TWI821571B - 雷射修復方法、雷射修復裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種雷射修復方法、雷射修復裝置。能夠使雷射修復自動化，以實現改善作業效率，不受操作者技能的影響就可獲得一定的修復品質。雷射修復方法係具有：修復製程，係對多層膜基板的缺陷部設定雷射照射範圍，且在所設定之雷射加工條件下對缺陷部照射雷射光來進行修復加工，修復製程中，獲取缺陷部的分光光譜資料，並根據分光光譜資料，藉由完成學習的類神經網路設定照射在缺陷部之雷射光的雷射加工條件，類神經網路將包括多層膜結構資料、每個多層膜結構的分光光譜資料及每個多層膜結構的雷射加工實驗資料之實測資料作為學習資料進行機器學習。

Description

雷射修復方法、雷射修復裝置
本發明係有關一種雷射修復方法、雷射修復裝置。
雷射修復(laser repair)係在FPD(Flat Panel Display：平面顯示器)等的製造製程中，在檢查製程之後進行，並以TFT(Thin Film Transistor：薄膜電晶體)等多層膜基板為對象，對在檢查製程中所確定之缺陷部照射雷射光來進行修復加工。該雷射修復由於加工對象的缺陷部形狀按每個缺陷部不同且需要按每個缺陷部變更加工條件等，因此通常由具有高技能之操作者的手動操作來進行。
與此相對，提出利用圖像處理技術，使一部分修復製程自動化。在以往技術中，核對拍攝到檢查對象部位之缺陷圖像與無缺陷的基準圖像來檢測缺陷部，且根據所輸入之指示內容，指定對檢測出之缺陷照射雷射光之加工位置及加工範圍等(例如參閲下述專利文獻1)。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2008-188638號公報
[發明所欲解決之問題]
以多層膜基板為對象，由手動操作進行雷射修復時，要求僅加工缺陷部，而不會對缺陷部的周邊層或基底層帶來損傷。操作者識別在檢查製程中所確定之缺陷部與其周邊的層結構，由自身的經驗決定所需最小限度的加工範圍，且根據已識別之層結構的資訊，一邊適當選擇加工條件(雷射加工參數配方)一邊進行作業。因此，無法避免長時間作業，又，操作者的技能影響修復品質。
又，如以往技術，利用圖像處理技術使一部分修復製程自動化時，僅由表面的二維圖像無法獲得缺陷部及其周邊層結構的資訊，因此即使存在基底層的不同或層厚的偏差的情況下，亦可以在一定的加工條件下進行加工處理。因此，存在由於加工不充分或進行過度的加工而導致修復失敗或無法進行高質量的修復的問題。
本發明係用以解決該種情況而提出的。亦即，本發明的課題為，能夠使雷射修復自動化，以改善作業效率，不受操作者的技能的影響就可獲得一定的修復品質，以及即使存在基底層不同或膜厚偏差之情況下，亦能夠進行高質量的修復等。 [解決問題之技術手段]
為了解決該種課題，本發明具備如下結構。
一種雷射修復方法，其特徵為，係具有：修復製程，係對多層膜基板的缺陷部設定雷射照射範圍，在所設定之雷射加工條件下對前述缺陷部照射雷射光來進行修復加工，前述修復製程中，獲取前述缺陷部的分光光譜資料，並根據前述分光光譜資料，藉由完成學習的類神經網路設定照射在前述缺陷部之雷射光的前述雷射加工條件，前述類神經網路將包括多層膜結構資料、每個多層膜結構的分光光譜資料及每個多層膜結構的雷射加工實驗資料之實測資料作為學習資料進行機器學習。
一種雷射修復裝置，其特徵為，係具備：修復加工部，係對多層膜基板的缺陷部設定雷射照射範圍，在所設定之雷射加工條件下對前述缺陷部照射雷射光來進行修復加工，前述修復加工部獲取前述缺陷部的分光光譜資料，並根據前述分光光譜資料，藉由完成學習的類神經網路設定照射在前述缺陷部之雷射光的前述雷射加工條件，前述類神經網路將包括多層膜結構資料、每個多層膜結構的分光光譜資料及每個多層膜結構的雷射加工實驗資料之實測資料作為學習資料進行機器學習。
以下，參閲附圖對本發明的實施形態進行說明。在以下說明中，不同圖中的相同符號表示相同功能的部位，適當省略各圖中的重複內容。
本發明的實施形態之雷射修復方法係以TFT(Thin Film Transistor)等多層膜基板為對象，對其表面照射雷射光來修復加工缺陷部。如圖1所示，修復製程在檢查製程S1之後進行，且具有缺陷位置確定製程S2、缺陷形狀確定製程S3及修復加工製程S4。
圖2示出用以執行上述之修復製程的雷射修復裝置的一例。雷射修復裝置1具備：修復加工部1A，係對載置於在水平面上移動之工作台S上之多層膜基板100的表面照射雷射光L，修復加工部1A具備圖像獲取部2、雷射照射部3、光譜分光照相機4及雷射控制部5等。
圖像獲取部2例如具備顯微鏡20、白色光源21及攝像機26等，且經由顯微鏡20獲取多層膜基板100的表面圖像，在多層膜基板100存在缺陷部時獲取缺陷部圖像。從白色光源21經由反射鏡22、半反射鏡23及透鏡系統24向多層膜基板100的表面照射白色落射光，在多層膜基板100的表面反射之光經由透鏡系統24、半反射鏡23及半反射鏡25成像於攝像機26的攝像面。由攝像機26拍攝之圖像藉由圖像處理部27進行適當的圖像處理，並作為適當倍率的放大圖像顯示於顯示裝置28。
雷射照射部3例如具備雷射光源30、雷射掃描儀32等，且通過顯微鏡20對多層膜基板100的表面照射雷射光L。從雷射光源30射出之雷射光經由由反射鏡31、電流計鏡32A、32B構成之雷射掃描儀32入射至顯微鏡20，並通過顯微鏡20內的光學系統照射到多層膜基板100的表面。
光譜分光照相機4獲取多層膜基板100表面的分光圖像。與從白色光源21射出之顯微鏡20為同軸的白色落射光照射到多層膜基板100的表面，使來自其表面的反射光由插入至顯微鏡20的光軸之反射鏡29反射而入射至光譜分光照相機4。光譜分光照相機4將來自多層膜基板100的表面的反射光進行分光來獲取分光圖像的每個像素的分光光譜資料。
在此，在顯微鏡20內的雷射光L的光軸、圖像獲取部2的顯微鏡20內的光軸及光譜分光照相機4的顯微鏡20內的光軸成為同軸。藉此，能夠在顯示裝置28的監控畫面內始終設定雷射光L的照射位置，又，能夠將顯示裝置28的監控圖像與光譜分光照相機4的分光圖像設為同軸圖像。
如圖3所示，光譜分光照相機4例如具備透鏡40、狹縫41、分光器42及二維感測器43，藉由線分光方式使被測定面M上的X方向的一條反射光沿與其垂直的方向分光，由二維感測器43檢測X方向的空間資訊和其分光資料。然後，藉由沿Y方向隨時掃描一線量的反射光，針對二維感測器43的X-Y方向的每1個分辨率像素(Xn，Yn)獲得一個分光光譜資料。
雷射控制部5用以進行如下控制，在包含多層膜基板100的缺陷部之表面設定雷射照射範圍，並在所設定之雷射加工條件下對缺陷部照射雷射光。雷射控制部5根據完成學習的類神經網路50的設定進行控制。類神經網路50中輸入有由光譜分光照相機4獲取之分光圖像的每個像素的分光光譜資料，類神經網路50根據所輸入之分光光譜資料，按分光圖像的每個像素設定對缺陷部照射之雷射光的雷射加工條件。
具體說明使用雷射修復裝置1之修復製程(缺陷位置確定製程S2、缺陷形狀確定製程S3及修復製程S4)。如圖4所示，此處的修復對象的多層膜基板100具有二維週期性圖案，其具備X方向的週期性間距Px及與其正交之Y方向的週期性間距Py。該週期性圖案在多層膜基板100為FPD的TFT基板時，與一個顯示像素中的多層膜結構圖案對應。
首先，缺陷位置確定製程S2中，由在修復製程之前進行之檢查製程S1的結果確定缺陷部的位置。此時，將由圖像獲取部2獲取之放大圖像設定為低倍率，獲取包括複數個週期性圖案之圖像，並將此圖像由圖像處理部27進行圖像處理，藉此確定前述週期性間距(Px、Py)之後，確定存在缺陷部之週期性圖案的位置。然後，使顯微鏡20的光軸與所確定之位置對準，提高放大倍率以便能夠監控缺陷部的形狀，從而獲得缺陷部進行了定心之放大圖像。
缺陷形狀確定製程S3中，藉由缺陷部進行了定心之放大圖像確定缺陷部的形狀。此時，圖像處理部27將包括缺陷部之週期性圖案圖像與不包括缺陷部之週期性圖案圖像進行比較，藉此確定缺陷部的形狀。
該缺陷部的形狀確定中，亦能夠使用類神經網路50。具體而言，如圖5所示，將包括缺陷部之週期性圖案圖像(缺陷部進行了定心之放大圖像)Gd輸入到類神經網路50中的完成學習的機器學習模式50A，並根據該機器學習模式50A的輸出，圖像處理部27從包括缺陷部之週期性圖案圖像Gs中確定缺陷部的形狀Fd。
週期性圖案中並不是所有週期性圖案形成為相同形狀，而包括圖案的形狀誤差。因此、僅藉由簡單的圖像比較，很難準確地確定缺陷部的形狀。藉由利用類神經網路50的完成學習的機器學習模式50A，能夠提高缺陷部的形狀確定的精確度。機器學習模式50A中，使用修復對象的多層膜基板100的測試基板獲取之多個週期性圖案圖像Gs成為學習資料。
修復加工製程S4中，如圖6所示，首先，以包含由圖像處理部27確定之缺陷部的形狀的方式，雷射控制部5設定雷射照射範圍。雷射照射範圍為雷射掃描儀32的掃描範圍，缺陷部的形狀Fd在複數個部位分離而存在的情況下，以包含該等所有部位的方式設定掃描範圍。
然後，修復加工製程S4中，藉由光譜分光照相機4獲取之缺陷部圖像的每個像素的分光光譜資料輸入到類神經網路50，類神經網路50將所輸入之分光光譜資料分類，並按每個分類區分缺陷部圖像的區域，按所區分之每個區域設定雷射加工條件(雷射加工參數配方)。
圖6所示之例子中，對形狀Fd的缺陷部圖像內由分光光譜區分為分類I的區域、分類II的區域及分類III的區域，分光光譜對分類I的區域設定加工條件1，分光光譜對分類II的區域設定加工條件2，分光光譜對分類III的區域設定加工條件3。
如圖7所示，對完成學習的類神經網路50輸入在缺陷部圖像中照射雷射光之位置的每個像素的分光光譜資料，並從完成學習的類神經網路50按缺陷部圖像的每個像素輸出雷射加工條件。完成學習的類神經網路50具有輸入層51、中間層52及輸出層53，進行由輸入層51輸入之分光光譜的分類，由輸出層53進行多層膜結構模式的推斷。
多層膜結構模式作為一例預先設定圖7所示之模式1～模式8。在此，藉由作為最底層之基板層GL、積層於中間之第1層L1、第2層L2、第3層L3、第4層L4、最上層的加工對象層LT的積層的組合，設定作為多層膜結構存在之8種模式(模式1～模式8)。該種多層膜結構模式根據修復對象的多層膜基板100的種類進行適當設定。
如圖7所示，用以學習類神經網路50的學習資料為使用具有與修復對象的多層膜基板100相同的多層膜結構之測試基板之實測資料。實測資料為多層膜結構資料(多層膜的每一層圖案的膜厚等)、每個多層膜結構的分光光譜資料(週期性圖案的缺陷部圖像中的每個像素的分光光譜資料)、每個多層膜結構的雷射加工實驗資料(由雷射照射去除加工對象層時的雷射加工參數配方)等，該等資料按多個測試基板的週期性圖案預先進行實測。
如圖8所示，修復加工製程S4中的修復的執行，係藉由雷射掃描儀32進行雷射照射範圍(掃描範圍)內的光柵掃描，僅在水平掃描的掃描位置位於缺陷部的形狀Fd內之情況下，如以粗線圖示般，雷射光的輸出呈開啓，因此在按缺陷部圖像的每個像素預先設定之加工條件下進行加工。掃描位置在缺陷部的外部之情況下，如由虛線圖示般，雷射光的輸出呈關閉(或變低)。
利用圖9說明修復加工製程S4中的雷射控制部5的動作。如圖6所示，開始動作時(S40)，對缺陷部設定雷射照射範圍(S41)，進而，按缺陷部圖像的每個像素設定雷射加工條件(S42)。如圖6所示，利用該設定，缺陷部的形狀Fd內按每個雷射加工條件進行預先區分。
之後，開始雷射掃描時(S43)，進行掃描位置(雷射光的照射位置)是否在缺陷部內的判斷(S44)，掃描位置在缺陷部的外部的情況下(S44：否)，雷射光呈關閉(S45)，掃描位置在缺陷部內部之情況下(S44：是)，雷射光呈開啓(S46)。在預先設定之雷射加工條件下照射此時的雷射光。繼續進行該種雷射掃描(S43)直到檢測到終點為止(S47：否)。然後，結束缺陷部的修復加工，並檢測到終點時(S47：是)，結束雷射控制部5的動作(S48)。
依據使用該種雷射修復裝置1之雷射修復方法，能夠在識別成為修復對象之多層膜基板100的多層膜結構之基礎上，抽出缺陷部，在適當的加工條件下僅對缺陷部進行雷射加工。又，能夠自動進行該種修復加工。藉此，與操作者的手操作業相比能夠改善作業效率，並且不受操作者的技能的影響，就能夠獲得一定的修復品質。又，在使雷射修復自動化的基礎上，即使存在加工對象層的基底層的不同或多層膜結構的膜厚偏差之情況下，亦能夠僅適當對缺陷部進行修復加工，而不會對缺陷部的周邊層或基底層帶來損傷。
以上，參閲附圖對本發明的實施形態進行了詳述，但具體結構並不限定於該等實施形態，即使在不脫離本發明的主旨的範圍內存在設計變更等亦包含於本發明。又，上述各實施形態在其目的及結構等中只要不存在特別的矛盾或問題，則能夠沿用相互的技術並進行組合。
1:雷射修復裝置 1A:修復加工部 2:圖像獲取部 3:雷射照射部 4:光譜分光照相機 5:雷射控制部 20:顯微鏡 21:白色光源 22,29,31:反射鏡 23,25:半反射鏡 24:透鏡系統 26:攝像機 27:圖像處理部 28:顯示裝置 30:雷射光源 32:雷射掃描儀 32A,32B:電流計鏡 40:透鏡 41:狹縫 42:分光器 43:二維感測器 50:類神經網路 50A:機器學習模式 51:輸入層 52:中間層 53:輸出層 100:多層膜基板 L:雷射光 S:工作台 S1:檢查製程 S2:確定缺陷位置 S3:確定缺陷形狀 S4:修復加工
圖1係說明雷射修復方法的製程之說明圖。 圖2係示出雷射修復裝置的結構例之說明圖。 圖3係示出光譜分光照相機的結構例與功能之說明圖。 圖4係示出多層膜基板表面的週期性圖案的例子之說明圖。 圖5係說明確定缺陷形狀製程之說明圖。 圖6係說明修復加工製程之說明圖。 圖7係示出類神經網路的學習與動作之說明圖。 圖8係說明修復加工製程中的雷射掃描之說明圖。 圖9係示出修復加工製程中的雷射控制部的動作流程之說明圖。
S1:檢查製程
S2:確定缺陷位置
S3:確定缺陷形狀
S4:修復加工

Claims (6)

  1. 一種雷射修復方法，其特徵為，具有修復製程，該修復製程係對多層膜基板的缺陷部設定雷射照射範圍，在所設定之雷射加工條件下對前述缺陷部照射雷射光來進行修復加工， 前述修復製程中， 獲取前述缺陷部的分光光譜資料，並根據前述分光光譜資料，藉由完成學習的類神經網路設定照射在前述缺陷部之雷射光的前述雷射加工條件， 前述類神經網路將包括多層膜結構資料、每個多層膜結構的分光光譜資料及每個多層膜結構的雷射加工實驗資料之實測資料作為學習資料進行機器學習。
  2. 如請求項1之雷射修復方法，其中 前述缺陷部的分光光譜資料按缺陷部圖像的每個像素獲取，前述雷射加工條件按前述缺陷部圖像中的雷射掃描位置的每個像素設定。
  3. 如請求項1或2之雷射修復方法，其中 前述多層膜基板具有二維週期性圖案， 由在前述修復製程之前進行之檢查製程的結果確定前述缺陷部的位置， 將包括前述缺陷部之週期性圖案圖像與不包括前述缺陷部之週期性圖案圖像進行比較來確定前述缺陷部的形狀， 以包括所確定之前述缺陷部的形狀的方式設定前述雷射照射範圍。
  4. 如請求項3之雷射修復方法，其中 前述缺陷部的形狀根據包括前述缺陷部之週期性圖案圖像，並藉由完成學習的機器學習模式確定，該機器學習模式將前述多層膜基板的週期性圖案圖像作為學習資料進行學習。
  5. 一種雷射修復裝置，其特徵為，具備修復加工部，該修復加工部係對多層膜基板的缺陷部設定雷射照射範圍，在所設定之雷射加工條件下對前述缺陷部照射雷射光來進行修復加工， 前述修復加工部， 獲取前述缺陷部的分光光譜資料，並根據前述分光光譜資料，藉由完成學習的類神經網路設定照射在前述缺陷部之雷射光的前述雷射加工條件， 前述類神經網路將包括多層膜結構資料、每個多層膜結構的分光光譜資料及每個多層膜結構的雷射加工實驗資料之實測資料作為學習資料進行機器學習。
  6. 如請求項5之雷射修復裝置，其中 前述修復加工部具備： 圖像獲取部，係經由顯微鏡獲取缺陷部圖像； 雷射照射部，係通過前述顯微鏡，對前述缺陷部照射雷射光； 光譜分光照相機，係對前述多層膜基板照射與前述顯微鏡同軸的白色落射光，將來自前述多層膜基板的反射光進行分光來獲取每個像素的前述分光光譜資料；以及 雷射控制部，係控制前述雷射加工條件； 前述雷射控制部按前述缺陷部圖像中的雷射掃描位置的每個像素設定前述雷射加工條件。
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