TWI829454B - 基板處理系統 - Google Patents

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TWI829454B
TWI829454B TW111145796A TW111145796A TWI829454B TW I829454 B TWI829454 B TW I829454B TW 111145796 A TW111145796 A TW 111145796A TW 111145796 A TW111145796 A TW 111145796A TW I829454 B TWI829454 B TW I829454B
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TW111145796A
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Inventor
楊仲平
吳東芳
魏文忠
Original Assignee
迅得機械股份有限公司
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Abstract

本發明揭露一種基板處理系統。基板處理系統包含雷鑽設備、第一基板處理設備及第二基板處理設備。第一基板處理設備包含第一活動空間、第一定位機構、第一暫存機構及第一移載機構。第二基板處理設備包含第二活動空間、第二定位機構及第二移載機構。第一定位機構、第一暫存機構及第一移載機構能相互配合,以將位於第一活動空間中的自動搬運車上的載具中的基板,移入雷鑽設備中。第二定位機構及第二移載機構能相互配合,以將通過雷鑽設備的基板,移入位於第二活動空間中的自動搬運車上的載具中。

Description

基板處理系統
本發明涉及一種基板處理系統,特別是一種包含雷鑽設備的基板處理系統。
在現有技術中,相關人員必需以人工的方式,將承載有基板的推車,送入雷鑽設備的周邊設備中,以使周邊設備能將推車上的基板逐一地送入雷鑽設備中。相同地,相關人員必需以人工的方式,將推車置放於雷鑽設備的出口端的周邊設備中,以使周邊設備能將通過雷鑽設備後的基板置放於推車上。上述利用人工將推車送入周邊設備的方式,費時且費工。
本發明公開一種基板處理系統,主要用以改善現有技術中,必需利用人工的方式,將承載有基板的台車,送入雷鑽設備的周邊設備中的方式,所帶來的諸多不便。
本發明的其中一實施例公開一種基板處理系統,其包含:一雷鑽設備、一第一基板處理設備及一第二基板處理設備。雷鑽設備用以對至少一基板進行雷鑽作業。第一基板處理設備包含:一第一活動空間、一第一定位機構、一第一暫存機構及一第一移載機構。第一活動空間用以提供一自動搬運車停放。第一定位機構用以固持停放於第一活動空間的自動搬運車所承載的至少一個載具,載具用以承載至少一個基板。第一暫存機構包含一第一承載台及多個第一整板組件,第一承載台用以承載基板,多個第一整板組件用以對第一承載台上的基板進行整板作業。第一移載機構用以將載具所承載的基板移載至第一承載台,且第一移載機構用以將基板移載至雷鑽設備。 第二基板處理設備包含:一第二活動空間、一第二定位機構及一第二移載機構。第二活動空間用以提供自動搬運車停放。第二定位機構用以固持停放於第二活動空間的自動搬運車所承載的至少一個載具。第二移載機構用以將通過雷鑽設備後的基板移載至位於第二活動空間的自動搬運車的載具中。
綜上所述,本發明的基板處理系統能與自動搬運車相互配合,以將自動搬運車載運的基板,能被自動地送入雷鑽設備中進行雷鑽作業,且本發明的基板處理系統還能使通過雷鑽設備的基板,置放於自動搬運車上。
為能更進一步瞭解本發明的特徵及技術內容,請參閱以下有關本發明的詳細說明與附圖,但是此等說明與附圖僅用來說明本發明,而非對本發明的保護範圍作任何的限制。
100:基板處理系統
1:雷鑽設備
2:第一基板處理設備
21:機台本體
22:第一活動空間
23:第一定位機構
231:定位組件
232:推抵組件
2321:驅動器
2322:推抵件
233:旋轉組件
2331:驅動器
2332:旋轉件
24:第一升降機構
241:第一支撐臂
242:升降組件
25:第一暫存機構
251:第一承載台
252:第一活動組件
253:第一整板組件
2531:驅動器
2532:推抵件
26:第一移載機構
261:第一基板固持組件
262:第二基板固持組件
263:移動組件
3:第二基板處理設備
31:機台本體
32:第二活動空間
33:第二定位機構
331:定位組件
332:推抵組件
3321:驅動器
3322:推抵件
333:旋轉組件
3331:驅動器
3332:旋轉件
34:第二升降機構
341:第二支撐臂
342:升降組件
35:第二暫存機構
351:第二承載台
352:第二活動組件
353:第三承載台
354:第三活動組件
36:第二移載機構
361:第三基板固持組件
362:第四基板固持組件
363:移動組件
4:基板翻轉設備
5:第三移載機構
A:自動搬運車
B:載具
C:基板
NG1:不良基板
NG2:不良基板
OK:正常基板
P1:第一位置
P2:第二位置
P3:第三位置
P4:第四位置
P5:第五位置
P6:第六位置
圖1為本發明的基板處理系統的示意圖。
圖2為本發明的基板處理系統的第一基板處理設備的第一定位機構及第一暫存機構的示意圖。
圖3及圖4分別為本發明的基板處理系統的第一基板處理設備的第一移載機構、第一定位機構及第一暫存機構的作動示意圖。
圖5為本發明的基板處理系統的第二基板處理設備的第二定位機構及第二暫存機構的示意圖。
圖6及圖7分別為本發明的基板處理系統的第二基板處理設備的第二移載機構、第二暫存機構及基板的作動示意圖。
圖8及圖9為本發明的基板處理系統的第二基板處理設備與另一實施例的固持有兩個基板的第二移載機構、第二承載台及第三承載台之間的作動示意圖。
圖10為本發明的基板處理系統的另一實施例的基板翻轉設備 及第三移載機構的局部示意圖。
於以下說明中,如有指出請參閱特定圖式或是如特定圖式所示,其僅是用以強調於後續說明中,所述及的相關內容大部份出現於該特定圖式中,但不限制該後續說明中僅可參考所述特定圖式。
請一併參閱圖1至圖4,圖1為本發明的基板處理系統的示意圖,圖2為本發明的基板處理系統的第一基板處理設備的第一定位機構及第一暫存機構的示意圖,圖3及圖4分別為本發明的基板處理系統的第一基板處理設備的第一移載機構、第一定位機構及第一暫存機構的作動示意圖。。需說明的是,為利清楚顯示第一基板處理設備所包含的構件,於圖2及圖3中,省略了第一基板處理設備所包含的部分機台本體的支架及機殼。
本發明的基板處理系統100包含一雷鑽設備1、一第一基板處理設備2及一第二基板處理設備3。雷鑽設備1用以對至少一基板C進行雷鑽作業。在實際應用中,雷鑽設備1例如可以是同時對兩個以上的基板進行雷射鑽孔作業。
第一基板處理設備2包含:一機台本體21、一第一活動空間22、一第一定位機構23、一第一升降機構24、一第一暫存機構25及一第一移載機構26。機台本體21例如包含支架及機殼,支架用以支撐第一定位機構23、第一暫存機構25及第一移載機構26。
第一活動空間22用以提供一自動搬運車A停放。所述自動搬運車A例如可以是常見的AGV(Automation Guided Vehicle),但不以此為限,只要可以自動地於廠房中的行走的搬運車,都是所述自動搬運車A可應用的範圍。自動搬運車A用以承載至少一載具B,載具B用以承載至少一基板C。載具B例如是各式Tray盤或是用來承載基板C的各式盒體,於此不加以限制。
第一定位機構23用以固持停放於第一活動空間22的自動搬運車A所承載的至少一個載具B。第一升降機構24與第一定位機構23連接,第一升降機構24用以使固持有載具B的第一定位機構23向靠近或遠離位於第一活動空間22的自動搬運車A的方向移動。
具體來說,第一升降機構24例如可以是包含有兩個第一支撐臂241、一升降組件242及一動力源,兩個第一支撐臂241分別連接升降組件242,升降組件242連接所述動力源,而動力源能被控制,以通過升降組件242,帶動兩個第一支撐臂241向靠近或遠離位於第一活動空間22中的自動搬運車A的方向移動。舉例來說,升降組件242可以是包含有兩個線性滑軌組,但不以此為限。
第一定位機構23可以是包含多個定位組件231及多個校正組件,多個定位組件231用以固持位於第一活動空間22的載具B,多個校正組件用以校正位於第一活動空間22中的載具B的位置。舉例來說,第一定位機構23可以是包含有四個定位組件231,各個定位組件231例如是氣浮盤,而各個氣浮盤能被輸入氣體,以使位於第一活動空間22中的自動搬運車A上的載具B相對於自動搬運車A浮動,且各個氣浮盤還能被控制,以吸附位於第一活動空間22中的載具B。
第一定位機構23例如可以是包含兩種不同的校正組件,其中一種校正組件例如包含四個推抵組件232,各個推抵組件232例如是包含一驅動器2321及一推抵件2322,各個驅動器2321能被控制,以使推抵件2322作動,從而推抵或不再推抵位於第一活動空間22中的載具B。其中兩個推抵組件232可以是設置於其中一個第一支撐臂241,另外兩個推抵組件232可以是設置於另一個第一支撐臂241,而四個推抵組件232可以是位於載具B的彼此相反的兩側,而四個推抵組件232能被控制,以共同調整載具B於第一活動空間22中的左右方向的位置。
另一種校正組件例如可以是包含四個旋轉組件233,各個旋轉組件233例如是包含一驅動器2331及一旋轉件2332,驅動器2331能被控制,以使旋轉件2332向靠近或遠離位於第一活動空間22中的載具B的方向旋轉。其中兩個旋轉組件233可以是設置於其中一個第一支撐臂241,且位於第一支撐臂241的兩端的位置,另外兩個旋轉組件233可以是設置於另一個第一支撐臂241,且位於另一個第一支撐臂241的兩端的位置。四個旋轉件2332可以是大致位於載具B的四個邊角的位置,而四個旋轉件2332能共同校正載具B於第一活動空間22中的前後方向的位置。
依上所述,在實際應用中,第一定位機構23的四個氣浮盤(即定位組件231),可以是被控制轉換為浮動模式,而四個氣浮盤將分別輸出氣體,據以使位於第一活動空間22中的載具B相對於自動搬運車A浮動(即,使載具B離開自動搬運車A),而後,四個推抵組件232及四個旋轉組件233可以是分別作動,據以校正載具B的位置,最後,四個氣浮盤可以是被控制轉換為吸附模式,如此,四個氣浮盤將吸附已經被校正後的載具B,如此,載具B的位置將被校正,且載具B將被第一定位機構23所固持。當載具B被第一定位機構23所固持時,第一升降機構24將可以作動,以使兩個第一支撐臂241向遠離自動搬運車A的方向移動。當自動搬運車A上的載具B被第一定位機構23所固持,且載具B隨著第一升降機構24向遠離自動搬運車A的方向移動時,自動搬運車A即可離開第一活動空間22。
第一暫存機構25包含一第一承載台251、一第一活動組件252及多個第一整板組件253。第一承載台251用以承載基板C。第一承載台251與第一活動組件252連接,而第一承載台251能通過第一活動組件252於一第一位置P1(如圖4所示)及一第二位置P2(如圖3所示)之間移動。具體來說,第一活動組件252例如可以是包含有驅動源(例如馬達)、連動件(例如滾輪)及皮帶等構件,而第一承載台251則是與兩個皮帶相連接,驅動源被控制而作動 時,則能通過連動件帶動皮帶作動,據以使第一承載台251活動。
多個第一整板組件253與第一承載台251相連接,而多個第一整板組件253用以對第一承載台251上的基板C進行整板作業。舉例來說,各個第一整板組件253可以是包含有一驅動器2531及一推抵件2532,驅動器2531與推抵件2532連接,驅動器2531用以帶動推抵件2532作動,據以推抵位於第一承載台251上的基板C,從而調整基板C於第一承載台251上的位置。關於第一承載台251上所設置的第一整板組件253的數量及其設置位置,不以圖中所示為限。
第一移載機構26用以將載具B所承載的基板C移載至第一承載台251,且第一移載機構26用以將基板C移載至雷鑽設備1。在實際應用中,第一移載機構26例如可以是包含有一第一基板固持組件261、一第二基板固持組件262及一移動組件263,第一基板固持組件261及第二基板固持組件262並排地設置。第一基板固持組件261能固持位於第一活動空間22的載具B中的基板C,且第一基板固持組件261能將基板C置放於位於第一位置P1(如圖4所示)的第一承載台251,第一基板固持組件261也能取起位於第一位置P1(如圖4所示)的第一承載台251上的基板C。
第二基板固持組件262能將基板C置放於位於第二位置P2(如圖3所示)的第一承載台251,第二基板固持組件262也能取起位於第二位置P2(如圖3所示)的第一承載台251上的基板C。舉例來說,第一基板固持組件261及第二基板固持組件262可以是分別包含有多個吸盤,而第一基板固持組件261及第二基板固持組件262能通過其所包含的多個吸盤吸附基板C。
第一基板固持組件261及第二基板固持組件262皆與移動組件263連接,而第一基板固持組件261及第二基板固持組件262能通過移動組件263,以一同將其所固持的基板C移載至雷鑽設備1中。舉例來說,移動組件263可以是包含線性滑軌組。
請一併參閱圖5至圖7,圖5為本發明的基板處理系統的第二基板處理設備的第二定位機構及第二暫存機構的示意圖,圖6及圖7分別為本發明的基板處理系統的第一基板處理設備的第一移載機構、第一暫存機構及基板的作動示意圖。需說明的是,為利清楚地顯示第一移載機構26、第一暫存機構25及基板C彼此間的相對位置關係,於圖6及圖7中,額外加大了第一移載機構26與第一暫存機構25彼此間的距離。
當第一定位機構23及第一升降機構24相互配合,而使位於第一活動空間22中的載具B向遠離自動搬運車A的方向移動,並據以鄰近移動組件263設置時,第一承載台251可以是被控制,而移動至第二位置P2(即如圖3所示,位於第二基板固持組件262的正下方),而後,第一基板固持組件261將向靠近載具B的方向移動,據以固持位於載具B中的基板C。
當第一基板固持組件261向下移動,以固持位於載具B中的基板C後,第一基板固持組件261將回復至初始位置,此時,第一承載台251將被控制,而由第二位置P2移動至第一位置P1(即如圖4所示,位於第一基板固持組件261的正下方)。接著,第一基板固持組件261將把基板C置放於位於第一位置P1的第一承載台251上。
當位於第一位置P1的第一承載台251承載有基板C後,第一承載台251將被控制,而移動至第二位置P2,接著,第一整板組件253(如圖2所示)將被控制,以對設置於第一承載台251上的基板C進行整板作業。於此同時,第一基板固持組件261將向下移動,以固持設置於載具B中的另一個基板C。當位於第二位置P2的第二承載台351上的基板C被第一整板組件253整板後,第二基板固持組件262將固持設置於第一承載台251上的基板C,而使基板C離開第一承載台251。
當第二基板固持組件262固持有已經通過整板後的基板C, 且第一基板固持組件261固持有由載具B中取出的另一基板C時,第一承載台251將被控制,而由第二位置P2移動至第一位置P1。當第一承載台251位於第一位置P1時,第一基板固持組件261將會把其所固持的基板C置放於第一承載台251,而第一整板組件253將被控制,以對第一承載台251上的基板C進行整板作業。接著,第一基板固持組件261將再次固持,位於第一位置P1的第一承載台251上已經被整板後的基板C。
當第一基板固持組件261及第二基板固持組件262分別固持有已經通過第一整板組件253整板後的基板C後,第一基板固持組件261及第二基板固持組件262將可以通過移動組件263,一同向雷鑽設備1(如圖1所示)中的移動,而使兩個基板C一同被移載至雷鑽設備1(如圖1所示)中。
依上所述,第一基板處理設備2將反覆地執行上述作動,以持續地將載具B所承載的基板C,移載至雷鑽設備1中。當然,第一基板處理設備2所包含的第一暫存機構25及第一移載機構26的作動流程,不以上述說明為限,在實際應用中,也可以是依據需求加以變化。
請一併參閱圖1、5至圖7,圖5為本發明的基板處理系統的第二基板處理設備的局部示意圖,圖6及圖7分別為本發明的基板處理系統的第二基板處理設備的第二移載機構、第二定位機構及第二暫存機構的作動示意圖。
第二基板處理設備3包含:一機台本體31、一第二活動空間32、一第二定位機構33、一第二升降機構34、一第二暫存機構35及一第二移載機構36。在其中一個實施例中,第二基板處理設備3也可以是僅包含有機台本體31、第二活動空間32、第二定位機構33及第二移載機構36。機台本體31例如包含支架及機殼,支架用以支撐第二定位機構33、第二暫存機構35及第二移載機構36。第二活動空間32用以提供自動搬運車A停放。關於自動搬運車A,請參閱前述說明,於此不再贅述。
第二定位機構33用以固持停放於第二活動空間32的自動搬運車A所承載的至少一個載具B。第二升降機構34與第二定位機構33連接,第二升降機構34用以使固持有載具B的第二定位機構33向靠近或遠離位於第二活動空間32的自動搬運車A的方向移動,且第二升降機構34、第二定位機構33及第二移載機構36能相互配合,以將雷鑽設備1中的基板C移載至位於第二活動空間32的自動搬運車A上的載具B中。
具體來說,第二升降機構34例如可以是包含有兩個第二支撐臂341、一升降組件342及一動力源,兩個第二支撐臂341分別連接升降組件342,升降組件342連接所述動力源,而動力源能被控制,以通過升降組件342使兩個第二支撐臂341向靠近或遠離位於第二活動空間32中的自動搬運車A的方向移動。舉例來說,所述升降組件342例如可以是包含有兩個線性滑軌組,但不以此為限。
第二定位機構33可以是包含多個定位組件331及多個校正組件,多個定位組件331用以固持位於第二活動空間32的載具B,多個校正組件用以校正位於第二活動空間32中的載具B的位置。舉例來說,第二定位機構33可以是包含有四個定位組件331,各個定位組件331例如是氣浮盤,而四個氣浮盤能使位於第二活動空間32中的自動搬運車A上的載具B相對於自動搬運車A浮動,且四個氣浮盤還能被控制,以吸附位於第二活動空間32中的載具B。
第二定位機構33例如可以是包含兩種不同的校正組件,其中一種校正組件例如包含四個推抵組件332,另一種校正組件例如可以是包含四個旋轉組件333。各個推抵組件332可以是包含有一驅動器3321及一推抵件3322。各個旋轉組件333可以是包含有一驅動器3331及一旋轉件3332。關於定位組件331、推抵組件332所包含的驅動器3321、推抵件3322及旋轉組件333 所包含的驅動器3331及旋轉件3332的詳細說明,與前述的定位組件231、推抵組件232及旋轉組件233的說明相同,於此不再贅述。
依上所述,通過第二定位機構33所包含的多個定位組件331及多個校正組件等設計,可以先利用多個氣浮盤(即定位組件331),使位於第二活動空間32中的載具B相對於自動搬運車A浮動(即,使載具B離開自動搬運車A),再利用多個校正組件調整載具B的位置,最後,再利用多個氣浮盤(即定位組件331)吸附,調整位置後的載具B,藉此,可以讓載具B可以正確地被置放於自動搬運車A上,且也可以讓基板C能夠正確地被置放於載具B中。
另外,通過第二定位機構33及第二升降機構34的設計,載具B可以與自動搬運車A分離,而在載具B未裝滿基板C前,自動搬運車A可以先離開第二基板處理設備3,而執行其他載運工作。
第二暫存機構35例如可以是包含一第二承載台351及一第二活動組件352。第二承載台351用以承載基板C。第二承載台351與第二活動組件352連接,而第二承載台351能通過第二活動組件352於一第三位置P3(如圖5所示)及一第四位置P4(如圖7所示)之間移動。具體來說,第二活動組件352例如可以是包含有驅動源(例如馬達)、連動件(例如滾輪)及皮帶等構件,而第二承載台351則是與兩個皮帶相連接,驅動源被控制而作動時,則能通過連動件帶動皮帶作動,據以使第二承載台351活動。
第二移載機構36用以將載具B所承載的基板C移載至第二承載台351,且第二移載機構36用以將基板C移載至雷鑽設備1。在實際應用中,第二移載機構36例如可以是包含有一第三基板固持組件361、一第四基板固持組件362及一移動組件363,第三基板固持組件361及第四基板固持組件362並排地設置。第三基板固持組件361能將其所固持的基板C置放於位在第三位置P3的第二承載台351,第四基板固持組件362能將其所固持的基板C 置放於位在第四位置P4的第二承載台351,且第四基板固持組件362能將其所固持的基板C置放於位在第二活動空間32中的載具B中。第四基板固持組件362亦能固持位於第四位置P4的第二承載台351上的基板C。
舉例來說,第三基板固持組件361及第四基板固持組件362可以是分別包含有多個吸盤,而第三基板固持組件361及第四基板固持組件362能通過其所包含的多個吸盤吸附基板C。
第三基板固持組件361及第四基板固持組件362皆與移動組件363連接,而第三基板固持組件361及第四基板固持組件362能通過移動組件363,以一同將位於雷鑽設備1中的兩個基板C,移出雷鑽設備1。舉例來說,移動組件363可以是包含線性滑軌組。
需說明的是,為利清楚地顯示第二移載機構36、第二暫存機構35及基板C彼此間的相對位置關係,於圖6至圖9中,額外加大了第二移載機構36與第二暫存機構35彼此間的距離。
當第三基板固持組件361及第四基板固持組件362,將兩個基板C由雷鑽設備1中移出時,第二定位機構33及第二升降機構34將相互配合,而使載具B移動至鄰近移動組件363的位置,且第二承載台351將被控制,而移動至第三位置P3(即如圖5所示,位於第三基板固持組件361的正下方)。接著,第三基板固持組件361將會向下移動,而將其所固持的基板C置放在位於第三位置P3的第二承載台351上,且第四基板固持組件362將會向下移動,而將其所固持的基板C置放於位於第二活動空間32中的載具B中。
當第三基板固持組件361及第四基板固持組件362所分別固持的基板C,分別被置放於第二承載台351及載具B中後,第二承載台351將被控制,而由第三位置P3移動至第四位置P4(即如圖7所示,位於第四基板固持組件362的正下方)。
當第二承載台351位於第四位置P4後,第四基板固持組件362將會向下移動,而將位於第四位置P4的第二承載台351上的基板C取起。接著,第二承載台351將會由第四位置P4移動至第三位置P3,而第四基板固持組件362將會把其所固持的基板C置放於位於第二活動空間32中的載具B中。
依上所述,第二基板處理設備3將反覆地執行上述作動,以持續地將通過雷鑽設備1後的基板C,置放於位於第二活動空間32的載具B中。當然,第二基板處理設備3所包含的第二暫存機構35及第二移載機構36的作動流程,不以上述說明為限,在實際應用中,也可以是依據需求加以變化。
綜上所述,本發明的基板處理系統100通過第一基板處理設備2及第二基板處理設備3等設計,可以與自動搬運車A相互配合,而使自動搬運車A所載運的載具B中的基板C,能夠被自動地送入雷鑽設備1中,且通過雷鑽設備1進行雷鑽作業後的基板C,也能自動地被移入自動搬運車A的載具B中,而在上述整個作業流程中,可以是完全無須人工的參與。
請一併參閱圖8至圖9,其為本發明的基板處理系統的第二基板處理設備處理兩個被認定為不良品的基板的作動示意圖。在實際應用中,第二暫存機構35還可以包含一第三承載台353及一第三活動組件354。第三承載台353用以承載被雷鑽設備1認定為不良品的基板。第三承載台353與第三活動組件354連接,而第三承載台353能通過第三活動組件354於一第五位置P5(如圖8所示)及一第六位置P6(如圖9所示)之間移動。具體來說,第三活動組件354例如可以是包含有驅動源(例如馬達)、連動件(例如滾輪)及皮帶等構件,而第三承載台353則是與兩個皮帶相連接,驅動源被控制而作動時,則能通過連動件帶動皮帶作動,據以使第三承載台353活動。
第三承載台353位於第二承載台351的下方,且第二承載台351的移動路徑,不與第三承載台353的移動路徑重疊,而第二承載台351及第三承載台353能被分別控制,以彼此相對活動。當第二承載台351位於第三位置P3,且第三承載台353位於第五位置P5時(如圖8所示),第三承載台353是對應位於第二承載台351的下方;相同地,當第二承載台351位於第四位置P4,且第三承載台353位於第六位置P6(如圖9所示)時,第三承載台353是對應位於第二承載台351的下方。
在實際應用中,雷鑽設備1可以判斷當前進行雷鑽作業的基板是否屬為不良品(為利方便說明,以下將統稱不良基板),雷鑽設備1的相關控制裝置判斷,雷鑽設備1中存在有不良基板時,雷鑽設備1則會向第二基板處理設備3發送相關訊號,而第二基板處理設備3的相關控制裝置接收到訊號後,則會據以控制第二承載台351及第三承載台353移動至特定的位置。
其中,第三基板固持組件361能將其所固持的被認定為不良品的基板,置放於位於第五位置P5(如圖8所示)的第三承載台353。第三基板固持組件361也能取起位於第三位置P3的第二承載台351所承載的被認定為不良品的基板。第四基板固持組件362能將其所固持的被認定為不良品的基板,置放於位於第六位置P6(如圖9所示)的第三承載台353,或者,置放於位於第四位置P4的第二承載台351。
具體來說,當第三基板固持組件361及第四基板固持組件362分別固持不良基板NG1、NG2時,雷鑽設備1可以先傳遞相關訊號至所述第二基板處理設備3,而第二基板處理設備3所包含的相關控制裝置,則會控制第二活動組件352及第三活動組件354,以使第二承載台351位於第四位置P4(即位於第二活動空間32的載具B的上方),並使第三承載台353位於第五位置P5(如圖8所示)。而後,第三基板固持組件361及第四基板固持 組件362將兩個不良基板NG1、NG2,由雷鑽設備1中移出後,第三基板固持組件361及第四基板固持組件362將會把不良基板NG1、NG2分別置放於第三承載台353及第二承載台351中。
當第二承載台351及第三承載台353分別承載有不良基板NG2、NG1時,第二活動組件352將被控制,而第二承載台351將由第四位置P4移動至第三位置P3,第二承載台351則會位於第三承載台353的上方,且位於第三基板固持組件361的下方。
接著,第三基板固持組件361將會取起位於第三位置P3的第二承載台351所承載的不良基板NG2,第二活動組件352將會再次被控制,而第二承載台351將由第三位置P3移動至第四位置P4(即載具B的上方),藉此,第三基板固持組件361即可將其所固持的不良基板NG2置放於位於第五位置P5(如圖8所示)的第三承載台353中。如此,兩個不良基板NG1、NG2都將被置放於第三承載台353中。
在第三基板固持組件361及第四基板固持組件362分別將正常基板OK及不良基板NG2移出雷鑽設備1的情境中,第二承載台351將被控制而移動至第三位置P3(位於第三基板固持組件361的下方),第三承載台353將被控制而移動至第六位置P6(即如圖9所示,位於第四基板固持組件362的下方,且位於載具B的上方)。
而後,第三基板固持組件361及第四基板固持組件362將會把正常基板OK及不良基板NG2,分別置放於第二承載台351及第三承載台353中。接著,第二承載台351將被控制而移動至第四位置P4,且第三承載台353將被控制,而移動至第五位置P5(如圖8所示)。而後,第四基板固持組件362將會取起位於第四位置P4的第二承載台351所承載的正常基板OK,最後,第二承載台351會被控制而移動至第三位置P3(即第三承載台353的上方),第四基板固持組件362則能將正常基板OK置放於載具B 中。
在第四基板固持組件362及第四基板固持組件362分別將不良基板NG1及正常基板OK移出雷鑽設備1的情境中,第二承載台351將被控制而移動至第四位置P4(位於第四基板固持組件362的下方,且位於載具B的上方),第三承載台353將被控制而移動至第五位置P5(位於第三基板固持組件361的下方)。
而後,第三基板固持組件361將會把不良基板NG1置放於第三承載台353中。接著,未承載有基板的第二承載台351,將被控制而移動至第三位置P3,並未於第三承載台353的上方。最後,第四基板固持組件362將會把其所固持的正常基板OK,置放於載具B中。需說明的是,在實際應用中,第三基板固持組件361、第四基板固持組件362、第二承載台351及第三承載台353相互配合,以將不良基板置放於第三承載台353中的作動流程,不以上述說明為限。
另外,第三承載台353還可以是設置有至少一感測器(例如各式光遮斷式感測器)。當第三承載台353中所承載的不良基板的數量,到達預定數量時,感測器可以是傳遞相關訊號至第二基板處理設備3的相關控制裝置,而控制裝置則可控制相關警示裝置作動,以提醒相關人員前來取出第三承載台353中的所有不良基板。當然,在特殊的實施例中,第三基板固持組件361、第四基板固持組件362、第二承載台351及第三承載台353也可以是相互配合,已將第三承載台353中的所有不良基板,移動至位於第二活動空間32中的載具B中。
請一併參閱圖1及圖10,圖10為本發明的基板處理系統的另一實施例的基板翻轉設備及第三移載機構的局部示意圖。本實施例與前述實施例最大不同之處在於:基板處理系統100還包含一基板翻轉設備4及一第三移載機構5。第三移載機構5用以將位於第四位置P4的第二承載台351上的基板 C,移載至基板翻轉設備4,基板翻轉設備4用以將基板C翻轉180度。
第三移載機構5能將通過基板翻轉設備4翻轉180度後的基板C移載至位於第四位置P4的第二承載台351上,且第三移載機構5能將翻轉180度後且設置於第二承載台351上的基板C,移載至雷鑽設備1中,以使雷鑽設備1對翻轉180度後的基板C進行雷鑽作業,藉此,使基板C的雙面都被雷鑽設備1進行雷鑽作業。
為利使雷鑽設備1能夠正確地於基板C上的預定位置進行雷鑽作業,第二暫存機構35還可以包含多個第二整板組件(圖未示),多個第二整板組件與第二承載台351相連接。多個第二整板組件用以對第二承載台351上的基板C進行整板作業,而第三移載機構5是用以將通過第二整板組件進行整板作業後的基板C,送入雷鑽設備1中。所述第二整板組件是與前述的第一整板組件253相同,於此不再贅述。
在實際應用中,第二承載台351、第三基板固持組件361、第四基板固持組件362及第二整板組件彼此間的相互配合的作動流程,可以是與前述第一承載台251、第二基板固持組件262、第三基板固持組件361及第一整板組件253彼此間的相互配合的作動流程相同,於此不再贅述。
需說明的是,當翻轉180度後的基板C,通過雷鑽設備1完成雷鑽作業後,第一移載機構26、第一暫存機構25、第一定位機構23及第一升降機構24能相互配合,以由雷鑽設備1中移出兩個基板C,並使基板C先後置放至位於第一活動空間22中的自動搬運車A上的載具B中。而後,自動搬運車A則能於第一活動空間22中,取走裝有雙面都完成雷鑽作業後的基板C的載具B。
依上所述,本實施例的基板處理系統100通過基板翻轉設備4、第三移載機構5及第二整板組件等設計,配合前述的第一基板處理設備2及第二基板處理設備3,可以自動地使基板C的雙面都通過雷鑽作業。
以上所述僅為本發明的較佳可行實施例,非因此侷限本發明的專利範圍,故舉凡運用本發明說明書及圖式內容所做的等效技術變化,均包含於本發明的保護範圍內。
100:基板處理系統
1:雷鑽設備
2:第一基板處理設備
21:機台本體
22:第一活動空間
3:第二基板處理設備
31:機台本體
32:第二活動空間
4:基板翻轉設備
A:自動搬運車
B:載具
C:基板

Claims (11)

  1. 一種基板處理系統,其包含: 至少一自動搬運車; 一雷鑽設備,其用以對至少一基板進行雷鑽作業; 一第一基板處理設備,其包含: 一第一活動空間,其用以提供所述自動搬運車停放; 一第一定位機構,其用以固持停放於所述第一活動空間的所述自動搬運車所承載的至少一個載具,所述載具用以承載至少一個所述基板; 一第一暫存機構,其包含一第一承載台及多個第一整板組件,所述第一承載台用以承載所述基板,多個所述第一整板組件用以對所述第一承載台上的所述基板進行整板作業; 一第一移載機構,其用以將所述載具所承載的所述基板移載至所述第一承載台,且所述第一移載機構用以將所述基板移載至所述雷鑽設備; 一第二基板處理設備,其包含: 一第二活動空間,其用以提供所述自動搬運車停放; 一第二定位機構,其用以固持停放於所述第二活動空間的所述自動搬運車所承載的至少一個所述載具; 一第二暫存機構,其包含一第二承載台,所述第二承載台用以承載所述基板,所述第二承載台能被控制,而移動至位於所述第二活動空間的所述載具的上方,或離開所述第二活動空間的所述載具的上方; 一第二移載機構,其用以將通過所述雷鑽設備後的所述基板移載至位於所述第二活動空間的所述自動搬運車的所述載具中;所述第二移載機構能將通過所述雷鑽設備的所述基板移載至所述第二承載台,且所述第二移載機構能將所述第二承載台上的所述基板取起。
  2. 如請求項1所述的基板處理系統,其中,所述第一基板處理設備還包含一第一升降機構,所述第一升降機構與所述第一定位機構連接,所述第一升降機構用以使固持有所述載具的所述第一定位機構向靠近或遠離位於所述第一活動空間的所述自動搬運車的方向移動,且所述第一升降機構、所述第一定位機構及所述第一移載機構能相互配合,以將所述載具所承載的所述基板移入所述雷鑽設備。
  3. 如請求項2所述的基板處理系統,其中,所述第一升降機構包含兩個第一支撐臂及一動力源,兩個所述第一支撐臂連接所述動力源,所述動力源能被控制,以使兩個所述第一支撐臂向靠近或遠離位於所述第一活動空間中的所述自動搬運車的方向移動;所述第一定位機構包含多個定位組件及多個校正組件,多個所述定位組件及多個所述校正組件設置於兩個所述第一支撐臂,多個所述定位組件用以固持位於所述第一活動空間的所述載具,多個所述校正組件用以校正位於所述第一活動空間中的所述載具的位置。
  4. 如請求項1所述的基板處理系統,其中,所述第一暫存機構還包含一第一活動組件,所述第一承載台與所述第一活動組件相連接,而所述第一承載台能於一第一位置及一第二位置之間活動;所述第一移載機構包含一第一基板固持組件及一第二基板固持組件,所述第一基板固持組件及所述第二基板固持組件並排地設置;所述第一基板固持組件能固持位於所述第一活動空間的所述載具中的所述基板,且所述第一基板固持組件能將所述基板置放於位於所述第一位置的所述第一承載台,所述第一基板固持組件也能取起位於所述第一位置的所述第一承載台上的所述基板;所述第二基板固持組件能將所述基板置放於位於所述第二位置的所述第一承載台,所述第二基板固持組件也能取起位於所述第二位置的所述第一承載台上的所述基板;所述第一基板固持組件及所述第二基板固持組件能一同將其所固持的所述基板移載至所述雷鑽設備中。
  5. 如請求項1所述的基板處理系統,其中,所述第二基板處理設備還包含一第二升降機構,所述第二升降機構與所述第二定位機構連接,所述第二升降機構用以使固持有所述載具的所述第二定位機構向靠近或遠離位於所述第二活動空間的所述自動搬運車的方向移動,且所述第二升降機構、所述第二定位機構及所述第二移載機構能相互配合,以將所述雷鑽設備中的所述基板移載至位於所述第二活動空間的所述自動搬運車上的所述載具中。
  6. 如請求項5所述的基板處理系統,其中,所述第二升降機構包含兩個第二支撐臂及一動力源,兩個所述第二支撐臂連接所述動力源,所述動力源能被控制,以使兩個所述第二支撐臂向靠近或遠離位於所述第二活動空間中的所述自動搬運車的方向移動;所述第二定位機構包含多個定位組件及多個校正組件,多個所述定位組件及多個所述校正組件設置於兩個所述第二支撐臂,多個所述定位組件用以固持位於所述第二活動空間的所述載具,多個所述校正組件用以校正位於所述第二活動空間中的所述載具的位置。
  7. 如請求項1所述的基板處理系統,其中,所述第二暫存機構還包含一第二活動組件,所述第二移載機構能將通過所述雷鑽設備的所述基板,移載至所述第二承載台,所述第二承載台與所述第二活動組件相連接,而所述第二承載台能於一第三位置及一第四位置之間活動;所述第二移載機構包含一第三基板固持組件及一第四基板固持組件,所述第三基板固持組件及所述第四基板固持組件並排地設置;所述第三基板固持組件能將所述雷鑽設備中的所述基板置放於位於所述第三位置的所述第二承載台,且所述第三基板固持組件能取起位於所述第三位置的所述第二承載台上的所述基板;所述第四基板固持組件能將所述雷鑽設備中的所述基板置放於所述第二活動空間的所述自動搬運車上的所述載具中,且所述第四基板固持組件能取起位於所述第四位置的所述第二承載台上的所述基板。
  8. 如請求項7所述的基板處理系統,其中,所述基板處理系統還包含一基板翻轉設備及一第三移載機構,所述第三移載機構用以將位於所述第四位置的所述第二承載台上的所述基板,移載至所述基板翻轉設備中,所述基板翻轉設備用以將所述基板翻轉180度,且所述第三移載機構能將通過所述基板翻轉設備翻轉180度後的所述基板移載至位於所述第四位置的所述第二承載台上;所述第四基板固持組件能將翻轉180度後且設置於所述第二承載台上的所述基板,移載至所述雷鑽設備中,以使所述雷鑽設備對翻轉180度後的所述基板進行雷鑽作業。
  9. 如請求項8所述的基板處理系統,其中,所述第二暫存機構還包含多個第二整板組件,多個所述第二整板組件與所述第二承載台相連接,且多個所述第二整板組件用以對所述第二承載台上的所述基板進行整板作業。
  10. 如請求項9所述的基板處理系統,其中,所述第三基板固持組件及所述第四基板固持組件能分別將設置於所述第二承載台上,被多個所述第二整板組件整板後的所述基板,送入所述雷鑽設備中;所述第一移載機構、所述第一定位機構及所述第一暫存機構能相互配合,以將通過所述雷鑽設備後的所述基板,移載至位於所述第一活動空間中的所述自動搬運車的所述載具中。
  11. 如請求項7所述的基板處理系統,其中,所述第二暫存機構還包含一第三承載台及一第三活動組件,所述第三承載台與所述第三活動組件相連接,而所述第三承載台位於所述第二承載台下方,且所述第二承載台及所述第三承載台能彼此相對移動,而所述第三承載台能於一第五位置及一第六位置之間活動;所述第三基板固持組件能將其所固持的被認定為不良品的所述基板,置放於位於所述第五位置的所述第三承載台;所述第三基板固持組件能取起位於所述第三位置的所述第二承載台所承載的被認定為不良品的所述基板;所述第四基板固持組件能將其所固持的被認定為不良品的所述基板,置放於位於所述第六位置的所述第三承載台,或者,置放於位於所述第四位置的所述第二承載台。
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