TWI818791B - 化學鍍鎳液之處理系統及處理方法 - Google Patents
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Abstract
本發明係有關一種化學鍍鎳液之處理系統及處理方法，該處理系統包含一電解沉澱槽、一加熱裝置、一輸出管路與一固液分離裝置，其中，電解沉澱槽包括一槽體、一正電極、一負電極與一分隔構件，其中，正電極包括鎳金屬；分隔構件設置於槽體中且將槽體內部分隔為一第一空間與一第二空間，正電極位於第一空間，負電極位於第二空間，分隔構件包括一陰離子交換膜；加熱裝置用以對槽體中的鍍鎳液加熱，使槽體中的鍍鎳液維持於一預定溫度；固液分離裝置透過輸出管路連通電解沉澱槽的出液口，固液分離裝置去除鍍鎳液中的沉澱物。
Description
本發明係與化學鍍鎳製程有關；特別是指一種化學鍍鎳液之處理系統及處理方法。
化學鍍鎳製程將工件浸入容裝鍍鎳液的一鍍鎳槽，以化學反應將鎳金屬鍍在工件的表面。相較於傳統的電鍍，化學鍍鎳製程簡單且鍍在工件上的鎳鍍層厚度均勻，已成為鍍鎳的主流製程，特別是應用於半導體製程中、或封裝製程中。
然而，化學鍍鎳製程仍有缺點存在，其鍍鎳液隨著化學反應的次數增多，鍍鎳液中的亞磷酸根離子也持續增加，如此將會造成鍍鎳的速率減緩，並且使工件（例如晶圓）產生缺陷。為了維持鎳鍍層的品質，通常在經過一定次數的化學鍍鎳後，便將原有的鍍鎳液淘汰換新。被淘汰的鍍鎳液中的鎳離子之轉化率通常不到三成，換言之，被淘汰的鍍鎳液中仍有許多鎳離子可用於形成鎳鍍層，但礙於亞磷酸根離子的含量，不得不將鍍鎳液淘汰。如此，將使得廢棄的鍍鎳液增加。
有鑑於此，本發明之目的在於提供一種化學鍍鎳液之處理系統及處理方法，可減少或去除鍍鎳液所含的亞磷酸根離子。
緣以達成上述目的，本發明提供的一種化學鍍鎳液之處理系統，用以連通一鍍鎳槽，以接收該鍍鎳槽中的鍍鎳液；該處理系統包含一電解沉澱槽、一加熱裝置、一輸出管路與一固液分離裝置，其中，該電解沉澱槽用以接收鍍鎳液且進行電解與沉澱；該電解沉澱槽包括一槽體、一正電極、一負電極與一分隔構件，其中，該槽體具有一入液口與一出液口，該入液口連通該鍍鎳槽且接收鍍鎳液，該正電極與該負電極位於該槽體內，該正電極包括鎳金屬；該分隔構件設置於該槽體中且將該槽體內部分隔為一第一空間與一第二空間，其中，該第一空間連通該入液口與該出液口，該正電極位於該第一空間，該負電極位於該第二空間；該分隔構件包括一陰離子交換膜，該陰離子交換膜的兩面分別面對該第一空間與該第二空間；其中，該第一空間中的鍍鎳液於電解後產生沉澱物；該加熱裝置用以對該槽體中的鍍鎳液加熱，使該槽體中的鍍鎳液維持於一預定溫度；該輸出管路連通該電解沉澱槽的出液口；該固液分離裝置設置於該輸出管路上且透過該輸出管路連通該出液口，該固液分離裝置去除自該出液口輸出的鍍鎳液中的沉澱物。
本發明提供的一種化學鍍鎳液之處理方法，用以對一鍍鎳槽中的鍍鎳液進行處理，鍍鎳液包含亞磷酸根離子；該處理方法包含下列步驟：
A. 將鍍鎳液注入至一電解沉澱槽，該電解沉澱槽包括一正電極、一負電極與一陰離子交換膜，其中，該正電極包含鎳金屬，該陰離子交換膜位於該正電極與該負電極之間；
B. 對該電解沉澱槽中的鍍鎳液加熱使鍍鎳液維持於一預定溫度，並對該正電極與該負電極通電，讓該正電極產生鎳離子，鎳離子與亞磷酸根離子在該正電極與該陰離子交換膜之間反應形成亞磷酸氫鎳之沉澱物；以及
C. 將該電解沉澱槽中的鍍鎳液輸出至一固液分離裝置，透過該固液分離裝置去除鍍鎳液中的沉澱物。
本發明之效果在於，藉由對電解沉澱槽中的鍍鎳液進行加熱及電解，以減少或去除鍍鎳液所含的亞磷酸根離子，讓鍍鎳液可以再回收使用，延長鍍鎳液的使用壽命，以減少鍍鎳液的浪費。
為能更清楚地說明本發明，茲舉較佳實施例並配合圖式詳細說明如後。請參圖1與圖2所示，為本發明一第一較佳實施例化學鍍鎳液之處理系統1，其係連通一鍍鎳槽100，該鍍鎳槽100中的鍍鎳液之成分於本實施例中包含氯化鎳、氯化氨、檸檬酸銨與次亞磷酸鈉，但不以此為限。鍍鎳液經過多次的化學鍍鎳製程後，鍍鎳液將含有過多亞磷酸根離子，容易使工件產生缺陷。該處理系統1係用以去除或減少鍍鎳液中的亞磷酸根離子。該處理系統1包含一電解沉澱槽10、一加熱裝置20、一輸出管路22與一固液分離裝置32。
該電解沉澱槽10用以對鍍鎳液進行電解，並且可讓電解後產生的沉澱物沉澱。該電解沉澱槽10包括一槽體12、一分隔構件14、一正電極16與一負電極18，其中，該槽體12具有一入液口12a與一出液口12b，該入液口12a連通該鍍鎳槽100且接收鍍鎳液，本實施例中，該入液口12a係透過一輸入管路24與該鍍鎳槽100相通。該輸入管路24上可選擇地設置有一泵26，以抽取該鍍鎳槽100中的鍍鎳液並注入到該槽體12中，該槽體12內部的空間形成一通道122。實務上，亦可不設置泵26，讓該鍍鎳槽100中的鍍鎳液自然流動到該槽體12中。該輸入管路24於靠近該鍍鎳槽100的一端設置有一開關閥402，該開關閥402用以開啟或阻斷該輸入管路24。當欲對該鍍鎳槽中的鍍鎳液進行處理時，可將該開關閥402開啟。
該分隔構件14設置於該槽體12中且將該槽體12內部之通道122分隔為一第一空間122a與一第二空間122b，該第一空間122a分別連通該入液口12a與該出液口12b，本實施例中，該第一空間122a位於該第二空間122b下方，但不以此為限。該分隔構件14包括一陰離子交換膜142，該陰離子交換膜142具有相對的兩面，兩面分別面對該第一空間與該第二空間。
本實施例中，該分隔構件14更包括一支撐件144，該陰離子交換膜142透過該支撐件144結合於該槽體12內部之通道122的壁面。更詳而言，該支撐件144具有至少一鏤空部位，該陰離子交換膜142結合該支撐件144上且封閉該鏤空部位，該支撐件144的周緣係結合於該槽體12內部之通道122的壁面。實務上，亦可不需設置支撐件144，而將該陰離子交換膜142的周緣直接結合於該槽體12內部之通道122的壁面。
該陰離子交換膜142用以將該第一空間122a中的陽離子阻隔在該第一空間122a中。本實施例中，該槽體12的頂部設置有一通氣口124與一補液口126，該通氣口124及該補液口126與該第二空間122b相通。可自該補液口126將電解質溶液注入第二空間122b中，讓電解質溶液與該陰離子交換膜142和該負電極18接觸，電解質溶液可例如NaOH溶液或HCl溶液。電解質溶液注入第二空間122b時，第二空間122b中的空氣可自該通氣口124排出。電解的過程中若有產生氣體（例如氫氣）也可自該通氣口124排出。實務上，亦可將該通氣口124與該補液口126整合為一個開口，作為補液及通氣之用。
前述中，第二空間122b係以填入電解質溶液為例，但不以此為限，亦可將鍍鎳液引入第二空間122b中且接觸該陰離子交換膜142和該負電極18，以取代電解質溶液。
該正電極16包括鎳金屬，該正電極16設置於該槽體12內部且位於該第一空間122a，本實施例中，該正電極16為鎳金屬所製成之電極板。該負電極18包括金屬，該負電極18設置於該槽體12內部且位於該第二空間122b，本實施例中，該負電極18為金屬所製成之電極板，負電極18採用的金屬以鎳為例，但不以此為限，亦可採用其它的金屬。該正電極16係電性連接至一直流電源供應裝置28的一正端，該負電極18係電性連接至該直流電源供應裝置28的一負端。
該加熱裝置20設置於該電解沉澱槽10且對該槽體12中的溶液（包括鍍鎳液）加熱，使該槽體12中的鍍鎳液維持於一預定溫度，較佳者，該加熱裝置20亦對電解質溶液加熱，而使電解質溶液維持於該預定溫度。該預定溫度定義為T，其符合65℃≦T＜100℃之條件，較佳者符合70℃≦T≦90℃之條件。本實施例中，該加熱裝置20係設置於該槽體12的外圍，但不以此為限，該加熱裝置20設置於該槽體12中。
該輸出管路22連通該槽體12的出液口12b，以供將電解處理後的鍍鎳液輸出。該輸出管路22於靠近該槽體12的出液口之一端可選擇地設置一開關閥404，該開關閥404用以開啟或阻斷該輸出管路22。該開關閥404關閉時，可讓該槽體12內的鍍鎳液停流在槽體12中，以延長電解處理的時間。
本實施例中，該處理系統1更包含一磁場產生元件30，該磁場產生元件30設置於該電解沉澱槽10，該磁場產生元件30提供磁場作用於該槽體12中的鍍鎳液。於本實施例中，該磁場產生元件為一磁鐵，係設置於該槽體12之第一空間122a的外圍，較佳者，位於該槽體12靠近該正電極16處且位於該槽體12下方，以對第一空間122a中的鍍鎳液提供磁場。該磁場產生元件30亦可採用電磁鐵。本實施例中，所提供的磁場具有固定的磁場方向。在其它實施例中，亦可提供交變的磁場，即磁場方向會隨著時間而改變，例如透過一驅動裝置讓磁鐵轉動，或對改變對電磁鐵的供電的極性，而改變磁場方向。
該固液分離裝置32設置於該輸出管路22上且透過該輸出管路22連通該出液口12b。該固液分離裝置32用以將固體的沉澱物與液體分離，以去除自該出液口12b輸出的鍍鎳液中的沉澱物。本實施例中，該固液分離裝置32可例如為一過濾裝置，其具有一濾芯34，該固液分離裝置32過濾該電解沉澱槽10所輸出的鍍鎳液中的沉澱物，即亞磷酸氫鎳（NiHPO
3），藉此可去除沉澱物，並將過去除沉澱物後的鍍鎳液排出。本實施例中，該固液分離裝置32之後的輸出管路22上亦可設置有一開關閥406。欲更換該固液分離裝置32之濾芯34時，可將該固液分離裝置32前、後的開關閉404,406關閉，以便更換濾芯34。
該處理系統1更包含一回收槽36，該回收槽36連通該固液分離裝置32，且接收過濾後的鍍鎳液。該回收槽存放處理後的鍍鎳液以供再回收使用。該回收槽36與該鍍鎳槽100之間可透過一回收管38連通，回收管38上亦可設置一開關閥408，以供開啟或阻斷回收管38。於該開關閥408開啟時，該回收槽36中的鍍鎳液可經由該回收管38注入該鍍鎳槽100。
藉由上述之架構，即可進行本實施例的化學鍍鎳液之處理方法，該處理方法包含圖3所示之下列步驟。
步驟S11：將鍍鎳液注入至該電解沉澱槽10。
本實施例中，係將該開閥閥402打開，讓該鍍鎳槽100中的鍍鎳液經由該輸入管路24通注入該電解沉澱槽10的槽體12中，至少將鍍鎳液注入該第一空間122a，讓鍍鎳液接觸該正電極16與該陰離子交換膜142。實務上，若第二空間122b不填充電解質溶液，亦可透過一管路連通輸入管路24與補液口126，將鍍鎳液自補液口126引入至該第二空間122b並接觸該負電極18與該陰離子交換膜142。
步驟S12：對該電解沉澱槽10中的鍍鎳液加熱使鍍鎳液維持於該預定溫度，並對該正電極16與該負電極18通電，讓該正電極16產生鎳離子，鎳離子與亞磷酸根離子在該正電極16與該陰離子交換膜142之間反應形成亞磷酸氫鎳之沉澱物。
本實施例中，係由該加熱裝置20對該槽體加熱，使該槽體10中的鍍鎳液及電解質溶液維持於該預定溫度。預定溫度T符合65℃≦T＜100℃的目的在於，隨著溫度增加，亞磷酸氫鎳的溶解度降低，可促使鍍鎳液中析出較多的亞磷酸根離子（HPO
3 2-），在65℃以上時析出的亞磷酸根離子更多，但為了減少或避免鍍鎳液中的水份被蒸發，預定溫度設定在低於100℃。
該直流電源供應裝置28對該正電極16與負電極18通電時，即可對該槽體12中的鍍鎳液進行電解，在電解的過程中，該正電極16產生鎳離子（Ni
2+），由於鎳離子為陽離子，故鎳離子被該陰離子交換膜142阻隔在該第一空間122a中，讓較多的鎳離子可與亞磷酸根離子該第一空間122a中反應，以形成固態的亞磷酸氫鎳之沉澱物。藉由設置該陰離子交換膜142，可在該第一空間122a中增加鎳離子的數量，以及藉由對鍍鎳液加熱至預定溫度而增加了亞磷酸根離子的數量，因此，能夠團聚產生較多的亞磷酸氫鎳，以大量減少或去除鍍鎳液中所含的亞磷酸根離子。
在本實施例中，磁場產生元件在電解的過程中提供了磁場，因此，藉由帶電之離子與磁場之間的交互作用，即勞侖茲力（Lorentz force），可改變第一空間122a的帶電之離子的移動方向而產生微擾動，促進亞磷酸氫鎳團聚效果，藉此更能減少鍍鎳液中所含的亞磷酸根離子。
步驟S13：將該電解沉澱槽10中的鍍鎳液輸出至該固液分離裝置32，透過該固液分離裝置32去除鍍鎳液中的沉澱物。
本實施例中，可將該固液分離裝置32前的開關閥404,406打開，讓該槽體12中的帶有沉澱物的鍍鎳液流至該固液分離裝置32，由該固液分離裝置32濾除固態的亞磷酸氫鎳之沉澱物。該固液分離裝置32將去除沉澱物後的鍍鎳液排出，即可進一步用在化學鍍鎳製程中。亞磷酸氫鎳則收集在固液分離裝置32中，例如收集在濾芯34上，將濾芯34取出後，可得到亞磷酸氫鎳之粉末。
以上為本實施例的化學鍍鎳液之處理方法的主要步驟。藉由上述的處理系統1及處理方法即可減少或去除鍍鎳液中的亞磷酸根離子，延長鍍鎳液的使用壽命，讓鍍鎳液有效被利用，以減少鍍鎳液的浪費。
之後，該處理方法更可包含將去除沉澱物後的鍍鎳液自固液分離裝置32電解沉澱槽10排到該回收槽36。實務上，可分析回收槽36中的鍍鎳液之組成，若組成需調整時，可在回收槽中補充適當的成分，例如補充水、還原劑、錯合劑、pH調整劑、及鎳盬等成分之至少一者，以調合成可用於化學鍍鎳之鍍鎳液。而後開啟該回收管38上的開關閥408，讓鍍鎳液注入至該鍍鎳槽100中重新用於化學鍍鎳製程。
實務上，亦可持續讓該些開關閥402,404,406,408維持開啟，達到即時循環處理鍍鎳液之目的。此外，亦可在輸入管路24上設置一流量調節閥（圖未示），以調節通入電解沉澱槽10之鍍鎳液的流量，流量設定得越小，鍍鎳液便能夠在電解沉澱槽10中停留更久，以便在即時循環處理鍍鎳液時，增加電解的時間。
圖4與圖5所示為本發明一第二較佳實施例之電解沉澱槽50，其具有大致相同於第一實施例之電解沉澱槽10結構，不同的是，本實施例之槽體52的通道522係以蜿延的方式延伸於入液口52a與出液口52b之間，而分隔構件54的陰離子交換膜542、正電極56與負電極58則是呈與通道形狀相對應的蜿延狀，該陰離子交換膜542同樣透過支撐件544結合在蜿延的通道522之壁面。
藉此，可增加鍍鎳液在槽體52中的行進距離，讓鍍鎳液能夠在槽體52中停留更多時間。即使在即時循環處理鍍鎳液時，也能夠有效增加電解的時間。
圖6所示為本發明第三較佳實施例化學鍍鎳液之處理系統3，其係以第一實施例之結構為基礎，更包含一蒸發裝置60，該蒸發裝置60設置於該鍍鎳槽100與該電解沉澱槽10之間。本實施例的處理方法如圖7所示，其係以第一實施例之步驟為基礎，於步驟S11之前包含將鍍鎳液輸入到該蒸發裝置60，該蒸發裝置60接收來自該鍍鎳槽100的鍍鎳液，以於該蒸發裝置60將鍍鎳液所含有的至少一部分的氨蒸發。該蒸發裝置60具有一加熱器602，以對鍍鎳液加熱使氨蒸發。之後，再將鍍鎳液注入到該電解沉澱槽10中。
本實施例中，鍍鎳液所含的成分中的包含pH調整劑，pH調整劑含有氨，流入至電解沉澱槽10中的鍍鎳液所含的氨越多，則會影響亞磷酸氫鎳團聚效果，使亞磷酸氫鎳沉澱速率下降，因此，藉由蒸發裝置60先將鍍鎳液中的氨蒸發，可增加電解沉澱槽中之亞磷酸氫鎳的沉澱速率。之後，鍍鎳液回到回收槽36時，再於回收槽36中添加氨水，以補充被蒸發的氨。
此外，本實施例之處理系統3更可包含一預熱裝置62與一冷卻裝置64。該預熱裝置62設置於該電解沉澱槽10與該鍍鎳槽100之間。本實施例的處理方法於步驟S11中包含透過該預熱裝置62將鍍鎳液加熱到一預熱溫度後注入該電解沉澱槽10，該預熱溫度小於或等於該預定溫度，本實施例中，預熱溫度係等於預定溫度。該預定溫度定義為T0，其符合65℃≦T0＜100℃之條件，較佳者，符合70℃≦T0≦90℃之條件。 鍍鎳液經預熱再注入該電解沉澱槽10，可減少電解沉澱槽10中鍍鎳液溫度的變動，避免溫度太低而影響亞磷酸根離子析出的量。
該冷卻裝置64設置於該輸出管路22上，且用以對自電解沉澱槽10排出的鍍鎳液冷卻。
本實施例的處理方法於步驟S13之後包含透過該冷卻裝置64將排出的鍍鎳液冷卻，較佳者係冷卻到室溫。而後，將冷卻後的鍍鎳液注入至該回收槽36中。
該預熱裝置62與該冷卻裝置64亦可分別被應用於第一實施例中。
圖8所示為本發明第四較佳實施例化學鍍鎳液之處理系統4，其具有大致相同於第三實施例之結構為基礎，不同的是，該冷卻裝置64設置在該電解沉澱槽10與該固液分離裝置32之間。本實施例的處理方法如圖9所示，其具有大致相同於第三實施例之步驟，不同的是，在步驟S13中，將電解沉澱槽10中的鍍鎳液排出，透過冷卻裝置64將排出該電解沉澱槽10的鍍鎳液冷卻，冷卻後的鍍鎳液再排到固液分離裝置32，由固液分離裝置32去除鍍鎳液中的沉澱物。
圖10所示為本發有第四較佳實施例的電解沉澱槽66，其具有大致相同於第一實施例之電解沉澱槽10的結構，不同的是，該正電極16、該負電極18與該分隔構件14係直立地設置在槽體12內部。該分隔構件14將槽體12內部分隔為左、右並列的第一空間122a與第二空間122b。該槽體12的入液口12a位於頂部，出液口12b位於底部。該磁場產生元件30位於靠近正電極16的一側。藉此，同樣可對鍍鎳液電解產生亞磷酸氫鎳之沉澱物，並且由底部的出液口12b將帶有沉澱物的鍍鎳液排出。
本實施例之電解沉澱槽66，同樣可以應用於第一及第三實施例之處理系統中。
據上所述，本發明化學鍍鎳液之處理系統及處理方法，可將鍍鎳槽中的鍍鎳液進行處理，以減少或去除鍍鎳液所含的亞磷酸根離子，讓鍍鎳液可以再回收使用，延長鍍鎳液的使用壽命，以減少鍍鎳液的浪費。此外，固液分離裝置所分離出的亞磷酸氫鎳亦可作為儲能元件（例如電容、電池）的材料。藉此，可以減廢、低排廢、甚致是零排廢，達到資源永續之目的。
以上所述僅為本發明較佳可行實施例而已，舉凡應用本發明說明書及申請專利範圍所為之等效變化，理應包含在本發明之專利範圍內。
1,3,4:處理系統
10:電解沉澱槽
12:槽體
12a:入液口
12b:出液口
122:通道
122a:第一空間
122b:第二空間
124:通氣口
126:補液口
14:分隔構件
142:陰離子交換膜
144:支撐件
16:正電極
18:負電極
20:加熱裝置
22:輸出管路
24:輸入管路
26:泵
28:直流電源供應裝置
30:磁場產生元件
32:固液分離裝置
34:濾芯
36:回收槽
38:回收管
402:開關閥
404:開關閥
406:開關閥
408:開關閥
50:電解沉澱槽
52:槽體
522:通道
52a:入液口
52b:出液口
54:分隔構件
542:陰離子交換膜
544:支撐件
56:正電極
58:負電極
60:蒸發裝置
602:加熱器
62:預熱裝置
64:冷卻裝置
66:電解沉澱槽
100:鍍鎳槽
S11~S13:步驟
圖1為本發明一第一較佳實施例化學鍍鎳液之處理系統的示意圖。
圖2為本發明第一較佳實施例之電解沉澱槽的示意圖。
圖3為本發明第一較佳實施例化學鍍鎳液之處理方法的流程圖。
圖4為本發明一第二較佳實施例之電解沉澱槽的槽體之內部的示意圖。
圖5為本發明第二較佳實施例之電解沉澱槽的陰離子交換膜、正電極與負電極的示意圖。
圖6為本發明一第三較佳實施例化學鍍鎳液之處理系統的示意圖。
圖7為本發明第三較佳實施例化學鍍鎳液之處理方法的流程圖。
圖8為本發明一第四較佳實施例化學鍍鎳液之處理系統的示意圖。
圖9為本發明第四較佳實施例化學鍍鎳液之處理方法的流程圖。
圖10為本發明第四較佳實施例之電解沉澱槽的示意圖。
1:處理系統
10:電解沉澱槽
12:槽體
12a:入液口
12b:出液口
122:通道
122a:第一空間
122b:第二空間
124:通氣口
126:補液口
14:分隔構件
16:正電極
18:負電極
20:加熱裝置
22:輸出管路
24:輸入管路
26:泵
30:磁場產生元件
32:固液分離裝置
34:濾芯
36:回收槽
38:回收管
402:開關閥
404:開關閥
406:開關閥
408:開關閥
100:鍍鎳槽
Claims (17)
- 一種化學鍍鎳液之處理系統，用以連通一鍍鎳槽，以接收該鍍鎳槽中的鍍鎳液；該處理系統包含： 一電解沉澱槽，用以接收鍍鎳液且進行電解與沉澱；該電解沉澱槽包括一槽體、一正電極、一負電極與一分隔構件，其中，該槽體具有一入液口與一出液口，該入液口連通該鍍鎳槽且接收鍍鎳液，該正電極與該負電極位於該槽體內，該正電極包括鎳金屬；該分隔構件設置於該槽體中且將該槽體內部分隔為一第一空間與一第二空間，其中，該第一空間連通該入液口與該出液口，該正電極位於該第一空間，該負電極位於該第二空間；該分隔構件包括一陰離子交換膜，該陰離子交換膜的兩面分別面對該第一空間與該第二空間；其中，該第一空間中的鍍鎳液於電解後產生沉澱物； 一加熱裝置，用以對該槽體中的鍍鎳液加熱，使該槽體中的鍍鎳液維持於一預定溫度； 一輸出管路，連通該電解沉澱槽的出液口；以及 一固液分離裝置，設置於該輸出管路上且透過該輸出管路連通該出液口，該固液分離裝置去除自該出液口輸出的鍍鎳液中的沉澱物。
- 如請求項1所述化學鍍鎳液之處理系統，包含一磁場產生元件，該磁場產生元件提供磁場作用於該槽體中的鍍鎳液。
- 如請求項1所述化學鍍鎳液之處理系統，包含一蒸發裝置，設置於該電解沉澱槽與該鍍鎳槽之間，該蒸發裝置接收來自該鍍鎳槽的鍍鎳液，且將鍍鎳液所含有的至少一部分的氨蒸發。
- 如請求項1所述化學鍍鎳液之處理系統，其中該槽體之第二空間係填充電解質溶液，該槽體具有一補液口連通該第二空間。
- 如請求項1所述化學鍍鎳液之處理系統，包含一回收槽，連通該固液分離裝置，該回收槽接收去除沉澱物後的鍍鎳液。
- 如請求項1所述化學鍍鎳液之處理系統，其中該預定溫度為T，其符合65℃≦T＜100℃。
- 如請求項1所述化學鍍鎳液之處理系統，其中該槽體內部具有一通道，該分隔構件結合於該通道的壁面且將該通道分隔為該第一空間與該第二空間。
- 如請求項7所述化學鍍鎳液之處理系統，其中該通道係以蜿延的方式延伸於該入液口與該出液口之間。
- 如請求項1所述化學鍍鎳液之處理系統，包含一預熱裝置，設置於該電解沉澱槽與該鍍鎳槽之間，該預熱裝置對鍍鎳液加熱到一預熱溫度，該預熱溫度小於或等於該預定溫度。
- 如請求項1所述化學鍍鎳液之處理系統，包含一冷卻裝置，設置於該輸出管路上，且對鍍鎳液冷卻。
- 一種化學鍍鎳液之處理方法，用以對一鍍鎳槽中的鍍鎳液進行處理，鍍鎳液包含亞磷酸根離子；該處理方法包含下列步驟： A. 將鍍鎳液注入至一電解沉澱槽，該電解沉澱槽包括一正電極、一負電極與一陰離子交換膜，其中，該正電極包含鎳金屬，該陰離子交換膜位於該正電極與該負電極之間； B. 對該電解沉澱槽中的鍍鎳液加熱使鍍鎳液維持於一預定溫度，並對該正電極與該負電極通電，讓該正電極產生鎳離子，鎳離子與亞磷酸根離子在該正電極與該陰離子交換膜之間反應形成亞磷酸氫鎳之沉澱物；以及 C. 將該電解沉澱槽中的鍍鎳液輸出至一固液分離裝置，透過該固液分離裝置去除鍍鎳液中的沉澱物。
- 如請求項11所述化學鍍鎳液之處理方法，其中步驟B中包含對該電解沉澱槽中的鍍鎳液提供一磁場。
- 如請求項11所述化學鍍鎳液之處理方法，其中步驟A之前，包含將鍍鎳液輸入到一蒸發裝置，於該蒸發裝置中將鍍鎳液所含有的至少一部分的氨蒸發。
- 如請求項11所述化學鍍鎳液之處理方法，其中步驟C之後包含將去除沉澱物後的鍍鎳液冷卻後排到一回收槽。
- 如請求項11所述化學鍍鎳液之處理方法，其中該預定溫度為T，其符合65℃≦T＜100℃。
- 如請求項11所述化學鍍鎳液之處理方法，其中步驟A中包含將鍍鎳液加熱到一預熱溫度後注入該電解沉澱槽，該預熱溫度小於或等於該預定溫度。
- 如請求項11所述化學鍍鎳液之處理方法，步驟C中包含，將排出該電解沉澱槽的鍍鎳液冷卻。
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- 2022-11-02 TW TW111141871A patent/TWI818791B/zh active
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