TWI754482B - 元件安裝裝置 - Google Patents

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TWI754482B TW109143542A TW109143542A TWI754482B TW I754482 B TWI754482 B TW I754482B TW 109143542 A TW109143542 A TW 109143542A TW 109143542 A TW109143542 A TW 109143542A TW I754482 B TWI754482 B TW I754482B
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大河原聡史
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日商芝浦機械電子裝置股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種元件安裝裝置,其不存在使元件或轉印工具破損的擔憂,可準確地測量自轉印工具至元件為止的距離。實施方式的元件安裝裝置(1)包括:接觸感測器部(54),設置於轉印頭(53),測量至基準基板(P)為止的距離及至基準基板(Q)為止的距離;轉印工具(6),可裝卸地設置於轉印頭(53),自由供給台(3)支持的供給基板(R)拾取多行多列的元件(T),將已拾取的元件(T)配置於安裝基板(S);第一非接觸感測器(71),以非接觸方式測量至基準基板(P)為止的距離及至供給基板(R)上的元件(T)為止的距離;第二非接觸感測器(72),以非接觸方式測量至基準基板(Q)為止的距離及至安裝基板(S)為止的距離;以及第三非接觸感測器(73),以非接觸方式測量至相向的轉印頭(53)為止的距離及至相向的轉印工具(6)為止的距離。

Description

元件安裝裝置
本發明是有關於一種元件安裝裝置。
將半導體元件、電阻及電容器等元件安裝於形成有電路圖案的基板的元件安裝裝置正在普及。元件安裝裝置具有於貯存有元件的供給基板與安裝元件的安裝基板之間往返的元件的移送部。移送部自供給基板一個一個地拾取元件,保持元件並搬送至安裝基板為止,而將元件配置於安裝基板上。於安裝基板形成有各向異性導電膜(Anisotropic Conductive Film,ACF)、各向異性導電膠(Anisotropic Conductive Paste,ACP)、非導電膜(Non Conductive Film,NCF)、非導電膠(Non Conductive Paste,NCP)或均質共晶焊料等接合材料,經由所述接合材料來將元件安裝於安裝基板。
近年來,元件的微小化正以非常快的速度發展。亦提出有一邊的尺寸為50 μm或10 μm這樣的200 μm以下的元件。該些元件例如為50 μm或10 μm這樣的迷你發光二極體(Light Emitting Diode,LED)或微型LED,作為紅綠藍(Red Green Blue,RGB)的各畫素而呈陣列狀(矩陣狀)地排列於顯示器用的顯示基板,另外,作為背光源的發光體而排列於照明基板。當將LED作為畫素裝載於顯示基板時,若顯示基板對應於4K,則於RGB中的一色中必須將至少800萬個以上的LED安裝於顯示基板,一個一個地安裝元件於生產效率方面存在問題。
因此,提出有一次拾取多行多列的元件來安裝於安裝基板,藉此改善生產效率的方案。移送部包括保持多行多列的元件的轉印工具,利用所述轉印工具來一併拾取多行多列的元件,且一併安裝。根據所述元件安裝裝置,可將移送部的往返次數削減至使可由移送部一次保持的元件的數量來除供給基板上的全部元件的數量所得的次數。
作為利用轉印工具的元件的保持方法,使用真空吸附或靜電吸附等吸附。於任一情況下,均於轉印工具配設有多行多列的保持部。於採用真空吸附的情況下,保持部為吸引孔。各吸引孔與具有噴射器等的氣壓迴路連接,於各吸引孔產生負壓。移送部利用負壓將元件吸附於轉印工具的吸引孔,藉此自供給基板一併拾取元件,搬送至基板為止,藉由真空破壞或大氣開放等來解除負壓,藉此將元件配置並安裝於安裝基板上。於採用靜電吸附的情況下,保持部為台面形結構體。於基底基板形成多個台面形結構體,於台面形結構體設置電極及電介質層。具有所述台面形結構體的靜電力產生部變成針對元件的局部的吸附點,利用由電壓的施加所產生的靜電力來將元件一併吸附於各靜電力產生部。而且,藉由解除電壓的施加來將元件配置並安裝於安裝基板上。
於元件的拾取中,若拾取元件的轉印工具的相對於元件的移動距離不足,則轉印工具無法充分地吸附元件,元件的拾取失敗,若轉印工具過度移動,則轉印工具過度地觸碰元件,存在元件或轉印工具破損的擔憂。另外,於朝安裝基板上的元件的配置中,若保持元件的轉印工具的相對於安裝基板的移動距離不足,則轉印工具無法將元件充分地按壓於安裝基板,元件的配置失敗,若轉印工具過度移動,則轉印工具過度地按壓元件,存在元件或轉印工具破損的擔憂。因此,必須準確地測量自轉印工具至被拾取的元件為止的距離或至安裝基板為止的距離。
作為測量該些距離的方法,有使用非接觸感測器的非接觸方式與使用接觸感測器的接觸方式。於採用非接觸方式的情況下,非接觸感測器例如為雷射位移計,對元件照射雷射並根據其反射光來測量至該元件為止的距離。於採用接觸方式的情況下,使元件與轉印工具接觸,測量至接觸感測器檢測到接觸的時間點為止的轉印工具的移動量。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2015-230946號公報
[發明所欲解決之課題] 接觸方式於距離的測量中伴隨轉印工具與元件與的接觸。因此,為了高精度地進行測量,而避免接觸中的轉印工具的彈性變形,因此轉印工具適宜的是由金屬或陶瓷、矽等硬的構件來形成。
但是,當將金屬或陶瓷、矽等硬的構件用於轉印工具時,由於元件微小,因此由接觸所產生的施加至元件或轉印工具的應力高,存在元件或轉印工具破損的擔憂。另一方面,當將樹脂等軟的構件用於轉印工具時,轉印工具因與元件的接觸而進行彈性變形,因此所測量的自轉印工具至元件為止的距離的準確性喪失。
使用非接觸感測器的非接觸方式於將要測定距離的情況下,必須事先使轉印工具接觸基準面等,將轉印工具的上下方向位置與非接觸感測器的測量值結合。此時,由於伴隨轉印工具的接觸,因此仍然存在與接觸方式相同的不良情況的可能性。
本發明是為了解決如上所述的課題而形成的發明,其目的在於提供一種不存在使元件或轉印工具破損的擔憂,可準確地測量自轉印工具至元件為止的距離的元件安裝裝置。 [解決課題之手段]
本發明的元件安裝裝置包括:供給台,具有支持基準基板、或元件排布成陣列狀的供給基板的盤面;安裝台,具有支持基準基板、或配置排布成所述陣列狀的元件的安裝基板的盤面;轉印頭,於所述供給台與所述安裝台排列的方向上移動,並且於從自所述供給台的所述盤面朝相向方向離開的第一規定位置至所述供給台為止之間、及從自所述安裝台的所述盤面朝相向方向離開的第二規定位置至所述安裝台為止之間移動;以及接觸感測器部,設置於所述轉印頭,檢測所述轉印頭與由所述供給台或所述安裝台支持的所述基準基板接觸,藉此測量自所述第一規定位置至由所述供給台支持的所述基準基板為止的距離、及自所述第二規定位置至由所述安裝台支持的所述基準基板為止的距離。
進而,本發明的元件安裝裝置包括:轉印工具,可裝卸地設置於所述轉印頭,自由所述供給台支持的所述供給基板拾取多行多列的元件,將已拾取的元件配置於所述安裝基板;第一非接觸感測器,以非接觸方式測量從自所述供給台的所述盤面朝相向方向離開的第三規定位置,至由所述供給台支持的所述基準基板為止的距離及至由所述供給台支持的所述供給基板上的元件為止的距離;第二非接觸感測器,以非接觸方式測量從自所述安裝台的所述盤面朝相向方向離開的第四規定位置,至由所述安裝台支持的所述基準基板為止的距離及至由所述安裝台支持的所述安裝基板為止的距離;第三非接觸感測器,設置於所述供給台與所述安裝台之間,以非接觸方式測量至相向的所述轉印頭為止的距離及至相向的所述轉印工具為止的距離;以及控制部,根據所述接觸感測器部、所述第一非接觸感測器、所述第二非接觸感測器、及所述第三非接觸感測器已測量的距離,控制所述轉印頭的移動。 [發明的效果]
根據本發明,可提供一種不存在使元件或轉印工具破損的擔憂,可準確地測量自轉印工具至元件為止的距離的元件安裝裝置。
[實施方式] [結構] (概略結構) 圖1是表示實施方式的元件安裝裝置1的結構的示意圖。如圖1所示,將供給基板R與安裝基板S搬入元件安裝裝置1內。供給基板R是使元件T排布成陣列狀(矩陣狀)來貯存的矩形的元件供給體。元件T是用於電子電路的零件,包含微機電系統(Micro Electro Mechanical System,MEMS)、半導體元件、電阻及電容器等晶片,於半導體元件中包含電晶體、二極體、LED及閘流體等離散半導體,以及積體電路(Integrated Circuit,IC)或大型積體電路(Large Scale Integration,LSI)等積體電路。於LED中包含所謂的迷你LED及微型LED。尤其,於元件T中包含一邊為200 μm以下的所謂的微小零件。安裝基板S形成有電路圖案,例如為迷你LED進行排布的背光源用的照明基板、RGB的各微型LED作為畫素來排列的顯示基板。
所述元件安裝裝置1包括:支持供給基板R的供給台3、支持安裝基板S的安裝台4、以及將元件T自供給基板R轉移至安裝基板S的移送部5。於所述元件安裝裝置1設定有位置固定的拾取位置21及安裝位置22,移送部5於拾取位置21上自供給基板R拾取元件T,另外,於安裝位置22上將元件T配置並安裝於安裝基板S。即,拾取位置21是移送部5拾取元件T的位置,安裝位置22是移送部5配置已拾取的元件的位置。
供給台3可在與盤面平行的二維方向(本實施方式中為水平方向)上移動。供給台3以使於供給基板R上排布成陣列狀(矩陣狀)的元件T之中,成為拾取對象的多行多列的元件T位於拾取位置21的方式移動。安裝台4可在與盤面平行的二維方向上移動。安裝台4以使安裝基板S上的電路圖案之中,藉由移送部5來安裝多行多列的元件T的電路圖案的位置位於安裝位置22的方式移動。移送部5自供給基板R一併拾取多行多列的元件T,並將已拾取的元件T一併轉移至安裝基板S。元件安裝裝置1使移送部5多次運轉,將多行多列的元件T連續多次轉移至安裝基板S,藉此製造元件T排列成陣列狀(矩陣狀)的元件安裝基板。
再者,經轉移的元件T最終與安裝基板S電性接合及/或機械式接合。於安裝基板S上,例如事先形成有ACF、ACP、NCF、NCP或均質共晶焊料等接合材料,已被配置於接合材料上的元件T保持於接合材料上。如上所述的接合材料具有黏著性或接著性,藉此保持元件T,而將元件T安裝於安裝基板S。另外,利用加熱、冷卻、加壓等,藉由合金接合、導電粒子壓著、樹脂硬化、凸塊壓接等來將安裝基板S與元件T電性連接及/或機械式連接,藉由接合材料硬化,而最終將安裝基板S與元件T接合。所述最終的接合可藉由元件安裝裝置1的移送部5或安裝台4來進行,亦可藉由元件安裝裝置1的內部或外部的其他裝置來進行。不論有無最終的接合處理,將元件T轉移並配置、保持於安裝基板S,均是進行安裝。
供給台3於支持供給基板R之前支持基準基板P。安裝台4於支持安裝基板S之前支持基準基板Q(參照圖5的(a)及圖5的(b))。基準基板P、基準基板Q例如為包含玻璃,用於藉由後述的接觸感測器部54來檢測與移送部5接觸的虛設基板,所述接觸感測器部54設置於移送部5。
藉由接觸感測器部54來檢測移送部5與基準基板P、基準基板Q的接觸,事先測量移送部5自供給基板R拾取元件T時相對於供給台3的盤面在垂直方向上移動的移動量,另外,事先測量移送部5將已拾取的元件T轉移至安裝基板S時相對於安裝台4的盤面在垂直方向上移動的移動量。若利用所述接觸感測器部54及後述的非接觸感測器71~非接觸感測器73的測量結束,則自元件安裝裝置1內去除基準基板P、基準基板Q,將供給基板R與安裝基板S搬入元件安裝裝置1內來代替。
(詳細結構) 供給台3具有平坦的盤面(載置面),於該盤面支持供給基板R。安裝台4具有平坦的盤面(載置面),於該盤面支持安裝基板S。該些供給台3及安裝台4的盤面分別由包含正交的雙軸的直動機構31、直動機構41支持,可在與盤面平行的二維方向上移動。直動機構31、直動機構41例如包含線性導軌及滾珠螺桿,供給台3及安裝台4的盤面分別由所述直動機構31、直動機構41的滑件支持。
供給台3藉由利用直動機構31的二維方向的平行移動,而變更被定位於拾取位置21的拾取區域32。拾取區域32是供給基板R上的位置,該區域的多行多列的元件T由轉印工具6一併拾取。即,拾取區域32是將存在預定拾取的多行多列的元件T的範圍作為一單位來設定的範圍。換言之,拾取區域32是如圖1中於供給基板R上由虛線所示的虛擬的區域,所述虛擬的區域包圍包含多行多列的元件T的元件群,大小與存在所述元件群的區域相同。因此,於供給基板R上,對應於元件T的排列而呈矩陣狀地存在多個拾取區域32,每當利用移送部5進行拾取時,將拾取區域32定位於拾取位置21。
安裝台4藉由利用直動機構41的二維方向的平行移動,而變更被定位於安裝位置22的安裝區域42。安裝區域42是安裝基板S上的位置,且為藉由轉印工具6來一併安裝多行多列的元件T的範圍。換言之,安裝區域42是如圖1中於安裝基板S上由虛線所示的虛擬的區域,所述虛擬的區域包圍包含多行多列的元件T的元件群,大小與配置所述元件群的區域相同。安裝區域42對應於被安裝於安裝區域42上的元件T的排列,以矩陣狀的配置設定於安裝基板S上。而且,每當利用移送部5進行安裝時,將各安裝區域42定位於安裝位置22。
移送部5經由升降機構52而由直動機構51支持,可朝拾取位置21及安裝位置22移動。直動機構51例如為線性導軌及滾珠螺桿,架設於拾取位置21與安裝位置22之間,以面對供給基板R的排列有元件T的面與安裝基板S的排列有安裝區域42的面的方式延設。升降機構52例如為線性導軌及滾珠螺桿,由直動機構51的滑件支持,在與供給基板R及安裝基板S接觸/分離的方向(於本實施方式中,相對於水平方向垂直地相交的鉛垂方向,即上下方向)上延設。移送部5由所述升降機構52的滑件支持。
移送部5包括轉印頭53。如圖2所示,轉印頭53的與供給台3、安裝台4相向的面變成接觸面531。轉印工具6可裝卸地裝配於所述接觸面531。於接觸面531設置有與後述的轉印工具6的作為吸引孔的保持部62連通的吸引孔。藉由於所述吸引孔產生負壓而可將元件T吸附保持於轉印工具6。
轉印工具6由具有彈性的構件形成,包括保持面61。保持面61是於拾取位置21上與供給基板R面對面,另外,於安裝位置22上與安裝基板S面對面的轉印工具6的端面。於所述保持面61配設有保持部62。保持部62排布成多行多列,一個保持部62保持一個元件T。保持部62例如為直徑比元件T的邊長更小的吸引孔,藉由真空吸附來吸附保持元件T。各保持部62藉由於連通的接觸面531的吸引孔產生負壓來吸附元件T,於產生負壓的期間保持元件T,藉由真空破壞或大氣開放等來解除負壓,藉此放開元件T。再者,保持部62的行數、列數與在供給基板R上排布成陣列狀的元件T的行數、列數可不一致,亦可一致。此處,保持部62的行數、列數與在供給基板R上排布成陣列狀的元件T的行數、列數不一致,保持部62的行數、列數比在供給基板R上排布成陣列狀的元件T的行數、列數更少。保持部62的配置間隔與在供給基板R上排布的元件T的配置間隔一致。
另外,轉印頭53可用於在供給基板R與安裝基板S的搬入前所進行的與元件T的拾取及配置相關的移送部5的移動距離的測量。此時,基準基板P、基準基板Q分別由供給台3與安裝台4支持。即,轉印頭53使其接觸面531朝支持於供給台3上的基準基板P、或支持於安裝台4上的基準基板Q相向。接觸面531亦為例如包含金屬或陶瓷這樣的硬的構件,藉由移送部5的移動而與基準基板P的盤面或基準基板Q的盤面接觸的面。
於轉印頭53設置有接觸感測器部54(參照圖1)。接觸面531與基準基板P、基準基板Q的接觸藉由設置於轉印頭53的所述接觸感測器部54來檢測。接觸感測器部54例如包含接觸感測器與編碼器。接觸感測器例如為渦流感測器等間隙感測器。接觸感測器探測藉由轉印頭53的接觸面531與基準基板P、基準基板Q接觸而產生的移送部5上的轉印頭53的相對移動。編碼器檢測轉印頭53的移動量。
接觸感測器部54根據所述接觸感測器已檢測的接觸資訊、及由編碼器所檢測的至接觸基準基板P或基準基板Q為止的接觸面531的移動量資訊,測量自轉印頭53的初期位置(規定位置)至基準基板P為止的距離A及至基準基板Q為止的距離B。再者,後述的控制部8將接觸面531相對於基準基板P或基準基板Q的盤面在垂直方向上開始接近的規定位置(初期位置)作為第一規定位置X1或第二規定位置X2來記憶。換言之,第一規定位置X1是接觸面531自供給台3朝鉛垂方向(相向方向)離開來面對供給台3的盤面的位置,第二規定位置X2是接觸面531自安裝台4朝鉛垂方向(相向方向)離開來面對安裝台4的盤面的位置(參照圖5的(a)及圖5的(b))。即,將自第一規定位置X1至基準基板P為止的距離作為距離A來檢測,將自第二規定位置X2至基準基板Q為止的距離作為距離B來檢測。再者,於本實施方式中,將第一規定位置X1與第二規定位置X2設為相同的高度位置。
若回到圖1,則元件安裝裝置1包括三個非接觸感測器71、72、73。非接觸感測器71~非接觸感測器73例如為對檢測對象照射雷射,測量至對象為止的距離的雷射位移計。如圖6、圖7所示,非接觸感測器71(第一非接觸感測器)測量至由供給台3支持的基準基板P為止的距離C、及至供給基板R上的拾取對象的多行多列的元件T為止的距離F。非接觸感測器72(第二非接觸感測器)測量至由安裝台4支持的基準基板Q為止的距離E、及至安裝基板S為止的距離H。非接觸感測器73(第三非接觸感測器)測量至設置於移送部5的轉印頭53的接觸面531為止的距離D、及至轉印工具6的保持面61為止的距離G。再者,非接觸感測器71~非接觸感測器73所測量的距離C~距離H的起點例如為非接觸感測器71~非接觸感測器73的光源的位置,但只要可設定,則亦可為非接觸感測器71~非接觸感測器73的任一位置。
非接觸感測器71、非接觸感測器72可與移送部5一體地移動。即,非接觸感測器71、非接觸感測器72以與移送部5的相對位置不變的方式,經由升降機構52而由直動機構51支持。例如,如圖1所示,藉由未圖示的托架而裝載於移送部5的轉印頭53。即,非接觸感測器71、非接觸感測器72可朝拾取位置21及安裝位置22移動。因此,非接觸感測器71、非接觸感測器72可於拾取位置21及安裝位置22上進行各距離的測量。另外,非接觸感測器71、非接觸感測器72根據感測器的種類,存在可適當地測量的距離範圍。於此種情況下,可藉由升降機構52來調整至測定對象為止的間隔,而可設為能夠適當地進行測量的距離的範圍內。
非接觸感測器71當測定至供給台3上的基準基板P為止的距離C、至供給基板R上的多個元件T為止的距離F時,於拾取位置21上進行雷射照射。於測定距離F的情況下,作為雷射照射的對象的元件T由後述的控制部8事先設定,例如為成為拾取對象的位於供給基板R上的規定的拾取區域32內的多行多列的元件T的中心的元件T。另外,於測定距離C的情況下,未必需要是拾取位置21,只要是可測量至基準基板P的盤面為止的距離的位置,則可為任何位置。
另外,非接觸感測器72當測定至安裝台4上的基準基板Q為止的距離E、至安裝基板S為止的距離H時,於安裝位置22上進行雷射照射。作為雷射照射的對象的位置由後述的控制部8事先設定,例如可設為安裝基板S上的規定的安裝區域42的中心位置。另外,於測定距離E的情況下,未必需要是安裝位置22,只要是可測量至基準基板Q的盤面為止的距離的位置,則可為任何位置。
非接觸感測器73設置於移送部5的移送路徑的正下方的供給台3與安裝台4之間。於使轉印頭53的接觸面531或轉印工具6的保持面61停止在與該非接觸感測器73相向的位置的狀態下,非接觸感測器73對接觸面531或保持面61進行雷射照射,測量至接觸面531為止的距離D及至保持面61為止的距離G。
元件安裝裝置1進而包括控制各結構的控制部8。控制部8例如為控制元件安裝裝置1的各結構的具有中央處理單元(Central Processing Unit,CPU)、唯讀記憶體(Read Only Memory,ROM)、隨機存取記憶體(Random Access Memory,RAM)及訊號發送電路的電腦或微電腦,與供給台3、安裝台4及移送部5的驅動源,以及各感測器連接。
圖3是控制部8的功能塊圖。如圖3所示,控制部8包括:記憶部81、運算部82、判定部83、移動控制部84。記憶部81是硬磁碟驅動機(Hard Disk Drive,HDD)或固態硬碟(Solid State Drive,SSD)等記錄介質。於記憶部81中事先記憶系統的運作所需要的資料、程式,另外,記憶系統的運作所需要的資料。更詳細而言,記憶部81記憶已自各感測器接收的資料或運算部82根據該些資訊所算出的數值、第一規定位置X1及第二規定位置X2、用戶可設定的成為雷射照射對象的元件T的位置等。控制部8接收設置於轉印頭53的接觸感測器部54已測量的該轉印頭53的移動量資訊,即自第一規定位置至基準基板P為止的距離A、自第二規定位置至基準基板Q為止的距離B。控制部8的記憶部81記憶已接收的距離A及距離B。另外,控制部8自非接觸感測器71~非接觸感測器73接收距離C~距離H的資訊,控制部8的記憶部81記憶已接收的距離C~距離H的資訊。運算部82對所述距離A~距離H進行運算,算出與拾取及配置相關的移送部5的移動量。
所述距離A~距離H的各距離分別可於基準基板P、基準基板Q、供給基板R、安裝基板S的盤面,接觸面531或保持面61的各者的任一位置進行測量。另外,針對基準基板P、基準基板Q、供給基板R、安裝基板S的盤面,亦可於可在供給基板R、安裝基板S各者中設想多個的拾取區域或安裝區域中的任一區域進行測量。另外,亦可於多個區域進行測量。若要求出更嚴密的測量結果,則關於各距離,亦可將於基準基板P、基準基板Q、供給基板R、安裝基板S的盤面,接觸面531或保持面61各者的多個部位所測量的數值朝控制部8發送,將控制部8的運算部82將該於多個部位所測量的數值加以平均所得者設為距離A~距離H。例如,亦可自規定的拾取區域32內的多行多列的元件T之中,位於四角的元件T分別測定距離F1~距離F4,並將距離F設為距離F=(F1+F2+F3+F4)/4。控制部8的運算部82進行此種各距離的平均值的算出。
判定部83針對各距離A~H,判定各者的測量值是否適當(是否正常)。對各個距離的測量值設定規定的閾值,根據所述規定的閾值來判定各測量值是否適當。於判斷為不適當的情況下,進行再次的測量、或進行報告。於需要作為判定對象的測量值的範圍內適宜決定各個閾值。另外,於記憶部81中記憶各規定的閾值。
例如,於距離A、距離B的情況下,能夠以各距離為設計上所算出的值的+5%的方式設定閾值。於經測量的距離處於所述閾值範圍內的情況下,判定部83判定為適當。於為所述閾值範圍外的情況下,可判斷為規定的基準位置偏離,接觸感測器部54不正常,異物附著於接觸面,或者基準基板P、基準基板Q未水平地載置,供給台3或安裝台4的盤面並不水平等異常。
例如,於距離C、距離F的情況下,針對距離C與距離F的差值設定規定的閾值,判定部83可根據所述閾值來判定距離C或距離F的任一者並非適當的測量。例如,可判斷為基準基板P、供給基板R未水平地載置,雷射的照射位置偏離,元件T欠缺,元件T的倒塌等姿勢的異常,元件T未被正確地定位於雷射的照射位置(拾取位置21)等異常。
另外,距離E、距離H亦可同樣地根據距離E與距離H的差值,判斷基準基板Q或安裝基板S未水平地載置等異常。
例如,於距離D、距離G的情況下,對距離D與距離G的差值設定規定的閾值,判定部83可根據所述閾值來判定距離D或距離G的任一者並非適當的測量。例如,可判斷轉印工具6未適當地裝配等異常。
進而,例如於將距離F設為多個距離F1~F4的平均來求出的情況下,在算出距離F之前,判定部83可根據非接觸感測器71已測量的距離F1~距離F4的差是否超過規定的閾值,判定包含進行了測量的元件T的元件群是否適合進行安裝。所謂距離F1~距離F4的差,例如為距離F1~距離F4中的最大值與最小值的差、或者距離F1~距離F4中的最大值或最小值與距離F1~距離F4的平均值的差。於供給基板R上排布成陣列狀(矩陣狀)的元件T例如因製造上的誤差而導致厚度存在不均,其中存在超過容許範圍突出或凹陷的情況。若將此種元件T作為雷射照射對象來求出距離F,則與多行多列的元件T的拾取相關的移送部5的移動量會產生誤差、或存在拾取失敗的擔憂。因此,設定規定的閾值,判定部83根據所述規定的閾值來判定包含雷射照射對象的元件T的元件群是否適合進行安裝。即,於因製造上的誤差等而存在超過容許範圍突出或稍微凹陷的元件T的情況下,可藉由判定部83來判定包含所述元件T的元件群不適合利用轉印工具6的拾取,並將其自拾取的對象中排除。即,可將該元件群自安裝對象中排除。再者,所述規定的閾值被記憶於記憶部81中。另外,測量距離F1~距離F4的多個元件T於元件群(拾取區域32)中均等地分散比集中於一部分更佳。
此處,於將被判定為不適當的元件群(拾取區域32)自拾取對象中排除的情況下,可先將該拾取區域32的位置資訊記憶於記憶部81中,於元件T的移送時以該拾取區域32直接穿過拾取位置21的方式進行控制。
移動控制部84控制元件安裝裝置1的各結構,即供給台3、安裝台4、移送部5的移動。所述控制是基於已被事先記憶於記憶部81中的系統的運作所需要的資料、程式、運算部82的運算結果、判定部83的判定結果等的控制,但例如亦可為基於自未圖示的輸入裝置輸入的用戶的命令的控制。
[動作] 如上所述,移送部5自供給基板R拾取元件T,朝安裝基板S移送,將元件T配置並安裝於安裝基板S。
首先,算出移送部5應自用於拾取的初期位置朝供給基板R移動的距離、應朝用於配置的安裝基板S移動的距離。根據所述已算出的各距離,進行元件T的拾取及配置。
(移送部應移動的距離的算出) 圖4是表示本實施方式的各距離的測量動作的一例的流程圖。作為對所述動作進行說明的前提,設為事先於供給台3的盤面配置有基準基板P,於安裝台4的盤面配置有基準基板Q者。另外,設為於移送部5的轉印頭53未設置轉印工具6者。
如圖5的(a)所示,首先使移送部5朝作為供給台3的上方的位置的第一規定位置X1移動。其次,使移送部5自第一規定位置X1朝基準基板P移動,檢測到移送部5已接觸基準基板P的盤面後使其停止。具體而言,藉由直動機構51來使移送部5所包括的轉印頭53的接觸面531朝第一規定位置X1移動,然後使位於第一規定位置X1的接觸面531朝基準基板P的盤面移動。若接觸面531接觸基準基板P的盤面,則轉印頭53的接觸感測器部54所包括的接觸感測器檢測接觸面531的接觸,轉印頭53停止。接觸感測器部54的編碼器測量此時的自第一規定位置X1起的移動量,控制部8接收所述移動量資訊。控制部8的記憶部81將所述移動量作為距離A來記憶(步驟S01)。換言之,距離A是轉印頭53自第一規定位置X1移動至基準基板P的盤面為止的距離。
如圖5的(b)所示,作為自第二規定位置X2至由安裝台4支持的基準基板Q的盤面為止的距離的距離B亦與距離A同樣地測量。首先,使移送部5朝作為安裝台4的上方的位置的第二規定位置X2移動。其次,使移送部5自第二規定位置X2朝基準基板Q移動,檢測到移送部5已接觸基準基板Q的盤面後使其停止。具體而言,藉由直動機構51來使移送部5所包括的轉印頭53的接觸面531朝第二規定位置X2移動,然後使位於第二規定位置X2的接觸面531朝基準基板Q的盤面移動。若接觸面531接觸基準基板Q的盤面,則轉印頭53的接觸感測器部54所包括的接觸感測器檢測接觸面531的接觸,轉印頭53停止。接觸感測器部54的編碼器測量此時的自第二規定位置X2起的移動量,控制部8接收所述移動量資訊。控制部8的記憶部81作為距離B來記憶所述移動量(步驟S02)。換言之,距離B是轉印頭53自第二規定位置X2移動至基準基板Q的盤面為止的距離。
繼而,如圖6所示,使用非接觸感測器71、非接觸感測器72,測量自非接觸感測器71至基準基板P的盤面為止的距離、自非接觸感測器72至基準基板Q的盤面為止的距離。控制部8自非接觸感測器71、非接觸感測器72接收所述測量資訊,控制部8的記憶部81將各個距離作為距離C、距離E來記憶(步驟S03)。進而,使用非接觸感測器73,測量自非接觸感測器73至轉印頭53的接觸面531為止的距離。再者,當測量至接觸面531為止的距離時,藉由直動機構51來將接觸面531定位於與非接觸感測器73相向的位置。控制部8自非接觸感測器73接收所述測量資訊,控制部8的記憶部81將所述距離作為距離D來記憶(步驟S04)。再者,此處非接觸感測器71、非接觸感測器72經由升降機構52而由移送部5的直動機構51支持,因此可於事先設定的規定的高度位置(第三規定位置及第四規定位置)進行所述至基準基板P、基準基板Q的盤面為止的距離的測量。於本實施方式中,例如將第三規定位置設為與第一規定位置X1相同的高度位置,另外,將第四規定位置設為與第二規定位置X2相同的高度位置。另外,亦可將利用非接觸感測器73來測量至接觸面531為止的距離時的轉印頭53的高度位置設定成事先設定有接觸面531的高度位置來進行測量。於本實施方式中,例如設為以變成第一規定位置X1的方式進行設定者。
若距離A~距離E的測量完成,則自供給台3及安裝台4去除基準基板P、基準基板Q,並搬入供給基板R與安裝基板S來代替。另外,於轉印頭53的接觸面531側設置轉印工具6(步驟S05)。
繼而,如圖7所示,使用非接觸感測器71、非接觸感測器72,測量自非接觸感測器71至供給基板R上的元件T為止的距離、自非接觸感測器72至安裝基板S的盤面為止的距離。再者,當測量至供給基板R上的元件T為止的距離、至安裝基板S的盤面為止的距離時,藉由直動機構51來將非接觸感測器71、非接觸感測器72分別定位於拾取位置21、安裝位置22。如上所述,供給基板R上的元件T之中成為非接觸感測器71的雷射照射對象的元件T如於控制部8的記憶部81中所設定般選擇。例如,將位於拾取對象的多行多列的元件T的中心的元件T作為非接觸感測器71的雷射照射對象。控制部8自非接觸感測器71接收所述測量資訊,控制部8的記憶部81將所述距離作為距離F來記憶(步驟S06)。另外,控制部8自非接觸感測器72接收至安裝基板S的盤面為止的距離的測量資訊,控制部8的記憶部81將所述距離作為距離H來記憶(步驟S07)。此處,利用非接觸感測器71、非接觸感測器72的至供給基板R上的元件T為止的距離、及至安裝基板S的盤面為止的距離的測量與所述至基準基板P、基準基板Q的盤面為止的距離的測量同樣地,可於自各盤面朝相向方向離開的第三規定位置及第四規定位置上進行。
於步驟S06中,例如當將規定的拾取區域32內的多個元件T作為對象來測量距離F時,控制部8的判定部83亦可將已測量的多個距離F中的最大值與最小值的差、或者所述最大值或最小值與多個距離F的平均值的差與已被記憶於記憶部81中的規定的閾值進行比較。於距離F的差超過規定的閾值的情況下,為了將包含該元件T的多行多列的元件T(元件群,即拾取區域32)自拾取對象中排除,判定部83可將該元件群作為不適當的元件群而記憶於記憶部81中。於如此排除的情況下,亦可將距離F的測量變更成與該元件群不同的元件群。而且,非接觸感測器71亦可測定至位於已變更的元件群內的元件T為止的距離,並再次與閾值進行比較。另外,進而於即便重複事先設定的次數,距離F的差亦超過閾值的情況下,亦可報告異常並中斷。
進而,使用非接觸感測器73測量至轉印工具6的保持面61為止的距離。再者,當測量至保持面61為止的距離時,藉由直動機構51來將保持面61移動至與非接觸感測器73相向的位置。控制部8自非接觸感測器73接收所述測量資訊,控制部8的記憶部81將所述距離作為距離G來記憶(步驟S08)。此處,以變成事先設定有轉印頭53的接觸面531的高度位置,例如與測量至接觸面531為止的距離時相同的高度位置的方式進行設定,而進行利用非接觸感測器73的至保持面61為止的距離的測量。
最後,控制部8的運算部82將自轉印工具6的保持面61至供給基板R上的元件T為止的距離L、及自轉印工具6的保持面61至安裝基板S為止的距離M作為與元件T的拾取及配置相關的移送部5的移動量來算出。距離L、距離M根據已被記憶於記憶部81中的距離A~距離H,藉由以下的式(1)、式(2)來分別算出(步驟S09)。 (數學式1) L=A-(C-F)-(D-G)      …(1) (數學式2) M=B-(E-H)-(D-G)      …(2)
如以上般,控制部8根據來自各感測器的測量資料,算出與元件T的拾取及配置相關的移送部5的移動量。
式(1)是自接觸感測器部已測量的距離A減去非接觸感測器已測量的距離C與距離F的差值、及距離D與距離G的差值的式。換言之,將自轉印頭53的接觸面531相對於供給台3的盤面在垂直方向上開始接近移動的第一規定位置X1至基準基板P為止的距離作為基準,減去自基準基板P的盤面至供給基板R上的元件T的表面為止的距離,進而減去自接觸面531至轉印工具6的保持面61為止的距離,藉此算出自轉印工具6的保持面61至供給基板R上的元件T為止的距離L。以接觸感測器部已測量的距離A為基準,利用非接觸感測器已測量的距離,藉此可不使轉印工具6與元件T接觸,而準確地算出與元件T的拾取相關的移送部5的移動量。
式(2)是自接觸感測器部已測量的距離B減去非接觸感測器已測量的距離E與距離H的差值、及距離D與距離G的差值的式。換言之,將自轉印頭53的接觸面531相對於安裝台4的盤面在垂直方向上開始接近移動的第二規定位置X2至基準基板Q為止的距離作為基準,減去自基準基板Q的盤面至安裝基板S的盤面為止的距離,進而減去自接觸面531至轉印工具6的保持面61為止的距離,藉此算出自轉印工具6的保持面61至安裝基板S為止的距離M。以接觸感測器部已測量的距離B為基準,利用非接觸感測器已測量的距離,藉此可不使轉印工具6與安裝基板S接觸,而準確地算出與元件T的配置相關的移送部5的移動量。
(元件的安裝) 圖8是表示本實施方式的元件安裝裝置的動作的一例的流程圖。作為對所述動作進行說明的前提,設為事先於供給台3的盤面配置有供給基板R,於安裝台4的盤面配置有安裝基板S者。另外,設為於移送部5的轉印頭53設置有轉印工具6者。
首先,藉由直動機構31來使供給台3於二維平面上移動,並以規定的拾取區域32的中心位置位於拾取位置21的方式使供給台3停止。另外,藉由直動機構41來使安裝台4於二維平面上移動,並以規定的安裝區域42的中心位置位於安裝位置22的方式使安裝台4停止(步驟S11)。
繼而,使移送部5朝拾取位置21移動,藉由轉印工具6來將拾取區域32中的多行多列的元件T一併拾取。具體而言,藉由直動機構51來使移送部5朝拾取位置21移動,繼而藉由升降機構52,使轉印頭53自拾取位置21上的第一規定位置X1,僅移動(下降)運算部82已算出的距離L(步驟S12)。其結果,轉印工具6的保持面61抵接於各元件T,轉印工具6的保持面61利用負壓來吸附保持各元件T。
而且,於利用保持面61保持包含多行多列的元件T的元件群的狀態下,藉由升降機構52來使移送部5朝自供給台3分離的方向移動,並藉由直動機構51來朝安裝位置22移送(步驟S13)。
最後,藉由升降機構52,使轉印工具6自安裝位置22上的第二規定位置X2,僅移動(下降)運算部82已算出的距離M(步驟S14)。藉此,將由轉印工具6的保持面61保持的元件T抵接於安裝基板S而配置於安裝區域42。此處,藉由所述式(2)所算出的距離M未考慮由轉印工具6保持的元件T的厚度。即,並非自距離B減去元件T的厚度所得的值。但是,本實施方式的轉印工具6由具有彈性的構件形成,因此幾十μm左右的元件T的厚度可由轉印工具6的彈性變形吸收,不會損傷元件T。再者,若必須考慮元件T的厚度,則只要自距離M減去元件T的厚度分即可。
如此,元件安裝裝置1如步驟S11~步驟S14般重複自供給基板R的包含多行多列的元件T的元件群的拾取、移送、及朝安裝基板S的配置,直至成為拾取對象的多行多列的元件T自供給基板R上消失為止。
[效果] (1)本實施方式的元件安裝裝置1包括:供給台3,具有支持基準基板P、或元件T排布成陣列狀的供給基板R的盤面;安裝台4,具有支持基準基板Q、或配置排布成所述陣列狀的元件T的安裝基板S的盤面;轉印頭53,於供給台3與安裝台4排列的方向上移動,並且於從自供給台3的盤面朝相向方向離開的第一規定位置X1至供給台3為止之間、及從自安裝台4的盤面朝相向方向離開的第二規定位置X2至安裝台4為止之間移動;以及接觸感測器部54,設置於轉印頭53,檢測轉印頭53與由供給台3或安裝台4支持的基準基板P、基準基板Q接觸,藉此測量自第一規定位置X1至由供給台3支持的基準基板P為止的距離、及自第二規定位置X2至由安裝台4支持的基準基板Q為止的距離。
進而,本實施方式的元件安裝裝置1包括:轉印工具6,可裝卸地設置於轉印頭53,自由供給台3支持的供給基板R拾取多行多列的元件T,將已拾取的元件T配置於安裝基板S;第一非接觸感測器71,以非接觸方式測量從自供給台3的盤面朝相向方向離開的第三規定位置,至由供給台3支持的基準基板P為止的距離及至由供給台3支持的供給基板R上的元件T為止的距離;第二非接觸感測器72,以非接觸方式測量從自安裝台4的盤面朝相向方向離開的第四規定位置,至由安裝台4支持的基準基板Q為止的距離及至由安裝台4支持的安裝基板S為止的距離;第三非接觸感測器73,設置於供給台3與安裝台4之間,以非接觸方式測量至相向的轉印頭53為止的距離及至相向的轉印工具6為止的距離;以及控制部8,根據接觸感測器部54、第一非接觸感測器71、第二非接觸感測器72、及第三非接觸感測器73已測量的距離,控制轉印頭53的移動。
如此,本實施方式的元件安裝裝置1可不使轉印工具6直接接觸元件T,而將非接觸感測器71、非接觸感測器72的測量值與接觸感測器部54已測量的距離結合,因此不存在因接觸時產生的應力而使轉印工具6或元件T破損的擔憂。其結果,可進行朝安裝基板S上的元件T的更準確的安裝,另外,可避免轉印工具6或元件T的破損,因此可提昇良率。
(2)可將至供給基板R上的被拾取的元件T為止的距離設為至多行多列的元件T之中,事先決定的多個元件T為止的各距離的平均值。藉此,可更準確地測量至元件T為止的距離,因此將所述已測量的距離作為基準的移送部5的移動量亦變成準確的移動量,可進行確實的拾取。
(3)本實施方式的控制部8進而包括判定部83,所述判定部83將由第一非接觸感測器71所測量的至事先決定的多個元件T為止的距離彼此進行比較,並判定距離的差是否超過規定的閾值,於判定部83已判定距離的差超過規定的閾值的情況下,控制部8以將已被判定距離的差超過規定的閾值的元件T排除,拾取其他元件T的方式控制供給台3及轉印頭53。藉此,不拾取供給基板R上的元件T之中,例如因製造上的不良而突出者,因此可避免拾取的失敗,可提昇良率。
[其他實施方式] 本發明並不限定於所述實施方式,亦包含下述所示的其他實施方式。另外,本發明亦包含將所述實施方式及下述其他實施方式全部或任一者組合的形態。進而,可於不脫離發明的範圍的範圍內對該些實施方式進行各種省略或替換、變更,其變形亦包含於本發明中。
(1)於所述實施方式中,於利用非接觸感測器71~非接觸感測器73的各距離的測量之後,進行利用移送部5的元件T的安裝,但利用直動機構51的移動亦可利用使移送部5的移動與非接觸感測器71、非接觸感測器72的移動聯動,而同時進行一部分。於此情況下,與所述實施方式相比,距離F、距離H的測量時機不同。
不將轉印工具6裝配於轉印頭53,將基準基板P載置於供給台3,將基準基板Q載置於安裝台4。於此狀態下,於利用接觸感測器部54的距離A、距離B的測量之後,利用非接觸感測器71~非接觸感測器73來測量距離C、距離D、距離E。繼而,將轉印工具6裝配於轉印頭53,將供給基板R載置於供給台3,將安裝基板S載置於安裝台4。於此狀態下轉變成安裝動作。於移送部5朝拾取位置21的移動過程中進行非接觸感測器71對於元件T的雷射照射,而測量距離F。即,非接觸感測器71與轉印頭53一體地移動。因此,當轉印頭53朝拾取位置21移動時,非接觸感測器71穿過已被定位於拾取位置21的本次成為拾取的對象的拾取區域32的上方。此時,若將非接觸感測器71定位並移動至第三規定位置,則可測量至位於非接觸感測器71的移動軌跡上的元件T為止的距離F。若於轉印頭53到達拾取位置21之前,運算部82算出作為利用升降機構52的移動量的距離L,則繼而可藉由升降機構52來使移送部5移動至供給基板R上的元件T為止。
於移送部5朝安裝位置22的移動過程中進行非接觸感測器72對於安裝基板S的雷射照射,而測量距離H。即,非接觸感測器72與轉印頭53一體地移動。因此,當轉印頭53朝安裝位置22移動時,非接觸感測器72穿過安裝位置22上方。此時,若將非接觸感測器72定位並移動至第四規定位置,則可測量至位於非接觸感測器72的移動軌跡上的安裝基板S為止的距離H。
(2)於所述實施方式中,在與元件T的配置相關的移送部5的移動量的算出中,利用轉印頭53的接觸面531與轉印工具6的保持面61的差值,但亦可利用轉印頭53的接觸面531與轉印工具6的保持面61上的元件T的差值。於此情況下,於元件T的移送時進行利用非接觸感測器73的距離G的測量。即,於已拾取元件T的移送部5(轉印工具6)朝安裝位置22移動的過程中,轉印工具6穿過非接觸感測器73的上方。此時,使轉印頭53的接觸面531位於規定的高度位置,並且使由轉印工具6保持的元件群中的規定的元件T以定位於非接觸感測器73的正上方的方式停止、或以穿過正上方的方式移動。而且,利用非接觸感測器73來測量至已被定位於正上方的元件T、或穿過正上方的元件T為止的距離,而求出距離G。此時所測量的元件T的數量可為一個,亦可為多個。由轉印工具6保持的元件群沿著利用直動機構51的移動方向排布。因此,若一面使轉印工具6移動一面進行利用非接觸感測器73的測量,則可連續地測量至穿過非接觸感測器73的正上方的多個元件T為止的距離。再者,於將多個元件T作為測量對象的情況下,只要將各測定距離的平均值作為距離G即可。
於所述實施方式中,距離M未考慮元件T的厚度,但藉由利用接觸面531與轉印工具6的保持面61上的元件T的差值,可進行亦考慮元件T的厚度的更準確的配置。藉此,即便於轉印工具6為難以彈性變形的硬的原材料,難以藉由彈性變形來吸收元件T的厚度的情況下,亦可不使元件T破損來配置。
另外,亦可利用轉印頭53的接觸面531與轉印工具6的保持面61的差值來算出距離L,利用轉印頭53的接觸面531與轉印工具6的保持面61上的元件T的差值來算出距離M。即,可於拾取中基於轉印工具6的保持面61的高度位置,於配置中基於由轉印工具6保持的元件T的下表面的高度位置,分別於更準確的高度位置進行拾取與配置中的測量。
(3)亦可針對基準基板P、基準基板Q上的規定的各區域,例如對應於拾取區域32或安裝區域42的各區域,或者供給基板R上的規定的各區域,例如各拾取區域32,安裝基板S上的規定的各區域,例如各安裝區域42,個別地求出距離A~距離C及距離E、距離F、距離H。尤其,關於距離F,亦可最初對供給基板R上的所有拾取區域進行測量,藉由利用判定部83的判定來決定應排除的區域。
(4)於所述實施方式中,將第一規定位置X1與第二規定位置X2設為相同的高度位置,將第三規定位置與第四規定位置亦設為與第一規定位置及第二規定位置X2相同的高度位置,但並不限定於此,亦可為各自不同的高度位置。即,若於各距離的測定中不變更規定位置,則各個規定位置可為不同的高度位置,亦可為相同的高度位置。
(5)於所述實施方式中,最初於載置基準基板P、基準基板Q的狀態,未裝配轉印工具6的狀態下進行距離的測量。但是,距離A、距離B、距離C、距離E的測量可僅於使元件安裝裝置1運轉的最初實施,亦可每當更換供給基板R、安裝基板S時,配合所述更換來實施。此時,亦可將配合基板更換的測量僅設為距離C、距離E。亦可將距離D設為每當更換轉印工具6時測量。另外,距離G較佳為每當更換轉印工具6時測量。距離L、距離M的算出亦較佳為於已再次測量各距離的情況下,再次進行計算。
(6)於所述實施方式中,非接觸感測器71進行拾取位置21上的距離的測量,非接觸感測器72進行安裝位置22上的距離的測量,但非接觸感測器71與非接觸感測器72亦可為一個感測器。一個非接觸感測器71(72)與移送部5一體或分體地移動,藉此亦可進行拾取位置21及安裝位置22的各距離的測量。
(7)於所述實施方式中,非接觸感測器71、非接觸感測器72與移送部5一體地移動,但並不限定於此,亦可獨立於移送部5來移動,另外,亦可為固定配置。例如,如圖9所示,非接觸感測器71可固定地配置於拾取位置21上。另外,非接觸感測器72可固定地配置於安裝位置22上。進而,亦可將任一者固定地配置,將任一者裝載於移送部5。只要可藉由非接觸感測器71的測量來進行距離A與距離C的比較,藉由非接觸感測器72的測量來將距離B與距離D進行比較即可,只要決定測定時的高度位置,便可適宜決定非接觸感測器71、非接觸感測器72的裝設位置、構件。
(8)於所述實施方式中,使用基準基板P,但亦可使用供給台3的盤面來代替基準基板P。另外,使用基準基板Q,但亦可使用安裝台4的盤面來代替基準基板Q。將所述實施方式中的基準基板P、基準基板Q分別替換成供給台3、安裝台4,藉此可完全同樣地實施。於此情況下,可取消設置、排除各基準基板P、Q。
(9)於所述實施方式中,測量距離A、距離B時使用轉印頭53的接觸面531,但若轉印工具6包含硬的構件,不排斥接觸基準基板P、基準基板Q,則亦可使用轉印工具6。於此情況下,亦可與使用接觸面531的情況同樣地測量距離A、距離B。而且,可不直接接觸元件T或安裝基板S而將非接觸感測器71、非接觸感測器72的測量值與接觸感測器部54已測量的距離結合,因此不存在因接觸時產生的應力而使元件T破損的擔憂。其結果,可進行朝安裝基板S上的元件T的更準確的安裝,另外,可避免元件T的破損,因此可提昇良率。
於此情況下,亦可不進行距離D及距離G的測量,亦可不需要用於測量距離D及距離G的非接觸感測器73。於距離A、距離B中包含距離D與距離G的差值,因此只要將式(1)、式(2)中的(D-G)看作零,算出距離L、距離M即可。即,可藉由L=A-(C-F)、M=B-(E-H)來算出。
(10)於所述實施方式中,作為轉印工具6,以吸引吸附來進行了說明,但即便利用靜電吸附,亦可同樣地應用,可獲得相同的效果。
另外,作為轉印工具6,亦可使用黏著材料。當將元件T貯存於供給基板R時,為了保持元件T,有時使用黏著材料。於此情況下,當利用轉印工具6來拾取元件T時,需要比所述貯存的黏著力更大的保持力。若為吸引吸附,則存在無法產生大氣壓以上的保持力,而無法形成必要的保持力的情況。另外,於靜電吸附的情況下,亦可施加大的電壓來變成成為必要的保持力的靜電力,但亦存在因元件T而產生靜電破壞的情況。
若為黏著材料,則可容易地獲得成為必要的保持力的黏著力。另外,不需要用於吸引或產生靜電力的複雜的結構或控制。進而,黏著材料柔軟,亦難以對元件T造成損害。如此,於將黏著材料用作轉印工具6的情況下,可不使元件T破損,而以簡單的結構,確實地自供給基板R拾取元件T。
但是,當將黏著材料作為轉印工具6來裝配於轉印頭53時,於此狀態下無法利用接觸方式來進行高度位置的測量。若為了進行高度位置的測量,而使黏著材料接觸基準基板或元件T、安裝基板,則於此狀態下轉印工具6與對象黏著,無法解除測量狀態。因此,必須不裝配包含黏著材料的轉印工具6來測量高度位置。於此情況下,藉由實施所述實施方式中的測量,亦可測量準確的高度位置,可獲得相同的效果。
1:元件安裝裝置 3:供給台 4:安裝台 5:移送部 6:轉印工具 8:控制部 21:拾取位置 22:安裝位置 31、41、51:直動機構 32:拾取區域 42:安裝區域 52:升降機構 53:轉印頭 54:接觸感測器部 61:保持面 62:保持部 71~73:非接觸感測器 81:記憶部 82:運算部 83:判定部 84:移動控制部 531:接觸面 A~H:距離 P、Q:基準基板 R:供給基板 S:安裝基板 S01~S09、S11~S14:步驟 T:元件 X1:第一規定位置 X2:第二規定位置
圖1是表示實施方式的元件安裝裝置的結構的示意圖。 圖2是表示轉印頭及轉印工具的結構的示意圖。 圖3是實施方式的控制部的功能塊圖。 圖4是表示實施方式的各距離的測量動作的一例的流程圖。 圖5的(a)及圖5的(b)是表示利用接觸感測器部的至由供給台或安裝台支持的基準基板為止的距離的測量的示意圖。 圖6是表示利用非接觸感測器的至由供給台或安裝台支持的基準基板為止的距離、及至轉印頭為止的距離的測量的示意圖。 圖7是表示利用非接觸感測器的至由供給台支持的供給基板上的元件為止的距離、至由安裝台支持的安裝基板為止的距離、及至轉印工具為止的距離的測量的示意圖。 圖8是表示實施方式的元件安裝裝置的動作的一例的流程圖。 圖9是表示另一實施方式的元件安裝裝置的結構的示意圖。
1:元件安裝裝置
3:供給台
4:安裝台
5:移送部
6:轉印工具
21:拾取位置
22:安裝位置
31、41、51:直動機構
32:拾取區域
42:安裝區域
52:升降機構
53:轉印頭
54:接觸感測器部
71~73:非接觸感測器
R:供給基板
S:安裝基板
T:元件

Claims (4)

  1. 一種元件安裝裝置,包括:供給台,具有支持基準基板、或元件排布成陣列狀的供給基板的盤面;安裝台,具有支持基準基板、或配置排布成所述陣列狀的元件的安裝基板的盤面;轉印頭,於所述供給台與所述安裝台排列的方向上移動,並且於從自所述供給台的所述盤面朝相向方向離開的第一規定位置至所述供給台為止之間、及從自所述安裝台的所述盤面朝相向方向離開的第二規定位置至所述安裝台為止之間移動;接觸感測器部,設置於所述轉印頭,檢測所述轉印頭與由所述供給台或所述安裝台支持的所述基準基板接觸,藉此測量自所述第一規定位置至由所述供給台支持的所述基準基板為止的距離、及自所述第二規定位置至由所述安裝台支持的所述基準基板為止的距離;轉印工具,能裝卸地設置於所述轉印頭,自由所述供給台支持的所述供給基板拾取多行多列的元件,將已拾取的元件配置於所述安裝基板;第一非接觸感測器,以非接觸方式測量從自所述供給台的所述盤面朝相向方向離開的第三規定位置,至由所述供給台支持的所述基準基板為止的距離及至由所述供給台支持的所述供給基板上的元件為止的距離; 第二非接觸感測器,以非接觸方式測量從自所述安裝台的所述盤面朝相向方向離開的第四規定位置,至由所述安裝台支持的所述基準基板為止的距離及至由所述安裝台支持的所述安裝基板為止的距離;第三非接觸感測器,設置於所述供給台與所述安裝台之間,以非接觸方式測量至相向的所述轉印頭為止的距離及至相向的所述轉印工具為止的距離;以及控制部,根據所述接觸感測器部、所述第一非接觸感測器、所述第二非接觸感測器、及所述第三非接觸感測器已測量的距離,控制所述轉印頭的移動。
  2. 如請求項1所述的元件安裝裝置,其中至所述供給基板上的元件為止的距離是至所述多行多列的元件之中,事先決定的多個元件為止的各距離的平均值。
  3. 如請求項2所述的元件安裝裝置,其中所述控制部還包括判定部,所述判定部將由所述第一非接觸感測器所測量的至事先決定的多個元件為止的距離彼此進行比較,並判定所述距離的差是否超過規定的閾值,於所述判定部已判定所述距離的差超過規定的閾值的情況下,所述控制部以將包含已被判定距離的差超過規定的閾值的元件的元件群排除,拾取其他元件群的元件的方式控制所述供給台及所述轉印頭。
  4. 如請求項1至請求項3中任一項所述的元件安裝裝 置,其還包括:運算部,將所述接觸感測器部已測量的自所述第一規定位置至所述供給台支持的所述基準基板為止的距離設為A,將所述接觸感測器部已測量的自所述第二規定位置至所述安裝台支持的所述基準基板為止的距離設為B,將所述第一非接觸感測器已測量的至所述供給台支持的所述基準基板為止的距離設為C,將所述第三非接觸感測器已測量的至所述轉印頭為止的距離設為D,將所述第二非接觸感測器已測量的至所述安裝台支持的所述基準基板為止的距離設為E,將所述第一非接觸感測器已測量的至所述供給基板上的元件為止的距離設為F,將所述第三非接觸感測器已測量的至所述轉印工具為止的距離設為G,將所述第二非接觸感測器已測量的至所述安裝基板為止的距離設為H,根據A~H並藉由下述式(1)及式(2)來求出距離L、距離M;以及移動控制部,根據所述距離L來使所述轉印頭自所述第一規定位置朝所述供給台移動,根據所述距離M來使所述轉印頭自所述第二規定位置朝所述安裝台移動; 式(1):L=A-(C-F)-(D-G) 式(2):M=B-(E-H)-(D-G)。
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