TWI781550B - 感光性樹脂組成物、使用其的感光性樹脂層及顯示裝置 - Google Patents
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 107
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 107
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 80
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 69
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 claims abstract description 46
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 34
- 239000000975 dye Substances 0.000 claims description 31
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 claims description 20
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 19
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 17
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 17
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 10
- 229920005822 acrylic binder Polymers 0.000 claims description 9
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000001044 red dye Substances 0.000 claims description 7
- 239000001043 yellow dye Substances 0.000 claims description 6
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 4
- KQIGMPWTAHJUMN-UHFFFAOYSA-N 3-aminopropane-1,2-diol Chemical compound NCC(O)CO KQIGMPWTAHJUMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N n-(9,10-dioxoanthracen-1-yl)-4-[4-[[4-[4-[(9,10-dioxoanthracen-1-yl)carbamoyl]phenyl]phenyl]diazenyl]phenyl]benzamide Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2NC(=O)C(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1N=NC(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims 1
- 239000001047 purple dye Substances 0.000 claims 1
- -1 formamidinyl group Chemical group 0.000 description 40
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 34
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 34
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 20
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 12
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Natural products CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229940022663 acetate Drugs 0.000 description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 5
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000980 acid dye Substances 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 4
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 4
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 4
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- QYGBYAQGBVHMDD-XQRVVYSFSA-N (z)-2-cyano-3-thiophen-2-ylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\C#N)=C/C1=CC=CS1 QYGBYAQGBVHMDD-XQRVVYSFSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCOCC(C)OC(C)=O DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 2
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SFAMKDPMPDEXGH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OCCO SFAMKDPMPDEXGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical group COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IHZXTIBMKNSJCJ-UHFFFAOYSA-N 3-{[(4-{[4-(dimethylamino)phenyl](4-{ethyl[(3-sulfophenyl)methyl]amino}phenyl)methylidene}cyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)(ethyl)azaniumyl]methyl}benzene-1-sulfonate Chemical compound C=1C=C(C(=C2C=CC(C=C2)=[N+](C)C)C=2C=CC(=CC=2)N(CC)CC=2C=C(C=CC=2)S([O-])(=O)=O)C=CC=1N(CC)CC1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1 IHZXTIBMKNSJCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005635 Caprylic acid (CAS 124-07-2) Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N N-methylformamide Chemical compound CNC=O ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- HNYOPLTXPVRDBG-UHFFFAOYSA-N barbituric acid Chemical compound O=C1CC(=O)NC(=O)N1 HNYOPLTXPVRDBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N benzyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011087 fumaric acid Nutrition 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- GPSDUZXPYCFOSQ-UHFFFAOYSA-N m-toluic acid Chemical compound CC1=CC=CC(C(O)=O)=C1 GPSDUZXPYCFOSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- LVWZTYCIRDMTEY-UHFFFAOYSA-N metamizole Chemical compound O=C1C(N(CS(O)(=O)=O)C)=C(C)N(C)N1C1=CC=CC=C1 LVWZTYCIRDMTEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- ZWRUINPWMLAQRD-UHFFFAOYSA-N nonan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCO ZWRUINPWMLAQRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002446 octanoic acid Drugs 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 2
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 2
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJKOQFIGFHTRRW-UHFFFAOYSA-N (2-methoxy-3-methylphenyl)-(3-methylphenyl)methanone Chemical compound COC1=C(C)C=CC=C1C(=O)C1=CC=CC(C)=C1 FJKOQFIGFHTRRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUZYGTVTZYSBCU-UHFFFAOYSA-N 1-(4-chlorophenyl)ethanone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 BUZYGTVTZYSBCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKHTOHGCVJJMZ-UHFFFAOYSA-N 1-(4-phenylsulfanylphenyl)butan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)CCC)=CC=C1SC1=CC=CC=C1 PYKHTOHGCVJJMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMDHDEPPVWETOI-UHFFFAOYSA-N 1-(4-tert-butylphenyl)-2,2,2-trichloroethanone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(=O)C(Cl)(Cl)Cl)C=C1 IMDHDEPPVWETOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMCRQYHCDSXNLW-UHFFFAOYSA-N 1-(4-tert-butylphenyl)-2,2-dichloroethanone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(=O)C(Cl)Cl)C=C1 VMCRQYHCDSXNLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)C YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 2,4-di(propan-2-yl)thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C3SC2=C1 BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAOMUMJENGCKAR-UHFFFAOYSA-N 2-(1-phenylbut-3-en-2-yloxy)but-3-enylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC(C=C)OC(C=C)CC1=CC=CC=C1 ZAOMUMJENGCKAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQMOHZLFVGYNAN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylethenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=CC=2C=CC=CC=2)=N1 DQMOHZLFVGYNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVNIIPIYHHEXQA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxynaphthalen-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C12=CC=CC=C2C(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 FVNIIPIYHHEXQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPNIGZBDAMWHSX-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methylphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 MPNIGZBDAMWHSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUBNJSZGANKUGX-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl)methyl]-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=C(C)C=C1 PUBNJSZGANKUGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVNYKZKUBKIIAH-UHFFFAOYSA-N 2-(oxiran-2-yl)acetic acid Chemical class OC(=O)CC1CO1 ZVNYKZKUBKIIAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJRNXDIVAGHETA-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=C(OC)C(OC)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 ZJRNXDIVAGHETA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUAQLLVFLMYYJJ-UHFFFAOYSA-N 2-aminopropiophenone Chemical compound CC(N)C(=O)C1=CC=CC=C1 PUAQLLVFLMYYJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAXRSWGYLGOFQP-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-1-(2-butoxyphenyl)ethanone Chemical compound CCCCOCC(=O)C1=CC=CC=C1OCCCC AAXRSWGYLGOFQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRDMGGOYEBRLPD-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1-(2-ethoxyphenyl)ethanone Chemical compound CCOCC(=O)C1=CC=CC=C1OCC MRDMGGOYEBRLPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYVKCQBOHJQWIO-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl propanoate Chemical compound CCOCCOC(=O)CC BYVKCQBOHJQWIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LARBPNMSKNMEFW-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxypropyl propanoate Chemical compound CCOC(C)COC(=O)CC LARBPNMSKNMEFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICPWFHKNYYRBSZ-UHFFFAOYSA-M 2-methoxypropanoate Chemical compound COC(C)C([O-])=O ICPWFHKNYYRBSZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWDGNKGKLOBESZ-UHFFFAOYSA-N 2-oxooctanal Chemical compound CCCCCCC(=O)C=O MWDGNKGKLOBESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAZQZUFYRLFOLC-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 HAZQZUFYRLFOLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYYQKWASBLTRIW-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylbenzoic acid Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1C(O)=O WYYQKWASBLTRIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWHLJVMSZRKEAQ-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dicarboxyphenyl)phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)=C1C(O)=O GWHLJVMSZRKEAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFGVQLJUXSRVEG-UHFFFAOYSA-N 3-amino-4-[[4-[4-[(2-amino-6-sulfonaphthalen-1-yl)diazenyl]-3-methylphenyl]-2-methylphenyl]diazenyl]naphthalene-2,7-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C2C(N=NC3=CC=C(C=C3C)C=3C=C(C(=CC=3)N=NC=3C4=CC=C(C=C4C=CC=3N)S(O)(=O)=O)C)=C(N)C(S(O)(=O)=O)=CC2=C1 OFGVQLJUXSRVEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFCHFHIRKBAQGU-UHFFFAOYSA-N 3-hexanone Chemical compound CCCC(=O)CC PFCHFHIRKBAQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCSXGCZMEPXKIW-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-4-[(4-methyl-2-nitrophenyl)diazenyl]-N-(3-nitrophenyl)naphthalene-2-carboxamide Chemical class Cc1ccc(N=Nc2c(O)c(cc3ccccc23)C(=O)Nc2cccc(c2)[N+]([O-])=O)c(c1)[N+]([O-])=O MCSXGCZMEPXKIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 4,4'-dichlorobenzophenone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDYLWBWPEDSSLU-UHFFFAOYSA-N 4-(3-carboxyphenyl)benzene-1,2,3-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C=2C(=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=CC=2)C(O)=O)=C1 XDYLWBWPEDSSLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APXJLYIVOFARRM-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(3,4-dicarboxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 APXJLYIVOFARRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNDXPKDBFOOQFC-UHFFFAOYSA-N 4-[2-nitro-4-(trifluoromethyl)phenyl]morpholine Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC(C(F)(F)F)=CC=C1N1CCOCC1 UNDXPKDBFOOQFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- ZNSMNVMLTJELDZ-UHFFFAOYSA-N Bis(2-chloroethyl)ether Chemical compound ClCCOCCCl ZNSMNVMLTJELDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N Di-Et ester-Fumaric acid Natural products CCOC(=O)C=CC(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical class CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N Diethyl maleate Chemical compound CCOC(=O)\C=C/C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- AQZGPSLYZOOYQP-UHFFFAOYSA-N Diisoamyl ether Chemical compound CC(C)CCOCCC(C)C AQZGPSLYZOOYQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N N-methylacetamide Chemical compound CNC(C)=O OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEYSFABYSGQBG-UHFFFAOYSA-M Patent blue Chemical compound [Na+].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C(=CC(=CC=1)S([O-])(=O)=O)S([O-])(=O)=O)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 SJEYSFABYSGQBG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910005965 SO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTMMMSIQFWMMIJ-UHFFFAOYSA-N [3-[2,2-dimethyl-3-(6-prop-2-enoyloxyhexanoyloxy)propanoyl]oxy-2,2-dimethylpropyl] 6-prop-2-enoyloxyhexanoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCC(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C(C)(C)COC(=O)CCCCCOC(=O)C=C HTMMMSIQFWMMIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNTQTLGBCMXNFX-UHFFFAOYSA-N [5-ethyl-2-(2-methyl-1-prop-2-enoyloxypropan-2-yl)-1,3-dioxan-5-yl]methyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1(CC)COC(C(C)(C)COC(=O)C=C)OC1 YNTQTLGBCMXNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFUWNULILNEATR-UHFFFAOYSA-N [[3-cyclopentyl-1-oxo-1-(4-phenylsulfanylphenyl)propan-2-ylidene]amino] benzoate Chemical compound O=C(ON=C(CC1CCCC1)C(=O)C1=CC=C(SC2=CC=CC=C2)C=C1)C1=CC=CC=C1 OFUWNULILNEATR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N acetone Substances CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical group 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N acrylic acid methyl ester Natural products COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 1
- 150000008360 acrylonitriles Chemical class 0.000 description 1
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000000852 azido group Chemical group *N=[N+]=[N-] 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- CHIHQLCVLOXUJW-UHFFFAOYSA-N benzoic anhydride Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OC(=O)C1=CC=CC=C1 CHIHQLCVLOXUJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 229940007550 benzyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012661 block copolymerization Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N bpda Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- IWPATTDMSUYMJV-UHFFFAOYSA-N butyl 2-methoxyacetate Chemical compound CCCCOC(=O)COC IWPATTDMSUYMJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001716 carbazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- IPHJYJHJDIGARM-UHFFFAOYSA-M copper phthalocyaninesulfonic acid, dioctadecyldimethylammonium salt Chemical compound [Cu+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCCCCCC.C=1C(S(=O)(=O)[O-])=CC=C(C(=NC2=NC(C3=CC=CC=C32)=N2)[N-]3)C=1C3=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 IPHJYJHJDIGARM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- MGNCLNQXLYJVJD-UHFFFAOYSA-N cyanuric chloride Chemical compound ClC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 MGNCLNQXLYJVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- WOSVXXBNNCUXMT-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1C(O)=O WOSVXXBNNCUXMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 125000006159 dianhydride group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N diethyl oxalate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)OCC WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005594 diketone group Chemical group 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Natural products C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012769 display material Substances 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- GIXDJNPUPVJXBG-UHFFFAOYSA-N ethoxymethyl propanoate Chemical compound CCOCOC(=O)CC GIXDJNPUPVJXBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OCC CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZANNOFHADGWOLI-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxyacetate Chemical compound CCOC(=O)CO ZANNOFHADGWOLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZRVEUZYBVGCFC-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxyisovalerate Chemical compound CCOC(=O)C(O)C(C)C IZRVEUZYBVGCFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLEKJZUYWFJPMB-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methoxyacetate Chemical compound CCOC(=O)COC JLEKJZUYWFJPMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 150000004675 formic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004366 heterocycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine group Chemical group NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000717 hydrazino group Chemical group [H]N([*])N([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- WXVQVZBJMWDACQ-UHFFFAOYSA-N isocyanato 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)ON=C=O WXVQVZBJMWDACQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQGFVRDZTUHBU-UHFFFAOYSA-N isocyanic acid;triethoxy(propyl)silane Chemical compound N=C=O.CCC[Si](OCC)(OCC)OCC AZQGFVRDZTUHBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003903 lactic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPFNAOBWGRMDLL-UHFFFAOYSA-N methyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OC PPFNAOBWGRMDLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OC HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- CQDGTJPVBWZJAZ-UHFFFAOYSA-N monoethyl carbonate Chemical compound CCOC(O)=O CQDGTJPVBWZJAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTVNOVQHSGMMOV-UHFFFAOYSA-N naphthalenetetracarboxylic dianhydride Chemical compound C1=CC(C(=O)OC2=O)=C3C2=CC=C2C(=O)OC(=O)C1=C32 YTVNOVQHSGMMOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N omega-Hydroxydodecanoic acid Natural products OCCCCCCCCCCCC(O)=O ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- CLYVDMAATCIVBF-UHFFFAOYSA-N pigment red 224 Chemical compound C=12C3=CC=C(C(OC4=O)=O)C2=C4C=CC=1C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C4=CC=C3C1=C42 CLYVDMAATCIVBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRDBISOHUUQXHE-UHFFFAOYSA-N pyridine-2,3,5,6-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)N=C1C(O)=O JRDBISOHUUQXHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- UWMZZSRDUVJJDP-UHFFFAOYSA-N sodium 4-[[9-(2-carboxyphenyl)-6-(2-methylanilino)xanthen-10-ium-3-yl]amino]-3-methylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].Cc1ccccc1Nc1ccc2c(-c3ccccc3C(O)=O)c3ccc(Nc4ccc(cc4C)S([O-])(=O)=O)cc3[o+]c2c1 UWMZZSRDUVJJDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N trimethyl phosphate Chemical compound COP(=O)(OC)OC WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003732 xanthenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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Abstract
本發明提供一種感光性樹脂組成物,包含:包含第一黏合劑樹脂及第二黏合劑樹脂的(A)黏合劑樹脂、(B)光可聚合單體、(C)光聚合起始劑、(D)黑色無機顏料、(E)無機散射體,以及(F)溶劑,其中第一黏合劑樹脂具有比第二黏合劑樹脂更高的折射率,所包含的第一黏合劑樹脂的量等於或小於第二黏合劑樹脂的量,且黑色無機顏料的初始粒徑小於或等於45奈米;一種使用感光性樹脂組成物的感光性樹脂層;以及一種包含感光性樹脂層的顯示裝置。
Description
本揭露內容是關於一種感光性樹脂組成物、一種使用其的感光性樹脂層以及一種包含感光性樹脂層的顯示裝置。
黑色感光性樹脂組成物必要地用以製造彩色濾光器的顯示元件、液晶顯示材料、有機發光元件(emitting element;EL)、顯示面板材料以及類似物。舉例而言,諸如彩色液晶顯示器以及類似物的彩色濾光器在諸如紅色、綠色、藍色以及類似顏色的有色層之間的邊緣上需要黑矩陣或光阻擋分隔壁來增強顯示對比度或發色團效果。黑矩陣或光阻擋分隔壁可主要由黑色感光性樹脂組成物形成。
特定言之,液晶顯示器的最近發展已與高亮度及高彩色再現性吻合,且為實現此等特性,已試圖減少來自室外的光反射。為減少顯示器的反射,主要研發一種施加具有偏光膜、抗反射性(Anti Reflective;AR)膜以及抗眩光(Anti Glare;AG)膜的抗反射膜的方法。
然而,由於此方法現達至極限以及成本較高,因而正持續努力以按其他方式減少反射。
一實施例提供一種感光性樹脂組成物,所述感光性樹脂組成物具有極佳的表面粗糙度及圖案線性度,同時實現光阻擋特性及低反射特性。
另一實施例提供一種使用感光性樹脂組成物製造的感光性樹脂層。
另一實施例提供一種包含感光性樹脂層的顯示裝置。
一實施例提供一種感光性樹脂組成物,包含:包含第一黏合劑樹脂及第二黏合劑樹脂的(A)黏合劑樹脂、(B)光可聚合單體、(C)光聚合起始劑、(D)黑色無機顏料、(E)無機散射體以及(F)溶劑,其中第一黏合劑樹脂具有比第二黏合劑樹脂更高的折射率,所包含的第一黏合劑樹脂的量等於或小於第二黏合劑樹脂的量,且黑色無機顏料的初始粒徑小於或等於45奈米。
第二黏合劑樹脂可具有小於或等於1.55的折射率。
第一黏合劑樹脂可為卡多類(cardo-based)黏合劑樹脂,且第二黏合劑樹脂可為丙烯酸類黏合劑樹脂。
第二黏合劑樹脂的量可為第一黏合劑樹脂的量的至少兩倍。
黑色無機顏料的初始粒徑可小於或等於30奈米。
黑色無機顏料可包含碳黑。
無機散射體可包含SiO2
、TiO2
、ZrO2
、BaSO3
或其組合。
可以分散液的形式包含黑色無機顏料及無機散射體兩者,且包含黑色無機顏料的分散液的量可為包含無機散射體的分散液的量的3倍或大於3倍。
感光性樹脂組成物可更包含染料。
染料可包含紅色染料、黃色染料、紫色染料或其組合。
可以比包含黑色無機顏料的分散液的量更小的量包含染料。
按感光性樹脂組成物的總量計,感光性樹脂組成物可包含1重量%至20重量%的(A)黏合劑樹脂、0.5重量%至10重量%的(B)光可聚合單體、0.1重量%至5重量%的(C)光聚合起始劑、1重量%至20重量%的(D)黑色無機顏料、0.1重量%至5重量%的(E)無機散射體以及40重量%至80重量%的(F)溶劑。
感光性樹脂組成物可更包含丙二酸、3-胺基-1,2-丙二醇、矽烷類偶合劑、調平劑、界面活性劑或其組合。
另一實施例提供一種使用感光性樹脂組成物製造的感光性樹脂層。
感光性樹脂層可為黑矩陣或光阻擋分隔壁。
另一實施例提供一種包含感光性樹脂層的顯示裝置。
本發明的其他實施例包含於以下實施方式中。
根據一實施例的感光性樹脂組成物使用兩種類型的黏合劑樹脂,所述黏合劑樹脂在各特定量下具有不同折射率,從而限制其量,且藉由一起使用具有在某一範圍內的初始粒徑的黑色無機顏料,可同時實現光阻擋特性及低反射特性,可極佳地維持圖案化能力(patternability)。
在下文中,詳細地描述本發明的實施例。然而,此等實施例為例示性的,本發明不限於此,且本發明由申請專利範圍的範疇限定。
在本說明書中,當不另外提供特定定義時,「烷基」是指C1至C20烷基,「烯基」是指C2至C20烯基,「環烯基」是指C3至C20環烯基,「雜環烯基」是指C3至C20雜環烯基,「芳基」是指C6至C20芳基,「芳烷基」是指C6至C20芳烷基,「伸烷基」是指C1至C20伸烷基,「伸芳基」是指C6至C20伸芳基,「烷基伸芳基」是指C6至C20烷基伸芳基,「伸雜芳基」是指C3至C20伸雜芳基,且「伸烷氧基」是指C1至C20伸烷氧基。
在本說明書中,當不另外提供特定定義時,「經取代」是指至少一個氫經以下取代基置換:鹵素原子(F、Cl、Br、I)、羥基、C1至C20烷氧基、硝基、氰基、胺基、亞胺基、疊氮基、甲脒基、肼基、亞肼基、羰基、胺甲醯基、硫醇基、酯基、醚基、羧基或其鹽、磺酸或其鹽、磷酸或其鹽、C1至C20烷基、C2至C20烯基、C2至C20炔基、C6至C20芳基、C3至C20環烷基、C3至C20環烯基、C3至C20環炔基、C2至C20雜環烷基、C2至C20雜環烯基、C2至C20雜環炔基、C3至C20雜芳基或其組合。
在本說明書中,當不另外提供特定定義時,「雜基(hetero)」是指在化學式中包含選自N、O、S以及P的至少一個雜原子的雜基。
在本說明書中,當不另外提供特定定義時,「(甲基)丙烯酸酯」是指「丙烯酸酯」及「甲基丙烯酸酯」兩者,且「(甲基)丙烯酸」是指「丙烯酸」及「甲基丙烯酸」。
在本說明書中,當不另外提供定義時,「組合」是指混合或共聚合。另外,「共聚」是指嵌段共聚或無規共聚,且「共聚物」是指嵌段共聚物或無規共聚物。
在本說明書中,當不另外提供定義時,當未繪製化學式中的化學鍵時,在推測給出的位置處鍵結氫。
在本說明書中,卡多類樹脂是指在其主鏈中包含至少一個選自化學式2至化學式12的官能基的樹脂。
在本說明書中,當不另外提供定義時,「*」指示連接相同或不同原子(包含氫原子)或化學式的點。
除非本文中另外定義,否則折射率意謂在550奈米的波長下的折射率。
根據一實施例的感光性樹脂組成物包含:包含第一黏合劑樹脂及第二黏合劑樹脂的(A)黏合劑樹脂、(B)光可聚合單體、(C)光聚合起始劑、(D)黑色無機顏料、(E)無機散射體以及(F)溶劑,其中第一黏合劑樹脂具有比第二黏合劑樹脂更高的折射率,所包含的第一黏合劑樹脂的量等於或小於第二黏合劑樹脂的量,且無機顏料具有小於或等於45奈米的初始粒徑,且因此使用所述感光性樹脂組成物的感光性樹脂層(例如,黑矩陣或光阻擋分隔壁)可實現光阻擋特性及低反射特性兩者,且與習知黑矩陣或光阻擋分隔壁相比可具有改良的圖案化能力(圖案表面粗糙度、圖案線性度等)。
具體言之,將根據一實施例的感光性樹脂組成物施加至黑矩陣或光阻擋分隔壁以供區分彩色濾光器中的紅色、綠色以及藍色,但用於黑矩陣或光阻擋分隔壁的大部分習知組成物包含碳黑作為主要組分以便實現有效光阻擋特性。當碳黑用作主要組分時,組成物具有較高光學密度,且因此可適用於實現光阻擋特徵,但具有未改良可見度的問題。另外,當諸如碳黑的黑色無機顏料的相對量增加時,存在粗糙化圖案表面或劣化圖案線性度、解析度以及類似者的問題,而當碳黑的相對量減少時,亦存在減少光阻擋且因此不能確保一般塗層厚度(1微米至1.3微米)內的最小光學密度的問題。因此,本發明的發明者已認識到前述問題,且研發出具有較低反射率的面板以改良可見度,且因此已經由若干試驗及差錯完成本發明。實際上,已試圖附著膜(例如,低反射偏光膜等)以便改良反射率。然而,由於偏光膜不僅較昂貴,而且對應技術亦達至其實現反射率的底限,且藉此暴露出附著額外膜的當前方法的限制,因而研發一種用於製造黑矩陣或光阻擋分隔壁的組成物,所述組成物可以其他方式降低反射率。特定言之,由於具有8K高解析度的TV的表面積為具有4K的TV的表面積的約兩倍,因而當反射率以及光阻擋特性降低時,可獲得更大的改良可見度的效果。
在下文中,詳細地描述各組分。
(E)無機散射體
根據一實施例的感光性樹脂組成物包含無機散射體,具體言之,包含無機散射體的分散液。習知地,已試圖將包含無機散射體的分散液添加至感光性樹脂組成物,但當包含無機散射體的分散液的量增加時,與其一起使用的其他無機材料的量亦不得不增加一樣多,且藉此賦予光阻擋特性的黑色著色劑(例如,黑色顏料以及類似物)的相對量減小,且因此減小光學密度,從而不形成黑矩陣或光阻擋分隔壁。
然而,根據一實施例的感光性樹脂組成物使用包含無機散射體的分散液,但如稍後描述,藉由使用具有不同折射率的兩種類型的黏合劑樹脂且限制兩種類型的黏合劑樹脂的量,且同時進一步限制用作黑色著色劑的黑色無機顏料的初始粒徑來解決前述問題。換言之,根據一實施例的感光性樹脂組成物包含包括無機散射體的分散液,但可能並不具有光學密度減小問題。
舉例而言,無機散射體可包含SiO2
、TiO2
、ZrO2
、BaSO3
或其組合,但不限於此。
舉例而言,按構成根據一實施例的感光性樹脂組成物的固體的總量計,可以大於或等於1重量%的量包含無機散射體。在此情況下,藉由使用根據一實施例的感光性樹脂組成物製造的感光性樹脂層可具有大於或等於3.2的光學密度(單位:/1微米)。
舉例而言,按感光性樹脂組成物的總量計,可以0.1重量%至5重量%,例如0.1重量%至3重量%的量包含無機散射體。(按感光性樹脂組成物的總量計,可以1重量%至20重量%,例如5重量%至10重量%的量包含包括無機散射體的分散液。)當包含以上述量範圍的無機散射體時,所述無機散射體可與包含黑色無機顏料的分散液具有極佳相容性,且因此有可能確保光阻擋特性,同時維持低反射特性及極佳圖案化能力。
(A)黏合劑樹脂
根據一實施例的感光性樹脂組成物包含具有不同折射率的兩種類型的黏合劑樹脂,且以等於或小於具有較低折射率的黏合劑樹脂(第二黏合劑樹脂)的量包含具有較高折射率的黏合劑樹脂(第一黏合劑樹脂)。若黏合劑樹脂不具有此組態,則可能不能實現低反射特性。
具體言之,第二黏合劑樹脂可具有小於或等於1.55的折射率。舉例而言,第一黏合劑樹脂可具有大於或等於1.60的折射率。
舉例而言,第二黏合劑樹脂的量可為第一黏合劑樹脂的量的至少兩倍。在此情況下,可改良顯影性及製程裕量。
舉例而言,第一黏合劑樹脂可為卡多類黏合劑樹脂,且第二黏合劑樹脂可為丙烯酸類黏合劑樹脂。在此情況下,可改良根據一實施例的感光性樹脂組成物的耐熱性及耐化學性,且尤其,確保低反射特性可為極有利的。
卡多類黏合劑樹脂的重均分子量可為1,000公克/莫耳至50,000公克/莫耳,且具體言之,3,000公克/莫耳至35,000公克/莫耳。當卡多類黏合劑樹脂的重均分子量在上述範圍內時,可在製造黑矩陣或光阻擋分隔壁時獲得極佳圖案化能力及可顯影性。
在化學式1中,
R24
至R27
可獨立地為氫原子、鹵素原子或經取代或未經取代的C1至C20烷基,
R28
及R29
可獨立地為氫原子或CH2
ORa
(其中Ra
為乙烯基、丙烯醯基或甲基丙烯醯基),
R30
可為氫原子、經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C2至C20烯基、丙烯醯基或甲基丙烯醯基,
Z1
可為單鍵、O、CO、SO2
、CRb
Rc
、SiRd
Re
(其中Rb
至Re
相同或不同,且可為氫原子或經取代或未經取代的C1至C20烷基),或選自由化學式2至化學式12表示的化合物中的一種,且
Z2
可為酸酐殘基或酸二酐殘基。
[化學式2]
[化學式3]
[化學式4]
[化學式5]
[化學式6]
四甲酸二酐可為芳族四甲酸二酐。芳族四甲酸二酐的實例可包含苯均四酸二酐、3,3',4,4'-聯苯四甲酸二酐、2,3,3',4-聯苯四甲酸二酐、2,2',3,3'-聯苯四甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四甲酸二酐、3,3',4,4'-聯苯醚四甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯基碸四甲酸二酐、1,2,3,4-環戊烷四甲酸二酐、1,2,5,6-萘四甲酸二酐、2,3,6,7-萘四甲酸二酐、1,4,5,8-萘四甲酸二酐、2,3,5,6-吡啶四甲酸二酐、3,4,9,10-苝四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)六氟丙烷二酐以及類似物,但不限於此。
丙烯酸類黏合劑樹脂為第一烯系不飽和單體與可與其共聚的第二烯系不飽和單體的共聚物,且為包含至少一個丙烯酸類重複單元的樹脂。
第一烯系不飽和單體可為包含一或多個羧基的烯系不飽和單體,且其特定實例可包含丙烯酸、甲基丙烯酸、順丁烯二酸、伊康酸、反丁烯二酸或其組合。
按丙烯酸類黏合劑樹脂的總量計,可以5重量%至50重量%,具體言之,10重量%至40重量%,且具體言之,10重量%至40重量%的量包含第一烯系不飽和單體。
第二烯系不飽和單體可包含芳族乙烯基化合物,諸如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯以及乙烯基苯甲基甲醚;不飽和羧酸酯化合物,諸如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸環己酯以及(甲基)丙烯酸苯酯;不飽和羧酸胺基烷基酯化合物,諸如(甲基)丙烯酸2-胺基乙酯及(甲基)丙烯酸2-二甲基胺基乙酯;羧酸乙烯基酯化合物,諸如醋酸乙烯酯及苯甲酸乙烯酯;不飽和羧酸縮水甘油酯化合物,諸如(甲基)丙烯酸縮水甘油酯;氰化乙烯化合物,諸如(甲基)丙烯腈;不飽和醯胺化合物,諸如(甲基)丙烯醯胺;以及類似物,且此等可單獨使用或以兩者或大於兩者的組合形式使用。
丙烯酸類黏合劑樹脂的特定實例可包含甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苯甲酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苯甲酯/苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苯甲酯/甲基丙烯酸2-羥乙酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苯甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-羥乙酯共聚物,但不限於此,且此等可單獨使用或以兩者或大於兩者的組合形式使用。
丙烯酸類黏合劑樹脂可具有3,000公克/莫耳至150,000公克/莫耳,具體言之,5,000公克/莫耳至50,000公克/莫耳,且更具體言之,20,000公克/莫耳至30,000公克/莫耳的重均分子量。當丙烯酸類黏合劑樹脂的重均分子量在上述範圍內時,根據一實施例的感光性樹脂組成物的物理及化學特性得到改良,黏度為適當的,且當製造黑矩陣或光阻擋分隔壁時,與基板的緊密接觸特性得到改良。
丙烯酸類黏合劑樹脂可具有15毫克KOH/公克至60毫克KOH/公克,且具體言之,20毫克KOH/公克至50毫克KOH/公克的酸值。當丙烯酸類黏合劑樹脂的酸值在上述範圍內時,像素圖案的解析度得到改良。
按感光性樹脂組成物的總量計,可以1重量%至20重量%,例如3重量%至15重量%的量包含黏合劑樹脂。當包含上述範圍內的黏合劑樹脂時,適當地維持黏度,且因此當製造黑矩陣或光阻擋分隔壁時,圖案化能力、可加工性以及可顯影性得到改良。
(B)光可聚合單體
光可聚合單體可為包含至少一個烯系不飽和雙鍵的(甲基)丙烯酸的單官能酯或多官能酯。
由於丙烯酸類光可聚合單體具有烯系不飽和雙鍵,因而有可能藉由在圖案形成製程中的曝光期間引起充分聚合而形成具有極佳耐熱性、耐光性以及耐化學性的圖案。
光可聚合單體的特定實例可為乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環氧(甲基)丙烯酸酯、乙二醇單甲醚(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、磷酸三(甲基)丙烯醯氧基乙酯、酚醛環氧(甲基)丙烯酸酯以及類似物。
光可聚合單體的可商購實例如下。單官能(甲基)丙烯酸酯可包含東亞合成化學工業株式會社(Toagosei Chemistry Industry Co., Ltd.)的Aronix M-101®
、M-111®
、M-114®
等;日本化藥株式會社(Nippon Kayaku Co., Ltd.)的KAYARAD TC-110S®
、KAYARAD TC-120S®
等;大阪有機化學工業株式會社(Osaka Organic Chemical Ind., Ltd.)的V-158®
、V-2311®
等;以及類似物。雙官能(甲基)丙烯酸酯的實例可包含東亞合成化學工業株式會社的Aronix M-210®
、Aronix M-210®
、Aronix M-240®
、Aronix M-6200®
等);日本化藥株式會社的KAYARAD HDDA®
、KAYARAD HX-220®
、KAYARAD R-604®
等;大阪有機化學工業株式會社的V-260®
、V-312®
、V-335 HP®
等;以及類似物。三官能(甲基)丙烯酸酯的實例可為東亞合成化學工業株式會社的Aronix M-309®
、Aronix M-400®
、Aronix M-405®
、Aronix M-450®
、Aronix M-710®
、Aronix M-8030®
、Aronix M-8060®
等;日本化藥株式會社的KAYARAD TMPTA®
、KAYARAD DPCA-20®
、KAYARAD-30®
、KAYARAD-60®
、KAYARAD-120®
等;大阪有機化學工業株式會社的V-295®
、V-300®
、V-360®
、V-GPT®
、V-3PA®
、V-400®
等;以及類似物。上述產品可單獨使用或以兩者或大於兩者的組合形式使用。
光可聚合單體可經酸酐處理以改良顯影性。
按感光性樹脂組成物的總量計,可以0.5重量%至10重量%,例如1重量%至5重量%的量包含光可聚合單體。當包含所述範圍內的光可聚合單體時,光可聚合單體在圖案形成製程中的曝光期間充分固化,且可藉由鹼性顯影溶液而具有改良的可靠度及可顯影性。
(C)光聚合起始劑
光聚合起始劑可為苯乙酮化合物、二苯甲酮化合物、噻噸酮(thioxanthone)化合物、安息香(benzoin)化合物、三嗪化合物、肟化合物或其組合。
苯乙酮類化合物可包含2,2'-二乙氧基苯乙酮、2,2'-二丁氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基苯丙酮、對三級丁基三氯苯乙酮、對三級丁基二氯苯乙酮、4-氯苯乙酮、2,2'-二氯-4-苯氧基苯乙酮、2-甲基-1-(4-(甲硫基)苯基)-2-嗎啉基丙-1-酮、2-苯甲基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁-1-酮以及類似物。
二苯甲酮類化合物可包含二苯甲酮、苯甲酸苯甲醯酯、苯甲酸苯甲醯酯甲酯、4-苯基二苯甲酮、羥基二苯甲酮、丙烯酸化二苯甲酮、4,4'-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、4,4'-雙(二乙基胺基)二苯甲酮、4,4'-二甲基胺基二苯甲酮、4,4'-二氯二苯甲酮、3,3'-二甲基-2-甲氧基二苯甲酮以及類似物。
噻噸酮類化合物可包含噻噸酮、2-氯噻噸酮、2-甲基噻噸酮、異丙基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、2,4-二異丙基噻噸酮以及類似物。
安息香類化合物可包含安息香、安息香甲基醚、安息香乙基醚、安息香異丙基醚、安息香異丁基醚、苯甲基二甲基縮酮以及類似物。
三嗪類化合物可包含2,4,6-三氯-s-三嗪、2-苯基4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(3',4'-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4'-甲氧基萘基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對甲苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-聯苯基4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、雙(三氯甲基)-6-苯乙烯基-s-三嗪、2-(萘酚-基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基萘酚-基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-4-雙(三氯甲基)-6-向日葵基-s-三嗪、2-4雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-s-三嗪以及類似物。
肟類化合物可包含O-醯肟類化合物、2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-辛二酮、1-(O-乙醯基肟)-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]乙酮、O-乙氧基羰基-α-氧胺基-1-苯基丙-1-酮、1-(3-環戊基-1-(9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基)亞丙基胺氧基)乙酮、2-(苯甲醯氧基亞胺基)-3-環戊基-1-(4-(苯硫基)苯基)丙-1-酮以及類似物。O-醯肟類化合物的特定實例可為1,2-辛二酮、2-二甲基胺基-2-(4-甲基苯甲基)-1-(4-嗎啉-4-基-苯基)-丁-1-酮、1-(4-苯基氫硫基苯基)-丁烷-1,2-二酮-2-肟-O-苯甲酸酯、1-(4-苯基氫硫基苯基)-辛烷-1,2-二酮-2-肟-O-苯甲酸酯、1-(4-苯基氫硫基苯基)-辛-1-酮肟-O-乙酸酯以及1-(4-苯基氫硫基苯基)-丁-1-酮肟-O-乙酸酯以及類似物。
根據一實施例的感光性樹脂組成物可包含肟化合物與苯乙酮化合物的混合物作為光聚合起始劑。在此情況下,可以比苯乙酮類化合物的量更高的量包含肟類化合物。
除所述化合物以外,光聚合起始劑可更包含咔唑類化合物、二酮類化合物、硼酸鋶類化合物、重氮類化合物、咪唑類化合物、聯咪唑類化合物、芴類化合物以及類似物。
按感光性樹脂組成物的總量計,可以0.1重量%至5重量%,例如0.1重量%至3重量%的量包含光聚合起始劑。當包含上述範圍內的光聚合起始劑時,光聚合在圖案形成製程中的曝光期間充分發生,且因此所製造的黑矩陣或光阻擋分隔壁的敏感性極佳。
(D)黑色無機顏料
考慮到與包含無機散射體的前述分散液的相容性,為改良光阻擋特性且易於實現黑色,構成包含黑色無機顏料的分散液的黑色無機顏料具有小於或等於45奈米的初始粒徑。包含具有小於或等於45奈米的初始粒徑的黑色無機顏料的分散液極適用作根據一實施例的感光性樹脂組成物中的黑色著色劑。
舉例而言,黑色無機顏料的初始粒徑可小於或等於30奈米。
舉例而言,黑色無機顏料可包含碳黑。舉例而言,黑色無機顏料可為碳黑。
舉例而言,包含黑色無機顏料的分散液的量可為包含無機散射體的分散液的量的3倍或大於3倍。在此情況下,由於光學密度較高,因而實現光阻擋特性更加有利,且可有效降低反射率。
黑色無機顏料可與分散劑一起使用。具體言之,黑色無機顏料可預先用分散劑進行表面處理,或可藉由在製備組成物時將分散劑與黑色無機顏料一起添加來使用。
非離子分散劑、陰離子分散劑、陽離子分散劑以及類似物可用作分散劑。分散劑的特定實例包含聚伸烷二醇及其酯、聚環氧烷、多元醇酯環氧烷加合物、醇環氧烷加合物、磺酸酯、磺酸鹽、甲酸酯、甲酸鹽、烷基醯胺環氧烷加合物、烷基胺以及類似物,且此等可單獨使用或以兩者或大於兩者的組合形式使用。
舉例而言,可商購分散劑產品為畢克有限公司(BYK Co., Ltd.)的DISPERBYK-101、DISPERBYK-130、DISPERBYK-140、DISPERBYK-160、DISPERBYK-161、DISPERBYK-162、DISPERBYK-163、DISPERBYK-164、DISPERBYK-165、DISPERBYK-166、DISPERBYK-170、DISPERBYK-171、DISPERBYK-182、DISPERBYK-2000、DISPERBYK-2001以及類似物;埃夫卡化學品公司(EFKA Chemicals Co.)的EFKA-47、EFKA-47EA、EFKA-48、EFKA-49、EFKA-100、EFKA-400、EFKA-450以及類似物;阿斯利康公司(Zeneka Co.)的Solsperse 5000、Solsperse 12000、Solsperse 13240、Solsperse 13940、Solsperse 17000、Solsperse 20000、Solsperse 24000GR、Solsperse 27000、Solsperse 28000以及類似物;或味之素公司(Ajinomoto Inc.)的PB711、PB821以及類似物。
按感光性樹脂組成物的總量計,可以0.1重量%至15重量%的量包含分散劑。當包含上述範圍內的分散劑時,由於組成物的分散性得到改良,因而在製造光阻擋分隔壁時的穩定性、可顯影性以及圖案化能力極佳。
可在使用水溶性無機鹽及潤濕劑進行預處理之後使用顏料。當在預處理之後使用顏料時,顏料的平均粒徑可變得較小。
可藉由用水溶性無機鹽及潤濕劑捏合顏料,且接著過濾並洗滌所捏合顏料來進行預處理。
可在範圍介於約40℃至約100℃的溫度下進行捏合,且可藉由在用水及類似物洗掉無機鹽之後過濾顏料來進行過濾及洗滌。
水溶性無機鹽的實例可為氯化鈉、氯化鉀以及類似物,但不限於此。潤濕劑可使顏料與水溶性無機鹽均一混合且經粉碎。潤濕劑的實例包含:伸烷基二醇單烷基醚,諸如乙二醇單乙基醚、丙二醇單甲基醚、二乙二醇單甲基醚以及類似物;及醇,諸如乙醇、異丙醇、丁醇、己醇、環己醇、乙二醇、二乙二醇、聚乙二醇、丙三醇聚乙二醇以及類似物。此等可單獨使用或以兩者或大於兩者的組合形式使用。
在捏合之後,顏料可具有5奈米至200奈米,例如5奈米至150奈米的平均粒徑。當顏料的平均粒徑在上述範圍內時,顏料分散液的穩定性極佳,且像素的解析度可能不會劣化。
具體言之,按包含黑色無機顏料的分散液的總量計,可以15重量%至40重量%,例如20重量%至30重量%包含黑色無機顏料。
按感光性樹脂組成物的總量計,可以1重量%至20重量%,例如1重量%至15重量%的量包含黑色無機顏料。(按感光性樹脂組成物的總量計,可以20重量%至40重量%,例如20重量%至30重量%的量包含包括黑色無機顏料的分散液。)當包含上述範圍內的包含黑色無機顏料的分散液時,黑色實現效果及顯影效能可得到改良。
(F)溶劑
溶劑可為與前述成分及稍後描述的其他添加劑具有相容性但不與其反應的材料。
溶劑的實例可為醇,諸如甲醇、乙醇以及類似物;醚,諸如二氯乙基醚、正丁基醚、二異戊基醚、甲基苯基醚、四氫呋喃以及類似物;二醇醚,諸如乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、乙二醇二甲基醚以及類似物;乙酸賽路蘇(cellosolve acetate),諸如乙酸甲基賽路蘇、乙酸乙基賽路蘇、乙酸二乙基賽路蘇以及類似物;卡必醇,諸如甲基乙基卡必醇、二乙基卡必醇、二乙二醇單甲基醚、二乙二醇單乙基醚、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇乙基甲基醚、二乙二醇二乙基醚以及類似物;丙二醇烷基醚乙酸酯,諸如丙二醇甲基醚乙酸酯、丙二醇丙基醚乙酸酯以及類似物;芳族烴,諸如甲苯、二甲苯以及類似物;酮,諸如甲基乙基酮、環己酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮、甲基-正丙酮、甲基-正丁酮、甲基-正戊酮、2-庚酮以及類似物;飽和脂族單羧酸烷基酯,諸如乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯以及類似物;乳酸酯,諸如乳酸甲酯、乳酸乙酯以及類似物;氧乙酸烷基酯,諸如氧乙酸甲酯、氧乙酸乙酯、氧乙酸丁酯以及類似物;烷氧基乙酸烷基酯,諸如甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯以及類似物;3-氧基丙酸烷基酯,諸如3-氧基丙酸甲酯、3-氧基丙酸乙酯以及類似物;3-烷氧基丙酸烷基酯,諸如3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯以及類似物;2-氧基丙酸烷基酯,諸如丙酸2-氧基甲酯、丙酸2-氧基乙酯、丙酸2-氧基丙酯以及類似物;2-烷氧基丙酸烷基酯,諸如丙酸2-甲氧基甲酯、丙酸2-甲氧基乙酯、丙酸2-乙氧基乙酯、丙酸2-乙氧基甲酯以及類似物;2-氧基-2-甲基丙酸酯,諸如丙酸2-氧基-2-甲基甲酯、丙酸2-氧基-2-甲基乙酯以及類似物;烷基2-烷氧基-2-甲基丙酸酯的單氧基單羧酸烷基酯,諸如丙酸2-甲氧基-2-甲基甲酯、丙酸2-乙氧基-2-甲基乙酯以及類似物;酯,諸如丙酸2-羥乙酯、丙酸2-羥基-2-甲酯乙酯、羥基乙酸乙酯、丁酸2-羥基-3-甲酯乙酯以及類似物;酮酸酯,諸如丙酮酸乙酯以及類似物。另外,亦可使用高沸點溶劑,諸如N-甲基甲醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基甲醯苯胺、N-甲基乙醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮、二甲基甲醯胺、苯甲基乙基醚、二己基醚、乙醯基丙酮、異佛酮、羊油酸、羊脂酸、1-辛醇、1-壬醇、苯甲醇、乙酸苯甲酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、順丁烯二酸二乙酯、γ-丁內酯、3-甲基苯甲酸、乙酸3-甲氧基丁酯、碳酸伸乙酯、碳酸伸丙酯、乙酸苯基賽路蘇以及類似物。
考慮到相容性及反應性,可合乎需要地使用酮,諸如環己酮及類似物;二醇醚,諸如乙二醇單乙基醚、乙二醇二甲基醚、乙二醇二乙基醚、二乙二醇乙基甲基醚以及類似物;乙二醇烷基醚乙酸酯,諸如乙酸乙基賽路蘇以及類似物;酯,諸如丙酸2-羥乙酯以及類似物;卡必醇,諸如二乙二醇單甲基醚以及類似物;丙二醇烷基醚乙酸酯,諸如丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇丙基醚乙酸酯以及類似物;3-甲基苯甲酸;乙酸3-甲氧基丁酯;以及類似物。
按感光性樹脂組成物的總量計,可以例如40重量%至80重量%,例如40重量%至70重量%,例如40重量%至65重量%的餘量包含溶劑。當包含所述範圍內的溶劑時,感光性樹脂組成物可具有引起黑矩陣或光阻擋分隔壁的可加工性得以改良的適當黏度。
(G)染料
根據一實施例的感光性樹脂組成物可更包含染料。染料可包含紅色染料、黃色染料、紫色染料或其組合。
當另外使用紅色染料、黃色染料、紫色染料或其組合時,可在不損害圖案表面粗糙度及線性度的情況下進一步增加光學密度。
紅色染料的實例可包含呫噸類(xanthene-based)染料、偶氮類(吡啶酮類、巴比妥酸類等)染料、雙偶氮類染料、蒽醌類(anthraquinone-based)染料以及次甲基類(methine-based)染料,但不限於此。另外,紅色染料可呈以下形式:藉由此染料獲得的深紅色顏料、具有諸如磺酸或羧酸的酸基的酸性染料的無機鹽、酸性染料與含氮化合物的構成性鹽化合物或酸性染料的磺酸醯胺化合物。
黃色染料的實例可包含喹啉類染料、偶氮類(吡啶酮類、巴比妥酸類金屬錯合物類等)染料、雙偶氮類染料以及次甲基類染料,但不限於此。
紫色染料的實例可包含呫噸類油溶性染料,諸如C.I.溶劑紫色2、C.I.溶劑紫色10以及類似物;若丹明類(rhodamine-based)油溶性染料,諸如C.I.溶劑紫色2;呫噸類鹼性染料,諸如C.I.鹼性紫色10;以及呫噸類酸性染料,諸如C.I.酸性紫色9,但不限於此。
可以比包含黑色無機顏料的分散液的量更小的量包含染料。舉例而言,當以比包含黑色無機顏料的分散液的量更高的量包含染料時,此可能並不為合乎需要的,因為光學密度由於包含黑色無機顏料的分散液的相對量的減小反而減小。
按感光性樹脂組成物的總量的總量計,可以例如1重量%至10重量%,例如3重量%至8重量%的餘量包含染料。當包含上述範圍內的染料時,可進一步增加感光性樹脂組成物的光學密度,且可實現低反射特性及極佳圖案化能力。
(H)其他添加劑
同時,感光性樹脂組成物可更包含以下的添加劑:丙二酸、3-胺基-1,2-丙二醇、矽烷類偶合劑、調平劑、界面活性劑或其組合。
矽烷類偶合劑可具有乙烯基、羧基、甲基丙烯醯氧基、異氰酸酯基、環氧基以及類似物的反應性取代基,以便改良與基板的緊密接觸特性。
矽烷類偶合劑的實例可包含三甲氧基矽烷基苯甲酸、γ甲基丙烯醯基氧基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、γ異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、γ縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、β環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷以及類似物,且此等可單獨使用或以兩者或大於兩者的混合物形式使用。
按感光性樹脂組成物的總量的總量計,可以0.01重量份至10重量份的量包含矽烷類偶合劑。當包含上述範圍內的矽烷類偶合劑時,改良緊密接觸特性、儲存能力以及類似物。
另外,視需要,感光性樹脂組成物可更包含界面活性劑,諸如氟類界面活性劑及/或矽酮類界面活性劑,以便改良塗層特性且防止缺陷產生。
氟類界面活性劑的實例可為市售氟類界面活性劑,諸如BM化學公司(BM Chemie Inc.)的BM-1000®
、BM-1100®
以及類似物;大日本墨水化學工業株式會社(Dainippon Ink Kagaku KogyoCo., Ltd.)的MEGAFACE F 142D®
、MEGAFACE F 172®
、MEGAFACE F 173®
、MEGAFACE F 183®
、MEGAFACE F 554®
以及類似物;住友3M株式會社(SUMITOMO 3M Co., Ltd.)的FULORAD FC-135®
、FULORAD FC-170C®
、FULORAD FC-430®
、FULORAD FC-431®
以及類似物;朝日玻璃株式會社(Asahi Glass Co., Ltd.)的SURFLON S-112®
、SURFLON S-113®
、SURFLON S-131®
、SURFLON S-141®
、SURFLON S-145®
以及類似物;東麗矽酮株式會社(Toray Silicone Co., Ltd)的SH-28PA®
、SH-190®
、SH-193®
、SZ-6032®
、SF-8428®
以及類似物。
矽酮類界面活性劑可為市售矽酮類界面活性劑,諸如畢克化學公司(BYK Chem)的BYK-307、BYK-333、BYK-361N、BYK-051、BYK-052、BYK-053、BYK-067A、BYK-077、BYK-301、BYK-322、BYK-325以及類似物。
按感光性樹脂組成物的總量的總量計,可以0.001重量份至5重量份的量使用界面活性劑。當包含所述範圍內的界面活性劑時,可確保塗層均一性,可能不會產生污點,且改良在IZO基板或玻璃基板上的潤濕性。
此外,除非添加劑使感光性樹脂組成物的特性劣化,否則感光性樹脂組成物可以預定量包含其他添加劑,諸如抗氧化劑、穩定劑以及類似物。
根據一實施例的感光性樹脂組成物可為正性或負性的,但應為負性的,以在曝光且顯影具有光阻擋特性的組成物之後完全移除曝光圖案的區域中的殘餘物。
另一實施例提供感光性樹脂層,例如藉由曝光、顯影以及固化前述感光性樹脂組成物製造的黑矩陣或光阻擋分隔壁。
製造感光性樹脂層的方法如下。
(1)塗佈及膜形成
使用旋塗或縫塗法、滾塗法、網版印刷法、施加器法以及類似方法在經歷預定預處理的基板(諸如玻璃基板或ITO基板以及類似物)上將感光性樹脂組成物塗佈至具有所需厚度,且在70℃至110℃下將感光性樹脂組成物預烘烤1分鐘至10分鐘以移除溶劑且形成膜。
(2)曝光
在將用以形成必需圖案的遮罩安置於所獲得塗層膜上之後,藉由輻照200奈米至500奈米的光化射線來進行曝光。作為用於輻照的光源,可使用低壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、金屬鹵化物燈、氬氣雷射等,且在一些情況下,可使用X射線、電子束以及類似物。
當使用高壓汞燈時,曝光製程使用例如500毫焦/平方公分或小於500毫焦/平方公分(利用365奈米感測器)的光劑量。然而,光劑量可視各組分的種類、其組合比率以及乾膜厚度而變化。
(3)顯影
僅保留曝光部分以藉由使用鹼性水溶液作為顯影劑溶解且移除非必需部分形成圖案。
(4)後處理
進行藉由顯影獲得的影像圖案的後處理製程以獲得具有改良的耐熱性、黏著性、耐化學性等的圖案。舉例而言,可在顯影之後將藉由顯影獲得的影像圖案置放於250℃下的對流烘箱中,隨後加熱(後烘烤)1小時。
另一實施例提供一種包含感光性樹脂層的顯示裝置。
在下文中,描述本發明的實例。然而,以下實例僅為本發明的較佳實例,且本發明不受以下實例限制。( 製備感光性樹脂組成物 )
實例1至實例3、比較例1至比較例3以及參考實例1
藉由混合顯示於表1中的各組成物中的組分且將所得混合物攪拌6小時來製備根據實例1至實例3、比較例1至比較例3以及參考實例1的感光性樹脂組成物。具體言之,在精確量測光聚合起始劑的量且向其中添加溶劑之後,充分攪拌混合物,直至起始劑完全溶解為止。隨後,向其中依序添加黏合劑樹脂及光可聚合單體,且接著再攪拌1小時左右。接著,向其中添加包含無機散射體的分散液及其他添加劑,將包含黑色無機顏料的分散液置於其中,且最後將整個組成物攪拌2小時或大於2小時以製備感光性樹脂組成物。
[表1]
(單位:公克)
(A)黏合劑樹脂
(A-1)第一黏合劑樹脂
卡多類黏合劑樹脂(折射率:1.6,KBR101,慶仁合成公司(Kyung-In Synthetic Corp.))
(A-2)第二黏合劑樹脂
丙烯酸類黏合劑樹脂(折射率:1.52,RY-25,昭和電工株式會社(Showa Denko K.K.))
(B)光可聚合單體
二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(DPHA,日本化藥株式會社)
(C)光聚合起始劑
(C-1)肟類起始劑(SPI-02,三養公司(Samyang Corp.))
(C-2)苯乙酮類起始劑(IRG-369,巴斯夫(BASF))
(D)包含黑色無機顏料的分散液
(D-1)包含碳黑的研磨基質(碳黑的初始粒徑:30奈米,碳黑的固體含量:25重量%,阪田種苗株式會社(Sakata Seed Corp.))
(D-2)包含碳黑的研磨基質(碳黑的初始粒徑:45奈米,碳黑的固體含量:25重量%,阪田種苗株式會社)
(D-3)包含碳黑的研磨基質(碳黑的初始粒徑:50奈米,碳黑的固體含量:25重量%,阪田種苗株式會社)
(D-4)包含碳黑的研磨基質(碳黑的初始粒徑:70奈米,碳黑的固體含量:25重量%,阪田種苗株式會社)
(E)包含無機散射體的分散液
包含ZrO2
的分散液(ZrO2
的固體含量:20重量%,三國株式會社(Mikuni Co.))
(F)溶劑
丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA,比爾洋公司(Biryong Corp.))
(G)染料
(G-1)呫噸系列紅色染料(RD-503,慶仁合成公司)
(G-2)偶氮類黃色染料(YDP-301,慶仁合成公司)
(H)其他添加劑
γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷(S-510,智索株式會社(Chisso Co.))(評估) 反射率評估
實例1 | 實例2 | 實例3 | 比較例1 | 比較例2 | 比較例3 | 參考實例1 | ||
(A)黏合劑樹脂 | (A-1) | 2.512 | 1.825 | 2.512 | 6.129 | 6.322 | 2.512 | 2.874 |
(A-2) | 5.810 | 4.813 | 5.810 | - | - | 5.810 | 6.316 | |
(B)光可聚合單體 | 1.028 | 1.058 | 1.028 | 1.339 | 1.028 | 11.028 | 1.481 | |
(C)光聚合起始劑 | (C-1) | 0.451 | 0.477 | 0.451 | 0.531 | 0.451 | 0.451 | 0.555 |
(C-2) | 0.129 | 0.159 | 0.129 | 0.274 | 0.19 | 0.129 | 0.185 | |
(D)包含黑色無機顏料的分散液 | (D-1) | 21.528 | 21.165 | - | - | 21.528 | - | 17.776 |
(D-2) | - | - | 21.528 | - | - | - | - | |
(D-3) | - | - | - | 23.349 | - | - | - | |
(D-4) | - | - | - | - | - | 21.528 | - | |
(E)包含無機散射體的分散液 | 7.044 | 7.044 | 7.044 | - | 7.341 | 7.341 | 7.395 | |
(F)溶劑 | 61.020 | 56.833 | 61.020 | 68.191 | 63.020 | 61.020 | 63.230 | |
(G)染料 | (G-1) | - | 2.930 | - | - | - | - | - |
(G-2) | - | 3.513 | - | - | - | - | - | |
(H)其他添加劑 | 0.181 | 0.181 | 0.181 | 0.186 | 0.181 | 0.181 | 0.187 |
將根據實例1至實例3、比較例1至比較例3以及參考實例1的感光性樹脂組成物在玻璃基板上分別旋塗至約1.3微米厚且在約100℃下預烘烤90秒。隨後,使所塗佈基板在室溫下冷卻60秒,且藉由使用超高壓汞燈藉由紫外線(UV)以40毫焦/平方公分輻照以誘導感光性部分的光可固化反應。使經曝光基板在室溫下以噴霧方法在0.043% KOH水溶液中顯影,且接著用純溶劑洗滌60秒。隨後,使所洗滌基板在室溫下乾燥,且接著在230℃對流烘箱中後烘烤30分鐘以獲得圖案化樣品。接著,藉由使用MCPD(大塚電子株式會社(Otsuka Electronics Co., Ltd.))設備參考Cr基板的100%反射率來量測圖案化樣品的反射率,且結果顯示於表2中。
[表2]
(單位:%)
評估光學密度
反射率(在550奈米下,在1.2微米下) | |
實例1 | 1.51 |
實例2 | 1.45 |
實例3 | 1.50 |
比較例1 | 2.78 |
比較例2 | 1.93 |
比較例3 | 1.53 |
參考實例1 | 1.38 |
將根據實例1至實例3、比較例1至比較例3以及參考實例1的感光性樹脂組成物分別塗佈、曝光、顯影且後烘烤以獲得圖案化樣品,且接著藉由使用OD計量器量測其每1微米的光學密度,且結果顯示於表3中。
[表3]
光學密度(/1微米) | |
實例1 | 3.64 |
實例2 | 3.73 |
實例3 | 3.67 |
比較例1 | 3.86 |
比較例2 | 3.68 |
乙酸賽路蘇比較例3 | 3.61 |
參考實例1 | 2.61 |
參考表2及表3以及圖1至圖6,根據一實施例的感光性樹脂組成物實現光阻擋特性及低反射特性,且同時展現極佳的圖案化能力。
儘管已結合目前被視為實用實例實施例的內容來描述本發明,但應理解,本發明不限於所揭露的實施例,但相反,本發明意欲涵蓋包含於所附申請專利範圍的精神及範疇內的各種修改及等效配置。因此,前述實施例應理解為例示性的,但不以任何方式限制本發明。
無。
圖1為顯示藉由使用根據實例1的感光性樹脂組成物製造的感光性樹脂層的圖案相片的掃描電子顯微相片。
圖2為顯示藉由使用根據實例2的感光性樹脂組成物製造的感光性樹脂層的圖案相片的掃描電子顯微相片。
圖3為顯示藉由使用根據比較例1的感光性樹脂組成物製造的感光性樹脂層的圖案相片的掃描電子顯微相片。
圖4為顯示藉由使用根據比較例2的感光性樹脂組成物製造的感光性樹脂層的圖案相片的掃描電子顯微相片。
圖5為顯示藉由使用根據比較例3的感光性樹脂組成物製造的感光性樹脂層的圖案相片的掃描電子顯微相片。
圖6為顯示藉由使用根據參考實例1的感光性樹脂組成物製造的感光性樹脂層的圖案相片的掃描電子顯微相片。
Claims (15)
- 一種感光性樹脂組成物,包括(A)黏合劑樹脂,包含第一黏合劑樹脂及第二黏合劑樹脂,(B)光可聚合單體,(C)光聚合起始劑,(D)黑色無機顏料,(E)無機散射體,以及(F)溶劑其中所述第一黏合劑樹脂具有比所述第二黏合劑樹脂更高的折射率,所述第二黏合劑樹脂的量為所述第一黏合劑樹脂的量的至少兩倍,且所述(D)黑色無機顏料的初始粒徑小於或等於45奈米。
- 如請求項1所述的感光性樹脂組成物,其中所述第二黏合劑樹脂具有小於或等於1.55的折射率。
- 如請求項1所述的感光性樹脂組成物,其中所述第一黏合劑樹脂為卡多類黏合劑樹脂,且所述第二黏合劑樹脂為丙烯酸類黏合劑樹脂。
- 如請求項1所述的感光性樹脂組成物,其中所述(D)黑色無機顏料的初始粒徑小於或等於30奈米。
- 如請求項1所述的感光性樹脂組成物,其中所述(D)黑色無機顏料包括碳黑。
- 如請求項5所述的感光性樹脂組成物,其中所述(E)無機散射體包括SiO2、TiO2、ZrO2、BaSO3或其組合。
- 如請求項1所述的感光性樹脂組成物,其中所包含的所述(D)黑色無機顏料及所述(E)無機散射體兩者呈分散液的形式,且包含所述(D)黑色無機顏料的分散液的量為包含所述(E)無機散射體的分散液的量的3倍或大於3倍。
- 如請求項1所述的感光性樹脂組成物,其中所述感光性樹脂組成物更包括染料。
- 如請求項8所述的感光性樹脂組成物,其中所述染料包括紅色染料、黃色染料、紫色染料或其組合。
- 如請求項8所述的感光性樹脂組成物,其中所包含的所述染料的量小於包含所述(D)黑色無機顏料的所述分散液的量。
- 如請求項1所述的感光性樹脂組成物,其中按所述感光性樹脂組成物的總量計,所述感光性樹脂組成物包括,1重量%至20重量%的所述(A)黏合劑樹脂,0.5重量%至10重量%的所述(B)光可聚合單體,0.1重量%至5重量%的所述(C)光聚合起始劑,1重量%至20重量%的所述(D)黑色無機顏料,0.1重量%至5重量%的所述(E)無機散射體,以及40重量%至80重量%的所述(F)溶劑。
- 如請求項1所述的感光性樹脂組成物,其中所述感光性樹脂組成物更包括丙二酸、3-胺基-1,2-丙二醇、矽烷類偶合劑、調平劑、界面活性劑或其組合。
- 一種感光性樹脂層,使用如請求項1至請求項12中任一項所述的感光性樹脂組成物製造。
- 如請求項13所述的感光性樹脂層,其中所述感光性樹脂層為黑矩陣或光阻擋分隔壁。
- 一種顯示裝置,包括如請求項13所述的感光性樹脂層。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20200033356 | 2020-03-18 | ||
KR10-2020-0033356 | 2020-03-18 | ||
KR10-2021-0028255 | 2021-03-03 | ||
KR1020210028255A KR102682916B1 (ko) | 2020-03-18 | 2021-03-03 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 디스플레이 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202136914A TW202136914A (zh) | 2021-10-01 |
TWI781550B true TWI781550B (zh) | 2022-10-21 |
Family
ID=77771424
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW110108643A TWI781550B (zh) | 2020-03-18 | 2021-03-11 | 感光性樹脂組成物、使用其的感光性樹脂層及顯示裝置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230122600A1 (zh) |
JP (1) | JP7461491B2 (zh) |
CN (1) | CN115244463A (zh) |
TW (1) | TWI781550B (zh) |
WO (1) | WO2021187853A1 (zh) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100961818B1 (ko) | 2007-02-21 | 2010-06-08 | 주식회사 엘지화학 | 블랙 매트릭스용 감광성 수지 조성물, 이에 의해 형성되는블랙 매트릭스 및 이를 포함하는 액정표시소자 |
JP5270113B2 (ja) | 2007-06-06 | 2013-08-21 | 新日鉄住金化学株式会社 | ブラックレジスト用感光性樹脂組成物及びこれを用いた遮光膜並びにカラーフィルター |
JP2011048064A (ja) | 2009-08-26 | 2011-03-10 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 感光性樹脂組成物及び積層体、並びにこれを用いた電磁波シールド及び透明導電性基板 |
JP2013539072A (ja) * | 2010-09-16 | 2013-10-17 | エルジー・ケム・リミテッド | 感光性樹脂組成物、ドライフィルムソルダーレジスト及び回路基板 |
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2021
- 2021-03-11 TW TW110108643A patent/TWI781550B/zh active
- 2021-03-16 WO PCT/KR2021/003205 patent/WO2021187853A1/ko active Application Filing
- 2021-03-16 CN CN202180018919.1A patent/CN115244463A/zh active Pending
- 2021-03-16 US US17/910,398 patent/US20230122600A1/en active Pending
- 2021-03-16 JP JP2022552427A patent/JP7461491B2/ja active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7461491B2 (ja) | 2024-04-03 |
TW202136914A (zh) | 2021-10-01 |
WO2021187853A1 (ko) | 2021-09-23 |
JP2023515641A (ja) | 2023-04-13 |
CN115244463A (zh) | 2022-10-25 |
US20230122600A1 (en) | 2023-04-20 |
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