TWI728710B - 軋延材的形狀控制系統 - Google Patents

Abstract

本發明之課題在於提供一種即使使用冷卻劑噴霧器之形狀控制的執行適得其反之現象於板寬方向的一部分區域上產生，亦可將實績形狀維持在目標形狀之系統。本發明之解決手段為一種控制裝置，係進行：根據實績形狀與目標形狀之偏差，個別地控制由複數個噴嘴所進行之冷卻劑的噴射動作之形狀控制。於形狀控制中，根據材種區分及板寬區分來選擇基本動作或反轉動作以作為噴射動作。對於選擇了基本動作之噴嘴，於偏差小於臨限值之情形下，將來自該噴嘴之冷卻劑的噴射流量設定為既定流量，於偏差非小於臨限值的情形下，將該噴射流量設定為最低流量。對於選擇了反轉動作之噴嘴，於偏差大於臨限值之情形下，將來自該噴嘴之冷卻劑的噴射流量設定為既定流量，於偏差非大於臨限值的情形下，將該噴射流量設定為最低流量。

Description

軋延材的形狀控制系統

本發明係關於控制金屬箔等軋延材的平坦度之形狀控制系統。

一般軋延材的形狀控制，係根據形狀偏差來設定控制用致動器的操作量。形狀偏差為藉由形狀計所得到之軋延材的實績形狀與目標形狀之差。形狀計係被設置於在軋延輥的輥長方向上分割為複數個區的每一區上。亦即於每一區中得到實績形狀。形狀偏差的計算及操作量的設定亦在每一區中進行。控制用致動器可例示為輥彎曲機、整平機及冷卻劑噴霧器。

輥彎曲機係藉由變更軋延輥的撓曲來控制平坦度。整平機係藉由左右之輥間隙差的操作來控制平坦度。冷卻劑噴霧器於每一區中具備噴嘴。冷卻劑噴霧器係藉由調整從此等噴嘴所噴射之冷卻劑的流量來控制平坦度。或者是，冷卻劑噴霧器藉由切換噴嘴之閥的開閉來控制平坦度。

在使軋延機之送出側的板厚成為約10μm之金屬箔的軋延，相較於板寬方向的兩端，上下方的軋延輥在更外側上接觸。因此於此金屬 箔的軋延時，與使用輥彎曲機或整平機之形狀控制相比，使用冷卻劑噴霧器之形狀控制者較為適合。

於使用冷卻劑噴霧器之形狀控制中，係根據於每一區中所計算之形狀偏差來增減冷卻劑的噴射流量。或者是，根據噴嘴附近的形狀偏差是否超過臨限值之判定來切換閥的開閉。此切換有時亦根據預先指定之控制週期中的流量率來進行。流量率為開路期間相對於控制週期之比再乘上100後之值。

在此說明根據形狀偏差與臨限值之比較結果來切換閥的開閉之情形。在實績形狀具有較目標形狀更鬆弛的區之情形下，對應於該區之閥被控制為開路狀態。如此一來，係藉由冷卻劑局部性地抑制軋延輥的熱膨脹以緩和鬆弛狀態。相反的，在實績形狀具有較目標形狀更緊繃的區之情形下，對應於該區之閥被控制為閉路狀態。如此一來，係局部性地促進軋延輥的熱膨脹以緩和緊繃狀態。

於鋁的箔軋延中，使用冷卻劑噴霧器之形狀控制的執行有時會導致與上述平坦化效果為相反之效果。關於此反效果，於日本特開2009-274101號公報中揭示一種即使閥被控制為開路狀態，鬆弛狀態卻更為進行之現象。此外，於該公報中揭示用以應對反效果之閥的控制。於該閥控制中，係對將閥控制為開路狀態時之形狀偏差的程度與將閥控制為閉路狀態時之形狀偏差的程度進行比較。然後以成為顯示出更小的程度之狀態的方式，一致性地控制全部的閥。

[先前技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1] 日本特開2009-274101號公報

然而，使用冷卻劑噴霧器之形狀控制的執行適得其反之現象，並不限於在軋延材之板寬方向的全部區域上產生。亦即，有時僅於板寬方向的一部分區域上產生反效果。因此，在將全部的閥一致性地控制為開路狀態或閉路狀態之上述公報的技術中，於帶來部分的反效果時無法將軋延材的形狀控制為目標形狀。

本發明係鑒於上述課題而創作完成者，其目的在於提供一種即使使用冷卻劑噴霧器之形狀控制的執行適得其反之現象僅於板寬方向的一部分區域上產生，亦可將實績形狀維持在目標形狀之系統。

本發明之第1發明為軋延材的形狀控制系統，並具有下列特徵。

前述形狀控制系統係具備：軋延輥、測量器、複數個噴嘴以及控制裝置。

前述測量器係被設置在前述軋延輥的送出側且是在前述軋延輥的輥長方向上被分割之複數區的每一區上。前述測量器在前述複數區的每一區上測量軋延材的實績形狀。

前述複數個噴嘴係被設置在前述軋延輥的送入側且是前述複數區的每一區上。前述複數個噴嘴將冷卻劑分別朝向前述複數區噴射。

前述控制裝置係進行：根據前述實績形狀與目標形狀之偏差，個別地控制由前述複數個噴嘴所進行之冷卻劑的噴射動作之形狀控制。

前述控制裝置於前述形狀控制中，係進行：

根據材種區分及板寬區分來選擇基本動作或反轉動作以作為前述噴射動作；

對於選擇了前述基本動作之噴嘴，於前述偏差小於臨限值之情形下，將來自該噴嘴之冷卻劑的噴射流量設定為既定流量，於前述偏差大於前述臨限值之情形下，將來自該噴嘴之冷卻劑的噴射流量設定為最低流量；

對於選擇了前述反轉動作之噴嘴，於前述偏差大於前述臨限值之情形下，將來自該噴嘴之冷卻劑的噴射流量設定為前述既定流量，於前述偏差小於前述臨限值之情形下，將來自該噴嘴之冷卻劑的噴射流量設定為前述最低流量。

本發明之第2發明係於第1發明中，更具有下列特徵。

前述形狀控制系統更具備記憶裝置。

前述記憶裝置具有：顯示出被設成為前述基本動作或反轉動作的對象之噴嘴與前述板寬區分之關係之噴嘴表。

前述控制裝置更進行反轉學習處理。

於前述反轉學習處理中，根據既定學習期間中的前述偏差，更新前述噴嘴表中之被設成為前述基本動作或反轉動作的對象之噴嘴的資訊。

根據第1發明，係進行：根據實績形狀與目標形狀之偏差，個別地控制由複數個噴嘴所進行之冷卻劑的噴射動作之形狀控制。於此形狀控制中，根據材種區分及板寬區分來選擇基本動作或反轉動作以作為由複數個噴嘴所進行之噴射動作。然後，在選擇了基本動作之噴嘴中，於偏差小於臨限值之情形下，冷卻劑的噴射流量被設定為既定流量，於偏差大於臨限值之情形下，冷卻劑的噴射流量被設定為最低流量。另一方面，在選擇了反轉動作之噴嘴中，於偏差大於臨限值之情形下，冷卻劑的噴射流量被設定為既定流量，於偏差小於臨限值之情形下，冷卻劑的噴射流量被設定為最低流量。

於基本動作與反轉動作中，相對於偏差與臨限值之大小關係的比較結果，冷卻劑的噴射樣態互為相反。因此，藉由正確地設定材種區分及板寬區分與基本動作與反轉動作之關係，對於得到平坦化效果之區與帶來反效果之區，可確實地噴射冷卻劑。因此，即使藉由冷卻劑的噴射所得到之效果在軋延材的部分區域與其他區域中逆轉，亦可將實績形狀維持在目標形狀。因此可提升軋延材的製品品質。

根據第2發明，係進行反轉學習處理。根據反轉學習處理，可定期地驗證是否可藉由基本動作或反轉動作得到平坦化效果。因此可抑制由在軋延材的軋延中對軋延輥所進行之微調、或是起因於軋延條件的變更所導致之製品品質之不均的產生。

10:冷卻劑噴霧器

11:上噴霧器

11a至11j:噴嘴

12:下噴霧器

20:設定計算裝置

30:形狀控制裝置

31:形狀偏差計算功能

32:操作量計算功能

33:反轉判定功能

34:反轉學習功能

40:記憶裝置

41:反轉開關表

42:反轉噴嘴表

50:噴霧控制裝置

60:形狀測量器

60a至60j:區

70:軋延產線

72:軋延機

73:上軋延輥

74:下軋延輥

100、200:形狀控制系統

AL:容許值

ESD:評估值

SA:實績形狀

SD:形狀偏差

ST:目標形狀

TH:臨限值

圖1為顯示本發明的實施型態1之形狀控制系統的構成例之圖。

圖2為適用圖1所示之冷卻劑噴霧器及形狀測量器之軋延產線的要部之概略圖。

圖3為說明噴嘴的基本動作之圖。

圖4為說明噴嘴之基本動作的第1問題點之圖。

圖5為說明噴嘴之基本動作的第2問題點之圖。

圖6為顯示反轉開關表的一例之圖。

圖7為顯示反轉噴嘴表的一例之圖。

圖8為說明在進行形狀控制之情形時之處理的流程之流程圖。

圖9為顯示本發明的實施型態2之形狀控制系統的構成例之圖。

圖10為顯示反轉學習處理的第1例之時序圖。

圖11為顯示反轉學習處理的第2例之時序圖。

以下參考圖面來說明本發明的實施型態。

1.實施型態1

首先參考圖1至圖8來說明實施型態1。

1-1.系統構成的說明

圖1為說明實施型態1之形狀控制系統(以下亦僅稱為「系統」)的構成之圖。如圖1所示，系統100係具備：冷卻劑噴霧器10、設定計算裝置20、形狀控制裝置30、記憶裝置40、噴霧控制裝置50及形狀測量器60。

參考圖2來說明冷卻劑噴霧器10及形狀測量器60。圖2為適用有冷卻劑噴霧器10及形狀測量器60之軋延產線的要部之概略圖。圖2所示之軋延產線70係藉由單站型式的軋延機72，將軋延材71軋延(箔軋延)至約10μm。於圖2中，軋延機72為4段式，惟軋延機72的段數並無特別限定，可為2段式或6段式。

冷卻劑噴霧器10係具備上噴霧器11及下噴霧器12。上噴霧器11在與軋延機72相面對之面上具備複數個噴嘴11a至11j。冷卻劑從此等噴嘴中噴射。於噴射冷卻劑時，軋延機72的上軋延輥73被冷卻。下噴霧器12具備有與上噴霧器11所具有之噴嘴為相同數目的噴嘴。冷卻劑從此等噴嘴中噴射。於噴射冷卻劑時，軋延機72的下軋延輥74被冷卻。

形狀測量器60被設置在軋延機72的送出側。形狀測量器60係具有在其輥長方向上被分割之複數個區60a至60j。形狀測量器60係在區60a至60j的每一區上測量軋延材71於板寬方向上的荷重以計算出張力。以下亦將在區60a至60j的每一區上所計算之張力稱為「實績形狀SA」。軋延材71於板寬方向上的平坦度係以相距於實績形狀SA的平均值之偏離來表示。實績形狀SA愈均一，平坦度愈小。

區60a至60j的數目與噴嘴11a至11j的數目一致。亦即，上噴霧器11以與形狀測量器60相同之方式來分割。此外，噴嘴11a至11j對應於區60a至60j的各區。此對應關係於下噴霧器12與形狀測量器60之間亦成立。對於1區亦可分配2個以上的噴嘴。在此情形下，上噴霧器11或下噴霧器12所具有之噴嘴的總數係以區之總數的k倍(其中，k為2以上的整數)來表示。

返回圖1來說明系統100的構成。設定計算裝置20為至少具有處理器、記憶體、輸出入介面之電腦。設定計算裝置20係計算軋延產線中之各種設備的設定值。各種設備係包含熱軋延設備、冷軋延設備、箔軋延設備等。軋延機72相當於箔軋延設備。

設定值係包含各種設備的送出側之軋延材的各種目標值。各種目標值包含板厚及板寬的目標值。箔軋延設備的送出側之目標值係包含區60a至60j的每一區之張力的目標值。以下亦將區60a至60j的每一區之張力的目標值稱為「目標形狀ST」。設定計算裝置20將軋延資訊傳送至形狀控制裝置30。軋延資訊係包含與設定值相關之資訊。

形狀控制裝置30為至少具有處理器、記憶體、輸出入介面之電腦。形狀控制裝置30係具備形狀偏差計算功能31、操作量計算功能32及反轉判定功能33作為處理器的功能。

形狀偏差計算功能31係對區60a至60j的每一區，計算出來自計算形狀測量器60的實績形狀SA與來自設定計算裝置20的目標形狀ST之偏差(以下亦稱為「形狀偏差SD」)。形狀偏差SD的計算係於每隔既定的控制週期來進行。形狀偏差SD的資訊被傳送至操作量計算功能32。

操作量計算功能32係根據形狀偏差SD與臨限值TH(≦0)之比較結果，來計算冷卻劑噴霧器10之各噴嘴的操作量。例如當存在有實績形狀SA顯示出小於目標形狀ST之值的區(亦即鬆緩區)之情形下，該區之形狀偏差SD(=SA-ST)的符號為負號。在區的形狀偏差SD顯示出小於臨限值TH之值之情形下，操作量計算功能32係因應兩者之偏差的絕對值 AV(=|SD-TH|)，來設定對應於此區之噴嘴的操作量。另一方面，在區的形狀偏差SD顯示出大於臨限值TH之值之情形下，操作量計算功能32係將對應於此區之噴嘴的操作量設定為最低值。所謂「最低值」，為用以使冷卻劑的噴射流量成為最低流量(例如零或接近於零之流量)之噴嘴的操作量。

其他例子亦有當存在有實績形狀SA顯示出大於目標形狀ST之值的區(亦即緊繃區)之情形下，該區之形狀偏差SD的符號為正號者。由於臨限值TH的符號為負號，所以此區的形狀偏差SD較臨限值TH大。因此，在此情形下，操作量計算功能32將對應於此區之噴嘴的操作量設定為最低值。

於藉由閥的開閉來進行冷卻劑的噴射之噴嘴的情形時，操作量計算功能32係根據形狀偏差SD與臨限值TH之比較結果，來切換閥的開閉狀態。例如當存在有實績形狀SA顯示出小於目標形狀ST之值的區之情形下，該區之形狀偏差SD的符號為負號。在區的形狀偏差SD顯示出小於臨限值TH之值之情形下，操作量計算功能32係將對應於此區之噴嘴的閥設定為開路狀態。另一方面，在區的形狀偏差SD顯示出大於臨限值TH之值之情形下，操作量計算功能32係將對應於此區之噴嘴的閥設定為閉路狀態。

其他例子亦有當存在有實績形狀SA顯示出大於目標形狀ST之值的區之情形下，該區之形狀偏差SD的符號為正號者。由於臨限值TH的符號為負號，所以此區的形狀偏差SD較臨限值TH大。因此，在此情形下，操作量計算功能32將對應於此區之噴嘴的閥設定為閉路狀態。

操作量計算功能32將噴嘴的操作量作為操作量資訊傳送至噴霧控制裝置50。在從反轉判定功能33接收到反轉判定資訊之情形下，操作量計算功能32在將操作量資訊傳送至噴霧控制裝置50前，係根據反轉判定資訊來變更操作量資訊。例如在設定因應絕對值AV之操作量之情形下，操作量計算功能32將此操作量變更為最低值。相反的，在操作量被設定為最低值之情形下，操作量計算功能32係變更為因應形狀偏差SD與臨限值TH的偏差之操作量。操作量計算功能32將變更後的操作量資訊傳送至噴霧控制裝置50。

其他例子亦有操作量計算功能32將閥的開閉狀態作為操作量資訊傳送至噴霧控制裝置50。在從反轉判定功能33接收到反轉判定資訊之情形下，操作量計算功能32在將操作量資訊傳送至噴霧控制裝置50前，係根據反轉判定資訊來變更操作量資訊。例如在閥被設定為開路狀態之情形下，操作量計算功能32將設定狀態從開路狀態(導通(ON))切換至閉路狀態(關斷(OFF))。在閥被設定為閉路狀態之情形下，操作量計算功能32將設定狀態從閉路狀態(關斷)切換至開路狀態(導通)。

反轉判定功能33係根據儲存於記憶裝置40之反轉開關表41，判定形狀控制的執行是否帶來反效果。此外，反轉判定功能33係根據儲存於記憶裝置40之反轉噴嘴表42，對每個噴嘴判定是否反轉由噴嘴所進行之冷卻劑的噴射動作。反轉判定功能33將顯示此等判定結果之資訊，作為反轉判定資訊傳送至操作量計算功能32。反轉開關表41、反轉噴嘴表42、形狀控制、平坦化效果及反效果的詳細內容如後述。

噴霧控制裝置50係根據來自操作量計算功能32的操作量資訊，個別地控制冷卻劑噴霧器10之由各噴嘴所進行之冷卻劑的噴射動作。

1-2.形狀控制

於實施形態1中，設定計算裝置20、形狀控制裝置30及噴霧控制裝置50相當於執行軋延材的形狀控制之本發明的「控制裝置」。以下係說明以藉由在導通與關斷之間切換閥的設定狀態所進行之冷卻劑噴霧器10的構成為前提之形狀控制。

1-2-1.基本動作

如操作量計算功能32的說明所述般，於形狀控制中，係根據形狀偏差SD與臨限值TH之比較結果來決定由噴嘴所進行之冷卻劑的噴射動作。在形狀偏差SD顯示出小於臨限值TH之值之情形下，因應絕對值AV來噴射冷卻劑，在形狀偏差SD顯示出大於臨限值TH之值之情形下，以最低流量來噴射冷卻劑，以下亦將此噴嘴動作稱為「基本動作」。

圖3為說明基本動作之圖。於圖3中顯示出形狀控制的執行前後之形狀偏差SD的第1分布例。圖3的縱向係顯示形狀偏差SD。圖3的橫向係顯示軋延材之板寬方向的位置。在板寬方向上排列之形狀偏差SD的各資料係對形狀測量器60的每一區進行計算者。

圖3的上段係顯示形狀控制之執行前的形狀偏差SD。於此上段中，軋延材的兩端部之數個區的形狀偏差SD顯示出小於臨限值TH之值。另一方面，軋延材的中央部之數個區的形狀偏差SD顯示出大於臨限值TH之值。

於執行形狀控制時，對應於兩端部的區之噴嘴的閥被設定為開路狀態。另一方面，對應於中央部的區之噴嘴的閥被設定為閉路狀態。藉此，以既定流量從對應於兩端部的區之噴嘴來進行冷卻劑的噴射，並以最低流量從對應於中央部的區之噴嘴來進行冷卻劑的噴射。又，既定流量係預先設定為多於最低流量之冷卻劑的噴射流量。

圖3的下段係顯示形狀控制之執行後的形狀偏差SD。於此下段中，兩端部的形狀偏差SD縮小，一部分的形狀偏差SD顯示出大於臨限值TH之值。該理由係由於以既定流量從對應於兩端部的區之噴嘴來進行冷卻劑的噴射，所以對應於此等區之軋延輥的區藉由冷卻劑所冷卻而局部地抑制熱膨脹之故。

於圖3之下段的例子中，與兩端部的形狀偏差SD相同，中央部的形狀偏差SD亦縮小。惟一部分的形狀偏差SD顯示出小於零之值。此外，一部分的形狀偏差SD顯示出小於臨限值TH之值。該理由係由於以最低流量從對應於中央部的區之噴嘴來進行冷卻劑的噴射，所以對應於此等區之軋延輥的區之熱膨脹被局部地促進之故。

1-2-2.基本動作的第1問題點

圖4為顯示形狀控制的執行前後之形狀偏差SD的第2分布例之圖。圖4的上段所示之分布例與圖3的上段所示之分布例相同。因此，若執行與圖3所說明之形狀控制為相同內容的形狀控制，則與圖3的下段所示之分布例相同的分布例，理應顯示於圖4的下段。

惟如圖4的下段所示，兩端部的形狀偏差SD未減少反而擴大。中央部的形狀偏差SD亦顯示出與兩端部的形狀偏差SD為相同傾向。亦即帶來與圖3的下段所說明之平坦化效果為相反的效果。

1-2-3.基本動作的第2問題點

圖5為顯示形狀控制的執行前後之形狀偏差SD的第3分布例之圖。圖5的上段所示之分布例與圖3的上段所示之分布例相同。因此，若執行與圖3所說明之形狀控制為相同內容的形狀控制，則與圖3的下段所示之分布例相同的分布例，理應顯示於圖5的下段。

惟如圖5的下段所示，兩端部的形狀偏差SD未減少反而擴大。另一方面，中央部的形狀偏差SD縮小。亦即於中央部上，可得到圖3的下段所說明之平坦化效果，於兩端部上，則帶來與此相反之效果。

1-3.形狀控制的改良點

因此，於實施型態1之形狀控制中，係設定有規定軋延材的材種區分與反轉動作之關係之反轉開關表。所謂反轉動作，為從基本動作反轉冷卻劑的噴射動作之噴嘴動作。反轉開關表係藉由另外進行改變材種區分之軋延，以特定出帶來反效果之區而製作。亦可藉由特定出得到平坦化效果之區來製作反轉開關表。

圖6為顯示反轉開關表的一例之圖。如圖6所示，反轉開關表41為對每個材種區分(AA、BB、CC、DD、EE、‧‧‧)規定反轉開關(導通或關斷)之表。根據反轉開關表41，在反轉開關顯示出關斷之情形下，係選擇基本動作。在反轉開關顯示出導通之情形下，係選擇反轉動作。顯示出選擇後的噴嘴動作之資訊係包含於上述反轉判定資訊。

於其他例子中，係設定基本開關表來取代反轉開關表41。基本開關表為對每個材種區分(AA、BB、CC、DD、EE、‧‧‧)規定基本開關(導通或關斷)之表。根據基本開關表，在基本開關顯示出導通之情形下，係選擇基本動作。在基本開關顯示出關斷之情形下，係選擇反轉動作。反轉開關表41或基本開關表相當於本發明之「開關表」。

此外，於實施型態1之形狀控制中，係設定有規定軋延材的板寬區分與進行反轉動作之噴嘴之關係之反轉噴嘴表。反轉噴嘴表係對於具有無法藉由形狀控制來得到平坦化效果之區之軋延材，另外進行改變該軋延材的板寬區分之軋延，以特定出無法藉由形狀控制來得到平坦化效果之區而製作。

圖7為顯示反轉噴嘴表的一例之圖。如圖7所示，反轉噴嘴表42為對每個板寬區分(1、2、3、4、5、‧‧‧)規定進行反轉動作之噴嘴之表。根據反轉噴嘴表42，在反轉開關顯示出導通之情形下，係特定出被設為反轉動作的對象之噴嘴。顯示所特定出之噴嘴之資訊係包含於上述反轉判定資訊。又，於反轉噴嘴表42中所特定之噴嘴以外的噴嘴係被設為基本動作的對象。

於其他例子中，係設定基本噴嘴表來取代反轉噴嘴表42。基本噴嘴表為對每個板寬區分(1、2、3、4、5、‧‧‧)規定進行基本動作之噴嘴之表。根據基本噴嘴表，在基本開關顯示出關斷之情形下，係特定出被設為基本動作的對象之噴嘴。顯示所特定出之噴嘴之資訊係包含於上述反轉判定資訊。又，於基本噴嘴表中所特定出之噴嘴以外的噴嘴係被設為反轉動作的對象。

1-4.具體的處理

圖8為說明形狀控制裝置30的處理器進行實施型態1的形狀控制之情形時之處理的流程之流程圖。圖8所示之常式是在既定的控制週期內重複進行。圖8所示之常式係於冷卻劑噴霧器10的每個噴嘴中獨立地執行。

於圖8所示之常式中，首先判定反轉開關是否為導通(步驟S1)。步驟S1的處理係藉由參考採用了目前軋延中之軋延材的材種區分之反轉開關表41來進行。亦可使用基本開關表來取代反轉開關表41。與材種區分相關之資訊係包含於來自設定計算裝置20的軋延資訊。

在步驟S1的判定結果為肯定之情形下，係判定本常式所著眼之噴嘴是否為反轉動作的對象(步驟S2)。步驟S2的處理係藉由參考採用了目前軋延中之軋延材的板寬區分之反轉噴嘴表42來進行。亦可使用基本噴嘴表來取代反轉噴嘴表42。與板寬區分相關之資訊係包含於來自設定計算裝置20的軋延資訊。

在步驟S1或S2的判定結果為否定之情形下，係判定形狀偏差SD是否小於臨限值TH(步驟S3)。步驟S1或S2的判定結果為否定之情形，意指本常式所著眼之噴嘴為基本動作的對象。因此，在步驟S3的判定結果為肯定之情形下，閥被設定為開路狀態(步驟S4)。另一方面，在步驟S3的判定結果為否定之情形下，閥被設定為閉路狀態(步驟S5)。

在步驟S2的判定結果為肯定之情形下，係判定形狀偏差SD是否大於臨限值TH(步驟S6)。步驟S2的判定結果為肯定之情形，意指本常式所著眼之噴嘴為反轉動作的對象。因此，在步驟S6的判定結果為肯定 之情形下，閥被設定為開路狀態(步驟S7)。另一方面，在步驟S6的判定結果為否定之情形下，閥被設定為閉路狀態(步驟S8)。

1-5.效果

根據以上所說明之實施型態1的形狀控制，藉由參考反轉開關表41或反轉噴嘴表42，可於每個噴嘴中決定冷卻劑的噴嘴動作。因此，不僅是可藉由形狀控制來得到平坦化效果之情形，即使是帶來反效果之情形下，亦可個別地控制噴嘴動作而使各區中的形狀偏差SD接近於零。因此可提升軋延材的製品品質。

2.實施型態2

首先參考圖9至圖11來說明實施型態2。關於與實施型態1中所說明之內容為重複的內容，係適當地省略。

2-1.系統構成的說明

圖9為說明實施型態2之系統的構成之圖。圖9所示之系統200的基本構成與圖1所示之系統100的基本構成相同。系統100與系統200的相異處在於追加有反轉學習功能34作為形狀控制裝置30之處理器的功能。

反轉學習功能34係進行反轉學習處理。反轉學習處理可在軋延材71的軋延中進行，亦可在軋延材71的軋延準備中進行。於反轉學習處理中，係於既定的學習期間中使用從形狀測量器60所接收之形狀偏差SD，以計算評估值ESD。此學習期間可例示出軋延材71的速度穩定且未進行反轉開關的切換之期間。此外，於反轉學習處理中，係根據評估值ESD來判定是否更新反轉噴嘴表42的資訊。被設為反轉學習處理的對象之噴嘴為冷卻劑噴霧器10的全部噴嘴。以下說明反轉學習處理。

2-2.反轉學習處理

圖10為顯示反轉學習處理的第1例之時序圖。圖11為顯示反轉學習處理的第2例之時序圖。圖10及圖11所示之時刻T1至T10之期間相當於恆常條件下的學習期間。如圖10及圖11所示，於時刻T1至T10之期間，反轉開關表41的反轉開關顯示導通。

於圖10及圖11所示之例子中，對於被設為反轉學習處理的對象之噴嘴，係選擇反轉動作。然後在圖10所示之例子中，於時刻T1至T6之期間，閥被設定為開路狀態，於時刻T6至T10之期間，閥被設定為閉路狀態。在圖11所示之例子中，於時刻T1至T4之期間，閥被設定為開路狀態，於時刻T4至T10之期間，閥被設定為閉路狀態。

評估值ESD係根據實績形狀SA的變化量△SA來計算。變化量△SA係藉由從前一次時刻Tn-1中的實績形狀SA(n-1)減去此次時刻Tn中的實績形狀SA(n)來計算(其中，2≦n≦10)。評估值ESD可由將因應閥的設定狀態所設定之係數(設定狀態為導通之情形下為+1，設定狀態為關斷之情形下為-1)乘上變化量△SA後之值的總和來表示。

於圖10所示之例子中，於閥被設定為導通(開路狀態)之時刻T1至T6之期間，實績形狀SA持續往鬆弛側變化。由於張力愈小，實績形狀SA更顯示出鬆弛側之值，所以時刻T1至T6之期間之變化量△SA的符號顯示正號。因此，將係數(=+1)乘上此變化量△SA後之值的總和之評估值ESD，於時刻T1至T6之期間增加。

另一方面，實績形狀SA於時刻T7中顯示最鬆弛之值，然後往緊繃側之值改變。將此時刻T7設為現在時刻時之前次時刻為時刻T6， 在此期間閥被設定為關斷(閉路狀態)。因此，變化量△SA的符號雖顯示正號，惟乘上係數(=-1)後之值的總和之評估值ESD於時刻T6至T7之期間減少。

於時刻T7至T10之期間閥被設定為關斷(閉路狀態)，實績形狀SA持續往緊繃側變化。由於張力愈大，實績形狀SA更顯示出緊繃側之值，所以時刻T7至T10之期間之變化量△SA的符號顯示負號。因此，將係數(=-1)乘上此變化量△SA後之值的總和之評估值ESD，於時刻T7至T10之期間增加。

於圖11所示之例子中，於閥被設定為導通(開路狀態)之時刻T1至T4之期間，實績形狀SA持續往鬆弛側變化。由於張力愈小，實績形狀SA更顯示出鬆弛側之值，所以時刻T1至T4之期間之變化量△SA的符號顯示正號。因此，將係數(=+1)乘上此變化量△SA後之值的總和之評估值ESD，於時刻T1至T4之期間增加。

實績形狀SA於時刻T4之後亦持續往鬆弛側變化。因此，於時刻T4之後之變化量△SA的符號顯示正號。惟於時刻T4之後閥被設定為關斷。因此，將係數(=-1)乘上此變化量△SA後之值的總和之評估值ESD，於時刻T4之後持續減少。

於反轉學習處理中，係根據學習期間中之評估值ESD之值是否高於容許值AL之判定，來更新反轉噴嘴表42的資訊。在評估值ESD高於容許值AL之情形(亦即圖10所示之例子之情形)下，判斷為反轉噴嘴表42的資訊正確，可藉由反轉動作得到平坦化效果。因此，在此情形下不更新資訊。

另一方面，在評估值ESD低於容許值AL之情形(亦即圖11所示之例子之情形)下，判斷為反轉噴嘴表42的資訊錯誤，無法藉由反轉動作得到平坦化效果。因此，在此情形下係更新反轉噴嘴表42的資訊。具體而言，係從反轉噴嘴表42中刪除被設為反轉學習處理的對象之噴嘴的資訊。

於圖10及圖11所示之例子中，係根據是否可藉由反轉動作得到平坦化效果之觀點，來更新反轉開關表41的資訊。然而，亦可根據與此觀點不同之觀點來更新資訊。例如可根據是否可藉由基本動作得到平坦化效果之觀點，來更新反轉開關表41的資訊。若是在反轉開關顯示出關斷之期間計算評估值ESD並與容許值AL進行比較，則可將應設為反轉動作的對象之噴嘴的資訊追加於反轉噴嘴表42。

使用基本開關表來進行反轉學習處理之情形下，亦可根據是否可藉由基本動作得到平坦化效果之觀點，來更新該開關表的資訊。例如在基本開關顯示出導通之期間計算評估值ESD並與容許值AL進行比較。藉此可從基本噴嘴表中刪除應設為反轉動作的對象之噴嘴的資訊。還可根據是否可藉由反轉動作得到平坦化效果之觀點，來更新基本開關表的資訊。例如在基本開關顯示出關斷之期間計算評估值ESD並與容許值AL進行比較。藉此可將應設為基本動作的對象之噴嘴的資訊追加於基本噴嘴表。

2-3.效果

根據以上所說明之實施型態2，係進行反轉學習處理。根據反轉學習處理，可定期地驗證是否可藉由基本動作或反轉動作得到平坦化效果。然後因應此驗證結果，將被設為反轉學習處理的對象之噴嘴追加於反轉噴嘴 表42(或基本噴嘴表)或是刪除。因此可抑制由在軋延材71的軋延中對軋延輥72所進行之微調、或是起因於軋延條件的變更所造成之製品品質之不均的產生。

S1至S8:步驟

Claims (2)

1. 一種軋延材的形狀控制系統，係具備：

   軋延輥；

   測量器，係被設置在前述軋延輥的送出側且是在前述軋延輥的輥長方向上被分割之複數區的每一區上，並且在前述複數區的每一區上測量軋延材的實績形狀；

   複數個噴嘴，係被設置在前述軋延輥的送入側且是前述複數區的每一區上，並且將冷卻劑分別朝向前述複數區噴射；以及

   控制裝置，係進行：根據前述實績形狀與目標形狀之偏差，個別地控制由前述複數個噴嘴所進行之冷卻劑的噴射動作之形狀控制；

   前述控制裝置於前述形狀控制中，係進行：

   根據材種區分及板寬區分來選擇基本動作或反轉動作以作為前述噴射動作；

   對於選擇了前述基本動作之噴嘴，於前述偏差小於臨限值之情形下，將來自該噴嘴之冷卻劑的噴射流量設定為既定流量，於前述偏差大於前述臨限值之情形下，將來自該噴嘴之冷卻劑的噴射流量設定為最低流量；

   對於選擇了前述反轉動作之噴嘴，於前述偏差大於前述臨限值之情形下，將來自該噴嘴之冷卻劑的噴射流量設定為前述既定流量，於前述偏差小於前述臨限值之情形下，將來自該噴嘴之冷卻劑的噴射流量設定為前述最低流量。
2. 如請求項1所述之軋延材的形狀控制系統，更具備記憶裝置，該記憶裝置具有：顯示出被設成為前述基本動作或反轉動作的對象之噴嘴與前述板寬區分之關係之噴嘴表；

   前述控制裝置更進行：根據既定學習期間中的前述偏差，更新前述噴嘴表中之被設成為前述基本動作或反轉動作的對象之噴嘴的資訊之反轉學習處理。

Images