了乙酸乙酯。用二氧化矽凝膠管柱層析法對殘留物進行了純化(洗提液:n-己烷/乙酸乙酯=2/1)。對包含B-1之溶液添加4-甲氧基苯酚2mg,在減壓下進行了濃縮。最後,鼓入空氣,去除溶劑至重量不變。獲得了3.3g(產率:42%)的B-1。
[化學式71]
〔化合物B-2及化合物B-3的合成〕
將合成原料適當變更,除此以外,以與上述化合物B-1的合成相同的方法合成了化合物B-2及B-3。化合物B-2及B-3的結構分別如下述式(B-2)或式(B-3)所示。
[化學式72]
<實施例及比較例>
在各實施例中,分別混合下述表1中記載之成分,藉此獲得了各硬化性樹脂組成物。又,在各比較例中,分別混合下述表1中記載之成分,藉此獲得了各比較用組成物。
具體而言,表1中除“溶劑”以外的欄中記載之成分的含量設為表1的“質量份”中記載之量,表1的“溶劑”一欄中記載之成分的含量設為組成物的固體成分濃度成為表1中記載之值的量。
又,例如表1的“溶劑”的“I-1/I-2”“80/20”的記載表示I-1與I-2的含量比以質量比計為I-1:I-2=80:20。
使所獲得之硬化性樹脂組成物及比較用組成物通過細孔寬度為0.8μm的聚四氟乙烯製過濾器來進行了加壓過濾。
又,在表1中,“-”的記載表示組成物不含有該成分。
[表1]
實施例 | |||||||||||||||
1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 | 9 | 10 | 11 | 12 | 13 | 14 | ||
固體成分濃度(質量%) | 42 | 42 | 42 | 42 | 42 | 42 | 42 | 42 | 42 | 42 | 42 | 42 | 42 | 42 | |
聚合物前驅物 | 種類 | A-3 | A-3 | A-3 | A-1 | A-2 | A-4 | A-5 | A-3 | A-3 | A-3 | A-3 | A-3 | A-3 | A-3 |
質量份 | 80.74 | 80.74 | 80.74 | 80.74 | 80.74 | 80.74 | 80.74 | 80.74 | 80.74 | 80.74 | 80.74 | 80.74 | 80.74 | 80.74 | |
由式(1-1)表示之化合物 | 種類 | B-1 | B-2 | B-3 | B-1 | B-1 | B-1 | B-1 | B-1 | B-1 | B-1 | B-1 | B-1 | B-1 | B-1 |
質量份 | 12.12 | 12.12 | 12.12 | 12.12 | 12.12 | 12.12 | 12.12 | 12.12 | 12.12 | 12.12 | 12.12 | 12.12 | 6.06 | 6.06 | |
聚合性化合物 | 種類 | - | - | - | - | - | - | - | - | - | - | - | - | - | C-1 |
質量份 | - | - | - | - | - | - | - | - | - | - | - | - | - | 6.06 | |
添加劑 | 種類 | - | - | - | - | - | - | - | - | - | - | - | - | J-1 | - |
質量份 | - | - | - | - | - | - | - | - | - | - | - | - | 6.06 | - | |
光聚合起始劑 | 種類 | D-1 | D-1 | D-1 | D-1 | D-1 | D-1 | D-1 | D-2 | D-1 | D-1 | D-1 | D-1 | D-1 | D-1 |
質量份 | 2.83 | 2.83 | 2.83 | 2.83 | 2.83 | 2.83 | 2.83 | 2.83 | 2.83 | 2.83 | 2.83 | 2.83 | 2.83 | 2.83 | |
鎓鹽或 熱鹼產生劑 | 種類 | E-1 | E-1 | E-1 | E-1 | E-1 | E-1 | E-1 | E-1 | E-2 | E-1 | E-1 | E-1 | E-1 | E-1 |
質量份 | 2.26 | 2.26 | 2.26 | 2.26 | 2.26 | 2.26 | 2.26 | 2.26 | 2.26 | 2.26 | 2.26 | 2.26 | 2.26 | 2.26 | |
聚合抑制劑 | 種類 | F-1 | F-1 | F-1 | F-1 | F-1 | F-1 | F-1 | F-1 | F-1 | F-2 | F-1 | F-1 | F-1 | F-1 |
質量份 | 0.16 | 0.16 | 0.16 | 0.16 | 0.16 | 0.16 | 0.16 | 0.16 | 0.16 | 0.16 | 0.16 | 0.16 | 0.16 | 0.16 | |
遷移抑制劑 | 種類 | G-1 | G-1 | G-1 | G-1 | G-1 | G-1 | G-1 | G-1 | G-1 | G-1 | G-2 | G-1 | G-1 | G-1 |
質量份 | 0.28 | 0.28 | 0.28 | 0.28 | 0.28 | 0.28 | 0.28 | 0.28 | 0.28 | 0.28 | 0.28 | 0.28 | 0.28 | 0.28 | |
金屬接著性 改良劑 | 種類 | H-1 | H-1 | H-1 | H-1 | H-1 | H-1 | H-1 | H-1 | H-1 | H-1 | H-1 | H-2 | H-1 | H-1 |
質量份 | 1.61 | 1.61 | 1.61 | 1.61 | 1.61 | 1.61 | 1.61 | 1.61 | 1.61 | 1.61 | 1.61 | 1.61 | 1.61 | 1.61 | |
溶劑 | 種類 | I-1 /I-2 | I-1 /I-2 | I-1 /I-2 | I-1 /I-2 | I-1 /I-2 | I-1 /I-2 | I-1 /I-2 | I-1 /I-2 | I-1 /I-2 | I-1 /I-2 | I-1 /I-2 | I-1 /I-2 | I-1 /I-2 | I-1 /I-2 |
質量比 | 80/20 | 80/20 | 80/20 | 80/20 | 80/20 | 80/20 | 80/20 | 80/20 | 80/20 | 80/20 | 80/20 | 80/20 | 80/20 | 80/20 | |
評價結果 | 耐藥 品性 | B | B | B | B | B | B | B | B | B | B | B | B | A | B |
[表2]
實施例 | 比較例 | ||||||
15 | 16 | 17 | 18 | 1 | 2 | ||
固體成分濃度(質量%) | 42 | 42 | 42 | 40 | 42 | 42 | |
聚合物前驅物 | 種類 | A-3 | A-3 | A-3 | A-6 /A-7 | A-3 | A-3 |
質量份 | 80.74 | 80.74 | 80.74 | 43 /43 | 80.74 | 80.74 | |
由式(1-1)表示之化合物 | 種類 | B-1 | B-1 | B-1 | B-1 | - | - |
質量份 | 4.04 | 6.06 | 6.06 | 3.75 | - | - | |
聚合性化合物 | 種類 | C-1 | C-2 | C-3 | C-1 | C-1 | - |
質量份 | 4.04 | 6.06 | 6.06 | 3 | 12.12 | - | |
添加劑 | 種類 | J-1 | - | - | J-2 | - | RB-1 |
質量份 | 4.04 | - | - | 3.5 | - | 12.12 | |
光聚合起始劑 | 種類 | D-1 | D-1 | D-1 | D-1 | D-1 | D-1 |
質量份 | 2.83 | 2.83 | 2.83 | 1.75 | 2.83 | 2.83 | |
鎓鹽或 熱鹼產生劑 | 種類 | E-1 | E-1 | E-1 | - | E-1 | E-1 |
質量份 | 2.26 | 2.26 | 2.26 | - | 2.26 | 2.26 | |
聚合抑制劑 | 種類 | F-1 | F-1 | F-1 | F-3 | F-1 | F-1 |
質量份 | 0.16 | 0.16 | 0.16 | 0.05 | 0.16 | 0.16 | |
遷移抑制劑 | 種類 | G-1 | G-1 | G-1 | - | G-1 | G-1 |
質量份 | 0.28 | 0.28 | 0.28 | - | 0.28 | 0.28 | |
金屬接著性 改良劑 | 種類 | H-1 | H-1 | H-1 | H-2 /H-3 | H-1 | H-1 |
質量份 | 1.61 | 1.61 | 1.61 | 0.5 /0.5 | 1.61 | 1.61 | |
溶劑 | 種類 | I-1 /I-2 | I-1 /I-2 | I-1 /I-2 | I-3 /I-4 | I-1 /I-2 | I-1 /I-2 |
質量比 | 80/20 | 80/20 | 80/20 | 80/20 | 80/20 | 80/20 | |
評價結果 | 耐藥 品性 | A | B | B | A | C | C |
表1中記載之各成分的詳細內容如下。
〔聚合物前驅物〕
・A-1~A-7:上述中合成之A-1~A-7
〔由式(1-1)表示之化合物〕
・B-1~B-3:上述中合成之B-1~B-3
〔聚合性化合物〕
・C-1~C-3:下述結構的化合物
[化學式73]
〔添加劑〕
・J-1:Desmodur BL3575/1(Covestro AG製)
・J-2:N-苯基二乙醇胺(Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.製)
・RB-1(比較例用):下述結構的化合物
[化學式74]
〔光聚合起始劑〕
・D-1及D-2:下述結構的化合物
[化學式75]
〔鎓鹽或熱鹼產生劑〕
・E-1~E-2:下述結構的化合物
[化學式76]
〔聚合抑制劑〕
・F-1~F-3:下述結構的化合物
・F-3:2-亞硝基-1-萘酚(Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.製)
[化學式77]
〔遷移抑制劑〕
・G-1~G-2:下述結構的化合物
[化學式78]
〔金屬接著性改良劑〕
・H-1~H-3:下述結構的化合物
[化學式79]
〔溶劑〕
I-1:γ-丁內酯(SANWAYUKA INDUSTRY CORPORATION製)
I-2:二甲基亞碸(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation製)
I-3:N-甲基-2-吡咯啶酮(Ashland公司製)
I-4:乳酸乙酯(Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.製)
<硬化膜的製造>
在各實施例及比較例中,藉由旋塗法,分別將硬化性樹脂組成物或比較用組成物適用於矽晶圓上來形成了樹脂層。將形成有上述樹脂層之矽晶圓在加熱板上,以100℃乾燥4分鐘,在矽晶圓上形成了20μm的均勻厚度的樹脂組成物層。
利用寬帶曝光機(USHIO INC.製:UX-1000SN-EH01),以400mJ/cm2
的曝光能對矽晶圓上的樹脂組成物層進行曝光,將經曝光的樹脂組成物層在氮氣氛氣下,以5℃/分鐘的升溫速度升溫,達到180℃之後,在該溫度加熱了2小時。將上述加熱後的樹脂組成物層及矽晶圓浸漬於3質量%氟氫酸水溶液,並從矽晶圓剝離了加熱後的樹脂組成物層。將上述剝離之加熱後的樹脂組成物層作為硬化膜。
<評價>
在各實施例及比較例中,分別用所獲得之上述硬化膜,進行了耐藥品性、斷裂伸長率及解析度的評價。
以下,記載各評價中的評價方法的詳細內容。
〔耐藥品性〕
將所獲得之硬化膜在下述條件下浸漬於下述藥液中,計算了溶解速度。
藥品:二甲基亞碸(DMSO)與25質量%的氫氧化四甲基銨(TMAH)水溶液的90:10(質量比)的混合物
評價條件:將硬化膜在藥液中,以75℃浸漬15分鐘,比較浸漬前後的膜厚,計算了溶解速度(nm/分鐘)。利用橢偏儀(Foothill公司製KT-22)在塗佈面10處實施膜厚測定,作為其算術平均值求出了膜厚測定。
評價按照下述評價基準進行,評價結果記載於表1或表2的“耐藥品性”一欄。可以說溶解速度值越小,硬化膜的耐藥品性越優異。
-評價基準-
A:溶解速度低於250nm/分鐘。
B:溶解速度為250nm/分鐘以上且低於500nm/分鐘。
C:溶解速度為500nm/分鐘以上。
從以上結果可知,藉由本發明之含有含雜環聚合物前驅物及由式(1-1)表示之化合物之硬化性樹脂組成物的獲得之硬化膜的耐藥品性優異。
比較例1~2之硬化性樹脂組成物不含有由式(1-1)表示之化合物。可知藉由該比較例1~2之硬化性樹脂組成物獲得之硬化膜的耐藥品性差。
<實施例101>
藉由旋塗法將實施例1所述之硬化性樹脂組成物層狀適用於形成有銅薄層之樹脂基材的表面,在100℃下5分鐘乾燥,藉此形成膜厚20μm的硬化性樹脂組成物層之後,並用步進機(Nikon Corporation製,NSR1505 i6)進行了曝光。經由遮罩(圖案為1:1線與空間,線寬為10μm的二元遮罩),在波長365nm下進行了曝光。曝光之後,用環戊酮顯影30秒,用PGMEA沖洗20秒而得到了層的圖案。
接著,在230℃下加熱3小時而形成了再配線層用層間絕緣膜。該再配線層用層間絕緣膜的絕緣性優異。
又,使用該等再配線層用層間絕緣膜製造了半導體器件之結果,確認到正常工作。
無。
無
Claims (15)
- 一種硬化性樹脂組成物,其係包含:選自包括聚醯亞胺前驅物及苯并唑前驅物之群組中之至少1種聚合物前驅物及由下述式(1-1)表示之化合物,
- 如請求項1所述之硬化性樹脂組成物,其中具有前述乙烯性不飽和基之基團係(甲基)丙烯醯氧基。
- 如請求項1或請求項2所述之硬化性樹脂組成物,其係進一步包含具有複數個能夠與選自包括羥基及硫醇基之群組中之至少1種基團縮合之基團之化合物。
- 如請求項1或請求項2所述之硬化性樹脂組成物,其係進一步包含光自由基聚合起始劑。
- 如請求項1或請求項2所述之硬化性樹脂組成物,其係包含聚醯亞胺前驅物作為前述聚合物前驅物。
- 如請求項6所述之硬化性樹脂組成物,其中前述式(1)的R113及R114中的至少1個包含自由基聚合性基團。
- 如請求項1或請求項2所述之硬化性樹脂組成物,其係用於形成再配線層用層間絕緣膜。
- 一種硬化膜,其係藉由硬化請求項1至請求項8之任一項所述之硬化性樹脂組成物而成。
- 一種積層體,其係包含2層以上的請求項9所述之硬化膜,在任意前述硬化膜彼此之間包含金屬層。
- 一種硬化膜的製造方法,其係包括將請求項1至請求項8之任一項所述之硬化性樹脂組成物適用於基材而形成膜之膜形成製程。
- 如請求項11所述之硬化膜的製造方法,其係包括對前述膜進行曝光之曝光製程及對前述膜進行顯影之顯影製程。
- 如請求項11或請求項12所述之硬化膜的製造方法,其係包括在50℃~450℃下加熱前述膜之加熱製程。
- 一種半導體器件,其係包含請求項9所述之硬化膜或請求項10所述之積層體。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019060798 | 2019-03-27 | ||
JP2019-060798 | 2019-03-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202102941A TW202102941A (zh) | 2021-01-16 |
TWI836038B true TWI836038B (zh) | 2024-03-21 |
Family
ID=72610931
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW109110057A TWI836038B (zh) | 2019-03-27 | 2020-03-25 | 硬化性樹脂組成物、硬化膜、積層體、硬化膜的製造方法及半導體器件 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7177249B2 (zh) |
KR (1) | KR102637928B1 (zh) |
TW (1) | TWI836038B (zh) |
WO (1) | WO2020196363A1 (zh) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2023032820A1 (zh) * | 2021-08-31 | 2023-03-09 | ||
CN114524938B (zh) * | 2021-10-28 | 2024-02-09 | 江苏三月科技股份有限公司 | 一种聚合物、感光树脂组合物及其制备的固化膜与电子元件 |
WO2023190061A1 (ja) * | 2022-03-29 | 2023-10-05 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂組成物、硬化物、積層体、硬化物の製造方法、積層体の製造方法、半導体デバイスの製造方法、及び、半導体デバイス |
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Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997049676A1 (en) * | 1996-06-24 | 1997-12-31 | Cytec Technology Corp. | Urea/ureido functional polymerizable monomers |
JP2003301164A (ja) * | 2002-02-05 | 2003-10-21 | Nitto Denko Corp | 重合性ゲル化剤 |
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-
2020
- 2020-03-23 JP JP2021509365A patent/JP7177249B2/ja active Active
- 2020-03-23 KR KR1020217030851A patent/KR102637928B1/ko active IP Right Grant
- 2020-03-23 WO PCT/JP2020/012594 patent/WO2020196363A1/ja active Application Filing
- 2020-03-25 TW TW109110057A patent/TWI836038B/zh active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2020196363A1 (ja) | 2020-10-01 |
JP7177249B2 (ja) | 2022-11-22 |
TW202102941A (zh) | 2021-01-16 |
KR102637928B1 (ko) | 2024-02-21 |
JPWO2020196363A1 (ja) | 2021-12-23 |
KR20210134002A (ko) | 2021-11-08 |
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