TWI735305B - 流體供給系統 - Google Patents

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TWI735305B TW109126594A TW109126594A TWI735305B TW I735305 B TWI735305 B TW I735305B TW 109126594 A TW109126594 A TW 109126594A TW 109126594 A TW109126594 A TW 109126594A TW I735305 B TWI735305 B TW I735305B
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Abstract

本流體供給系統具備：支撐體、程序氣體供給單元、液體供給單元及吹掃氣體供給單元，其中，支撐體具有：基板、以正交於基板的方式設於基板的長邊方向之一側的側板、以正交於基板及側板的方式設於基板的高度方向之一端的頂板；程序氣體供給單元，其係設於頂板的外表面；液體供給單元，其係設於側板的內表面，以透過連通流路形成區塊連通至程序氣體供給單元；吹掃氣體供給單元，其係設於基板的內表面，以透過連通管連通於程序氣體供給單元。

Description

流體供給系統
本發明係有關一種流體供給系統。
在日本專利公開公報特開2016-211021號中，揭露一種將經由液體氣化所生成的程序氣體（process gas）供給至供給標的之程序氣體供給單元。
對於流體供給系統，一般而言，如日本專利公開公報特開2016-211021號的流體供給系統，係將程序氣體供給單元、將液體供給至程序氣體供給單元的液體供給單元、將吹掃氣體供給至程序氣體供給單元的吹掃氣體供給單元皆設於同一平面。然而，在此種情形下，需確保能將程序氣體供給單元、液體供給單元及吹掃氣體供給單元設於同一平面的空間，因而導致無法使整體流體供給系統緊密化的問題。
在此，有鑑於上述問題，本發明的目的在於提供一種能實現緊密化的流體供給系統。
根據本發明的態樣，提供一種流體供給系統，具備： 支撐體，前述支撐體具有：第1板片；第2板片，其係以正交於前述第1板片的方式設於前述第1板片的長邊方向之一側；第3板片，其係以正交於前述第1板片及前述第2板片的方式設於前述第1板片的高度方向之一端； 第1氣體供給單元，前述第1氣體供給單元設於前述第3板片，用以使液體氣化，並將由液體氣化所生成的第1氣體供給至供給標的； 液體供給單元，前述液體供給單元設於前述第1板片及前述第2板片中之任一方，用以將液體供給至前述第1氣體供給單元； 第2氣體供給單元，前述第2氣體供給單元設於前述第1板片及前述第2板片中之任另一方，用以將第2氣體供給至前述第1氣體供給單元； 第1連通機構，係連通前述第1氣體供給單元與前述液體供給單元； 第2連通機構，係連通前述第1氣體供給單元與前述第2氣體供給單元。
根據本發明的態樣，可實現流體供給系統整體的緊密化。
以下，參照圖式對本發明的實施形態（以下稱為本實施形態。）進行說明。在本說明書中，於全文針對相同要素賦予相同之符號。另外，在圖式中，分別設流體供給系統1的長邊方向為沿X軸之方向、幅寬方向為沿Y軸之方向、高度方向為沿Z軸之方向。以下，為便於說明，單稱流體供給系統1的長邊方向為長邊方向、單稱流體供給系統1的幅寬方向為幅寬方向、以及單稱流體供給系統1的高度方向為高度方向。此外，前述指定的方向並非取決於實際組裝時的方向。
圖1係表示流體供給系統1的斜視圖。圖2係表示流體供給系統1的左視圖。圖3係表示流體供給系統1的俯視圖。圖4係表示液體供給單元及設有液體供給單元之側板的說明圖。圖5係表示流體供給系統1的前視圖。圖6係表示流體供給系統1的回路圖。圖7係表示連通流路形成區塊51之周邊的概略剖面圖。
本實施形態之流體供給系統1係作為一種氣體供給手段，而在半導體製造裝置（CVD裝置、濺鍍裝置、蝕刻裝置等）中，用以供給作為第1氣體的程序氣體（process gas）及作為第2氣體的吹掃氣體（purge gas）。
如圖1至圖5所示，流體供給系統1具備：支撐體2、液體供給單元3、作為第1氣體供給單元的程序氣體供給單元4、第1連通機構5、作為第2氣體供給單元的吹掃氣體供給單元6、以及第2連通機構7。
支撐體2係為設有液體供給單元3、程序氣體供給單元4及吹掃氣體供給單元6的金屬製（如：鋼製）的支撐構件。支撐體2具有作為第1板片的基板21、作為第2板片的側板22、輔助板23、以及作為第3板片的頂板24。
基板21為一種矩形板狀金屬，藉由例如螺絲鎖固等方式，安裝在作為安裝部的壁部（圖中未示）。基板21為形成在沿X軸及Z軸之兩方向延伸的第1平面。另外，基板21具有與壁部抵接而作為安裝面的外表面211、以及與外表面211相反之面的內表面212。在基板21的內表面212，藉由例如螺絲鎖固等方式，設有吹掃氣體供給單元6。
如此，因使吹掃氣體供給單元6設於已安裝在壁部之基板21的內表面212（亦即，使用者較容易接觸的位置），故而使用者可容易進行對吹掃氣體供給單元6的作業等。
側板22為一種矩形板狀金屬，藉由例如螺絲鎖固的方式，設置在基板21的長邊方向之一側（圖1之右側）。側板22以正交於基板21之方式形成在沿Y軸及Z軸之兩方向延伸的第2平面。另外，側板22具有對向於輔助板23而作為對向面的內表面221、以及與內表面221相反之面的外表面222。在側板22的內表面221中，藉由例如螺絲鎖固等方式，設有液體供給單元3。
如圖2所示，輔助板23為一種直角三角形狀的板狀金屬，藉由例如螺絲鎖固的方式，設於基板21的長邊方向之另一側（圖1之左側）。輔助板23以正交於基板21的方式，形成在沿Y軸及Z軸之兩方向延伸、且與第2平面平行的第4平面。另外，輔助板23為用以強化支撐體2整體強度的板狀金屬。
頂板24為一種矩形板狀金屬，藉由例如螺絲鎖固之方式，設於基板21的高度方向之一端（圖1之上端）。頂板24以正交於基板21及側板22（輔助板23）的方式形成在沿X軸及Y軸之兩方向延伸的第3平面。另外，頂板24具有作為對向面的內表面241、以及與內表面241相反之面的外表面242，前述內表面241係對向於液體供給單元3及吹掃氣體供給單元6。在頂板24的外表面242中，藉由例如螺絲鎖固等方式，設有程序氣體供給單元4。
如圖3所示，在頂板24中，形成有複數個（此處為兩個）作為第1開口之矩形狀的第1貫通孔243，前述第1貫通孔243可分別供後述複數個連通流路形成區塊51貫通。具體而言，複數個第1貫通孔243為以在幅寬方向相隔指定間隔而配列的方式，形成在頂板24長邊方向之一端側（圖1之右側）。此外，第1貫通孔243的數量與構成液體供給單元3之液體供給部31的數量相同。亦即，第1貫通孔243的數量係對應於液體供給部31的數量。
另外，在頂板24中，形成有一個作為第2開口之矩形狀的第2貫通孔244，前述第2貫通孔244可供後述複數個（此處為四根，參照圖6）連通管71貫通。具體而言，一個第2貫通孔244係以沿頂板24的長邊方向而延伸之方式，形成在頂板24長邊方向之另一端側（圖1之左側）。
頂板24係為，其長邊方向之一端（圖1之右端）連接於側板22之一端（圖1之上端），其長邊方向之另一端（圖1之左端）則連接於輔助板23。藉此，頂板24及設於頂板24的程序氣體供給單元4藉由基板21、側板22及輔助板23所支撐。因此，由於不需另外設置用以支撐頂板24及程序氣體供給單元4的構件，而可實現流體供給系統1整體之簡要化。
如此，藉由將液體供給單元3、程序氣體供給單元4及吹掃氣體供給單元6分別設於支撐體2的側板22、頂板24及基板21，而可實現流體供給系統1的立體配置。因此，相較於將液體供給單元3、程序氣體供給單元4及吹掃氣體供給單元6設於同一平面上的情形，可實現流體供給系統1整體之緊密化。
如圖1及圖4所示，液體供給單元3係為一種供給單元，透過第1連通機構5，從作為液體供給源的液體儲槽T1（參照圖6）將含有液體的流體供給至程序氣體供給單元4。並且，從複數種液體的切換及吹掃之觀點來看，液體供給單元3具有複數個（此處為兩個）液體供給部31及液體排出部。複數個液體供給部31係以在幅寬方向設置成以隔有指定間隔的方式配列。
液體供給部31以沿高度方向而延伸之方式設於支撐體2的側板22的內表面221。液體供給部31具有在內部形成有流路的第1流路形成區塊、以及設於第1流路形成區塊上的第1流體機器。作為第1流體機器，例如可列舉如自動閥及手動閥等。此外，液體供給部31亦可安裝用以升溫的加熱器。
另外，液體供給部31係如圖6所示，具有作為第1流路的液體供給管線313、吹掃管線314及分歧管線315，前述第1流路為由第1流路形成區塊的流路所構成。在液體供給管線313中，設有手動閥或自動閥等。
吹掃管線314係自流體供給管線64（65）所分歧，並透過分歧管72a（72b）連接至吹掃管線314。在吹掃管線314中，設有手動閥及自動閥等。
分歧管線315係用以排放廢棄液體的管線。另外，分歧管線315自液體供給管線313所分歧，並連接至外部的連通管（圖中未示）。在分歧管線315中，設有手動閥或自動閥等。
如圖1及圖3所示，程序氣體供給單元4係為一種供給單元，氣化來自液體供給單元3的液體，控制由液體氣化所生成之程序氣體的流動，並將流動受控制的程序氣體供給至作為供給標的之腔室（圖中未示）。並且，程序氣體供給單元4由複數個（此處為兩個）程序氣體供給部41所構成。複數個程序氣體供給部41係以在幅寬方向設置成以隔有指定間隔的方式配列。此外，構成程序氣體供給單元4之程序氣體供給部41的數量，與構成液體供給單元3之液體供給部31的數量相同。亦即，程序氣體供給部41的數量係對應於液體供給部31的數量。
程序氣體供給部41以沿長邊方向而延伸之方式設於支撐體2的頂板24的外表面242。程序氣體供給部41具有：在內部形成有流路的第2流路形成區塊、以及設於第2流路形成區塊上的第2流體機器。作為第2流體機器，例如可列舉如自動閥及流量控制部等。
另外，程序氣體供給部41係如圖6所示，具有作為第2流路的流體供給管線413、吹掃管線414及吹掃管線415、以及用以加熱整體程序氣體供給部41的加熱器416，前述第2流路為由第2流路形成區塊的流路所構成。在流體供給管線413中，設有自動閥或流量控制部等。
吹掃管線414係自流體供給管線64（65）所分歧，並透過連通管71a（71b）連接至流體供給管線413。在吹掃管線414中設有自動閥等。
吹掃管線415係連通自流體供給管線63（66），並透過後述連通管71c（71d）連接至流體供給管線413。在吹掃管線415設有自動閥等。
程序氣體供給部41係為，在流體供給管線413的一部分中，藉由加熱器416的加熱使自液體供給單元3所供給的液體氣化。其後，程序氣體供給部41係將流量已受控制的程序氣體透過連通管（圖中未示）供給至腔室。
如圖1、圖3及圖6所示，第1連通機構5係用以連通液體供給單元3與程序氣體供給單元4的機構。第1連通機構5為由複數個（此處為兩個）連通流路形成區塊51所構成。此外，構成第1連通機構5之連通流路形成區塊51的數量，係與位在頂板24的第1貫通孔243的數量相同。亦即，連通流路形成區塊51的數量係對應於第1貫通孔243的數量。複數個連通流路形成區塊51係以在幅寬方向設置成以隔有指定間隔的方式配列。
連通流路形成區塊51為一種長方體區塊，係為連通構成液體供給單元3的液體供給部31之一端（圖1之上端）與構成程序氣體供給單元4的程序氣體供給部41之一端（圖1之右端）。另外，連通流路形成區塊51係以貫通頂板24的第1貫通孔243、並以沿高度方向而沿伸之方式設置。換言之，連通流路形成區塊51以收容在第1貫通孔243之方式設置。
如此，由於液體供給部31與程序氣體供給部41，係藉由以貫通第1貫通孔243之方式設置的連通流路形成區塊51而連通，使液體供給部31可設於側板22的內表面221，並使程序氣體供給部41設於頂板24的外表面242。因此，相較於將液體供給部31及程序氣體供給部41分別設於側板22之外表面222及頂板24之外表面242的流體供給系統，可更加實現流體供給系統1整體的緊密化。
再者，因為液體供給部31之一端、與程序氣體供給部41之一端藉由連通流路形成區塊51連接，因此，藉由配置連通流路形成區塊51，使液體供給部31之一端、與程序氣體供給部41之一端的連接能更容易地實現。另外，藉由沿高度方向而延伸的連通流路形成區塊51，能使液體供給部31之一端、與程序氣體供給部41之一端設置得更接近。
另外，如圖5所示，液體供給單元3由俯視（高度方向）觀察，以至少有一部分沿著長邊方向而與程序氣體供給單元4重疊之方式設置。藉此，相較於沿長邊方向將液體供給單元3以不與程序氣體供給單元4重疊之方式設置的流體供給系統，流體供給系統1可減少在長邊方向的尺寸。因此，可更加實現流體供給系統1整體的緊密化。
此外，液體供給部31（具體而言，第1流路形成區塊）的一端並未貫通頂板24的第1貫通孔243。藉此，第1貫通孔243的尺寸僅需供連通流路形成區塊51貫通之大小即可，因不需形成寬大的第1貫通孔243，而可防止由於第1貫通孔243過大而導致頂板24強度降低的問題。
如圖7所示，連通流路形成區塊51可藉由例如螺絲鎖固之方式，連接至液體供給部31（具體而言，第1流路形成區塊）之一端（上端）、以及程序氣體供給部41（具體而言，第2流路形成區塊）之一端（右端）。連通流路形成區塊51的下端面52與液體供給部31之一端抵接，且連通流路形成區塊51的左端面53與程序氣體供給部41之一端抵接。
在連通流路形成區塊51的内部，形成以剖面觀察呈L字型的連通流路54。L字型的連通流路54的一端及另一端，分別朝連通流路形成區塊51的下端面52及左端面53開口。
如圖6及圖7所示，藉由形成於長方體之連通流路形成區塊51之內部的L字型的連通流路54，而連通形成於第1流路形成區塊之內部的液體供給管線313的下游側之一端、以及形成於第2流路形成區塊之內部的流體供給管線413的上游側之一端。藉此，相較於L字型的連通流路形成區塊，因可縮短連通流路54，使來自液體供給部31的液體供給管線313的液體透過L字型的連通流路54，可迅速供給至程序氣體供給部41的流體供給管線413。
此外，為防止液體從第1流路形成區塊或第2流路形成區塊與連通流路形成區塊51的下端面52或左端面53的接合處所形成的間隙滲漏，較佳為在下端面52及左端面53雙方，以圍繞L字型的連通流路54兩端之周圍的方式設置密封構件（例如，樹脂製的O型環）。
如圖5及圖6所示，吹掃氣體供給單元6，係控制由作為吹掃氣體供給源的吹掃氣體儲槽T2所供給之吹掃氣體的流動，並將已控制流動的吹掃氣體供給至液體供給單元3及程序氣體供給單元4。此外，吹掃氣體為惰性氣體（例如，氮）。
吹掃氣體供給單元6，係以沿高度方向而延伸之方式設於支撐體2的基板21的內表面212。吹掃氣體供給單元6具有在內部形成有流路的第3流路形成區塊、以及設於第3流路形成區塊上的第3流體機器。作為第3流體機器，可列舉：手動閥、自動閥、質量流量控制器、止回閥及壓力計等。
此外，如圖5所示，吹掃氣體供給單元6由俯視（高度方向）觀察，以至少有一部分為沿著長邊方向而與程序氣體供給單元4重疊之方式設置。藉此，相較於沿長邊方向將吹掃氣體供給單元6以不與程序氣體供給單元4重疊之方式設置的流體供給系統，流體供給系統1可減少在長邊方向的尺寸。因此，可更加實現流體供給系統1整體的緊密化。
另外，吹掃氣體供給單元6係如圖6所示，具有由第3流路形成區塊的流路所構成的流體供給管線63、64、65、66、67、68及分流流路69。在流體供給管線63中，設有手動閥、壓力計、自動閥、質量流量控制器（或質量流量計、其他流量計）及止回閥等。此處，為了因應吹掃氣體的流量將程序氣體供給單元4內進行散熱，設有為精密控制溫度的質量流量控制器。
分流流路69係與流體供給管線63，以及流體供給管線64、65、66、67、68的上游側之一端連通。並且，流體供給管線63中流動之吹掃氣體之一部分，藉由分流流路69分流至流體供給管線64、65、66、67、68。
在流體供給管線64中，設有質量流量控制器、手動閥、自動閥及止回閥等。在流體供給管線65中，設有質量流量控制器、手動閥、自動閥及止回閥等。在流體供給管線66中，設有質量流量控制器、自動閥及止回閥等。
在流體供給管線67中，設有質量流量控制器及自動閥等。在流體供給管線68中，設有質量流量控制器及自動閥等。流體供給管線67、68連接至外部的連通管（圖中未示）。
如圖1、圖3及圖6所示，第2連通機構7，係為連通程序氣體供給單元4與吹掃氣體供給單元6、並連通液體供給單元3與吹掃氣體供給單元6的機構。第2連通機構7具有複數根（此處為四根）連通管71（71a、71b、71c、71d）與複數根（此處為二根）分歧管72（72a、72b）。
連通管71（71a、71b、71c、71d）為連通吹掃氣體供給單元6的一端（圖1之上端）、與構成程序氣體供給單元4的程序氣體供給部41的管。另外，連通管71（71a、71b、71c、71d）係以貫通頂板24的第2貫通孔244之方式設置。換言之，連通管71（71a、71b、71c、71d）以收容在第2貫通孔244之方式設置。藉此，藉由以貫通第2貫通孔244之方式設置的連通管71，能更容易地實現吹掃氣體供給單元6與程序氣體供給部41之間的連通。
如圖6所示，流體供給管線64之下游側的一端、與一方之程序氣體供給部41中的吹掃管線414的一端，藉由連通管71a而連通。流體供給管線65之下游側的一端、與在另一方的程序氣體供給部41中之吹掃管線414的一端，藉由連通管71b而連通。流體供給管線66之下游側的一端、與一方之程序氣體供給部41中的吹掃管線415的一端，藉由連通管71c而連通。流體供給管線63之下游側的一端、與在另一方的程序氣體供給部41中的吹掃管線415的一端，藉由連通管71d而連通。
藉此，吹掃氣體由吹掃氣體供給單元6透過連通管71（71a、71b、71c、71d）供給至程序氣體供給部41，使程序氣體供給部41內可執行吹掃。
分歧管72a及分歧管72b係分別自連通管71a及連通管71b所分歧，且分歧管72a及分歧管72b係連同連通管71a及連通管71b，連通構成液體供給單元3的液體供給部31與吹掃氣體供給單元6。具體而言，分歧管72a連通至位於一方的液體供給部31中的吹掃管線314，且分歧管72b連通至位於另一方的液體供給部31中的吹掃管線314。此外，分歧管72a、72b並未貫通第2貫通孔244。
藉此，吹掃氣體由吹掃氣體供給單元6透過連通管71（71a、71b）及分歧管72（72a、72b），將吹掃氣體供給至液體供給部31，使液體供給部31內可執行吹掃。
接著，針對本實施形態所達成的作用效果進行說明。
本實施形態之流體供給系統1，具備： 支撐體2，前述支撐體2具有：基板21；側板22，其係以正交於基板21的方式設於基板21的長邊方向之一側；頂板24，其係以正交於基板21及側板22的方式設於基板21的高度方向之一端； 程序氣體供給單元4，其係設於頂板24，用以使液體氣化，並將由液體氣化所生成的程序氣體供給至腔室； 液體供給單元3，其係設於側板22，用以將含有液體的流體供給至程序氣體供給單元4； 吹掃氣體供給單元6，其係設於基板21，用以將吹掃氣體供給至程序氣體供給單元4； 第1連通機構5，係連通程序氣體供給單元4與液體供給單元3； 第2連通機構7，係連通程序氣體供給單元4與吹掃氣體供給單元6。
依此結構，藉由將液體供給單元3、程序氣體供給單元4及吹掃氣體供給單元6分別設於支撐體2的側板22、頂板24及基板21，可實現流體供給系統1的立體配置。因此，相較於將液體供給單元3、程序氣體供給單元4及吹掃氣體供給單元6設於同一平面上的情形，可實現流體供給系統1整體之緊密化。另外，由於將各單元（液體供給單元3、程序氣體供給單元4及吹掃氣體供給單元6）分別設於不同板片，而可實現基板21、側板22及頂板24自身之緊密化。
再者，由於將液體供給單元3、程序氣體供給單元4及吹掃氣體供給單元6分別設於支撐體2的側板22、頂板24及基板21，而可防止來自其他裝置的振動對流體供給系統1的影響。
另外，在本實施形態中，程序氣體供給單元4設於頂板24的外表面242，液體供給單元3設於側板22的內表面221，在頂板24形成有第1貫通孔243，第1連通機構5具有以收容在第1貫通孔243之方式設置的連通流路形成區塊51。
依此構成，因液體供給單元3與程序氣體供給單元4，係藉由以貫通第1貫通孔243之方式設置的連通流路形成區塊51而連通，使液體供給單元3可設於側板22的內表面221，並使程序氣體供給單元4可設於頂板24的外表面242。因此，相較於將液體供給部31及程序氣體供給部41分別設於側板22的外表面222及頂板24的外表面242的流體供給系統，可更加實現流體供給系統1整體的緊密化。
另外，在本實施形態中，程序氣體供給單元4係以沿長邊方向而延伸之方式設置，液體供給單元3係以沿高度方向而延伸之方式設置，連通流路形成區塊51係為以沿高度方向而延伸之方式設置的長方體，液體供給單元3的一端、與程序氣體供給單元4的一端，藉由連通流路形成區塊51而連接。
依此構成，藉由配設連通流路形成區塊51，使液體供給單元3之一端、與程序氣體供給單元4之一端的連接可更容易地實現。另外，藉由沿高度方向延伸的連通流路形成區塊51，能使液體供給單元3之一端、與程序氣體供給單元4之一端設置得更接近。
另外，在本實施形態中，在連通流路形成區塊51中形成L字型的連通流路54，而在液體供給單元3及程序氣體供給單元4中，分別形成液體供給管線313及流體供給管線413，液體供給管線313與流體供給管線413，藉由L字型的連通流路54而連通。
依此構成，形成於第1流路形成區塊之內部的液體供給管線313之下游側的一端、與形成於第2流路形成區塊之內部的流體供給管線413之上游側的一端，可藉由形成於長方體的連通流路形成區塊51內部的L字型連通流路54而連通。藉此，相較於L字型的連通流路形成區塊，因可縮短連通流路54，使來自液體供給部31之液體供給管線313的液體，透過L字型的連通流路54，可迅速地供給至程序氣體供給部41的流體供給管線413。
另外，在本實施形態中，在頂板24中形成第2貫通孔244，而第2連通機構7具有以收容在第2貫通孔244之方式設置的連通管71。
依此構成，藉由以收容在第2貫通孔244之方式設置的連通管71，使程序氣體供給單元4與吹掃氣體供給單元6的連通能更容易地實現。
另外，在本實施形態中，吹掃氣體供給單元6由高度方向觀察，以至少有一部分沿著長邊方向而與程序氣體供給單元4重疊之方式設置。
依此構成，相較於沿長邊方向將吹掃氣體供給單元6以不與程序氣體供給單元4重疊之方式設置的流體供給系統，流體供給系統1可減少在長邊方向的尺寸。因此，可更加實現流體供給系統1整體的緊密化。
另外，在本實施形態中，頂板24藉由基板21及側板22所支撐。
依此構成，因為不需另外設置用以支撐頂板24及程序氣體供給單元4的構件，而可實現流體供給系統1整體的簡要化。
以上為依本實施形態所作的說明，上述實施形態僅為本發明之適用例的一部分，並非將本發明之技術範圍限定於上述實施形態中具體結構。
（變形例） 在上述實施形態中，液體供給單元3及吹掃氣體供給單元6，分別設於側板22的內表面221及基板21的內表面212，然而，並不限定於此，例如，亦可為分別設於基板21的內表面212及側板22的內表面221。亦即，亦可為將液體供給單元3設於基板21及側板22中之任一方的同時，將吹掃氣體供給單元6設於基板21及側板22中的任另一方。
另外，在上述的實施形態中，支撐體2具有基板21、側板22、輔助板23及頂板24，然而，並不限定於此，例如支撐體2亦可為不具有輔助板23，而僅具有基板21、側板22及頂板24。
另外，在上述的實施形態中，在頂板24中的第1貫通孔243是藉由複數個孔所構成，然而，並不限定於此，例如，亦可藉由一個孔構成第1貫通孔243。此情形下，兩個連通流路形成區塊51將貫通於一個第1貫通孔243。
另外，在上述實施形態中，第1開口是由為供連通流路形成區塊51貫通的第1貫通孔243所構成，然而，並不限定於此，例如亦可為由第1切口部所構成。此情形下，連通流路形成區塊51收容在頂板24的第1切口部。
另外，在上述的實施形態中，第2開口由供複數個連通管71貫通的第2貫通孔244所構成，然而，並不限定於此，例如亦可為形成第2切口部。此情形下，複數個連通管71收容在頂板24的第2切口部。
另外，在上述的實施形態中，液體供給單元3由複數個液體供給部31所構成，然而，並不限定於此，例如亦可為由一個液體供給部31所構成。此情形下，程序氣體供給單元4及第1連通機構5，分別由一個程序氣體供給部41及一個連通流路形成區塊51所構成。亦即，液體供給部31的數量係對應於程序氣體供給部41及連通流路形成區塊51的數量。
本案主張於2019年8月29日向日本特許廳所提出專利申請號為2019-156355的優先權，此專利申請的所有內容以引用方式併入本說明書中。
1:流體供給系統 2:支撐體 3:液體供給單元 4:程序氣體供給單元（第1氣體供給單元） 5:第1連通機構 6:吹掃氣體供給單元（第2氣體供給單元） 7:第2連通機構 21:基板（第1板片） 22:側板（第2板片） 24:頂板（第3板片） 31:液體供給部 41:程序氣體供給部 51:連通流路形成區塊 54:連通流路 71:連通管 243:第1貫通孔（第1開口） 244:第2貫通孔（第2開口）
圖1係表示本發明實施形態的流體供給系統之斜視圖。 圖2係表示流體供給系統的左視圖。 圖3係表示流體供給系統的俯視圖。 圖4係表示液體供給單元及設有液體供給單元之側板的說明圖。 圖5係表示流體供給系統的前視圖。 圖6係表示流體供給系統的回路圖。 圖7係表示連通流路形成區塊之周邊的概略剖面圖。
1:流體供給系統
2:支撐體
3:液體供給單元
4:程序氣體供給單元(第1氣體供給單元)
5:第1連通機構
6:吹掃氣體供給單元(第2氣體供給單元)
7:第2連通機構
21:基板(第1板片)
22:側板(第2板片)
23:輔助板
24:頂板(第3板片)
51:連通流路形成區塊
71:連通管
211:外表面
212:內表面
221:內表面
222:外表面
241:內表面
242:外表面
243:第1貫通孔(第1開口)

Claims (7)

  1. 一種流體供給系統，具備：支撐體，前述支撐體具有：第1板片；第2板片，其係以正交於前述第1板片的方式設於前述第1板片的長邊方向之一側；第3板片，其係以正交於前述第1板片及前述第2板片的方式設於前述第1板片的高度方向之一端；程序氣體供給單元，前述程序氣體供給單元設於前述第3板片的外表面，用以使液體氣化，並將由液體氣化所生成的程序氣體供給至供給標的；液體供給單元，前述液體供給單元設於前述第1板片及前述第2板片中之任一方的內表面，用以將含有液體的流體供給至前述程序氣體供給單元；吹掃氣體供給單元，前述吹掃氣體供給單元設於前述第1板片及前述第2板片中之任另一方的內表面，用以將吹掃氣體供給至前述程序氣體供給單元及前述液體供給單元而吹掃前述程序氣體供給單元整體及前述液體供給單元整體；第1連通機構，係連通前述程序氣體供給單元與前述液體供給單元；第2連通機構，係連通前述程序氣體供給單元與前述吹掃氣體供給單元並連通前述液體供給單元與前述吹掃氣體供給單元。
  2. 如請求項1所記載的流體供給系統，其中，前述液體供給單元設於前述第2板片的內表面；在前述第3板片中，形成第1開口； 前述第1連通機構具有連通流路形成區塊，前述連通流路形成區塊係設置成收容在前述第1開口。
  3. 如請求項2所記載的流體供給系統，其中，前述程序氣體供給單元設置成沿前述長邊方向而延伸；前述液體供給單元設置成沿前述高度方向而延伸；前述連通流路形成區塊係為設置成沿前述高度方向而延伸的長方體；藉由前述連通流路形成區塊，連接前述液體供給單元的一端與前述程序氣體供給單元的一端。
  4. 如請求項3所記載的流體供給系統，其中，在前述連通流路形成區塊中，形成L字型的連通流路；在前述液體供給單元及前述程序氣體供給單元中，分別形成第1流路及第2流路；前述第1流路與前述第2流路係藉由L字型的前述連通流路而連通。
  5. 如請求項1所記載的流體供給系統，其中，在前述第3板片中，形成第2開口；前述第2連通機構具有連通管，前述連通管係設置成收容在前述第2開口。
  6. 如請求項1所記載的流體供給系統，其中，前述吹掃氣體供給單元係被設置成，自前述高度方向觀察，以至少有一部分為沿著前述長邊方向而與前述程序氣體供給單元重疊。
  7. 如請求項1至請求項6中任一項所記載的流體供給系統，其中，前述第3板片係藉由前述第1板片及前述第2板片所支撐。
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