TWI760891B - 液晶顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

一種液晶顯示裝置,包含:液晶層12,挾持於第1及第2基板間,無電場時成為垂直配向(VA);開關元件13,設於基板10;連接電極18,連接於開關元件13;反射膜20-1,設於開關元件13的上方;像素電極22-1、22-2,設於反射膜20-1的上方;接觸件23-1、23-2,將像素電極22-1、22-2分別與連接電極18連接;膜厚調整層25-1,設於基板11;共通電極26,設於基板11及膜厚調整層25-1上;以及突起27-1、27-2,設於共通電極26上。突起27-1係從像素電極22-1之第1方向的中心偏向膜厚調整層25-1側而配置。

Description

液晶顯示裝置
本發明係關於可施行透射顯示與反射顯示的液晶顯示裝置。
作為提升屋外視覺辨認性的液晶顯示裝置,可以透射模式及反射模式的雙方顯示圖像的半透射型液晶顯示裝置已為眾所周知。該半透射型液晶顯示裝置係將設於液晶晶胞內部的反射金屬膜圖案化並形成反射區域與透射區域,且將藉反射區域的反射顯示與藉透射區域的透射顯示加以組合。並且在反射區域設置透明階差膜等,改變反射區域與透射區域的晶胞間隙(cell gap)(多間隙(multi gap)),以謀求光學特性的最佳化(參照例如專利文獻1、及專利文獻2)。
具有這種多間隙的液晶顯示裝置中,由於反射區域與透射區域之間形成有階差,故容易在階差的交界產生配向不良。因此,會產生因該配向不良導致的粗糙、因漏光而導致的對比降低等問題。而且,用手指或筆等對顯示部施加壓力(面推壓時)時的配向紊亂不會回復,而有痕跡殘留的問題存在(專利文獻3)。
為了解決這些問題,已有:在1個像素內,用反射區域與透射區域之間的階差部將像素電極分離(形成開縫(slit)),並使反射區域與透射區域獨立形成(專利文獻4);控制形成在透射區域的配向控制用突起之高度(專利文獻5)或傾斜(專利文獻6);反射區域係藉電極的開口(孔洞),而透射區域則藉突起控制配向(專利文獻7);在反射區域內形成凹部及在該凹部配置突起(專利文獻8)等各種各樣方法的提案。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1] 日本特開2003-262852號公報 [專利文獻2] 日本特開2003-270627號公報 [專利文獻3] 國際公開第2005/111708號 [專利文獻4] 日本專利第3900123號公報 [專利文獻5] 日本專利第4432371號公報 [專利文獻6] 日本專利第3903980號公報 [專利文獻7] 日本專利第4182748號公報 [專利文獻8] 日本專利第4123208號公報
[發明欲解決之課題]
然而,在1個像素內針對反射區域與透射區域藉由開縫使像素電極分離的情況中,以突起或電極的開口(孔洞)等來控制反射區域之配向的情況中,必須將反射區域充分擴大(例如,前述反射區域的面積設在前述像素電極之面積的30%以上),且有透射顯示之明度降低的問題。同樣的,不將反射區域的面積擴大,而用透射區域之處的突起之高度或形狀來控制配向的情況中,也有由於突起的高度或面積變大,使透射顯示的明度降低的問題。
本發明係提供可抑制顯示品質的降低而不會使透射顯示之明度降低的液晶顯示裝置。
本發明一態樣的液晶顯示裝置係具備:第1及第2基板;液晶層,挾持在前述第1及第2基板間,無電場時則成為垂直配向(VA);開關元件,設於前述第1基板;連接電極,設於前述第1基板,並連接於前述開關元件,且朝第1方向延伸;第1反射膜,隔著絕緣膜設於前述開關元件的上方;第1像素電極,隔著絕緣膜設於前述第1反射膜的上方,且在俯視圖中,和前述第1反射膜局部地重疊;第2像素電極,和前述第1像素電極並列配置於前述第1方向;第1及第2接觸件,將前述第1及第2像素電極分別和前述連接電極連接;第1膜厚調整層,設於前述第2基板,且在俯視圖中,和前述第1反射膜重疊;共通電極,設於前述第2基板及前述第1膜厚調整層上;及第1及第2突起,設於前述共通電極上,且分別和前述第1及第2像素電極對應設置。前述第1突起係從前述第1像素電極之前述第1方向的中心偏向前述第1膜厚調整層側而配置。
若依據本發明,可提供能夠抑制顯示品質的降低而不會使透射顯示之明度降低的液晶顯示裝置。
[用以實施發明的形態]
以下參照圖示針對實施形態作說明。但,圖示係屬示意性或概念性,各圖的尺寸及比例等不必限於一定和實物相同。再者,表現圖示彼此間相同的部分時,也有彼此的尺寸關係或比例表示不同的情形。特別是以下所示的幾個實施形態為用以例示本發明技術思想具體化的裝置及方法,並非依據構成構件的形狀、構造、配置等來特定本發明的技術思想。另外,以下的說明中,對於具有相同功能及結構的要素係賦予相同符號,僅在必要的情況才進行重複說明。
[1] 第1實施形態 [1-1]液晶顯示裝置的整體構成 圖1為本發明第1實施形態之液晶顯示裝置1的方塊圖。液晶顯示裝置1係具備:液晶顯示面板2、背光裝置(照明裝置)3、掃描線驅動電路4、訊號線驅動電路5、共通電極驅動器6、電壓生成電路7、及控制電路8。
液晶顯示面板2具備由複數個像素PX排列成矩陣狀的像素列。液晶顯示面板2中配設有分別朝列(row)方向延伸的複數條掃描線GL1~GLm、及分別朝行(column)方向延伸的複數條訊號線SL1~SLn。“m”及“n”分別為2以上的整數。像素PX係配置在掃描線GL和訊號線SL交叉的區域。
背光裝置3為對液晶顯示面板2的背面照射光線的面光源。背光裝置3可用例如直下式或側光式(邊光式)的LED背光裝置。
掃描線驅動電路4係電性連接於複數條掃描線GL。掃描線驅動電路4係用以根據傳送自控制電路8的控制訊號,將像素PX所包含的開關元件實施導通/關斷(ON/OFF)的掃描訊號傳送到液晶顯示面板2。
訊號線驅動電路5係電性連接於複數條訊號線SL。訊號線驅動電路5係自控制電路8接收控制訊號及顯示資料。訊號線驅動電路5則根據控制訊號將和顯示資料對應的調階訊號(驅動電壓)傳送到液晶顯示面板2。
共通電極驅動器6係生成共通電壓Vcom,並將其供給到液晶顯示面板2內的共通電極。電壓生成電路7係產生成液晶顯示裝置1動作所需的各種電壓並供給到各電路。
控制電路8係將液晶顯示裝置1的動作實施統一控制。控制電路8係從外部接收圖像資料DT及控制訊號CNT。控制電路8則根據圖像資料DT生成各種控制訊號,並將這些控制訊號傳送到各電路。
[1-2] 液晶顯示面板2的構成 本實施形態之液晶顯示面板2為可進行透射顯示與反射顯示的半透射型液晶顯示面板。
圖2為第1實施形態之液晶顯示面板2的俯視圖。圖3為沿著圖2之A-A´線的液晶顯示面板2之剖面圖。另外,圖2中,係將和1個像素對應的部分擷取並加以顯示,實際上,圖2的像素係以矩陣狀配置複數個。
液晶顯示面板2具備:形成有開關元件(TFT)及像素電極等地TFT基板10;及形成有彩色濾光片及共通電極等,且和TFT基板10相對配置的彩色濾光片基板(CF基板)11。TFT基板10及CF基板11係分別由透明基板(例如,玻璃基板、或者塑膠基板)所構成。
液晶層12係充填於TFT基板10及CF基板11間。具體而言,液晶層12係封入於藉TFT基板10與CF基板11、及密封材(未圖示)包圍的顯示區域內。密封材係由例如紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、或紫外線-熱併用型硬化樹脂等構成,並在製造過程中塗布於TFT基板10或CF基板11後,利用紫外線照射、或加熱等使之硬化。
構成液晶層12的液晶材料係隨著施加於TFT基板10及CF基板11間的電場來操作液晶分子的配向,使光學特性改變。本實施形態的液晶顯示面板2為使用垂直配向(VA:Vertical Alignment)型液晶的VA模式。亦即,液晶層12係用具有負值介電常數各向異性的負型(N型)向列式(nematic)液晶。在初期狀態中,液晶層12係呈垂直配向。電壓(電場)不施加於液晶層12時,液晶分子的長軸(director)係相對於基板的主面大致垂直配向。電壓施加於液晶層12時,液晶分子的長軸係相對於基板的主面朝水平方向傾斜。
首先,就TFT基板10側的構成加以說明。TFT基板10的液晶層12側係按每個像素設置開關元件13。開關元件13可使用例如TFT(Thin Film Transistor;薄膜電晶體)。而且,使用n通道TFT。如後所述,TFT13係具備:發揮掃描線功能的閘極電極、設於閘極電極上的閘極絕緣膜、設在閘極絕緣膜上的半導體層、及互相分離設於半導體層上的源極電極及汲極電極。
TFT基板10上設有延伸於X方向的閘極電極GL。閘極電極GL係發揮掃描線GL的功能。朝X方向並列有1行分的複數個像素係共通連接於1條掃描線GL。TFT基板10及閘極電極GL上設有閘極絕緣膜14。
閘極絕緣膜14上係按每個像素設置半導體層15。半導體層15可使用例如非晶質矽。
半導體層15及閘極絕緣膜14上設有在Y方向(正交於X方向的方向)互相分離的源極電極16及汲極電極17。源極電極16及汲極電極17係分別局部地重疊於半導體層15。另外,源極電極16與半導體層15之間,為了使這些構件具有良好的電性連接,也可設置導入有高濃度n型雜質的n 型半導體層。同樣的,也可在汲極電極17與半導體層15之間設置n 型半導體層。
閘極絕緣膜14上設有朝Y方向延伸的連接電極18。連接電極18係電性連接於汲極電極17。
閘極絕緣膜14上設有延伸於Y方向的訊號線SL。訊號線SL係配置在鄰接於X方向的2個像素的交界部分。朝Y方向並列的1列分複數個像素係共通連接於1條訊號線SL。訊號線SL則電性連接於源極電極16。
源極電極16、汲極電極17、連接電極18、訊號線SL、及閘極絕緣膜14上設有絕緣膜19。
絕緣膜19上設有反射膜20-1、20-2。反射膜20-1係設成將TFT13覆蓋,且延伸於X方向。反射膜20-2則設成將鄰接於Y方向之像素的TFT覆蓋,且延伸於X方向。反射膜20-1、20-2具有將從顯示面側射入的外光反射的功能。
絕緣膜19、及反射膜20-1、20-2上設有絕緣膜21。
絕緣膜21上設有像素電極22-1、22-2。像素電極22-1、22-2係藉開縫ST加以分離,且並列配置於Y方向。在俯視圖中,像素電極22-1係和反射膜20-1局部地重疊。在俯視圖中,像素電極22-2係和反射膜20-2局部地重疊。所謂在俯視圖中,係指從上方(從基板11側)觀看像素的樣態。
像素電極22-1係藉接觸件23-1而和連接電極18電性連接。像素電極22-2則藉接觸件23-2而和連接電極18電性連接。
像素區域PA係藉像素電極22-1、22-2來界定,且對應於像素電極22-1、22-2的合併區域。像素電極22-1與反射膜20-1重疊的區域即成為反射區域RA1。像素電極22-2與反射膜20-2重疊的區域則成為反射區域RA2。像素區域PA之中,反射區域RA1與反射區域RA2合併的區域為整體像素的反射區域。像素區域PA之中,未設置反射膜20-1、20-2的區域為透射區域TA。透射區域TA的晶胞間隙係設為“d”。晶胞間隙為液晶層的厚度,其係以像素電極與共通電極之間的距離來界定。
雖圖示省略,但在像素電極22-1、22-2及絕緣膜21上設有控制液晶層12之配向的配向膜。在液晶層12的初期狀態中,配向膜會使液晶分子配向成垂直。
接著,說明有關CF基板11側的構成。在CF基板11的液晶層12側設有彩色濾光片24。彩色濾光片24可為紅色濾光片、綠色濾光片、及藍色濾光片的任一種。
彩色濾光片24上設有膜厚調整層25-1、25-2。膜厚調整層25-1具有和反射膜20-1大略相同的大小(面積),在俯視圖中,係配置成重疊在反射膜20-1。膜厚調整層25-2具有和反射膜20-2概略相同的大小(面積),且在俯視圖中,係配置成重疊在反射膜20-2。膜厚調整層25-1、25-2的高度(厚度)係定為“t”。
彩色濾光片24及膜厚調整層25-1、25-2上設有共通電極26。共通電極26係共通設置於複數個像素。
共通電極26上設有突起27-1、27-2。突起27-1係配置成在俯視圖中重疊於接觸件23-1。突起27-2係配置成在俯視圖中重疊於接觸件23-2。突起27-1、27-2具有控制液晶層12之配向的功能。突起27-1、27-2係分別和像素電極22-1、22-2對應地設置。
突起27-1係較膜厚調整層25-1配置在靠像素的中心側。突起27-2係較膜厚調整層25-2配置在靠像素的中心側。突起27-1、27-2與膜厚調整層25-1、25-2的距離定為“L”。
本實施形態的液晶顯示面板2係應用多區域(配向分割)方式,亦即,應用MVA(Multi-domain Vertical Alignment;多區域垂直配向)模式。MVA模式中,係將1個像素分割成複數個區域(domain),且在複數個區域將液晶分子傾斜的方向改變。突起27-1、27-2係控制液晶分子的傾斜方向。亦即,複數個液晶分子係以突起27-1、27-2為中心呈幅射狀傾斜。透過採用MVA模式,可大幅減低視角依存性,且可將視角加大。
另外,也可用形成於共通電極26的開口部來替代突起27-1、27-2。此時,開口部具有和突起27-1、27-2大略相同的大小。
圖示中省略的部分為,在共通電極26、及突起27-1、27-2上設有控制液晶層12之配向的配向膜。在液晶層12的初期狀態中,配向膜係使液晶分子呈垂直配向。
TFT基板10的液晶層12相反側係積層偏光板28,CF基板11的液晶層12相反側則積層偏光板29。偏光板28及偏光板29係配置成彼此的透射軸相互正交,亦即,以正交偏光鏡狀態配置。TFT基板10與偏光板28之間也可設置1/4波長板。CF基板11與偏光板29之間也可設置1/4波長板。
(材料之例示) 閘極電極GL、源極電極16、汲極電極17、及訊號線SL可用例如鋁(Al)、鉬(Mo)、鉻(Cr)、鎢(W)的任一種或包含1種以上這些金屬的合金等。連接電極18、像素電極22-1、22-2、接觸件23-1、23-2及共通電極26係由透明電極所構成,可使用例如ITO(氧化銦錫)。反射膜20-1、20-2可使用例如鋁(Al)。閘極絕緣膜14、絕緣膜19及絕緣膜21係由透明的絕緣材料所構成,可使用例如氮化矽(SiN)。膜厚調整層25-1、25-2可用透明的樹脂構成。突起27-1、27-2則用透明的樹脂構成。
[1-3]液晶顯示面板2的條件
其次,針對液晶顯示面板2的條件加以說明。圖4為說明液晶顯示面板2之條件的示意圖。
在圖4上,像素之中設置像素電極22-1的區域為局部像素區域PA1,設置像素電極22-2的區域為局部像素區域PA2。局部像素區域PA1與局部像素區域PA2的合併區域為像素區域PA。局部像素區域PA1與局部像素區域PA2的交界係對應於像素中心線C。
局部像素區域PA1之中,設置有反射膜20-1(及膜厚調整層25-1)的區域為反射區域RA1,未設置反射膜20-1的區域為透射區域TA1。局部像素區域PA2之中,設置有反射膜20-2(及膜厚調整層25-2)的區域為反射區域RA2,未設置反射膜20-2的區域為透射區域TA2。反射區域RA1與反射區域RA2合併的區域為整體像素的反射區域RA。透射區域TA1與透射區域TA2合併的區域為整體像素的透射區域TA。
在俯視圖中,突起27-1係從局部像素區域PA1之Y方向的中心偏向反射區域RA1側而配置。在俯視圖中,突起27-2係從局部像素區域PA2之Y方向的 中心偏向反射區域RA2側而配置。
更具體而言,係依下述方式界定。局部像素區域PA1在反射區域RA1側之端部與突起27-1之間的距離設為a1;局部像素區域PA1在反射區域RA1相反側之端部(像素中心線側的端部)與突起27-1之間的距離設為a2時,距離a1、a2具有「a1<a2」的關係。
局部像素區域PA2在反射區域RA2側之端部與突起27-2之間的距離設為a3;局部像素區域PA2在反射區域RA2相反側之端部(像素中心線側之端部)與突起27-2之間的距離設為a4時,距離a3、a4具有「a3<a4」的關係。較佳為,為了將Y方向之上下的視角依存性設成均等,而設定成「a1≒a3」、及「a2≒a4」。
圖5為表示膜厚調整層與突起之距離L與面推壓回復時間之關係的曲線圖。所謂的面推壓係指用手指或筆等將壓力施加在液晶顯示面板2之顯示面的情形;所謂的面推壓回復時間,係指由於面推壓而使液晶層之配向發生紊亂導致的顯示不良回復到原狀為止的時間。圖5的橫軸為膜厚調整層與突起之距離L(μm),圖5的縱軸為面推壓回復時間(sec)。透射區域的晶胞間隙d=3.8μm,面推壓的壓力為0.5MPa,面推壓保持時間為5sec。圖5係揭示(1)扁平間隙、(2)多間隙且反射區域的晶胞間隙為2.5μm、(3)多間隙且反射區域的晶胞間隙為2.2μm的曲線圖。所謂的扁平間隙係指沒有膜厚調整層,而液晶層的間隙則呈均勻的狀態。
圖6為有關圖5之多間隙的曲線圖變化後的曲線圖。圖6之橫軸為參數L×D(μm),圖6的縱軸為面推壓回復時間(sec)。膜厚調整層之高度t對透射區域之晶胞間隙d的比例為D。亦即,為「D=t/d」。參數L×D為膜厚調整層與突起之距離L與比例D的乘積。透過使用參數L×D使圖5的曲線圖變化,即可將複數個多間隙的面推壓回復時間作單義性定義。圖6的曲線為以「ax/(b-x)」的函數擬合(fitting)所得。
本實施形態中,能夠實現面推壓所致的顯示不良可在30秒之內回復的液晶顯示面板2。在此情況中,為了符合「L×D≦4.9μm」的條件,可將膜厚調整層與突起之距離L、透射區域的晶胞間隙d、及膜厚調整層的高度t加以設定。
本實施形態中,透射區域的面積可設定成大於反射區域的面積。例如,反射區域的面積為局部像素區域之面積的30%以下。換言之,反射膜20-1(或者,膜厚調整層25-1)之面積為像素電極22-1之面積的30%以下。以圖2來說明時,前述所稱反射膜20-1的面積,係指反射膜20-1之中和像素電極22-1重疊部分的面積。同樣的,反射膜20-2(或者,膜厚調整層25-2)的面積為像素電極22-2之面積的30%以下。以圖2來說明時,前述所稱反射膜20-2的面積,係指反射膜20-2之中和像素電極22-2重疊部分的面積。
[1-4] 變化例 接著,針對變化例作說明。圖7為變化例之液晶顯示面板2的示意圖。
局部像素區域PA1的構成係和前述實施形態相同。亦即,局部像素區域PA1具有反射區域RA1及透射區域TA1。局部像素區域PA1中係設置像素電極22-1,反射區域RA1中則設置反射膜20-1。
局部像素區域PA2中,其整體係由透射區域TA1所構成。局部像素區域PA2中則設置像素電極22-2。局部像素區域PA2中則未設置反射區域。突起27-2係配置於局部像素區域PA2的中央。
局部像素區域PA1的距離a1、a2之條件係和實施形態相同。
如變化例的情形,在像素具有1個反射區域的液晶顯示面板2中,也可應用本實施形態。
[1-5]第1實施形態的功效
第1實施形態中,係使1個像素分割為2個局部像素區域PA1、PA2。局部像素區域PA1具有:設有反射膜20-1及膜厚調整層25-1的反射區域RA1、及此外的透射區域TA1。局部像素區域PA2具有:設有反射膜20-2及膜厚調整層25-2的反射區域RA2、及此外的透射區域TA2。反射區域RA1與透射區域TA1的交界則透過膜厚調整層25-1而產生階差。反射區域RA2與透射區域TA2交界則透過膜厚調整層25-2而產生階差。因此,配向控制用的突起27-1係從局部像素區域PA1(像素電極22-1)之Y方向的中心偏向膜厚調整層25- 1側而配置。同樣的,突起27-2係從局部像素區域PA2(像素電極22-2)之Y方向的中心偏向膜厚調整層25-2側而配置。
從而,若依據第1實施形態,可抑制因配向不良所導致的顯示品質降低、以及因面推壓時的配向紊亂所致的痕跡殘留,而不會使透射顯示的明度降低。
再者,反射區域的面積較小的情況中,例如,反射區域之面積為局部像素區域之面積的30%以下的情況中,可更有效地實現上述功效。
[2]第2實施形態
第2實施形態為1個像素分割成3個局部像素的3分割像素的構成例。
圖8為第2實施形態之液晶顯示面板2的俯視圖。圖9為沿著圖8之A-A'線的液晶顯示面板2的剖面圖。
絕緣膜21上設有像素電極22-1、22-2、22-3。像素電極22-1、22-2、22-3係藉開縫ST予以分離。像素電極22-1、像素電極22-3、及像素電極22-2係依該次序朝Y方向並列配置。
像素電極22-3係藉接觸件23-3而和連接電極18電性連接。
在俯視圖中,反射膜20-1係局部地重疊於像素電極22-1。在俯視圖中,反射膜20-2係局部地重疊於像素電極22-2。像素電極22-3的下方則未設置反射膜。
共通電極26上可設置突起27-3。在俯視圖中,突起27-3係配置於像素電極22-3之Y方向的中心。
和第1實施形態同樣地,在彩色濾光片24上且為反射膜20-1的上方,係設置膜厚調整層25-1。在共通電極26上且為像素電極22-1的上方,係設置突起27-1。在彩色濾光片24上且為反射膜20-2的上方則設置膜厚調整層25-2。在共通電極26上且為像素電極22-2的上方,係設置突起27-2。
圖10為第2實施形態之液晶顯示面板2的示意圖。
像素之中,設置像素電極22-1的區域為局部像素區域PA1,設置像素電極22-2的區域為局部像素區域PA2,設置像素電極22-3的區域為局部像素區域PA3。局部像素區域PA3中,其整體係由透射區域TA3所構成。突起27-3係配置於像素中心線C上。
圖10所示之距離a1~a4的條件係和第1實施形態相同。在第2實施形態中,可抑制顯示品質的降低,而不會降低透射顯示的明度。
本發明並不限定於上述實施形態,實施階段中,在不逸離要旨的範圍內,亦可作各種變化。此外,各實施形態也可加以適當組合及實施,而獲得該情況的組合效果。再者,上述實施形態中,係包含各種的發明,並透過選自所揭示的複數個構成要件的組合,可抽出各種的發明。例如,即使從揭示於實施形態的全部構成要件刪除若干構成要件,也能解決課題並獲得效果時,已刪除該構成要件的結構也可抽出作為發明。
1:液晶顯示裝置 2:液晶顯示面板 3:背光裝置 4:掃描線驅動電路 5:訊號線驅動電路 6:共通電極驅動器 7:電壓生成電路 8:控制電路 10:薄膜電晶體基板 11:彩色濾光片基板 12:液晶層 13:開關元件 14:閘極絕緣膜 15:半導體層 16:源極電極 17:汲極電極 18:連接電極 19:絕緣膜 20-1,20-2:反射膜 21:絕緣膜 22-1,22-2,22-3:像素電極 23-1,23-2:接觸件 24:彩色濾光片 25-1,25-2:膜厚調整層 26:共通電極 27-1,27-2,27-3:突起 28,29:偏光板 a1,a2,a3,a4:距離 C:像素中心線 CNT:控制訊號 DT:影像資料 GL:閘極電極 GL1~GLm:掃描線 PA:像素區域 PA1,PA2,PA3:局部像素區域 PX:像素 RA1,RA2:反射區域 SL1~SLn:訊號線 ST:開縫 TA:透射區域 TA1,TA2,TA3:局部透射區域
圖1為第1實施形態之液晶顯示裝置的方塊圖。 圖2為第1實施形態之液晶顯示面板的俯視圖。 圖3為沿著圖2之A-A´線的液晶顯示面板的剖面圖。 圖4為說明液晶顯示面板之條件的示意圖。 圖5為表示和膜厚調整層之突起的距離與面推壓回復時間之關係的曲線圖。 圖6為關於圖5之多間隙的曲線圖的變化曲線圖。 圖7為變化例之液晶顯示面板的示意圖。 圖8為第2實施形態之液晶顯示面板的俯視圖。 圖9為沿著圖8之A-A´線的液晶顯示面板的剖面圖。 圖10為第2實施形態之液晶顯示面板的示意圖。
13:開關元件
15:半導體層
16:源極電極
17:汲極電極
18:連接電極
20-1,20-2:反射膜
22-1,22-2:像素電極
23-1,23-2:接觸件
25-1,25-2:膜厚調整層
27-1,27-2:突起
RA1,RA2:反射區域
GL:閘極電極
PA:像素區域
SL:訊號線
ST:開縫
TA:透射區域

Claims (8)

  1. 一種液晶顯示裝置,其具備:第1及第2基板;液晶層,挾持在前述第1及第2基板間,無電場時成為垂直配向(VA);開關元件,設於前述第1基板;連接電極,設於前述第1基板,且連接於前述開關元件,並朝第1方向延伸;第1反射膜,隔著絕緣膜設於前述開關元件的上方;第1像素電極,隔著絕緣膜設於前述第1反射膜的上方,在俯視圖中,和前述第1反射膜局部地重疊,且由四角形構成;第2像素電極,和前述第1像素電極並列配置於前述第1方向,且由四角形構成;第2反射膜,配置在和前述第1反射膜相同的水平,且在俯視圖中,和前述第2像素電極局部地重疊;第1及第2接觸件,將前述第1及第2像素電極分別和前述連接電極連接;第1膜厚調整層,設於前述第2基板,且在俯視圖中,和前述第1反射膜重疊;第2膜厚調整層,設於前述第2基板,且在俯視圖中,和前述第2反射膜重疊;共通電極,設於前述第2基板及前述第1膜厚調整層上;及 第1及第2突起,設於前述共通電極上,且分別和前述第1及第2像素電極對應設置,前述第1突起係從前述第1像素電極之前述第1方向的中心偏向前述第1膜厚調整層側而配置,前述第2突起係從前述第2像素電極之前述第1方向的中心偏向前述第2膜厚調整層側而配置。
  2. 如請求項1之液晶顯示裝置,其中,前述第1及第2突起係在俯視圖中分別重疊於前述第1及第2接觸件。
  3. 如請求項1之液晶顯示裝置,其中,前述第1突起與前述第1膜厚調整層的距離設為L,前述第1膜厚調整層的高度設為t,未形成反射膜之透射區域的前述液晶層之厚度設為d,前述高度t相對於前述厚度d之比例設為D(=t/d)時,L×D係為4.9μm以下。
  4. 如請求項1之液晶顯示裝置,其中,前述第1反射膜的面積為前述第1像素電極之面積的30%以下。
  5. 如請求項1之液晶顯示裝置,其中,前述第2突起和前述第2膜厚調整層的距離設為L,前述第2膜厚調整層的高度設為t,未形成有反射膜之透射區域的前述液晶層的厚設為d,前述高度t相對於前述厚度d的比例設為D(=t/d)時,L×D係為4.9μm以下。
  6. 如請求項1之液晶顯示裝置,其中,前述第2反射膜之面積為前述第2像素電極之面積的30%以下。
  7. 如請求項1之液晶顯示裝置,其中,更具備:第3像素電極,配置在和前述第1像素電極相同的水平,且配置在前述第1像素電極與前述第2像素電極之間;第3接觸件,將前述第3像素電極與前述連接電極連接;及第3突起,設在前述共通電極上,且和前述第3像素電極對應地設置。
  8. 如請求項7之液晶顯示裝置,其中,前述第3突起係配置在前述第3像素電極之前述第1方向的中心。
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