TWI805783B - 維護裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明可於不使處理容器內部暴露於外部大氣之情況下簡易地進行維護。
本發明之維護裝置具有外罩、及固定構件。外罩形成為與於基板處理時設為真空環境且可分離為第1器件與第2器件之處理容器之第1器件與第2器件之交界線、或使第1器件與第2器件分離而成之開口面對應之尺寸，具有氣密性且至少一部分具有視覺透過性。固定構件將外罩沿著處理容器之第1器件與第2器件之交界線密接固定，或將外罩密接固定於使第1器件與第2器件分離而成之開口面。

Description

維護裝置
本發明係關於一種維護裝置。
電漿蝕刻裝置中，設置於半導體晶圓(以下，稱為「晶圓」)之外周之聚焦環因蝕刻處理而被消耗。因此，專利文獻1中揭示有一種經由向電漿蝕刻裝置搬送晶圓之搬送系統更換聚焦環之技術。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2006-196691號公報
本發明提供一種技術，其可於不使處理容器內部暴露於外部大氣之情況下簡易地進行維護。
本發明之一態樣之維護裝置具有外罩、及固定構件。外罩形成為與 於基板處理時設為真空環境且可分離為第1器件與第2器件之處理容器之第1器件與第2器件之交界線、或使第1器件與第2器件分離而成之開口面對應之尺寸，具有氣密性且至少一部分具有視覺透過性。固定構件將外罩沿著處理容器之第1器件與第2器件之交界線密接固定，或將外罩密接固定於使第1器件與第2器件分離而成之開口面。
根據本發明，可於不使處理容器內部暴露於外部大氣之情況下簡易地進行維護。
10:電漿蝕刻裝置
30:處理容器
30a:上部器件
30b:下部器件
30c:接地導體
30d:密封構件
31:載置台
33:基台
33b:冷媒入口配管
33c:冷媒出口配管
33d:冷媒流路
34:支持台
35:聚焦環
36:靜電吸盤
36a:電極
36b:絕緣體
36c:加熱器
37:內壁構件
45:氣體供給源
45a:氣體供給配管
45b:質量流量控制器
46:簇射頭
46a:本體部
46b:上部頂板
46c:氣體擴散室
46d:氣體通流孔
46e:氣體導入孔
46g:氣體導入口
47:絕緣性構件
48a:低通濾波器
48b:可變直流電源
48c:啟閉開關
50:供電棒
81:排氣口
82:排氣管
83:排氣裝置
84:上部積存物遮罩
85:下部積存物遮罩
86:積存物遮罩
87:排氣板
90:控制部
95:升降機構
95a:臂
100:維護裝置
101:第1維護裝置
102:第2維護裝置
103:第3維護裝置
105:氣體管
110:外罩
110b:拉鏈部
112:轉接器
112a:轉接器
112b:轉接器
113:夾環
113a:帶部
113b:固定部
114:接頭
115b:螺絲孔
120:外罩
121:環構件
122:螺絲孔
123:安裝螺絲
124:密封構件
130:外罩
131:環構件
132:螺絲孔
133:安裝螺絲
134:密封構件
140:手套箱
150:容器
151:氣密扣結件
152:接頭
153:接頭
154:氣密扣結件
V2:開關閥
W:晶圓
圖1係概略性地表示實施形態之電漿蝕刻裝置之圖。
圖2係表示實施形態之處理容器之外觀之一例之圖。
圖3係對實施形態之維護裝置之一例進行說明之圖。
圖4係表示於處理容器配置有實施形態之轉接器之狀態之圖。
圖5係表示實施形態之夾環之一例之圖。
圖6係表示於外罩上設置有夾環之狀態之一例之圖。
圖7A係表示由外罩覆蓋之內部之大氣之狀態之一例之圖。
圖7B係表示由外罩覆蓋之內部之大氣之狀態之一例之圖。
圖7C係表示將上部器件與下部器件分離之狀態之一例之圖。
圖8係表示實施形態之第2維護裝置之構成之一例之圖。
圖9係表示實施形態之第3維護裝置之構成之一例之圖。
圖10A係對設置實施形態之第2維護裝置及第3維護裝置之流程之一 例進行說明之圖。
圖10B係對設置實施形態之第2維護裝置及第3維護裝置之流程之一例進行說明之圖。
圖10C係對設置實施形態之第2維護裝置及第3維護裝置之流程之一例進行說明之圖。
圖11A係表示於下部器件安裝有實施形態之第3維護裝置之狀態之一例之圖。
圖11B係表示於上部器件安裝有實施形態之第2維護裝置之狀態之一例之圖。
圖12係表示已卸除實施形態之第1維護裝置之狀態之一例之圖。
圖13係表示使實施形態之上部器件於旋轉方向上滑動之狀態之一例之圖。
圖14係表示對安裝有實施形態之第3維護裝置之下部器件之內部填充乾燥空氣之狀態之一例的圖。
圖15A係對使用實施形態之第3維護裝置取出器件之流程之一例進行說明之圖。
圖15B係對使用實施形態之第3維護裝置取出器件之流程之一例進行說明之圖。
圖15C係對使用實施形態之第3維護裝置取出器件之流程之一例進行說明之圖。
圖16A係對使用實施形態之第3維護裝置安裝器件之流程之一例進行說明之圖。
圖16B係對使用實施形態之第3維護裝置安裝器件之流程之一例進行 說明之圖。
圖17係表示實施形態之第1維護裝置之另一例之圖。
圖18係表示實施形態之第3維護裝置之另一例之圖。
以下，參照圖式，對本申請所揭示之維護裝置之實施形態詳細地進行說明。再者，所揭示之維護裝置並不受本實施形態限定。
且說，與晶圓相比，聚焦環口徑及重量較大。因此，於藉由搬送晶圓之搬送系統更換聚焦環之情形時，需要可搬送聚焦環之堅固之搬送單元。又，需要可供聚焦環通過之寬幅。進而，電漿蝕刻裝置中，除聚焦環以外，亦有例如位於聚焦環之外周之腔室保護器件、或作為對向電極之上部電極等之需要定期地維護之器件。為了可更換此種器件，需要難度更高之搬送系統，故系統變得非常昂貴。
因此，一般而言，電漿蝕刻裝置係於對處理容器進行大氣釋放後進行處理容器之器件之更換。然而，電漿蝕刻裝置於進行大氣釋放將處理容器內設為大氣之情形時，要進行溫度調整、水分控制，故重新開始製程前需要相當長之時間，存在生產性之問題。尤其，若大氣中所含之水分附著於處理容器內之器件，則於抽真空時，著實難以進行脫氣，需要相當長之抽真空之時間。又，於處理容器內附著有氟化物之情形時，有時氟化物會與大氣之水分反應，成為氟化氫(HF)，使處理容器內之零件惡化。
因此，期待可於不使處理容器內部暴露於外部大氣之情況下簡易地進行維護。
[維護對象裝置之構成]
對作為維護裝置進行維護之對象之維護對象裝置進行說明。維護對象裝置係具有設為真空環境之處理容器之裝置。本實施形態中，列舉以電漿蝕刻裝置作為維護對象裝置之情形為例進行說明。再者，維護對象裝置並不限定於電漿蝕刻裝置。
圖1係概略性地表示實施形態之電漿蝕刻裝置之圖。電漿蝕刻裝置10具有氣密性地構成且電性地被設為接地電位之處理容器30。處理容器30設為圓筒狀，例如包含於表面形成有陽極氧化覆膜之鋁等。處理容器30形成供生成電漿之處理空間。處理容器30內收容有水平地支持晶圓W之載置台31。
載置台31呈底面朝向上下方向上之大致圓柱狀，上側之底面設為載置面36d。載置台31之載置面36d設為較晶圓W更大之尺寸。載置台31包含基台33、及靜電吸盤36。
基台33包含導電性之金屬、例如鋁等。基台33作為下部電極發揮功能。基台33由絕緣體之支持台34支持，支持台34設置於處理容器30之底部。
靜電吸盤36設為上表面平坦之圓盤狀，該上表面設為載置晶圓W之載置面36d。靜電吸盤36於俯視下設置於載置台31之中央。靜電吸盤36具有電極36a及絕緣體36b。電極36a設置於絕緣體36b之內部，於電極36a連接有未圖示之直流電源。靜電吸盤36以藉由自直流電源向電極36a施加直流電壓，從而利用庫倫力吸附晶圓W之方式構成。又，靜電吸盤36中，於絕緣體36b之內部設置有加熱器36c。加熱器36c經由後述之供電機構被供給電力，控制晶圓W之溫度。
又，於載置台31之上方之外周設置有例如由單晶矽所形成之聚焦環35。進而，以包圍載置台31及支持台34之周圍之方式設置有例如包含石英等之圓筒狀之內壁構件37。
於基台33連接有供電棒50。構成為經由供電棒50自未圖示之高頻電源向基台33供給電漿產生用之特定頻率之高頻電力。
於基台33之內部形成有冷媒流路33d。冷媒流路33d係於一端部連接有冷媒入口配管33b，於另一端部連接有冷媒出口配管33c。電漿蝕刻裝置10設為如下構成：藉由使冷媒、例如冷卻水等分別於冷媒流路33d之中循環，從而可控制載置台31之溫度。再者，電漿蝕刻裝置10亦可設為如下構成：於基台33之內部，與分別載置晶圓W與聚焦環35之區域對應地單獨設置冷媒流路，可個別地控制晶圓W與聚焦環35之溫度。又，電漿蝕刻裝置10亦可設為如下構成：向晶圓W或聚焦環35之背面側供給冷熱傳遞用氣體，可個別地控制溫度。例如，亦可以貫通載置台31等之方式於晶圓W 之背面設置用於供給氦氣等冷熱傳遞用氣體(背面氣體)之氣體供給管。氣體供給管連接於氣體供給源。根據該等構成，可將藉由靜電吸盤36吸附保持於載置台31之上表面之晶圓W控制為特定之溫度。
另一方面，於載置台31之上方，以與載置台31平行地相對之方式設置有具有作為上部電極之功能之簇射頭46。簇射頭46與載置台31作為一對電極(上部電極與下部電極)發揮功能。
簇射頭46設置於處理容器30之頂壁部分。簇射頭46具備本體部46a、及形成電極板之上部頂板46b，經由絕緣性構件47由處理容器30之上部支持。本體部46a包含導電性材料、例如於表面形成有陽極氧化覆膜之鋁等，且以可於其下部裝卸自如地支持上部頂板46b之方式構成。
於本體部46a之內部設置有氣體擴散室46c，於本體部46a之底部以位於氣體擴散室46c之下部之方式形成有多個氣體流經孔46d。又，於上部頂板46b，氣體導入孔46e以於厚度方向上貫通該上部頂板46b之方式，與上述之氣體流經孔46d重疊地設置。根據此種構成，供給至氣體擴散室46c之處理氣體經由氣體流經孔46d及氣體導入孔46e簇射狀地分散供給至處理容器30內。
於本體部46a形成有用於向氣體擴散室46c導入處理氣體之氣體導入口46g。於氣體導入口46g連接有氣體供給配管45a之一端。於氣體供給配管45a之另一端連接有供給包含處理氣體在內之各種氣體之氣體供給源 45。於氣體供給配管45a自上游側依序設置有質量流量控制器(MFC)45b、及開關閥V2。並且，用於電漿蝕刻之處理氣體自氣體供給源45經由氣體供給配管45a供給至氣體擴散室46c，自氣體擴散室46c經由氣體流經孔46d及氣體導入孔46e簇射狀地分散供給至處理容器30內。
於上述作為上部電極之簇射頭46，經由低通濾波器(LPF)48a電性地連接有可變直流電源48b。可變直流電源48b構成為可藉由啟閉開關48c而使供電開啟、關閉。可變直流電源48b之電流、電壓以及啟閉開關48c之開啟、關閉係藉由後述之控制部90控制。
又，以自處理容器30之側壁延伸至較簇射頭46之高度位置更上方之方式設置有圓筒狀之接地導體30c。該圓筒狀之接地導體30c於上部具有頂壁。
於處理容器30之底部形成有排氣口81。於排氣口81經由排氣管82連接有排氣裝置83。排氣裝置83具有真空泵，且以可藉由使真空泵作動而將處理容器30內減壓至特定真空度之方式構成。
於處理容器30之側部內側沿著內壁面設置有積存物遮罩86。積存物遮罩86防止蝕刻副生成物(堆積物)附著於處理容器30。積存物遮罩86裝卸自如地構成。於積存物遮罩86與圓筒狀之內壁構件37之間設置有排氣板87。於排氣板87形成有複數個貫通孔，使處理容器30之內側空間與排氣口81之間連通。
上述構成之電漿蝕刻裝置10藉由控制部90統一地控制動作。控制部90例如為電腦，控制電漿蝕刻裝置10之各部分。電漿蝕刻裝置10藉由控制部90統一地控制動作。
然，電漿蝕刻裝置10為了可更換處理容器30之內部之器件，形成處理空間之處理容器30設為係將第1器件與第2器件接合而構成，且可分離為第1器件與第2器件。本實施形態中，處理容器30設為係將上側之上部器件30a、與下側之下部器件30b接合而構成，且可分離為上部器件30a與下部器件30b。例如，處理容器30設為可於絕緣性構件47之下部附近分離為上部器件30a與下側之下部器件30b。上部器件30a包含作為上部電極發揮功能之簇射頭46。下部器件30b包含作為下部電極發揮功能之載置台31。處理容器30設為於上部器件30a與下部器件30b之接合面設置有O型環等密封構件30d，於接合之狀態下可維持氣密性。又，本實施形態中，積存物遮罩86設為可分離為上部積存物遮罩84與下部積存物遮罩85，且與上部器件30a與下部器件30b同樣地可於絕緣性構件47之下部附近分離。於該情形時，上部器件30a亦包含上部積存物遮罩84。再者，根據積存物遮罩86或絕緣性構件47周邊所設計之構造之不同，並非必須分割積存物遮罩86，又，亦可分割絕緣性構件47。
圖2係表示實施形態之處理容器之外觀之一例之圖。圖2中概略性地表示有處理容器30之外觀。處理容器30為圓筒狀，由上部器件30a與下部器件30b接合構成。又，於處理容器30之旁側設置有升降機構95。升降機 構95設置有支持上部器件30a之臂95a，藉由使升降機構95升降從而可經由臂95a使上部器件30a升降。進而，升降機構95於上升之狀態下可使臂95a以升降機構95為軸旋轉移動，且可使上升之上部器件30a於旋轉方向上滑行移動。
然，電漿蝕刻裝置10中，有時因使用電漿之蝕刻處理而被消耗之器件存在於處理容器30內，需要更換器件。例如，電漿蝕刻裝置10中，設置於晶圓W之外周之聚焦環35因蝕刻處理而被消耗。電漿蝕刻裝置10中，於對處理容器30進行大氣釋放後更換聚焦環35等器件之情形時，需要進行處理容器30內之溫度調整、水分控制，重新開始對晶圓W進行蝕刻處理前需要相當長之時間。其結果為，電漿蝕刻裝置10之生產性降低。
因此，作業者使用以下說明之本實施形態之維護裝置實施器件之更換。
[維護裝置之構成]
其次，對實施形態之維護裝置之構成進行說明。圖3係對實施形態之維護裝置之一例進行說明之圖。圖3中表示打開處理容器30之前之狀態。實施形態之維護裝置100具有第1維護裝置101、第2維護裝置102、及第3維護裝置103。
第1維護裝置101具有外罩110。外罩110設為形成有與上部器件30a與下部器件30b之交界線對應之尺寸之開口的袋體。外罩110具有氣密性且 至少一部分具有視覺透過性。例如，外罩110含有聚氯乙烯等透明之合成樹脂，整體具有視覺透過性。於外罩110之內部配置有第2維護裝置102及第3維護裝置103。第2維護裝置102及第3維護裝置103之詳情將於後述。
圖4係表示於處理容器配置有實施形態之第1維護裝置之狀態之圖。第1維護裝置101具有用於將外罩110固定於處理容器30之固定構件。本實施形態中，第1維護裝置101具有轉接器112、及夾環113作為固定構件。
轉接器112於上部器件30a與下部器件30b之交界線之上下配置有2個。例如，轉接器112由複數個器件分割而構成，將各器件依序配置於上部器件30a與下部器件30b之交界線之上側及下側，藉此沿著交界線分別配置於上下。
於處理容器30之外周面，於上部器件30a與下部器件30b之交界線之上側配置有轉接器112a，於下側配置有轉接器112b。上下方向上貫通之接頭114部分地設置於轉接器112。再者，轉接器112亦可不設為可裝卸而預先固定於處理容器30。例如，處理容器30亦可與轉接器112一體地形成。又，亦可於轉接器112設置可變更開啟狀態與關閉狀態之閥來代替接頭114。
圖5係表示實施形態之夾環之一例之圖。夾環113具有長條之帶部113a、及固定部113b。固定部113b將帶部113a之一端固定，使帶部113a之另一端可裝卸。又，固定部113b可調整將所安裝之帶部113a之另一端 固定之固定位置。夾環113藉由改變利用固定部113b固定帶部113a之另一端之固定位置，從而可調整利用帶部113a之緊固。
返回圖3。於外罩110之開口，對向地設置有可保持氣密性地接合之拉鏈部110b。作業者自一側利用外罩110之開口將上部器件30a與下部器件30b之交界線覆蓋，於另一側將拉鏈部110b接合。然後，作業者自外罩110之上側，沿著轉接器112設置夾環113。
圖6係表示於外罩上設置有夾環之狀態之一例之圖。外罩110藉由接合之拉鏈部110b以及2個夾環113而上側及下側被緊固。外罩110中，由於已將拉鏈部110b接合，故外部之大氣不會於拉鏈部110b通過，使氣密性得到維持。藉此，處理容器30之外周面由外罩110所覆蓋之內部與外部阻斷。
圖7A及圖7B係表示由外罩覆蓋之內部之大氣之狀態之一例之圖。如圖7A所示，由外罩110覆蓋之內部充滿外部之含有水分之大氣。作業者以乾燥空氣填充處理容器30之內部及由外罩110覆蓋之內部。例如，作業者操作電漿蝕刻裝置10，自氣體供給源45供給乾燥空氣，自簇射頭46將乾燥空氣導入處理容器30內，藉此於處理容器30內填充乾燥空氣。又，作業者將用於供給乾燥空氣之氣體管105連接至轉接器112之任一接頭114，打開另一接頭114。藉此，如圖7B所示，處理容器30之外周面之由外罩110所覆蓋之內部之大氣被置換為乾燥空氣。
作業者使升降機構95上升，將上部器件30a與下部器件30b分離。圖7C係表示將上部器件與下部器件分離之狀態之一例之圖。此處，因處理容器30之外周面之由外罩110所覆蓋之內部與外部阻斷，被乾燥空氣所充滿，故抑制外部之含有水分之大氣進入處理容器30之內部。
返回圖3。於外罩110之內部配置有第2維護裝置102及第3維護裝置103。
圖8係表示實施形態之第2維護裝置之構成之一例之圖。第2維護裝置102具有外罩120。外罩120形成為與上部器件30a之開口面對應之尺寸。外罩120具有氣密性且至少一部分具有視覺透過性。例如，外罩120含有聚氯乙烯等透明之合成樹脂，整體具有視覺透過性。
又，第2維護裝置102具有用於將外罩120固定於上部器件30a之固定構件。本實施形態中，第2維護裝置102具有環構件121作為固定構件。環構件121以與上部器件30a之開口面對應之尺寸形成為環狀，沿著圓周方向設置有數個貫通之螺絲孔122，於各螺絲孔122設置有安裝螺絲123。
圖9係表示實施形態之第3維護裝置之構成之一例之圖。第3維護裝置103具有外罩130。外罩130形成為與下部器件30b之開口面對應之尺寸。外罩130具有氣密性且至少一部分具有視覺透過性。例如，外罩130含有聚氯乙烯等透明之合成樹脂，整體具有視覺透過性。外罩130設置有呈手之形狀之袋狀之手套箱140、及具有氣密性之容器150。容器150之詳情將 於後述。
又，第3維護裝置103具有用於將外罩130固定於下部器件30b之固定構件。本實施形態中，第3維護裝置103具有環構件131作為固定構件。環構件131以與下部器件30b之開口面對應之尺寸形成為環狀，沿著圓周方向設置有複數個貫通之螺絲孔132，於各螺絲孔132設置有安裝螺絲133。
圖10A至圖10C係對設置實施形態之第2維護裝置及第3維護裝置之流程之一例進行說明之圖。如圖10A及圖10B所示，作業者介隔外罩110保持第3維護裝置103，自上部器件30a與下部器件30b之間隙使第3維護裝置103向處理容器30之內部移動。然後，作業者將環構件131固定於下部器件30b之上表面。
又，如圖10C所示，作業者介隔外罩110保持第2維護裝置102，自上部器件30a與下部器件30b之間隙使第2維護裝置102向處理容器30之內部移動。然後，作業者將環構件121固定於上部器件30a之下表面。
圖11A係表示於下部器件30b安裝有實施形態之第3維護裝置103之狀態之一例之圖。本實施形態中，於轉接器112b形成有螺絲孔115b。環構件131之安裝螺絲133安裝於螺絲孔115b。下部器件30b之上表面由外罩130覆蓋。下部器件30b之周圍由所安裝之環構件131與O型環等密封構件134密封。藉此，下部器件30b之由第3維護裝置103覆蓋之內部與外部阻斷。再者，密封構件134亦可與用於上部器件30a與下部器件30b之接合面 之密封構件30d併用。
圖11B係表示於上部器件30a安裝有實施形態之第2維護裝置102之狀態之一例之圖。本實施形態中，於轉接器112a形成有螺絲孔115a。環構件121之安裝螺絲123安裝於螺絲孔115a。上部器件30a之下表面由外罩120覆蓋。上部器件30a之周圍由所安裝之環構件121與O型環等密封構件124密封。藉此，上部器件30a之由第2維護裝置102所覆蓋之內部與外部阻斷。
作業者將第1維護裝置101卸除。例如，作業者取下夾環113，解除外罩110之拉鏈部110b之接合，將外罩110自處理容器30之周圍卸除。
圖12係表示已卸除實施形態之第1維護裝置之狀態之一例之圖。藉此，上部器件30a之由第2維護裝置102覆蓋之內部、及下部器件30b之由第3維護裝置103覆蓋之內部維持為乾燥空氣。又，第2維護裝置102與第3維護裝置103之間之空間成為大氣空間。
作業者藉由升降機構95使上升之上部器件30a於旋轉方向上滑行移動。圖13係表示使實施形態之上部器件於旋轉方向上滑動之狀態之一例之圖。藉此，可於下部器件30b之上部確保較大之空間。作業者可介隔第3維護裝置103之外罩130自上部確認下部器件30b。又，如圖13所示，作業者藉由將手伸入手套箱140，可介隔手套箱140對下部器件30b之內部進行維護。
作業者進行維護時，對由外罩130所覆蓋之下部器件30b之內部填充乾燥空氣。圖14係表示對安裝有實施形態之第3維護裝置之下部器件之內部填充乾燥空氣之狀態之一例之圖。例如，作業者操作電漿蝕刻裝置10，自下部器件30b側供給乾燥空氣，對下部器件30b之內部填充乾燥空氣。再者，圖14、後述之圖15A、15B中，簡化表示下部器件30b。
如上所述，於外罩130設置有具有氣密性之容器150。容器150設為經由氣密扣結件151安裝於外罩130，藉由關閉氣密扣結件151可使容器150內相對於外罩130內獨立地變為氣密。於容器150設置有2個接頭152、153、及氣密扣結件154。容器150作為加載互鎖真空室發揮功能，該加載互鎖真空室係於由外罩130覆蓋之下部器件30b之內部與外部之大氣空間之間轉接器件等各種零件時，去除外部之含有水分之大氣。再者，亦可於容器150設置可變更開啟狀態與關閉狀態之閥來代替接頭152、153。
其次，對使用第3維護裝置103之維護之一例進行說明。圖15A至圖15C係對使用實施形態之第3維護裝置取出器件之流程之一例進行說明之圖。
作業者介隔容器150更換下部器件之內部之各種器件。例如，於取出下部器件30b之內部之聚焦環35之情形時，作業者對容器150之內部填充乾燥空氣。例如，作業者關閉氣密扣結件154，自接頭152、153之一方向容器150內導入乾燥空氣，打開接頭152、153之另一方。藉此，將容器 150之內部之大氣置換為乾燥空氣。然後，作業者將手伸入手套箱140，介隔手套箱140打開氣密扣結件151，將更換對象之聚焦環35移動至容器150內，關閉氣密扣結件151。
然後，作業者打開氣密扣結件154，自容器150內取出更換對象之聚焦環35。
圖16A及圖16B係對使用實施形態之第3維護裝置安裝器件之流程之一例進行說明之圖。例如，於安裝新聚焦環35之情形時，作業者打開氣密扣結件154，將新聚焦環35放入容器150內，關閉氣密扣結件154。藉由打開氣密扣結件154，容器150之內部成為大氣空間。
作業者於容器150之內部填充乾燥空氣。例如，作業者自接頭152、153之一方向容器150內導入乾燥空氣，打開接頭152、153之另一方。藉此，將容器150之內部之大氣置換為乾燥空氣。
作業者將手伸入手套箱140，介隔手套箱140打開氣密扣結件151，自容器150之內部取出新聚焦環35，關閉氣密扣結件151。然後，作業者將所取出之新聚焦環35安裝於下部器件30b之內部。
再者，有時使用之聚焦環35等處理容器30內之器件附著有堆積物等，若使其移動至容器150內，則容器150內會被堆積物污染。因此，容器150較佳為可相對於外罩130裝卸。例如，亦可將收容有處理容器30內 之器件之容器150自外罩130卸除，將收容有新器件之容器150安裝至外罩130，從而進行器件之更換。又，亦可於外罩130設置複數個容器150。例如，亦可設置用於收容已使用過器件之容器150、及收容新器件之容器150。又，容器150亦可收容用於維護或清潔之器具。
作業者於完成維護後，以與打開處理容器30為止相反之順序將上部器件30a與下部器件30b接合。
具體而言，作業者藉由升降機構95，使滑行移動之上部器件30a返回與下部器件30b對向之位置。然後，作業者將第1維護裝置101卸除。例如，作業者利用外罩110之開口自一側將上部器件30a之下部與下部器件30b之上部覆蓋，於另一側將拉鏈部110b接合。然後，作業者自外罩110之上側，沿著轉接器112設置夾環113。
作業者對由外罩110覆蓋之內部填充乾燥空氣。作業者將用於供給乾燥空氣之氣體管105連接至轉接器112之任一接頭114，打開另一接頭114。藉此，將處理容器30之外周面之由外罩110覆蓋之內部之大氣置換為乾燥空氣。
作業者將第2維護裝置102及第3維護裝置103卸除。由外罩110覆蓋之內部充滿乾燥空氣。因此，即便將第2維護裝置102及第3維護裝置103卸除，亦可抑制上部器件30a及下部器件30b之內部暴露於外部之含有水分之大氣。
作業者使升降機構95下降，將上部器件30a與下部器件30b接合。然後，作業者將第1維護裝置101卸除。例如，作業者取下夾環113，解除外罩110之拉鏈部110b之接合，將外罩110自處理容器30之周圍卸除。
如此，維護裝置100可於不使處理容器30之內部暴露於含有水分之外部之大氣之情況下進行器件之更換等維護。藉此，電漿蝕刻裝置10於進行維護後，可簡化處理容器30之內部之水分控制之處理等，可儘早地重新開始生產。又，因電漿蝕刻裝置10抑制處理容器30之內部暴露於外部之含有水分之大氣，故可抑制處理容器30內之零件之惡化。
又，因維護裝置100中，依存於電漿蝕刻裝置10之構成較少，通用性較高，故可應對各種類型之電漿蝕刻裝置之維護。例如，維護裝置100亦可使用於過去出貨之各種類型之電漿蝕刻裝置之維護。
如此，本實施形態之維護裝置具有外罩、及固定構件。外罩形成為與於基板處理時設為真空環境且可分離為第1器件與第2器件之處理容器之第1器件與第2器件之交界線、或使第1器件與第2器件分離而成之開口面對應之尺寸，具有氣密性且至少一部分具有視覺透過性。固定構件將外罩沿著處理容器之第1器件與第2器件之交界線密接固定，或將外罩密接固定於使第1器件與第2器件分離而成之開口面。例如，第1維護裝置101具有外罩110、及夾環113。外罩110形成有與上部器件30a與下部器件30b之交界線對應之尺寸之開口，具有氣密性且至少一部分具有視覺透過性。夾環 113將外罩110沿著上部器件30a與下部器件30b之交界線密接固定。又，第2維護裝置102具有外罩120、及環構件121。外罩120形成為與上部器件30a之開口面對應之尺寸，具有氣密性且至少一部分具有視覺透過性。環構件121將外罩120密接固定於上部器件30a之開口面。又，第3維護裝置103具有外罩130、及環構件131。外罩130形成為與下部器件30b之開口面對應之尺寸，具有氣密性且至少一部分具有視覺透過性。環構件131將外罩130密接固定於下部器件30b之開口面。藉此，第1維護裝置101、第2維護裝置102及第3維護裝置103可於不使處理容器30內部暴露於外部大氣之情況下簡易地進行維護。
又，本實施形態之第1維護裝置101之外罩110設為形成有與上部器件30a與下部器件30b之交界線對應之尺寸之開口之袋體，且於開口之一部分，對向地設置有可保持氣密性地接合之拉鏈部110b。外罩110利用開口覆蓋上部器件30a與下部器件30b之交界線，且將拉鏈部110b接合。夾環113於上部器件30a與下部器件30b之交界線之上下將外罩110密接固定。藉此，第1維護裝置101中，處理容器30之由外罩110覆蓋之內部可與外部阻斷。
又，本實施形態之第2維護裝置102之外罩120形成為與上部器件30a之開口面對應之尺寸。環構件121將外罩120固定於上部器件30a之開口面之緣部。又，本實施形態之第3維護裝置103之外罩130形成為與下部器件30b之開口面對應之尺寸。環構件131將外罩130密接固定於下部器件30b之開口面之緣部。藉此，第2維護裝置102可使上部器件30a之開口密閉， 可抑制上部器件30a之內部暴露於外部之含有水分之大氣。又，第3維護裝置103可使下部器件30b之開口密閉，可抑制下部器件30b之內部暴露於外部之含有水分之大氣。
又，本實施形態之第3維護裝置103之外罩130設置有手套箱140。藉此，第3維護裝置103中，作業者可將手伸入外罩130，手動地對下部器件30b之內部進行維護。
又，本實施形態之第3維護裝置103之外罩130設置有氣密性之氣密扣結件151，經由氣密扣結件151連通至具有氣密性之容器150。藉此，第3維護裝置103中，可於容器150內配置器件等各種零件。
又，本實施形態之第3維護裝置103之容器150設置有連接該容器150之外部與內部之接頭152、153、及氣密性之氣密扣結件154。藉此，第3維護裝置103可於與外部之大氣空間之間轉接器件等各種零件時去除外部之含有水分之大氣。
又，本實施形態之第1維護裝置101之夾環113設置有將由外罩110覆蓋之內部與外部連接之接頭114。藉此，第1維護裝置101可更換由外罩110覆蓋之內部之大氣。
以上，對實施形態進行了說明，但應認為本次所揭示之實施形態就所有方面而言均為例示而不具有限制性。事實上，上述實施形態可以多種 多樣之形態體現。又，上述實施形態亦可於不脫離申請專利範圍及其主旨之情況下，以各種形態進行省略、置換、變更。
例如，實施形態中，作為維護列舉器件之更換之情形為例進行了說明，但維護並非限定於此。作為維護，例如有藉由目視對處理容器30內部進行之確認、或處理容器30內部之清潔。於藉由目視確認處理容器30之內部之狀態之情形時，亦可僅使用第1維護裝置101。又，亦可於第1維護裝置101設置手套箱140及容器150之一個或兩個，從而僅使用第1維護裝置101進行器件之更換。又，亦可於第1維護裝置101設置手套箱140，進行清潔等維護。圖17係表示實施形態之第1維護裝置之另一例之圖。圖17中表示有於第1維護裝置101之外罩110設置手套箱140，對上部器件30a及下部器件30b之內部進行維護之狀態。
又，實施形態中，列舉更換下部器件30b之器件之情形為例進行了說明，但於更換上部器件30a之器件之情形時，只要於第2維護裝置102設置手套箱140及容器150即可。
又，實施形態中，列舉於第3維護裝置103之容器150設置用於相對於外部取放器件之氣密扣結件154之情形為例進行了說明，但並非限定於此。第3維護裝置103亦可設置有複數個容器150，例如預先放入有更換用新器件之容器150、或用於儲存已使用之器件之容器150等。又，容器150亦可設置於外罩130之側面側。圖18係表示實施形態之第3維護裝置之另一例之圖。圖18中表示有於第3維護裝置103之外罩110之外罩130之側面 側設置有容器150之狀態。
又，實施形態中，列舉第1維護裝置101之外罩110、第2維護裝置102之外罩120及第3維護裝置103之外罩130分別整體具有視覺透過性之情形為例進行了說明，但並非限定於此。亦可使外罩110、外罩120及外罩130僅於維護上需要視覺透過性之部分具有視覺透過性。
又，實施形態中，列舉手套箱140呈手之形狀之情形為例進行了說明，但並非限定於此。手套箱140只要可使人抓持器件等便可為任意之構成。
又，實施形態中，列舉將維護裝置100使用於電漿蝕刻裝置10之維護之情形為例進行了說明，但並非限定於此。作為維護之對象之維護對象裝置只要為具有會因暴露於外部之大氣而受影響之處理容器之裝置，便可為任意之裝置。
10:電漿蝕刻裝置
30:處理容器
30a:上部器件
30b:下部器件
95:升降機構
95a:臂
100:維護裝置
101:第1維護裝置
102:第2維護裝置
103:第3維護裝置
110:外罩
110b:拉鏈部

Claims (11)

  1. 一種維護裝置，其特徵在於具有：第1外罩，其形成為與於基板處理時設為真空環境且可分離為第1器件與第2器件之處理容器之上述第1器件與上述第2器件之交界線對應之尺寸，具有氣密性且至少一部分具有視覺透過性；及複數個第1固定構件，其將上述第1外罩沿著上述處理容器之上述第1器件與上述第2器件之上述交界線密接固定；上述第1外罩係設為形成有與上述第1器件與上述第2器件之上述交界線對應之尺寸之開口之袋體；於上述第1外罩設置有藉由接合於上述開口之一部分而可保持氣密性之拉鏈部；利用上述第1外罩覆蓋上述第1器件與上述第2器件之上述交界線，將上述拉鏈部接合；上述複數個第1固定構件將上述第1外罩密接固定於上述第1器件與上述第2器件之上述交界線之上下之位置。
  2. 如請求項1之維護裝置，其更具有：維護工具及第2固定構件；且於上述維護工具設有第2外罩；上述第2外罩形成為與上述第1器件與上述第2器件之開口面對應之尺寸，上述第2固定構件將上述第2外罩密接固定於上述第1器件或上述第2 器件之開口面之緣部。
  3. 如請求項2之維護裝置，其中上述第2外罩設置有手套箱。
  4. 如請求項2之維護裝置，其中於上述第2外罩設置有具氣密性之第1扣結件，上述第2外罩經由上述第1扣結件連通至具有氣密性之容器。
  5. 如請求項4之維護裝置，其中上述容器設置有將該容器之外部與內部連接之閥或接頭、及氣密性之第2扣結件。
  6. 如請求項4之維護裝置，其中上述容器設為可相對於上述第2外罩裝卸。
  7. 如請求項1之維護裝置，其中於上述複數個第1固定構件設置有將由上述第1外罩覆蓋之內部與外部連接之閥或接頭。
  8. 如請求項1之維護裝置，其中上述第1器件包含上部電極，上述第2器件包含下部電極。
  9. 一種維護裝置，其特徵在於具有：外罩，其形成為與於基板處理時設為真空環境且可分離為第1器件與第2器件之處理容器之上述第1器件與上述第2器件之交界線、或使上述第1器件與上述第2器件分離而成之開口面對應之尺寸，具有氣密性且至少一部分具有視覺透過性；及固定構件，其將上述外罩沿著上述處理容器之上述第1器件與上述第2器件之上述交界線密接固定，或將上述外罩密接固定於使上述第1器件與上述第2器件分離而成之開口面；且上述外罩設置有氣密性之第1扣結件，經由上述第1扣結件連通至具有氣密性之容器；上述容器設置有將該容器之外部與內部連接之閥或接頭、及氣密性之第2扣結件。
  10. 一種維護裝置，其特徵在於具有：外罩，其形成為與於基板處理時設為真空環境且可分離為第1器件與第2器件之處理容器之上述第1器件與上述第2器件之交界線、或使上述第1器件與上述第2器件分離而成之開口面對應之尺寸，具有氣密性且至少一部分具有視覺透過性；及固定構件，其將上述外罩沿著上述處理容器之上述第1器件與上述第2器件之上述交界線密接固定，或將上述外罩密接固定於使上述第1器件與上述第2器件分離而成之開口面；且上述外罩設置有氣密性之第1扣結件，經由上述第1扣結件連通至具 有氣密性之容器；上述容器設為可相對於上述外罩裝卸。
  11. 一種維護裝置，其特徵在於具有：外罩，其形成為與於基板處理時設為真空環境且可分離為第1器件與第2器件之處理容器之上述第1器件與上述第2器件之交界線、或使上述第1器件與上述第2器件分離而成之開口面對應之尺寸，具有氣密性且至少一部分具有視覺透過性；及固定構件，其將上述外罩沿著上述處理容器之上述第1器件與上述第2器件之上述交界線密接固定，或將上述外罩密接固定於使上述第1器件與上述第2器件分離而成之開口面；且上述第1器件包含上部電極，上述第2器件包含下部電極。
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