TWI822888B - 光學構件用膜狀物、光學構件用組成物及光學構件 - Google Patents

Abstract

一種光學構件用膜狀物，其於固體成分100質量%中含有15質量%以上的有機色素，所述光學構件用膜狀物的特徵在於：該光學構件具有光入射面及與其不同的光出射面，且於包含與該膜狀物相同的構成成分的薄膜(其中，該薄膜的厚度設為在測定吸收光譜時極大吸收波長下的吸光度為2以下的厚度)的吸收光譜中，當將極大吸收波長設為X'(nm)、將較極大吸收波長更長的波長區域內吸光度為0的波長設為Y'(nm)、將極大吸收波長下的消光係數設為k'時，滿足下述式(5)及式(6)。

k'≧0.6...式(5)

(Y'-X')/k'≦350...式(6)

本發明提供一種於近紅外區域顯示出高折射率及高透射率的光學構件用膜狀物。

Description

光學構件用膜狀物、光學構件用組成物及光學 構件

本發明是有關於一種光學構件用膜狀物及光學構件用組成物。詳細而言是有關於一種於近紅外區域顯示出高折射率及高透射率的光學構件用膜狀物、可容易地製造此種膜狀物的光學構件用組成物、以及具有該光學構件用膜狀物的光學構件。

光學構件根據其用途而要求對於特定波長的光的折射率高且透射率高等適合於該光學構件的光學特性。

專利文獻1中提出有折射率為1.561、波長為850nm及750nm的光的透射率為80%以上的SiO₂-TiO₂玻璃粒子。該SiO₂-TiO₂玻璃粒子於波長800nm的近紅外區域顯示出高的透光率，但折射率並不足夠高。另外，SiO₂-TiO₂玻璃粒子於製造時需要在高溫下加熱，因此不僅其自身的製造並不容易，而且加工為膜狀時的加工性亦差。

於考慮到對膜狀物的加工性或生產性的情況下，認為相較於如玻璃粒子般的無機材料，更佳為應用有機材料。

非專利文獻1中報告有苝系色素的折射率存在波長依存性，且折射率隨著靠近長波長側而逐漸降低。但是，非專利文獻1 中是於金屬製的基板上形成厚度2nm的極薄的膜，進行測定。另外，關於近紅外區域的折射率及透射率，未進行任何研究。

專利文獻1：日本專利特開平03-232741號公報

非專利文獻1：「物理評論B (Physical Review B)」：凝聚態物質(Condensed Matter) 2004年70卷195432頁

本發明的課題在於提供一種於近紅外區域顯示出高折射率及高透射率的光學構件用膜狀物及可容易地製造此種膜狀物的光學構件用組成物、以及使用該光學構件用膜狀物的光學構件。

本發明者等人獲得如下見解。

(1)對於沒有先例的近紅外區域的高折射率與高透射率的並存，重要的是：薄膜的極大吸收波長與吸光度為0的波長、極大吸收波長下的消光係數滿足一定的關係；以及以高斯函數之和來表示消光係數的光譜時，長波長側的峰值的高度除以峰值的標準偏差而得的值為一定值以上。

(2)一般而言，有光的波長越長折射率越低的傾向，但在可見光區域(具體而言，波長500nm的光)折射率低的有機色素，在更長波長側的近紅外區域折射率高。

(3)利用此種有機色素的在極大吸收波長的長波長側折射率變大的特性，藉由選擇使用波長500nm下的折射率小的有機色素，可使所期望的近紅外區域中的高折射率與高透射率並存。

特別是極大吸收波長下的克吸光係數足夠大對於實現高折射 率而言重要，且極大吸收波長與吸光度為0的波長、極大吸收波長下的吸光度滿足一定的關係對於高透射率而言重要。

本發明以下述內容為主旨。

[1]一種光學構件用膜狀物，其特徵在於：於固體成分100質量%中含有15質量%以上的有機色素，該光學構件具有光入射面及與其不同的光出射面，且於包含與該膜狀物相同的構成成分的薄膜(其中，該薄膜的厚度設為在測定吸收光譜時極大吸收波長下的吸光度為2以下的厚度)的吸收光譜中，當將極大吸收波長設為X'(nm)、將較極大吸收波長更長的波長區域內吸光度為0的波長設為Y'(nm)、將極大吸收波長下的消光係數設為k'時，滿足下述式(5)及式(6)。

k'≧0.6...式(5)

(Y'-X')/k'≦350...式(6)

[2]一種光學構件用膜狀物，其特徵在於：於固體成分100質量%中含有15質量%以上的有機色素，該光學構件具有光入射面及與其不同的光出射面，且於該膜狀物的吸收光譜中，當將消光係數k'的光譜表示為多個高斯函數之和時，該高斯函數中，關於其峰值的高度較極大吸收波長下的消光係數k'的極大值的20%更大且其峰值的高度處於最長波長側的高斯函數，其峰值高度除以標準偏差而得的值為0.008以上，且該消光係數k'的光譜的面 積為0.1以上。

[3]如[1]或[2]所述的光學構件用膜狀物，其中換算為膜厚1μm時的，波長800nm以上且1100nm以下的範圍內的任意的波長W(nm)的透射率為80%以上。

[4]如[1]~[3]中任一項所述的光學構件用膜狀物，其膜厚為1μm以上。

[5]如[1]~[4]中任一項所述的光學構件用膜狀物，其為非晶(amorphous)。

[6]如[1]~[5]中任一項所述的光學構件用膜狀物，其中所述有機色素為選自由花青系色素、方酸系色素、偶氮系色素、酞青系色素、萘酞青系色素及苝系色素所組成的群組中的至少一種。

[7]如[1]~[6]中任一項所述的光學構件用膜狀物，其中所述有機色素為選自由下述通式(10)所表示的化合物、下述通式(11)所表示的化合物、下述通式(12)所表示的化合物、下述通式(13)所表示的化合物及下述通式(17)所表示的化合物所組成的群組中的至少一種。

[化1]

所述通式(10)中，R⁵⁰~R⁵³分別獨立地為氫原子或者可分支的碳數1~10的烷基。

R⁵⁴為氫原子或者氟、氯、溴或碘的鹵素原子。

R⁵⁵、R⁵⁶均為氫原子，或者R⁵⁵與R⁵⁶鍵結而形成碳數4~8的環烯烴環。

R⁵⁷~R⁶⁴為氫原子或者可分支的碳數1~10的烷基，但R⁵⁷~R⁶⁴中的任意相鄰的兩個基可相互鍵結而形成與取代有該些基的苯環縮合的苯環。

B¹、B²分別獨立地為-CH₂-、-CHR⁶⁵-、-CR⁶⁶R⁶⁷-、-NH-、-NR⁶⁸-、-O-、或-S-。

R⁶⁵~R⁶⁸分別獨立地為可分支的碳數1~10的烷基。

A^-表示一價陰離子。

[化2]

所述通式(11)中，R⁷⁵~R⁷⁸分別獨立地為氫原子或者可分支的碳數1~10的烷基。

R⁷⁹為氫原子或者氟、氯、溴或碘的鹵素原子。

R⁸⁰、R⁸¹均為氫原子，或者R⁸⁰與R⁸¹鍵結而形成碳數4~8的環烯烴環。

R⁸²~R⁸⁹為氫原子或者可分支的碳數1~10的烷基，但R⁸²~R⁸⁹中的任意相鄰的兩個基可相互鍵結而形成與取代有該些基的苯環縮合的苯環。

B³、B⁴分別獨立地為-CH₂-、-CHR⁶⁹-、-CR⁷⁰R⁷¹-、-NH-、-NR⁷²-、-O-、或-S-。

R⁶⁹~R⁷²分別獨立地為可分支的碳數1~10的烷基。

A^-表示一價陰離子。

[化3]

通式(12)中，C¹~C⁴分別獨立地為氫原子、羥基、或者碳數1~11的醯基醯胺基。其中，於通式(12)所包含的亞甲基上可具有任意的取代基。

通式(13)中，C⁵、C⁶分別獨立地為氫原子、羥基、或者碳數1~11的醯基醯胺基。其中，於通式(13)所包含的亞甲基上可具有任意的取代基。

Ar¹表示下述通式(14)~通式(16)中的任一者所表示的結構。

通式(14)~通式(16)中，C⁷~C¹²分別獨立地為氫原子、羥基、或者碳數1~11的醯基醯胺基。

R⁹⁰~R⁹⁴分別獨立地為碳數1~10的烷基、芳基或者雜芳基。其中，相鄰的基彼此可鍵結而形成環。另外，式(14)~式(16)中的氫原子可經可分支的碳數1~10的烷基取代。

通式(17)中，R¹⁰⁰~R¹⁰³分別獨立地為可分支的碳數1~20的烷基、或碳數3~20的環烷基。

R¹⁰⁴~R¹¹⁵分別獨立地為氫原子、氟、氯、溴或碘的鹵素原子、可分支的碳數1~20的烷基、或者碳數3~20的環烷基，但R¹⁰⁴~R¹¹⁵中的任意相鄰的兩個基可相互鍵結而形成與該些基所鍵結的苯環縮合的環。另外，R¹⁰⁴~R¹¹⁵中的至少三個基含有溴原子。

M為Mg、Pd、Fe、Zn、Cu、Pb、Co、Ba、Ti或Ni。

[8]一種光學構件，其具有如[1]至[7]中任一項所述的光學構件用膜狀物。

[9]一種光學構件用組成物，其特徵在於：於固體成分100質量%中含有15質量%以上的有機色素，該有機色素為在利用該有機色素的10mg/L溶液測定吸收光譜時，在500nm以上且900nm以下的波長範圍具有極大吸收，當將該極大吸收波長設為X(nm)、將較該極大吸收波長更長的波長區域內吸光度為0的波長設為Y(nm)、將該極大吸收波長下的吸光度設為A時，滿足下述式(3)及式(4)者，且該光學構件具有光入射面及與其不同的光出射面。

A≧0.6...式(3)

(Y-X)/A≦500...式(4)

[10]如[9]所述的光學構件用組成物，其中所述有機色素為選自由花青系色素、方酸系色素、偶氮系色素、酞青系色素、萘酞青系色素及花系色素所組成的群組中的至少一種。

根據本發明，提供一種於波長800nm以上且1100nm以下的近紅外區域可使高折射率與高透射率並存的光學構件用膜狀物。

本發明的光學構件用膜狀物及使用了本發明的光學構件用組成物的膜狀物，利用能夠容易地製造並且該膜狀物的加工亦容易、於近紅外區域為高折射率及高透射率的特性，可較佳地用於具有光入射面及與其不同的光出射面的光學構件。

本發明的光學構件用膜狀物及光學構件用組成物由於對可見光區域的光的折射率小，因此能夠減少可見光的反射。

圖1為實施例18的膜狀物與色素O粉末的X射線繞射(X-Ray Diffraction，XRD)測定圖。

以下，詳細說明本發明的實施方式。本發明並不限定於以下說明的任何內容，可於本發明的主旨的範圍內進行各種變更來實施。

於本發明中，「固體成分」是指除溶劑以外的本發明的光學構件用膜狀物或者本發明的光學構件用組成物中所包含的全部成分。

〔光學構件用膜狀物〕

本發明的光學構件用膜狀物(以下有時稱為「本發明的膜狀物」)是於固體成分100質量%中含有15質量%以上的有機色素的光學構件用膜狀物，該光學構件具有光入射面及與其不同的光出射面，且滿足下述(I)及/或(II)的必要條件。

必要條件(I)：於包含與該膜狀物相同的構成成分的薄膜(其中，該薄膜的厚度設為在測定吸收光譜時極大吸收波長下的吸光度為2以下的厚度)的吸收光譜中，當將極大吸收波長設為X'(nm)、將較極大吸收波長更長的波長區域內吸光度為0的波長設為Y'(nm)、將極大吸收波長下的消光係數設為k'時，滿足下述式(5)及式(6)。

k'≧0.6...式(5)

(Y'-X')/k'≦350...式(6)

必要條件(II)：於所述膜狀物的吸收光譜中，當以多個高斯函數之和表示消光係數k'的光譜時，關於該高斯函數的峰值的高度較極大吸收波長下的消光係數k'的極大值的20%更大者中處於最長波長側的高斯函數，峰值高度除以標準偏差而得的值為0.008 以上，且該消光係數k'的光譜的面積為0.1以上。

<有機色素的含量>

本發明的光學構件用膜狀物於固體成分100質量%中含有15質量%以上的有機色素，其含量的上限可為100質量%。由於作為膜狀物的構成材料的克吸光係數以及消光係數的值有降低的傾向，因此有機色素的含量不足15質量%時，有時無法達成必要條件(I)及/或必要條件(II)。本發明的光學構件用膜狀物的固體成分100質量%中的有機色素的含量的下限較佳為30質量%以上，更佳為40質量%以上，特佳為50質量%以上。另一方面，於加熱熔融而形成膜狀物等情況下，若有機色素的含量過高，則有時在正冷卻的過程中結晶生長，無法獲得膜質優異的膜狀物，因此本發明的光學構件用膜狀物的固體成分100質量%中的有機色素的含量的上限較佳為99質量%以下，更佳為95質量%以下，進而佳為90質量%以下，特佳為80質量%以下。藉由本發明的光學構件用膜狀物中的有機色素的含量為所述下限以上，容易達成必要條件(I)及/或必要條件(II)，另一方面，藉由為所述上限以下，能夠確保用於提高成膜性的其他成分的所需量，使膜狀物的形成變得容易。

<光入射面及光出射面>

可應用本發明的光學構件用膜狀物的光學構件具有光入射面及與其不同的光出射面。

對於該光入射面及光出射面的位置、原材料等並無特別限 制。關於可應用本發明的光學構件用膜狀物的光學構件，於下文進行敘述。

<必要條件I>

本發明的光學構件用膜狀物較佳為於包含與該膜狀物相同的構成成分的薄膜(其中，該薄膜的厚度設為在測定吸收光譜時極大吸收波長下的吸光度為2以下的厚度)的吸收光譜中，當將極大吸收波長設為X'(nm)、將較極大吸收波長更長的波長區域內吸光度為0的波長設為Y'(nm)、將極大吸收波長下的消光係數設為k'時，滿足下述式(5)及式(6)。

k'≧0.6...式(5)

(Y'-X')/k'≦350...式(6)

當本發明的膜狀物為能夠以充分的精度獲得吸收光譜的厚度的膜時，可使用本發明的膜狀物來測定吸收光譜，通常可使用如下的組成物來製作薄膜，並藉由該薄膜來進行吸收光譜的測定，所述組成物能夠形成包含與本發明的光學構件用膜狀物相同的構成成分的膜狀物。有時將該薄膜的吸收光譜稱為膜狀物的吸收光譜。此處，所謂薄膜是能夠以充分的精度獲得所觀測的吸收光譜的厚度的膜，且是極大吸收波長下的吸光度通常為2以下、較佳為1以下且通常為0.1以上、較佳為0.2以上的厚度的膜。此時的具體的膜厚通常為0.01μm以上，較佳為0.05μm以上，另外， 通常為0.5μm以下，較佳為0.2μm以下。再者，測定吸收光譜時，於本發明的膜狀物的膜厚過厚的情況下，可進行在任意方向切片(slice)、壓碎、於溶劑中稀釋後採用旋塗法等的加工，以便成為能夠以充分的精度獲得吸收光譜的薄膜，在此基礎上測定吸收光譜。

另外，所謂吸光度為0的波長，是指於較極大吸收波長更長的波長區域內吸光度為5%以下的最短波長。

本發明的膜狀物中，薄膜的極大吸收波長下的消光係數k'大則可於近紅外區域顯現出高折射率，因而較佳，通常較佳為0.6以上。即，式(5)較佳為k'≧0.6，更佳為k'≧1.0，進而佳為k'≧1.4，特佳為k'≧1.6。

就使高透射率與高折射率並存的觀點而言，式(6)的值較佳為於長波長側幾乎無吸收，通常為(Y'-X')/k'≦350，較佳為(Y'-X')/k'≦200，更佳為(Y'-X')/k'≦150，特佳為(Y'-X')/k'≦100。式(6)的值較小者較佳，但通常下限為(Y'-X')/k'≧10。

另外，Y'-X'的值亦同樣為較小者較佳，較佳為Y'-X'≦200，更佳為Y'-X'≦150，特佳為Y'-X'≦100。

由於Y'是吸光度為0的波長，因此與特定波長的透射率直接相關，較小者於近紅外區域的更廣範圍內透射率變高。雖然亦依存於所使用的近紅外區域，但較佳為Y'≦1100，更佳為Y'≦1000，特佳為Y'≦900。另一方面，於Y'小的情況下，吸收峰值為短波長， 長波長區域的折射率容易變小。因此，較佳為Y'≧700，更佳為Y'≧750，特佳為Y'≧800。

X'為極大吸收波長，就達成高折射率的方面而言較佳為更大。雖然亦取決於所使用的近紅外區域，但較佳為X'≧550，更佳為X'≧600，特佳為X'≧700。另一方面，若X'過大，則成為高透射率的近紅外區域容易變窄，因此較佳為X'≦900，更佳為X'≦850，特佳為X'≦800。

此處所謂「薄膜的吸收光譜」(亦稱為「膜狀物的吸收光譜」)，是指使用薄膜而測定的300nm以上且2000nm以下的波長範圍的吸收光譜，是指自總光線光譜中減去擴散透射光譜及擴散反射光譜而得到的光譜。

<必要條件(II)>

本發明的光學構件用膜狀物較佳為於該膜狀物的吸收光譜中，當以多個高斯函數之和來表示消光係數k'的光譜時，關於該高斯函數的峰值的高度較極大吸收波長下的消光係數k'的極大值的20%更大者中處於最長波長側的高斯函數，峰值高度除以標準偏差而得的值為0.008以上，且該消光係數k'的光譜的面積為0.1以上。

一般而言，已知有機色素即使在稀薄的溶液狀態下提供半值寬度小的尖銳光譜，於有機色素以高濃度存在的膜狀物中亦會提供寬度廣的光譜，至遠離極大吸收波長的波長為止存在吸收。於極大吸收波長的長波長側，有越接近極大吸收波長則折射 率越高的傾向，但為了作為膜狀物而成為高透射率，需要於較極大吸收波長更長的波長側吸光度為0。

先前，尚未知可於近紅外區域使高折射率與高透射率並存的材料，但本發明者等人進行了深入研究，結果可知藉由適當選擇具有一定特性的色素及組成物，可使近紅外區域的高折射率與高透射率高度並存。即可知，即使於多個吸收重疊而顯示出複雜形狀的光譜的情況下，亦將該光譜作為高斯函數之和進行分解，選擇處於最長波長側的峰值的底邊良好的色素(即，處於最長波長側的峰值銳利的色素)以及組成物，藉此可使高折射率與高透射率高度並存。

以高斯函數之和來表示消光係數k'的光譜的方法只要表達為適當地擬合而得的和則並無特別限制。通常，所使用的高斯函數的個數為5個以下，更佳為4個以下，進而佳為3個以下，特佳為2個以下。設定為當將高斯函數的中位數、標準偏差、高度設為變量，使擬合與實測值間的殘差的平方和最小時(最小二乘法)，增加高斯函數的個數，直至殘差的平方和低於消光係數k'的面積S的0.1%。決定中，使用作為表格計算軟體程式的微軟(Microsoft)公司的Excel 2010的附加程式即求解器。此處，峰值的高度較k'的極大值的20%更大、且中位數處於最長波長側的高斯函數中，儘可能尖銳者可使高折射率與高透射率並存。因此，該峰值高度除以標準偏差而得的值通常為0.008以上，較佳為0.009以上，更佳為0.02以上，特佳為0.03以上。

於本發明的膜狀物中，消光係數k的光譜的面積大則可於近紅外區域顯現出高折射率因而較佳。此處，消光係數k的光譜的面積是指於縱軸設為消光係數k'、橫軸設為以電子伏特為單位的能量軸的二維圖表中，由膜狀物的消光係數k的光譜及k=0所包圍的面積S。作為算出面積的橫軸的範圍，包含極大吸收波長下的消光係數k'，只要於區間的兩端，消光係數k'的值為極大吸收波長下的消光係數k'的5%以下即可，通常為380nm以上且1100nm以下的波長範圍，較佳為500nm以上且1000nm以下。即使於消光係數k'的值在所述範圍內不低於極大吸收波長下的消光係數k'的5%的情況下，最短波長亦設為380nm。作為面積S的算出方法，只要適當地算出則並無特別限定，通常可使用梯形公式以如下方式算出。

其中，將所求的面積的能量範圍設為x₀~x_p(eV)，將x_n的消光係數的值設為k'_n。作為x_n的刻度寬度，只要換算為波長而為5nm左右即可，但亦可為10nm左右，若為1nm左右則更佳。

消光係數k'的面積S通常為0.1以上，更佳為0.5以上， 特佳為0.8以上。

再者，如後述的實施例一項中所記載般，消光係數k'可藉由分析薄膜的吸收光譜的測定結果而準確地求出。另外，消光係數k'亦可藉由利用橢圓偏振計(ellipsometer)等進行測定而求出。

<必要條件(III)>

本發明的光學構件用膜狀物較佳為滿足下述必要條件(III)。

必要條件(III)：換算為膜厚1μm時的，波長800nm以上且1100nm以下的範圍內的任意的波長W(nm)的透射率為80%以上。

本發明的光學構件用膜狀物可使用以任意的膜厚而製成者來測定透射率，根據其測定結果，算出為適於目標用途的膜厚的膜狀物的透射率。但是，若相對於測定出的膜厚，適於目標用途的膜厚過大，則有時會將透射率估計得低。所測定的膜厚與適於目標用途的膜厚的差異較佳為10倍以內，更佳為5倍以內，進而佳為3倍以內，特佳為2倍以內。於用作厚度0.5μm~50μm的膜狀物的情況下，較佳為製成厚膜來測定透射率。適於透射率的測定的厚膜的膜厚較佳為0.1μm以上，更佳為0.5μm以上，特佳為1.0μm以上，另外，較佳為100μm以下，更佳為20μm以下，更佳為10μm以下。當本發明的膜狀物為能夠以充分的精度獲得透射率的厚度的膜時，可直接利用本發明的膜狀物測定透射率。

本發明的光學構件用膜狀物較佳為將以該方式由薄膜 的測定而獲得的透射率換算為膜厚0.08μm時的，波長800nm以上且1100nm以下的範圍內的任意的波長W(nm)的透射率為80%以上。該透射率更佳為90%以上，特佳為95%以上，最佳為98%以上。另外，將由更厚的膜的測定而獲得的透射率換算為膜厚1μm時的，波長800nm以上且1100nm以下的範圍內的任意的波長W(nm)的透射率較佳為80%以上。該透射率更佳為90%以上，特佳為95%以上，最佳為98%以上。另外，將由厚膜的測定而獲得的透射率換算為膜厚10μm時的，波長800nm以上且1100nm以下的範圍內的任意的波長W(nm)的透射率較佳為70%以上，該透射率更佳為80%以上，特佳為90%以上，最佳為95%以上。該些透射率越高越佳，其上限亦可為100%。

<必要條件(i)、必要條件(ii)>

本發明的光學構件用膜狀物較佳為進而滿足下述必要條件(i)及必要條件(ii)。

必要條件(i)：波長800nm以上且1100nm以下的範圍內的任意的波長W(nm)的透射率為50%以上，折射率為1.9以上。

必要條件(ii)：波長500nm下的折射率為1.7以下。

鑒於提供於近紅外區域顯示出高折射率及高透射率的膜狀物的本發明的課題，所述必要條件(i)的透射率為50%以上，較佳為60%以上，進而佳為70%以上，特佳為80%以上，最佳為90%以上。此處，透射率是指不包含因界面反射所引起的損失的值。

於用作膜狀物的情況下，膜整體的透射率最為重要，但 於形成多層膜的情況下或控制膜厚來使用的情況下，每單位膜厚的透射率亦重要。於用作膜狀物的情況下，以膜厚0.08μm換算的透射率通常為60%以上，較佳為80%以上，進而佳為90%以上，特佳為95%以上，最佳為98%以上。

另外，所述必要條件(i)的折射率為1.9以上，較佳為1.95以上，進而佳為2.0以上。

必要條件(i)的透射率及折射率越大越佳，對於其上限並無特別限制，但透射率的上限通常為100%以下，折射率的上限通常為3以下。

就防止反射的觀點而言，較佳為盡可能減小形成本發明的光學構件用膜狀物的界面處的可見光區域的折射率差，所述必要條件(ii)的折射率為1.7以下，較佳為1.6以下，進而佳為1.5以下。另外，必要條件(ii)的折射率的下限通常為1.0以上。

本發明的透射率及折射率的測定方法如下文實施例一項中所記載般。

<膜厚>

對於本發明的光學構件用膜狀物的膜厚並無特別限制，可根據所使用的用途及其大小而適當設定。通常其下限為0.01μm以上，較佳為0.1μm以上，更佳為0.5μm以上。另外，其上限通常為10000μm以下，較佳為2500μm以下，但亦可為200μm以下。

其中，當將本發明的膜狀物用於會聚紅外線的透鏡時，為了會聚一定面積的光，需要具有適當的厚度及形狀。於用作透 鏡的情況下，本發明的膜狀物的膜厚較佳為10μm以上，更佳為100μm以上，且較佳為10000μm以下，更佳為1000μm以下。

於將本發明的膜狀物用作高畫素的感測器或使近紅外線繞射的繞射光學元件時，本發明的膜狀物的膜厚較佳為0.5μm以上，更佳為1μm以上，另外，較佳為20μm以下，更佳為10μm以下。

當將本發明的膜狀物用於抑制近紅外光的反射、或使其高反射的構件時，為了在控制反射的波長下產生干涉，需要為經適當控制的膜厚，較佳為0.1μm以上，更佳為0.2μm以上，另外，較佳為2μm以下，更佳為設為1μm以下。

<其他的較佳必要條件>

於測定本發明的光學構件用膜狀物的XRD時，理想為不具有明確的繞射峰值，即為非晶。於在XRD光譜中可見銳利的繞射峰值的情況下，認為膜狀物中包含晶體結構，有因光的散射而導致透射率降低的傾向。

根據此種觀點，於測定本發明的光學構件用膜狀物的XRD時，較佳為寬度最小的繞射峰值的2θ的值為2°以上，更佳為3°以上，進而佳為4°以上，特佳為5°以上。

為了獲得穩定的光學特性，本發明的膜狀物理想為吸濕性低。25℃下的吸水率較佳為3%以下，更佳為1%以下，進而佳為0.5%以下，特佳為0.1%以下。

<光學構件用膜狀物的製造方法>

本發明的光學構件用膜狀物的製造方法並無特別限制，較佳為本發明的膜狀物是使用後述的本發明的光學構件用組成物來製造。

對於使用後述的本發明的光學構件用組成物來形成本發明的膜狀物的方法並無特別限制，可為真空蒸鍍法、塗佈或注入在室溫或高溫下處於熔融狀態的組成物的方法等不使用溶劑的乾式成膜法。於後述的本發明的光學構件用組成物含有溶劑的情況下，可採用藉由刮刀法、流延法、旋塗法、浸漬法等塗佈法來進行成膜的濕式成膜法。乾式成膜法中，塗佈或注入處於熔融狀態的組成物的方法由於不需要除去溶劑，因此能夠適用於廣泛的厚度或形狀，可採用塗佈於適當的基板上，或者在將模具置於基板間、基板上的過程中注入，根據需要藉由加熱或紫外線等活性能量線而使其硬化等方法等，因而較佳。於濕式成膜法的情況下，可藉由使用溶劑進行稀釋而由各種組合的組成物獲得均質的膜狀物，可採用在適當的基板上成膜本發明的光學構件用組成物，然後使所形成的塗膜乾燥而除去溶劑，進而根據需要藉由加熱或紫外線等活性能量線而使其硬化等方法。

於所述濕式成膜法中，塗膜的乾燥條件較佳為在20℃~120℃下進行0.5分鐘~30分鐘左右。

於進行加熱硬化的情況下，較佳為在50℃~250℃下進行1分鐘~30分鐘左右。

於藉由活性能量線來硬化的情況下，較佳為在室溫附近進行 數秒~30秒左右。

本發明的膜狀物可直接使用在適當的基板上成膜而得者，亦可自基板剝離而貼合於其他基板來使用。

亦可在兩塊基板間形成本發明的膜狀物。

作為基板的材質，除玻璃以外，亦可列舉聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate，PMMA)、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚醯亞胺等樹脂等。該些中，就低相位差、耐熱性及形狀穩定性的觀點而言，較佳為使用玻璃，就成本方面以及線膨脹率與組成物接近而言，較佳為使用樹脂。

基板上可形成硬塗層或配向膜、用於改善基板與組成物的潤濕性的膜、用於適當地控制界面間的折射率差的膜，亦可實施鹼清洗等表面處理。

作為將所述基板或本發明的膜狀物形成於基板上時調整間隔的方法，對基板的一部分製作適當形狀的槽、於平滑的基板間夾入間隔物等並無特別限制。作為間隔物，例如可列舉將具有呈所期望的間隔的粒徑的珠粒及環氧樹脂或丙烯酸酯等熱硬化性或光硬化性樹脂等混合而得者、或者具有所期望的厚度的樹脂及金屬膜等。

本發明的膜狀物亦可藉由將組成物注入至池後，於池內成膜而形成。作為注入至基板間的形成方法，可列舉真空注入法、使用毛細管現象的方法等。

〔光學構件〕

本發明的光學構件用膜狀物兼具高加工性及光學特性，因此可提供一種膜厚為一定以上並且於近紅外區域具有先前無法達成的高折射率及高透射率的光學構件。

本發明的光學構件用膜狀物可利用其特異性的光學特性，較佳地用於具有光入射面及與其不同的光出射面的光學構件等中。具體而言，可用於會聚紅外線的透鏡、藉由與低折射率材料組合而抑制近紅外光的反射的構件、或者不反射可見光而僅反射近紅外光的選擇反射膜、使近紅外線繞射的繞射光學元件等各種光學構件中。

具體而言，本發明的光學構件用膜狀物可用於使用垂直腔表面發光雷射(vertical cavity surface emitting laser，VCSEL)(面發光雷射)的以下用途中。

(1)家庭網路、資料通訊、雷射列印機、雷射雷達(LiDAR)等光通訊及成像用途

(2)生物組織感測器、生物組織分析、三維(3D)成像、手勢識別等生物特徵量測(biometrics)用途

(3)航空宇宙、夜視系統、照明等產業用感測器用途

本發明的光學構件包含膜厚為一定以上的膜狀物，於近紅外區域具有高折射率、高透射率。

作為本發明的光學構件的一實施方式，較佳為具有光入射面及與其不同的光出射面，且包括於固體成分100質量%中含有15質量%以上的有機色素的膜狀物者。如光記錄介質的記錄層 般，光入射面與光出射面為同一面的光學構件自本發明的具有光入射面及與其不同的光出射面的光學構件中排除。

該膜狀物的膜厚通常為1μm以上，較佳為3μm以上，進而佳為5μm以上，另外，通常為50μm以下，較佳為40μm以下，進而佳為30μm以下。

另外，本發明的光學構件中，波長800nm以上且1100nm以下的範圍內的任意的波長W(nm)的透射率通常為80%以上，較佳為90%以上。

[有機色素]

以下對本發明的光學構件用膜狀物及後述的本發明的光學構件用組成物中所包含的有機色素(以下有時稱為「本發明的有機色素」)進行說明。

<克吸光係數>

本發明的有機色素只要可滿足以上所述的本發明的光學構件用膜狀物或後述的本發明的光學構件用組成物的必要條件即可，並無特別限制，但本發明的有機色素較佳為極大吸收波長下的克吸光係數為50以上的色素。

於本發明的光學構件用組成物中，為了於近紅外區域成為高折射率，理想為作為組成物的吸光度大，有機色素的極大吸收波長下的克吸光係數越大，越容易將組成物的吸光度調整得大。若有機色素的極大吸收波長下的克吸光係數為50以上，則可獲得充分的折射率，另外容易與黏合劑樹脂等構築組成，故較佳。 根據同樣的觀點，有機色素的極大吸收波長下的克吸光係數更佳為80以上，進而佳為120以上，特佳為150以上。有機色素的極大吸收波長下的克吸光係數較高者更佳，但通常有機色素的極大吸收波長下的克吸光係數的上限為1000以下。有機色素的極大吸收波長下的克吸光係數可將有機色素溶解於氯仿、四氫呋喃、丙酮、乙醇、甲醇、乙酸乙酯等溶劑中製備濃度為1g/L的溶液，並測定該有機色素溶液的吸收光譜而求出。

再者，作為本發明的光學構件用組成物，亦較佳為其克吸光係數為以上所記載的範圍。

<式(3)、式(4)>

本發明的有機色素較佳為在利用該有機色素的10mg/L溶液測定吸收光譜時，在500nm以上且900nm以下的波長範圍具有極大吸收，當將該極大吸收波長設為X(nm)、將較該極大吸收波長更長的波長區域內吸光度為0的波長設為Y(nm)、將該極大吸收波長X(nm)下的吸光度設為A時，滿足下述式(3)及式(4)。

A≧0.6...式(3)

(Y-X)/A≦500...式(4)

此處，吸光度為0的波長是指在有機色素的10mg/L溶液中吸光度<0.01的最短波長。「溶液的吸收光譜」是指在300nm以上且1200nm以下的波長範圍測定的所述溶液的吸收光譜。

只要為滿足所述式(3)及式(4)的有機色素，則於製成膜狀物時適合作為滿足所述必要條件(I)及/或必要條件(II)、進而滿足必要條件(III)的有機色素。

對於本發明的有機色素的極大吸收波長X(nm)、吸收為0的波長Y(nm)並無特別限制，較佳為極大吸收波長X通常為600nm~850nm的範圍，較佳為750nm~850nm的範圍，吸收為0的波長Y通常為900nm~1100nm的範圍，較佳為900nm~1000nm的範圍。

另外，關於本發明的有機色素的10mg/L溶液中的極大吸收波長下的吸光度A，由於吸光係數(莫耳吸光係數)較高者有折射率變高的傾向，因此吸光度較大者較佳。吸光度A較佳為0.7以上，即式(3)較佳為A≧0.7，更佳為A≧0.9，進而佳為A≧1.5，特佳為A≧2.0。式(3)的值較大者較佳，但通常上限為10≧A。

就使高透射率與高折射率並存的觀點而言，式(4)的值較佳為於長波長側幾乎無吸收，較佳為(Y-X)/A≦250，更佳為(Y-X)/A≦200，進而佳為(Y-X)/A≦150，特佳為(Y-X)/A≦100。式(4)值較小者較佳，但通常下限為(Y-X)/A≧5。

<熔點>

若本發明的有機色素的熔點過高，則膜狀物製作時的加工性降低，若過低，則於作為光學構件使用時會引起狀態變化，可靠性降低，因而理想為具有適當的熔點。有機色素的熔點較佳為 100℃以上，更佳為130℃以上，進而佳為150℃以上，特佳為180℃以上，且較佳為400℃以下，更佳為350℃以下，進而佳為300℃以下，特佳為250℃以下，最佳為200℃以下。

於有機色素的熔點過高的情況下，可藉由混合使用多種有機色素，或者混合使用用於提高膜性的黏合劑成分來降低成膜溫度。於作為光學構件用組成物具有熔點的情況下，較佳為在所述範圍具有熔點。

<溶解度>

就製作具有厚度的膜狀物的方面而言，本發明的有機色素理想為相對於任意的溶劑具有高溶解度，相對於溶解度最高的溶劑而言的25℃下的溶解度較佳為0.5質量%以上，更佳為1.0質量%以上，進而佳為2.0質量%以上，特佳為5.0質量%以上。一般而言可藉由於有機色素中導入烷基等取代基來提高溶解性，但烷基等取代基有降低克吸光係數或消光係數的傾向，因而25℃下的溶解度較佳為40質量%以下，更佳為30質量%以下，進而佳為20質量%以下，特佳為15質量%以下。

<吸濕性>

為了獲得穩定的光學特性，本發明的有機色素理想為吸濕性低。本發明的有機色素的25℃下的吸水率較佳為3%以下，更佳為1%以下，進而佳為0.5%以下，特佳為0.1%以下。

<有機色素的具體例>

作為本發明的有機色素，並無特別限制，可選擇使用可達成 必要條件(I)及/或必要條件(II)、進而達成必要條件(III)者或滿足式(3)及式(4)者。進而，較佳為除了必要條件(III)以外，可較佳地達成必要條件(i)、必要條件(ii)，另外滿足所述克吸光係數的較佳範圍者。

作為本發明的有機色素，並無特別限制，較佳為選自由花青系色素、方酸系色素、偶氮系色素、酞青系色素、萘酞青系色素及苝系色素所組成的群組中的至少一種，其中，更佳為選自由方酸系色素、酞青系色素及花青系色素所組成的群組中的至少一種。

以下列舉該些有機色素的具體例。

<花青系色素>

作為花青系色素，例如可列舉以下色素。

[化7]

作為花青系色素，所述之中，較佳為以下的通式(6)、通式(10)、通式(11)所表示的化合物，特佳為以下的通式(10)、通式(11)所表示的化合物。

通式(6)中，R¹、R²分別獨立地表示氫原子或可分支的碳數1~10的烷基，其中較佳為甲基、乙基、正丙基、異丙基。R³~R⁹分別獨立地表示氫原子、碳數1~10的烷基、烯基、炔基或烷氧基，其中較佳為氫原子、甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、甲氧基或第三丁基。A^-為一價陰離子，表示雙-三氟甲磺醯基醯亞胺、雙-五氟乙磺醯基醯亞胺、雙-九氟丁磺醯基醯亞胺、三-三氟甲磺醯基甲基化物、三-五氟乙磺醯基甲基化物、三-九氟丁磺醯基甲基化物、1,1,2,2,3,3-六氟丙烷-1,3-二磺醯亞胺、六氟化磷、四(五氟苯基)硼酸酯、四苯基硼酸酯、氯、溴、碘、過氯酸、三氟甲磺酸或對甲苯磺酸，其中較佳為雙-三氟甲磺醯基醯亞胺、三-三氟甲磺醯基甲基化物、雙-九氟丁磺醯基醯亞胺、1,1,2,2,3,3-六氟丙烷-1,3-二磺醯亞胺、四(五氟苯基)硼酸酯。

所述通式(10)中，R⁵⁰~R⁵³分別獨立地為氫原子或者可分支的碳數1~10的烷基。其中，各碳原子可經任意個數的醚、硫醚、二級胺基或三級胺基、烯基、炔基、羰基、酯基、苯基取代，烷基上的氫原子可經任意個數的氟、氯、溴、碘的鹵素原子取代。

R⁵⁴為氫原子或者氟、氯、溴或碘的鹵素原子。

R⁵⁵、R⁵⁶均為氫原子，或者R⁵⁵與R⁵⁶鍵結而形成碳數4~8的環烯烴環。再者，環烯烴環上的碳原子可經任意個數的醚、硫醚、二級胺基或三級胺基、烯基、炔基、羰基、酯基取代。

R⁵⁷~R⁶⁴為氫原子或者可分支的碳數1~10的烷基，但R⁵⁷~R⁶⁴中的任意相鄰的兩個基可相互鍵結而形成與取代有該些基的苯環縮合的苯環。再者，可分支的碳數1~10的烷基可經任意個數的醚、硫醚、二級胺基或三級胺基、烯基、炔基、羰基、酯基、苯基取代，烷基上的氫原子可經任意個數的氟、氯、溴、碘 的鹵素原子取代。於任意相鄰的兩個基相互鍵結而形成與取代有該些基的苯環縮合的苯環的情況下，在所形成的苯環上可進而具有R⁵⁷~R⁶⁴可具有的取代基。

B¹、B²分別獨立地為-CH₂-、-CHR⁶⁵-、-CR⁶⁶R⁶⁷-、-NH-、-NR⁶⁸-、-O-、或-S-。

R⁶⁵~R⁶⁸分別獨立地為可分支的碳數1~10的烷基。

A^-表示一價陰離子，與通式(6)中的含義相同。

所述通式(11)中，R⁷⁵~R⁷⁸分別獨立地為氫原子或者可分支的碳數1~10的烷基。

R⁷⁹為氫原子或者氟、氯、溴或碘的鹵素原子。

R⁸⁰、R⁸¹均為氫原子，或者R⁸⁰與R⁸¹鍵結而形成碳數4~8的環烯烴環。

R⁸²~R⁸⁹為氫原子或者可分支的碳數1~10的烷基，但R⁸² ~R⁸⁹中的任意相鄰的兩個基可相互鍵結而形成與取代有該些基的苯環縮合的苯環。

B³、B⁴分別獨立地為-CH₂-、-CHR⁶⁹-、-CR⁷⁰R⁷¹-、-NH-、-NR⁷²-、-O-、或-S-。

R⁶⁹~R⁷²分別獨立地為可分支的碳數1~10的烷基。

A^-表示一價陰離子，與通式(6)中的含義相同。

作為通式(10)、通式(11)中的碳數1~10的烷基，其中較佳為甲基、乙基、正丙基、異丙基。

另外，通式(10)、通式(11)中，R⁵⁴及R⁷⁹較佳為氫原子或氯原子。若R⁵⁵與R⁵⁶、R⁸⁰與R⁸¹為氫原子、環己基、環戊基，則就抑制分子彼此的締合、降低內部吸收率的觀點而言更佳。

另外，R⁵⁰~R⁵³、R⁷⁵~R⁷⁸較佳為碳數1~4的可分支的烷基，更佳為碳數4的可分支的烷基。

進而，B¹~B⁴較佳為-NR⁶⁸-、-NR⁷²-。該情況下，R⁶⁸、R⁷²的烷基的碳數較佳為1~4，更佳為4。其原因在於有提高折射率，且降低內部吸收率的傾向。

<方酸系色素>

作為方酸系色素，例如可列舉以下色素。

[化11]

<偶氮系色素>

作為偶氮系色素，例如可列舉以下色素。

[化12]

[化13]

作為偶氮系色素，所述之中，較佳為具有以下的通式(7)所表示的結構者。

[化15]

通式(7)中，R¹⁰~R¹³分別獨立地表示氫原子或者可分支的碳數1~10的烷基、碳數2~10的烯基、碳數2~10的炔基、或碳數1~10的烷氧基。該些中，較佳為氫原子、甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第三丁基、甲氧基、乙氧基。

<酞青系色素>

作為酞青系色素，例如可列舉以下色素。

[化16]

[化17]

[化18]

[化19]

[化20]

<萘酞青系色素>

作為萘酞青系色素，例如可列舉以下色素。

[化21]

Rⁿ¹、ORⁿ²、Xⁿ³分別表示碳數1~10的烷基、碳數1~10的烷氧基、鹵素原子分別於n1、n2、n3個萘環的存在氫原子的部位的任意位置進行了取代。其中，對於一個氫原子基團，任意一個基團進行了取代，進行了取代的數量的合計為0~24的範圍。即，滿足0≦n1+n2+n3≦24。

藉由滿足該些，在各種溶劑中的溶解性得到改善，加工變得容易，可確保溶解性與折射率的並存。

<苝系色素>

作為苝系色素，例如可列舉以下色素。

[化22]

[化23]

<酞青>

通式(a)中，R¹⁰~R²⁵各自獨立地表示氫原子、鹵素原 子、羥基、可具有取代基的碳數1~20的烷基、碳數3~20的環烷基、可具有取代基的碳數1~20的烯基、可具有取代基的碳數1~20的炔基、可具有取代基的碳數1~20的烷基氧基、可具有取代基的碳數6~20的芳基、可具有取代基的碳數1~20的烷基胺基、可具有取代基的碳數2~20的二烷基胺基。其中，R¹⁰~R²⁵中相鄰的兩個基可相互鍵結而形成五員環、六員環或七員環。M表示兩個氫原子、金屬原子、金屬氧化物或金屬鹵化物。關於通式(a)的N與M的鍵結部分，虛線部分表示自N的配位鍵結或無鍵結。於M表示兩個氫原子的情況下，形成通式(a)中的N-M-N的部分表示為兩個N-H的結構。

作為通式(a)的M所表示的金屬原子，可列舉鐵、鎂、鎳、鈷、銅、鋁、鈀、鋅、釩、鈦、銦、鉛及錫等。作為通式(a)的M所表示的金屬氧化物，可列舉氧化鈦及氧化釩等。作為通式(a)的M所表示的金屬鹵化物，可列舉氯化鋁、氯化銦、氯化鍺、氯化錫(II)、氯化錫(IV)及氯化矽等。作為通式(a)中的M，較佳為鈀、銅、鋅、鈷、鎳、鐵、釩、鈦、氯化銦或氯化錫(II)、氧化釩，更佳為銅、鋅、釩或鈦，特佳為鈀、氧化釩。

[化25]

通式(17)中，R¹⁰⁰~R¹⁰³分別獨立地為可分支的碳數1~20的烷基、或碳數3~20的環烷基。

R¹⁰⁴~R¹¹⁵分別獨立地為氫原子、氟、氯、溴或碘的鹵素原子、可分支的碳數1~20的烷基、或者碳數3~20的環烷基，但R¹⁰⁴~R¹¹⁵中的任意相鄰的兩個基可相互鍵結而形成與該些基所鍵結的苯環縮合的環。另外，R¹⁰⁴~R¹¹⁵中的至少三個基含有溴原子。

M為Mg、Pd、Fe、Zn、Cu、Pb、Co、Ba、Ti或Ni。

通式(17)中，較佳為M為Mg或Pd，且R¹⁰⁰~R¹⁰³為(CH₃)₂CH-、(CH₃CH₂)₂CH-、環戊基、或環己基。其原因在於，藉由OR(R為R¹⁰⁰~R¹⁰³)的部分而保持高折射率，進而藉由設為該些基，分子的締合得到抑制，長波長側的內部吸收率得到改善。

<方酸(方酸內鎓(squarylium))>

[化26]

通式(b)中，z表示可具有取代基的吡咯環基，該吡咯環基的氮原子上可具有取代基。於形成吡咯環基的碳原子上可具有任意的取代基。作為該取代基，較佳可列舉：氟原子、氯原子、碳數1~20的烷基、碳數1~20的烷氧基、苯基、均三甲苯基、甲苯基、氰基、碳數2~20的烷氧基羰基、碳數2~20的烷基羰基、碳數2~20的PEG型羥基乙基、具有碳數2~20的烷基的醯胺基、碳數1~20的烷基鍵結而成的二取代或單取代胺基、三氟甲基、可具有碳數1~20的取代基的矽烷基、硝基、碳數1~20的烷硫基、具有氟原子的烷基、羥基等。就維持吡咯環的反應性與穩定性的觀點而言，較佳為碳數1~20的烷基，就化合物的合成容易性及溶解性的方面而言，較佳為碳數1~10的烷基。

作為該吡咯環基的氮原子上可具有的取代基，並無特別限定，就具有適度的溶解性的觀點而言，可較佳地列舉碳數1~20的烷基、可具有取代基的芳香族烴環基、可具有取代基的芳香族雜環基、碳數2~20的烷氧基羰基、碳數2~20的烷基羰基、可具有碳數1~20的取代基的矽烷基。

該些中，為了抑制化合物的螢光，z較佳為在2位及/ 或6位具有碳數1~20的烷基的苯基。另一方面，就化合物的溶解性的方面而言，z較佳為碳數1~12的烷基。該烷基中的具有一價游離原子價的碳原子可為一級、二級、三級的任一種，但就立體體積而言，更佳為二級或三級。

R²⁶及R²⁷各自獨立地表示可具有取代基的烷基。烷基可為直鏈狀，可為支鏈狀，亦可為環狀。烷基的碳數並無特別限定，較佳為2以上，更佳為4以上，且較佳為15以下，更佳為10以下。藉由將碳數設為所述範圍內，有可控制化合物的溶解度的傾向。

作為烷基的具體例，可列舉乙基、正丙基、2-丙基、正丁基、異丁基、第三丁基、正己基、正辛基、2-乙基己基、環戊基、環己基等。該些中，較佳為直鏈狀的烷基。

R²⁸、R²⁹各自獨立地表示任意的取代基。其中，R²⁶與R²⁸可鍵結而形成稠環，較佳為形成有稠環。R²⁷與R²⁹可鍵結而形成稠環，較佳為形成有稠環。

通式(b)中的環可更具有取代基。作為任意的取代基，較佳可列舉：碳數1~20的烷基、碳數1~20的烷氧基、碳數2~20的烷氧基羰基、碳數2~20的烷基羰基、碳數2~20的PEG型羥乙基、可具有碳數1~20的取代基的矽烷基、碳數1~20的烷硫基、具有氟原子的烷基等。該些中，就能夠使強的供電子性與平面性並存的觀點而言，較佳為烷基。

作為R²⁶與R²⁸、R²⁷與R²⁹鍵結而形成稠環者的具體例， 可列舉以下者。

作為通式(b)中的環可具有的取代基，並無特別限定，較佳可列舉：氟原子、氯原子、碳數1~20的烷基、碳數1~20的烷氧基、苯基、均三甲苯基、甲苯基、氰基、碳數2~20的烷氧基羰基、碳數2~20的烷基羰基、碳數2~20的PEG型羥乙基、具有碳數2~20的烷基的醯胺基、碳數1~20的烷基鍵結而成的二取代或單取代胺基、三氟甲基、可具有碳數1~20的取代基的矽烷基、硝基、碳數1~20的烷硫基、具有氟原子的烷基、羥基等。就維持吡咯環的反應性與穩定性的觀點而言，較佳為碳數1~20的烷基，就化合物的合成容易性及溶解性的方面而言，較佳為碳數1~10的烷基，就提高分子的吸光係數的觀點而言，較佳羥基或具有烷基的醯胺基。

[化28]

通式(c)中，R³⁰、R³¹、R³⁴及R³⁵各自獨立地表示可具有取代基的烷基。R³²、R³³、R³⁶、R³⁷各自獨立地表示任意的取代基。

R³⁰與R³²可鍵結而形成稠環，較佳為形成有稠環。R³¹與R³³可鍵結而形成稠環，較佳為形成有稠環。R³⁴與R³⁶可鍵結而形成稠環，較佳為形成有稠環。R³⁵與R³⁷可鍵結而形成稠環，較佳為形成有稠環。通式(c)中的環可更具有取代基。

R³⁰、R³¹、R³⁴及R³⁵與所述R²⁶、R²⁷含義相同，R³²、R³³、R³⁶、R³⁷與所述R²⁸、R²⁹含義相同。通式(c)中的環可具有的取代基與所述通式(b)中的環可具有的取代基含義相同。

通式(12)中，C¹~C⁴分別獨立地為氫原子、羥基、或者碳數1~11的醯基 醯胺基。其中，於通式(12)所包含的亞甲基上可具有任意的取代基。

通式(13)中，C⁵、C⁶分別獨立地為氫原子、羥基、或者碳數1~11的醯基醯胺基。其中，於通式(13)所包含的亞甲基上可具有任意的取代基。

Ar¹表示下述通式(14)~通式(16)中的任一者所表示的結構。

通式(14)~通式(16)中，C⁷~C¹²分別獨立地為氫原子、羥基、或者碳數1~11的醯基 醯胺基。

R⁹⁰~R⁹⁴分別獨立地為可具有取代基的碳數1~10的烷基、芳基、或者雜芳基。其中，相鄰的基彼此可鍵結而形成環。另外，式(14)~式(16)中的氫原子可取代為可分支的碳數1~10的烷基。

另外，該些中，較佳為C¹~C¹²為OH基。其原因在於，長波長側的吸收減少，透射率提高。

<花青>

通式(d)中，[M^m-]表示m價陰離子。

D表示選自(d-1)群組中的一種基，D'表示選自(d-2)群組 中的一種基。

(d-1)群組中，R⁴⁰、R⁴¹、R⁴²分別獨立地表示氫原子或可經取代的烷基。

(d-2)群組中，R⁴³、R⁴⁴、R⁴⁵分別獨立地表示氫原子或可經取代的烷基。

n表示1~3的整數。

另外，通式(d)中的次甲基部及環可更具有取代基。

通式(d)中的R⁴⁰、R⁴¹、R⁴²、R⁴³、R⁴⁴、R⁴⁵為氫原子或可經取代的烷基。

可經取代的烷基可為直鏈狀，可為支鏈狀，亦可為環狀。烷基的碳數並無特別限定，較佳為1以上，更佳為2以上，另外，較佳為15以下，進而佳為10以下，最佳為8以下。藉由使碳數在所述範圍內，有可控制化合物的溶解度的傾向。

作為烷基的具體例，可列舉：甲基、乙基、正丙基、2-丙基、正丁基、異丁基、第三丁基、正己基、正辛基、2-乙基己基、環戊基、環己基等。該些中，較佳為甲基、乙基、正丙基、2-丙基、正丁基、異丁基、第三丁基、正己基、正辛基、2-乙基己基。

通式(d)中的[M^m-]為m價陰離子。

就與陽離子的相互作用的觀點而言，m通常為1以上，另外，較佳為4以下，更佳為3以下，進而佳為2以下，特佳為1。藉由設為所述上限值以下，有耐熱性提高的傾向。

作為m價陰離子，並無特別限定，例如可列舉： F^-、Cl^-、Br^-、I^-等鹵化物離子；(C₆H₅)₄B^-(C₆F₅)₄B^-等硼陰離子；CH₃COO^-、C₂H₅COO^-、C₆H₅COO^-等羧酸根陰離子；SO₄ ^2-、HSO₄ ^-等硫酸根陰離子；HPO₄ ^2-、PO₄ ^3-等磷酸根陰離子；磺酸根陰離子等。

作為磺酸根陰離子，例如可列舉：三氟甲磺酸、甲磺酸、戊磺酸、己磺酸、庚磺酸、十二烷磺酸、樟腦磺酸等可具有取代基的脂肪族磺酸根陰離子；苯磺酸、對甲苯磺酸、1-萘磺酸、2-萘磺酸等可具有取代基的芳香族磺酸根陰離子；鹵代烷基磺醯基醯亞胺陰離子、鹵代烷基磺醯基甲基化物陰離子等。

該些中，就耐熱性的觀點而言，較佳為可具有取代基的鹵代烷基磺醯基醯亞胺陰離子、可具有取代基的鹵代烷基磺醯基甲基化物陰離子、(C₆F₅)₄B^-等。

關於通式(d)中的次甲基部及環可具有的取代基，並無特別限定，較佳可列舉：氟原子、氯原子、碳數1~20的烷基、碳數1~20的烷氧基、苯基、均三甲苯基、甲苯基、氰基、碳數2~20的烷氧基羰基、碳數2~20的烷基羰基、碳數2~20的PEG型羥乙基、具有碳數2~20的烷基的醯胺基、碳數1~20的烷基鍵結而成的二取代或單取代胺基、三氟甲基、可具有碳數1~20 的取代基的矽烷基、硝基、碳數1~20的烷硫基、具有氟原子的烷基、羥基等。就維持溶解度的觀點而言，較佳為碳數1~20的烷基，就提高莫耳吸光係數的觀點而言，作為次甲基上的取代基，較佳為氟、氯等鹵素原子，就化合物的合成容易性及溶解性的方面而言，作為環上的取代基，較佳為碳數1~10的烷基。

所述之中，本發明的有機色素較佳為所述通式(a)~通式(d)、通式(10)、通式(11)、通式(12)、通式(13)、通式(17)所表示的有機色素，其中，更佳為通式(10)、通式(11)、通式(12)、通式(13)、通式(17)所表示的有機色素。

於本發明的光學構件用膜狀物及光學構件用組成物中，可僅含有如上所述的有機色素的一種，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的有機色素的情況下，亦可為即使僅使用各個有機色素時不滿足本發明的較佳必要條件，亦藉由將該些組合使用而滿足以上所述的較佳必要條件者。

[光學構件用組成物]

本發明的光學構件用組成物(以下有時稱為「本發明的組成物」)於固體成分100質量%中含有15質量%以上的有機色素，所述光學構件用組成物的特徵在於：該有機色素為在利用該有機色素的10mg/L溶液測定吸收光譜時，在500nm以上且900nm以下的波長範圍具有極大吸收，當將該極大吸收波長設為X(nm)、將較該極大吸收波長更長的波長區域內吸光度為0的波長設為Y(nm)、將該極大吸收波長下的吸光度設為A時，滿足下述式(3) 及式(4)的上文所述的本發明的有機色素，且該光學構件具有光入射面及與其不同的光出射面。

A≧0.6...式(3)

(Y-X)/A≦500...式(4)

本發明的光學構件用組成物為於固體成分100質量%中含有15質量%以上的有機色素的組成物。除有機色素以外，本發明的光學構件用組成物中可根據用途等而亦含有後述的硬化劑、黏合劑成分等。

本發明的光學構件用組成物於固體成分100質量%中含有15質量%以上的有機色素，當形成為膜狀時，較佳為滿足下述必要條件(i)及必要條件(ii)。

必要條件(i)：波長800nm以上且1100nm以下的範圍內的任意的波長W(nm)的透射率為50%以上，折射率為1.9以上。

必要條件(ii)：波長500nm下的折射率為1.7以下。

此處，對於將本發明的光學構件用組成物形成為膜狀時的該膜的膜厚並無特別限制，可根據使用用途或其大小而適當設定。通常其下限為0.01μm以上，較佳為0.1μm以上，更佳為0.5μm以上。另外，其上限通常為10000μm以下，較佳為2500μm以下，但亦可為200μm以下。

鑒於提供於近紅外區域顯示出高折射率及高透射率的 膜狀物的本發明的課題，所述必要條件(i)的透射率為50%以上，較佳為60%以上，進而佳為70%以上，特佳為80%以上，最佳為90%以上。再者，此處透射率是指不包含由界面反射引起的損耗的值。

於用作膜狀物的情況下，膜整體的透射率最為重要，但於形成多層膜的情況下或控制膜厚來使用的情況下，每單位膜厚的透射率亦重要。於用作膜狀物的情況下，較佳為〔光學構件用膜狀物〕中記載的每單位膜厚的透射率。

另外，所述必要條件(i)的折射率為1.9以上，較佳為1.95以上，進而佳為2.0以上。

必要條件(i)的透射率及折射率越大越佳，對於其上限並無特別限制，但透射率的上限通常為100%以下，折射率的上限通常為3以下。

另外，於本發明的光學構件用組成物中，就防止反射的觀點而言，較佳為儘可能減小所形成的界面處的可見光區域的折射率差，所述必要條件(ii)的折射率為1.7以下，較佳為1.6以下，進而佳為1.5以下。另外，必要條件(ii)的折射率的下限通常為1.0以上。

所述透射率及折射率的測定方法如下文實施例一項中所記載般。

[有機色素]

關於本發明的光學構件用組成物中所包含的有機色素，如上 文本發明的有機色素中所述般。

於本發明的光學構件用組成物中，可僅含有如上所述的有機色素的一種，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的有機色素的情況下，亦可為即使僅使用各個有機色素時不滿足本發明的必要條件(i)及必要條件(ii)，亦藉由將該些組合使用而滿足必要條件(i)及必要條件(ii)者。

本發明的光學構件用組成物於固體成分100質量%中含有15質量%以上的本發明的有機色素，其含量的上限亦可為100質量%。由於折射率強烈依存於有機色素的含量，因此有機色素的含量不足15質量%時，有時無法達成必要條件(i)及必要條件(ii)。於本發明的光學材料用組成物的固體成分100質量%中，本發明的有機色素的含量的下限較佳為15質量%以上，更佳為30質量%以上，進而佳為40質量%以上，特佳為50質量%以上。另一方面，於加熱熔融而形成膜狀物等情況下，若有機色素的含量過高，則有時在正冷卻的過程中結晶生長，其上限較佳為99質量%以下，更佳為95質量%以下，進而佳為90質量%以下，特佳為80質量%以下。藉由本發明的光學構件用組成物中的本發明的有機色素的含量為所述下限以上，容易達成必要條件(i)及必要條件(ii)，另一方面，藉由為所述上限以下，能夠確保用於提高成膜性的其他成分的所需量，使膜狀物的形成變得容易。

[其他成分]

作為本發明的光學構件用組成物在本發明的有機色素以外可 含有的其他成分，可列舉用於提高膜性的黏合劑成分、硬化劑等，根據需要，亦可含有用於成膜的溶劑。

<黏合劑成分>

作為所述黏合劑，並無特別限制，可列舉熱塑性樹脂、硬化性樹脂及與該些對應的聚合前的單體、非揮發性的低分子化合物。

作為所述熱塑性樹脂，可列舉：高密度聚乙烯樹脂、(非直鏈狀)低密度聚乙烯樹脂、直鏈狀低密度聚乙烯樹脂、超低密度聚乙烯樹脂、超高分子量聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚丁二烯樹脂、環狀烯烴樹脂、聚甲基戊烯樹脂等聚烯烴樹脂；聚乙烯醇、聚乙烯醇縮丁醛、聚乙烯吡咯啶酮、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-乙烯醇共聚樹脂等乙烯系樹脂；聚苯乙烯樹脂、乙烯-丙烯酸乙酯共聚物、丙烯腈-苯乙烯樹脂、丙烯腈-氯化聚苯乙烯-苯乙烯共聚樹脂、丙烯腈-丙烯酸橡膠-苯乙烯共聚樹脂、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚樹脂、丙烯腈-EPDM(乙烯-丙烯-二烯單體)-苯乙烯共聚樹脂、矽醚橡膠-丙烯腈-苯乙烯共聚樹脂等聚苯乙烯系樹脂；乙酸丁酸纖維素(cellulose acetate butyrate)樹脂、硝基纖維素、乙酸纖維素樹脂等纖維素系樹脂；丙烯酸樹脂(甲基丙烯酸樹脂)、乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物、乙烯-丙烯酸乙酯共聚物等(甲基)丙烯酸酯系樹脂；氯乙烯樹脂、氯化聚乙烯樹脂、聚四氟乙烯樹脂(polytetrafluoroethylene resin)、四氟乙烯-六氟丙烯共聚樹脂、四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚樹脂、四氟乙烯-乙烯共聚樹脂、聚三氟氯乙烯樹脂、聚偏二氟乙烯樹脂、聚氟烷氧基 (polyfluoroalkoxy)樹脂等含鹵素樹脂；尼龍4,6、尼龍6、尼龍6,6、尼龍6,10、尼龍6,12、尼龍12、尼龍6,T、尼龍9,T、芳香族尼龍樹脂等醯胺系樹脂；聚縮醛樹脂；聚對苯二甲酸丁二酯樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate，PET)樹脂、聚萘二甲酸乙二酯樹脂、非晶性共聚酯樹脂等聚酯系樹脂；聚碳酸酯樹脂；熱塑性聚胺基甲酸酯彈性體等胺基甲酸酯系樹脂；改質聚苯醚樹脂、聚苯硫醚樹脂、聚醚醚酮樹脂、聚碸樹脂(polysulfone resin)、聚酮樹脂、聚醚碸樹脂等醚系、酮系樹脂；聚芳酯樹脂、液晶聚合物等耐熱聚酯系樹脂；聚醚醯亞胺樹脂、熱塑性聚醯亞胺樹脂、聚醯胺醯亞胺樹脂等聚醯亞胺系樹脂；高分子量環氧樹脂，但並不限定於該些。另外，所述熱塑性樹脂可為將該些樹脂的兩種以上混合而成者，亦可為一部分或全部官能基具有離子性的離子聚合物(ionomer)樹脂，亦可為生物降解樹脂或生質樹脂(biomass resin)等。

作為所述硬化性樹脂及與該些對應的聚合前的單體，若為具有能夠藉由光照射或加熱所引起的聚合反應而硬化的官能基的化合物及其聚合物，則並無特別限定。例如可列舉具有環氧基、氧雜環丁基等環狀醚基，乙烯基、乙烯基醚基、烯丙基、馬來醯亞胺基、(甲基)丙烯酸基等含不飽和雙鍵基的單體及其聚合物。於使用聚合前的單體的情況下，併用藉由光照射或加熱而引起聚合反應的起始劑。

作為具有所述環狀醚基的硬化性化合物及與該些對應 的聚合前的單體，並無特別限定，例如可列舉脂環式環氧樹脂以外的環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、氧雜環丁烷樹脂、呋喃樹脂等。該些中，就反應速度及通用性的觀點而言，較佳為脂環式環氧樹脂以外的環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、氧雜環丁烷樹脂。

作為所述脂環式環氧樹脂以外的環氧樹脂，並無特別限定，例如可列舉苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、聯苯酚醛清漆型環氧樹脂、三苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、二環戊二烯酚醛清漆型環氧樹脂等酚醛清漆型環氧樹脂；雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、2,2'-二烯丙基雙酚A型環氧樹脂、氫化雙酚型環氧樹脂、聚氧丙烯雙酚A型環氧樹脂等雙酚型環氧樹脂等。

作為所述脂環式環氧樹脂以外的環氧樹脂，除此以外，亦可列舉縮水甘油胺型環氧樹脂等。

作為所述環氧樹脂的市售品，例如可列舉：艾比克隆(EPICLON)N-740、艾比克隆(EPICLON)N-770、艾比克隆(EPICLON)N-775(以上均為迪愛生(DIC)股份有限公司製造)、埃皮考特(Epikote)152、埃皮考特(Epikote)154(以上均為三菱化學股份有限公司製造)等苯酚酚醛清漆型環氧樹脂；艾比克隆(EPICLON)N-660、艾比克隆(EPICLON)N-665、艾比克隆(EPICLON)N-670、艾比克隆(EPICLON)N-673、艾比克隆(EPICLON)N-680、艾比克隆(EPICLON)N-695、艾比克隆(EPICLON)N-665-EXP、艾比克隆(EPICLON)N-672-EXP(以 上均為DIC股份有限公司製造)等甲酚酚醛清漆型環氧樹脂；NC-3000P(日本化藥股份有限公司製造)等聯苯酚醛清漆型環氧樹脂；EP1032S50、EP1032H60(以上均為三菱化學股份有限公司製造)等三苯酚酚醛清漆型環氧樹脂；XD-1000-L(日本化藥股份有限公司製造)、艾比克隆(EPICLON)HP-7200(DIC股份有限公司製造)等二環戊二烯酚醛清漆型環氧樹脂；埃皮考特(Epikote)828、埃皮考特(Epikote)834、埃皮考特(Epikote)1001、埃皮考特(Epikote)1004(以上均為三菱化學股份有限公司製造)、艾比克隆(EPICLON)850、艾比克隆(EPICLON)860、艾比克隆(EPICLON)4055(以上均為DIC股份有限公司製造)等雙酚A型環氧化合物；埃皮考特(Epikote)807(三菱化學股份有限公司製造)、艾比克隆(EPICLON)830(DIC股份有限公司製造)等雙酚F型環氧樹脂；RE-810NM(日本化藥股份有限公司製造)等2,2'-二烯丙基雙酚A型環氧樹脂；ST-5080(新日鐵化學股份有限公司製造)等氫化雙酚型環氧樹脂；EP-4000、EP-4005(以上均為艾迪科(ADEKA)股份有限公司製造)等聚氧丙烯雙酚A型環氧樹脂等。

作為所述脂環式環氧樹脂，並無特別限定，例如可列舉賽羅西德(Celloxide)2021、賽羅西德(Celloxide)2080、賽羅西德(Celloxide)3000(以上均為大賽璐奧奈科斯(Daicel-Allnex)股份有限公司製造)等。

作為所述氧雜環丁烷樹脂的市售品，例如可列舉艾塔納科 (ETERNACOLL)EHO、艾塔納科(ETERNACOLL)OXBP、艾塔納科(ETERNACOLL)OXTP、艾塔納科(ETERNACOLL)OXMA(以上均為宇部興產股份有限公司製造)等。該些具有環狀醚基的硬化性化合物可單獨使用，亦可將兩種以上併用。

作為具有所述含不飽和雙鍵基的光硬化性樹脂，並無特別限定，例如可列舉具有乙烯基、乙烯基醚基、烯丙基、馬來醯亞胺基、(甲基)丙烯酸基等基的樹脂，具有該些基的樹脂中，自反應性及通用性的方面而言，較佳為具有(甲基)丙烯酸基的樹脂。再者，於本說明書中，(甲基)丙烯酸基是指丙烯酸基或甲基丙烯酸基。

作為具有(甲基)丙烯酸基的樹脂，例如可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、1,4-丁二醇單(甲基)丙烯酸酯、卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯醯基嗎啉、作為含羥基(甲基)丙烯酸酯與多羧酸化合物的酸酐的反應產物的半酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷聚乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、甘油聚丙氧基三(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇的ε-己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯(例如日本化藥股份有限公司製造的卡亞拉得(KAYARAD)HX-220、卡亞拉得(KAYARAD)HX-620等)、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇與ε-己內酯的反應產物的聚(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇聚(甲基)丙烯酸酯(例如日本化藥股份有限公司製造的卡亞拉得(KAYARAD)DPHA等)、作為單縮水甘油基化合物或聚縮水甘油基化合物與(甲基)丙 烯酸的反應產物的環氧(甲基)丙烯酸酯等。再者，於本說明書中，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯，(甲基)丙烯酸是指丙烯酸或甲基丙烯酸。

作為單縮水甘油基化合物或聚縮水甘油基化合物與(甲基)丙烯酸的反應產物的環氧(甲基)丙烯酸酯中使用的縮水甘油基化合物(單縮水甘油基化合物或聚縮水甘油基化合物)並無特別限制，例如可列舉：雙酚A、雙酚F、雙酚S、4,4'-聯苯酚、四甲基雙酚A、二甲基雙酚A、四甲基雙酚F、二甲基雙酚F、四甲基雙酚S、二甲基雙酚S、四甲基-4,4'-聯苯酚、二甲基-4,4'-聯苯酚、1-(4-羥基苯基)-2-[4-(1,1-雙(4-羥基苯基)乙基)苯基]丙烷、2,2'-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、4,4'-亞丁基-雙(3-甲基-6-第三丁基苯酚)、三羥基苯基甲烷、間苯二酚、對苯二酚、鄰苯三酚、具有二亞異丙基骨架的酚類、9,9-雙(4-羥基苯基)芴等具有芴骨架的酚類、酚化聚丁二烯、溴化雙酚A、溴化雙酚F、溴化雙酚S、溴化苯酚酚醛清漆、溴化甲酚酚醛清漆、氯化雙酚S、氯化雙酚A等多酚類的縮水甘油醚化物。

作為該些單縮水甘油基化合物或聚縮水甘油基化合物與(甲基)丙烯酸的反應產物的環氧(甲基)丙烯酸酯，可藉由使當量的(甲基)丙烯酸與單縮水甘油基化合物或聚縮水甘油基化合物的環氧基(縮水甘油基)進行酯化反應而獲得。該合成反應可藉由一般已知的方法進行。例如，於間苯二酚二縮水甘油醚中，將其當量的(甲基)丙烯酸與觸媒(例如苄基二甲胺、三乙胺、苄基三甲 基氯化銨、三苯膦、三苯銻(triphenylstibine)等)及聚合抑制劑(例如甲氧苯酚(methoxyphenol)、對苯二酚、甲基對苯二酚、啡噻嗪、二丁基羥基甲苯等)一併添加，並於例如80℃~110℃下進行酯化反應。以該方式獲得的(甲基)丙烯酸化間苯二酚二縮水甘油醚為具有自由基聚合性的(甲基)丙烯醯基的樹脂。再者，於本說明書中，(甲基)丙烯酸化是指丙烯酸化或甲基丙烯酸化，(甲基)丙烯醯基是指丙烯醯基或甲基丙烯醯基。

於該些具有含不飽和雙鍵基的光硬化性樹脂中，較佳為高折射率丙烯酸酯、高折射率苯乙烯、高折射率乙烯基化合物。作為高折射率丙烯酸酯，可列舉9,9-雙[4-(2-丙烯醯氧基乙氧基)苯基]芴、五溴苯基甲基丙烯酸酯、2-羥基-3-苯氧基丙基丙烯酸酯、2-苯基苯氧基乙基丙烯酸酯、萘氧基丙烯酸酯等。作為高折射率苯乙烯，可列舉2,6-二氯苯乙烯、2,6-二溴苯乙烯等鹵代苯乙烯等。作為高折射率乙烯基化合物，可使用N-乙烯基鄰苯二甲醯亞胺、N-乙烯基咔唑等。該些中，較佳為高折射率丙烯酸酯，特佳為9,9-雙[4-(2-丙烯醯氧基乙氧基)苯基]芴等具有酞側基(Cardo)結構者。該些高折射率單體亦可使用聚合而得者。

該些黏合劑成分可僅使用一種，亦可組合使用兩種以上。

作為非揮發性的低分子化合物，並無特別限制，可用於使本發明的有機色素均勻地分散，以少的溶劑量、或者無溶劑地進行製膜。此處，所謂非揮發性是指於膜狀物製作時不會引起顯 著的重量減少的物質，並非指不具有蒸汽壓的物質。

作為非揮發性的低分子化合物，例如可列舉：二季戊四醇、9,9-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]芴、異山梨醇等醇系化合物；季戊四醇四乙酸酯、鄰苯二甲酸二辛酯、鄰苯二甲酸二乙基己酯、二十二酸二十二基酯(behenyl behenate)等酯系化合物；硬脂酸醯胺、水楊醯胺、菸醯胺等醯胺系化合物；苯甲酸、水楊酸、膽酸、乙醯丙酸(levulinic acid)、己二酸、苯丙胺酸(phenylalanine)等羧酸類；苄氧基萘、二苯醚、二苯硫醚等醚系化合物；液體石蠟、礦物油等烴系化合物等。最佳的化合物根據所使用的有機色素等的選擇而不同，但對於具有中等極性的色素，較佳為具有適度極性及低結晶性的酯系，對於高極性且酸性穩定的色素，較佳為具有高極性及低結晶性的羧酸系。

為了抑制揮發性，非揮發性的低分子化合物理想為分子量為一定以上，較佳的分子量為250以上，更佳為300以上，進而佳為350以上，特佳為400以上。就降低組成物的黏度的目的而言，非揮發性的低分子化合物理想為分子量為一定以下，較佳的分子量為1000以下，更佳為900以下，進而佳為800以下，特佳為600以下。

就揮發性低、難以結晶化、高溫下長期穩定的觀點而言，亦可較佳地使用塑化劑、紫外線(UV)吸收劑、抗氧化劑等樹脂添加劑。

為了保持折射率高，黏合劑成分較佳為整體中的芳香環 成分的質量為20%以上，更佳為30%以上，進而佳為40%以上，特佳為50%以上。

藉由黏合劑成分而與有機色素相互作用，藉此有時會改變光學特性。特別是具有未立體混合的芳香環的黏合劑成分，有時會導致認為是由與有機色素的共軛平面的不規則的相互作用引起的吸收的變寬，使性能下降。

黏合劑成分較佳為具有二取代以上的芳香環，二取代以上的芳香環的比例更佳為50%以上，二取代以上的芳香環的比例進而佳為80%以上，特佳為僅包含二取代以上的芳香環。

於本發明的光學構件用組成物含有黏合劑成分的情況下，其含量於除溶劑以外的全部固體成分100質量%中較佳為1質量%~70質量%，特佳為5質量%~50質量%。若黏合劑成分的含量為所述下限以上，則可充分獲得由使用黏合劑成分帶來的膜性提高的效果。若黏合劑成分的含量為所述上限以下，則可確保有機色素等其他成分量，獲得光學特性優異的膜狀物。

<溶劑>

作為溶劑，例如可列舉：甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-乙基-1-己醇、2-丁醇、乙二醇等醇系溶劑；二丙酮醇、3-羥基-3-甲基-2-丁酮等酮醇系溶劑；甲基賽路蘇、乙基賽路蘇等賽路蘇系溶劑；正己烷、正辛烷等鏈狀烴系溶劑；環己烷、甲基環己烷、乙基環己烷、二甲基環己烷、正丁基環己烷、第三丁基環己烷、環辛烷等環狀烴系溶劑；四氟丙醇、六氟異丙醇、八氟 戊醇、六氟丁醇等全氟烷基醇系溶劑；二氯甲烷、氯仿、1,2-二氯乙烷等鹵代烴系溶劑；甲苯、乙基苯、氯苯、鄰二氯苯、苯並三氟化物、二甲苯等芳香族烴系溶劑；四氫呋喃、二噁烷等環狀醚系溶劑；二乙醚、二正丁基醚、二異丙基醚、二正丁基醚、第三丁基甲基醚等鏈狀醚系溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯系溶劑；乳酸甲酯、乳酸乙酯、2-羥基異丁酸甲酯等羥基羧酸酯系溶劑；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等酮系溶劑；乙腈等腈系溶劑；二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮(N-methyl pyrrolidinone)等醯胺系溶劑；二甲亞碸、環丁碸等碸系溶劑等。

該些溶劑可僅使用一種，亦可組合使用兩種以上。

於本發明的光學構件用組成物含有溶劑的情況下，以本發明的光學構件用組成物的固體成分濃度(即固體成分的重量相對於固體成分與溶劑的合計重量)通常為0.1質量%以上，較佳為0.5質量%以上，更佳為1.0質量%以上，另外，通常為95質量%以下，較佳為50質量%以下，更佳為30質量%以下的方式包含溶劑。藉由使固體成分濃度在所述範圍內，能夠更有效率地成膜。

<硬化劑>

本說明書中的「硬化劑」是不僅包含具有與聚合性官能基以1：1反應的官能基的硬化劑，而且亦包含硬化促進劑或聚合起始劑的概念。作為硬化劑，並無特別限定，例如可列舉選自由硫醇系硬化劑、胺系硬化劑、酚系硬化劑、酸酐系硬化劑、咪唑系硬 化劑、有機膦系硬化劑、陽離子聚合起始劑及自由基聚合起始劑所組成的群組中的一種以上的硬化劑。該些中，於需要在低反應溫度下硬化的情況下，較佳為硫醇系硬化劑、胺系硬化劑、咪唑系硬化劑。於組成物及各成分在酸性條件下更穩定的情況下，較佳為酚系硬化劑、酸酐系硬化劑、陽離子聚合起始劑。

於本發明的光學構件用組成物含有硬化劑的情況下，其含量於固體成分100質量%中較佳為0.1質量%以上且50質量%以下。若硬化劑的含量不足0.1質量%，則光學構件用組成物難以硬化，另外若硬化劑的含量超過50質量%，則有未反應的硬化劑對可靠性造成不良影響之虞。光學構件用組成物中的硬化劑的含量的下限更佳為1質量%以上，上限更佳為30質量%以下。

以下，列舉本發明的光學構件用組成物中可使用的硬化劑的具體例。

(胺系硬化劑)

作為胺系硬化劑，例如可列舉脂肪族的一級胺、二級胺、三級胺，芳香族的一級胺、二級胺、三級胺，環狀胺，胍類，脲衍生物等。具體而言，可列舉：三乙四胺、二胺基二苯基甲烷、二胺基二苯基碸、二胺基二苯醚、間苯二甲胺、二氰二胺、1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一烯、1,5-二氮雜雙環[4.3.0]-5-壬烯、二甲基脲、甲脒脲(guanylurea)、三乙胺、三丁胺等三烷基胺、4-二甲基胺基吡啶、苄基二甲胺、2,4,6-三(二甲基胺基甲基)苯酚等。

(酚系硬化劑)

作為酚系硬化劑，例如可列舉：對苯二酚、間苯二酚、兒茶酚、雙酚A、四溴雙酚A、雙酚F、雙酚AF、雙酚AD、雙酚、二羥基萘、聯萘酚、芴型雙酚等二官能酚；苯酚酚醛清漆樹脂、甲酚酚醛清漆樹脂、含三嗪環的苯酚酚醛清漆樹脂、含三嗪環的甲酚酚醛清漆樹脂、雙酚A酚醛清漆樹脂、四溴雙酚A酚醛清漆樹脂、雙酚AF酚醛清漆樹脂、雙酚AD酚醛清漆樹脂、聯苯酚酚醛清漆樹脂、芴型雙酚酚醛清漆樹脂、二環戊二烯-苯酚酚醛清漆樹脂、二環戊二烯-甲酚酚醛清漆樹脂等酚醛清漆樹脂；苯酚可溶酚醛樹脂、甲酚可溶酚醛樹脂等可溶酚醛樹脂等。

(酸酐系硬化劑)

作為酸酐系硬化劑，可列舉：鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、偏苯三甲酸酐、馬來酸酐與不飽和化合物的縮合物、十二烯基琥珀酸酐、聚己二酸酐、聚壬二酸酐、聚癸二酸酐、聚(乙基十八烷二酸)酐、聚(苯基十六烷二酸)酐、甲基四氫鄰苯二甲酸酐、甲基六氫鄰苯二甲酸酐、甲基納迪克酸酐(methylhimic anhydride)、四氫鄰苯二甲酸酐、三烷基四氫鄰苯二甲酸酐、甲基環己烯二羧酸酐、甲基環己烯四羧酸酐、均苯四甲酸酐、二苯甲酮四羧酸酐、乙二醇雙偏苯三甲酸二酐、氯橋酸酐(HET anhydride)、納迪克酸酐、甲基納迪克酸酐、5-(2,5-二氧代四氫-3-呋喃基)-3-甲基-3-環己烷-1,2-二羧酸酐、3,4-二羧基-1,2,3,4-四氫-1-萘琥珀酸二酐、1-甲基-二羧基-1,2,3,4-四氫-1-萘琥珀酸二酐等。

(咪唑系硬化劑)

作為咪唑系硬化劑，可列舉：2-甲基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、1-苄基-2-甲基咪唑、2-十七烷基咪唑、2-十一烷基咪唑、1,2-二甲基咪唑、2-苯基咪唑、2-苯基-4-甲基咪唑、1-苄基-2-苯基咪唑、1-氰乙基-2-甲基咪唑、1-氰乙基-2-十一烷基咪唑、1-氰乙基-2-乙基-4-甲基咪唑、1-氰乙基-2-苯基咪唑、1-氰乙基-2-十一烷基咪唑鎓偏苯三甲酸酯、1-氰乙基-2-苯基咪唑鎓偏苯三甲酸酯、2,4-二胺基-6-[2'-甲基咪唑基-(1')]-乙基-均三嗪、2,4-二胺基-6-[2'-十一烷基咪唑基-(1')]-乙基-均三嗪、2,4-二胺基-6-[2'-乙基-4'-甲基咪唑基-(1')-乙基-均三嗪、2,4-二胺基-6-[2'-甲基咪唑-(1')]-乙基-均三嗪異氰脲酸加成物、2-苯基咪唑異氰脲酸加成物、1-十二烷基-2-甲基-3-苄基咪唑鎓氯化物、2-苯基-4,5-二羥基甲基咪唑、2-苯基-4-甲基-5-羥基甲基咪唑、2,3-二羥基-1H-吡咯[1,2-a]苯並咪唑、2-苯基咪唑啉等咪唑化合物及咪唑化合物與環氧樹脂的加合物。

(有機膦系硬化劑)

作為有機膦系硬化劑，可列舉：三苯基膦、三丁基膦、三(對甲基苯基)膦、三(對甲氧基苯基)膦、三(對乙氧基苯基)膦、三苯基膦-三苯基硼酸酯、四苯基膦-四苯基硼酸酯等。

(陽離子聚合起始劑)

陽離子聚合起始劑為藉由游離輻射或熱而產生酸的化合物。陽離子聚合起始劑並無特別限定，但就具有產酸部分、性能穩定、光學構件用組成物的貯藏穩定性高的觀點而言，較佳為選自由鋶鹽、錪鹽及重氮鎓鹽所組成的群組中的一種以上的化合物。作為 本說明書中的游離輻射，可列舉可見光、以及紫外線、X射線、電子束、α射線、β射線及γ射線。

<鋶鹽>

作為鋶鹽，並無特別限定，例如可列舉：苄基甲基對甲氧基羰氧基苯基鋶六氟銻酸鹽、2-甲基苄基甲基對羥基苯基鋶六氟銻酸鹽、三芳基鋶六氟磷酸鹽、三苯基鋶六氟磷酸鹽、三苯基鋶六氟銻酸鹽、三苯基鋶四(五氟苯基)硼酸鹽、二苯基-4-(苯硫基)苯基鋶六氟磷酸鹽、二苯基-4-(苯硫基)苯基鋶六氟銻酸鹽、4,4'-雙〔二苯基鋶基〕二苯基硫醚雙六氟磷酸鹽、4,4'-雙〔二(β-羥基乙氧基)苯基鋶基〕二苯基硫醚雙六氟銻酸鹽、4,4'-雙〔二(β-羥基乙氧基)苯基鋶基〕二苯基硫醚雙六氟磷酸鹽、7-〔二(對甲苯甲醯基)鋶基〕-2-異丙基噻噸酮六氟銻酸鹽、7-〔二(對甲苯甲醯基)鋶基〕-2-異丙基噻噸酮四(五氟苯基)硼酸鹽、4-苯基羰基-4'-二苯基鋶基-二苯基硫醚六氟磷酸鹽、4-(對第三丁基苯基羰基)-4'-二苯基鋶基-二苯基硫醚六氟銻酸鹽、4-(對第三丁基苯基羰基)-4'-二(對甲苯甲醯基)鋶基-二苯基硫醚四(五氟苯基)硼酸鹽等三芳基鋶鹽等。

<錪鹽>

作為錪鹽，並無特別限定，可列舉：二苯基錪四(五氟苯基)硼酸鹽、二苯基錪六氟磷酸鹽、二苯基錪六氟銻酸鹽、二(4-第三丁基苯基)錪六氟磷酸鹽、二(4-第三丁基苯基)錪六氟銻酸鹽、甲苯基枯基錪四(五氟苯基)硼酸鹽、(4-甲基苯基)[4-(2-甲基丙基)苯基]錪-六氟磷酸鹽、二(4-壬基苯基)錪六氟磷酸鹽、二(4-烷基苯基) 錪六氟磷酸鹽等二芳基錪鹽。

<重氮鹽>

作為重氮鹽，並無特別限定，例如可列舉：苯重氮六氟銻酸鹽、苯重氮六氟磷酸鹽等。

該些中，就藉由電離輻射照射而迅速產生酸、且與所述具有雜環基的化合物的相容性良好的觀點而言，作為陽離子聚合起始劑，較佳為：苄基甲基對甲氧基羰氧基苯基鋶六氟銻酸鹽、2-甲基苄基甲基對羥基苯基鋶六氟銻酸鹽、三芳基鋶六氟磷酸鹽。

作為陽離子聚合起始劑的市售品，例如可列舉：艾迪科歐普托瑪(Adeka Optomer)SP-100、150、152、170、172(艾迪科(ADEKA)公司製造)、光起始劑(Photoinitiator)2074(羅地亞(Rhodia)公司製造)、卡亞拉得(KAYARAD)PCI-220、620(日本化藥公司製造)、豔佳固(Irgacure)250(日本巴斯夫(BASF Japan)公司製造)、CPI-100P、101A、200K、210S(聖阿普羅(San-Apro)公司製造)、WPI-113、116(和光純藥工業製造)、BBI-102、BBI-103、TPS-102、TPS-103、DTS-102、DTS-103(綠化學公司製造)等。

(自由基聚合起始劑)

自由基聚合起始劑是具有藉由電離輻射或熱而產生聚合活性自由基的功能的成分。將藉由電離輻射而產生聚合活性自由基者稱為光自由基聚合起始劑，將藉由熱而產生聚合活性自由基者稱為熱自由基聚合起始劑。

光自由基聚合起始成分通常作為光聚合起始劑、以及與根據需要添加的聚合加速劑及增感色素等附加劑的混合物使用，是具有直接吸收光、或者進行光增感而引起分解反應或脫氫反應，產生聚合活性自由基的功能的成分。

作為構成光自由基聚合起始成分的光聚合起始劑，例如可列舉：日本專利特開昭59-152396號公報、日本專利特開昭61-151197號公報等中記載的二茂鈦衍生物類；日本專利特開平10-300922號公報、日本專利特開平11-174224號公報、日本專利特開2000-56118號公報等中記載的六芳基聯咪唑衍生物類；日本專利特開平10-39503號公報等中記載的鹵代甲基化噁二唑衍生物類、鹵代甲基-均三嗪衍生物類、N-苯基甘胺酸等N-芳基-α-胺基酸類、N-芳基-α-胺基酸鹽類、N-芳基-α-胺基酸酯類等自由基活性劑、α-胺基苯烷基酮衍生物類；日本專利特開2000-80068號公報等中記載的肟酯系衍生物類等。

另外，可列舉國際公開第2009/107734號手冊等中記載的光自由基聚合起始劑等。

該些光自由基聚合起始劑中，更佳為α-胺基苯烷基酮衍生物類、肟酯系衍生物類、聯咪唑衍生物類、苯乙酮衍生物類、及噻噸酮衍生物類。

作為肟酯系衍生物類，可列舉2-(苯甲醯氧基亞胺基)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1-辛酮、O-乙醯基-1-[6-(2-甲基苯甲醯基)-9-乙基-9H-咔唑-3-基]乙酮肟等。

作為肟系起始劑，亦可使用市售品。作為市售品的例子，可列舉：OXE-01、OXE-02(BASF公司製造)、強力(TRONLY)TR-PBG-304、強力(TRONLY)TR-PBG-309、強力(TRONLY)TR-PBG-305、強力(TRONLY)TR-PBG-314(常州強力電子新材料有限公司(CHANGZHOU TRONLY NEW ELECTRONIC MATERIALS CO.,LTD)製造)。

作為光自由基聚合起始劑，除此之外，亦可列舉：苯偶姻烷基醚類、蒽醌衍生物類；2-甲基-(4'-甲基硫代苯基)-2-嗎啉基-1-丙酮等苯乙酮衍生物類，2-乙基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮等噻噸酮衍生物類，苯甲酸酯衍生物類，吖啶衍生物類，吩嗪衍生物類，蒽酮衍生物類等。作為該些起始劑，亦可使用市售品。

作為市售品，例如可列舉：豔佳固(IRGACURE)651、豔佳固(IRGACURE)184、德牢固(DAROCURE)1173、豔佳固(IRGACURE)2959、豔佳固(IRGACURE)127、豔佳固(IRGACURE)907、豔佳固(IRGACURE)369、豔佳固(IRGACURE)379EG、路西林(LUCIRIN)TPO、豔佳固(IRGACURE)819、豔佳固(IRGACURE)784(均為BASF公司製造，「豔佳固(IRGACURE)」為註冊商標)等。

該些光自由基聚合起始劑中，更佳為α-胺基苯烷基酮衍生物類、噻噸酮衍生物類、肟酯系衍生物類。特佳為肟酯系衍生物類。

作為根據需要而使用的聚合加速劑，例如可列舉：N,N- 二甲基胺基苯甲酸乙酯等N,N-二烷基胺基苯甲酸烷基酯類；2-巰基苯並噻唑、2-巰基苯並噁唑、2-巰基苯並咪唑等具有雜環的巰基化合物；脂肪族多官能巰基化合物等巰基化合物類等。

該些光自由基聚合起始劑及聚合加速劑可分別單獨使用一種，亦可併用兩種以上。

另外，為了根據需要提高感應靈敏度，可使用增感色素。增感色素可根據曝光光源的波長而使用適當者，例如可列舉：日本專利特開平4-221958號公報、日本專利特開平4-219756號公報等中記載的呫噸系色素；日本專利特開平3-239703號公報、日本專利特開平5-289335號公報等中記載的具有雜環的香豆素系色素；日本專利特開平3-239703號公報、日本專利特開平5-289335號公報等中記載的3-酮香豆素系色素；日本專利特開平6-19240號公報等中記載的吡咯亞甲基系色素；日本專利特開昭47-2528號公報、日本專利特開昭54-155292號公報、日本專利特公昭45-37377號公報、日本專利特開昭48-84183號公報、日本專利特開昭52-112681號公報、日本專利特開昭58-15503號公報、日本專利特開昭60-88005號公報、日本專利特開昭59-56403號公報、日本專利特開平2-69號公報、日本專利特開昭57-168088號公報、日本專利特開平5-107761號公報、日本專利特開平5-210240號公報、日本專利特開平4-288818號公報等中記載的具有二烷基胺基苯骨架的色素等。

增感色素亦可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。

於本發明的光學構件用組成物中，於全部固體成分100質量%中，該些光自由基聚合起始成分的含有比例通常為0.1質量%以上，較佳為0.5質量%以上，更佳為1質量%以上，進而佳為3質量%以上，進而更佳為5質量%以上，特佳為7質量%以上，另外，通常為40質量%以下，較佳為30質量%以下，更佳為20質量%以下，進而佳為15質量%以下，特佳為12質量%以下的範圍。藉由設為所述下限值以上，而有可抑制對曝光光線的靈敏度降低的傾向，藉由設為所述上限值以下，可保持作為組成物的折射率高，在使用條件下獲得可靠性高的膜狀物。

作為熱自由基聚合起始劑，包括：二-第三丁基過氧化物、二枯基過氧化物等二烷基過氧化物類；過氧化月桂醯等二烷醯基過氧化物；過氧化苯甲醯、過氧化苯甲醯甲苯甲醯、過氧化甲苯甲醯等二芳醯基過氧化物；過乙酸第三丁酯、過氧化辛酸第三丁酯、過氧化苯甲酸第三丁酯等過羧酸烷基酯等過酸酯類；過氧化酮類、過氧化碳酸酯類、過氧化縮酮類等有機過氧化物；2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2'-偶氮雙(異丁腈)、2,2'-偶氮雙(2-甲基丁腈)、2,2'-偶氮雙(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)等偶氮腈化合物，2,2'-偶氮雙{2-甲基-N-[1,1-雙(羥基甲基)-2-羥基乙基]丙醯胺}等偶氮醯胺化合物；2,2'-偶氮雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽等偶氮脒化合物；2,2'-偶氮雙(2,4,4-三甲基戊烷)、4,4'-偶氮雙(4-氰基戊酸)等偶氮烷烴化合物；2,2'-偶氮雙(2-甲基丙醯胺肟)等具有肟骨架的偶氮化合物等。熱聚 合起始劑可單獨使用或組合使用兩種以上。

<其他任意成分>

除了所述各成分以外，本發明的組成物亦可含有界面活性劑、有機羧酸及有機羧酸酐中的至少一種，熱硬化性化合物、塑化劑、熱聚合防止劑、保存穩定劑、表面保護劑、密接促進劑、顯影改良劑等。作為該些任意成分，例如可使用日本專利特開2007-113000號公報中記載的各種化合物。

[光學構件用組成物的物性]

本發明的光學構件用組成物藉由具有適當的物性而可製造良好的膜狀物，另外，可作為光學構件使用。

<流動性>

本發明的光學構件用組成物於成形時具有流動性而製成膜狀物，但於用作光學構件時，藉由使流動性為一定以下，可維持形狀。為了使使用時的流動性為一定以下，亦可藉由利用光或熱進行硬化處理來降低使用時的流動性。亦可設為於室溫下為低流動性，於高溫下成為高流動性。亦可於加入溶劑而形成膜狀物後，藉由使溶劑揮發來降低流動性。另外，藉由單獨或組合使用該些方法，可使膜狀物形成時的高流動性與使用時的低流動性並存。

藉由硬化處理來降低流動性的方法由於硬化前流動性高，因此適於有厚度的用途或製作複雜的形狀。作為硬化前的黏度，只要可形成膜狀物即可，通常於25℃下為1,000,000Pa．s以下，較佳為500,000Pa．s以下，更佳為200,000Pa．s以下，進而佳 為100,000Pa．s以下，特佳為50,000Pa．s以下。

於室溫下保持低流動性且於高溫下呈高流動性的方法，由於可保持有機色素的含量多、可達成高折射率，因而較佳。該情況下，為了使高溫下的組成一定，較佳為不使用溶劑。成為高流動性的溫度通常為50℃以上，較佳為100℃以上，更佳為130℃以上，進而佳為150℃以上，特佳為180℃以上。另一方面，若溫度過高，則有可能引起有機色素或組成物的分解，因此成為高流動性的溫度通常為400℃以下，較佳為350℃以下，更佳為300℃以下，進而佳為270℃以下，特佳為200℃以下。此時的黏度只要可形成膜狀物即可，通常為1,000,000Pa．s以下，較佳為500,000Pa．s，更佳為200,000Pa．s以下，進而佳為100,000Pa．s以下，特佳為50,000Pa．s以下。

於加入溶劑而形成膜狀物後，藉由使溶劑揮發來降低流動性的方法，由於可大幅度降低黏度，因此就可高速形成膜狀物的方面而言較佳。為了獲得均勻的膜狀物，較佳為有機色素等固體成分溶解於溶劑中。另一方面，若於使固體成分懸浮的狀態下使用，則可提高固體成分濃度，因此於製作有厚度的膜狀物時適合。

<吸濕性>

為了獲得穩定的光學特性，本發明的光學構件用組成物理想為吸濕性低。25℃下的吸水率較佳為3%以下，更佳為1%以下，進而佳為0.5%以下，特佳為0.1%以下。

[實施例]

以下，藉由實施例更詳細地說明本發明，但本發明並不限定於以下的任何實施例。

[有機色素]

以下的實施例中，作為有機色素，使用以下的有機色素A~有機色素P。

有機色素A：下述結構式所表示的花青系色素

有機色素B：山田化學公司製造的FDN-002(酞青銅錯合物)

有機色素C：山田化學公司製造的FDN-003(酞青銅錯合物)

有機色素D：下述結構式所表示的偶氮系色素

[化34]

有機色素E：下述結構式所表示的酞青系色素

有機色素F：下述結構式所表示的方酸系色素(記載於日本專利特開2018-172635號公報中)

有機色素G：下述結構式所表示的方酸色素(由東京化成工業(股)市售)

有機色素H：下述結構式所表示的花青色素(由東京化成工業(股)市售)

[化38]

有機色素I：下述結構式所表示的花青色素

有機色素J：下述結構式所表示的花青色素

[化40]

有機色素K：下述結構式所表示的花青色素

有機色素L：下述結構式所表示的花青色素

[化42]

有機色素M：下述結構式所表示的花青色素(由東京化成工業(股)市售)

有機色素N：下述結構式所表示的花青色素

[化44]

有機色素O：下述結構式所表示的花青色素(由東京化成工業(股)市售)

有機色素P：下述結構式所表示的花青色素

[化46]

對於所述有機色素，藉由以下方法進行測定，將所得的結果示於表1中。

<溶液的吸收光譜及吸光度的測定>

使分別為2mg的色素B~色素D、色素F、色素I~K、色素M、色素O溶解於氯仿1L中，使分別為4.0mg的色素A、色素L、色素N、色素P溶解於氯仿1L中，使分別為10mg的色素E、色素G、色素H溶解於氯仿1L中，使用寬1cm的合成石英池，利用日立高新技術公司製造的U-4100來測定紫外-可見吸收光譜及吸光度A。將該些色素B~色素D、色素F、色素I~色素K、色素M、色素O的吸光度的測定值的5倍值，將色素A、色素L、 色素N、色素P的測定值的2.5倍值，將色素E、色素G、色素H的吸光度的測定值分別作為吸光度記載於表1中。

對照表1，記載該些的10mg/L濃度下的極大吸收波長、將吸光度不足0.01的波長作為吸收為0的波長Y的數值。

<克吸光係數的算出>

所述吸光度A與溶液層的厚度1(cm)、溶液的濃度c(mol/L)成比例。使用(比爾定律(Beer’s law))A=ε．l．c(ε為莫耳吸光係數、(單位：L/mol．cm))的式子，由ε的值算出克吸光係數(莫耳吸光係數/分子量)，記載於表1中。

[實施例1~實施例21]

<塗佈液(光學構件用組成物)的製備>

使用有機色素A~有機色素P，按照下述表2所示的配比，藉由20分鐘的超音波照射進行混合，分別製備塗佈液。

<膜狀物的製作>

藉由旋塗法(1000rpm×20秒)，將各塗佈液分別塗佈於切成2.6cm×7.6cm的透明玻璃基板上，風乾或於加熱板上以80℃乾燥2分鐘，形成膜狀物。

對於實施例1~實施例21中獲得的光學樹脂組成物及膜狀物，藉由以下方法進行測定及計算。

<膜厚的測定>

利用分光橢圓偏光儀UVISEL(堀場製作所製造)測定所形成的膜狀物的膜厚，結果為下述表3「膜厚(橢偏)」中記載的厚度。

<透射率的測定>

使用分光光度計U-4100(日立製作所製造)測定所形成的膜狀物的透射率。分光波長設為1nm，測定波長940nm及1000nm的透射率。再者，下述表4A中各測定波長下的透射率的實測值是包含由界面反射引起的損耗的值。

<折射率的測定>

使用分光橢圓偏光儀UVISEL(堀場製作所製造)，於波長450nm~2000nm的區域測定所形成的膜狀物的折射率，調查波長500nm、940nm、1000nm的折射率(記載於下述表4A「折射率(橢偏)中」。

<折射率、消光係數、膜厚的測定及計算>

使用分光光度計U-4100(日立製作所製造)，於波長500nm~1500nm的區域測定所形成的膜狀物的透射率及反射率，並藉由計算而求出光學常數(折射率、消光係數)及膜厚(特定波長的折射率記載於下述表4A「折射率(分析)」中，膜厚記載於下述表3「膜厚(分析)」中)。

作為計算方法，透射光譜及反射光譜的計算中，採用轉移矩陣法(transfer matrix method)，改變光學常數及膜厚進行擬合， 以再現測定值。決定中，使用作為表格計算軟體程式的微軟(Microsoft)公司的Excel 2010的附加程式即求解器，以擬合與實測值間的殘差的平方和成為最小的方式求出。

<消光係數k'等的計算>

於利用分光光度計U-4100(日立製作所製造)測定而得的膜狀物的吸收光譜中，將吸光度最大的波長設為X'，將較X'更長的波長區域內吸光度為最大值的5%以下的最短波長設為吸收為0的波長Y'，於表4中記載數值。分光波長設為1nm。另外，亦一併記載波長X'下的k'的值，並且記載(Y'-X')/k'的計算值。

消光係數k'的面積S是縱軸設為消光係數k'、橫軸設為以電子伏特為單位的能量軸的二維圖表的面積，且作為包含極大吸收波長在內的、在區間的兩端使消光係數k'的值為極大吸收波長下的消光係數k'的5%以下的範圍內的面積算出。作為算出方法，使用以下的梯形公式。

其中，將所求的面積的能量範圍設為x₀~x_p(eV)，將x_n的消光係數的值設為k'_n。作為x_n的刻度寬度，換算為波長以5nm的間隔進行。

關於消光係數k'的光譜，將表達為多個高斯函數之和時存在於最長波長側的峰值的高度及標準偏差示於表4B中。作為表達為高斯函數之和的方法，設定為將以中位數、標準偏差、高度為變量的多個高斯函數相加。改變所述變量以使藉由相加而表達出的光譜與實測值間的殘差的平方和最小(最小二乘法)，增加高斯函數的個數，直至殘差的平方和低於消光係數k'的面積S的0.1%。決定中，使用作為表格計算軟體程式的微軟(Microsoft)公司的Excel 2010的附加程式即求解器。另外，所謂最長波長側的峰值，設定為峰值的高度較k'的極大值的20%更大、且中位數處於最長波長側的高斯函數，在求出其高度及標準偏差的基礎上，將前者除以後者所得的值記載於表4B中。

<X射線繞射(XRD)>

進行藉由以下方法而形成的膜狀物的X射線繞射(XRD)的測定。

測定裝置使用以CuKα射線為射線源的薄膜試樣用繞射計(理學(Rigaku)股份有限公司製造的自動X射線繞射裝置RINT2000)。作為測定條件，利用X射線輸出50kV、250mA、固定入射角(θ)0.10°、掃描範圍(2θ)2°~40°、掃描速度3.0°/min.的面外(out-of-plane)法測定X射線繞射。將觀測到繞射峰值者設為○，將未觀測到繞射峰值者設為×，記載於表4B中。另外，將實施例18的測定圖及作為其比較的色素O的測定圖一併作為圖1記載。

[膜厚的測定結果及算出結果]

將利用分光橢圓偏光儀UVISEL(堀場製作所製造)測定所形成的膜狀物的膜厚的結果、以及根據透射率及反射率藉由計算而求出的膜厚示於表3中。兩個測定結果大致一致，關於測定值產生了差異者，認為所形成的膜狀物的膜厚存在不均，值因測定位置的差異而產生差異。

將各膜狀物的透射率、折射率等的測定結果示於表4A、表4B中。

關於透射率，亦一併記載將實際膜厚下的實測值換算為膜厚 0.08μm而得的值。其換算為膜厚0.08μm而得的透射率(T2)是使用下述式(7)算出。

T2=exp(-4×π×k×d/λ)...式(7)

(π：圓周率、k：消光係數、d：80(nm)、λ：所求波長(nm))

[表4A]

由表4A、表4B可知，實施例1~實施例21的膜狀物均具有特有的光學特性，即，滿足必要條件(I)、必要條件(II)，對近紅外區域的光顯示出高折射率及高透射率，對可見光區域的光的折射率小。

[實施例22~實施例24]

<厚膜用塗佈液(光學構件用組成物)的製備>

使用有機色素H、有機色素R，按照下述表5所示的配比，藉由20分鐘的超音波照射進行混合，分別製備塗佈液。

[表5]

<厚膜的製作>

將25μl~50μl的色素的色素溶液以成為圓形的方式滴加於2.6cm×7.6cm的載玻片上，使其風乾。根據需要加溫至80℃，使溶劑蒸發。

對於藉由所述方法而獲得的實施例22~實施例24的膜狀物，藉由以下方法來測定膜厚。

<厚膜的膜厚測定>

使用分光光度計U-4100(日立製作所製造)，於波長500nm~2500nm的區域測定所形成的膜狀物的透射率，根據膜的表面與背面處的由界面反射引起的干涉來決定膜厚。干涉是由折射率與膜厚決定，依存於波長而交替產生極大值與極小值。折射率設定為使用藉由計算而求出的值，使用下式算出膜厚。

其中，於起因於干涉的光譜的波動中，將相鄰的極大值 (極小值)的波長設為λ₁、λ₂(nm)(λ₂>λ₁)，將λ₁的折射率設為n₁，將λ₂的折射率設為n₂。於在測定範圍內觀測到由干涉引起的極大及極小的部位，使用上式計算膜厚，將所述值平均而得的結果示於表6中。

<厚膜的透射率及反射率測定>

利用分光光度計U-4100(日立製作所製造)測定所形成的膜狀物的透射率及反射率。分光波長設為1nm，將波長800nm、940nm、及1000nm的透射率的測定結果示於表6中。

<厚膜的消光係數及透射率的算出>

於消光係數低於0.01般的情況下，認為使用薄膜的分析中消光係數的精度不充分，因此由厚膜，使用下式進行各波長下的消光係數的算出。

k=-ln(T+R)×λ/(4×π×d)

(T：所求波長下的透射率、R：所求波長下的反射率、λ：所求波長(nm)、π：圓周率、d：膜厚(nm))

換算為膜厚1μm時的透射率T2的值是使用藉由所述方法而算出的k，由下式求出。

T2=exp(-4×π×k×d/λ)

(π：圓周率、k：消光係數、d：1000(nm)、λ：所求波長(nm))

換算為膜厚10μm時的透射率T3的值是使用藉由所述方法而算出的k，由下式求出。

T3=exp(-4×π×k×d/λ)

(π：圓周率、k：消光係數、d：10000(nm)、λ：所求波長(nm))

[表6]

已使用特定的實施方式詳細說明了本發明，但所屬技術領域中具有通常知識者明白，可不背離本發明的精神與範圍地進行各種變更。

本申請案基於2018年10月26日提出申請的日本專利申請2018-202006及2019年4月24日提出申請的日本專利申請2019-082844，藉由引用而援用其全部內容。

Claims (10)

1. 一種光學構件用膜狀物，其特徵在於：於固體成分100質量%中含有15質量%以上的有機色素，所述光學構件具有光入射面及與其不同的光出射面，且於包含與所述膜狀物相同的構成成分的薄膜(其中，所述薄膜的厚度設為在測定吸收光譜時極大吸收波長下的吸光度為2以下的厚度)的吸收光譜中，當將極大吸收波長設為X'(nm)、將比極大吸收波長更長的波長區域內吸光度為0的波長設為Y'(nm)、將極大吸收波長下的消光係數設為k'時，滿足下述式(5)及式(6)，k'≧0.6...式(5) (Y'-X')/k'≦350...式(6)。
2. 一種光學構件用膜狀物，其特徵在於：於固體成分100質量%中含有15質量%以上的有機色素，所述光學構件具有光入射面及與其不同的光出射面，且於所述膜狀物的吸收光譜中，當將消光係數k'的光譜表示為多個高斯函數之和時，所述高斯函數中，關於其峰值的高度大於極大吸收波長下的消光係數k'的極大值的20%、且其峰值的高度處於最長波長側的高斯函數，其峰值高度除以標準偏差而得的值為0.008以上，且所述消光係數k'的光譜的面積為0.1以上。
3. 如請求項1或請求項2所述的光學構件用膜狀物，其中換算為膜厚1μm時的，波長800nm以上且1100nm以下的範圍內的任意的波長W(nm)的透射率為80%以上。
4. 如請求項1或請求項2所述的光學構件用膜狀物，其膜厚為1μm以上。
5. 如請求項1或請求項2所述的光學構件用膜狀物，其為非晶。
6. 如請求項1或請求項2所述的光學構件用膜狀物，其中所述有機色素為選自由花青系色素、方酸系色素、偶氮系色素、酞青系色素、萘酞青系色素及苝系色素所組成的群組中的至少一種。
7. 如請求項1或請求項2所述的光學構件用膜狀物，其中所述有機色素為選自由下述通式(10)所表示的化合物、由下述通式(11)所表示的化合物、由下述通式(12)所表示的化合物、由下述通式(13)所表示的化合物及由下述通式(17)所表示的化合物所組成的群組中的至少一種，

   

   所述通式(10)中，R⁵⁰~R⁵³分別獨立地為氫原子或者可分支的碳數1~10的烷基；R⁵⁴為氫原子；或者氟、氯、溴或碘的鹵素原子；R⁵⁵、R⁵⁶均為氫原子，或者R⁵⁵與R⁵⁶鍵結而形成碳數4~8的環烯烴環；R⁵⁷~R⁶⁴為氫原子或者可分支的碳數1~10的烷基，但R⁵⁷~R⁶⁴中的任意相鄰的兩個基可相互鍵結而形成與取代有該些基的苯環縮合的苯環；B¹、B²分別獨立地為-CH₂-、-CHR⁶⁵-、-CR⁶⁶R⁶⁷-、-NH-、-NR⁶⁸-、-O-、或-S-；R⁶⁵~R⁶⁸分別獨立地為可分支的碳數1~10的烷基；A^-表示一價陰離子；

   

   所述通式(11)中，R⁷⁵~R⁷⁸分別獨立地為氫原子或者可分支的碳數1~10的烷基；R⁷⁹為氫原子；或者氟、氯、溴或碘的鹵素原子；R⁸⁰、R⁸¹均為氫原子，或者R⁸⁰與R⁸¹鍵結而形成碳數4~8的環烯烴環；R⁸²~R⁸⁹為氫原子或者可分支的碳數1~10的烷基，但R⁸²~R⁸⁹中的任意相鄰的兩個基可相互鍵結而形成與取代有該些基的苯環縮合的苯環；B³、B⁴分別獨立地為-CH₂-、-CHR⁶⁹-、-CR⁷⁰R⁷¹-、-NH-、-NR⁷²-、-O-、或-S-；R⁶⁹~R⁷²分別獨立地為可分支的碳數1~10的烷基；A^-表示一價陰離子；

   

   所述通式(12)中，C¹~C⁴分別獨立地為氫原子、羥基、或者碳數1~11的醯基醯胺基；其中，於所述通式(12)所包含的亞甲基上可具有任意的取代基；

   

   所述通式(13)中，C⁵、C⁶分別獨立地為氫原子、羥基、或者碳數1~11的醯基醯胺基；其中，於所述通式(13)所包含的亞甲基上可具有任意的取代基；Ar¹表示由下述通式(14)~通式(16)中的任一者所表示的結構；

   

   所述通式(14)~通式(16)中，C⁷~C¹²分別獨立地為氫原子、羥基、或者碳數1~11的醯基醯胺基；R⁹⁰~R⁹⁴分別獨立地為碳數1~10的烷基、芳基或者雜芳基；其中，相鄰的基彼此可鍵結而形成環；另外，所述通式(14)~通式(16)中的氫原子可經可分支的碳數1~10的烷基取代；

   

   所述通式(17)中， R¹⁰⁰~R¹⁰³分別獨立地為可分支的碳數1~20的烷基、或碳數3~20的環烷基；R¹⁰⁴~R¹¹⁵分別獨立地為氫原子；氟、氯、溴或碘的鹵素原子；可分支的碳數1~20的烷基；或者碳數3~20的環烷基，但R¹⁰⁴~R¹¹⁵中的任意相鄰的兩個基可相互鍵結而形成與該些基所鍵結的苯環縮合的環；另外，R¹⁰⁴~R¹¹⁵中的至少三個基含有溴原子；M為Mg、Pd、Fe、Zn、Cu、Pb、Co、Ba、Ti或Ni。
8. 一種光學構件，其具有如請求項1至請求項7中任一項所述的光學構件用膜狀物。
9. 一種光學構件用組成物，其特徵在於：於固體成分100質量%中含有15質量%以上的有機色素，所述有機色素為在利用所述有機色素的10mg/L溶液測定吸收光譜時，在500nm以上且900nm以下的波長範圍具有極大吸收，當將所述極大吸收波長設為X(nm)、將比所述極大吸收波長更長的波長區域內吸光度為0的波長設為Y(nm)、將所述極大吸收波長下的吸光度設為A時，滿足下述式(3)及式(4)者，且所述光學構件具有光入射面及與其不同的光出射面，A≧0.6...式(3) (Y-X)/A≦500...式(4)。
10. 如請求項9所述的光學構件用組成物，其中所述有機色素為選自由花青系色素、方酸系色素、偶氮系色素、酞青系 色素、萘酞青系色素及苝系色素所組成的群組中的至少一種。

Images