TWI731058B - 研磨用組成物及其製造方法以及磁氣研磨方法 - Google Patents

Abstract

本發明為提供一種難以產生磁性粒子的氧化之研磨用組成物及磁氣研磨方法。研磨用組成物(1)係含有磁性粒子、與抑制磁性粒子的氧化之抗氧化劑、與水。施加磁場於此研磨用組成物(1)，形成含有磁性粒子之磁簇(Magnetic cluster)(3)，使磁簇(3)與研磨對象物(5)接觸來研磨研磨對象物(5)。

Description

研磨用組成物及其製造方法以及磁氣研磨方法

本發明係關於研磨用組成物及其製造方法以及磁氣研磨方法。

作為高精度拋光材料的表面之研磨方法(例如鏡面拋光)，已知有磁氣研磨方法。磁氣研磨方法係將於反應在磁性流體、磁氣黏性流體、磁氣混合流體等之磁場之機能性流體混合非磁性之研磨粒子的漿料作為研磨用組成物使用之研磨方法，藉由施加磁場於研磨用組成物，形成磁簇，將磁簇作為研磨工具與研磨對象物接觸來進行研磨。

例如專利文獻1中，揭示有使用使磁性粒子、研磨粒子、膠體尺寸的粒子安定之安定劑、調節黏性之添加劑、及含有載流體之研磨用組成物之磁氣研磨方法。又，專利文獻2中，揭示有將粒子分散型混合機能性流體作為研磨用組成物使用之磁氣研磨方法。

然而，於專利文獻1、2所揭示之研磨用組成物，由於磁性粒子之鐵粉因與水的接觸等導致於研磨用組成物中氧化，有研磨用組成物的研磨性能隨時間減少的問 題。又，由於因鐵粉的氧化導致產生氫，安全性亦有問題。

專利文獻3、4中雖揭示有為了抑制磁性粒子的氧化，將磁性粒子的表面以聚合物材料等之保護層被覆的技術，但其效果無法說已夠充分。又，為了將磁性粒子以保護層被覆，亦有費成本或時間的問題。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利公表公報2002年第544318號

[專利文獻2]日本專利公開公報2010年第214505號

[專利文獻3]日本專利公開公報2005年第40944號

[專利文獻4]日本專利公開公報2007年第326183號

因此，本發明係解決如上述之以往技術所具有的問題點，以提供一種難以產生磁性粒子的氧化之研磨用組成物及其製造方法以及磁氣研磨方法作為課題。

為了解決前述課題，有關本發明之一態樣的研磨用組成物以含有磁性粒子、與抑制磁性粒子的氧化之抗氧化劑、與水作為要旨。

又，有關本發明之其他態樣的磁氣研磨方法，其係使用有關上述一態樣之研磨用組成物研磨研磨對象物之磁氣研磨方法，以包含施加磁場於研磨用組成物，形成含有磁性粒子之磁簇，使磁簇與研磨對象物接觸以研磨研磨對象物之步驟作為要旨。

進而，有關本發明之其他態樣的研磨用組成物的製造方法，其係製造有關上述一態樣之研磨用組成物之方法，以包含混合含有磁性粒子之第1成分、與含有水之第2成分的步驟作為要旨。

有關本發明之研磨用組成物係難以產生磁性粒子的氧化。又，有關本發明之研磨用組成物的製造方法，可得到難以產生磁性粒子的氧化之研磨用組成物。進而，有關本發明之磁氣研磨方法由於難以產生磁性粒子的氧化，故可進行高精度拋光研磨對象物之研磨。

1‧‧‧研磨用組成物

3‧‧‧磁簇

5‧‧‧研磨對象物

[圖1]說明有關本發明之磁氣研磨方法的一實施形態之圖。

針對本發明之一實施形態詳細進行說明。尚，以下之實施形態係展示本發明之一例者，本發明並非 被限定於本實施形態。又，以下之實施形態中可加入各種變更或改良，加入這般之變更或改良的形態亦可包含在本發明。

本實施形態之研磨用組成物係含有磁性粒子、與抑制磁性粒子的氧化之抗氧化劑、與水。施加磁場於本實施形態之研磨用組成物時，用作研磨粒機能之磁性粒子沿著磁力線，形成並排成鏈狀之磁簇。由於磁簇用作研磨工具機能，故本實施形態之研磨用組成物可使用在磁氣研磨方法。亦即，施加磁場於本實施形態之研磨用組成物，並且使磁簇與研磨對象物接觸並使其相對移動時，可進行高精度拋光研磨對象物之研磨(例如鏡面拋光)。

例如，可於使用研磨車刀(Bite)之磁氣研磨方法使用本實施形態之研磨用組成物。研磨車刀，例如於尖端具備已成為棒狀，產生磁場之磁場產生部(例如永久磁石、電磁石)，同時具備回轉磁場產生部之回轉驅動部。於研磨車刀的尖端使本實施形態之研磨用組成物附著，於磁場產生部產生磁場，而於研磨用組成物內形成磁簇後，使研磨車刀的尖端所附著之研磨用組成物與研磨對象物接觸。而且，邊於回轉驅動部使磁場產生部回轉，邊使研磨車刀的尖端與研磨對象物相對移動時，可藉由磁簇與研磨對象物的滑動接觸來研磨研磨對象物。

進而，由於本實施形態之研磨用組成物含有抑制磁性粒子的氧化之抗氧化劑，難以產生因水、氧、氧化劑等導致磁性粒子的氧化。因此，為了高度維持磁性粒 子的飽和磁化，在磁氣研磨之研磨用組成物的研磨性能難以產生隨著時間的降低。尚，此機制係藉由推測者，本發明並非被限定於上述機制。

又，由於本實施形態之研磨用組成物難以產生磁性粒子的氧化，亦可通過長期間的保存。進而，由於亦難以產生因磁性粒子的氧化導致氫的發生，本實施形態之研磨用組成物安全性高。

進而，由於藉由抗氧化劑的作用，抑制磁場之非施加時之磁性粒子的凝集，本實施形態之研磨用組成物難以產生磁性粒子的凝集，即使凝集再分散性亦優異。

於以下針對本實施形態之研磨用組成物、磁氣研磨方法等，進一步詳細說明。

1. 針對研磨對象物

研磨對象物的材質雖並非被特別限定，但例如可列舉金屬、合金、氧化物、樹脂等。作為金屬的具體例，可列舉鐵、銅、鋁、鈦、鋯、釕、鎢等。作為合金的具體例，可列舉鋁合金、鐵合金(不銹鋼等)、鎂合金、鈦合金、銅合金、鉻合金、鈷合金等。作為金屬氧化物的具體例，可列舉氧化鋁、氧化鋯、氧化矽、氧化鎂、氧化鈦、氧化鎵、氧化釔、氧化鍺等。並不限定於金屬氧化物的形態，除了陶瓷材料、結晶性材料(藍寶石、水晶等)、玻璃之外，可為氧化前述金屬或前述合金而生成者。作為樹脂之具體例，超級工程塑膠例如可列舉聚苯碸樹脂(PPSU)、聚硫化苯樹脂(PPS)、聚醚醚酮樹脂(PEEK)、聚醯胺醯亞胺 樹脂(PAI)。此等當中，尤其是以合金、金屬氧化物較佳。又，可為複數包含此等之材料之研磨對象物，例如可為氧化金屬或合金的一部分(例如表面)，形成有金屬氧化物之研磨對象物。

2. 針對磁性粒子

作為磁性粒子，例如可列舉以硬質磁性材料或軟磁性材料構成之粒子。作為以軟質磁性材料構成之粒子，可列舉強磁性粒子、常磁性粒子。磁性粒子的材質雖並非被特別限定，但例如可列舉鐵、鎳、鈷、及此等之氧化物(例如磁鐵礦等之氧化鐵)、此等之氮化物、此等之合金。又，亦可使用包含釤、釹、鈰等之稀土類金屬之磁性粒子。此等當中，從磁性比較大、操作容易的觀點來看，較佳為鐵、鎳、鈷及此等之氧化物、此等之合金。

尚，磁性粒子可1種單獨使用，亦可併用2種以上。又，在本發明所謂磁性，係意指對磁界進行感應，例如係意指被磁石吸引之性質。

磁性粒子的平均1次粒徑較佳為200μm以下，更佳為150μm以下。若平均1次粒徑為200μm以下，於研磨用組成物中之磁性粒子的分散性優異。又，磁性粒子的平均1次粒徑較佳為0.01μm以上，更佳為1μm以上。若平均1次粒徑為0.01μm以上，可具有充分之磁性。

又，磁性粒子的平均1次粒徑，尤其是重視表面品質之拋光研磨的情況下，較佳為15μm以下，更佳為 10μm以下，再更佳為5μm以下。若磁性粒子的平均1次粒徑為如此之範圍，可邊抑制研磨對象物的劃傷邊得到平滑的表面。又，重視加工效率之粗拋光研磨、或、粗拋光/中拋光研磨的情況下，較佳為10μm以上，更佳為20μm以上，再更佳為50μm以上。若磁性粒子的平均1次粒徑為如此之範圍，可用非常高的效率進行研磨。尚，磁性粒子的平均1次粒徑，例如可根據以BET法測定之磁性粒子的比表面積計算。又，亦可用動態光散射法測定。

先行實施重視加工效率之中拋光研磨後，進行重視表面品質之拋光研磨等，分成複數階段進行研磨的情況下，各一階段亦可使用平均1次粒徑不同之磁性粒子。

本實施形態之研磨用組成物中之磁性粒子的含量較佳為80質量%以下，更佳為60質量%以下。若磁性粒子的含量為80質量%以下，發揮研磨用組成物的安定性、流動性的確保與藉此之研磨精度的維持的效果。又，本實施形態之研磨用組成物中之磁性粒子的含量較佳為10質量%以上，更佳為20質量%以上。若磁性粒子的含量為10質量%以上，發揮研磨速度、表面品質改善的效果。

3. 針對抗氧化劑

一般之研磨用組成物中雖添加抗氧化劑，但為一般之研磨用組成物的情況下，將抑制研磨對象物的氧化作為目的而添加抗氧化劑。對此，在本發明，係將抑制磁性粒子的氧化作為目的而添加抗氧化劑。因此，對氧化的抑制有 效之抗氧化劑的種類，有關本發明之研磨用組成物與一般之研磨用組成物不同，用以抑制金屬製之研磨對象物的氧化之抗氧化劑，有不適合於有關本發明之研磨用組成物的情況。

磁性粒子有藉由氧化產生溶解或產生氣體等的情況。因此，研磨用組成物所添加之抗氧化劑之效果的程度可藉由磁性粒子的氧化、溶解、或氣體的發生等知悉。在本發明，抗氧化劑可吸附或反應於磁性粒子的表面，抑制磁性粒子的氧化、溶解、氣體的發生等。

抗氧化劑的種類若為可抑制磁性粒子的氧化，雖並非被特別限定，但例如可列舉烯基琥珀酸衍生物、聯吡啶衍生物、啡啉衍生物、三唑衍生物、苯并(Benzo)三唑衍生物、及於分子中不具有碳-碳多重鍵之胺。

烯基琥珀酸衍生物可包含下述式(1)、(2)、或(3)表示之化合物。

上述式(1)表示之化合物的R₁及R₂分別獨立表示氫原子、或、直鏈狀或分支狀之碳數20以下之烯基。惟，R₁及R₂不會同時為氫原子。烯基的碳數超過20的情況下，有降低對於抗氧化劑的水之溶解性的傾向。碳數未滿4的情況下，由於上昇抗氧化劑的製造過程的成本，經濟性生產變困難，R₁及R₂之碳數的下限較佳為4。具體而言，作為較佳之烯基，可列舉戊烯基、己烯基、庚烯基、辛烯基、壬烯基、癸烯基、十一烯基、十二烯基、十三烯基、十四烯基、十五烯基、十六烯基、十七烯基、十八烯基、十九烯基、二十烯基、tert-己烯基、2-乙基己烯基、2,4,6-三甲基庚烯基、2,4,6,8-四甲基壬烯基等。

上述式(1)表示之化合物的X₁分別獨立表示氫原子或陽離子(例如鈉離子、鉀離子等之金屬離子、或、銨離子、單乙醇銨離子、第四級銨離子等之胺的陽離子)。X₁為離子(陽離子)的情況下，X₁鍵結之COO基亦成為離子(陰離子)。

上述式(2)表示之化合物的R₁₁及R₁₄分別獨立表示氫原子、或、直鏈狀或分支狀之碳數20以下之烯基。惟，R₁₁及R₁₄不會同時為氫原子。烯基的碳數超過20的情況下，有降低對於抗氧化劑的水之溶解性的傾向。碳數未滿4的情況下，由於上昇抗氧化劑的製造過程的成本，經濟性生產變困難，R₁₁及R₁₄之碳數的下限較佳為4。具體而言較佳之烯基係與上述式(1)表示之化合物的R₁及R₂的情況相同。

R₁₂及R₁₃分別獨立表示氫原子、碳數10以下之烷基、碳數10以下之烯基、羥基烷基、羥基烯基、聚氧乙烯基(-(CH₂CH₂O)_n-CH₂CH₂OH)、或聚氧丙烯基(-(CH₂CHCH₃O)_m-CH₂CHCH₃OH)。上述之聚氧乙烯基的n係表示氧乙烯基的平均加成莫耳數，為1以上19以下。上述之聚氧丙烯基的m係表示氧丙烯基的平均加成莫耳數，為1以上19以下。

惟，為了對上述式(2)表示之化合物賦予對水之溶解性或分散性，以R₁₂及R₁₃當中之至少一者為羥基烷基、羥基烯基、聚氧乙烯基(-(CH₂CH₂O)_n-CH₂CH₂OH)、或聚氧丙烯基(-(CH₂CHCH₃O)_m-CH₂CHCH₃OH)較佳。

以R₁₂及R₁₃之任一種為羥基烷基或羥基烯基更佳，再更佳為碳數5以下之羥基烷基。從原材料之取得的容易性來看，碳數2或3之羥基烷基最適合。羥基烷基可為直鏈狀、分支狀之任一者。羥基烷基、羥基烯基所具有之羥基的個數可為1個，亦可為2個以上。

上述式(2)表示之化合物的X₁₁係表示氫原子或陽離子(例如鈉離子、鉀離子等之金屬離子、或、銨離子、單乙醇銨離子、第四級銨離子等之胺的陽離子)。X₁₁為離子(陽離子)的情況下，X₁₁鍵結之COO基亦成為離子(陰離子)。

上述式(3)表示之化合物的R₃₁及R₃₆分別獨立表示氫原子、或、直鏈狀或分支狀之碳數20以下之烯基。惟，R₃₁及R₃₆不會同時為氫原子。烯基的碳數超過20的情況下，有降低對於抗氧化劑的水之溶解性的傾向。碳數未滿4的情況下，由於上昇抗氧化劑的製造過程的成本，經濟性生產變困難，R₃₁及R₃₆之碳數的下限較佳為4。具體而言，較佳之烯基係與上述式(1)表示之化合物的R₁及R₂的情況相同。

R₃₂、R₃₃、R₃₄、及R₃₅分別獨立表示氫原子、碳數10以下之烷基、碳數10以下之烯基、羥基烷基、羥基烯基、聚氧乙烯基(-(CH₂CH₂O)_r-CH₂CH₂OH)、或聚氧丙烯基(-(CH₂CHCH₃O)_s-CH₂CHCH₃OH)。上述之聚氧乙烯基的r係表示氧乙烯基的平均加成莫耳數，為1以上19以下。上述之聚氧丙烯基的s係表示氧丙烯基的平均加成莫耳數，為1以上19以下。

惟，為了對上述式(3)表示之化合物賦予對水之溶解性或分散性，以R₃₂、R₃₃、R₃₄、及R₃₅當中之至少一者為羥基烷基、羥基烯基、聚氧乙烯基(-(CH₂CH₂O)_r-CH₂CH₂OH)、或聚氧丙烯基(-(CH₂CHCH₃O)_s- CH₂CHCH₃OH)較佳。

以R₃₂、R₃₃、R₃₄、及R₃₅之任一種為羥基烷基或羥基烯基更佳，再更佳為碳數5以下之羥基烷基。從原材料的取得容易性來看，碳數2或3之羥基烷基最適合。羥基烷基可為直鏈狀、分支狀之任一者。羥基烷基、羥基烯基所具有之羥基的個數可為1個，亦可為2個以上。

作為上述式(1)表示之烯基琥珀酸衍生物的具體例，可列舉戊烯基琥珀酸、己烯基琥珀酸、庚烯基琥珀酸、辛烯基琥珀酸、壬烯基琥珀酸、癸烯基琥珀酸、十一烯基琥珀酸、十二烯基琥珀酸、十三烯基琥珀酸、十四烯基琥珀酸、十五烯基琥珀酸、十六烯基琥珀酸、十七烯基琥珀酸、十八烯基琥珀酸、十九烯基琥珀酸、二十烯基琥珀酸、tert-己烯基琥珀酸、2-乙基己烯基琥珀酸、2,4,6-三甲基庚烯基琥珀酸、2,4,6,8-四甲基壬烯基琥珀酸、或此等之鹽。

作為上述式(2)表示之烯基琥珀酸衍生物的具體例，可列舉N,N-雙(2-羥基乙基)戊烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(2-羥基乙基)己烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(2-羥基乙基)庚烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(2-羥基乙基)辛烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(2-羥基乙基)壬烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(2-羥基乙基)癸烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(2-羥基乙基)十一烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(2-羥基乙基)十二烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(2-羥基乙基)十三烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(2-羥基乙基)十四烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(2-羥基乙基)十五 烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(2-羥基乙基)十六烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(2-羥基乙基)十七烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(2-羥基乙基)十八烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(2-羥基乙基)十九烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(2-羥基乙基)二十烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(3-羥基丙基)戊烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(2-羥基丙基)辛烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(3-羥基丙基)辛烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(3-羥基丙基)十二烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(3-羥基丙基)十五烯基琥珀醯胺酸)、N-(2-羥基乙基)戊烯基琥珀醯胺酸、N-(2-羥基乙基)辛烯基琥珀醯胺酸、N-(2-羥基乙基)十二烯基琥珀醯胺酸、N-(2-羥基乙基)十五烯基琥珀醯胺酸、N-(3-羥基丙基)戊烯基琥珀醯胺酸、N-(2-羥基丙基)辛烯基琥珀醯胺酸、N-(3-羥基丙基)辛烯基琥珀醯胺酸、N-(3-羥基丙基)十二烯基琥珀醯胺酸、N-(3-羥基丙基)十五烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(聚氧乙烯)辛烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(聚氧丙烯)辛烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(聚氧乙烯)十二烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(聚氧丙烯)十二烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(甲基)辛烯基琥珀醯胺酸、N,N-雙(乙基)辛烯基琥珀醯胺酸、N-(乙基)辛烯基琥珀醯胺酸。

作為上述式(3)表示之烯基琥珀酸衍生物的具體例，可列舉N,N-雙(2-羥基乙基)戊烯基丁二醯胺、N,N-雙(2-羥基乙基)己烯基丁二醯胺、N,N-雙(2-羥基乙基)庚烯基丁二醯胺、N,N-雙(2-羥基乙基)辛烯基丁二醯胺、N,N-雙(2-羥基乙基)壬烯基丁二醯胺、N,N-雙(2-羥基乙 基)癸烯基丁二醯胺、N,N-雙(2-羥基乙基)十一烯基丁二醯胺、N,N-雙(2-羥基乙基)十二烯基丁二醯胺、N,N-雙(2-羥基乙基)十三烯基丁二醯胺、N,N-雙(2-羥基乙基)十四烯基丁二醯胺、N,N-雙(2-羥基乙基)十五烯基丁二醯胺、N,N-雙(2-羥基乙基)十六烯基丁二醯胺、N,N-雙(2-羥基乙基)十七烯基丁二醯胺、N,N-雙(2-羥基乙基)十八烯基丁二醯胺、N,N-雙(2-羥基乙基)十九烯基丁二醯胺、N,N-雙(2-羥基乙基)二十烯基丁二醯胺、N,N-雙(3-羥基丙基)戊烯基丁二醯胺、N,N-雙(2-羥基丙基)辛烯基丁二醯胺、N,N-雙(3-羥基丙基)辛烯基丁二醯胺、N,N-雙(3-羥基丙基)十二烯基丁二醯胺、N,N-雙(3-羥基丙基)十五烯基丁二醯胺、N-(2-羥基乙基)戊烯基丁二醯胺、N-(2-羥基乙基)辛烯基丁二醯胺、N-(2-羥基乙基)十二烯基丁二醯胺、N-(2-羥基乙基)十五烯基丁二醯胺、N-(3-羥基丙基)戊烯基丁二醯胺、N-(2-羥基丙基)辛烯基丁二醯胺、N-(3-羥基丙基)辛烯基丁二醯胺、N-(3-羥基丙基)十二烯基丁二醯胺、N-(3-羥基丙基)十五烯基丁二醯胺、N,N-雙(聚氧乙烯)辛烯基丁二醯胺、N,N-雙(聚氧丙烯)辛烯基丁二醯胺、N,N-雙(聚氧乙烯)十二烯基丁二醯胺、N,N-雙(聚氧丙烯)十二烯基丁二醯胺、N,N,N’-參(2-羥基乙基)辛烯基丁二醯胺、N,N,N’,N’-肆(2-羥基乙基)辛烯基丁二醯胺、N,N,N’,N’-肆(2-羥基丙基)辛烯基丁二醯胺、N,N,N’,N’-肆(3-羥基丙基)辛烯基丁二醯胺。

為了提昇對於水之烯基琥珀酸衍生物的溶解 性或分散性，可將上述式(1)、(2)表示之化合物的X₁、X₁₁、X₂₁作為陽離子(例如鈉離子、鉀離子等之金屬離子、或、銨離子、單乙醇銨離子、第四級銨離子等之胺的陽離子)。該情況下，藉由將X₁、X₁₁、X₂₁為氫原子之化合物摻合在研磨用組成物，對其加入與羧基進行中和反應之鹼性物質使其反應，可將X₁、X₁₁、X₂₁變換成金屬離子或陽離子。

作為鹼性物質，例如可列舉氫氧化鈉、氫氧化鉀等之鹼金屬之氫氧化物。又，可列舉單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、乙二胺、二乙烯三胺、三乙烯四胺、甲基胺、二甲基胺、三甲基胺、乙基胺、二乙基胺、三乙基胺、n-丁基胺、n-二丁基胺、n-三丁基胺、tert-丁基胺、乙二胺、N-乙基乙二胺、二乙烯三胺、三乙烯四胺、1,2-二胺基丙烷、氫氧化四甲基銨、環己基胺、N,N,N’,N’-四甲基乙二胺、吡咯啶、哌啶、哌嗪、吡啶、吡嗪、1,2-環己烷二胺、1,4-環己烷二胺、單異丙醇胺、二異丙醇胺、三異丙醇胺、N,N-雙(2-羥基乙基)-N-環己基胺、N,N,N’,N’-肆(2-羥基乙基)乙二胺、N,N,N’,N’-肆(2-羥基乙基)-1,6-六亞甲基二胺、二環己基胺、環己基二乙醇胺、嗎啉、2-胺基-2-甲基-1-丙醇、單乙醇二異丙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、N,N-二乙基乙醇胺等之胺。

聯吡啶衍生物可包含下述式(4)表示之化合物。

尚，上述式(4)表示之化合物的R₄₁、R₄₂、R₄₃、R₄₄、R₄₅、R₄₆、R₄₇、及R₄₈分別獨立表示氫原子、烷基、烯基、苯基、羥基、胺基、羧基、磺基、硝基、鹵素基、羥基烷基、羥基烯基、烷基胺基、烯基胺基、羧基烷基、羧基烯基、烷基磺基、烯基磺基、烷基硝基、烯基硝基、烷氧基、乙醯基、烷基醚基、烯基醚基、烷基鹵素基、烯基鹵素基。

作為聯吡啶衍生物的具體例，可列舉2,2’-聯吡啶、4,4’-二甲醇-2,2’-聯吡啶、5,5’-二羧酸-2,2’-聯吡啶、3-羥基-4,4’-二甲基-2,2’-聯吡啶、6-甲氧基-2,2’-聯吡啶、3,3’-二羥基-2,2’-聯吡啶、6,6’-二羥基-2,2’-聯吡啶、3-羧基-2,2’-聯吡啶、4-羧基-2,2’-聯吡啶、6-羧基-2,2’-聯吡啶、6-溴-2,2’-聯吡啶、6-氯-2,2’-聯吡啶、6,6’-二胺基-2,2’-聯吡啶、6,6’-二甲基-2,2’-聯吡啶、6,6’-二碸-2,2’-聯吡啶等之2,2’-聯吡啶衍生物及其鹽。

啡啉衍生物可包含下述式(5)表示之化合物。

尚，上述式(5)表示之化合物的R₅₁、R₅₂、R₅₃、R₅₄、R₅₅、R₅₆、R₅₇、及R₅₈分別獨立表示氫原子、烷基、烯基、苯基、羥基、胺基、羧基、磺基、硝基、鹵素基、羥基烷基、羥基烯基、烷基胺基、烯基胺基、羧基烷基、羧基烯基、烷基磺基、烯基磺基、烷基硝基、烯基硝基、烷氧基、乙醯基、烷基醚基、烯基醚基、烷基鹵素基、烯基鹵素基。

作為啡啉衍生物的具體例，可列舉1,10-啡啉、2-氯-1,10-啡啉、5-氯-1,10-啡啉、2-溴-1,10-啡啉、3-溴-1,10-啡啉、5-溴-1,10-啡啉、3,8-二溴-1,10-啡啉、2,9-二甲基-1,10-啡啉、2,9-二甲基-4,7聯苯基-1,10-啡啉、3,4,7,8-四甲基-1,10-啡啉、5-胺基-1,10-啡啉、4,7-二羥基-1,10-啡啉、3,4,7,8-四羥基-1,10-啡啉、1,10-啡啉-2,9-二羧酸、5-硝基-1,10-啡啉-2,9-二羧酸、1,10-啡啉-2,9-二磺酸、4,7-二苯基-1,10-啡啉-2,9-二磺酸、1,10-啡啉-5,6-二酮、及其鹽、以及其水合物。

作為三唑衍生物，可列舉具有三唑構造之化合物及其鹽。作為具體之例，例如可列舉1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、1-甲基-1,2,4-三唑、3-硝基-1,2,4-三唑、1H-1,2,4-三唑-3-硫醇、4-(1,2,4-三唑-1-基)酚、甲基-1H- 1,2,4-三唑-3-羧酸酯、1,2,4-三唑-3-羧酸、1,2,4-三唑-3-羧酸甲酯、3-胺基-1H-1,2,4-三唑、3-胺基-5-苄基-4H-1,2,4-三唑、3-胺基-5-甲基-4H-1,2,4-三唑、3-胺基-1,2,4-三唑-5-硫醇、3,5-二胺基-1H-1,2,4-三唑、3-溴-5-硝基-1,2,4-三唑、4-胺基-1,2,4-三唑、4-胺基-3,5-二丙基-4H-1,2,4-三唑、4-胺基-3,5-二甲基-4H-1,2,4-三唑、4-胺基-3,5-二庚基-4H-1,2,4-三唑、5-甲基-1,2,4-三唑-3,4-二胺。

作為苯并(Benzo)三唑衍生物的，可列舉具有苯并(Benzo)三唑構造之化合物及其鹽。作為具體之例，例如可列舉苯并(Benzo)三唑、2,2’-[[(甲基-1H-苯并(Benzo)三唑-1-基)甲基]亞胺基]雙乙醇、5-氯苯并(Benzo)三唑、1H-苯并(Benzo)三唑-1-甲醇、5-甲基-1H-苯并(Benzo)三唑、5-硝基苯并(Benzo)三唑、5-羧基苯并(Benzo)三唑、5-胺基苯并(Benzo)三唑、5,6-二甲基-1H-苯并(Benzo)三唑、1-(1”,2’-二羧基乙基)苯并(Benzo)三唑、1-[N,N-雙(羥基乙基)胺基甲基]苯并(Benzo)三唑、1-[N,N-雙(羥基乙基)胺基甲基]-5-甲基苯并(Benzo)三唑、1-[N,N-雙(羥基乙基)胺基甲基]-4-甲基苯并(Benzo)三唑。

作為於分子中不具有碳-碳多重鍵之胺，例如可包含下述式(6)、(7)、(8)、(9)表示之化合物。

尚，上述式(6)表示之化合物的R₆₁、R₆₂、R₆₃分別獨立為氫原子、烷基、或羥基烷基、或分別獨立為羧基烷基、磷烷基(Phosphoalkyl)、或磺烷基。R₆₁、R₆₂、R₆₃可彼此與碳鍵結而形成環狀構造(環狀烷烴)。惟，R₆₁、R₆₂、R₆₃的3個無法同時為氫原子。R₆₁、R₆₂、R₆₃所具有之碳鏈可為直鏈狀亦可為分支狀。R₆₁、R₆₂、R₆₃中之至少一個為羥基烷基時，由於提高磁性粒子之抗氧化效果故較佳。羥基烷基所具有之羥基的個數可為1個，亦可為2個以上。

作為上述式(6)表示之化合物的具體例，例如可列舉甲基胺、二甲基胺、三甲基胺、乙基胺、二乙基胺、三乙基胺、n-丁基胺、tert-丁基胺、二丁基胺、三丁基胺、單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、單丙醇胺、3-甲基胺基-1,2-丙烷二醇、二異丙醇胺、次氮基三亞甲基膦酸、次氮基三乙酸、3,3’,3”-次氮基三丙酸、吡咯啶、1-甲基吡咯啶、2-甲基吡咯啶、1-乙基吡咯啶、2-乙基吡咯啶、1-(2-羥基乙基)吡咯啶、2-(羥基甲基)吡咯啶、2-(2-羥基乙基)-1-甲基吡咯啶、哌啶、3,5-二甲基哌啶、2-乙基哌啶、2-甲基哌啶、4-甲基哌啶、1-哌啶乙醇、1-乙醇-4-丙醇哌啶、3-奎寧環醇、環己基胺、N,N-雙(2-羥基乙基)異丙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺。

上述式(7)表示之化合物的R₇₁、R₇₂、R₇₃、R₇₄分別獨立表示氫原子、烷基、或羥基烷基。R₇₁、R₇₂、R₇₃、R₇₄可彼此與碳鍵結而形成環狀構造(環狀烷烴)。上述式(7)表示之化合物的R₇₅係表示碳數2以上10以下之伸烷基。R₇₁、R₇₂、R₇₃、R₇₄、R₇₅所具有之碳鏈可為直鏈狀、分支狀、環狀之任一種。R₇₁、R₇₂、R₇₃、R₇₄中之至少一個為羥基烷基時，由於提高磁性粒子的抗氧化效果故較佳。羥基烷基所具有之羥基的個數可為1個，亦可為2個以上。

作為上述式(7)表示之化合物的具體例，例如可列舉乙二胺、N-甲基乙二胺、N-乙基乙二胺、N,N-二甲基乙二胺、N,N-二乙基乙二胺、N,N’-二乙基乙二胺、N,N,N’,N’-四甲基乙二胺、1,2-二胺基丙烷、2-甲基-1,2-丙烷二胺、N-(2-羥基乙基)乙二胺、N,N’-雙(2-羥基乙基)乙二胺、N-(2-羥基丙基)乙二胺、N,N,N’,N’-肆(2-羥基乙基)乙二胺、1,3-二胺基丙烷、2,2-二甲基-1,3-丙烷二胺、2-甲基-1,3-丙烷二胺、N-甲基-1,3-丙烷二胺、N,N-二甲基-1,3-丙烷二胺、N,N-二乙基-1,3-丙烷二胺、N,N-雙(2-羥基乙基)-1,3-二胺基丙烷、哌嗪、1-甲基哌嗪、1-乙基哌嗪、N,N’-二甲基哌嗪、1-(2-羥基乙基)哌嗪、4-甲基哌嗪-1-乙醇、1,4-雙(2-羥基乙基)哌嗪、1,2-環己烷二胺、1,4- 環己烷二胺。

上述式(8)表示之化合物的R₈₁、R₈₂、R₈₃、R₈₄、R₈₅分別獨立表示氫原子、烷基、或羥基烷基。R₈₁、R₈₂、R₈₃、R₈₄、R₈₅可彼此與碳鍵結而形成環狀構造(環狀烷烴)。上述式(8)表示之化合物的R₈₆、R₈₇係表示碳數2以上10以下之伸烷基。R₈₁、R₈₂、R₈₃、R₈₄、R₈₅、R₈₆、R₈₇所具有之碳鏈可為直鏈狀、分支狀、環狀之任一種。R₈₁、R₈₂、R₈₃、R₈₄、R₈₅中之至少一個為羥基烷基時，由於提高磁性粒子的抗氧化效果故較佳。羥基烷基所具有之羥基的個數可為1個，亦可為2個以上。

作為上述式(8)表示之化合物的具體例，例如可列舉二乙烯三胺、N,N,N’,N”,N”-五甲基二乙烯三胺、N,N,N’,N”,N”-伍(2-羥基丙基)二乙烯三胺、3,3’-二胺基二丙基胺、N-(3-胺基丙基)-N-甲基-1,3-丙烷二胺、N’-[3-(二甲基胺基)丙基]-N,N-二甲基-1,3-丙烷二胺、2,6,10-三甲基-2,6,10-三氮雜十一烷、N-(2-胺基乙基)哌嗪、1,4,7-三氮雜環壬烷、N,N,N’,N”,N”-伍(2-羥基丙基)二乙烯三胺。

上述式(9)表示之化合物的R₉₁、R₉₂、R₉₃、R₉₄、R₉₅、R₉₆分別獨立表示氫原子、烷基、或羥基烷基。R₉₁、R₉₂、R₉₃、R₉₄、R₉₅、R₉₆可彼此碳鍵結而形成環狀構造(環狀烷烴)。上述式(9)表示之化合物的R₉₇、R₉₈、R₉₉係表示碳數2以上10以下之伸烷基。R₉₁、R₉₂、R₉₃、R₉₄、R₉₅、R₉₆、R₉₇、R₉₈、R₉₉所具有之碳鏈可為直鏈狀、分支狀、環狀之任一種。R₉₁、R₉₂、R₉₃、R₉₄、R₉₅、R₉₆中之至少一個為羥基烷基時，由於提高磁性粒子的抗氧化效果故較佳。羥基烷基所具有之羥基的個數可為1個，亦可為2個以上。

作為上述式(9)表示之化合物的具體例，例如可列舉三乙烯四胺、N,N,N’,N”,N''',N'''-六甲基三乙烯四胺、1,4-雙(3-胺基丙基)哌嗪、1,4,7,10-四氮雜環十二烷。

烯基琥珀酸衍生物、聯吡啶衍生物、啡啉衍生物、三唑衍生物、苯并(Benzo)三唑衍生物中亦包含烯基琥珀酸、2,2’-聯吡啶、1,10-啡啉、三唑、苯并(Benzo)三唑。抗氧化劑可1種單獨使用，亦可併用2種以上。

本實施形態之研磨用組成物中之抗氧化劑的含量較佳為5質量%以下，更佳為1質量%以下。若抗氧化劑的含量為5質量%以下，發揮保護研磨對象物的表面， 並且維持研磨速度的效果。又，本實施形態之研磨用組成物中之抗氧化劑的含量，較佳為0.01質量%以上，更佳為0.1質量%以上。若抗氧化劑的含量為0.01質量%以上，磁性粒子之抗氧化的效果優異。

4. 針對水

本實施形態之研磨用組成物作為用以分散或溶解磁性粒子、抗氧化劑等之各成分的分散媒或溶劑，而含有液狀介質。液狀介質的種類並非被特別限定者，雖可列舉水、有機溶劑等，但從防爆對策、環境負荷減低的觀點來看，較佳為含有水。從抑制阻礙其他各成分的作用的觀點來看，較佳為儘可能不含有雜質之水。具體而言，較佳為在離子交換樹脂去除雜質離子後，通過過濾器去除異物之純水、超純水、或蒸餾水。

5. 針對非磁性之研磨粒子

本實施形態之研磨用組成物可進一步含有非磁性之研磨粒子。研磨用組成物含有非磁性之研磨粒子時，施加磁場於研磨用組成物形成磁簇時，由於研磨粒子與磁性粒子一起形成磁簇，提昇本實施形態之研磨用組成物的研磨性能、研磨速度的同時，研磨對象物的被研磨面的表面品質變更良好。

研磨粒子的種類雖並非被特別限定，但例如可列舉無機粒子、有機粒子、有機無機複合粒子。作為無 機粒子的具體例，可列舉由二氧化矽、氧化鋁、氧化鈰、氧化鈦等之金屬氧化物所構成之粒子、或氮化矽粒子、碳化矽粒子、氮化硼粒子。作為有機粒子的具體例，可列舉聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)粒子。研磨粒子可1種單獨使用，亦可併用2種以上。又，可使用市售品，亦可使用合成品。上述之研磨粒子當中，更佳為二氧化矽、氧化鋁。

進而，研磨粒子可為實施表面修飾者。實施表面修飾之研磨粒子，例如可藉由將鋁、鈦、鋯等之金屬或該等之氧化物與研磨粒混合，將鋁、鈦、鋯等之金屬或該等之氧化物摻雜在研磨粒的表面、或將有機酸固定化在研磨粒的表面而得到。實施表面修飾之研磨粒子當中，特佳為固定化有機酸之膠體二氧化矽。

對膠體二氧化矽的表面之有機酸的固定化，例如可藉由於膠體二氧化矽的表面化學性鍵結有機酸之官能基來進行。單單僅共存膠體二氧化矽與有機酸，無法發揮對膠體二氧化矽之有機酸的固定化。若將有機酸之一種即磺酸固定化在膠體二氧化矽，例如可以“Sulfonic acid-functionalized silica through quantitative oxidation of thiol groups”,Chem.Commun.246-247(2003)所記載之方法進行。具體而言，可藉由將3-巰基丙基三甲氧基矽烷等之具有硫醇基之矽烷偶合劑偶合於膠體二氧化矽後，以過氧化氫氧化硫醇基，而得到磺酸固定化在表面之膠體二氧化矽。

或若將羧酸固定化在膠體二氧化矽，例如可 以“Novel Silane Coupling Agents Containing a Photolabile 2-Nitrobenzyl Ester for Introduction of a Carboxy Group on the Surface of Silica Gel”,Chemistry Letters,3,228-229(2000)所記載之方法進行。具體而言，可藉由將包含光反應性2-硝基苄酯之矽烷偶合劑偶合於膠體二氧化矽後，進行光照射，而得到羧酸固定化在表面之膠體二氧化矽。

又，如日本特開平4-214022號公報所揭示，亦可添加鹼性鋁鹽或鹼性鋯鹽使用經製得之陽離子性二氧化矽。

研磨粒子的平均1次粒徑較佳為100μm以下，更佳為50μm以下。若平均1次粒徑為100μm以下，於漿料狀之研磨用組成物的保管中即使磁性粒子沉澱亦容易進行再分散。又，研磨粒子的平均1次粒徑較佳為5nm以上，更佳為10nm以上，再更佳為50nm以上。若研磨粒子的平均1次粒徑為如此之範圍，可有效率地研磨研磨對象物。

研磨粒子之平均1次粒徑，重視表面品質之拋光研磨的情況下，較佳為1000nm以下，更佳為500nm以下，再更佳為300nm以下。若研磨粒子之平均1次粒徑為如此之範圍，除了有效率研磨，可更加抑制於使用研磨用組成物進行研磨後之研磨對象物的表面產生劃傷。

又，研磨粒子之平均1次粒徑，重視加工效率之中拋光研磨的情況下，較佳為1μm以上，更佳為5μm以上，再更佳為10μm以上。若研磨粒子之平均1次粒徑為如此之範圍，可以非常高之效率進行研磨。

研磨粒子之平均1次粒徑，例如係根據以BET法測定之研磨粒子的比表面積算出。又，亦可用動態光散射法測定。

先行實施重視加工效率之中拋光研磨後，重視表面品質之拋光研磨等分成複數階段進行研磨的情況下，於各階段可使用平均1次粒徑不同之研磨粒子。

本實施形態之研磨用組成物中之研磨粒子的含量較佳為40質量%以下，更佳為20質量%以下。若研磨粒子的含量為40質量%以下，發揮研磨用組成物的安定性、流動性之確保與藉此之研磨精度的維持的效果。又，本實施形態之研磨用組成物中之研磨粒子的含量較佳為1質量%以上，更佳為5質量%以上。若研磨粒子的含量為1質量%以上，發揮研磨速度、表面品質改善的效果。

6. 針對研磨用組成物的pH

本實施形態之研磨用組成物的pH並非被特別限定。惟，因抗氧化劑的種類可成為5以上，亦可成為7以上。又，本實施形態之研磨用組成物的pH因抗氧化劑的種類可成為未滿14，亦可成為12以下。若pH為此範圍之研磨用組成物，難以產生磁性粒子的凝集，可有效率地研磨研磨對象物。尚，使用鐵粉作為磁性粒子的情況下，研磨用組成物的pH更佳為5以上12以下，再更佳為7以上12以下。

研磨用組成物的pH可藉由添加pH調整劑來調整。為了將研磨用組成物的pH調整成所期望之值，如有必 要使用之pH調整劑可為酸及鹼之任一種，又，亦可為無機化合物及有機化合物之任一種。

作為pH調整劑之鹼的具體例，可列舉鹼金屬之氫氧化物或其鹽、鹼土類金屬之氫氧化物或其鹽、氫氧化第四級銨或其鹽、氨、胺等。

作為鹼金屬的具體例，可列舉鉀、鈉等。又，作為鹼土類金屬的具體例，可列舉鈣、鍶等。進而，作為鹽的具體例，可列舉碳酸鹽、碳酸氫鹽、硫酸鹽、乙酸鹽等。進而，作為第四級銨的具體例，可列舉四甲基銨、四乙基銨、四丁基銨等。

作為氫氧化第四級銨化合物，係包含氫氧化第四級銨或其鹽，作為具體例，可列舉氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、氫氧化四丁基銨等。

進而，作為胺的具體例，可列舉甲基胺、二甲基胺、三甲基胺、乙基胺、二乙基胺、三乙基胺、乙二胺、單乙醇胺、N-(β-胺基乙基)乙醇胺、六亞甲基二胺、二乙烯三胺、三乙烯四胺、無水哌嗪、哌嗪六水合物、1-(2-胺基乙基)哌嗪、N-甲基哌嗪、胍等。

作為pH調整劑之酸，可列舉無機酸或有機酸。作為無機酸的具體例，可列舉硫酸、硝酸、硼酸、碳酸、次磷酸、亞磷酸、磷酸等。又，作為有機酸的具體例，可列舉甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、吉草酸、2-甲基丁酸、n-己酸、3,3-二甲基丁酸、2-乙基丁酸、4-甲基戊酸、n-庚酸、2-甲基己酸、n-辛酸、2-乙基己酸、苯甲 酸、甘醇酸、水楊酸、甘油酸、草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、馬來酸、苯二甲酸、蘋果酸、酒石酸、檸檬酸、酸等之羧酸、或甲烷磺酸、乙烷磺酸、2-羥乙磺酸(Isethionic acid)等之有機硫酸等。此等pH調整劑可1種單獨使用，亦可併用2種以上。

7. 針對研磨用組成物的電氣傳導度

本實施形態之研磨用組成物的電氣傳導度雖並非被特別限定，但較佳為20mS/cm以下，更佳為10mS/cm以下，再更佳為5mS/cm以下。若電氣傳導度為如此之範圍，由於磁性粒子的氧化更加困難，故可進一步延長研磨用組成物的壽命。電氣傳導度可藉由研磨用組成物所添加之鹽化合物的種類、添加量等來調控。

8. 針對其他添加劑

本實施形態之研磨用組成物中如有必要，可進一步添加氧化劑(例如含有鹵素原子之氧化劑)、錯化劑、金屬防腐蝕劑、界面活性劑、水溶性高分子、防腐劑、防霉劑等之其他添加劑。以下針對其他添加劑進行說明。

(1)針對氧化劑

本實施形態之研磨用組成物中可包含氧化劑。氧化劑的種類雖並非被特別限定，但作為例，可列舉過氧化氫、過乙酸、過碳酸鹽、過氧化尿素、高氯酸鹽、過硫酸鹽 等。惟，為了抑制磁性粒子的氧化，本實施形態之研磨用組成物中之氧化劑的含量較佳為10質量%以下，更佳為5質量%以下。而且，使用鐵粉作為磁性粒子的情況下，再更佳為研磨用組成物實質上未含有氧化劑。

尚，所謂實質上未含有氧化劑，係指至少刻意不含有氧化劑。據此，源自原料或製法等，不可避免包含微量(例如，在研磨用組成物中之氧化劑的莫耳濃度為0.0005莫耳/L以下，較佳為0.0001莫耳以下，更佳為0.00001莫耳/L以下，特佳為0.000001莫耳/L以下)的氧化劑之研磨用組成物，亦可包含在於此所謂實質上未含有氧化劑之研磨用組成物的概念。

(2)針對金屬防腐蝕劑

本實施形態之研磨用組成物中可包含金屬防腐蝕劑。為了抑制研磨對象物的腐蝕，可藉由添加金屬防腐蝕劑，來防止金屬的溶解。藉由使用金屬防腐蝕劑，可抑制研磨對象物的表面之表面粗糙等之惡化。

可使用之金屬防腐蝕劑雖並非被特別限定，但較佳為雜環式化合物。雜環式化合物中之雜環的員環數並未特別限定。又，雜環式化合物可為單環化合物，亦可為具有縮合環之多環化合物。金屬防腐蝕劑可1種單獨使用，亦可併用2種以上。又，金屬防腐蝕劑可使用市售品，亦可使用合成品。進而，可使用具有磁性粒子之抗氧化劑效果的防腐蝕劑。

作為可作為金屬防腐蝕劑使用之雜環化合物的具體例，可列舉吡咯化合物、吡唑化合物、咪唑化合物、三唑化合物、四唑化合物、吡啶化合物、吡嗪化合物、噠嗪化合物、氮茚化合物、吲哚嗪化合物、吲哚化合物、異吲哚化合物、吲唑化合物、嘌呤化合物、喹嗪化合物、喹啉化合物、異喹啉化合物、萘啶化合物、酞嗪化合物、喹喔啉化合物、喹唑啉化合物、噌啉化合物、蝶啶化合物、噻唑化合物、異噻唑化合物、噁唑化合物、異噁唑化合物、呋咱化合物等之含氮雜環化合物。

進而，列舉具體之例時，作為吡唑化合物之例，可列舉1H-吡唑、4-硝基-3-吡唑羧酸、3,5-吡唑羧酸、3-胺基-5-苯基吡唑、5-胺基-3-苯基吡唑、3,4,5-三溴吡唑、3-胺基吡唑、3,5-二甲基吡唑、3,5-二甲基-1-羥基甲基吡唑、3-甲基吡唑、1-甲基吡唑、3-胺基-5-甲基吡唑、4-胺基-吡唑并[3,4-d]嘧啶、異嘌呤醇、4-氯-1H-吡唑并[3,4-D]嘧啶、3,4-二羥基-6-甲基吡唑并(3,4-B)-吡啶、6-甲基-1H-吡唑并[3,4-b]吡啶-3-胺等。

作為咪唑化合物之例，可列舉咪唑、1-甲基咪唑、2-甲基咪唑、4-甲基咪唑、1,2-二甲基吡唑、2-乙基-4-甲基咪唑、2-異丙基咪唑、苯并(Benzo)咪唑、5,6-二甲基苯并(Benzo)咪唑、2-胺基苯并(Benzo)咪唑、2-氯苯并(Benzo)咪唑、2-甲基苯并(Benzo)(Benzo)咪唑、2-(1-羥基乙基)苯并咪唑、2-羥基苯并咪唑、2-苯基苯并咪唑、2,5-二甲基苯并咪唑、5-甲基苯并(Benzo)咪唑、5-硝基苯 并咪唑、1H-嘌呤等。

作為三唑化合物之例，可列舉1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、1-甲基-1,2,4-三唑、甲基-1H-1,2,4-三唑-3-羧酸酯、1,2,4-三唑-3-羧酸、1,2,4-三唑-3-羧酸甲酯、1H-1,2,4-三唑-3-硫醇、3,5-二胺基-1H-1,2,4-三唑、3-胺基-1,2,4-三唑-5-硫醇、3-胺基-1H-1,2,4-三唑、3-胺基-5-苄基-4H-1,2,4-三唑、3-胺基-5-甲基-4H-1,2,4-三唑、3-硝基-1,2,4-三唑、3-溴-5-硝基-1,2,4-三唑、4-(1,2,4-三唑-1-基)酚、4-胺基-1,2,4-三唑、4-胺基-3,5-二丙基-4H-1,2,4-三唑、4-胺基-3,5-二甲基-4H-1,2,4-三唑、4-胺基-3,5-二庚基-4H-1,2,4-三唑、5-甲基-1,2,4-三唑-3,4-二胺、1H-苯并(Benzo)三唑、1-羥基苯并(Benzo)三唑、1-胺基苯并(Benzo)三唑、1-羧基苯并(Benzo)三唑、5-氯-1H-苯并(Benzo)三唑、5-硝基-1H-苯并(Benzo)三唑、5-羧基-1H-苯并(Benzo)三唑、5-甲基-1H-苯并(Benzo)三唑、5,6-二甲基-1H-苯并(Benzo)三唑、1-(1’,2’-二羧基乙基)苯并(Benzo)三唑、1-[N,N-雙(羥基乙基)胺基甲基]苯并(Benzo)三唑、1-[N,N-雙(羥基乙基)胺基甲基]-5-甲基苯并(Benzo)三唑、1-[N,N-雙(羥基乙基)胺基甲基]-4-甲基苯并(Benzo)三唑等。

作為四唑化合物之例，可列舉1H-四唑、5-甲基四唑、5-胺基四唑、5-苯基四唑等。

作為吲唑化合物之例，可列舉1H-吲唑、5-胺基-1H-吲唑、5-硝基-1H-吲唑、5-羥基-1H-吲唑、6-胺基-1H-吲 唑、6-硝基-1H-吲唑、6-羥基-1H-吲唑、3-羧基-5-甲基-1H-吲唑等。

作為吲哚化合物之例，可列舉1H-吲哚、1-甲基-1H-吲哚、2-甲基-1H-吲哚、3-甲基-1H-吲哚、4-甲基-1H-吲哚、5-甲基-1H-吲哚、6-甲基-1H-吲哚、7-甲基-1H-吲哚、4-胺基-1H-吲哚、5-胺基-1H-吲哚、6-胺基-1H-吲哚、7-胺基-1H-吲哚、4-羥基-1H-吲哚、5-羥基-1H-吲哚、6-羥基-1H-吲哚、7-羥基-1H-吲哚、4-甲氧基-1H-吲哚、5-甲氧基-1H-吲哚、6-甲氧基-1H-吲哚、7-甲氧基-1H-吲哚、4-氯-1H-吲哚、5-氯-1H-吲哚、6-氯-1H-吲哚、7-氯-1H-吲哚、4-羧基-1H-吲哚、5-羧基-1H-吲哚、6-羧基-1H-吲哚、7-羧基-1H-吲哚、4-硝基-1H-吲哚、5-硝基-1H-吲哚、6-硝基-1H-吲哚、7-硝基-1H-吲哚、4-腈-1H-吲哚、5-腈-1H-吲哚、6-腈-1H-吲哚、7-腈-1H-吲哚、2,5-二甲基-1H-吲哚、1,2-二甲基-1H-吲哚、1,3-二甲基-1H-吲哚、2,3-二甲基-1H-吲哚、5-胺基-2,3-二甲基-1H-吲哚、7-乙基-1H-吲哚、5-(胺基甲基)吲哚、2-甲基-5-胺基-1H-吲哚、3-羥基甲基-1H-吲哚、6-異丙基-1H-吲哚、5-氯-2-甲基-1H-吲哚等。

此等當中，較佳為雜環化合物為三唑化合物，尤其是以1H-苯并(Benzo)三唑、5-甲基-1H-苯并(Benzo)三唑、5,6-二甲基-1H-苯并(Benzo)三唑、1-[N,N-雙(羥基乙基)胺基甲基]-5-甲基苯并(Benzo)三唑、1-[N,N-雙(羥基乙基)胺基甲基]-4-甲基苯并(Benzo)三唑、1,2,3-三 唑、1,2,4-三唑較佳。

此等之雜環化合物由於對研磨對象物的表面之化學性或物理性吸附力高，可在研磨對象物的表面形成更強固之保護膜。此係於提昇使用本實施形態之研磨用組成物進行研磨後之研磨對象物的表面之平坦性上為有利。

研磨用組成物中之金屬防腐蝕劑的含量較佳為0.0001質量%以上，更佳為0.0005質量%以上。隨著金屬防腐蝕劑的含量增多，可防止金屬的溶解，提昇段差解消性。又，研磨用組成物中之金屬防腐蝕劑的含量較佳為1質量%以下，更佳為0.5質量%以下，再更佳為0.1質量%以下。隨著金屬防腐蝕劑的含量減少，提昇研磨速度。

(3)針對界面活性劑

本實施形態之研磨用組成物中可包含界面活性劑。由於界面活性劑藉由對研磨後之被研磨面賦予親水性，使研磨後之被研磨面的洗淨效率變良好，可防止對被研磨面之汚染的附著等。界面活性劑的種類雖並非被特別限定，但可為陰離子性界面活性劑、陽離子性界面活性劑、兩性界面活性劑、及非離子性界面活性劑之任一者。此等界面活性劑可1種單獨使用，亦可併用2種以上。

作為陰離子性界面活性劑之例，可列舉聚氧乙烯烷基醚乙酸、聚氧乙烯烷基硫酸酯、烷基硫酸酯、聚氧乙烯烷基醚硫酸、烷基醚硫酸、烷基苯磺酸、烷基磷酸酯、聚氧乙烯烷基磷酸酯、聚氧乙烯磺基琥珀酸、烷基磺 基琥珀酸、烷基萘磺酸、烷基聯苯基醚二磺酸、及此等之鹽等。

作為陽離子性界面活性劑之例，可列舉烷基三甲基銨鹽、烷基二甲基銨鹽、烷基苄基二甲基銨鹽、烷基胺鹽等。

作為兩性界面活性劑之例，可列舉烷基甜菜鹼、烷基胺氧化物等。

作為非離子性界面活性劑之例，可列舉聚氧乙烯烷基醚、聚氧化烯烷基醚、山梨糖醇脂肪酸酯、甘油脂肪酸酯、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯烷基胺、烷基烷醇醯胺等。

研磨用組成物中之界面活性劑的含量較佳為0.0001質量%以上，更佳為0.001質量%以上。隨著界面活性劑的含量增多，使研磨後之被研磨面的洗淨效率變良好。又，研磨用組成物中之界面活性劑的含量較佳為1質量%以下，更佳為0.1質量%以下。隨著界面活性劑的含量減少，減少對被研磨面之界面活性劑的殘存量，更加提昇洗淨效率。

(4)針對水溶性高分子

本實施形態之研磨用組成物中可包含水溶性高分子。研磨用組成物中添加水溶性高分子時，磁性粒子及研磨粒子的再分散性變更佳。水溶性高分子的種類雖並非被特別限定，但作為具體例，可列舉聚苯乙烯磺酸鹽、聚異戊二 烯磺酸鹽、聚丙烯酸鹽、聚馬來酸、聚衣康酸、聚乙酸乙烯酯、聚乙烯醇、聚甘油、聚乙烯吡咯烷酮、異戊二烯磺酸與丙烯酸之共聚物、聚乙烯吡咯烷酮聚丙烯酸共聚物、聚乙烯吡咯烷酮乙酸乙烯酯共聚物、萘磺酸福馬林縮合物之鹽、二烯丙基胺鹽酸鹽二氧化硫共聚物、羧基甲基纖維素、羧基甲基纖維素之鹽、羥基乙基纖維素、羥基丙基纖維素、α-纖維素、β-纖維素、γ-纖維素、支鏈澱粉、殼聚醣、殼聚醣鹽類。此等之水溶性高分子可1種單獨使用，亦可併用2種以上。

研磨用組成物中之水溶性高分子的含量較佳為0.0001質量%以上，更佳為0.001質量%以上。隨著水溶性高分子的含量增多，使磁性粒子及研磨粒子的再分散性變良好。又，研磨用組成物中之水溶性高分子的含量較佳為1質量%以下，更佳為0.1質量%以下。隨著水溶性高分子的含量減少，減少對被研磨面之高分子的殘存量，更加提昇洗淨效率。

(5)針對防腐劑、防霉劑

本實施形態之研磨用組成物中可包含防腐劑、防霉劑。防腐劑及防霉劑的種類雖並非被特別限定，但作為具體例，可列舉2-甲基-4-異噻唑啉-3-酮或5-氯-2-甲基-4-異噻唑啉-3-酮等之異噻唑啉系防腐劑、或對氧苯甲酸酯類、或苯氧基乙醇等。此等防腐劑及防霉劑可1種單獨使用，亦可併用2種以上。

9. 針對研磨用組成物的製造方法

本實施形態之研磨用組成物的製造方法雖並非被特別限定，但例如可藉由將磁性粒子、抗氧化劑等之各成分於水中進行攪拌混合製得。混合各成分時之溫度雖並未特別限制，但較佳為10℃以上40℃以下，為了提昇溶解速度可進行加熱。又，混合時間亦未特別限定。

或可藉由個別途徑調製含有磁性粒子之第1成分、與含有水之第2成分，混合此等兩成分，來製造研磨用組成物。此時，抗氧化劑可含在第1成分，亦可含在第2成分，亦可含在兩成分。又，或可於第1成分與第2成分的混合物添加抗氧化劑，亦可同時混合第1成分與第2成分與抗氧化劑。

由於接觸磁性粒子與水時，進行磁性粒子的氧化，第1成分與第2成分的混合以於研磨對象物的研磨以前進行較佳，更佳為儘可能於接近研磨開始時期以定時進行。具體而言，第1成分與第2成分的混合，較佳為於研磨開始時之1週前之後進行，更佳為於研磨開始時之2日前之後進行，再更佳為於研磨開始時之24小時前之後進行，特佳為就在研磨開始時前(例如1小時前之後、30分鐘前之後)進行。

若將混合第1成分與第2成分之步驟就在研磨開始時期之前進行，由於磁性粒子的氧化幾乎未進行，幾乎未產生研磨用組成物的研磨性能之隨著時間降低。因 此，若使用如此進行所製造之研磨用組成物，來研磨研磨對象物，可進行高精度拋光研磨對象物之研磨。又，氫的發生量亦可抑制在少量。進而，由於分開保管經調製之第1成分與第2成分，就在研磨開始時期之前混合即可，保存安定性非常優異，亦可通過長期間之保存。

10. 針對磁氣研磨方法

使用本實施形態之研磨用組成物之研磨對象物的研磨方法雖並非被特別限定，但由於本實施形態之研磨用組成物可藉由磁場的施加，沿著磁力線形成刷子狀之磁簇，故可使用在磁氣研磨方法。

若藉由磁場的施加，含有磁性粒子之磁簇形成在研磨用組成物內，除了使磁簇與研磨對象物的被研磨面接觸之外，使研磨對象物及磁簇的一者或雙方移動，滑動接觸磁簇與研磨對象物的被研磨面。如此，藉由磁簇與研磨對象物的被研磨面的接觸地點的剪切應力，來研磨研磨對象物的被研磨面。由於磁簇亦可以遵循複雜之形狀或凹凸形狀的方式進行變形，不僅平面的研磨亦可三次元性形狀之面的研磨。

於此，邊參照圖1，邊說明磁氣研磨方法之一例。圖1所示之磁氣研磨裝置，係具備：收容研磨用組成物1之容器10、與施加磁場於容器10所收容之研磨用組成物1之磁場施加部12、與保持研磨對象物5之保持部14、與使連結在保持部14之自轉軸16回轉之第一驅動部18、與自 轉軸16可回轉連接之圓板20、與使圓板20回轉使保持部14公轉之第二驅動部22。

磁場施加部12，已設置在容器10的底部所設置之圓板狀的研磨平台24，變成可施加磁場於容器10所收容之研磨用組成物1。若研磨平台24變成可施加磁場於容器10所收容之研磨用組成物1，可設置在容器10內，亦可設置在容器10外。磁場施加部12的構成並非被特別限定者，例如可用永久磁石或電磁石構成。於圖1之例，磁場施加部12係以永久磁石構成，於研磨平台24安裝複數之永久磁石。施加之磁場的強度雖並非被特別限定，但可以磁場施加部12當中與磁簇3接觸之面的表面磁束密度成為100mT以上3000mT以下(亦即1000高斯以上300000高斯以下)的方式進行調整。

又，以磁力線面相對於研磨平台24的板面面向成為垂直的方向(以下有時亦記為「垂直方向」)的方式，全部永久磁石係將同種之磁極面向垂直方向之同一方向側安裝在研磨平台24。因此，研磨用組成物1內所形成之磁簇3係往相當於研磨平台24的板面成為垂直的方向延伸。惟，以磁力線面相對於研磨平台24的板面面向成為水平的方向的方式，將永久磁石安裝在研磨平台24。例如，分成S極(亦可為N極)面向垂直方向之一方向側(例如上方側)安裝之永久磁石、與S極(亦可為N極)面向垂直方向之另一方向側(例如下方側)安裝之永久磁石，針對相鄰之永久磁石，若以彼此S極面向垂直方向之相反方向的方式進 行，成為面向磁力線相對於研磨平台24的板面成為水平之方向。

將保持部14所保持之研磨對象物5，與研磨平台24之間開出垂直方向之間隔進行配置。此時，研磨對象物5與研磨平台24之間的垂直方向之間隔，成為接觸研磨對象物5與磁簇3的大小。其次，將往垂直方向延伸之自轉軸16藉由第一驅動部18回轉的同時，將與研磨平台24成為平行之圓板20藉由第二驅動部22回轉。由於自轉軸16安裝在較圓板20之中心更外徑側，藉由使自轉軸16回轉並且使圓板20回轉，可邊將研磨對象物5(保持部14)相對於研磨平台24的板面保持平行邊自轉並且公轉。第一驅動部18與第二驅動部22例如可藉由馬達構成。

藉由如此之研磨對象物5的自轉運動與公轉運動，由於接觸研磨對象物5與磁簇3並且進行相對移動，滑動接觸磁簇3與研磨對象物5的被研磨面，高精度拋光研磨對象物5之被研磨面(例如鏡面拋光)。

尚，作為磁氣研磨裝置，可利用CNC研削裝置。又，圖1之磁氣研磨裝置，雖成為使研磨對象物5移動，磁場施加部12未移動之構成，與此相反的是可為使磁場施加部12移動未使研磨對象物5移動之構成的磁氣研磨裝置。或亦可為使研磨對象物5與磁場施加部12的雙方移動之構成的磁氣研磨裝置。

先行實施重視加工效率之粗拋光/中拋光研磨後，實施重視表面品質之拋光研磨等，可將研磨分成複數之階段 來進行。

[實施例]

於以下顯示實施例，進一步具體說明本發明。首先，針對表1~6所示之各種抗氧化劑，調査抑制磁性粒子之鐵粒子的氧化之性能與抑制磁性粒子之鐵粒子的凝集之性能。針對評估方法於以下進行說明。

於抗氧化劑0.25質量份、水59.75質量份的混合物，適量加入氫氧化鉀或硝酸，將pH調整成9.5，進而加入平均1次粒徑3μm之鐵粒子40質量份，來準備漿料。

將此漿料400g收容在容量500mL之容器，以23℃、35℃、43℃之各溫度保管72小時後，將容器內之氣體中之氫的濃度以氣體檢知器(理研計器股份有限公司製之GP-1000)測定。將結果示於表1~6。尚，將於溫度35℃保管72小時後之容器內的氣體中之氫的濃度未滿0.01體積%的情況定為合格。

其次，將漿料400g收容在容量500mL之容器，以23℃、35℃、43℃之各溫度保管72小時。如此一來，由於生成鐵粒子之凝集沉澱物，藉由振盪容量，解碎鐵粒子之凝集沉澱物，評估是否再分散。將結果示於表1~6。尚，在表1~6，將解碎鐵粒子之凝集沉澱物進行再分散的情況以「○」標記表示，未再分散的情況以「×」標記表示。以溫度35℃保管72小時，再分散經生成之凝集沉澱物的情況定為合格。

從表1~6，瞭解到烯基琥珀酸衍生物、聯吡啶衍生物、啡啉衍生物、三唑衍生物、苯并(Benzo)三唑衍生物、及於分子中不具有碳-碳多重鍵之胺，係氫氣體的發生少，抑制磁性粒子的氧化。又，鐵粒子之凝集沉澱物可再分散。

對此，作為鐵之防腐蝕劑之一般之磷酸系化合物、或苯并(Benzo)噻唑衍生物、或於金屬研磨作為抗氧化劑使用之含氮化合物(四唑衍生物、吡唑衍生物、咪唑衍生物、吲哚衍生物、醯肼衍生物)、或以往之磁氣研磨用之研磨用組成物所使用之界面活性劑、水溶性高分子等抑制磁性粒子的氧化之性能與抑制磁性粒子之凝集的性能低。

其次，評估抗氧化劑的濃度與上述效果(氧化抑制效果與凝集抑制效果)的相關性。評估方法除了抗氧化劑的濃度不同的點外，其他與上述相同。將結果示於表7。

從表7，瞭解到烯基琥珀酸衍生物、聯吡啶衍生物、啡啉衍生物、三唑衍生物、苯并(Benzo)三唑衍生物、及於分子中不具有碳-碳多重鍵之胺，濃度越高越能提昇上述效果。對此，以往之磁氣研磨用之研磨用組成物所使用之抗氧化劑，即使提高濃度，亦得不到可實用上使用之水準的效果。

其次，評估併用複數種抗氧化劑時之效果。評估方法除了使用複數種之抗氧化劑的點外，其他與上述相同。將結果示於表8。

其次，使用各種研磨用組成物，對各種研磨對象物進行磁氣研磨，測定研磨速度(單位為μm/min)。又，針對於研磨時是否產生氫氣體、或於研磨後是否再分散經凝集之磁性粒子進行調査。進而，針對研磨對象物的被研磨面之光澤與傷痕進行評估。

再分散性之評估係收集研磨所使用之研磨用組成物，藉由與表1~6的情況相同之前述方法(保管條件為35℃、72小時)進行。而且，發生之氫氣體的量未滿0.01體積%的情況，氫氣體評估為「未發生」。又，研磨後之研磨用組成物中之磁性粒子藉由振盪輕易再分散的情況，再分散性評估為「佳」，藉由振盪之再分散雖不夠充分，但可無問題程度的分散的情況，再分散性評估為「可」，產生藉由振盪無法輕易再分散之凝集的情況，再分散性評估為「不佳」。

研磨速度係將研磨前後之研磨對象物的質量以電子天秤量測，由其差分求得。研磨對象物的被研磨面之光澤，得到鏡面的情況評估為「佳」，雖得到鏡面但認定部分性朦朧的情況評估為「可」，得不到鏡面的情況評估為「不佳」。研磨對象物的被研磨面之劃傷，無可用目視確認之傷痕的情況評估為「未發生」，可用目視確認之傷痕的數量為5條以內的情況評估為「可」，可用目視確認之傷痕的數量為6條以上的情況評估為「不佳」。

研磨用組成物係於磁性粒子50質量份、研磨粒子11.9質量份、抗氧化劑0.157質量份、α-纖維素1.25質 量份、水36.693質量份的混合物，適量加入氫氧化鉀或硝酸，將pH以表9~23所記載的方式調整之漿料。惟，針對氧化劑之欄記載數值之實施例，作為氧化劑，僅含有表9~23所示的量之過氧化氫。又，針對水溶性高分子之欄成為空欄之實施例，未含有α-纖維素。

磁性粒子為羰基鐵或霧化鐵，其平均1次粒徑係如表9~23所記載。研磨粒子為二氧化矽或氧化鋁，其平均2次粒徑係如表9~23所記載。抗氧化劑係如表9~23所示。

尚，表9~23之TA為1,2,4-三唑，BTA為苯并(Benzo)三唑，OSAA為N,N-雙(2-羥基乙基)辛烯基琥珀醯胺酸(辛烯基琥珀酸二乙醇醯胺)，BTYE為2,2’-[[(甲基-1H-苯并(Benzo)三唑-1-基)甲基]亞胺基]雙乙醇，PT為1,10-啡啉。

使用此等之研磨用組成物進行磁氣研磨。使用之研磨裝置係改造Eguro股份有限公司製之CNC研削機的裝置，其構造係與圖1所示者相同。又，研磨對象物為具有陽極氧化皮膜之鋁製之試驗片、真鍮C2600製之試驗片、真鍮C2801製之試驗片、SUS304製之試驗片、SUS316製之試驗片、鋁6063製之試驗片、或聚伸苯碸(PPSU)製之試驗片。此等之試驗片為一邊60mm、厚度8mm之正方形狀的板。研磨條件係如以下。

分別將研磨對象物為具有陽極氧化皮膜之鋁製之試驗片時之試驗結果示於表9~13，將真鍮C2600製之試驗片時之試驗結果示於表14，將真鍮C2801製之試驗片時之試驗結果示於表15，將SUS304製之試驗片時之試驗結果示於表16，將SUS316製之試驗片時之試驗結果示於表17，將鋁6063製之試驗片時之試驗結果示於表18~21，將聚伸苯碸(PPSU)製之試驗片時之試驗結果示於表22、23。

<研磨條件>

研磨對象物與研磨平台的表面之距離：2mm

公轉速度：10rpm

自轉速度：250rpm

研磨用組成物的使用量：600g

研磨時間：30min

永久磁石的表面磁束密度：350mT

如表7~23所示，使用各實施例之研磨用組成物的情況，研磨速度高，且可防止氫氣體的發生，進而經凝集之磁性粒子的再分散性良好。進而，磁性粒子即鐵粉之平均1次粒徑為10μm以下的情況下，得到尤其是研磨對象物的被研磨面之光澤良好，無傷痕發生之適合的被研磨面。對此，瞭解到使用比較例之研磨用組成物的情況，發生氫氣體，無法防止磁性粒子的氧化。又，經凝集之磁性粒子的再分散性貧乏。

1‧‧‧研磨用組成物

3‧‧‧磁簇

5‧‧‧研磨對象物

10‧‧‧容器

12‧‧‧磁場施加部

14‧‧‧保持部

16‧‧‧自轉軸

18‧‧‧第一驅動部

20‧‧‧圓板

22‧‧‧第二驅動部

24‧‧‧研磨平台

Claims (16)

1. 一種研磨用組成物，其係含有磁性粒子、與抑制前述磁性粒子的氧化之抗氧化劑、與水，前述抗氧化劑係烯基琥珀酸衍生物、聯吡啶衍生物、啡啉衍生物、三唑衍生物、苯并(Benzo)三唑衍生物、及分子中不具有碳-碳多重鍵之胺之至少1種，前述於分子中不具有碳-碳多重鍵之胺係包含下述式(6)、(7)、(8)、或(9)表示之化合物，

   

   

   

   

   上述式(6)表示之化合物的R₆₁、R₆₂、R₆₃分別獨立為氫原子、烷基、或羥基烷基、或分別獨立為羧基烷基、磷烷基、或磺烷基；R₆₁、R₆₂、R₆₃可彼此碳鍵結而形成環狀烷烴；惟，R₆₁、R₆₂、R₆₃的3個無法同時為氫原子；上述式(7)表示之化合物的R₇₁、R₇₂、R₇₃、R₇₄分別獨立表示氫原子、烷基、或羥基烷基；R₇₁、R₇₂、R₇₃、R₇₄ 可彼此碳鍵結而形成環狀烷烴；上述式(7)表示之化合物的R₇₅係表示碳數2以上10以下之伸烷基；上述式(8)表示之化合物的R₈₁、R₈₂、R₈₃、R₈₄、R₈₅分別獨立表示氫原子、烷基、或羥基烷基；R₈₁、R₈₂、R₈₃、R₈₄、R₈₅可彼此碳鍵結而形成環狀烷烴；上述式(8)表示之化合物的R₈₆、R₈₇係表示碳數2以上10以下之伸烷基；上述式(9)表示之化合物的R₉₁、R₉₂、R₉₃、R₉₄、R₉₅、R₉₆分別獨立表示氫原子、烷基、或羥基烷基；R₉₁、R₉₂、R₉₃、R₉₄、R₉₅、R₉₆可彼此碳鍵結而形成環狀烷烴；上述式(9)表示之化合物的R₉₇、R₉₈、R₉₉係表示碳數2以上10以下之伸烷基。
2. 如請求項1之研磨用組成物，其係進一步含有非磁性之研磨粒子。
3. 如請求項1或請求項2之研磨用組成物，其中，前述烯基琥珀酸衍生物係包含下述式(1)、(2)、或(3)表示之化合物，

   

   

   

   上述式(1)表示之化合物的R₁及R₂分別獨立表示氫原子、或、直鏈狀或分支狀之碳數20以下之烯基，X₁分別獨立表示氫原子或陽離子；R₁及R₂不會同時為氫原子；上述式(2)表示之化合物的R₁₁及R₁₄分別獨立表示氫原子、或、直鏈狀或分支狀之碳數20以下之烯基，R₁₂及R₁₃分別獨立表示氫原子、碳數10以下之烷基、碳數10以下之烯基、羥基烷基、羥基烯基、聚氧乙烯基(-(CH₂CH₂O)_n-CH₂CH₂OH)、或聚氧丙烯基(-(CH₂CHCH₃O)_m-CH₂CHCH₃OH)；R₁₁及R₁₄不會同時為氫原子；上述之聚氧乙烯基的n係表示氧乙烯基之平均加成莫耳數，為1以上19以下；上述之聚氧丙烯基的m係表示氧丙烯基之平均加成莫耳數，為1以上19以下：又，上述式(2)表示之化合物的X₁₁係表示氫原子或陽離子；進而，上述式(3)表示之化合物的R₃₁及R₃₆分別獨立表示氫原子、或、直鏈狀或分支狀之碳數20以下之烯基，R₃₂、R₃₃、R₃₄、及R₃₅分別獨立表示氫原子、碳數10以下之烷基、碳數10以下之烯基、羥基烷基、羥基烯基、聚氧乙烯基(-(CH₂CH₂O)_r-CH₂CH₂OH)、或聚氧丙烯基(-(CH₂CHCH₃O)_s-CH₂CHCH₃OH)；R₃₁及R₃₆不會同時為氫原子；上述之聚氧乙烯基的r係表示氧乙烯基之平均加成莫耳數，為1以上19以下；上述之聚氧丙烯基的s係表示氧 丙烯基之平均加成莫耳數，為1以上19以下。
4. 如請求項1或請求項2之研磨用組成物，其中，前述聯吡啶衍生物係包含下述式(4)表示之化合物，

   

   尚，上述式(4)表示之化合物的R_41、R_42、R_43、R_44、R_45、R₄₆、R₄₇、及R₄₈分別獨立表示氫原子、烷基、烯基、苯基、羥基、胺基、羧基、磺基、硝基、鹵素基、羥基烷基、羥基烯基、烷基胺基、烯基胺基、羧基烷基、羧基烯基、烷基磺基、烯基磺基、烷基硝基、烯基硝基、烷氧基、乙醯基、烷基醚基、烯基醚基、烷基鹵素基、烯基鹵素基。
5. 如請求項1或請求項2之研磨用組成物，其中，前述啡啉衍生物係包含下述式(5)表示之化合物，

   

   尚，上述式(5)表示之化合物的R_51、R_52、R_53、R_54、R_55、R₅₆、R₅₇、及R₅₈分別獨立表示氫原子、烷基、烯基、苯基、羥基、胺基、羧基、磺基、硝基、鹵素基、羥基烷 基、羥基烯基、烷基胺基、烯基胺基、羧基烷基、羧基烯基、烷基磺基、烯基磺基、烷基硝基、烯基硝基、烷氧基、乙醯基、烷基醚基、烯基醚基、烷基鹵素基、烯基鹵素基。
6. 如請求項1或請求項2之研磨用組成物，其中，前述磁性粒子係含有鐵、鎳、及鈷之至少1種。
7. 如請求項1或請求項2之研磨用組成物，其中，pH為5以上12以下。
8. 如請求項1或請求項2之研磨用組成物，其中，pH為7以上12以下。
9. 如請求項1或請求項2之研磨用組成物，其係實質上未含有氧化劑。
10. 一種磁氣研磨方法，其係使用如請求項1~9中任一項之研磨用組成物，來研磨研磨對象物之磁氣研磨方法，其特徵為包含施加磁場於前述研磨用組成物，形成含有前述磁性粒子之磁簇，使前述磁簇與前述研磨對象物接觸以研磨前述研磨對象物之步驟。
11. 如請求項10之磁氣研磨方法，其中，前述研磨對象物 係含有合金及金屬氧化物之至少一者。
12. 如請求項10之磁氣研磨方法，其中，前述研磨對象物係含有鋁合金、鐵合金、鎂合金、及鈦合金之至少一種。
13. 如請求項10之磁氣研磨方法，其中，前述研磨對象物係含有氧化鋁、氧化鋯、及氧化矽之至少一種。
14. 如請求項10之磁氣研磨方法，其中，前述研磨對象物係包含該表面之一部分為由金屬氧化物所構成，其他部分則由合金所構成。
15. 如請求項10~14中任一項之磁氣研磨方法，其係藉由將含有前述磁性粒子之第1成分、與含有前述水之第2成分，在前述研磨對象物的研磨以前混合，製造前述研磨用組成物，並使用經製造之前述研磨用組成物，來研磨前述研磨對象物。
16. 一種研磨用組成物的製造方法，其係製造如請求項1~9中任一項之研磨用組成物之方法，其特徵為包含混合含有前述磁性粒子之第1成分、與含有前述水之第2成分之步驟。

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