TWI817233B

TWI817233B - 手乾燥裝置

Info

Publication number: TWI817233B
Application number: TW110140858A
Authority: TW
Inventors: 浅見潤
Original assignee: 日商空氣實驗室股份有限公司; 浅見潤
Priority date: 2020-11-05
Filing date: 2021-11-03
Publication date: 2023-10-01
Also published as: TW202218609A; WO2022097674A1; JPWO2022097674A1

Abstract

本發明的手乾燥裝置為抑制空氣以外的物體向外部流出。手乾燥裝置100以乾燥室1產生的氣流F2，將附著在手上的水分去除。手乾燥裝置100具有:氣流產生部2，將空氣A加速使氣流F2在乾燥室1產生；空氣清淨部3，位於乾燥室1上游側，將空氣A淨化；以及氣流減速部4，位於乾燥室1下游側，使氣流F3減速。其中，氣流減速部4具有使氣流F3分流的多個流路C。

Description

手乾燥裝置

本發明係有關一種手乾燥裝置。

目前已知手乾燥裝置可由乾燥室產生之氣流將手上附著的水份去除。例如專利文獻1中揭示了在接水部設有消音機構，用於降低產生氣流時的噪音。在此手乾燥裝置中，消音機構是通過擴大接水部的排水口的通道截面積而形成。

〔專利技術文獻〕〔專利文獻〕

〔專利文獻1〕日本專利特開2016-168182號公報

如上述的手乾燥裝置，在乾燥室產生的氣流主要會流出乾燥室的外部。此時，由於氣流為了將使用者手上附著的水份去除而具有高風速，例如，水滴或塵埃這種空氣以外的物體有可能會隨著氣流向外部流出。

因此，本發明的手乾燥裝置，其目的在於抑制空氣以外的物體向外部流出。

本發明的一態樣的手乾燥裝置(100)，以乾燥室(1)產生的氣流(F2)，將附著在手上的水分去除。手乾燥裝置(100)具有氣流產生部(2)，將空氣(A)加速使氣流(F2)在乾燥室(1)產生；空氣清淨部(3)，位於乾燥室(1)上游側，將空氣(A)淨化；以及氣流減速部(4)，位於乾燥室(1)下游側，使氣流(F3)減速；其中，氣流減速部(4)具有使氣流(F3)分流的多個流路(C)。

根據此手乾燥裝置(100)，使用已預先淨化的空氣(A)，使空氣(A)以外的物體含量減少，並可以在乾燥室(1)產生氣流(F2)。因此，假使氣流(F2)流出乾燥室(1)外部的情況發生，也能抑制空氣(A)以外的物體流出至外部。此外，根據此手乾燥裝置(100)，在設置於乾燥室(1)下游側的氣流減速部(4)中，可以藉由將氣流(F3)分成多個流路(C)來使氣流(F3)減速。因此，能夠抑制構成氣流(F3)的空氣(A)以高風速流出至周圍，並且氣流(F3)中包含的水滴或灰塵能容易地被收集而不會飛散。如上所述，手乾燥裝置(100)能夠抑制空氣(A)以外的物體向外部流出。

本發明的一態樣的手乾燥裝置(100)中，多個流路(C)可以形成為各自包括多個分隔板(41)，多個分隔板(41)被配置於該氣流減速部(4)的內部空間(S)。據此，可以藉由配置多個分隔板(41)的簡便方式形成多個流路(C)。

本發明的一態樣的手乾燥裝置(100)中，多個分隔板(41B~41E)可以各自包括交叉面(XB~XE)，其中交叉面(XB~XE)被設置為與氣流(F3)的流動方向交叉。如此一來，透過使氣流(F3)與交叉面(XB~XE)碰撞，可以更有效地使氣流(F3)減速。

本發明的一態樣的手乾燥裝置(100)中，分隔板(41C~41E)可以各自包括彎曲部(RC、RD1、RD2、RE1、RE2)，彎曲部(RC、RD1、RD2、RE1、RE2)在氣流(F3)的流動方向的中間位置彎曲。如此一來，由於能夠以彎曲部(RC、RD1、RD2、RE1、RE2)進一步形成交叉面(XC~XE)，可以更有效地使氣流(F3)與交叉面(XC~XE)碰撞。

本發明的一態樣的手乾燥裝置(100)中，多個流路(C)可以在氣流(F3)的流動方向的中間位置互相連通。如此一來，多個流路(C)之間的內壓容易變得均一化，無論是哪一個流路(C)，都能以良好平衡的方式使氣流(F3)減速。

本發明的一態樣的手乾燥裝置(100)中，空氣(A)可以從該手乾燥裝置(100)的上部側被吸入，從該乾燥室(1)的上方朝向下方流動，並從該手乾燥裝置(100)的下部側被排出。如此一來，例如可以使用與地面(FS)附近的下方空間相比空氣以外的物體較少之上方空間的空氣(A)在乾燥室(1)產生氣流(F2)。因此，假使氣流(F2)流出乾燥室(1)外部的情況發生，也能抑制空氣(A)以外的物體流出至外部。

本發明的一態樣的手乾燥裝置(100)中，空氣清淨部(3)可以透過將空氣(A)中所含異物過濾，使空氣(A)淨化。如此一來，例如透過有效地去除過濾器可過濾的大小之異物，可以使空氣(A)淨化。

本發明的一態樣的手乾燥裝置(100)中，空氣清淨部(3)透過在空氣(A)中放出臭氧，使空氣(A)淨化。如此一來，由於可以利用臭氧對各種細菌進行殺菌、使病毒失去活性或是分解化學物質等，可以使空氣(A)淨化。

本發明的一態樣的手乾燥裝置(100)中，流路(C)的內表面可以設有光觸媒。如此一來，可以保持流路(C)內表面的衛生。

本發明的一態樣的手乾燥裝置(100)中，流路(C)的內表面可以包括具有抗菌作用的金屬。如此一來，可以保持流路(C)內表面的衛生。

本發明的一態樣的手乾燥裝置(100)中，可以包括紫外線照射部(6)，對流路(C)的內表面照射紫外線。如此一來，由於可以透過紫外線對流路的內表面進行殺菌，可以保持流路(C)內表面的衛生。

本發明的一態樣的手乾燥裝置(100)中，可以包括排水槽(5)，其被設置在該流路(C)的下游側，用於儲存與氣流(F3)一同流動於流路(C)的水分。如此一來，可以更有效地回收氣流(F3)與流動於流路(C)的水分使其不飛散。

本發明的一態樣的手乾燥裝置(100)中，氣流產生部(2)可以切換第1模式以及與該第1模式相比產生較弱氣流(F2)的第2模式。如此一來，若以第1模式在乾燥室(1)產生較強氣流，例如可以在短時間內就將手上附著的水份去除。另一方面，若以第2模式產生較弱氣流，安裝該手乾燥裝置(100)的空間(例如室內)之空氣(A)不會被過度攪動，空氣清淨部(3)的作用可以淨化該空間內的空氣(A)。特別是與第1模式相比，第2模式較容易降低噪音以及所需電力，因此在第2模式較容易進行長時間的運轉。

本發明的一態樣的手乾燥裝置(100)中，氣流產生部(2)當在乾燥室(1)中檢測出物體時可以由第1模式產生氣流(F2)，當在乾燥室(1)中沒有檢測出物體時可以由第2模式產生氣流(F2)。如此一來，一般情況下以第2模式將空間內的空氣(A)淨化，例如當使用者為了去除手上附著的水分將手插入乾燥室(1)時，可以切換至第1模式並在短時間內去除水分。

此外，上述括號中的符號，為表示後述作為本發明的一例的實施型態結構之符號，本發明並不被實施型態的態樣限定。

如上所述，本發明的手乾燥裝置，可以抑制空氣以外的物體向外部流出。

1:乾燥室

2:送風馬達(氣流產生部)

3:空氣清淨部

4,4A~4E:氣流減速部

5:排水槽

6:紫外線照射部

30:預濾器

31:HEPA濾器

32:氣室

40:內側面

41,41A~41E:分隔板

42,42A~42E:表面

100,100A~100E:手乾燥裝置

A:空氣

AP:開口部

B:殼體

C:流路

ID:吸氣管

F1,F2,F3,F4:氣流

FS:地面

OD:排氣管

PC1,PC2,PD1~PD3,PE1~PE3:分隔板各部分

RC,RD1,RD2,RE1,RE2:彎曲部

S:內部空間

S10,S12,S14,S16,S18:步驟

WS:壁面

XB~XE:交叉面

x:朝向欲使用手乾燥裝置100的使用者的方向(正面方向)

y:使用者的右手方向

z:上下方向

圖1為表示第1實施型態的手乾燥裝置的透視圖。

圖2為表示手乾燥裝置內部構造的側視圖。

圖3為表示手乾燥裝置的氣流減速部之示意透視圖。

圖4為表示手乾燥裝置的運轉模式切換控制之流程圖。

圖5為表示第2實施型態的手乾燥裝置的氣流減速部之示意透視圖。

圖6為表示第3實施型態的手乾燥裝置的氣流減速部之示意透視圖。

圖7為表示第4實施型態的手乾燥裝置的氣流減速部之示意透視圖。

圖8為表示第5實施型態的手乾燥裝置的氣流減速部之示意透視圖。

圖9為表示第6實施型態的手乾燥裝置的氣流減速部之示意透視圖。

以下將參考圖式說明示例性的實施型態。此外，各圖中同一或是相當的部分會以相同符號標示，並省略重複說明。

〔第1實施型態〕

圖1為表示第1實施型態的手乾燥裝置的透視圖。圖2為表示手乾燥裝置內部構造的側視圖。圖1及圖2所示之手乾燥裝置100，例如設置在洗手間等的室內，是由在乾燥室1產生的氣流F2，將洗手後手上附著的水分去除的裝置。又，手乾燥裝置100，除了將手變得乾燥之用途，還具有將室內空氣淨化的空氣清淨機之功能。於此，手乾燥裝置100以與地面FS有間隔地被裝設在洗手間的壁面WS上。此外，手乾燥裝置，除了洗手間，也可以被裝設在例如工廠、商業場所、醫院等各式各樣的場所。各圖中，xy平面是水平面，x方向是朝向欲使用手乾燥裝置100的使用者的方向(正面方向)，y方向是該使用者的右手方向，此外，z方向是上下方向。

於此，「乾燥」可以是指將手上附著的水分吹飛，也可以是指將手上附著的水分蒸發。又，「手」只是以手乾燥裝置乾燥物體的一示例，手乾燥裝置100也可以乾燥手以外的各種物體。即，「手上附著的水分」可以解釋為「需被乾燥的物體上附著的水分」，「手乾燥裝置」可以解釋為「物體乾燥裝置」。

手乾燥裝置100被配置為具有上下為較長方向的略箱型殼體B。殼體B可由例如合成樹脂形成。用於吸入空氣A的吸氣管ID被形成於殼體B的上部(例如上表面)。又，用於排出空氣A的排氣管OD被形成於殼體B的下部(例如側面的下端附近)。即，手乾燥裝置100中，空氣A在手乾燥裝置100的上部側被吸入，在後述乾燥室1中由上方往下方流動，並在手乾燥裝置100的下部側被排出。手乾燥裝置100具有乾燥室1、送風馬達(氣流產生部)2、空氣清淨部3、氣流減速部4、排水槽5以及紫外線照射部。又，手乾燥裝置100具有控制送風馬達2及紫外線照射部6的控制部(未圖示)。

乾燥室1是使用者將洗淨後的手插入的部分，也是在內部從上方往下方產生氣流F2的部分。乾燥室1形成中空箱型的空間。乾燥室的側面有三面的壁部是由殼體B構成，作為剩下的一側面之正面方向(例如裝設手乾燥裝置之壁面WS的相反側)為開口部AP。乾燥室1的開口部AP大概位於使用者的腰部高度位置。又，乾燥室1在下方形成開口，與後述的氣流減速部4 連通。另一方面，乾燥室1的上方由具有通氣性的部件(例如格子狀部件)構成，後述送風馬達2及空氣清淨部3載置於該部件的上側。乾燥室1的內部空間為例如手指伸展的狀態下手腕到前端都能容易進入的大小。如此一來，使用者可以在稍微前傾的姿勢下經由開口部AP將手插入乾燥室1之內部空間。

送風馬達2為將空氣A加速並在乾燥室1產生氣流F2的裝置。送風馬達2可以收納在馬達殼內。送風馬達2例如透過吸氣管ID將手乾燥裝置100上方的空氣A吸入，並朝向下方的乾燥室1側噴出。如此，送風馬達2可以從手乾燥裝置100的上端部至乾燥室1上側之間的區域，從上方往下方使氣流F1產生。氣流F1在後述之空氣清淨部3以預濾器30、HEPA濾器31的順序通過，並經由送風馬達進一步的通過空氣清淨部3的氣室32，吹向乾燥室1。吹向乾燥室1的氣流F1，在此稱為氣流F2。

送風馬達2可以改變產生氣流F1(即，氣流F2)的強度。具體而言，送風馬達2可以切換產生較強氣流的第1模式以及與第1模式相比產生較弱氣流的第2模式。「氣流的強度」也可以指氣流的風速。在此情況下，送風馬達2在第1模式產生之氣流風速可以高於在第2模式產生之氣流風速。又，手乾燥裝置100透過已知手段檢測到有物體(例如使用者的手)插入乾燥室1，送風馬達2可以根據其檢測結果切換第1模式及第2模式。例如，當在檢測到有物體插入乾燥室1時，送風馬達2可以在第1模式下產生氣流F1，當沒有檢測到物體插入乾燥室1時，送風馬達2可以在第2模式下產生氣流F1。此外，作為用於檢測物體插入乾燥室1的手段，例如可以採用光學感測器並在乾燥室的開口部AP附近所夾位置設置發光部及受光部。

空氣清淨部3淨化乾燥室1上流側的空氣A。即，空氣清淨部3淨化在吸氣管ID與乾燥室1之間流通的氣流F1。「淨化」是指使其變乾淨，例如可以是指將空氣A所含的異物去除，也可以是指將空氣A所含特定化學物質分解。空氣清淨部3包含預濾器30、HEPA濾器(High Efficiency Particulate Air Filter)31以及氣室32。

預濾器30是透過過濾空氣A含有的直徑較大的異物來淨化空氣A的濾器(空氣濾器)。預濾器30被配置在空氣淨化部3的最上游，是從吸氣管ID進入殼體B內的空氣A首先通過的過濾器。可以採用已知的濾器作為預濾器30。預濾器30可以使已通過吸氣管ID的所有空氣A通過，例如可以配置在吸氣管ID下面側並與殼體B的內壁直接接觸(即，從內側整個覆蓋吸氣管ID)。

HEPA濾器31是透過過濾空氣A含有的異物來淨化空氣A的濾器(空氣濾器)，可以過濾直徑小於預濾器30的異物。HEPA濾器31可以是具有例如對於粒徑0.3μm的粒子在額定風量下的粒子捕集率為99.97%以上且初始壓力損失245Pa以下的過濾器。HEPA濾器31可以配置在空氣清淨部3中預濾器30的下游。HEPA濾器31是從吸氣管ID進入殼體B內的空氣在通過預濾器30之後通過的濾器。

氣室32氣是用於調節壓力調節室(未示出)中的空氣A的壓力的機構。氣室32使每一時間在乾燥室1內產生的氣流F1強度均勻。又，氣室32包括臭氧產生器(未示出)。臭氧發生器是通過已知方法在氣室32內的空間產生臭氧的裝置。臭氧發生器透過將臭氧釋放到壓力調節室中的空氣A中以淨化空氣A。在壓力調節室內放出的臭氧可以對空氣內各種細菌進行殺菌、使病毒失去活性或是分解化學物質等。氣室32設置在空氣清淨部3的最下游，具體而言是設置在送風馬達2和乾燥室1之間。即，氣室32是從吸氣管ID進入殼體B的空氣A在被吹入乾燥室1之前通過的機構。

氣流減速部4位於乾燥室1的下游側，是用於使氣流F2(即氣流F3)減速並從氣流F3中收集水滴的機構。氣流減速部4具有使氣流F3分流的多個流路C，從而增加流路阻力並衰減氣流F3的速度。例如，氣流減速部4可以透過將氣流F3分流至多個流路C以減小流路寬度(即，各流路中彼此面對的一對內表面之間的間隔距離)。在這種情況下，氣流減速部4透過在氣流F3中產生亂流等或增加氣流F3與各內表面之間的摩擦來使氣流F3減速。或者，氣流減速部4可以透過使氣流F3與流路C的內表面碰撞來使氣流F3減速。被氣流減速部4減速的氣流F3(即氣流F4)向排水槽5移動。

在此，說明手乾燥裝置100的氣流減速部4的結構。圖3為表示手乾燥裝置100的氣流減速部4之示意透視圖。如圖3所示，氣流減速部4包括內側面40和多個分隔板41。內側面40是劃分出z軸方向的兩側(即，上方及下方)開口的中空箱狀的內部空間S的面，並構成圍繞z軸的封閉外圍表面。分隔板41是在由內側面40劃分出之內部空間S被以並排配置的多個板狀部件(葉片)。如此由內側面40以及分隔板41形成使氣流F3分流的多個流路C。

各流路C的內表面可以設有光觸媒。例如，各流路C的內表面可以塗布觸媒，其可以與光反應分解目標物質。「各流路的內表面」，例如可以包含氣流減速部4的內側面40及各分割板41的表面42。又，「目標物質」可以包含例如各種細菌、病毒或是水分。

此外，各流路C的內表面可以包含具有抗菌作用的金屬。例如，形成氣流減少部4之各部件可以由樹脂形成，也可以將樹脂與銅等金屬混合。或者，具有抗菌作用的金屬可以附著在各流路C的內表面。這些金屬可以是細粒子狀。

在第1實施型態中，氣流減速部被配置為包括六個分隔板41。因此，氣流減速部4具有用於使氣流F3分流的七個流路C。分隔板41以與zx平面平行的方式延伸，並且在y方向上以預定間隔(例如，相等間隔)並排配置。各分隔板41包括在x方向上的兩端與氣流減速部4的內側面40分離的分離部分。即，各流路C可以在氣流F3的流動方向的中間位置互相連通。在該圖中，雖示出各分隔板41在x方向的兩端的整體都與氣流減速部4的內側面40分離，實際上，其也可以由支柱等的支撐部件與內側面40連結。

回到圖1和圖2，排水槽5是設置在氣流減速部4下方的容器，用於暫時儲存從氣流F3回收的水在氣流減速部4中。即，排水槽5設置在流路C的下游側，用於暫時儲存與氣流F3一同流過流路C的水分。例如，排水槽5能夠往水平方向拉出並從手乾燥裝置100的殼體B移除。例如，在清掃時可以將排水槽5從殼體B上拆下，將儲存的水丟棄，再將排水槽5重新安裝到外殼B上。

紫外線照射部6是輸出具有殺菌作用的波長及強度的光的光源。具體而言，紫外線照射部6可以是輸出紫外線的光源，更具體來說，可以是UV-LED(Ultra Violet Light Emitting Diode)。紫外線照射部6能以具有殺菌作用的光照射各流路C的內表面。此外，紫外線照射部6也能以具有殺菌作用的光照射排水槽5的內表面。紫外線照射部6透過紫外線等光的殺菌作用，對附著於氣流減速部4和排水槽5的細菌等進行殺菌或使病毒失去活性。

〔運轉模式切換控制〕

接著，對手乾燥裝置100執行之運轉模式切換控制進行說明。圖4為表示手乾燥裝置100的運轉模式切換控制之流程圖。運轉模式切換控制，在使用者欲將手上附著的水分去除的時候以外，會控制手乾燥裝置100作為空氣清淨機以使其低輸出連續運轉。圖4的流程圖的開始是以例如當手乾燥裝置100接通電源並以運轉模式切換控制開始運轉為契機。

在圖4的步驟S10中，手乾燥裝置100由控制部驅動送風馬達2並在乾燥室1中產生氣流F2。此時，控制部以與第1模式相比產生較弱氣流的第2模式驅動送風馬達2。之後，運轉模式切換控制轉移到步驟S12。

在步驟S12中，手乾燥裝置100由控制部判定乾燥室1內是否檢測到物體。控制部可以由接收例如光學感測器等感測器所輸出訊號，並以接收到的輸出訊號為基礎，判定乾燥室1內是否檢測到物體。乾燥室1內檢測到物體的情況(步驟S12：YES)，運轉模式切換控制轉移至步驟S14。另一方面，乾燥室1內未檢測到物體的情況(步驟S12：NO)，運轉模式切換控制將再度執行步驟S12的處理。

步驟S14中，手乾燥裝置100由控制部從第2模式切換至第1模式並驅動送風馬達2。接著，運轉模式切換控制轉移至步驟S16。

在步驟S16中，手乾燥裝置100由控制部判定乾燥室1內是否已經沒有檢測到物體。換言之，控制部判定步驟S12中檢測到的物體是否已經從乾燥室1中消失。控制部可以由接收例如光學感測器等感測器所輸出訊號，並以接收到的輸出訊號為基礎，判定乾燥室1內是否檢測到物體。若判定乾燥室1內未檢測到物體的情況(步驟S16：YES)，運轉模式切換控制轉移至步驟S18。另一方面，若無法判定乾燥室1內未檢測到物體的情況，即，物體依然存在於乾燥室內的情況(步驟S16：NO)，運轉模式切換控制將再度執行步驟S16的處理。

在步驟S18中，手乾燥裝置100透過控制部再次從第1模式切換到第2模式以驅動送風馬達2。結果由以上運轉模式切換控制結束，並繼續回到步驟S10以再次執行運轉模式切換控制。

〔作用及效果〕

如上述說明，手乾燥裝置100驅動送風馬達2，並從殼體B上部形成之吸氣管ID吸入空氣A。吸入殼體B的空氣A形成氣流F1，被空氣清淨部3的預濾器30、HEPA濾器31以及氣室32淨化後，吹進乾燥室1。吹進乾燥室內的空氣A形成氣流F2，並去除位於乾燥室1內的使用者的手的水分。從使用者的手去除水分的空氣A，流至氣流減速部4並形成氣流F3，並在氣流減速部4的各流路C分流。氣流F3在各流路C中產生亂流等或增加氣流F3與各流路C的內表面之間的摩擦以減速。減速後的氣流F3形成氣流F4，並流向排水槽5。此時，因氣流F4沒有足夠的強度(高風速)讓水滴飛散，氣流F4的空氣A中所含的水分被回收於排水槽5中。之後，空氣A從形成於殼體B下部的排氣管OD排出。

於此，手乾燥裝置100是由在乾燥室1產生的氣流F2將手上附著的水分去除之手乾燥裝置100。其中具有，送風馬達2使空氣A加速並在乾燥室1內產生氣流F2，空氣清淨部3位於乾燥室1上游側並將空氣A淨化，氣流減速部4位於乾燥室1下游側並使氣流F3減速。並且氣流減速部4具有使氣流F3分流的多個流路C。

根據此手乾燥裝置100，使用已預先淨化的空氣A，使空氣A以外的物體含量減少，並可以在乾燥室1產生氣流F2。因此，假使氣流F2流出乾燥室1外部的情況發生，也能抑制空氣A以外的物體流出至外部。此外，根據此手乾燥裝置100，在設置於乾燥室1下游側的氣流減速部4中，可以藉由將氣流F3分成多個流路C來使氣流F3減速。因此，能夠抑制構成氣流F3的空氣A以高風速流出至周圍，並且氣流F3中包含的水滴或灰塵能容易地被收集而不會飛散。如上所述，手乾燥裝置100能夠抑制空氣A以外的物體向外部流出。

手乾燥裝置100中，多個流路C被形成為各自包括多個分隔板41，多個分隔板41被配置於氣流減速部4的內部空間。如此一來，可以由配置多個分隔板41這種簡便的手段形成多個流路C。

手乾燥裝置100中，多個流路C在氣流F3的流動方向的中間位置互相連通。如此一來，由於多個流路C之間的內壓容易變得均一化，能以良好平衡的方式使氣流F3減速。

手乾燥裝置100中，空氣A可以從該手乾燥裝置100的上部側被吸入，從該乾燥室1的上方朝向下方流動，並從該手乾燥裝置100的下部側被排出。如此一來，例如使用上方空間的空氣A，其與地面FS附近的下方空間相比，空氣以外的物體較少，並在乾燥室1產生氣流F2。因此，假使氣流F2流出乾燥室1外部的情況發生，也能抑制空氣A以外的物體流出至外部。

手乾燥裝置100中，空氣清淨部3可以透過將空氣A中所含異物過濾，使空氣A淨化。如此一來，例如，透過有效地去除過濾器可過濾的大小之異物，可以使空氣A淨化。

手乾燥裝置100中，空氣清淨部3透過在空氣A中放出臭氧，使空氣A淨化。如此一來，由於可以利用臭氧對各種細菌進行殺菌、使病毒失去活性或是分解化學物質等，可以使空氣A淨化。

手乾燥裝置100中，流路C的內表面可以設有光觸媒。如此一來，可以保持流路C內表面的衛生。

手乾燥裝置100中，流路C的內表面可以包括具有抗菌作用的金屬。如此一來，可以保持流路C內表面的衛生。

手乾燥裝置100中，可以包括紫外線照射部6，對流路C的內表面照射紫外線。如此一來，由於可以透過紫外線對流路的內表面進行殺菌，可以保持流路C內表面的衛生。

手乾燥裝置100中，可以包括排水槽5，其被設置在該流路C的下游側，用於儲存與氣流F3一同流過流路C的水分。如此一來，可以更有效地回收氣流F3與流動於流路C的水分使其不飛散。

手乾燥裝置100中，氣流產生部2可以切換第1模式以及與該第1模式相比產生較弱氣流F2的第2模式。如此一來，若以第1模式在乾燥室1產生較強氣流，例如可以在短時間內就將手上附著的水份去除。另一方面，若以第2模式產生較弱氣流，安裝該手乾燥裝置100的空間(例如室內)的空氣A不會被過度攪動，空氣清淨部3的作用可以淨化該空間內的空氣A。特別是與第1模式相比，第2模式較容易降低噪音以及所需電力，因此在第2模式較容易進行長時間的運轉。

手乾燥裝置100中，氣流產生部2當在乾燥室1中檢測出物體時可以由第1模式產生氣流F2，當在乾燥室1中沒有檢測出物體時可以由第2模式產生氣流F2。如此一來，一般情況下以第2模式將空間內的空氣A淨化，例如當使用者為了去除手上附著的水分將手插入乾燥室1時，可以切換至第1模式並在短時間內去除水分。

〔第2實施型態〕

說明第2實施型態的手乾燥裝置100A。圖5為表示第2實施型態的手乾燥裝置100A的氣流減速部4A之示意透視圖。第2實施型態的100A與第1實施型態的手乾燥裝置100的不同點主要在於氣流減速部4A的分隔板41A的結構，其他的結構相同。

第2實施型態中，氣流減速部4A被配置為包含四個分隔板41A，分隔板41A分別具有表面42A。因此，氣流減速部4A具有使氣流F3分流的五個流路C。各分隔板41A以與yx平面平行的方式延伸，並且在x方向上以預定間隔(例如，相等間隔)並排配置。各分隔板41A包括在y方向上的兩端與氣流減速部4A的內側面40分離的分離部分。即，各流路C可以在氣流F3的流動方向的中間位置互相連通。在該圖中，雖示出各分隔板41在y方向的兩端的整體都與氣流減速部4A的內側面40分離，實際上，其也可以由支柱等的支撐部件與內側面40連結。

〔第3實施型態〕

說明第3實施型態的手乾燥裝置100B。圖6為表示第3實施型態的手乾燥裝置100B的氣流減速部4B之示意透視圖。第3實施型態的100B與第1實施型態的手乾燥裝置100的不同點主要在於氣流減速部4B的分隔板41B的結構，其他的結構相同。

第3實施型態中，氣流減速部4B被配置為包含五個分隔板41B，分隔板41B分別具有表面42B。因此，氣流減速部4B具有使氣流F3分流的六個流路C。各分隔板41B以與yz平面繞y軸傾斜的平面平行的方式延伸，並且在x方向上以預定間隔(例如，相等間隔)並排配置。各分隔板41B包括在y方向上的兩端與氣流減速部4B的內側面40分離的分離部分。即，各流路C可以在氣流F3的流動方向的中間位置互相連通。各分隔板41B可以由支柱等的支撐部件與內側面40連結。

氣流減速部4B中，各分隔板41B可以分別包括交叉面XB，其中交叉面XB被設置為與氣流F3的流動方向(例如z負方向)交叉。即，氣流F3與分隔板41B的交叉面XB碰撞而改變行進方向，並同時在氣流減速部4B內行進。在氣流減速部4B中，沿氣流F3的流動方向各分隔板41B的整個部分，其中，各分隔板41B的面向乾燥室1一側的表面是交叉面XB。因此，由於氣流F3與交叉面XB的碰撞距離可變得較長，故可回收更多的水。

如上述說明，手乾燥裝置100B中，多個分隔板41B可以分別包括交叉面XB，其中交叉面XB被設置為與氣流F3的流動方向交叉。如此一來，透過使氣流F3與交叉面XB碰撞，可以更有效地使氣流F3減速。

〔第4實施型態〕

說明第4實施型態的手乾燥裝置100C。圖7為表示第4實施型態的手乾燥裝置100C的氣流減速部4C之示意透視圖。第4實施型態的100C與第1實施型態的手乾燥裝置100的不同點主要在於氣流減速部4C的分隔板41C的結構，其他的結構相同。

第4實施型態中，氣流減速部4C被配置為包含5個分隔板41C，分隔板41C分別具有表面42C。因此，氣流減速部4C具有使氣流F3分流的六個流路C。各分隔板41C在z負方向上依順序，第1部分PC1以與yz平面繞y軸傾斜的平面平行的方式延伸，第2部分PC2以與yz平面繞y軸傾斜的平面平行的方式延伸。各分隔板41C可以包括彎曲部RC，彎曲部RC在氣流F3的流動方向的中間位置彎曲。彎曲部RC形成於第1部分PC1和第2部分PC2之間的邊界位置處。第1部分PC1和第2部分PC2在z方向上的長度比可以設置為例如大約78：22。各分隔板41C在x方向上以預定間隔(例如，相等間隔)並排配置。各分隔板41C包括在y方向上的兩端與氣流減速部4C的內側面40分離的分離部分。即，各流路C可以在氣流F3的流動方向的中間位置互相連通。各分隔板41C可以由支柱等的支撐部件與內側面40連結。

氣流減速部4C中，各分隔板41C可以分別包括交叉面XC，其中交叉面XC被設置為與氣流F3的流動方向(例如z負方向)交叉。即，氣流F3與分隔板41C的交叉面XC碰撞而改變行進方向，並同時在氣流減速部4C內行進。在氣流減速部4C中，在各隔板41C的第2部分PC2中，各分隔板41C面對乾燥室1一側的表面是交叉面XC。

如上述說明，手乾燥裝置100C中，多個分隔板41C可以分別包括交叉面XC，其中交叉面XC被設置為與氣流F3的流動方向交叉。如此一來，透過使氣流F3與交叉面XC碰撞，可以更有效地使氣流F3減速。

手乾燥裝置100C中，多個分隔板41C各自包括彎曲部RC，彎曲部RC在氣流F3的流動方向的中間位置彎曲。如此一來，由於能夠以彎曲部RC進一步形成交叉面XC，可以更有效地使氣流F3與交叉面XC碰撞。

〔第5實施型態〕

說明第5實施型態的手乾燥裝置100D。圖8為表示第5實施型態的手乾燥裝置100D的氣流減速部4D之示意透視圖。第5實施型態的100D與第1實施型態的手乾燥裝置100的不同點主要在於氣流減速部4D的分隔板41D的結構，其他的結構相同。

第5實施型態中，氣流減速部4D被配置為包含五個分隔板41D，分隔板41D分別具有表面42D。因此，氣流減速部4D具有使氣流F3分流的六個流路C。各分隔板41D在z負方向上依序包括第1部分PD1以與yz平面平行的方式延伸，第2部分PD2以與yz平面繞y軸傾斜的平面平行的方式延伸，以及第3部分PD3以與yz平面平行的方式延伸。各分隔板41D可以包括彎曲部RD1、RD2，彎曲部RD1、RD2在氣流F3的流動方向(例如z負方向)的中間位置彎曲。彎曲部RD1形成於第1部分PD1和第2部分PD2之間的邊界位置處。第1部分PD1與第1部分PD1往z負方向側的部分(即，第2部分PD2以及第3部分PD3)在z方向上的長度比可以設置為例如大約50：50。又，彎曲部RD2形成於第2部分PD2和第3部分PD3之間的邊界位置處。第3部分PD3往z正方向側的部分(即，第1部分PD1以及第2部分PD2)與第3部分PD3在z方向上的長度比可以設置為例如大約78：22。各分隔板41D在x方向上以預定間隔(例如，相等間隔)並排配置。各分隔板41D包括在y方向上的兩端與氣流減速部4D的內側面40分離的分離部分。即，各流路C可以在氣流F3的流動方向的中間位置互相連通。各分隔板41D可以由支柱等的支撐部件與內側面40連結。

氣流減速部4D中，各分隔板41D可以分別包括交叉面XD，其中交叉面XD被設置為與氣流F3的流動方向(例如z負方向)交叉。即，氣流F3與分隔板41D的交叉面XD碰撞而改變行進方向，並同時在氣流減速部4D內行進。在氣流減速部4D中，在各隔板41D的第2部分PD2中，各分隔板41D面對乾燥室1一側的表面是交叉面XD。

如上述說明，手乾燥裝置100D中，多個分隔板41D可以分別包括交叉面XD，其中交叉面XD被設置為與氣流F3的流動方向交叉。如此一來，透過使氣流F3與交叉面XD碰撞，可以更有效地使氣流F3減速。

手乾燥裝置100D中，多個分隔板41D各自包括彎曲部RD1、RD2，彎曲部RD1、RD2在氣流F3的流動方向的中間位置彎曲。如此一來，由於能夠以彎曲部RD1、RD2進一步形成交叉面XD，可以更有效地使氣流F3與交叉面XD碰撞。

〔第6實施型態〕

說明第6實施型態的手乾燥裝置100E。圖9為表示第6實施型態的手乾燥裝置100E的氣流減速部4E之示意透視圖。第6實施型態的100E與第1實施型態的手乾燥裝置100的不同點主要在於氣流減速部4E的分隔板41E的結構，其他的結構相同。

第6實施型態中，氣流減速部4E被配置為包含五個分隔板41E，分隔板41E分別具有表面42E。因此，氣流減速部4E具有使氣流F3分流的六個流路C。各分隔板41E在z負方向上依序包括第1部分PE1以與yz平面平行的方式延伸，第2部分PE2以與yz平面繞y軸傾斜的平面平行的方式延伸，以及第 3部分PE3以與yz平面平行的方式延伸。各分隔板41E可以包括彎曲部RE1、RE2，彎曲部RE1、RE2在氣流F3的流動方向(例如z負方向)的中間位置彎曲。彎曲部RE1形成於第1部分PE1和第2部分PE2之間的邊界位置處。第1部分PE1與第1部分PE1往z負方向側的部分(即，第2部分PE2以及第3部分PE3)在z方向上的長度比可以設置為例如大約22：78。又，彎曲部RE2形成於第2部分PE2和第3部分PE3之間的邊界位置處。第3部分PE3往z正方向側的部分(即，第1部分PE1以及第2部分PE2)與第3部分PD3在z方向上的長度比可以設置為例如大約78：22。各分隔板41E在x方向上以預定間隔(例如，相等間隔)並排配置。各分隔板41E包括在y方向上的兩端與氣流減速部4E的內側面40分離的分離部分。即，各流路C可以在氣流F3的流動方向的中間位置互相連通。各分隔板41E可以由支柱等的支撐部件與內側面40連結。

氣流減速部4E中，各分隔板41E可以分別包括交叉面XE，其中交叉面XE被設置為與氣流F3的流動方向(例如z負方向)交叉。即，氣流F3與分隔板41E的交叉面XE碰撞而改變行進方向，並同時在氣流減速部4E內行進。在氣流減速部4E中，在各隔板41E的第2部分PE2中，各分隔板41E面對乾燥室1一側的表面是交叉面XE。

如上述說明，手乾燥裝置100E中，多個分隔板41E可以分別包括交叉面XE，其中交叉面XE被設置為與氣流F3的流動方向交叉。如此一來，透過使氣流F3與交叉面XE碰撞，可以更有效地使氣流F3減速。

手乾燥裝置100E中，多個分隔板41E各自包括彎曲部RE1、RE2，彎曲部RE1、RE2在氣流F3的流動方向的中間位置彎曲。如此一來，由於能夠以彎曲部RE1、RE2進一步形成交叉面XE，可以更有效地使氣流F3與交叉面XE碰撞。

〔變形型態〕

上述的實施型態，可基於本領域技術人員的知識修改或改進的各種形式實施。

例如，在第1實施型態至第6實施型態的手乾燥裝置100、100A~100E中，用於吸入外部空氣A的吸氣管ID形成在殼體B的上部(例如，上表面)中，用於將空氣A排出到外部的排氣管OD形成在殼體B的下部(例如側面的下端附近)。即，手乾燥裝置100、100A~100E從外部吸入空氣A並將空氣A排出到外部。然而，手乾燥裝置100、100A~100E也可以將排氣管OD排出的空氣A的全部或一部分由吸氣管ID再次吸入而不排出到外部。換言之，手乾燥裝置100、100A~100E可以再次吸入已排出的空氣A並再循環。在這種情況下，手乾燥裝置100、100A~100E可以設置連接排氣管OD和吸氣管ID的路徑，或者可以進一步設置用於再循環空氣A的送風馬達等。連接排氣管OD和吸氣管ID的路徑可以是例如管狀管道，並且可以是由手乾燥裝置100、100A~100E的背部中空結構而形成的空氣A之流路。此外，連接排氣管OD和吸氣管ID的路徑可以僅由手乾燥裝置100、100A~100E的殼體B形成，或者可以由殼體B和壁面WS形成。

又，從第1實施型態到第6實施型態中，手乾燥裝置100、100A~100E可以切換第1模式及第2模式。然而，手乾燥裝置100、100A~100E也可能無法切換第1模式及第2模式。即，手乾燥裝置100、100A~100E產生的氣流F2強度也可以維持一定強度。

又，從第1實施型態到第6實施型態中，各分隔板41、41A~41E兩端與氣流減速部4、4A~4E的內側面40可以不用分離(即，可以不用包含分離部分。)。也就是說，各流路C可以在氣流F3的流動方向的中間位置可以不用互相連通。

此外，從第1實施型態到第6實施型態中，也可以採用另一機構(氣流產生部)加速空氣A並在乾燥室1中產生氣流F2作為氣流產生部以代替送風馬達。

此外，從第1實施型態到第6實施型態中，空氣清淨部3也可以不包括預濾器30、HEPA濾器31以及氣室32的至少一個。