TWI772344B - 製備穩定劑組成物的方法及該方法製備的穩定劑組成物 - Google Patents

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Abstract

本發明係關於一種製備用於聚合物之穩定劑組成物的方法，其中至少一種羧酸與至少一種金屬化合物反應，該至少一種金屬化合物諸如至少一種金屬氫氧化物及/或至少一種金屬氧化物及/或至少一種金屬碳酸鹽，由此形成羧酸之金屬羧酸鹽，其中該羧酸在擠壓機(1)中連續與該金屬化合物反應，其中自該擠壓機(1)排放所產生的反應水。
本發明亦係關於一種相對應地產生之穩定劑組成物。

Description

製備穩定劑組成物的方法及該方法製備的穩定劑組成物
本發明係關於一種製備用於聚合物之穩定劑組成物的方法，其中羧酸與至少一種金屬化合物反應，該至少一種金屬化合物諸如至少一種金屬氫氧化物及/或至少一種金屬氧化物及/或至少一種金屬碳酸鹽，以便形成羧酸之金屬羧酸鹽。
本發明亦係關於一種用於聚合物之穩定劑組成物。
穩定劑通常與聚合物混合以便能夠進行有效處理。由於聚合物通常在使用期間曝露於大量影響及負載，因此大體上需要複數種組分，其在製備期間共同地或依序饋入至穩定劑組成物。
在聚合物之處理中，可現成使用之穩定劑組成物(被稱為「一個包裝」)已證實其等價值。
現成穩定劑組成物通常包含金屬羧酸鹽，換言之羧酸(較佳地脂肪酸)與金屬氫氧化物及/或金屬氧化物及/或金屬碳酸鹽(例如鹼性金屬碳酸鹽)之反應產物，及其他添加劑，諸如沸石、水滑石、白堊、顏料，其他共穩定劑、抗氧化劑及類似者。此處，調適組成物以集中於聚合物之使用之預期領域。
對於以現成形式之穩定劑組成物或對於一個包裝，需要混合個別組分。根據先前技術，為此目的之脂肪酸在第一步驟中首先與金屬氫氧化物及/或金屬氧化物及/或金屬碳酸鹽反應以便形成所需金屬皂或金屬羧酸鹽。舉例而 言，除使用諸如十二酸或十八酸之通常羧酸作為氧化物以外，使用過渡金屬之氧化物，例如，氧化鋅(ZnO)及/或鹼性氧化物及/或鹼土氧化物及/或氫氧化物，諸如氫氧化鈣[Ca(OH)2]。亦可過量添加羧酸或金屬化合物，使得形成酸性或鹼性金屬羧酸鹽。此反應之後，在第一步驟中，以分批法視需要摻合及併入其他組分以便最終形成穩定劑組成物。
在具有羧酸之金屬羧酸鹽之現成穩定劑組成物的製備中，因此需要執行以分批法形式之方法，此係由於羧酸與金屬氧化物及/或金屬氫氧化物之反應應儘可能完全。不完全或變化反應產率最終導致聚合物處理期間之非所要流變，或導致取決於分批而偏離的非所要的流變。然而，由於反應羧酸之此第一步驟及其他組分之後續摻合必須以分批法執行，因此以耗時方法之此整體結果具有限制的塊體產出率。
此係本發明之起點。本發明之目的為描述介紹中指定之方法，使用該方法可實現較高產出率而不損害產物品質。
另一目標為描述一種經改良穩定劑組成物。
若以介紹中描述之種類的方法，羧酸(特定言之脂肪酸)在擠壓機中連續與金屬化合物反應，藉由自擠壓機排放所產生的反應水，則實現本發明之方法相關的目標。
使用根據本發明之方法得到的一個優點在於藉由自擠壓機排放所產生的反應水，可在擠壓機中連續執行該方法，且因此整體上可連續執行該方法。此處，藉助於其中擠壓機之長度及/或自由體積有可能調節擠壓機中需要的反應時間，特定言之用於完全反應之反應時間，使得產物中不存在殘餘水含量，或產物中僅存在選擇性地預定、可再現殘餘水含量。考慮到擠壓機根據本 發明設計成具有開口，亦即所產生的反應水能夠漏出，則其易於實施。
執行該方法不僅連續要求較少控制且因此相較於分批法較低人員支出，而且特定言之亦帶來每單位時間可產生或排放之穩定劑組成物之質量高得多的優點，且例如可相較於分批法高許多倍。由於在擠壓機中執行首先反應物及稍後所得產物的充分混合，且接著若需要亦可摻合其他穩定劑組分，因此，此產生高效生產方法，其得到優良的產物。
任何與該至少一種羧酸反應以形成羧酸鹽之化合物可用作金屬化合物。通常與至少一種金屬氫氧化物及/或至少一種金屬氧化物及/或至少一種金屬碳酸鹽執行反應，其中特定言之鹼性金屬碳酸鹽亦為合適的。
羧酸應理解為意謂脂族或芳族，單羧酸及/或二羧酸及/或多羧酸，特定言之脂肪酸，其由具有2至30個碳原子之碳鏈建構，其可為直鏈或分支鏈，且其視情況亦可部分地經羥基及氨基取代。
在本發明的意義上添加反應以形成金屬皂或金屬羧酸鹽之陽離子作為金屬氫氧化物及/或金屬氧化物及/或金屬碳酸鹽及/或鹼性金屬碳酸鹽，其中亦可添加複數種不同金屬氧化物、金屬氫氧化物、金屬碳酸鹽及/或鹼性金屬碳酸鹽。
陽離子可來自鹼金屬及/或鹼土金屬、鋅、鋁、錫之群組及/或來自稀土金屬之群組，或類似者。
可以複數種不同金屬化合物之混合物形式添加金屬化合物，或較佳地可依序添加。
有可能主動地自擠壓機移除反應水。為此目的，例如可提出將負壓施加在擠壓機的一或多個點處，其結果為自擠壓機移除水。特定言之，可使用真空，例如真空噴水器。然而，若允許反應水漏出則較佳。藉助於不需要額外措施之反應水之被動漏出，可在大氣壓下加工或處理反應混合物。除能夠使 用簡單裝置設置執行該方法以外，此亦提出不主動促進發泡體之形成之優點，當將羧酸與金屬氫氧化物及/或金屬氧化物反應時可出現該發泡體。
可大體上在擠壓機之任何點處提供或主動促進反應水之排放。較佳地，反應水通過擠壓機之開口排放。開口可沿材料流佈置於擠壓機之外側上。在一較佳變體中，因此擠壓機為已知的開放式擠壓機，反應水易於自該擠壓機漏出且不需要額外措施。由於反應混合物能夠發泡，因此較佳地，開口設置於頭側上。舉例而言，開口可為槽形，其中該槽亦可由自擠壓機朝上凸起的橫向凸起壁圍繞。在此情況下，可毫無困難地操縱擠壓機中不太顯著的發泡體之形成，此係由於可在壁內收集發泡體而不自擠壓機溢流。
至少一種羧酸較佳地以液體形式饋入至擠壓機中。在此情況下，羧酸可在超過75℃，較佳地超過80℃，特定言之超過80℃至150℃的溫度下饋入至擠壓機中。在完全反應的意義上，較高溫度使反應沿擠壓機之短路徑可能儘可能有效地執行。
為了開始羧酸與金屬氫氧化物及/或金屬氧化物及/或金屬碳酸鹽及/或另一金屬化合物之反應，或為了允許該反應更快速執行，較佳地饋入催化劑。為此目的，有利的是，催化劑與羧酸或與金屬氫氧化物及/或金屬氧化物及/或金屬碳酸鹽一起饋入至擠壓機中。若羧酸最初與金屬氫氧化物及視情況或替代地金屬氧化物一起饋入，則兩個組分可能已經至少部分地與彼此混合。催化劑之後續下游計量添加接著促進反應之快速進程。此處，催化劑之含量可保持相對較低。較佳地選擇羧酸與催化劑之重量比在超過0至50、較佳地20至45的範圍內。
在本發明之範疇內，催化劑應理解為意謂與金屬氫氧化物及/或金屬氧化物及/或金屬碳酸鹽及/或鹼性金屬碳酸鹽粒子之鈍化表面反應的物質，且因此一方面使粒子表面更具反應性，且另一方面其自身藉由陽離子之轉 移進一步與羧酸鹽反應。水、無機酸及有機酸、酸酐、短鏈羧酸、短鏈羧酸鹽或類似物可用作催化劑。在反應進程期間，亦可藉由自熔體混合物蒸發部分或完全自該方法分泌催化劑。
若羧酸與諸如金屬氫氧化物及/或金屬氧化物及/或金屬碳酸鹽之金屬化合物反應在相繼連接的擠壓機之複數個模組中執行，則其為有利的。若提供複數個模組，則具有多個優點：一方面，個別模組可視需要至少部分地分別受溫度控制，使所需溫度能夠沿模組設定且因此選擇性地影響反應。另一方面，用於改良反應混合物之分散的元件亦可設置於個別模組、特定言之分散環或類似物之間，其促進進一步的徹底混合。就此而言，亦可提出其他金屬化合物在下游摻合。特定言之，可能需要金屬氫氧化物及/或金屬氧化物或其他羧酸之依序摻合，以便能夠選擇性地控制反應混合物之黏度。然而，若反應已經至少部分地進展，則可摻合其他金屬化合物，如所提及。此外，設定為不同大小之開口或槽亦可設置於個別模組中，其能夠最佳調整反應水相對於反應混合物之特定位置之移除或漏出，且因此反應產率達到該點。整體上，因此可提供至少一種羧酸與至少一種金屬化合物之所需反應的最佳情況。
如所提及，可提出模組至少部分地分別受溫度控制。此處，特定言之，模組之溫度可經設定，使得羧酸保持液態。模組之溫度設定成至少50℃，較佳地至少120℃，較佳地至少140℃，特定言之155℃至250℃。即使就長鏈羧酸而言，因此亦可視需要提出此等羧酸在反應期間保持液態。同時，因此使得有可能影響反應速度且因此經由溫度影響擠壓機中的滯留時間。
在本發明之範疇內，可提出羧酸與至少一種金屬化合物之反應在相繼連接的擠壓機之複數個模組中執行，及/或其他材料併入至複數個其他模組中的穩定劑組成物中。
其他材料可為(共)穩定劑、潤滑劑、填充劑、抗氧化劑、光穩 定劑、顏料、助流劑、衝擊強度調節劑及其他丙烯酸鹽衍生物及/或聚合物，如自先前技術或自專家文獻所知。
舉例而言，(共)穩定劑為有機穩定劑，諸如尿素及其衍生物、胺基丁烯酸酯及其衍生物、尿嘧啶及其衍生物、硫酯、縮水甘油基化合物、胺、醯胺、氨基酸及其衍生物、環氧化合物、β二酮、二羥基吡啶及多羥基吡啶、多元醇、異氰尿酸酯、聚烷基哌啶、層晶格化合物(layer lattice compound；LDH)、鹼(土)鋁矽酸鹽、鹼碳酸鋁，及類似物。舉例而言，潤滑劑理解為意謂烴蠟(PE蠟、PP蠟、石蠟、FT石蠟及類似物)、酯蠟及錯合酯、脂肪酸之酮及/或醇及/或胺、氯化石蠟、聚矽氧、聚矽氧烷、梳形共聚物、聚酯、多元胺及類似物。填充劑應理解為意謂例如碳酸鹽、方解石、白雲石、滑石、高嶺土、鋁鹽化合物及類似物。
若羧酸與金屬氫氧化物及/或金屬氧化物之反應是完全的且不存在反應水含量或僅存在預定反應水含量，則對於穩定劑之組成物可併入其他組分。出於此目的，較佳地提供複數個其他模組。此等其他模組亦可至少部分地分別受溫度控制。因此有可能在受控溫度下併入某種其他液體或較佳地固體組分。藉由該方法，因此亦可在模組中之方法的其他進程期間併入熱敏組分，該模組定位於認為是下游的進一步向前。
有可能個別組分以(通常)非所要交叉反應方式與彼此反應。此處，由於對應的反應可受低溫抑制，因此該方法具有在區域中設定溫度之可能性的優點。
為了有效執行該方法，若藉助於個別馬達在該複數個模組及/或其他模組中驅動一或多個輸送構件，則其為有利的。大體上，在提供斷流器或類似物之情況下，在本發明之範疇內可使用任何擠壓機，經由該等斷流器或類似物反應水可在第一擠壓機部分中漏出。舉例而言，若提供螺桿擠壓機，則輸 送構件可為螺桿。接著，個別模組佈置在個別螺桿周圍，該個別螺桿由單個馬達驅動。然而，尤其較佳地，使用軌道式輥擠壓機。軌道式輥擠壓機具有以下優點：待處理或反應之材料不僅特定地徹底混合，而且劃分為極薄的層且以此形式混合。此提供所產生之穩定劑組成物之高品質的優點，此係由於最初產生的金屬羧酸鹽及助劑或後續併入的額外組分尤其精細地與彼此混合，其導致所併入組分之均勻、精細分配。此不可能以分批法達到此品質。
已證實擠壓機中較大局部溫差對穩定劑之所需高均勻性不利，例如移除以股形式的穩定劑。若使用軌道式擠壓機，則可提出軌道式輥擠壓機之軸在內部部分地或連續地受溫度控制。特定言之，若模組亦受溫度控制，則因此可避免模組之外側朝向擠壓機軸線的較大溫度梯度。
除在擠壓機之末端以股的形式移除所產生的穩定劑組成物以外，亦可能粒化離開擠壓機的材料或穩定劑組成物。可藉由已知本身(per se)先前技術方法進行對應的粒化，例如，如DE 1 937 862 A中所描述。
在水下形成穩定劑熔體較佳地在冷卻輸送機上冷卻，視需要根據長度切割，例如熔體股通過多孔晶粒離開，其後續切割成預定長度，該冷卻輸送機亦可大體上使用。
在水下冷卻穩定劑熔體之優點在於相對於熔體黏度具有較大自由度。藉助於溫度控制可恰當地設定用於後續在水下形成的熔體黏度。此一方面允許緊密設計或較小空間要求，且另一方面亦提供較高輸送量。相較於冷卻輸送機，由於熔體股可經由斷路器板擠壓，因此投資成本此外相對較低。
擠壓機之特定設計不相關。擠壓機可為軌道式輥擠壓機，而且可為提供在末端具有斷路器板之任何其他類型之擠壓機，例如具有一個或兩個螺桿之螺桿擠壓機。此處設定熔體之黏度，使得足夠的壓力堆積在斷路器板之前提供，以便接著能夠進行清潔切割，然而，其中該熔體可適當地再經輸送。當 通過斷路器板按壓熔體時，接著形成個別熔體股，其藉由一或多個旋轉葉片切割成一定長度。接著進一步在水流中輸送所得顆粒，且最後進行乾燥。
如上文所描述之穩定劑組成物較佳地為已知的一個包裝穩定劑組成物，換言之，不需要任何其他助劑或聚集體，以便立即用作穩定劑，特定言之用於含鹵素聚合物，諸如PVC。
根據以上展示的優點，由根據本發明之方法製備的穩定劑組成物以更高均勻性及均一性而不同於以分批法製備的穩定劑組成物。因此，另一目標藉由根據本發明製備的穩定劑組成物達成。
在圖1中描繪擠壓機1，其經設計為軌道式輥擠壓機。軌道式輥擠壓機包含複數個模組11、12、13、14、15、16。依次佈置模組11、12、13、14、15、16，且允許擠壓機1中之連續材料流。模組11、12、13、14、15、16中之每一個連接至加熱/冷卻電路11a、12a、13a、14a、15a、16a。對應的電路為與油或水或另一媒介一起操作的電路。油操作允許至多300℃之最大溫度，且提供用於模組11、12、13、14、15。水操作允許220℃之最大溫度。對於模組16，電路與水一起操作。儘管未描繪，但亦可提出個別模組11、12、13、14、15、16藉由電路共同地操作。舉例而言，此對模組13、14有用，該等模組13、14可在大致相同的溫度下操作。
如圖1中所描繪，此外，可提供填充部分10，其中至少一種羧酸，特定言之脂肪酸，及至少一種金屬氫氧化物及/或至少一種金屬氧化物及/或至少一種金屬碳酸鹽及/或至少一種鹼性金屬碳酸鹽饋入及混合至該填充部分。大體上，然而，此等組分亦可經一次計量至第一模組11中。提供單個加熱/冷卻電路 10a用於填充部分10。
中心軸4穿過擠壓機1且由馬達3驅動。軸4穿過填充部分10及擠壓機1之所有模組11、12、13、14、15、16。由於擠壓機為軌道式輥擠壓機，因此軸4由軌道式軸圍繞，該等軌道式軸與模組11、12、13、14、15、16中之每一個的內側嚙合。在操作期間，可藉由對應的螺旋傳動確保材料在填充到擠壓機1中之後朝下游驅動，使得材料最終可在與擠壓機1之前端5相對的擠壓機1之後端6處離開。
可在模組11、12、13下游處提供用於分配後續單元中的塊體的分散盤7或其他構件。就其他模組14、15而言，可在下游佈置除氣環8。軸4亦可在內部受溫度控制，出於該目的，提供獨立電路9，其例如可在至多300℃之溫度下與油一起操作。因此可避免擠壓機1之外側或更準確地模組11、12、13、14、15、16之內側與軸4之間的較大溫度梯度。換言之：可較大地避免擠壓機1中的溫度不均勻性。
提供合適的進料端21、22、23、24、25、26、27、28以饋入用於製備穩定劑組成物的材料。此外，開口2橫向地設置於擠壓機1上，特定言之如描繪於頭側上或垂直上部區中。開口2可為槽形且由凸起壁3橫向地圍繞。在先前添加的羧酸與金屬化合物反應之情況下，所產生的反應水可通過此等槽或開口2漏出。亦可能反應水之此漏出為例如藉由藉助於泵抽取主動促進。然而，可大體上與模組11、12、13之合適的設計保持該方法之對應的執行。為了避免形成發泡體，若反應水自動漏出或不需要支援措施，則亦為有利的。
至少一種羧酸在模組11、12、13中與至少一種金屬氫氧化物及/或至少一種金屬氧化物反應，可以說其構成鍋爐級聯。在模組13之末端，所產生的反應水不係完全漏出就係至少已減小至所需含量。在模組13之末端，仍為液體之塊體之溫度可大致為200℃至250℃。可獨佔地提供此模組13用於反應水 之漏出。在此情況下，可使壁3高於模組12處之彼等。接著此塊體穿過分散環7之最後一個進入模組14。在此模組14中，處理材料仍為液體或以熔體形式存在。現可經由進料端26引入液體組分、預混合粉末及/或顏料。此處，溫度可大致為40℃至200℃。在後續模組15中，可再次經由進料端27摻合其他組分，例如沸石、白堊或共穩定劑。由於此區域中之溫度已經低得多，因此此時擠壓機1中朝前驅動之經處理塊體或材料已經具有糊狀，更多的黏稠度。在用水加熱的模組16中，最後經由另一進料管線28在30℃至130℃之相對適中的溫度下摻合熱敏物質，例如經選擇原材料及/或染料。進料管線28類似於具有合適的定量構件之其他進料管線21、22、23、24、25、26、27裝備，該等合適的計量構件例如比例尺或計量泵。
可以提出，亦可組合複數個模組11、12、13、14、15、16以形成個別模組。舉例而言，模組11、12、13可經組合以形成一個或兩個模組。對於模組14、15、16之情況相同。模組11、12、13、14、15、16之數目至少為兩個，特定言之三個或大於三個，但不受上限限制。
最後，以此方式製備之穩定劑組成物離開佈置在下游的擠壓機1的末端。因此可移除穩定劑組成物之股類材料，換言之，以股形式之材料。因此產生之材料顆粒佈置在下游亦為可能的。此亦影響模組16中之溫度。為了移除以股形式之材料，在30℃至80℃範圍內之低溫大體上足夠。若產生顆粒或表，則溫度更高，例如在110℃至140℃範圍內。
諸如螢幕或磁性分離器之安全裝置亦可視情況安裝在擠壓機1之末端，以便捕獲已完成穩定劑組成物之任何污染物。然而，此等裝置亦可安裝在個別進料端處或所有進料端21、22、23、24、25、26、27、28處。
使用上述類型之擠壓機1製備穩定劑組成物之典型參數展示在下表1及表2中。
Figure 106143181-A0305-02-0014-1
Figure 106143181-A0305-02-0014-2
根據表1及表2製備之穩定劑組成物不僅可在較短週期以較大量產生作為待切割成一定長度的股材料或作為顆粒，而且由於協調方法情況及經由軌道式輥擠壓機擠壓，其亦具有預定及可再現水含量具有高均勻性及品質。
1:擠壓機
2:開口
3:馬達/凸起壁
4:軸
5:前端
6:後端
7:分散盤
8:除氣環
9:獨立電路
10:填充部分
10a:加熱/冷卻電路
11:模組
11a:加熱/冷卻電路
12:模組
12a:加熱/冷卻電路
13:模組
13a:加熱/冷卻電路
14:模組
14a:加熱/冷卻電路
15:模組
15a:加熱/冷卻電路
16:模組
16a:加熱/冷卻電路
21:進料端
22:進料端
23:進料端
24:進料端
25:進料端
26:進料端
27:進料端
28:進料端
根據下文展示的例示性實施例，其他特徵、優點及效果將變得清晰。在此處進行參考的圖式中，圖1展示軌道式輥擠壓機。
1:擠壓機
2:開口
3:馬達/凸起壁
4:軸
5:前端
6:後端
7:分散盤
8:除氣環
9:獨立電路
10:填充部分
10a:加熱/冷卻電路
11:模組
11a:加熱/冷卻電路
12:模組
12a:加熱/冷卻電路
13:模組
13a:加熱/冷卻電路
14:模組
14a:加熱/冷卻電路
15:模組
15a:加熱/冷卻電路
16:模組
16a:加熱/冷卻電路
21:進料端
22:進料端
23:進料端
24:進料端
25:進料端
26:進料端
27:進料端
28:進料端

Claims (29)

  1. 一種製備用於聚合物之穩定劑組成物的方法，其中至少一種羧酸與至少一種金屬化合物反應，由此形成羧酸之金屬羧酸鹽，其特徵在於該羧酸在擠壓機(1)中連續與該金屬化合物反應，其中自該擠壓機(1)排放所產生的反應水。
  2. 如申請專利範圍第1項之方法，其中該至少一種金屬化合物為至少一種金屬氫氧化物及/或至少一種金屬氧化物及/或至少一種金屬碳酸鹽。
  3. 如申請專利範圍第1項之方法，其特徵在於允許該反應水漏出。
  4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項之方法，其特徵在於該反應水通過該擠壓機(1)之開口(2)排放。
  5. 如申請專利範圍第4項之方法，其中該開口(2)為頭側開口。
  6. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項之方法，其特徵在於該羧酸以液體形式饋入至該擠壓機(1)中。
  7. 如申請專利範圍第6項之方法，其特徵在於該羧酸在超過75℃的溫度下饋入至該擠壓機(1)中。
  8. 如申請專利範圍第7項之方法，其中該溫度為超過80℃。
  9. 如申請專利範圍第8項之方法，其中該溫度為超過80℃至150℃。
  10. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項之方法，其特徵在於饋入催化劑，以用於該羧酸與該金屬化合物之該反應。
  11. 如申請專利範圍第10項之方法，其特徵在於選擇在超過0至50範圍內的羧酸與催化劑之重量比。
  12. 如申請專利範圍第11項之方法，其中該重量比在20至45範圍內。
  13. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項之方法，其特徵在於該羧酸在相繼佈置的該擠壓機(1)之複數個模組(11、12、13)中與該金屬化合 物反應。
  14. 如申請專利範圍第13項之方法，其特徵在於該等模組(11、12、13)至少部分地分別受溫度控制。
  15. 如申請專利範圍第13項之方法，其特徵在於設定該等模組(11、12、13)之該溫度，使得該羧酸保持液態。
  16. 如申請專利範圍第13項之方法，其特徵在於該等模組(11、12、13)之該溫度設定成至少50℃。
  17. 如申請專利範圍第16項之方法，其中該溫度設定成至少120℃。
  18. 如申請專利範圍第17項之方法，其中該溫度設定成至少140℃。
  19. 如申請專利範圍第18項之方法，其中該溫度設定成155℃至250℃。
  20. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項之方法，其特徵在於該羧酸在相繼佈置之該擠壓機(1)之複數個模組(11、12、13)中與該金屬化合物反應，及/或將其他材料併入至一或多個其他模組(14、15、16)中之該穩定劑組成物中。
  21. 如申請專利範圍第20項之方法，其中該其他材料為固體材料。
  22. 如申請專利範圍第20項之方法，其特徵在於該等其他模組(14、15、16)至少部分地彼此分別受溫度控制。
  23. 如申請專利範圍第14項之方法，其特徵在於該等複數個模組(11、12、13)及/或該等其他模組(14、15、16)中之一或多個輸送構件經由個別馬達(3)驅動。
  24. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項之方法，其特徵在於使用軌道式輥擠壓機(planetary roller extruder)。
  25. 如申請專利範圍第24項之方法，其特徵在於該軌道式輥擠壓機 之中心軸(4)在內部受溫度控制。
  26. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項之方法，其特徵在於自該擠壓機以股形式移出該穩定劑組成物。
  27. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項之方法，其特徵在於該穩定劑組成物經粒化。
  28. 如申請專利範圍第27項之方法，其中該穩定劑組成物在水下經粒化。
  29. 一種可根據申請專利範圍第1項至第28項中任一項之方法獲得的穩定劑組成物。
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