TWI814205B - 具有溫控裝置之水洗過濾裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種具有溫控裝置之水洗過濾裝置，其包含一第一水洗組件、一第二水洗組件以及一連接管路，該第一水洗組件之一第一殼體之一內側設置一第一灑水裝置、一第一淋水組件以及一第一循環組件，該第二水洗組件之一第二殼體之一內側設置一第二灑水裝置、一第二淋水組件以及一第二循環組件，該連接管路之一端連通該第一殼體之一第一容置空間，該連接管路之另一端連通該第二殼體之一第二容置空間；利用該第一循環組件包含之一第一溫控裝置，以及該第二循環組件包含之一第二溫控裝置，使流經之流體具有溫差，提升整體過濾效率。
Description
本發明是關於一種具有溫控裝置之水洗過濾裝置，尤其係指一種利用加熱裝置，使流體產生溫差之水洗過濾裝置。
隨著半導體元件尺寸的縮小，氣態分子污染物(AMC)的管制及監控方式也逐漸受到重視。為了避免電子產品的電性受到影響，半導體及晶圓製造之過程均置於嚴格管控的環境，亦即無塵室(cleanroom)內。習知的無塵室空氣品質控制，主要著重在微粒、氣流及溫溼度；然而近年來半導體業界已開始重新思考所謂無塵室的定義。隨著半導體體積的縮小，靜電破壞及氣態分子污染物的影響日益明顯，用於清除氣態分子污染物的裝置也逐漸進入市場。
其中，常見的清除氣態分子污染物之裝置，係設置灑水(或噴水)裝置及淋水材料之水洗過濾裝置，水洗過濾裝置通常使用於恆溫恆濕微污染處理裝置上，透過水霧與流經之空氣接觸，以去除空氣中微量的氣態分子污染物，而空氣汙染物大致可區分為粒狀汙染物及氣態汙染物兩大類。
但習知水洗過濾裝置雖於氣體汙染物去除，具有良好效率，但在粒狀汙染物，尤其係以亞微粒(sub-micron,PM0.01~PM1)為主之粒狀汙染物，去除效率相對不佳，因此產業界需要一種能有效去除粒狀汙染物之水洗過濾裝置。
有鑑於上述習知技術之問題，本發明提供一種具有溫控裝置之水洗過濾裝置，其係第一流體進入第一水洗組件，第一水洗組件以加熱後之第二流體加熱經過之第一流體，第一流體流至第二水洗組件後，第二水洗組件以較低溫之第三流體接觸，使經過之第一流體與第三流體具有溫差，產生熱泳現象，提供能有效去除粒狀汙染物之水洗過濾裝置。
本發明之一目的在於提供一種具有溫控裝置之水洗過濾裝置，其係利用二水洗組件之結合，一第一流體進入第一水洗組件，以第一水洗組件包含之溫控裝置加熱第一灑水裝置內之第二流體，第二流體噴出對應加熱經過之第一流體，第一流體流至第二水洗組件，並以第二水洗組件包含之溫控裝置控置第二灑水裝置內之第三流體之溫度，使經過之第一流體與第三流體具有溫差，產生熱泳現象，提升整體過濾效率。
為達到上述所指稱之各目的與功效，本發明提供一種具有溫控裝置之水洗過濾裝置，其包含：一第一水洗組件、一第二水洗組件以及一連接管路，該第一水洗組件包含：一第一殼體，其一內側設置一第一容置空間，該第一殼體之一端開設一入風口，該入風口連通該第一容置空間；一第一灑水裝置，其設置於該第一容置空間，並設置於該入風口之一下方，且具有間隔空間；一第一淋水組件，其設置於該第一容置空間，並設置於該第一灑水裝置之一下方；以及一第一循環組件，其包含一第一泵浦以及一第一溫控裝置，該第一泵浦之一端連通該第一容置空間之一下方，該第一溫控裝置之一端連通該第一泵浦之另一端，該第一溫控裝置之另一端連通該第一灑水裝置；該第二水洗組件設置於該第一水洗組件之一側，該第二水洗組件包含：一第二殼體，其一內側設置一第二容置空間，該第二殼
體之一端開設一出風口，該出風口連通該第二容置空間；一第二灑水裝置，其設置於該第二容置空間，並設置於該出風口之一下方，且具有間隔空間；一第二淋水組件，其設置於該第二容置空間，並設置於該第二灑水裝置之一下方；以及一第二循環組件，其包含一第二泵浦以及一第二溫控裝置，該第二泵浦之一端連通該第二容置空間之一下方，該第二溫控裝置之一端連通該第二泵浦之另一端，該第二溫控裝置之另一端連通該第二灑水裝置；該連接管路之一端連通該第一容置空間，該連接管路之另一端連通該第二容置空間；利用此結構加熱經過第一水洗組件之流體，再於第二水洗組件內，與溫度較低之流體混合，提升水洗組件之過濾效率。
本發明之一實施例中，其中該第二水洗組件更包含一除水裝置，該除水裝置設置於該第二容置空間，並設置於該第二灑水裝置之一上方。
本發明之一實施例中，其中一第一流體由該入風口進入至該第一容置空間，該第一流體再依序經過該第一灑水裝置以及該第一淋水組件，該第一流體經過該第一淋水組件後，該第一流體進入該連接管路，該第一流體經過該連接管路後，該第一流體進入該第二容置空間，該第一流體再依序流至該第二淋水組件以及該第二灑水裝置，該第一流體經過該第二灑水裝置後，該第一流體由該出風口排出。
本發明之一實施例中，其中該第一灑水裝置噴灑一第二流體至該第一淋水組件，該第二流體經過該第一淋水組件後，該第一泵浦抽取該第二流體至該第一溫控裝置，該第二流體經過該第一溫控裝置後，該第二流體進入該第一灑水裝置；該第二灑水裝置噴灑一第三流體至該第二淋水組件，該第三流體經過該第二淋水組件後，該第二泵浦抽取該第三流體至該第二溫控裝置，該第三流體經過該第二溫控裝置後，該第三流體進入該第二灑水裝置。
本發明之一實施例中，其中該第一流體之溫度大於該第三流體之溫度。
本發明之一實施例中，更包含一第一溫度感測器，該第一溫度感測器設置於該連接管路之一內側
本發明之一實施例中，更包含以及一第二溫度感測器，該第二溫度感測器設置於該出風口之一內側。
本發明之一實施例中，更包含一控制裝置，該控制裝置電性連接該第一溫度感測器、該第二溫度感測器、該第一溫控裝置以及該第二溫控裝置。
本發明之一實施例中，其中該第一淋水組件包含複數個第一淋水層，該些個第一淋水層互相疊設。
本發明之一實施例中，其中該第二淋水組件包含複數個第二淋水層，該些個第二淋水層互相疊設。
1:具有溫控裝置之水洗過濾裝置
10:第一水洗組件
12:第一殼體
121:第一容置空間
122:入風口
14:第一灑水裝置
16:第一淋水組件
162:第一淋水層
18:第一循環組件
182:第一泵浦
184:第一溫控裝置
20:第二水洗組件
22:第二殼體
221:第二容置空間
222:出風口
24:第二灑水裝置
26:第二淋水組件
262:第二淋水層
28:第二循環組件
282:第二泵浦
284:第二溫控裝置
27:除水裝置
29:第二溫度感測器
292:第二溫度訊號
30:連接管路
31:第一溫度感測器
312:第一溫度訊號
40:控制裝置
42:第一控制訊號
44:第二控制訊號
A:第一流體
W1:第二流體
W2:第三流體
第1圖：其為本發明之一實施例之結構示意圖；第2A圖至第2B圖：其為本發明之一實施例之流體流動示意圖；第3圖：其為本發明之一實施例之其他元件示意圖；以及第4圖：其為本發明之一實施例之訊號傳輸示意圖。
為使 貴審查委員對本發明之特徵及所達成之功效有更進一步之瞭解與認識，謹佐以實施例及配合說明，說明如後：
有鑑於上述習知技術之問題，本發明係以一第一水洗組件與一第二水洗組件結合，該第一水洗組件之一第一殼體之一內側設置一第一灑水裝置、一第一淋水組件以及一第一循環組件，該第二水洗組件之一第二殼體之一內側設置一第二灑水裝置、一第二淋水組件以及一第二循環組件，該連接管路之一端連通該第一殼體之一第一容置空間，該連接管路之另一端連通該第二殼體之一第二容置空間；利用該第一循環組件包含之一第一溫控裝置，以及該第二循環組件包含之一第二溫控裝置，使流經之流體具有溫差，提升整體過濾效率，解決習知技術難以去除微小粒狀汙染物之問題。
請參閱第1圖，其為本發明之一實施例之結構示意圖，如圖所示，本實施例係一種具有溫控裝置之水洗過濾裝置1，其包含一第一水洗組件10、一第二水洗組件20以及一連接管路30；於本實施例中，該第一水洗組件10與該連接管路30之一端連通，該第二水洗組件20與該連接管路30之另一端連通，使流體可從該第一水洗組件10流動至該第二水洗組件20。
再次參閱第1圖，如圖所示，於本實施例中，該第一水洗組件10包含一第一殼體12、一第一灑水裝置14、一第一淋水組件16以及一第一循環組件18，該第一殼體12之一內側設置一第一容置空間121，用以容置元件，該第一殼體12之一端開設一入風口122，該入風口122連通該第一容置空間121，使流體可進入該第一容置空間121，該第一灑水裝置14設置於該第一容置空間121，並設置於該入風口122之一下方，且具有間隔空間，該第一淋水組件16設置於該第一容置空間121，並設置於該第一灑水裝置14之一下方，該第一循環組件18包含一第一泵浦182以及一第一溫控裝置184，該第一泵浦182之一端連通該第一容置空間121之一
下方，該第一溫控裝置184之一端連通該第一泵浦182之另一端，該第一溫控裝置184之另一端連通該第一灑水裝置14；於本實施例中，該第一灑水裝置14噴灑一第二流體W1，該第二流體W1可為水。
接續上述，於本實施例中，該第二水洗組件20設置於該第一水洗組件10之一側，該第二水洗組件20包含一第二殼體22、一第二灑水裝置24、一第二淋水組件26以及一第二循環組件28，該第二殼體22之一內側設置一第二容置空間221，用以容置元件，該第二殼體22之一端開設一出風口222，使流體可排出該第二容置空間221，該出風口222連通該第二容置空間221，該第二灑水裝置24設置於該第二容置空間221，並設置於該出風口222之一下方，該第二淋水組件26設置於該第二容置空間221，並設置於該第二灑水裝置24之一下方，該第二循環組件28包含一第二泵浦282以及一第二溫控裝置284，該第二泵浦282之一端連通該第二容置空間221之一下方，該第二溫控裝置284之一端連通該第二泵浦282之另一端，該第二溫控裝置284之另一端連通該第二灑水裝置24，該連接管路30之一端連通該第一容置空間121，該連接管路30之另一端連通該第二容置空間221，該連接管路30將該第一殼體12與該第二殼體22相互連通；於本實施例中，該第二灑水裝置24噴灑一第三流體W2，該第三流體W2可為水。
接續上述，於本實施例中，該第一淋水組件16包含複數個第一淋水層162，該些個第一淋水層162係一淋水填料，該些個第一淋水層162互相疊設，且設置複數個穿孔，該些個第一淋水層162用於接收並將該第一灑水裝置14噴灑之該第二流體W1，該第二流體W1經多次濺散呈微細小水滴或水膜，增大接觸面積，延長液體與氣體之接觸時間，確保通過之氣體能與液體有效接觸。
接續上述，於本實施例中，該第二淋水組件26包含複數個第二淋水層262，該些個第二淋水層262係一淋水填料，該些個第二淋水層262互相疊設，且設置複數個穿孔，該些個第二淋水層262用於接收並將該第二灑水裝置24噴灑之該第三流體W2，該第三流體W2經多次濺散呈微細小水滴或水膜，增大接觸面積，延長液體與氣體之接觸時間，確保通過之氣體能與液體有效接觸。
請參閱第2A圖至第2B圖，其為本發明之一實施例之流體流動示意圖，如圖所示，於本實施例中，一第一流體A(例如空氣)經由該第一殼體12之該入風口122進入，該第一流體A流至該第一殼體12之該容置空間121內，並流至該第一灑水裝置14，該第一流體A經過該第一灑水裝置14後，該第一流體A流至該第一淋水組件16，且該第一流體A經過該些個第一淋水層162，該第一流體A經過該第一淋水組件16後，該第一流體A進入該連接管路30，該第一流體A經過該連接管路30後，該第一流體A進入該第二容置空間221內，該第一流體A流至該第二淋水組件26，且該第一流體A經過該些個第二淋水層262後，流至該第二灑水裝置24，該第一流體A經過該第二灑水裝置24後，該第一流體A由該出風口222排出，完成一次循環。
再次參閱第2A圖至第2B圖，如圖所示，於本實施例中，該第一灑水裝置14噴灑該第二流體W1至該第一淋水組件16，且該第二流體W1經過該些個第一淋水層162與該第一流體A接觸混合，以去除該第一流體A包含之氣態分子污染物，該第二流體W1經過該第一淋水組件16後，該第二流體W1流至該第一容置空間121之底部集中，例如該第二流體W1流至該第一容置空間121之集水槽內集中，該第一循環組件18包含之該第一泵浦182抽取該第一容置空間121之底部之該第二流體W1，並
將該第二流體W1輸送至該第一溫控裝置184，該第一溫控裝置184加熱該第二流體W1後，該第二流體W1流至該第一灑水裝置14，於此完成一次循環，其中，該第二流體W1對應加熱接觸之該第一流體A，使該第一流體A對應升溫；於本實施例中，該第二流體W1之溫度大於該第一流體A之溫度。
再次參閱第2A圖至第2B圖，如圖所示，於本實施例中，該第二灑水裝置24噴灑該第三流體W2至該第二淋水組件26，且該第三流體W2經過該些個第二淋水層262與該第一流體A接觸混合，以去除該第一流體A包含之氣態分子污染物，該第三流體W2經過該第二淋水組件26後，該第三流體W2流至該第二容置空間221之底部集中，例如該第三流體W2流至該第二容置空間221之集水槽內集中，該第二循環組件28包含之該第二泵浦282抽取該第二容置空間221之底部之該第三流體W2，並將該第三流體W2輸送至該第二溫控裝置284，該第二溫控裝置284加熱該第三流體W2後，該第三流體W2流至該第二灑水裝置24，於此完成一次循環；於本實施例中，該第一流體A之溫度大於該第三流體W2之溫度，使該第一流體A與該第三流體W2產生熱泳現象(或簡稱熱泳)。
接續上述，熱泳(Thermophoresis)係指粒子在具有溫度梯度的氣體中，由於較高溫部分的氣體分子要比較低溫部分的氣體分子以更高的動能與粒子碰撞，導致粒子從高溫部分向低溫部分移動的現象，其中作用在粒子上的力叫做熱流力，使該第一流體A與該第三流體W2產生熱泳現象可使粒狀汙染物會因熱泳現象往洗滌液方向移動，增加粒狀污染物與洗滌液接觸機會，提升去除汙染物之效率。
請參閱第3圖，其為本發明之一實施例之其他元件示意圖，如圖所示，於本實施例中，更包含一除水裝置27，該除水裝置27設置於該第
二容置空間221，並設置於該第二灑水裝置24之一上方，該除水裝置27用於去除通過之該第一流體A所包含之水氣；於本實施例中，該除水裝置27係除濕裝置。
再次參閱第3圖以及請參閱第4圖，第4圖為本發明之一實施例之訊號傳輸示意圖，如圖所示，本實施例進一步於更包含一第一溫度感測器31、一第二溫度感測器29以及一控制裝置40，該第一溫度感測器31設置於該連接管路30之一內側，用於感測經過該連接管路30之該第一流體A之溫度，該第二溫度感測器29設置於該出風口222之一內側，用於感測排出該出風口222之該第一流體A之溫度，該控制裝置40電性連接該第一溫度感測器31、該第二溫度感測器29、該第一溫控裝置184以及該第二溫控裝置284，其中該第一溫控裝置184以及該第二溫控裝置284各別控制該第二流體W1以及該第三流體W2之溫度。
接續上述，於本實施例中，該第一溫度感測器31感測經過該連接管路30之該第一流體A之溫度，並傳輸一第一溫度訊號312至該控制裝置40，該第二溫度感測器29感測排出該出風口222之該第一流體A之溫度，並傳輸一第二溫度訊號292至該控制裝置40，該控制裝置40依據該第一溫度訊號312以及該第二溫度訊號292發出一第一控制訊號42以及一第二控制訊號44，該第一溫控裝置184接收該第一控制訊號42，以控制該第二流體W1之溫度，該第二溫控裝置284接收該第二控制訊號44，並對應控制該第三流體W2之溫度，使該第一流體A之溫度恆大於該第三流體W2之溫度，以產生熱泳現象，提升過濾之效率。
綜上所述，本發明提供一種具有溫控裝置之水洗過濾裝置，其係利用二水洗組件之結合，其中第一水洗組件包含溫控裝置，溫控裝置加熱第一灑水裝置內之第二流體(如水)，藉由第一灑水裝置對應加熱經過之第
一流體(如空氣)，加熱後之第一流體再流至第二水洗組件，並以第二水洗組件包含之溫控裝置控置第二灑水裝置內之第三流體(例如水)之溫度，使經過之第一流體與第三流體之間具有溫差，產生熱泳現象，提升過濾例裝汙染物效率，以此裝置解決習知水洗過濾裝置，難以去除微小粒狀汙染物之問題。
故本發明實為一具有新穎性、進步性及可供產業上利用者，應符合我國專利法專利申請要件無疑，爰依法提出發明專利申請，祈 鈞局早日賜准專利，至感為禱。
惟以上所述者，僅為本發明一實施例而已，並非用來限定本發明實施之範圍，故舉凡依本發明申請專利範圍所述之形狀、構造、特徵及精神所為之均等變化與修飾，均應包括於本發明之申請專利範圍內。
1:具有溫控裝置之水洗過濾裝置
10:第一水洗組件
12:第一殼體
121:第一容置空間
122:入風口
14:第一灑水裝置
16:第一淋水組件
162:第一淋水層
18:第一循環組件
182:第一泵浦
184:第一溫控裝置
20:第二水洗組件
22:第二殼體
221:第二容置空間
222:出風口
24:第二灑水裝置
26:第二淋水組件
262:第二淋水層
28:第二循環組件
282:第二泵浦
284:第二溫控裝置
30:連接管路
W1:第二流體
W2:第三流體
Claims (10)
- 一種具有溫控裝置之水洗過濾裝置，其包含：一第一水洗組件，其包含：一第一殼體，其一內側設置一第一容置空間，該第一殼體之一端開設一入風口，該入風口連通該第一容置空間；一第一灑水裝置，其設置於該第一容置空間，並設置於該入風口之一下方；一第一淋水組件，其設置於該第一容置空間，並設置於該第一灑水裝置之一下方；以及一第一循環組件，其包含一第一泵浦以及一第一溫控裝置，該第一泵浦之一端連通該第一容置空間之一下方，該第一溫控裝置之一端連通該第一泵浦之另一端，該第一溫控裝置之另一端連通該第一灑水裝置；一第二水洗組件，其設置於該第一水洗組件之一側，該第二水洗組件包含：以及一第二殼體，其一內側設置一第二容置空間，該第二殼體之一端開設一出風口，該出風口連通該第二容置空間；一第二灑水裝置，其設置於該第二容置空間，並設置於該出風口之一下方；一第二淋水組件，其設置於該第二容置空間，並設置於該第二灑水裝置之一下方；以及一第二循環組件，其包含一第二泵浦以及一第二溫控裝置，該第二泵浦之一端連通該第二容置空間之一下方，該第二溫控裝置之一端連通該第二泵浦之另一端，該第二溫控裝置之另一端連通該第 二灑水裝置；一連接管路，其一端連通該第一容置空間，該連接管路之另一端連通該第二容置空間。
- 如請求項1所述之具有溫控裝置之水洗過濾裝置，其中該第二水洗組件更包含一除水裝置，該除水裝置設置於該第二容置空間，並設置於該第二灑水裝置之一上方。
- 如請求項1所述之具有溫控裝置之水洗過濾裝置，其中一第一流體由該入風口進入至該第一容置空間，該第一流體再依序經過該第一灑水裝置以及該第一淋水組件，該第一流體經過該第一淋水組件後，該第一流體進入該連接管路，該第一流體經過該連接管路後，該第一流體進入該第二容置空間，該第一流體再依序流至該第二淋水組件以及該第二灑水裝置，該第一流體經過該第二灑水裝置後，該第一流體由該出風口排出。
- 如請求項3所述之具有溫控裝置之水洗過濾裝置，其中該第一灑水裝置噴灑一第二流體至該第一淋水組件，該第二流體經過該第一淋水組件後，該第一泵浦抽取該第二流體至該第一溫控裝置，該第二流體經過該第一溫控裝置後，該第二流體進入該第一灑水裝置；該第二灑水裝置噴灑一第三流體至該第二淋水組件，該第三流體經過該第二淋水組件後，該第二泵浦抽取該第三流體至該第二溫控裝置，該第三流體經過該第二溫控裝置後，該第三流體進入該第二灑水裝置。
- 如請求項4所述之具有溫控裝置之水洗過濾裝置，其中該第一流體之溫度大於該第三流體之溫度。
- 如請求項1所述之具有溫控裝置之水洗過濾裝置，更包含一第一溫度感測器，該第一溫度感測器設置於該連接管路之一內側。
- 如請求項6所述之具有溫控裝置之水洗過濾裝置，更包含一第二溫度感測器，該第二溫度感測器設置於該出風口之一內側。
- 如請求項7所述之具有溫控裝置之水洗過濾裝置，更包含一控制裝置，該控制裝置電性連接該第一溫度感測器、該第二溫度感測器、該第一溫控裝置以及該第二溫控裝置。
- 如請求項1所述之具有溫控裝置之水洗過濾裝置，其中該第一淋水組件包含複數個第一淋水層，該些個第一淋水層互相疊設。
- 如請求項1所述之具有溫控裝置之水洗過濾裝置，其中該第二淋水組件包含複數個第二淋水層，該些個第二淋水層互相疊設。
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- 2022-01-11 TW TW111101132A patent/TWI814205B/zh active
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