TWI757354B

TWI757354B - 輻射檢測器中的暗雜訊補償

Info

Publication number: TWI757354B
Application number: TW106136202A
Authority: TW
Inventors: 曹培炎; 劉雨潤
Original assignee: 中國大陸商深圳幀觀德芯科技有限公司
Priority date: 2016-10-27
Filing date: 2017-10-20
Publication date: 2022-03-11
Also published as: EP3532873A4; EP3532873B1; TWI822000B; US20190064373A1; TW201816424A; CN109716165A; TW202229926A; WO2018076220A1; CN109716165B; US10416324B2; EP3532873A1

Abstract

本文公開輻射檢測器，其包括：包括電極的輻射吸收層；電連接到所述電極並包括電容器的電容器模塊，其中所述電容模塊被配置為將來自所述電極的載荷子收集到所述電容器上；與所述電容並聯的電流源模塊，所述電流源模塊被配置為補償所述輻射檢測器中暗雜訊的電流並包括電流源和調制器；其中所述電流源被配置為輸出第一電流和第二電流；其中所述調制器被配置為控制所述電流源輸出所述第一電流的持續時間與所述電流源輸出所述第二電流的持續時間的比率。

Description

輻射檢測器中的暗雜訊補償

本公開涉及用於補償諸如半導體X射線檢測器之類的輻射檢測器中的暗雜訊的影響的方法和裝置。

輻射檢測器是測量輻射特性的裝置。所述特性的例子可包括所述輻射的強度的空間分布，相位，以及偏振。所述輻射可以是與主體相互作用的輻射。例如，由輻射檢測器測量的輻射可以是穿透主體或從主體反射的輻射。所述輻射可以是諸如紅外光、可見光、紫外光、X射線或γ射線的電磁輻射。所述輻射可以是諸如α射線和β射線的其它類型。

一種類型的輻射檢測器是基於輻射和半導體之間的相互作用。例如，這種類型的輻射檢測器可以具有吸收輻射並產生載荷子(例如，電子和空穴)的半導體層以及用於檢測載荷子的電路。

輻射檢測器可受到“暗”雜訊(例如，暗電流)的負面影響。輻射檢測器中的暗雜訊包括：即使沒有該輻射檢測器被配置為檢測的輻射入射到該輻射檢測器上的情況下存在的物理效應。分離或減小暗雜訊對由輻射檢測器檢測到的整體信號的影響有助於使輻射檢測器更加有用。

本文公開輻射檢測器，其包括：包括電極的輻射吸收層；電容器模塊，其電連接到所述電極並包括電容器，其中所述電容模塊配置成將來自所述電極的載荷子收集到所述電容器上；與所述電容並聯的電流源模塊，所述電流源模塊被配置為補償所述輻射檢測器中的暗雜訊的電流，並且包括電流源和調制器；其中所述電流源被配置為輸出第一電流和第二電流；其中所述調制器被配置為控制所述電流源輸出所述第一電流的持續時間與所述電流源輸出所述第二電流的持續時間的比率。

根據實施例，電流源模塊是可調節的。

根據實施例，電流源模塊被配置為通過電流源模塊轉移暗雜訊的電流。

根據實施例，第一電流和第二電流在它們的大小上不同，方向上不同，或在兩者上都不同。

根據實施例，第一電流和第二電流中的至少一個比暗雜訊電流至少大一個數量級。

根據實施例，暗雜訊的電流為從1pA到1000pA。

根據實施例，調制器包括處理器或記憶體。

根據實施例，調制器包括開關。

根據實施例，所述輻射是X射線。

根據實施例，電流源包括電流鏡。

根據實施例，調制器位於電流鏡的輸入級上。

根據實施例，調制器包括被配置為以交替的幅值輸出電流的電流源。

根據實施例，調制器包括電流源，該電流源被配置為輸出具有可調節的持續時間比的兩個幅度的電流。

根據實施例，調制器位於電流鏡的輸出級上。

根據實施例，調制器包括開關，該開關被配置為：可控制地將電流源模塊與電容器連接，或可控制地將電流源模塊與電容器斷開。

根據實施例，所述輻射檢測器進一步包括：第一電壓比較器，其被配置為將電極的電壓與第一閾值進行比較；第二電壓比較器，其被配置為將所述電壓與第二閾值進行比較；計數器，其被配置為記錄由所述X射線吸收層吸收的X射線光子數；控制器；其中所述控制器被配置為：從所述第一電壓比較器確定所述電壓的絕對值等於或超過所述第一閾值的絕對值的時刻開始時間延遲；其中所述控制器被配置為在所述時間延遲期間激活所述第二電壓比較器；其中所述控制器被配置為：如果所述第二電壓比較器確定所述電壓的絕對值等於或超過所述第二閾值的絕對值，那麽，使所述計數器記錄的數增加1。

根據實施例，所述控制器被配置為在時間延遲的開始或結束時激活所述第二電壓比較器。

根據實施例，輻射檢測器進一步包括電壓表，其中，所述控制器被配置為在所述時間延遲終止時使所述電壓表測量所述電壓。

根據實施例，所述控制器被配置為：基於在時間延遲終止時測量的電壓的值，確定光子能量。

根據實施例，所述控制器被配置為將所述電極連接到電接地。

根據實施例，在所述時間延遲終止時，所述電壓的變化率基本上是零。

根據實施例，在所述時間延遲終止時，所述電壓的變化率基本上是非零。

根據實施例，所述輻射吸收層包括二極體。

根據實施例，所述輻射吸收層包括矽，鍺，GaAs，CdTe，CdZnTe或其組合。

根據實施例，所述輻射檢測器不包括閃爍體。

根據實施例，所述輻射檢測器包括圖元陣列。

本文公開：包括上述輻射檢測器中的任何一個以及X射線源的系統，其中所述系統被配置為對人體胸部或腹部進行X射線照相。

本文公開：包括上述輻射檢測器中的任何一個以及X射線源的系統，其中所述系統被配置為對人的嘴巴進行X射線照相。

本文公開：包括上述輻射檢測器中的任何一個以及X射線源的貨物掃描或非侵入性檢查(NII)系統，其中，所述貨物掃描或非侵入性檢查(NII)系統被配置為使用背散射X射線而形成圖像。

本文公開：包括上述輻射檢測器中的任何一個的輻射檢測器以及X射線源的貨物掃描或非侵入性檢查(NII)系統，其中，所述貨物掃描或非侵入性檢查(NII)系統被配置為使用穿過被檢查物體的X射線而形成圖像。

本文公開：包括上述輻射檢測器中的任何一個輻射檢測器以及輻射源的全身掃描系統。

本文公開：包括上述輻射檢測器中的任何一個輻射檢測器以及輻射源的計算機斷層攝影(CT)系統。

本文公開電子顯微鏡，其包括上述輻射檢測器中任何一個的輻射檢測器、電子源和電子光學系統。

本文公開：包括上述輻射檢測器中任何一個的輻射檢測器的系統，其中所述系統為X射線望遠鏡，或X射線顯微鏡，或者其中所述系統被配置成進行乳房攝影，工業缺陷檢測，微成像，鑄造檢查，焊接檢查，或數位減影血管攝影。

本文公開的是包括下面各項的方法：確定輻射檢測器的信號中暗雜訊的貢獻；基於暗雜訊的貢獻、第一補償信號和第二補償信號，確定第一補償信號的持續時間與第二補償信號的持續時間的比率；以及用所述第一補償信號和所述第二補償信號，對所述輻射檢測器的信號的所述暗雜訊進行補償，所述第一補償信號和所述第二補償信號具有所述比率，具有各自的持續時間。

根據實施例，通過測量輻射檢測器在不接受輻射的時候測量的信號來確定所述貢獻。

根據實施例，第一補償信號和第二補償信號是電流。

本文公開的是包括下面各項的方法：當輻射檢測器不接收輻射，並且輻射檢測器的暗雜訊有補償的時候，測量輻射檢測器的信號；如果所述信號超過第一電平，開始時間延遲；在時間延遲結束時測量輻射檢測器的信號；如果所述時間延遲結束時的信號超過第二電平，增加對暗雜訊的補償。

根據實施例，所述補償被增加到一組離散值中的幅度。

根據實施例，所述方法進一步包括：如果所述時間延遲結束時的信號超過第二電平，則復位所述信號。

本文公開的是包括下面各項的方法：當輻射檢測器不接收輻射，並且輻射檢測器的暗雜訊有補償的時候，測量輻射檢測器的信號；如果所述信號超過第一電平，則開始時間延遲；在時間延遲結束時測量輻射檢測器的信號；確定所述時間延遲結束時的信號與所述時間延遲開始時的信號之間的差；基於所述差值確定所述補償的幅度。

100‧‧‧輻射檢測器

110‧‧‧輻射吸收層

111‧‧‧第一摻雜區域

112‧‧‧本征區

113‧‧‧第二摻雜區

114‧‧‧離散區域

119A‧‧‧電觸點

119B‧‧‧電觸點

120‧‧‧電子層

121‧‧‧電子系統

130‧‧‧填充材料

131‧‧‧通孔

150‧‧‧圖元

300‧‧‧二極體

301‧‧‧第一電壓比較器

302‧‧‧第二電壓比較器

320‧‧‧計數器

305‧‧‧開關

306‧‧‧電壓表

309‧‧‧電容器模塊

310‧‧‧控制器

388‧‧‧電流源模塊

501‧‧‧電流源

502‧‧‧調制器

601‧‧‧電流

602‧‧‧虛線

821‧‧‧電壓

822‧‧‧電壓

1201‧‧‧脈沖輻射源

1202‧‧‧物體

1301‧‧‧脈沖輻射源

1302‧‧‧物體

1401‧‧‧脈沖輻射源

1402‧‧‧物體

1501‧‧‧脈沖輻射源

1502‧‧‧行李

1601‧‧‧脈沖輻射源

1602‧‧‧人

1701‧‧‧脈沖輻射源

1801‧‧‧電子源

1802‧‧‧樣品

1803‧‧‧電子光學系統

2010‧‧‧程序

2020‧‧‧貢獻

2030‧‧‧程序

2040‧‧‧比率

2050‧‧‧第一補償信號

2060‧‧‧第二補償信號

2070‧‧‧程序

2110‧‧‧程序

2120‧‧‧程序

2130‧‧‧程序

2140‧‧‧程序

2150‧‧‧程序

2160‧‧‧程序

2170‧‧‧程序

2180‧‧‧程序

2210‧‧‧程序

2220‧‧‧程序

2230‧‧‧程序

2240‧‧‧程序

2250‧‧‧程序

2260‧‧‧程序

圖1示意性地示出根據實施例的輻射檢測器。

圖2A示意性地示出輻射檢測器的截面圖。

圖2B示意性地示出輻射檢測器的詳細橫截面視圖。

圖2C示意性地示出輻射檢測器的可供替代的詳細橫截面視圖。

圖3A和圖3B各自示出：根據實施例，圖2C或圖2B中的檢測器的電子系統的部件圖。

圖4A和圖4B分別示出被配置為補償暗雜訊(電流形式)的電路。

圖5示意性地示出根據實施例的輻射檢測器的電子系統中的電流源模塊。

圖6和圖7示出電流源模塊的兩個例子，這裏所述電流源模塊的電流源包括電流鏡。

圖8示意性地示出所述電流源模塊發出的電流，所述電容模塊的電容上的歸因於暗雜訊以及所述電流源模塊提供的電流的電壓，電容器模塊的電容器上的僅歸因於暗雜訊的電壓(作為時間的函數)。

圖9示意性地示出電容器的作為時間函數的電壓，其中電容器模塊包括電流源模塊。

圖10示意性地示出用於補償輻射檢測器中的暗雜訊的方法的流程圖。

圖11A示意性地示出用於補償輻射檢測器中的暗雜訊的方法的流程圖。

圖11B示意性地示出用於補償輻射檢測器中的暗雜訊的方法的流程圖。

圖12-圖18各自示意性地示出包括本文所述的輻射檢測器的系統。

圖1示意性地示出作為例子的輻射檢測器100。輻射檢測器100具有圖元150陣列。陣列可以是矩形陣列，蜂窩陣列，六邊形陣列或任意其他合適的陣列。每個圖元150被配置為檢測入射於其上的來自輻射源的輻射，並且可被配置為測量所述輻射的特征(例如，粒子的能量、波長、以及頻率)。例如，每個圖元150被配置成在一段時間內對入射於其上的能量落入多個箱中的光子進行計數。所有圖元150可被配置為在同一時間段內對入射於其上的能量落入多個箱中的光子進行計數。每個圖元150可具有其自己的模數轉換器(ADC)，其被配置為將表示入射光子能量的類比信號數位化為數位信號。圖元150可被配置為並行操作。例如，當一個圖元150測量入射光子時，另一圖元150可等待光子到達。圖元150可不必單獨尋址。

圖2A示意性地示出根據實施例的輻射檢測器100的截面圖。輻射檢測器100可包括輻射吸收層110和用於處理或分析入射輻射在輻射吸收層110中產生的電信號的電子層120(例如，ASIC)。檢測器100可以包括或不包括閃爍體。輻射吸收層110可包括諸如矽、鍺、GaAs、CdTe、CdZnTe或其組合的半導體材料。所述半導體對於感興趣的輻射可具有高的質量衰減系數。

如圖2B中的輻射檢測器100的詳細橫截面圖所示，根據實施例，輻射吸收層110可包括一個或多個二極體(例如，p-i-n或p-n)。所述二極體由第一摻雜區域111、第二摻雜區113中的一個或多個離散區域114構成。第二摻雜區113可由可選的本征區112與第一摻雜區111隔開。離散區114相互之間由第一摻雜區111或本征區112隔開。所述第一摻雜區111和所述第二摻雜區113具有相反類型的摻雜(例如，區域111為p型並且區域113為n型，或區域111為n型並且區域113為p型)。在圖2B的例子中，第二摻雜區113中的每個離散區114與第一摻雜區111和可選的本征區112形成二極體。即，在圖2B的例子中，所述輻射吸收層110具有多個二極體，所述多個二極體具有第一摻雜區域111作為共享電極。第一摻雜區域111也可以具有離散部分。

當來自輻射源的輻射擊中包括二極體的輻射吸收層110時，輻射光子可通過多個機制被吸收並產生一個或多個載荷子。載荷子可在電場下漂移到二極體中的一個的電極。該場可以是外部電場。電觸點119B可包括離散部分，其每一個與離散區域114電接觸。在實施例中，載荷子可沿各方向漂移，以至於由所述輻射的單個粒子產生的載荷子基本上不被兩個不同的離散區域114共享(這裏“基本不被共享”意味著：小於2%，小於0.5%，小於0.1%，或小於0.01%的這些載荷子流到離散區域114中的與其余載荷子不同的一個)。在這些離散區域114中的一個的足跡周圍入射的輻射粒子產生的載荷子基本上不與這些離散區域114中的另一個共享。與離散區域114相關聯的圖元150可以是這樣的區域：該區域大致位於所述離散區114處，入射於其中的輻射粒子產生的載荷子基本上全部(大於98%，大於99.5%，大於99.9%，或大於99.99%)流入所述離散區域114。即，小於2%，小於1%，小於0.1%，或小於0.01%的這些載荷子流到所述圖元之外。

如圖2C中的輻射檢測器100的可供替代的詳細橫截面圖所示，根據實施例，輻射吸收層110可以包括諸如矽、鍺、GaAs、CdTe、CdZnTe或其組合的半導體材料的電阻器，但不包括二極體。所述半導體對感興趣的輻射可具有高的質量衰減系數。

當輻射擊中包括電阻器但不包括二極體的輻射吸收層110時，它可通過多種機制被吸收並產生一個或多個載荷子。輻射的一個粒子可產生10至100000個載荷子。載荷子可在電場下漂移到電觸點119A和119B。該場可以是外部電場。電觸點119B包括離散部分。在實施例中，載荷子可沿各方向漂移，以至於由輻射的單個粒子產生的載荷子基本上不被電觸點119B的兩個不同的離散部分共享(這裏“基本不被共享”意味著小於2%，小於0.5%，小於0.1%，或小於0.01%的這些載荷子流至所述離散部分中與其余載荷子不同的一個)。在電觸點119B的這些離散部分中的一個的足跡周圍入射的輻射的粒子產生的載荷子基本上不與電觸點119B的這些離散部分中的另一個共享。與電觸點119B的離散部分相關聯的圖元150是這樣的區域：該區域大致位於所述離散部分處，入射於其中的輻射的粒子產生的載荷子基本上全部(大於98%，大於99.5%，大於99.9%，或大於99.99%)流到電觸點119B的所述離散部分。即，小於2%，小於0.5%，小於0.1%，或小於0.01%的這些載荷子流到與電觸點119B的所述一個離散部分相關聯的圖元之外。

電子層120可包括適於處理或解釋入射於輻射吸收層110上的輻射所產生的信號的電子系統121。電子系統121可包括諸如濾波網絡、放大器、積分器以及比較器的類比電路，或諸如微處理器、以及記憶體的數位電路。電子系統121可包括一個或多個ADC。電子系統121可包括圖元之間共享的部件，或專用於單個圖元的部件。例如，電子系統121可以包括專用於每個圖元的放大器和在所有圖元之間共享的微處理器。電子系統121可以通過通孔131與圖元電連接，所述通孔中的空間可用填充材料130填充，這可增加電子層120與輻射吸收層110的連接的機械穩定性。其它結合技術將電子系統121連接到圖元(不使用通孔)是可能的。

由入射到輻射吸收層110上的輻射產生的信號可以是電流的形式。同樣地，暗雜訊也可以是電流的形式(例如，流自電觸點119B的DC電流)。如果電流可以被確定，則電流可因電子系統121(例如，從電子系統121轉移)得到補償。

圖3A和圖3B各自示出根據實施例的電子系統121的部件圖。系統121包括電容器模塊309，其被電連接到二極體300的電極或電觸點，其中所述電容模塊被配置為從所述電極收集載荷子。電容器模塊包括電容器，並且來自電極的載荷子在一段時間(“整合周期”)上累積在電容器上。在整合周期結束後，電容器電壓被采樣，然後由復位開關復位。電容器模塊可包括直接連接到電極的電容器。電容器可處於放大器的回饋路徑中。這樣配置的放大器被稱為電容互阻抗放大器(CTIA)。CTIA通過不讓放大器飽和而具有高的動態範圍，並通過限制信號路徑中的帶寬來提高信噪比。

以電流形式存在的暗雜訊，如果不被補償，則和輻射產生的信號一起對電容器模塊309中的電容器充電。

圖4A和圖4B分別示出被配置為補償暗雜訊(電流形式)的電路。電流源模塊388與電容器並聯。電流源模塊388可以是可調節的，使得它發出的電流補償暗雜訊的電流。在圖4A和圖4B所示的電路中，暗雜訊的電流通過電流源模塊388轉移，使得暗雜訊的電流不對電容器充電。

暗雜訊的電流可以是非常小的電流，例如在皮安(例如，1-1000pA)範圍。補償小的電流可以是具有挑戰性的。圖5示意性地示出根據實施例的電流源模塊388。電流源模塊388可包括電流源501和調制器502。電流源501被配置成輸出第一電流和第二電流。第一電流和第二電流在它們的幅度上不同，方向上不同或兩者上都不同。調制器502控制電流源501輸出第一電流的持續時間與電流源501輸出第二電流的持續時間的比率。第一電流和第二電流可以不像暗雜訊的電流一樣小，但是電流源模塊388發出的電流的時間平均值(作為由調制器502的調制而得的結果)，可以等於暗雜訊的電流。例如，第一電流和第二電流中的至少一個比暗雜訊的電流大至少一個數量級。例如，如果第一電流為1nA且第二電流為0，所述比率為1：999，源自電流源模塊388的電流的時間平均值為1pA。調制器502可與開關一樣簡單。調制器502可以具有諸如處理器或記憶體的復雜電路。

圖6和圖7示出了電流源模塊388的兩個例子，這裏電流源501包括電流鏡。電流鏡是接收輸入電流並輸出與輸入電流成比例的輸出電流的電路。電流鏡可被視為電流控制電流源(CCCS)。電流鏡可包括兩個級聯的電流-電壓和電壓-電流轉換器(設置在相同的條件下並具有反向特性)。電流鏡可使用如這裏所示的MOSFET電晶體來實現。可以使用雙極結型電晶體來實現電流鏡。如圖6所示，調制器502可位於電流鏡的輸出級上。例如，調制器502可包括開關，該開關可控制地將電流源模塊388與電容器模塊309中的電容器連接、斷開。如圖7所示，調制器502可以位於電流鏡的輸入級上。調制器502可包括以交變幅度輸出電流的電流源。調制器502可包括輸出兩個幅度電流的電流源，其具有可調節的持續時間比率。

圖8示意性地示出電流源模塊388發出的電流601(作為時間的函數)。虛線602示出電流601的時間平均值。圖8還示意性地示出電容器模塊309 的電容器的電壓822，其歸因於暗雜訊以及電流源模塊388提供的電流(作為時間的函數)。圖8還示意性地示出僅歸因於暗雜訊的電容器模塊309的電容器上的電壓821(作為時間的函數)。從圖8可以看出：電流源模塊388提供電流，在時間平均上消除了暗雜訊對電容器上的電壓的影響。

圖9示意性地示出作為時間的函數的電容器上的電壓，這裏電容器模塊309包括電流源模塊388。在圖9中可以看到疊加到平滑變化的電壓上的精細鋸齒波形。鋸齒波波形歸因於暗雜訊以及電流源模塊388提供的電流(作為時間的函數)。

圖10示意性地示出用於補償輻射檢測器中的暗雜訊的方法的流程圖。在程序2010中，輻射檢測器的信號中的暗雜訊的貢獻2020被確定。例如，可以通過測量輻射檢測器在不接受輻射的時候測量信號來確定所述貢獻。在程序2030中，基於暗雜訊的貢獻2020、第一補償信號2050和第二補償信號2060，確定第一補償信號2050的持續時間與第二補償信號2060的持續時間的比率2040。例如，第一補償信號2050和第二補償信號2060可以是電流源501輸出的第一電流和第二電流。在程序2070中，輻射檢測器的信號的暗雜訊被第一補償信號2050和第二補償信號2060補償，第一補償信號2050和第二補償信號2060具有各自的持續時間，其比率為2040。

圖11A示意性地示出補償輻射檢測器中暗雜訊的方法的流程圖。在程序2110中，當輻射檢測器不接收輻射並且存在對輻射檢測器的暗雜訊的補償的時候，測量輻射檢測器的信號。在程序2120中，如果信號沒有超過第一電平，流程返回程序2110；若信號超過第一電平，在程序2130中開始時間延遲。在程序2140中，在時間延遲結束時輻射檢測器的信號被測量。在程序2150中，如果信號不超過第二電平，流程結束，並且補償的當前幅度被認為足以補償暗雜訊的貢獻；如果時間延遲結束時的信號超過第二電平，在程序2160中增加對暗雜訊的補償，在程序2170中復位信號，並且流程回到程序2110。或者，在程序2150中，如果信號不超過第二電平，在程序2180中降低第二電平，並且流程返回到程序2110；如果時間延遲結束時的信號超過第二電平，在程序2160中增加對暗雜訊的補償，在程序2170中復位信號，並且流程回到程序2110。當增加暗雜訊的補償時，可將其增加到一組離散值中的幅度。補償的當前幅度可存儲在輻射檢測器的記憶體中。

圖11B示意性地示出補償輻射檢測器中暗雜訊的方法的流程圖。在程序2210中，當輻射檢測器不接收輻射並且對輻射檢測器的暗雜訊的補償存在的時候，測量輻射檢測器的信號。在程序2220中，如果信號沒有超過第一電平，流程回到程序2210；若信號超過第一電平，在程序2230中開始時間延遲。在程序2240中，時間延遲結束時的輻射檢測器的信號被測量。在程序2250 中，在時間延遲開始時的信號(其可以簡單地是第一電平)與時間延遲結束時的信號之間的差被確定。在程序2260中，基於所述差，確定暗雜訊的補償的幅度。

除了包括電流源模塊388的電容器模塊309，電子系統121可進一步包括第一電壓比較器301、第二電壓比較器302、計數器320、開關305、電壓表306和控制器310，如圖3A和圖3B所示。

第一電壓比較器301被配置為將二極體300的電極的電壓與第一閾值進行比較。二極體可以是由第一摻雜區域111，第二摻雜區113的離散區114中的一個，以及可選的本征區112形成。或者，第一電壓比較器301被配置為將電觸點(例如，電觸點119B的離散部分)的電壓與第一閾值進行比較。第一電壓比較器301可被配置為直接監控電壓，或通過在一段時間內對流經二極體或電觸點的電流進行整合來計算電壓。第一電壓比較器301可由控制器310可控地激活或停用。第一電壓比較器301可以是連續比較器。即，第一電壓比較器301可被配置為連續地激活，並且連續地監控電壓。第一電壓比較器301被配置為連續比較器，減少了系統121錯過由入射X射線光子產生的信號的可能性。當入射X射線強度相對較高時，配置為連續比較器的第一電壓比較器301是特別合適的。第一電壓比較器301可以是鐘控比較器，其具有較低功耗的好處。配置為鐘控比較器的第一電壓比較器301可使系統121錯過由一些入射X射線光子產生的信號。當入射X射線強度低時，由於兩個連續光子之間的時間間隔相對較長，所以錯過入射X射線光子的機會較低。因此，當入射X射線強度較低時，第一電壓比較器301被配置為鐘控比較器特別適合。第一閾值可以是一個入射X射線光子在二極體或電阻中產生的最大電壓的5-10%，10%-20%，20-30%，30-40%或40-50%。所述最大電壓可取決於入射X射線光子的能量(即，入射X射線的波長)，X射線吸收層110的材料以及其它因素。例如，第一閾值可以是50mV，100mV，150mV或200mV

第二電壓比較器302被配置為將電壓與第二閾值進行比較。第二電壓比較器302可被配置為直接監控電壓，或通過將一段時間流過二極體或電觸點的電流進行整合來計算所述電壓。第二電壓比較器302可以是連續比較器。第二電壓比較器302可由控制器310可控地激活或停用。當第二電壓比較器302被停用時，第二電壓比較器302的功耗可以比第二電壓比較器302被激活時的功耗小1%，小5%，小10%或小20%。第二閾值的絕對值大於第一閾值的絕對值。如本文中所使用的，術語實數x的“絕對值”或“模”

|x|是x的不考慮其符號的非負值。即，

。第二閾值可以是第一閾值的200%-300%。第二閾值可以是一個入射X射線光子在二極體或電阻器中可產生的最大電壓的至少50%。例如，第二閾值可以是100mV，150mV，200mV，250mV或300mV。第二電壓比較器302和第一電壓比較器301可以是相同的部件。即，系統121可以具有一個電壓比較器，該電壓比較器可以在不同的時間將電壓與兩個不同閾值進行比較。

第一電壓比較器301或第二電壓比較器302可包括一個或多個運算放大器或任何其它合適的電路。第一電壓比較器301或第二電壓比較器302可具有高的速度以允許系統121在入射X射線的高通量情況下工作。然而，具有高的速度常以功耗為代價。

計數器320被配置為記錄到達二極體或電阻器的X射線光子數。計數器320可以是軟體部件(例如，存儲在計算機記憶體中的數字)或硬體部件(例如4017IC和7490IC)。

控制器310可以是諸如微控制器和微處理器之類的硬體部件。控制器310被配置為從第一電壓比較器301確定電壓絕對值等於或超過第一閾值的絕對值(例如，電壓的絕對值從低於第一閾值的絕對值增加到等於或高於第一閾值的絕對值的值)的時刻開始時間延遲。這裏使用的是絕對值，因為電壓可以是負的或正的，取決於所用的是二極體陰極或陽極的電壓，或所用的是哪個電觸點。控制器310可被配置為：在第一電壓比較器301確定電壓的絕對值等於或超過第一閾值的絕對值之前，保持停用第二電壓比較器302、計數器320和任何第一電壓比較器301的操作不需要的其它電路。時間延遲可在電壓變穩定(即，電壓的變化率基本上為零)之前或之後結束。“電壓的變化率基本為零”意味著電壓的時間變化小於0.1%/ns。“電壓的變化率基本上是非零”意味著該電壓的時間變化是至少0.1%/ns。

控制器310可被配置為在時間延遲期間(包括開始和結束)來激活第二電壓比較器。在實施例中，控制器310被配置為在時間延遲開始時激活第二電壓比較器。術語"激活"意味著使所述部件進入操作狀態(例如，通過發送諸如電壓脈沖或邏輯電平信號，通過提供功率等)。術語"停用"意味著使所述部件進入非操作狀態(例如，通過發送諸如電壓脈沖或邏輯電平信號，通過切斷電源等)。操作狀態比非操作狀態可具有較高的功耗(例如，10倍以上，100倍更高，1000倍以上)。控制器310本身可以被停用，直到當電壓的絕對值等於或超過第一閾值的絕對值時，第一電壓比較器301的輸出激活控制器310。

控制器310可被配置為：如果在時間延遲期間第二電壓比較器302確定電壓的絕對值等於或超過第二閾值的絕對值，則使計數器320記錄的數增加1。

控制器310可被配置為：在時間延遲期滿時使電壓表306測量電壓。控制器310可被配置成將電極連接到電接地，以復位電壓並釋放累積在電極上的載荷子。在實施例中，時間延遲結束後電極被連接到電接地。在實施例中，電極被連接到電接地有限復位時間。控制器310可通過控制開關305來將電極連接到電接地。開關可以是諸如場效應電晶體(FET)的電晶體。

控制器310可被配置為控制電流源模塊388。例如，控制器310可以通過控制電流源模塊388來改變暗雜訊的補償幅度，控制器310可以調整圖10的流程中第一補償信號2050的持續時間與第二補償信號2060的持續時間的比率2040。控制器310可執行指令，從而實現圖10和圖11的流程。

在實施例中，系統121沒有類比濾波網絡(例如，RC網絡)。在實施例中，系統121沒有類比電路

電壓表306可將其測量的作為類比或數位信號的電壓回饋給控制器310。

圖12示意性地示出包括本文所述的輻射檢測器100的系統。該系統可用於醫學成像，例如胸部X射線照相、腹部X射線照相等。系統包括發射X射線的脈沖輻射源1201。從脈沖輻射源1201發射的X射線穿過物體1202(例如，諸如胸部、肢體、腹部的人體部分)，被物體1202的內部結構(例如，骨骼、肌肉、脂肪、器官等)不同程度地衰減，並且被投射到輻射檢測器100。輻射檢測器100通過檢測X射線的強度分布而形成圖像。

圖13示意性地示出包括本文所述的輻射檢測器100的系統。該系統可用於諸如牙科X射線照相的醫療成像。該系統包括發射X射線的脈沖輻射源1301。從脈沖輻射源1301發射的X射線穿透物體1302，其是哺乳動物(例如，人)的嘴巴的部分。物體1302可以包括上頜骨、腭骨、牙齒、下頜或舌頭。X射線被物體1302的不同結構不同程度地衰減，並被投射到輻射檢測器100。輻射檢測器100通過檢測X射線的強度分布而形成圖像。牙齒比齲牙、感染、牙周韌帶更多地吸收X射線。牙科患者接收的X射線輻射的劑量典型地為小的(全口系列大約0.150mSv)。

圖14示意性地示出包括本文所述的輻射檢測器100的貨物掃描或非侵入性檢查(NII)系統。該系統可用於檢查和識別運輸系統中的貨物，例如集裝箱、車輛、船舶、行李等。該系統包括脈沖輻射源1401。從脈沖輻射源1401 發射的輻射可從物體1402(例如，集裝箱，車輛，船舶等)背散射並被投射到輻射檢測器100。物體1402的不同內部結構可不同地背散射所述輻射。輻射檢測器100通過檢測背散射輻射的強度分布和/或背散射輻射的能量來形成圖像。

圖15示意性地示出包括本文所述的輻射檢測器100的另一貨物掃描或非侵入性檢查(NII)系統。該系統可用於公共運輸站和機場的行李篩選。該系統包括發射X射線的脈沖輻射源1501。從脈沖輻射源1501發射的X射線可穿透行李1502，被行李的內容不同地衰減，並被投射輻射檢測器100。輻射檢測器100通過檢測所述透射X射線的強度分布而形成圖像。該系統可以揭示行李的內容，並識別在公共交通上禁止的物品，例如槍支，毒品，鋒利武器，易燃物。

圖16示意性地示出包括本文所述的輻射檢測器100的全身掃描系統。全身掃描系統可為了安全篩選目的檢測人身體上的物體，不需物理地去除衣物或進行物理接觸。全身掃描系統能夠檢測非金屬物體。全身掃描系統包括脈沖輻射源1601。從脈沖輻射源1601發射的輻射可從被篩選的人1602及其上的物體背散射，並被投射到輻射檢測器100。所述物體和所述人體可不同地背散射所述輻射。輻射檢測器100通過檢測背散射輻射的強度分布來形成圖像。輻射檢測器100和脈沖輻射源1601可被配置為沿直線或旋轉方向掃描人。

圖17示意性地示出X射線計算機斷層掃描(X射線CT)系統。X射線CT系統使用計算機處理的X射線來產生被掃描對象的特定區域的斷層圖像(虛擬的“切片”)。斷層圖像可用於各種醫學學科中的診斷和治療目的，或用於探傷、故障分析、計量、組裝分析和反向工程。X射線CT系統包括本文描述的輻射檢測器100和發射X射線的脈沖輻射源1701。輻射檢測器100和脈沖輻射源1701可被配置成沿一個或多個圓形或螺旋路徑同步旋轉。

圖18示意性地示出電子顯微鏡。電子顯微鏡包括被配置為發射電子的電子源1801(也稱為電子槍)。電子源1801可具有各種發射機制，例如熱離子，光電陰極，冷發射或等離子體源。被發射的電子通過電子光學系統1803，其可被配置為影響、加速或聚焦電子。然後電子到達樣品1802，並且圖像檢測器可從那裏形成圖像。電子顯微鏡可以包括本文所述的輻射檢測器100，用於進行能量色散X射線分光鏡檢查(EDS)。EDS是用於樣品的元素分析或化學表征的分析技術。當電子入射到樣品上時，它們引起來自樣品的特征X射線的發射。入射電子可以激發樣品中的原子的內殼中的電子，從所述殼中將其排出，同時在所述電子原先的位置形成電子空穴。來自外部的高能殼層的電子填充所述空穴，較高能量殼層與較低能量殼層之間的能量差可以按X射線的形式釋放。通過輻射檢測器100可以測量從樣品發射的X射線的數量和能量。

這裏描述的脈沖輻射檢測器100可具有其它應用，比如在X射線望遠鏡，X射線乳房攝影，工業X射線缺陷檢測，X射線顯微或微成像，X射線鑄造檢查，X射線無損檢測，X射線焊接檢查，X射線數位減影血管攝影等中。使用該脈沖輻射檢測器100適合於代替攝影板，攝影膠片，PSP板，X射線圖像增強器，閃爍體或X射線檢測器。

儘管本文公開各種方面和實施例，其它方面和實施例對於本領域內技術人員將變得明顯。本文公開的各種方面和實施例是為了說明目的而不意在為限制性的，其真正範圍和精神由下列權利要求指示。

388‧‧‧電流源模塊

501‧‧‧電流源

502‧‧‧調制器

Claims

一種輻射檢測器，其包括：包括電極的輻射吸收層；電連接到電極並且包括電容器的電容器模塊，其中所述電容模塊被配置為將來自所述電極的載荷子收集到所述電容器上；與電容器並聯的電流源模塊，所述電流源模塊被配置為補償所述輻射檢測器中的暗雜訊的電流，並包括電流源和調制器；其中，所述電流源被配置為輸出第一電流和第二電流；其中，所述調制器被配置為控制所述電流源輸出所述第一電流的持續時間與所述電流源輸出所述第二電流的持續時間的比率。
如請求項1之輻射檢測器，其中所述電流源模塊是可調節的。
如請求項1之輻射檢測器，其中所述電流源模塊被配置為將所述暗雜訊的電流通過所述電流源模塊轉移。
如請求項1之輻射檢測器，其中所述第一電流和所述第二電流在幅度上不同，在方向不同，或在兩者上都不同。
如請求項1之輻射檢測器，其中所述第一電流和所述第二電流中的至少一個比暗雜訊電流至少大一個數量級。
如請求項1之輻射檢測器，其中所述暗雜訊的電流為從1pA到1000pA。
如請求項1之輻射檢測器，其中所述調制器包括處理器或記憶體。
如請求項1之輻射檢測器，其中所述調制器包括開關。
如請求項1之輻射檢測器，其中所述輻射是X射線。
如請求項1之輻射檢測器，其中所述電流源包括電流鏡。
如請求項10之輻射檢測器，其中所述調制器位於所述電流鏡的輸入級上。
如請求項11之輻射檢測器，其中所述調制器包括被配置為以交替的幅度輸出電流的電流源。
如請求項11之輻射檢測器，其中所述調制器包括被配置為輸出具有可調節持續時間比率的兩個幅度的電流的電流源。
如請求項10之輻射檢測器，其中所述調制器位於所述電流鏡的輸出級上。
如請求項14之輻射檢測器，其中所述調制器包括開關，所述開關被配置為可控制地將所述電流源模塊與所述電容器連接，並可控制地將所述電流源模塊與所述電容器斷開。
如請求項1之輻射檢測器，進一步包括：被配置為將所述電極的電壓與第一閾值進行比較的第一電壓比較器；被配置為將所述電壓與第二閾值進行比較的第二電壓比較器；被配置為記錄由所述X射線吸收層吸收的X射線光子數的計數器；控制器；其中，所述控制器被配置為從所述第一電壓比較器確定所述電壓的絕對值等於或超過所述第一閾值的絕對值的時刻開始時間延遲；其中，所述控制器被配置為在所述時間延遲期間激活所述第二電壓比較器；其中，所述控制器被配置為：如果所述第二電壓比較器確定所述電壓的絕對值等於或超過所述第二閾值的絕對值，則使所述計數器記錄的數增加1。
如請求項16之輻射檢測器，其中，所述控制器被配置為在所述時間延遲的開始或結束時激活所述第二電壓比較器。
如請求項16之輻射檢測器，進一步包括電壓表，其中所述控制器被配置為在所述時間延遲結束時使所述電壓表測量所述電壓。
如請求項18之輻射檢測器，其中所述控制器被配置為基於時間延遲結束時測量的電壓的值確定光子能量。
如請求項16之輻射檢測器，其中所述控制器被配置為將所述電極連接到電接地。
如請求項16之輻射檢測器，其中所述電壓的變化率在所述時間延遲結束時基本為零。
如請求項16之輻射檢測器，其中所述電壓的變化率在所述時間延遲結束時基本上為非零。
如請求項1之輻射檢測器，其中所述輻射吸收層包括二極體。
如請求項1之輻射檢測器，其中所述輻射吸收層包括矽，鍺，GaAs，CdTe，CdZnTe或其組合。
如請求項1之輻射檢測器，其中所述輻射檢測器不包括閃爍體。
如請求項1之輻射檢測器，其中所述輻射檢測器包括圖元陣列。
一種檢測系統，其包括如請求項1之輻射檢測器以及包括一X射線源，其中所述系統被配置為對人體胸部或腹部進行X射線照相。
一種檢測系統，其包括如請求項1之輻射檢測器以及包括一X射線源，其中所述系統配置為對人的嘴巴進行X射線照相。
一種貨物掃描或非侵入性檢查(NII)系統，其包括如請求項1之輻射檢測器以及包括一X射線源，其中所述貨物掃描或非侵入性檢查(NII)系統被配置為使用背散射X射線形成圖像。
一種貨物掃描或非侵入性檢查(NII)系統，其包括如請求項1之輻射檢測器以及包括一X射線源，其中所述貨物掃描或非侵入性檢查(NII)系統被配置為使用穿過被檢查的物體的X射線形成圖像。
一種全身掃描系統，其包括如請求項1之輻射檢測器以及包括一輻射源。
一種計算機斷層掃描(CT)系統，其包括如請求項1之輻射檢測器以及包括一輻射源。
一種電子顯微鏡，其包括如請求項1之輻射檢測器以及包括一電子源和一電子光學系統。
一種檢測系統，其包括如請求項1之輻射檢測器，其中所述系統為一X射線望遠鏡或一X射線顯微鏡，或其中所述系統被配置為進行乳房攝影、工業探傷、微成像、鑄造檢查、焊接檢查、或數位減影血管攝影。