TWI756306B - 光學特性測定裝置及光學特性測定方法 - Google Patents

光學特性測定裝置及光學特性測定方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI756306B
TWI756306B TW106140651A TW106140651A TWI756306B TW I756306 B TWI756306 B TW I756306B TW 106140651 A TW106140651 A TW 106140651A TW 106140651 A TW106140651 A TW 106140651A TW I756306 B TWI756306 B TW I756306B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
optical
sample
detection
detection data
light
Prior art date
Application number
TW106140651A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201830005A (zh
Inventor
岡本宗大
佐佐木勇貴
羅先欽
Original Assignee
日商大塚電子股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商大塚電子股份有限公司 filed Critical 日商大塚電子股份有限公司
Publication of TW201830005A publication Critical patent/TW201830005A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI756306B publication Critical patent/TWI756306B/zh

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
    • G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
    • G01B11/0625—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating with measurement of absorption or reflection
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02—Details
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02—Details
    • G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
    • G01J3/0248—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using a sighting port, e.g. camera or human eye
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02—Details
    • G01J3/0278—Control or determination of height or angle information for sensors or receivers
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28—Investigating the spectrum
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28—Investigating the spectrum
    • G01J3/2803—Investigating the spectrum using photoelectric array detector
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/255—Details, e.g. use of specially adapted sources, lighting or optical systems
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/8422—Investigating thin films, e.g. matrix isolation method
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
    • G01N21/64—Fluorescence; Phosphorescence
    • G01N2021/6417—Spectrofluorimetric devices

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)

Abstract

本發明的課題，是依據來自樣本的光可容易進行樣本之光學特性的測定。 　　本發明的光學特性測量裝置(1、1A)，是具備：光學系(12)、檢出部(13)、以及解析部(14)。光學系，係將從樣本(2)入射的偵測光予以聚光。偵測部，係在樣本與光學系之間的光學距離為相互不同的狀態下，複數次將經由光學系所入射之樣本的偵測光進行分光，產生表示各個偵測光之光譜的複數的偵測資料(D1)。解析部，係解析偵測資料所表示的光譜，並測定樣本之預定的光學特性。解析部，係依據在複數的偵測資料中之偵測光的大小，特定出使用在光學特性之測定上的偵測資料，依據已特定出的偵測資料，來測定光學特性(S6、S6A)。

Description

光學特性測定裝置及光學特性測定方法
本發明，是關於用以測定樣本的膜厚等之光學特性的光學特性測定裝置及光學特性測定方法。
以往，作為測量如膜厚之光學特性之手法者，習知有使用光相位的光干涉法(例如專利文獻1、2)。在光干涉法中，以分光器測量在測量對象的樣本所反射之光的光譜，藉由解析光譜資料來測定樣本的光學特性。
專利文獻1，是揭示出藉由使對樣本(被測量物)進行對焦容易化，而使光學特性的測定精度提昇的光學特性測定裝置。在專利文獻1中，使用者是參照在顯示部所顯示之反射像的對焦狀態來變更樣本與接物鏡之間的位置關係、或是使用自動對焦技術來使控制裝置進行對焦之後，執行反射光的光譜測定。專利文獻1的光學特性測定裝置，是具有用來對焦的攝像機、或是觀察用光源等之機構，且採用有複雜的光學系，該複雜的光學系係組入有用以運用該機構的光學部件。 [先前技術文獻]
[專利文獻1] 日本特開2008-286583號公報 　　[專利文獻2] 日本特開2010-002327號公報
[發明所欲解決的問題]
在以往之光學特性的測定方法中，由於在測定光譜時必須進行對焦，因而在光學特性的測定上會花費許多時間、或是由於設置用於對焦的機構而造成裝置構成複雜化。
本發明的目的，是在於提供一種光學特性測定裝置及光學特性測定方法，其依據來自樣本的光線就能夠容易地進行樣本的光學特性測定。 [用以解決問題的手段]
本發明之一形態的光學特性測定裝置，是具備：光學系、偵測部、以及解析部。光學系，係將從樣本入射的偵測光予以聚光。偵測部，係在樣本與光學系之間的光學距離為相互不同的狀態下，複數次將經由光學系所入射之樣本的偵測光進行分光，產生表示各個偵測光之光譜的複數的偵測資料。解析部，係解析偵測資料所表示的光譜，並測定樣本之預定的光學特性。解析部，係依據在複數的偵測資料中之偵測光的大小，特定出使用在光學特性之測定上的偵測資料，依據已特定出的偵測資料，來測定光學特性。
本發明之一形態的光學特性測定方法，是包含：將經由光學系從樣本所入射的偵測光予以聚光的步驟。本方法，是包含：使偵測部，在上述樣本與上述光學系之間的光學距離為相互不同的狀態下，複數次將經由上述光學系所入射之樣本的偵測光進行分光，產生表示各個偵測光之光譜的複數的偵測資料的步驟。本方法，是包含：使解析部，依據在上述複數的偵測資料中之偵測光的大小，特定出使用在上述光學特性之測定上的偵測資料的步驟。本方法，是包含：使上述解析部，解析已特定出之偵測資料所表示的光譜，來測定上述光學特性的步驟。 [發明效果]
依據本發明之光學特性測定裝置及光學特性測定方法，可從光學距離為相互不同之複數的偵測資料，特定出使用於光學特性之測定上的偵測資料。藉此，可以容易地進行：依據來自樣本的光線之樣本的光學特性的測定。
以下，參照添附圖面來說明本發明的實施形態。又，於以下的各實施形態中，對於同樣的構成元件是標示以相同的符號。
(實施形態1) 　　對於實施形態1之光學特性測定裝置及光學特性測定方法，說明如下。
1. 構成 　　對於本實施形態之光學特性測定裝置的構成，參照第1圖來進行說明。第1圖，顯示實施形態1之該光學特性測定裝置1的構成的方塊圖。
本實施形態的光學特性測定裝置1，是對從測定對象的樣本2入射的光進行光學上的解析，對樣本2之膜厚等的光學特性進行測定的裝置。光學特性測定裝置1，如第1圖所示，係具備：光源10、及光纖11、及對物光學系12、及分光器13、及個人電腦(PC)14、及控制單元15、及驅動部16、以及觀察單元17。
樣本2，例如是單層膜或多層膜等之薄膜所形成之各種各樣的半導體基板或玻璃基板、薄膜構件等。在本實施形態中，樣本2，是被配置在光學特性測定裝置1的驅動部16(工作台61)中的水平面。以下，在樣本2的水平面中以相互正交的二方向分別作為「X方向」及「Y方向」，以水平面的法線方向作為「Z方向」。
光源10，是發光出用以照射於樣本2的照射光。由光源10所發出的照射光，例如為白色光，並具有在與測定對象之樣本2的光學特性相對應之波長帶的範圍內成連續的波長光譜(連續光譜)。光源10，亦可以是由白熱燈泡、LED、氘燈、氙氣燈、鹵素燈等之各種各樣的光源所構成。
光纖11，例如是由Y型光纖所構成，並具有一個探頭端11a及二分歧的分歧端。探頭端11a是與對物光學系12光學性地連接，分歧端的一方是連接於光源10，另一方是連接於分光器13。光纖11，為結合光學系的一例，其是將光源10與對物光學系12之間光學性地結合，並且將對物光學系12與分光器13之間光學性地結合。結合光學系並不限定於光纖11，例如也可以是配置有各種各樣光學元件的光學系。
對物光學系12，是在光學特性測定裝置1內，將對樣本2出射的光以及從樣本2入射的光予以聚光和導光的光學系。在本實施形態中的對物光學系12，是包含：與樣本2對向的第1透鏡12a、以及被配置在第1透鏡12a與光纖11的探頭端11a之間的第2透鏡12b等。各透鏡12a、12b，如第1圖所示，是使對物光學系12的光軸以朝向Z方向之方式所配置，用以執行聚光及直準(collimate)。對物光學系12，係具有藉由第1及第2透鏡12a、12b之光學特性等所界定之固有的景深。
分光器13，是將入射的光予以分光(也就是分解光譜)，並偵測光的波長光譜。分光器13，是作為在本實施形態中之偵測部的一例。分光器13，例如是由多通道型分光器所構成，係具備：含有狹縫及光柵等的分光光學系、及具有受光面的CCD影像感測器等的偵測元件、以及內部記憶體。偵測元件，亦可以是由光二極體陣列等所構成。
在多通道分光器型的分光器13中，所入射的光是經由狹縫而被導光至光柵，在光柵繞射後而入射於偵測元件。藉此，偵測元件，是在受光面上依各波長而於不同的區域中接受繞射光，實現同時偵測複數的波長成分(例如512個)之光強度的自我掃描式的偵測動作。分光器13，是將由偵測元件所取得之偵測結果的偵測資料暫存於內部記憶體，並產生以預定周期(例如1～5毫秒)受光後之光的偵測資料。對於偵測資料的一例(反射率資料)於後述之。
PC14，係具備：與例如軟體協力運作而實現預定功能的CPU、以及快閃記憶體等之內部記憶體等。於內部記憶體，存放例如從分光器13所接收的資料、或是用以執行本實施形態中之光學特性測定方法的程式等。PC14，是用以讀出被存放於內部記憶體的資料或者程式來執行各種各樣的演算處理，而實現各種功能。
例如，PC14，是接收來自分光器13的偵測資料，並藉由對偵測資料執行預定的資料處理來進行光學特性的解析。PC14，是本實施形態中之解析部的一例。又，在本實施形態中，PC14，是與光學特性測定裝置1內的各部分進行資料通信而執行各種控制。
控制單元15，是依據來自PC14的指示，控制驅動部16之驅動的控制裝置。控制單元15，例如具備有微電腦或者通訊介面。又，由控制單元15所進行的控制功能，亦可以在PC14中實現。
驅動部16，係具備：具有配置樣本2之水平面的工作台61、以及驅動工作台61用以使之移動的致動器62。例如，於驅動部16，工作台61是能夠分別朝向X、Y、Z方向的三軸移動而構成。藉由X、Y方向的移動，可使測定樣本2在各種各樣之水平位置處的膜厚變得容易。又，驅動部16，也可以使工作台61在Z方向的單軸進行移動而構成。
觀察單元17，在光學特性測定裝置1中，係具備：用以觀察樣本2之主面等的模組、攝像機71、觀察光源72、以及觀察光學系73等。
攝像機71，是具備有CCD或者是CMOS成像元件等之攝像元件等，將顯示攝像影像的攝像資料輸出於PC14。
觀察光源72，是藉由攝像機71對樣本2進行攝像時以照明樣本2為目的光源，是由白色LED等所構成。
觀察光學系73，是對從觀察光源72出射於樣本2的光、以及對從樣本2入射於攝像機的光進行導光的光學系，是具備分光鏡及透鏡等。在本實施形態中，如第1圖所示，觀察光學系73的一部分是被組入於對物光學系12的內部。藉此，在觀察單元17亦能夠觀察在對物光學系12中入射於分光器13之光的狀態。
又，在本實施形態之光學特性測定裝置1中，特別是在不必要觀察樣本2的情形時，亦可以省略觀察單元17。依本實施形態之光學特性測定方法，即使不使用觀察單元17也能夠測定樣本2的膜厚等。
2. 動作 　　以下說明如以上所構成之光學特性測定裝置1的動作。
2-1. 動作的概要 　　對於光學特性測定裝置1之動作的概要，參照第1、2圖進行說明。
於光學特性測定裝置1(第1圖)，光源10出射照射光。照射光是經由光纖11而入射於對物光學系12。如第1圖所示，照射光，是在對物光學系12的第2透鏡12b中直準平行，並於第1透鏡12a中聚光，然後被照射於配置在工作台61的樣本2。
於樣本2，照射光，是分別在具有樣本2之膜厚量的間隔的二個主面被反射。於各主面所反射的光，是相應於樣本2之膜厚量的間隔而一邊進行干涉，一邊入射於對物光學系12。
於光學特性測定裝置1，來自樣本2的反射光，是在對物光學系12的第1透鏡12a直準平行，在第2透鏡12b聚光，然後經由光纖11而入射於分光器13。分光器13，是以表示含有來自樣本2的反射光之光的波長光譜作為偵測資料而產生反射率資料。對於由分光器13產生的反射率資料，使用第2圖進行說明。
第2圖，是用以說明在光學特性測定裝置1中之反射率資料D1的圖面。反射率資料D1，是表示在分光器13中所偵測出之作為反射光的波長光譜的反射率光譜。反射率光譜，如第2圖所示，是以在所偵測出之反射光中的各種波長λ成分的反射率R來表示。於反射率資料D1中，如第2圖所示之在反射率光譜中之反射率R的振動，是藉由由樣本2的膜厚量的間隔所形成之反射光的干涉而產生。
回到第1圖，光學特性測定裝置1的PC14，是藉由將來自分光器13之反射率資料D1進行資料解析，而算出樣本2的膜厚。由PC14所進行之膜厚的演算處理，是可以應用例如非線形最小平方法或者FFT(快速傅立葉轉換)法、峰谷(PeakValley)法等各種習知的方法(請參照專利文獻2)。
2-2. 關於本案發明者的創見 　　在測定膜厚的手法中，藉由高精度取得反射率資料D1，便能夠精度良好地測定膜厚。藉由此，在以往的手法中，是在分光器與樣本之間進行對焦，來確保所取得之反射率資料的精度。相對於此，本案發明者，經過潛心檢討的結果，研創出不用特意進行對焦就可以取得高精度之反射率資料的手法。以下，對於本案發明者在如此研創中取得創見的實驗，使用第3圖進行說明。
第3圖，是顯示由本案發明者所進行的實驗之實驗結果的曲線圖。在本實驗中，是於光學特性測定裝置1，一面使從對物光學系12至樣本2為止的距離d(亦即Z位置)變化，一面偵測各距離d之從樣本2入射於分光器13的反射光，而生成各別之偵測結果的反射率資料D1。
於第3圖的曲線圖中，橫軸，是在光學特性測定裝置1的Z方向中，從預定位置至樣本2為止的距離d。曲線C1，是顯示對在各距離d依據所偵測出之反射光的反射率資料D1，使用預定的演算式所算出之膜厚的算出值(請參照圖中左側的縱軸)。
又，曲線C2，是顯示在各距離d的反射率資料D1中的平均反射率(請參照圖中右側的縱軸)。平均反射率，是一個反射率資料D1中之所有反射率光譜(各波長λ的反射率R)之平均的反射率，是與所偵測出之反射光的強度(大小)相對應。二條曲線C1、C2，是表示依據每一距離d的相同反射率資料D1之膜厚的算出值與平均反射率。
依據第3圖的曲線C1，在區域R1之外，膜厚之算出值的異變不均，是顯著地比區域R1內還大。區域R1，是與對物光學系12的景深相對應的區域。又，曲線C2，是在景深的區域R1中具有峰值Pf。區域R1中之峰值的位置df，由於所偵測出之反射光的強度為最大，因而可被認為是在景深的範圍內中之真的焦點位置。
在第3圖之景深的區域R1內，膜厚之算出值的曲線C1，呈現出安定的傾斜，是真的焦點位置df與在其他位置之間，膜厚的算出值具有偏差。在此，若依據對比(contrast)法等之一般的焦點技術的話，則焦點在景深的區域R1內任一處皆成對準狀態，因此在景深的區域R1內部進行對焦，要取得真的焦點位置df的反射率資料D1是困難的。相對於此，本案發明者，著眼於本實驗中的曲線C2，得到藉由確認平均反射率的峰值Pf而可容易地特定出真的焦點位置df的反射率資料D1之創見。
2-3. 動作細部 　　依據如以上之本案發明者的創見，在本實施形態之光學特性測定裝置1中，一面在特定範圍內使樣本2移動於Z方向，一面由分光器13執行連續地偵測反射光的掃描，來產生至樣本2為止的距離d為相互不同之複數的反射率資料D1。此時，於PC14，依據所產生之複數的反射率資料D1的各個平均反射率，來選擇可使用於膜厚測定的反射率資料D1。藉此，於光學特性測定裝置1，不用特別地執行對焦，就可以容易地進行膜厚的測定。
以下，對於本實施形態之光學特性測定裝置1之動作細部，參照第4、5、6圖進行說明。
第4圖，是顯示本實施形態之光學特性測定裝置1的動作的流程圖。第5圖，是用以說明光學特性測定裝置1之動作的圖面。第6圖，是用以說明依光學特性測定裝置1所進行之膜厚的算出方法的圖面。
第4圖的流程圖，是藉由在光學特性測定裝置1中的PC14所執行。本流程圖，是在光源10照射出照射光後的狀態下開始。
首先，PC14，經由控制單元15，控制驅動部16中之工作台61的Z位置，如第5圖所示，將工作台61上的樣本2配置在Z方向中的初始位置d0(第5圖)(S1)。初始位置d0，是一邊取得反射率資料D1一邊使樣本2移動時之開始掃描樣本2的位置。以下使用第5圖，說明在光學特性測定裝置1中的掃描。
第5圖，是顯示在光學特性測定裝置1中的掃描區域R2。掃描區域R2，是在步驟S2～S4(掃描時)使樣本2移動的區域。如第5圖所示，掃描區域R2的一端為初始位置d0，另一端是結束掃描的結束位置d1。亦即，樣本2，是從初始位置d0被移動至結束位置d1為止。於本實施形態中，掃描區域R2，是被設定在包含對物光學系12的景深之區域R1的預定範圍(例如1mm區間)。藉此，於掃描區域R2，亦成為含有真的焦點位置df。
回到第4圖，其次，PC14，對控制單元15送出移動開始的指示信號，於掃描區域R2中，開始進行配置有樣本2之工作台61(第1圖)的移動(S2)。控制單元15，當接收到移動開始之指示時，便控制驅動部16的致動器62，開始進行在Z方向中之工作台61的移動。
樣本2的移動開始後，分光器13，係以預定的周期(例如1毫秒)偵測在樣本2中之照射光的反射光。分光器13，產生偵測結果的反射率資料D1後並依序輸出至PC14。PC14，便取得來自分光器13的反射率資料D1(S3)。
此時，控制單元15，特別是以不使分光器13的動作時間與工作台61的移動時間同步之方式，在預定的速度(例如0.5mm/秒)下使工作台61移動，當到達結束位置d1時通知PC14。分光器13的動作周期與工作台61的移動速度，例如是從在掃描區域R2中取得反射率資料D1的次數、或者相對於真的焦點位置df的許容誤差的觀點，來適當地設定。
PC14，是依據來自控制單元15的通知，來判斷樣本2的移動是否已結束(S4)。PC14，在接收到來自控制單元15之移動結束的通知為止，反覆進行步驟S3以後的處理(在S4為否)。藉此，取得於掃描區域R2中之複數的反射率資料D1，其中包含依據通過樣本2為真的焦點位置df時之反射光的反射率資料。複數的反射率資料D1，是從對物光學系12至樣本2為止的距離d在相互不同的狀態下所分別偵測出的反射率資料D1。
PC14，是在當判斷出樣本2的移動已結束之時(在S4為是)，對於已取得之複數的反射率資料D1的各個，依每一個反射率資料D1將反射光譜予以平均來計算平均反射率(S5)。具體上，PC14，是對於一個反射率資料D1，積算每一波長λ成分的反射率R後再計算平均值，並對複數的反射率資料D1之各個進行同樣的計算。
其次，PC14，是依據計算後的平均反射率，從已取得之複數的反射率資料D1之中，選擇具有最大的平均反射率的反射率資料(S6)。步驟S6的處理，是用以從已取得之複數的反射率資料D1之中，特定出可用於膜厚演算之反射率資料的處理。
其次，PC14，依據已選擇的反射率資料，藉由例如FFT法等來解析反射率資料所表示的反射率光譜，並算出樣本2的膜厚(S7)。對於步驟S7的處理，以下使用第6圖(a)、(b)具體地進行說明。
第6圖(a)，是顯示在步驟S6所選擇之反射率資料的一例。第6圖(b)，是例示出對第6圖(a)的反射率資料之解析結果的解析資料。
在第6圖(a)中，是例示出於第3圖所示之平均反射率(曲線C2)在峰值Pf的位置df所取得的反射率資料。PC14，是當在步驟S6選擇如第6圖(a)般的反射率資料時，將在所選擇的反射率資料中之波長光譜的波長λ變換波長數，並對變換後的資料執行FFT。此時，PC14，是使用例如樣本2的屈折率等之已預先設定的各種參數。
藉由如上述般的解析處理，從第6圖(a)的偵測資料取得第6圖(b)的解析資料。依據第6圖(b)，則與第6圖(a)中之波長區域的振動特性相對應的峰值Ps，是以膜厚單位來取得。PC14，是以在如此之膜厚單位中之峰值Ps的位置ds，作為樣本2的膜厚而計算出(S7)。
PC14，藉由計算出膜厚(S7)，而結束依第4圖的流程圖所進行的處理。
當依據以上的處理時，則在包含真的焦點位置df的掃描區域R2中，一邊使樣本2移動，一邊讀取複數的反射率資料D1(S2～S4)，使用具有最大的平均反射率的反射率資料求取膜厚(S5～S7)。藉此，無須特別地進行對焦、或是進行使分光器13的動作時間與工作台61的移動時間同步之複雜的控制，便能容易地進行膜厚的測定。又，在複數的反射率資料D1之中，可在最真的焦點位置df的近旁取得而特定出高精度的反射率資料(S6)，可以精度良好地進行膜厚的測定。
在以上的說明中，於步驟S3、S4中，控制單元15雖無須特別地使分光器13的動作時間與工作台61的移動時間同步，但使之同步亦可。例如，亦可以使工作台61階段性地移動、或是使反射率資料之取得時間的工作台61的Z位置與反射率資料具有相關連。
又，在以上的說明中，PC14，對於各反射率資料D1之平均反射率的計算是在步驟S4為「是」之後才進行，但並不限於此，例如亦可以在步驟S3從取得反射率資料D1之後依序地計算平均反射率。
3. 總結 　　如以上所述，本實施形態之光學特性測定裝置1，係具備：對物光學系12、分光器13、以及PC14。對物光學系12，是將從樣本2入射的偵測光之一例的反射光予以聚光。分光器13，是在樣本2與對物光學系12之間的光學距離為相互不同的狀態下，複數次地將經由對物光學系12所入射之樣本2的反射光予以分光，而產生複數之表示反射光的光譜之作為偵測資料的反射率資料D1。PC14，是解析反射率資料D1表示的光譜，來測定樣本2的膜厚等的光學特性。PC14，是依據在複數的反射率資料D1中之偵測光的大小(平均反射率)，對在光學特性的測定上所使用的偵測資料進行特定，依據所特定出的偵測資料，來測定光學特性。
當依據以上的光學特性測定裝置1時，從光學距離為相互不同之複數的反射率資料D1，對在光學特性的測定上所使用的偵測資料進行特定。藉此，依據來自樣本2的光，可以容易進行樣本2之光學特性的測定。
又，用以特定偵測資料之偵測光(反射光)的大小，並不限於反射率資料D1之所有反射率光譜的平均反射率。例如亦可以將所有反射率光譜之反射率R的合計值、或者在反射率光譜之一部分的波長帶中的反射率R的平均值、合計值，採用作為上述之偵測光的大小。
於本實施形態中，光學特性測定裝置1，更進一步地具有將照射光照射於樣本2的光源10。偵測光，是包含在樣本2中之照射光的反射光。PC14，測定樣本2的膜厚作為光學特性。藉此，依據來自樣本2的反射光，可以容易進行樣本2的膜厚測定。
又，於本實施形態中，分光器13，是在樣本2與對物光學系12之間的光學距離在預定範圍內有所變化的期間中，依據入射的偵測光而產生複數的偵測資料。預定範圍，是包含：由對物光學系12所形成之焦點位置df的掃描區域R2。藉此，於掃描區域R2中，取得樣本2在焦點位置df之通過中的偵測資料，將如此之偵測資料予以特定，而可以精度良好地執行樣本2之光學特性的測定。
又，於本實施形態中，PC14，是在複數的偵測資料之中，選擇偵測光之大小為最大的偵測資料，作為在光學特性的測定上所使用的偵測資料予以特定。藉此，可以將在上述複數的偵測資料之中最高精度的偵測資料使用在光學特性的測定上。
又，於本實施形態中，光學特性測定裝置1，更進一步地具備有驅動部16。驅動部16，是以使樣本2與對物光學系12之間的光學距離有所變化之方式，使樣本2移動。取代樣本2的移動、或是除此之外，光學特性測定裝置1，亦可以具備：含有使對物光學系12移動的致動器等的驅動部。
又，於本實施形態中，作為偵測部的分光器13，例如是由多通道型分光器所構成。分光器13，並不限於多通道型，亦可以採用各種各樣的分光器。
又，本實施形態的光學特性測定方法，是包含經由對物光學系12而將從樣本2入射的偵測光予以聚光的步驟。本方法，是包含：使分光器13，在樣本2與對物光學系12之間的光學距離為相互不同的狀態下，將複數次經由對物光學系12所入射的樣本2的偵測光予以分光，而產生表示各別之偵測光之光譜的複數的偵測資料的步驟。本方法，是包含：使PC14，依據在複數的偵測資料中之偵測光的大小，對樣本2在預定之光學特性的測定上所使用的偵測資料進行特定的步驟。本方法，是包含：使PC14，解析已特定之偵測資料表示的光譜，來測定光學特性的步驟。
當依據以上的光學特性測定方法時，依據來自樣本2的光，可以容易進行樣本2之光學特性的測定。
(實施形態2) 　　在實施形態1中，是從複數的反射率資料D1之中，選擇了位在真的焦點位置df近旁的反射率資料。在實施形態2中，是依據複數的反射率資料D1，進行位在真的焦點位置df之反射率資料的資料推斷。以下，對於本實施形態之光學特性測定裝置1，使用第7圖、第8圖進行說明。
第7圖，是顯示實施形態2之光學特性測定裝置1之動作的流程圖。第8圖，是用以說明實施形態2之光學特性測定裝置1的圖面。
本實施形態之光學特性測定裝置1，是在與實施形態1之光學特性測定裝置1相同的構成上，進行第7圖之流程圖所示的動作。於第7圖的流程圖中，光學特性測定裝置1的PC14，是執行用以推斷反射率資料的處理(步驟S5A、S6A)來取代第4圖的步驟S5、S6。對於反射率資料的推斷，使用第8圖(a)、(b)進行說明。
在第8圖(a)中，是顯示在第7圖的步驟S3、S4所取得之複數的反射率資料D1。藉由將在步驟S3、S4所取得之複數的反射率資料D1依順序地排列，如第7圖所示，可以確認位在Z方向上的反射率資料D1。在此，在本實施形態中，例如在真的焦點位置df(請參照第3圖)的正上方若是沒有取得反射率資料D1之情形時，從複數的反射率資料D1可以進行在真的焦點位置df中之反射率資料的推斷(請參照第8圖(b))。
具體上，於第7圖的流程圖中，PC14，是依據在步驟S3、S4所取得之複數的反射率資料D1，進行依每一波長λ成分的配適(fitting)(步驟S5A)。
於步驟S5A中，PC14，是從各反射率資料D1抽出相同波長λ成分的資料，如第8圖(a)所示，進行於RZ平面的曲線配適(curve fitting)。此時，位在Z方向上之資料的間隔，例如是以等間隔設定，對於曲線配適是使用二次函數等之預定的函數形式。藉由步驟S5A的處理，在各波長λ成分中，偵測出如第8圖(a)所示的峰值Pe。
其次，PC14，依據每一波長λ成分的配適結果，如第8圖(b)所示，產生推斷的反射率資料De(S6A)。例如，PC14，收集位在各波長λ成分中的峰值Pe，由各個峰值Pe以顯現波長光譜之方式來產生推斷的反射率資料De。如此之推斷的反射率資料De，係具有比作為產生來源的各偵測資料D1還大的反射率R。
PC14，係依據已產生之推斷的反射率資料De計算出膜厚(S7)。
藉由以上的處理，依據在步驟S3、S4所取得之複數的反射率資料D1所推斷的反射率資料De，是被特定作為用以測定膜厚等之光學特性的偵測資料。
於上述的步驟S6A，於收集在各波長λ成分中的峰值Pe來產生推斷的反射率資料De時，即使依每一波長λ成分之峰值Pe的Z位置沒有一致亦可。即使如此，藉由步驟S5A的配適，可以高精度地取得推斷的反射率資料De。
又，在步驟S6A中之推斷的反射率資料De的生成方法，並不限於上述的方法，例如，亦可以及於各波長λ成分地以具有共同的Z位置(與真的焦點位置df相對應)的方式產生推斷的反射率資料De。例如，PC14，將依每一波長λ成分之峰值Pe的Z位置予以平均化、或者參照預定值之波長λ成分的峰值Pe來決定Z位置，從步驟S5A的配適結果來收集相同Z位置的資料。
如以上所述，於本實施形態的光學特性測定裝置1中，PC14，是依據複數的偵測資料(D1)，產生偵測光之大小(反射率R)比各偵測資料還大之推斷的偵測資料(De)，特定作為在光學特性的測定上所使用的偵測資料。藉此，即使在真的焦點位置df的正上方沒有取得偵測資料之情形時，也可以特定出高精度的偵測資料，而使用在光學特性的測定上。
(另一實施形態) 　　在上述的實施形態1、2中，雖使用了驅動部16，但也可以不使用驅動部16。對於如此的變形例，參照第9圖進行說明。
第9圖，是顯示變形例之光學特性測定裝置1A之構成的方塊圖。本變形例之光學特性測定裝置1A，是與實施形態1之光學特性測定裝置1於相同的構成下，具備支撐樣本2的支撐部16A來取代驅動部16及控制單元15。
例如，於大型玻璃基板等之樣本2，樣本2本身會有自然地振動之情形。在如此之情形下，在光學特性測定裝置1A中，在樣本2本身振動的期間中，藉由在分光器13偵測複數的反射率資料D1，可以特定出適合於光學特性之測定上的反射率資料。此時，支撐部16A，例如是在樣本2之振動的振幅內以包含焦點位置df的方式被定位。
又，於光學特性測定裝置1A中，即使樣本2在振動中或者沒有特別地振動之情形時，亦可以以手動方式一邊使樣本2或對物光學系12移動，一邊以分光器13偵測出複數的反射率資料D1。即使在以手動方式使之移動時，是與如實施形態1以致動器62進行驅動之情形同樣地，可以特定出適合於光學特性之測定上的反射率資料。
在上述的各實施形態中，作為樣本2的光學特性雖是測定了膜厚，惟測定對象的光學特性並不限於膜厚，例如亦可以是樣本2的顏色、或是屈折率、反射率、衰減係數，也可以是螢光光譜或是螢光能量(fluorescence energy)等之螢光特性。測定螢光特性之情形時，在分光器13中，係產生表示螢光光譜的偵測資料。
又，測定螢光特性之情形時，例如在光學特性測定裝置1中作為光源10是採用發出激勵光的激勵光源。又，亦可以使樣本2電性地激勵來使之螢光發光，樣本2可自發光之情形時，則於光學特性測定裝置1中亦可以省略光源10。
又，在上述的各實施形態中，在產生複數的偵測資料之情形時，雖是使樣本2與對物光學系12之間的距離有所變化，但並不侷限於此，例如亦可以藉由各種光學元件來使樣本2與對物光學系12之間的光路徑長有所變化。在光學特性測定裝置1中，樣本2與對物光學系12之間的距離或者光路徑長等光學距離不同之複數的偵測資料被產生時，可以特定出適合於光學特性之測定上的偵測資料。
1、1A‧‧‧光學特性測定裝置2‧‧‧樣本10‧‧‧光源11‧‧‧光纖11a‧‧‧探頭端12‧‧‧對物光學系(光學系)12a‧‧‧第1透鏡12b‧‧‧第2透鏡13‧‧‧分光器(檢出部)14‧‧‧PC(解析部)15‧‧‧控制單元16‧‧‧驅動部16A‧‧‧支撐部17‧‧‧觀察單元61‧‧‧工作台62‧‧‧致動器71‧‧‧攝像機72‧‧‧觀察光源73‧‧‧觀察光學系C1‧‧‧膜厚的算出值之曲線C2‧‧‧平均反射率之曲線D1‧‧‧偵測資料(反射率資料)d‧‧‧距離d0‧‧‧初始位置df‧‧‧焦點位置d1‧‧‧結束位置Pf‧‧‧峰值R‧‧‧反射率R1‧‧‧景深的區域R2‧‧‧掃描區域
第1圖是顯示實施形態1之該光學特性測定裝置的構成的方塊圖。 　　第2圖是用以說明在光學特性測定裝置中的反射率資料的圖面。 　　第3圖是顯示關於光學特性測定方法的實驗結果的圖表。 　　第4圖是顯示實施形態1之該光學特性測定裝置的動作的流程圖。 　　第5圖是用以說明實施形態1之該光學特性測定裝置的動作的圖面。 　　第6圖是用以說明由光學特性測定裝置所進行之膜厚的算出方法的圖面。 　　第7圖是顯示實施形態2之該光學特性測定裝置的動作的流程圖。 　　第8圖是用以說明實施形態2之該光學特性測定裝置的圖面。 　　第9圖是顯示變形例之光學特性測定裝置的構成的方塊圖。
C1‧‧‧膜厚的算出值之曲線
C2‧‧‧平均反射率之曲線
d‧‧‧距離
df‧‧‧焦點位置
Pf‧‧‧峰值
R1‧‧‧景深的區域

Claims (9)

  1. 一種光學特性測定裝置，是具備：光學系，其係具有將從樣本入射的偵測光予以聚光的光軸和前述光軸上的焦點位置、及偵測部，其係於上述樣本通過上述光學系的焦點位置的掃描範圍中，在沿著上述光學系之光軸的上述樣本與上述光學系之間的光學距離為相互不同的狀態下，複數次將經由上述光學系所入射之樣本的偵測光進行分光，產生表示各個偵測光之光譜的複數的偵測資料、以及解析部，其係解析上述偵測資料所表示的光譜，並測定上述樣本之預定的光學特性；上述解析部，係於上述樣本沿著上述光軸而通過上述焦點位置的掃描範圍中，依據具有相互不同的光學距離之複數的偵測資料中之偵測光的大小，特定出使用在上述樣本的光學特性之測定上的偵測資料，依據已特定出的偵測資料，來測定上述光學特性。
  2. 如申請專利範圍第1項的光學特性測定裝置，其中，更具備：將照射光照射於上述樣本的光源，上述偵測光，是包含在上述樣本中之上述照射光的反射光，上述解析部，是以上述樣本的膜厚作為上述光學特性來進行測定。
  3. 如申請專利範圍第1項的光學特性測定裝置，其中，上述偵測部，是依據上述樣本與上述光學系之間的光學距離在預定範圍內變化的期間中所入射的偵測光，來產生上述複數的偵測資料，上述預定範圍，是包含由上述光學系所形成的焦點位置。
  4. 如申請專利範圍第1項的光學特性測定裝置，其中，上述解析部，是在上述複數的偵測資料之中，選擇上述偵測光之大小為最大的偵測資料，並特定作為使用在上述光學特性之測定上的偵測資料。
  5. 如申請專利範圍第1項的光學特性測定裝置，其中，上述解析部，是依據上述複數的偵測資料，來產生：上述偵測光的大小是比各偵測資料還大之推斷的偵測資料，並特定作為使用在上述光學特性之測定上的偵測資料。
  6. 如申請專利範圍第1項的光學特性測定裝置，其中，更具備：以使上述樣本與上述光學系之間的光學距離變化之方式，來使上述樣本及上述光學系之至少一方移動的驅動部。
  7. 如申請專利範圍第1項的光學特性測定裝置，其中，上述偵測部，是依據上述樣本在自然振動的期間中入射的偵測光，來產生上述複數的偵測資料。
  8. 如申請專利範圍第1項的光學特性測定裝置，其中，上述偵測部，是由多通道型分光器所構成。
  9. 一種光學特性測定方法，是包含：將經由具有光軸和上述光軸上的焦點位置的光學系從樣本所入射的偵測光予以聚光的步驟、及使偵測部，於上述樣本通過上述焦點位置的掃描範圍中，在沿著上述光學系之光軸的上述樣本與上述光學系之間的光學距離為相互不同的狀態下，複數次將經由上述光學系所入射之樣本的偵測光進行分光，產生表示各個偵測光之光譜的複數的偵測資料的步驟、及使解析部，依據於上述樣本沿著上述光軸而通過上述焦點位置的掃描範圍中具有相互不同的光學距離之複數的偵測資料中之偵測光的大小，特定出使用在上述光學特性之測定上的偵測資料的步驟、以及使上述解析部，解析已特定出之偵測資料所表示的光譜，來測定上述光學特性的步驟。
TW106140651A 2016-12-19 2017-11-23 光學特性測定裝置及光學特性測定方法 TWI756306B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016245796A JP6762221B2 (ja) 2016-12-19 2016-12-19 光学特性測定装置および光学特性測定方法
JP2016-245796 2016-12-19

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201830005A TW201830005A (zh) 2018-08-16
TWI756306B true TWI756306B (zh) 2022-03-01

Family

ID=62251176

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW106140651A TWI756306B (zh) 2016-12-19 2017-11-23 光學特性測定裝置及光學特性測定方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10168142B2 (zh)
JP (1) JP6762221B2 (zh)
KR (1) KR102341678B1 (zh)
CN (1) CN108204788B (zh)
DE (1) DE102017221960A1 (zh)
TW (1) TWI756306B (zh)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107036539B (zh) * 2017-06-14 2018-07-13 深圳中科飞测科技有限公司 膜厚测量系统及方法
JP7219463B2 (ja) * 2019-04-15 2023-02-08 大塚電子株式会社 光学ユニット、光学測定装置および光学測定方法
KR20210094328A (ko) * 2020-01-21 2021-07-29 삼성전자주식회사 대상체 인식 장치 및 그 동작 방법
KR20220021327A (ko) * 2020-08-13 2022-02-22 삼성전자주식회사 분광 계측 장치와 방법, 및 그 계측 방법을 이용한 반도체 소자 제조방법
CN113009292B (zh) * 2021-02-25 2021-12-28 西安交通大学 局部放电微光光谱探测器
DE102021124048A1 (de) * 2021-09-16 2023-03-16 Precitec Optronik Gmbh Optische Dickenmessvorrichtung

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050105103A1 (en) * 1999-05-24 2005-05-19 Luxtron Corporation Optical techniques for measuring layer thicknesses and other surface characteristics of objects such as semiconductor wafers
US20080285026A1 (en) * 2007-05-16 2008-11-20 Otsuka Electronics Co., Ltd. Optical characteristic measuring apparatus and measuring method using light reflected from object to be measured
TWM504949U (zh) * 2015-03-24 2015-07-11 Radiation Technology Co Ltd 薄膜量測設備

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2924514B2 (ja) * 1992-11-13 1999-07-26 日産自動車株式会社 断面形状測定装置
JP3789515B2 (ja) * 1994-12-02 2006-06-28 株式会社キーエンス 膜厚測定機能付光学顕微鏡
US6567172B1 (en) * 2000-08-09 2003-05-20 International Business Machines Corporation System and multipass probe for optical interference measurements
KR100947464B1 (ko) * 2008-02-13 2010-03-17 에스엔유 프리시젼 주식회사 두께 측정장치
JP5309359B2 (ja) 2008-06-20 2013-10-09 大塚電子株式会社 膜厚測定装置および膜厚測定方法
JP5468836B2 (ja) * 2009-07-28 2014-04-09 株式会社 光コム 測定装置及び測定方法
JP5870576B2 (ja) * 2011-09-22 2016-03-01 オムロン株式会社 光学計測装置
JP6044315B2 (ja) * 2012-12-12 2016-12-14 オムロン株式会社 変位計測方法および変位計測装置
JP2014202642A (ja) * 2013-04-05 2014-10-27 オリンパス株式会社 光学素子の面間隔測定装置および面間隔測定方法
JP6196119B2 (ja) * 2013-10-11 2017-09-13 大塚電子株式会社 形状測定装置及び形状測定方法
JP2016024009A (ja) * 2014-07-18 2016-02-08 株式会社ミツトヨ 厚さ測定装置及び厚さ測定方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050105103A1 (en) * 1999-05-24 2005-05-19 Luxtron Corporation Optical techniques for measuring layer thicknesses and other surface characteristics of objects such as semiconductor wafers
US20080285026A1 (en) * 2007-05-16 2008-11-20 Otsuka Electronics Co., Ltd. Optical characteristic measuring apparatus and measuring method using light reflected from object to be measured
TWM504949U (zh) * 2015-03-24 2015-07-11 Radiation Technology Co Ltd 薄膜量測設備

Also Published As

Publication number Publication date
KR102341678B1 (ko) 2021-12-20
US10168142B2 (en) 2019-01-01
US20180172431A1 (en) 2018-06-21
JP6762221B2 (ja) 2020-09-30
KR20180071171A (ko) 2018-06-27
CN108204788A (zh) 2018-06-26
DE102017221960A1 (de) 2018-06-21
JP2018100853A (ja) 2018-06-28
TW201830005A (zh) 2018-08-16
CN108204788B (zh) 2021-11-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI756306B (zh) 光學特性測定裝置及光學特性測定方法
KR102456213B1 (ko) 이미징 기반 오버레이 계측을 위한 포커스 최적화를 위한 시스템 및 방법
TWI292030B (en) High density multi-channel detecting device
TWI634311B (zh) 形狀測定裝置及形狀測定方法
TW201037266A (en) Film thickness measurement device and measurement method
CN107037437B (zh) 厚度测量装置及厚度测量方法
KR20130039005A (ko) 3차원 형상 및 두께 측정 장치
JP6387610B2 (ja) 生体情報測定装置
KR20190082744A (ko) 색채 공초점 센서에 의한 광학 표면 측정을 위한 방법 및 디바이스
TW479129B (en) Illumination and imaging device for multiple spectral regions, and coordinate measuring machine having an illumination and imaging device for multiple spectral regions
KR101987402B1 (ko) 편광픽셀어레이를 이용한 박막과 후막의 두께 및 삼차원 표면 형상 측정 광학 장치
KR101541602B1 (ko) 저간섭성 광원과 분산형 간섭계를 이용한 다축 측정 광학 갭 센서 장치 및 광학 갭 센서를 이용한 다축 측정 광학 갭 센싱 방법
EP1889019A1 (en) A spectrometric apparatus for measuring shifted spectral distributions
CN110779874B (zh) 一种光学参数与形貌同时测量的装置
JP2011021948A (ja) 粒子径測定装置
US20150057972A1 (en) Measuring apparatus and measuring method
JP2006300533A (ja) 近赤外分光分析計
JP2006300808A (ja) ラマン分光測定装置
JP7358204B2 (ja) 膜厚測定装置および膜厚測定方法
JP2006300664A (ja) フーリエ分光装置，測定タイミング検出方法
JP2012194007A (ja) Ａｔｒマッピング方法及びａｔｒマッピング装置