TWI787816B - 柔版印刷用感光性樹脂組合物 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題在於提供一種耐溶劑性優異之柔版印刷用感光性樹脂組合物。 本發明之柔版印刷用感光性樹脂組合物包含以下之成分(A)～(E)： (A)第一苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)、 (B)第二苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)、 (C)聚丁二烯或其衍生物、 (D)光聚合性單體、及 (E)光聚合起始劑；且 相對於(A)，包含5～100重量%之量之(B)、10～40重量%之量之(C)、40～200重量%之量之(D)、及4～20重量%之量之(E)。

Description

柔版印刷用感光性樹脂組合物
本發明係關於一種柔版印刷用感光性樹脂組合物。本申請案對於2020年5月15日提出申請之日本專利申請案第2020-085991號主張優先權，並將其內容援用於此。
柔版印刷用感光性樹脂組合物通常含有熱塑性彈性體、光聚合性不飽和單體、塑化劑及光聚合起始劑。作為柔版印刷版用構成體，通常將聚酯膜等作為支持體，於其上設置上述感光性樹脂組合物，進而，於感光性樹脂組合物上設置滑動層或保護層、或者包含可藉由紅外線雷射而剝蝕之紅外線敏感性物質之紫外線遮蔽層，用以防止與底片之接著。於由此種柔版印刷版用感光性樹脂版材製造柔版印刷版時，通常藉由如下方式進行製造，即，首先透過支持體對整個面實施紫外線曝光(背曝光)，設置較薄之均勻硬化層(底層)，繼而，透過底片或自藉由紅外線雷射形成有光罩之紫外線遮蔽層之上方，直接對感光性樹脂層之面進行圖像曝光(凸紋曝光)，並藉由顯影用溶劑對未曝光部分進行沖洗，或者，於熱熔融後藉由吸收層進行吸收去除，其後進行後處理曝光。 使用柔版印刷用感光性樹脂版之一般印刷係以如下方式進行，即，藉由油墨供給輥等對具有凹凸之樹脂版之凸部表面供給油墨，繼而，使樹脂版與被印刷體接觸而使凸部表面之油墨轉移至被印刷體。作為此種一般之柔版印刷用油墨，可例舉水系油墨、乳膠油墨、有機溶劑系油墨，例如UV(Ultraviolet，紫外線)硬化型油墨、或者使用植物油或輕質石腦油之油墨等。於製版時使用顯影用有機溶劑般之柔版印刷中，要求對於有機溶劑系油墨具有耐性。若耐溶劑性不充分，則會產生如下問題，即，於長時間印刷中，印刷版受到破壞，或印刷版膨潤而變形，從而並非以印刷所要求之原本之圖樣之形狀進行印刷。 為了克服上述問題，關於此種感光性樹脂組合物之耐溶劑性，提出有幾種方法。
於專利文獻1中提出一種柔版印刷用感光性樹脂組合物，其特徵在於包含：熱塑性彈性體、含有80%以上之1,2-鍵之(甲基)丙烯酸改性液態聚丁二烯、具有1個以上之乙烯性不飽和基之光聚合性不飽和單體及光聚合起始劑。記載有如下內容：該組合物對於如下油墨具有優異之耐性，且圖像再現性、耐印力等對於印刷用途之適性優異，該油墨係包含柔版印刷所使用之有機溶劑之油墨或乳膠油墨，例如UV硬化型油墨、或者使用植物油或輕質石腦油之油墨。 於專利文獻2中記載有一種柔版印刷製版材組合物，其特徵在於：含有熱塑性彈性體50～90質量%、特定之聚丁二烯5～40質量%、乙烯性不飽和化合物1～30質量%、及光聚合起始劑0.1～3質量%，且光硬化後之彈性模數為80～150 MPa。上述特定之聚丁二烯係藉由在丁二烯之沸點以下之反應溫度條件下及聚合起始劑存在之條件下藉由陰離子聚合由1,3-丁二烯製造聚丁二烯之方法所獲得者，該方法係於非質子性極性溶劑、或非質子性極性溶劑與非極性溶劑之混合溶劑中，在鉀鹽存在之條件下進行。又，記載有如下內容：作為上述熱塑性彈性體，可選擇苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段聚合物。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：國際公開第2010/116743號公報 專利文獻2：國際公開第2011/045918號公報
[發明所欲解決之問題]
由專利文獻1或2所記載之組合物獲得之硬化物存在耐溶劑性不充分之情形。本發明之課題在於提供一種耐溶劑性優異之柔版印刷用感光性樹脂組合物。 [解決問題之技術手段]
本發明人等為了解決上述問題而進行銳意研究，結果完成本發明。 本發明包含以下形態。 (1)一種柔版印刷用感光性樹脂組合物，其包含： (A)第一苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)、 (B)第二苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)、 (C)聚丁二烯或其衍生物、 (D)光聚合性單體、及 (E)光聚合起始劑。 (2)如(1)所記載之柔版印刷用感光性樹脂組合物，其中(A)第一苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)中之丁二烯嵌段中，1,2鍵結構與1,4鍵結構之莫耳比為0：100～70：30。 (3)如(1)或(2)所記載之柔版印刷用感光性樹脂組合物，其中(A)第一苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)之重量平均分子量(Mw)為50,000～500,000。 (4)如(1)至(3)中任一項所記載之柔版印刷用感光性樹脂組合物，其中(A)第一苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)之分子量分佈(Mw/Mn)為1～10。 (5)如(1)至(4)中任一項所記載之柔版印刷用感光性樹脂組合物，其中(A)第一苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)中之苯乙烯嵌段與丁二烯嵌段之重量比為10：90～80：20。 (6)如(1)至(5)中任一項所記載之柔版印刷用感光性樹脂組合物，其中(B)第二苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)中之丁二烯嵌段中，1,2鍵結構與1,4鍵結構之莫耳比為80：20～100：0。 (7)如(1)至(6)中任一項所記載之柔版印刷用感光性樹脂組合物，其中(B)第二苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)之重量平均分子量(Mw)為10,000～100,000。 (8)如(1)至(7)中任一項所記載之柔版印刷用感光性樹脂組合物，其中(B)第二苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)之分子量分佈(Mw/Mn)為1～3。 (9)如(1)至(8)中任一項所記載之柔版印刷用感光性樹脂組合物，其中(B)第二苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)中之苯乙烯嵌段與丁二烯嵌段之重量比為10：90～80：20。 (10)如(1)至(9)中任一項所記載之柔版印刷用感光性樹脂組合物，其中相對於(A)第一苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)，包含5～100重量%之量之(B)第二苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)。 (11)如(1)至(10)中任一項所記載之柔版印刷用感光性樹脂組合物，其中(C)聚丁二烯或其衍生物中之1,2鍵結構與1,4鍵結構之莫耳比為80：20～100：0。 (12)如(1)至(11)中任一項所記載之柔版印刷用感光性樹脂組合物，其中(C)聚丁二烯或其衍生物之重量平均分子量(Mw)為1,000～10,000。 (13)如(1)至(12)中任一項所記載之柔版印刷用感光性樹脂組合物，其中(C)聚丁二烯或其衍生物之分子量分佈(Mw/Mn)為1～3。 (14)如(1)至(13)中任一項所記載之柔版印刷用感光性樹脂組合物，其中相對於(A)第一苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)，包含10～40重量%之量之(C)聚丁二烯或其衍生物。 (15)如(1)至(14)中任一項所記載之柔版印刷用感光性樹脂組合物，其中相對於(A)第一苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)，包含40～200重量%之量之(D)光聚合性單體。 (16)如(1)至(15)中任一項所記載之柔版印刷用感光性樹脂組合物，其中相對於(A)第一苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)，包含4～20重量%之量之(E)光聚合起始劑。 [發明之效果]
根據本發明之柔版印刷用感光性樹脂組合物，可獲得耐溶劑性優異之柔版印刷用材料。
本發明之柔版印刷用感光性樹脂組合物包含第一苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(成分A)、第二苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(成分B)、聚丁二烯或其衍生物(成分C)、光聚合性單體(成分D)、及光聚合起始劑(成分E)。
(第一苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(成分A)) 本發明之柔版印刷用感光性樹脂組合物中之成分(A)為苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(以下，有時記載為SBS)。所謂苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物係指丁二烯嵌段與苯乙烯嵌段以苯乙烯嵌段、丁二烯嵌段、苯乙烯嵌段之順序鍵結而成之三嵌段共聚物。苯乙烯嵌段係使苯乙烯聚合而成之嵌段，丁二烯嵌段係使1,3-丁二烯聚合而成之嵌段。
本發明所使用之第一SBS中之丁二烯嵌段中之重複單元包含下述式(1)所表示之1,2鍵結構及下述式(2)所表示之1,4鍵結構，或者僅由下述式(2)所表示之1,4鍵結構所構成。第一SBS中之構成丁二烯嵌段之1,2鍵結構與1,4鍵結構之莫耳比可選自0：100～70：30、0：100～60：40、0：100～50：50、0：100～40：60、0：100～30：70、0：100～20：80等。 1,2鍵結構與1,4鍵結構之莫耳比可藉由1 H-NMR計算出。即，可根據1,2鍵結構之-CH=CH2 中之CH及CH2 質子、與1,4鍵結構之-CH=CH-中之2個CH質子的積分值，計算出1,2-與1,4-之微結構之比率。 [化1]
Figure 02_image001
本發明所使用之第一SBS之重量平均分子量(Mw)無特別限定，可選自50,000～500,000、50,000～400,000、50,000～300,000、50,000～200,000、100,000～500,000等。本發明所使用之第一SBS之分子量分佈(Mw/Mn)無特別限定，可例舉1～10。上述重量平均分子量(Mw)或分子量分佈(Mw/Mn)係以聚苯乙烯作為標準物質，藉由凝膠滲透層析法(GPC)所測得者。其測定條件如下：流動相THF(四氫呋喃)、流動相流量1 mL/分鐘、管柱溫度40℃、試樣注入量40 μL、試樣濃度2重量%。
本發明所使用之第一SBS中之苯乙烯嵌段與丁二烯嵌段之重量比無特別限定，可選自10：90～80：20、10：90～70：30、10：90～60：40、10：90～50：50、20：90～50：50等。
本發明所使用之第一SBS之製造方法無特別限定，可根據日本專利特開平6-192502號公報、日本專利特表2000-514122號公報、日本專利特開2007-302901號公報等所記載之方法及依據其之方法進行製造。第一SBS可使用市售品。作為市售品，可例舉：Kraton D1101JS(Kraton公司製造)等。
(第二苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(成分B)) 本發明之柔版印刷用感光性樹脂組合物中之成分(B)係苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)。所謂苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物係指丁二烯嵌段與苯乙烯嵌段以苯乙烯嵌段、丁二烯嵌段、苯乙烯嵌段之順序鍵結而成之三嵌段共聚物。苯乙烯嵌段係使苯乙烯聚合而成之嵌段，丁二烯嵌段係使1,3-丁二烯聚合而成之嵌段。
本發明所使用之第二SBS中之丁二烯嵌段中之重複單元包含上述式(1)所表示之1,2鍵結構及上述式(2)所表示之1,4鍵結構，或者僅由上述式(1)所表示之1,2鍵結構所構成。第二SBS中之構成丁二烯嵌段之1,2鍵結構與1,4鍵結構之莫耳比可選自80：20～100：0、80：20～95：5、85：15～95：5等。 1,2鍵結構與1,4鍵結構之莫耳比可藉由1 H-NMR計算出。即，可根據1,2鍵結構之-CH=CH2 中之CH及CH2 質子、與1,4鍵結構之-CH=CH-中之2個CH質子的積分值，計算出1,2-與1,4-之微結構之比率。
本發明所使用之第二SBS之重量平均分子量(Mw)無特別限定，可選自10,000～100,000、10,000～90,000、10,000～80,000、10,000～70,000、10,000～60,000、10,000～50,000等。本發明所使用之第二SBS之分子量分佈(Mw/Mn)無特別限定，可例舉1～3。上述重量平均分子量(Mw)或分子量分佈(Mw/Mn)係以聚苯乙烯作為標準物質，藉由凝膠滲透層析法(GPC)所測得者。其測定條件如下：流動相THF(四氫呋喃)、流動相流量1 mL/分鐘、管柱溫度40℃、試樣注入量40 μL、試樣濃度2重量%。
本發明所使用之第二SBS中之苯乙烯嵌段與丁二烯嵌段之重量比無特別限定，可選自10：90～80：20、20：80～80：20、30：70～80：20、40：60～80：20、40：60～70：30、40：60～60：40等。
本發明所使用之第二SBS之製造方法無特別限定，可根據日本專利特開平6-192502號公報、日本專利特表2000-514122號公報、日本專利特開2007-302901號公報等所記載之方法及依據其之方法進行製造。
本發明之柔版印刷用感光性樹脂組合物中所含之第二SBS之量無特別限定，可例舉如下之量：相對於第一SBS之量，第二SBS之量成為5～100重量%。
(聚丁二烯或其衍生物(成分C)) 本發明之柔版印刷用感光性樹脂組合物中之成分(C)為聚丁二烯或其衍生物。聚丁二烯係使1,3-丁二烯聚合所獲得之聚合物。聚丁二烯衍生物包含下述氫化聚丁二烯或末端改性聚丁二烯。
本發明所使用之聚丁二烯中之重複單元包含上述式(1)所表示之1,2鍵結構及上述式(2)所表示之1,4鍵結構，或者僅由上述式(1)所表示之1,2鍵結構所構成，或者僅由上述式(2)所表示之1,4鍵結構所構成。構成聚丁二烯之1,2鍵結構與1,4鍵結構之莫耳比無特別限定，可選自80：20～100：0、80：20～95：5、85：15～95：5等。1,2鍵結構與1,4鍵結構之莫耳比可藉由1 H-NMR計算出。即，可根據1,2鍵結構之-CH=CH2 中之CH及CH2 質子、與1,4鍵結構之-CH=CH-中之2個CH質子的積分值，計算出1,2-與1,4-之微結構之比率。
本發明所使用之聚丁二烯中之重複單元即上述式(1)所表示之1,2鍵結構及上述式(2)所表示之1,4鍵結構亦可其一部分或全部被氫化。於一部分被氫化之情形時，氫化率可選自1～99莫耳%、1～90莫耳%、1～80莫耳%、1～70莫耳%、1～60莫耳%、1～50莫耳%、1～40莫耳%、1～30莫耳%、1～20莫耳%、1～10莫耳%等。所謂上述氫化率係指被氫化之重複單元於構成聚丁二烯之全部重複單元中之比率。
本發明所使用之聚丁二烯亦可末端結構經改性。作為末端結構經改性之聚丁二烯，可例舉：末端改性成羥基所得者、或末端經丙烯酸改性所得者、或末端經甲基丙烯酸改性所得者、或末端改性成羧酸基所得者等各種結構者，但並不限定於該等。
本發明所使用之聚丁二烯或其衍生物之重量平均分子量(Mw)無特別限定，可選自1,000～10,000、1,000～5,000等。本發明所使用之聚丁二烯之分子量分佈(Mw/Mn)無特別限定，可例舉1～3。上述重量平均分子量(Mw)或分子量分佈(Mw/Mn)係基於標準聚苯乙烯之分子量，將藉由以四氫呋喃作為溶劑之凝膠滲透層析法(GPC)所測得之資料進行換算所得之值。
本發明所使用之聚丁二烯或其衍生物之製造方法無特別限定，可藉由公知之方法進行製造。又，本發明所使用之聚丁二烯或其衍生物亦可使用市售品。 作為本發明所使用之聚丁二烯或其衍生物，具體而言，可例舉：NISSO-PB B-1000(日本曹達公司製造)、NISSO-PB B-2000(日本曹達公司製造)、NISSO-PB B-3000(日本曹達公司製造)等末端未改性之聚丁二烯；或NISSO-PB BI-2000(日本曹達公司製造)、NISSO-PB BI-3000(日本曹達公司製造)等氫化聚丁二烯；或NISSO-PB G-1000(日本曹達公司製造)、NISSO-PB G-2000(日本曹達公司製造)、NISSO-PB G-3000(日本曹達公司製造)等兩末端羥基改性聚丁二烯；或NISSO-PB GI-1000(日本曹達公司製造)、NISSO-PB GI-2000(日本曹達公司製造)、NISSO-PB GI-3000(日本曹達公司製造)等兩末端羥基改性氫化聚丁二烯；或NISSO-PB TE-2000(日本曹達公司製造)等兩末端經甲基丙烯醯基改性所得之聚丁二烯等。
本發明之柔版印刷用感光性樹脂組合物中所含之聚丁二烯或其衍生物之量無特別限定，可例舉如下之量：相對於第一SBS之量，聚丁二烯或其衍生物之量成為10～40重量%。
(光聚合性單體(成分D)) 作為光聚合性單體，可使用單官能或多官能之單體。作為該等化合物，例如可例舉具有碳-碳雙鍵之化合物，具體而言，可例舉：不飽和羧酸酯化合物；不飽和羧醯胺化合物；烯丙基化合物；苯乙烯化合物；N取代順丁烯二醯亞胺化合物等。 進而，具體而言，可例舉以下之化合物。 作為單官能單體，可例舉： (甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸月桂酯等(甲基)丙烯酸酯化合物； (甲基)丙烯醯胺、二丙酮丙烯醯胺等(甲基)丙烯醯胺化合物； 乙酸烯丙酯、烯丙基甲基醚、烯丙基苯基醚等烯丙基化合物； 苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯等苯乙烯化合物； 反丁烯二酸二甲酯、反丁烯二酸二乙酯、反丁烯二酸二丁酯、反丁烯二酸二辛酯、反丁烯二酸二硬脂酯、反丁烯二酸丁基辛酯、反丁烯二酸二苯酯、反丁烯二酸二苄酯、順丁烯二酸二丁酯、順丁烯二酸二辛酯、反丁烯二酸雙(3-苯基丙基)酯、反丁烯二酸二月桂酯、反丁烯二酸二山萮酯等反丁烯二酸或順丁烯二酸酯化合物； N-正己基順丁烯二醯亞胺、N-環己基順丁烯二醯亞胺、N-正辛基順丁烯二醯亞胺、N-2-乙基己基順丁烯二醯亞胺、N-正癸基順丁烯二醯亞胺、N-正月桂基順丁烯二醯亞胺等N取代順丁烯二醯亞胺化合物等。 作為多官能單體，可例舉： 乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙烯苯、鄰苯二甲酸二烯丙酯等二官能性乙烯性不飽和化合物； 三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、氰尿酸三烯丙酯等三官能乙烯性不飽和化合物； 季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯等四官能乙烯性不飽和化合物等。 該等可單獨使用1種或組合2種以上使用。
本發明之柔版印刷用感光性樹脂組合物中所含之光聚合性單體之量無特別限定，可選自如下之量等：相對於第一SBS之量，光聚合性單體之量成為40～200重量%、40～150重量%、50～150重量%。
(光聚合起始劑(成分E)) 作為光聚合起始劑，具體而言，可例舉：安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、安息香異丁醚、苯偶醯甲基縮酮等安息香及其烷基醚化合物；苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、二乙氧基苯乙酮、2,2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、1,1-二氯苯乙酮、1-羥基環己基苯基酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基-丙烷-1-酮等苯乙酮化合物；甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-第三丁基蒽醌、1-氯蒽醌、2-戊基蒽醌等蒽醌化合物；9-氧硫𠮿
Figure 110117234-0000-3
、2,4-二乙基9-氧硫𠮿
Figure 110117234-0000-3
、2-氯9-氧硫𠮿
Figure 110117234-0000-3
、2,4-二氯9-氧硫𠮿
Figure 110117234-0000-3
、2-甲基9-氧硫𠮿
Figure 110117234-0000-3
、2,4-二異丙基9-氧硫𠮿
Figure 110117234-0000-3
等9-氧硫𠮿
Figure 110117234-0000-3
化合物；苯乙酮二甲基縮酮、苯偶醯二甲基縮酮等縮酮化合物；二苯甲酮、4,4-雙甲基胺基二苯甲酮等二苯甲酮化合物等。該等可單獨使用1種或組合2種以上使用。
本發明之柔版印刷用感光性樹脂組合物中所含之光聚合起始劑之量無特別限定，可選自如下之量等：相對於第一SBS之量，光聚合起始劑之量成為4～20重量%、4～15重量%、5～15重量%。
(其他成分) 於本發明之柔版印刷用感光性樹脂組合物中，除添加成分A～成分E以外，亦可任意添加塑化劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、聚合抑制劑、色素、無機性微粒子等。
(柔版印刷用感光性樹脂組合物之製造方法) 本發明之柔版印刷用感光性樹脂組合物可藉由將各成分加以混合而製造。作為其混合方法，可使各成分溶解於氯仿、四氯乙烯、甲基乙基酮、甲苯、乙酸乙酯、四氫呋喃、己烷、環己烷等適當之溶劑中並加以混合，流延至模框中，使溶劑蒸發而直接製成板，從而只要對該感光性彈性體組合物之板進行加熱壓製處理，即可獲得精度良好之層。又，可於使用捏合機、輥磨機等進行混練後，藉由熱壓成形、壓延處理或擠出成形製成所需厚度之層。支持體或可撓性膜層可於板材成形後藉由輥層壓而與感光層密接。亦可於層壓後進行加熱壓製而獲得精度更加良好之感光層。
(柔版印刷用感光性樹脂組合物之加工方法) 作為用於使本發明之柔版印刷用感光性樹脂組合物不溶於溶劑之活性光線源，有低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵素燈、紫外線用螢光燈、碳弧燈、氙氣燈、鋯燈、太陽光等。於透過透明圖像載體對本發明之柔版印刷用感光性樹脂組合物進行光照射而形成圖像後，作為用於使未曝光部溶出之顯影液，可使用使未曝光部膨潤、溶解者，但較理想為不怎麼對曝光所形成之圖像部造成影響者。例如可例舉：四氯乙烯、甲苯、乙酸酯類、檸檬烯、十氫化萘、石油系芳香族烴等；或者向該等中混合60重量%以下之例如正丁醇、1-戊醇、苄醇等醇而得者。 未曝光部之溶出係藉由自噴嘴進行噴霧或利用刷進行塗刷而進行。由於使用溶劑使未曝光部溶出而獲得之印刷版因顯影溶劑而膨潤，故而於強制氣流或紅外線烘箱中進行乾燥。關於乾燥溫度與時間，通常於60℃下進行30～120分鐘。本發明之組合物根據其組成不同，有時於乾燥結束後版表面亦殘留有黏膩感。於該情形時，可藉由公知之表面處理方法去除黏膩感。作為表面處理之方法，較佳為利用波長300 nm以下之活性光線所進行之曝光處理。 [實施例]
以下，使用實施例詳細地說明本發明，但本發明不限定於實施例之範圍。於下文中，PB意指聚丁二烯，PS意指聚苯乙烯。
製造例1 第二苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(A)之製造 向5000 mL燒瓶中加入環己烷1893.91 g、四氫呋喃306.92 g。升溫至30℃後，加入正丁基鋰25.32 g(15.1重量%濃度之己烷溶液)。攪拌10分鐘後，滴加苯乙烯150.32 g，攪拌10分鐘。藉由氣相層析法(以下，縮寫成GC)進行測定，確認單體消失。繼而，滴加丁二烯301.30 g、己烷197.50 g之混合液，攪拌15分鐘。藉由GC進行測定，確認單體消失後，滴加苯乙烯150.30 g。攪拌30分鐘後，加入甲醇10.40 g。 藉由凝膠滲透層析法(以四氫呋喃為流動相，以聚苯乙烯為標準)對所獲得之共聚物進行分析，確認其係重量平均分子量(Mw)為19603，分子量分佈(Mw/Mn)為1.16，組成比為PS/PB/PS＝25/50/25重量%之共聚物。將反應液進行兩次水洗後，蒸餾去除溶劑。藉由進行真空乾燥而獲得苯乙烯-丁二烯-苯乙烯共聚物(A)(白色粉末)。藉由1 H-NMR所計算出之丁二烯嵌段中之1,2鍵結構與1,4鍵之莫耳比為94：6。
製造例2 第二苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(B)之製造 向1000 mL燒瓶中加入環己烷439.50 g、四氫呋喃32.45 g。升溫至30℃後，加入正丁基鋰3.82 g(15.1重量%濃度之己烷溶液)。攪拌10分鐘後，滴加苯乙烯61.22 g，攪拌10分鐘。藉由氣相層析法(以下，縮寫成GC)進行測定，確認單體消失。繼而，滴加丁二烯61.05 g、己烷39.20 g之混合液，攪拌15分鐘。藉由GC進行測定，確認單體消失後，滴加1,2-二溴乙烷0.66 g。滴加結束後，加入甲醇2.12 g，停止反應。 藉由凝膠滲透層析法(以四氫呋喃為流動相，以聚苯乙烯為標準)對所獲得之共聚物進行分析，結果確認其係重量平均分子量(Mw)為43663，分子量分佈(Mw/Mn)為1.24，偶合率為80%，組成比為PS/PB/PS＝25/50/25重量%之共聚物。將反應液進行兩次水洗後，蒸餾去除溶劑。藉由進行真空乾燥而獲得苯乙烯-丁二烯-苯乙烯共聚物(B)(白色粉末)。藉由1 H-NMR所計算出之丁二烯嵌段中之1,2鍵結構與1,4鍵之莫耳比為85：15。
(柔版印刷用感光性樹脂組合物之製造及加工) 實施例1 將Kraton D1101JS(Kraton公司製造)(第一SBS)50份、製造例1所合成之SBS(A)(第二SBS)5份、B-1000(日本曹達製造之聚丁二烯)10份、1,6-己二醇二丙烯酸酯(東京化成品，以下記為HDDA)30份、苯偶醯甲基縮酮(Aldrich公司製造)3份、及二丁基羥基甲苯(關東化學公司製造，以下記為BHT)1.9份加以混合，以不揮發分濃度成為20%之方式利用環己烷進行溶解。使所獲得之環己烷溶液於鋁杯中風乾一晚，進而於50℃下加熱乾燥5小時。繼而，以累計光量成為約6000 mJ/cm2 之方式，藉由10 mW之超高壓水銀燈進行光照射。自鋁杯剝離該光硬化後之膜，獲得膜厚約1 mm之UV硬化膜。
實施例2 將Kraton D1101JS(Kraton公司製造)(第一SBS)之添加量設為40份，將製造例1所合成之SBS(A)(第二SBS)之添加量設為15份，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得UV硬化膜。
實施例3 將Kraton D1101JS(Kraton公司製造)(第一SBS)之添加量設為30份，將製造例1所合成之SBS(A)(第二SBS)之添加量設為25份，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得UV硬化膜。
實施例4 使用製造例2所合成之SBS(B)(第二SBS)代替製造例1所合成之SBS(A)(第二SBS)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得UV硬化膜。
實施例5 使用製造例2所合成之SBS(B)(第二SBS)代替製造例1所合成之SBS(A)(第二SBS)，除此以外，以與實施例2相同之方式獲得UV硬化膜。
實施例6 使用製造例2所合成之SBS(B)(第二SBS)代替製造例1所合成之SBS(A)(第二SBS)，以與實施例3相同之方式獲得UV硬化膜。
比較例1 將Kraton D1101JS(Kraton公司製造)(第一SBS)之添加量設為55份，未添加製造例1所合成之SBS(A)(第二SBS)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得UV硬化膜。
(硬度測定) 對於實施例1～6及比較例1所獲得之UV硬化膜，依據JIS K 7215，藉由硬度計測定硬度。
(耐溶劑性試驗) 將實施例1～6及比較例1所獲得之UV硬化膜切割成縱橫5 cm×5 cm而製成試片，並浸漬於盛滿乙酸乙酯之燒杯中。將15分鐘後之重量、30分鐘後之重量、60分鐘後之重量與浸漬前之重量進行比較，藉此計算出膨潤率。
將實施例1～6及比較例1之組成、硬度、耐溶劑性試驗之結果示於表1。
[表1]
   比較例1 實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6
Kraton D1101JS (份) 55 50 40 30 50 40 30
SBS(A) (份) - 5 15 25 - - -
SBS(B) (份) - - - - 5 15 25
B-1000 (份) 10 10 10 10 10 10 10
HDDA (份) 30 30 30 30 30 30 30
苯偶醯甲基縮酮 (份) 3 3 3 3 3 3 3
BHT (份) 1.9 1.9 1.9 1.9 1.9 1.9 1.9
環己烷(份) 400 400 400 400 400 400 400
硬度 A61 A82 A86 A90 A72 A78 A84
D20 D22 D34 D42 D26 D32 D39
膨潤率(wt%) 15分鐘後 128.7 122 116.9 113.4 122.8 119.3 117
30分鐘後 139.6 137.4 132 120.5 139.3 132.6 128.9
60分鐘後 152.7 144 142.2 135.1 150.9 148 145.3
表中，「-」意指不使用。

Claims (7)

  1. 一種柔版印刷用感光性樹脂組合物，其包含：(A)第一苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)，其中苯乙烯嵌段與丁二烯嵌段之重量比為10：90~80：20，丁二烯嵌段之1,2鍵結構與1,4鍵結構之莫耳比為0：100~70：30；(B)第二苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)，其中苯乙烯嵌段與丁二烯嵌段之重量比為10：90~80：20，丁二烯嵌段之1,2鍵結構與1,4鍵結構之莫耳比為80：20~100：0；(C)聚丁二烯或其衍生物，其中1,2鍵結構與1,4鍵結構之莫耳比為80：20~100：0；(D)光聚合性單體；及(E)光聚合起始劑；且i)相對於(A)第一苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)，包含5~100重量%之量之(B)第二苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)，ii)相對於(A)第一苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)，包含10~40重量%之量之(C)聚丁二烯或其衍生物，iii)相對於(A)第一苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)，包含40~200重量%之量之(D)光聚合性單體，iv)相對於(A)第一苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)，包含4~20重量%之量之(E)光聚合起始劑。
  2. 如請求項1之柔版印刷用感光性樹脂組合物，其中(A)第一苯乙烯-丁 二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)之重量平均分子量(Mw)為50,000~500,000。
  3. 如請求項1或2之柔版印刷用感光性樹脂組合物，其中(A)第一苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)之分子量分佈(Mw/Mn)為1~10。
  4. 如請求項1或2之柔版印刷用感光性樹脂組合物，其中(B)第二苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)之重量平均分子量(Mw)為10,000~100,000。
  5. 如請求項1或2之柔版印刷用感光性樹脂組合物，其中(B)第二苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)之分子量分佈(Mw/Mn)為1~3。
  6. 如請求項1或2之柔版印刷用感光性樹脂組合物，其中(C)聚丁二烯或其衍生物之重量平均分子量(Mw)為1,000~10,000。
  7. 如請求項1或2之柔版印刷用感光性樹脂組合物，其中(C)聚丁二烯或其衍生物之分子量分佈(Mw/Mn)為1~3。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012189848A (ja) * 2011-03-11 2012-10-04 Asahi Kasei E-Materials Corp 凸版印刷版用感光性樹脂構成体
JP2019109436A (ja) * 2017-12-20 2019-07-04 旭化成株式会社 フレキソ印刷原版、及びフレキソ印刷版

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06192502A (ja) 1992-12-25 1994-07-12 Daicel Chem Ind Ltd 熱可塑性樹脂組成物
EP0909294B1 (en) 1996-07-03 2000-03-08 Shell Internationale Researchmaatschappij B.V. High 1,2-content thermoplastic elastomer oil polyolefin composition
US8703382B2 (en) 2009-04-10 2014-04-22 Nippon Soda Co., Ltd. Photosensitive resin composition for flexographic printing having excellent solvent resistance
JP5639077B2 (ja) 2009-10-14 2014-12-10 日本曹達株式会社 ポリブタジエンの製造方法
JP2020085991A (ja) 2018-11-19 2020-06-04 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012189848A (ja) * 2011-03-11 2012-10-04 Asahi Kasei E-Materials Corp 凸版印刷版用感光性樹脂構成体
JP2019109436A (ja) * 2017-12-20 2019-07-04 旭化成株式会社 フレキソ印刷原版、及びフレキソ印刷版

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