TWI701438B - 檢測設備 - Google Patents

Abstract

一種檢測設備包含：晶片承載裝置及抵壓裝置。晶片承載裝置包含電路板及多個電連接單元。電連接單元用以承載晶片，且電連接單元設置於電路板上。抵壓裝置包含罩體、抵壓件及氣密件。罩體蓋設於電路板的一側，罩體與電路板共同形成容置空間，抵壓件及多個電連接單元位於容置空間中。氣密件位於罩體與電路板之間，氣密件用以防止容置空間中的氣體向外逸散。罩體具有至少一抽氣孔。抽氣設備通過抽氣孔以抽出容置空間中的氣體時，罩體將抵壓氣密件，抵壓件將抵壓多個晶片，以使各個晶片與其所設置的電連接單元相連接。

Description

檢測設備

本發明涉及一種檢測設備，特別是一種用來檢測晶片的檢測設備。

現有常見的記憶體檢測設備，對記憶體進行檢測的方式，是將多個記憶體逐一利用人工或是機械手臂的方式，插設於電路板上的多個電連接座上。隨後，在透過電路板及多個電連接座對多個記憶體進行檢測作業。然，在具體的應用中，常發生記憶體未穩固地與電連接座連接(例如記憶體的接腳未完全與電連接座的接腳相連接)，而發生記憶體應為良品，卻被判定為未通過檢測而為不良品的問題。

本發明的主要目的在於提供一種檢測設備，用以改善現有技術中，記憶體檢測設備利用人工或是機械手臂將記憶體逐一插入於電連接座中，以進行檢測作業時，容易發生記憶體未穩固地插入電連接座中，而導致檢測結果不正確的問題。

為了實現上述目的，本發明提供一種檢測設備，其用以對多個晶片進行檢測，檢測設備包含：一晶片承載裝置及一抵壓裝置。晶片承載裝置包含：一電路板及多個電連接單元。多個電連接單元設置於電路板，多個電連接單元用以承載多個晶片。抵壓裝置包含：一罩體、一抵壓件及一氣密件。罩體的一側內凹形成有一凹槽，罩體設置於電路板的一側，而罩體與電路板共同形成有一容置空間，設置於電路板上的多個電連接單元對應位於容置空間 中，罩體具有至少一抽氣孔，抽氣孔能提供一抽氣設備將容置空間中的空氣向外抽出。抵壓件設置於罩體及多個電連接單元之間，且抵壓件的至少一部份位於容置空間中。氣密件為彈性結構，氣密件設置於電路板與罩體之間，氣密件用以防止容置空間中的氣體向外逸散。其中，抽氣設備將容置空間中的氣體向外抽出時，罩體將抵壓氣密件而使氣密件彈性變形，且抵壓件將抵壓多個電連接單元及設置於其中的晶片，以使各個晶片與相對應的電連接單元相互連接。

本發明的有益效果可以在於：本發明的檢測設備可以配合外部的抽氣設備，而對容置空間進行抽氣，藉此，可以使容置空間呈現為負壓狀態，據以讓抵壓件緊密地抵壓設置於多個電連接單元的晶片，以確保各個晶片能緊密地與電連接單元連接。

為使能更進一步瞭解本發明的特徵及技術內容，請參閱以下有關本發明的詳細說明與附圖，然而所附圖式僅提供參考與說明用，並非用來對本發明加以限制者。

E‧‧‧檢測設備

E1‧‧‧晶片承載裝置

1‧‧‧電路板

1A‧‧‧卡合槽

2‧‧‧電連接單元

20‧‧‧探針組件

201‧‧‧針體

2011‧‧‧限位凸部

201A‧‧‧接觸端

201B‧‧‧尾端

201C‧‧‧外露區段

201D‧‧‧內藏區段

201E‧‧‧固定區段

202‧‧‧彈簧

202A‧‧‧第一緊密區段

202B‧‧‧彈性區段

202C‧‧‧第二緊密區段

21‧‧‧本體

21A‧‧‧開孔

21B‧‧‧容置槽

21C‧‧‧鎖孔

211‧‧‧頂壁

2111‧‧‧外側面

2112‧‧‧內側面

212‧‧‧環側壁

22‧‧‧升降結構

22A‧‧‧連接孔

22B‧‧‧晶片容槽

22C‧‧‧卡合槽

221‧‧‧基部

222‧‧‧承載部

223‧‧‧限位部

223A‧‧‧外側面

23‧‧‧支撐結構

23A‧‧‧卡合槽

231‧‧‧底座結構

231A‧‧‧穿孔

232‧‧‧輔助結構

232A‧‧‧支撐孔

2321‧‧‧抵頂結構

24‧‧‧彈性組件

E2‧‧‧抵壓裝置

30‧‧‧溫度調整組件

31‧‧‧溫度調節器

311‧‧‧平坦結構

3111‧‧‧平坦接觸面

312‧‧‧凸出部

31A‧‧‧流體入口

31B‧‧‧流體出口

32‧‧‧蓋體

32A‧‧‧容置空間

40‧‧‧抽氣組件

401‧‧‧罩體

401A‧‧‧罩體

401B‧‧‧罩體

4011‧‧‧端面

40A‧‧‧凹槽

40B‧‧‧容置開孔

40C‧‧‧抽氣孔

40D‧‧‧卡合槽

50‧‧‧氣密件

50A‧‧‧氣密件

501‧‧‧頂面

502‧‧‧底面

503‧‧‧環側面

504‧‧‧穿孔

60‧‧‧結構加強件

60A‧‧‧卡合槽

70‧‧‧抵壓件

SP‧‧‧容置空間

C‧‧‧晶片

C1‧‧‧接點部

C2‧‧‧外側面

S‧‧‧間隙

T‧‧‧探針通道

D1‧‧‧間距

D2‧‧‧距離

D3‧‧‧寬度

D4‧‧‧寬度

D5‧‧‧寬度

H1‧‧‧高度

G‧‧‧間隙

圖1為本發明的檢測裝置的示意圖。

圖2為本發明的檢測裝置的分解示意圖。

圖3為本發明的電連接單元設置於電路板的局部放大示意圖。

圖4為本發明的電連接單元的分解剖面示意圖。

圖5為本發明的電連接單元沿圖3所示剖面線V剖開的剖面示意圖。

圖6為本發明的電連接單元沿圖3所示剖面線VI剖開的剖面示意圖。

圖7為本發明的電連接單元設置晶片的示意圖。

圖8為本發明的電連接單元沿圖7所示剖面線VIII剖開的剖面示意圖。

圖9為本發明的電連接單元被抵壓裝置抵壓的剖面示意圖。

圖10為本發明的電連接單元的探針組件的分解示意圖。

圖11為本發明的檢測設備的抵壓裝置的示意圖。

圖12為本發明的檢測設備的抵壓裝置的另一視角的示意圖。

圖13為本發明的氣密件的剖面示意圖。

圖14為本發明的檢測設備沿圖1所示剖面線XIV剖開的剖面示意圖。

圖15為本發明的檢測設備的氣密件固定於抽氣組件的實施例的示意圖。

圖16為本發明的檢測設備的氣密件固定於電路板的實施例的示意圖。

圖17為本發明的檢測設備的氣密件的另一實施例的示意圖。

圖18為本發明的檢測設備的抵壓裝置的另一實施例與晶片承載裝置的剖面示意圖。

圖19為本發明的檢測設備的抵壓裝置的又一實施例與晶片承載裝置的剖面示意圖。

於以下說明中，如有指出請參閱特定圖式或是如特定圖式所示，其僅是用以強調於後續說明中，所述及的相關內容大部份出現於該特定圖式中，但不限制該後續說明中僅可參考所述特定圖式。

請參閱圖1及圖2，其為本發明的檢測裝置的組裝及分解示意圖。如圖所示，檢測設備E包含：一晶片承載裝置E1及一抵壓裝置E2。

晶片承載裝置E1具有一電路板1及多個電連接單元2。多個電連接單元2固定設置於電路板1，各個電連接單元2用以承載晶片C(如圖7所示)，各個探針組件20的一端用以與電路板1相連接，各個探針組件20的另一端則用以與晶片C相連接，而多個探針組件20用以使晶片C與電路板1能相互連接。在不同的應用 中，電路板1可以是多個，而不侷限為單一個電路板1。於此所指的晶片C特別是指記憶體(例如是NAND Flash)，但不以此為限。

在具體應用中，電路板1可以是設置有至少一控制單元(圖未示，例如是各式微處理器)或是電路板1可以是連接有一控制設備(圖未示，例如是電腦設備)，而控制單元或控制設備能通過電路板1與各個晶片C相連接，從而對各個晶片C進行檢測作業。關於控制單元或控制設備對晶片C進行何種檢測作業，可以是依據實際需求及晶片C的不同而有所不同；控制單元或控制設備可以是同時對設置於電路板1所有晶片C進行相同的檢測作業，或者控制單元或控制設備也可以是對設置於電路板1不同區域的晶片C進行不同的檢測作業，於此不加以限制。

抵壓裝置E2能被控制而抵壓各個電連接單元2設置有晶片C的一側，據以使晶片C在被進行檢測作業時，能穩固地與其所連接的電連接單元2內的探針組件20相連接。在不同的實施例中，抵壓裝置E2還可以是用來改變各個晶片C的溫度，以使晶片C在高溫狀態或是低溫狀態下進行檢測作業。

如圖3所示，其顯示為本發明的單一個電連接單元2設置於電路板1的示意圖；圖4顯示為單一個電連接單元2的分解剖面示意圖；圖5為設置於電路板1上的電連接單元2沿圖3所示剖面線V剖開的示意圖；圖6為設置於電路板1上的電連接單元2沿圖3所示剖面線VI剖開的示意圖。如圖3至圖6所示，各個電連接單元2包含：多個探針組件20、一本體21、一升降結構22、一支撐結構23及四個彈性組件24。

本體21具有一頂壁211及一環側壁212，頂壁211具有一開孔21A，環側壁212的一側連接於頂壁211的周緣，環側壁212的另一側固定設置於電路板1，頂壁211及環側壁212及電路板1共同形成有一容置槽21B。頂壁211彼此相反的兩側面定義為一外側面2111及一內側面2112。在實際應用中，頂壁211及環側壁 212可以是一體成型地設置，本體21還可以具有多個鎖孔21C(如圖3所示)，多個鎖孔21C可以與多個鎖固件(例如螺絲)相互配合，以將本體21固定於電路板1，但本體21固定於電路板1的方式不以此為限。

升降結構22包含有一基部221及一承載部222。基部221完全地設置於容置槽21B中，基部221向一側延伸形成有承載部222，承載部222的部分能穿設於開孔21A。承載部222的向遠離基部221的一側延伸形成有四個限位部223，四個限位部223可以是位於承載部222的四個邊角處，且四個限位部223與承載部222共同形成有一晶片容槽22B，晶片容槽22B用以提供晶片C設置，四個限位部223用以與晶片C相互卡合。各個限位部223可以是大致成L型，但不以此為限；限位部223的數量亦可依據需求變化，不以四個為限，且限位部223的設置位置不以圖中所示為限，四個限位部223也可以是不設置於四個邊角處。升降結構22還具有多個連接孔22A(如圖6所示)，各個連接孔22A貫穿基部221及承載部222設置。

多個探針組件20的一部分固定設置於支撐結構23中，且多個探針組件20固定設置於支撐結構23中的一端，用以與電路板1相連接；多個探針組件20的另一端則位於多個連接孔22A中，位於多個連接孔22A中的探針組件20的一端用以與晶片C的接點部C1相連接。

如圖4至圖6所示，支撐結構23設置於容置槽21B中，四個彈性組件24設置於支撐結構23及升降結構22之間。各個彈性組件24例如可以是壓縮彈簧，升降結構22及支撐結構23彼此相面對的一側，可以是分別形成有彼此相對應的卡合槽22C、23A，各個彈性組件24的兩端則對應卡合設置於卡合槽22C、23A。在不同的應用中，升降結構22及支撐結構23可以是分別於卡合槽22C、23A中形成有卡合凸柱，而各個彈性組件24的兩端則可以 是對應與兩個卡合凸柱相互卡合固定。

四個彈性組件24能使升降結構22的基部221抵靠頂壁211的內側面2112，並使基部221與支撐結構23之間對應形成有一間隙S(如圖6所示)。於實際應用中，在電連接單元2固定於電路板1上，且電連接單元2的限位部223未受外力抵壓時，位於升降結構22及支撐結構23之間的四個彈性組件24可以是略為被壓縮，而彈性組件24被壓縮所對應產生的彈性回復力，將使升降結構22穩固地抵靠於頂壁211的內側面2112。

特別說明的是，電連接單元2所具有的彈性組件24的數量，不以上述四個為限，彈性組件24的數量可以是依據需求變化，例如也可以是一個。

如圖7及圖8所示，當晶片C固定設置於晶片容槽22B中，且抵壓裝置E2(如圖2所示)未抵壓限位部223時，晶片C的多個接點部C1將對應容置於多個連接孔22A中，且各個探針組件20是未與多個接點部C1相連接(例如是不相互接觸)，而升降結構22與支撐結構23之間則是形成有間隙S。在圖8所示的實施例中，晶片C遠離所述升降結構22的外側面C2可以是不凸出於限位部223，但不以此為限，在不同實施例中，晶片C的外側面C2也可以是大致與限位部223的外側面223A齊平，或者，晶片C的外側面C2也可以是略微凸出於限位部223的外側面223A。值得一提的是，在本實施例的圖中，是以接點部C1為錫球的樣式為例，但接點部C1可以是引腳、平墊等，不以此為限。

如圖10所示，當晶片C設置於晶片容槽22B中，且抵壓裝置E2抵靠於頂壁211的外側面2111時，限位部223將被抵壓而內縮於本體21中，即，升降結構22將相對於多個探針組件20向電路板1的方向移動。

在抵壓裝置E2抵壓限位部223以使限位部223內縮於本體21中的過程中，升降結構22將相對於多個探針組件20移動，當 升降結構22抵靠於支撐結構23的一側時，多個探針組件20將對應穿出於多個連接孔22A，而多個探針組件20的一端將對應抵頂晶片C的多個接點部C1，多個探針組件20據以與晶片C相連接。

需說明的是，當升降結構22抵靠於支撐結構23的一側時，只要多個探針組件2可以與晶片C相連接，多個探針組件2也可以是不穿出於多個連接孔22A。在本實施例的圖式中，是以，升降結構22被抵壓後，限位部223可以完全地內縮於本體21中為例，但不以此為限，在不同的實施例中，升降結構22被抵壓後，限位部223也可以是不完全地內縮於本體21中。

當抵壓裝置E2抵靠於電連接單元2的外側面2111時，多個探針組件20可以是推抵晶片C，而使晶片C的外側面C2抵靠於抵壓裝置E2的內側。當晶片C的外側面C2抵靠於抵壓裝置E2的內側時，多個探針組件20所具有彈簧202將被壓縮，而彈簧202壓縮所對應產生的彈性回復力，將使晶片C穩定地抵靠於抵壓裝置E2的內側面2112。

請復參圖6，特別說明的是，若探針組件20的長度方向定義為一軸向方向(即圖中所示的Y軸方向)，升降結構22未被抵壓時(此時，基部221可以是抵靠於頂壁211)，各個探針組件20的末端與其所對應的連接孔22A一端的開口的距離D2，可以是小於升降結構22與支撐結構23沿軸向方向的間距D1，如此，當升降結構22受抵壓而抵靠於支撐結構23的一側時(如圖10所示)，探針組件20的一端將穿出於連接孔22A，從而可確保探針組件20的一端能與晶片C的接點部C1相連接(例如是彼此相互接觸)。

需說明的是，只要升降結構22被抵壓後，多個探針組件20可以由不與晶片C的多個接點部C1相連接，轉換為與多個接點部C1相連接，上述距離D2及間距D1皆可以依據需求調整，亦即，在升降結構22被抵壓後，多個探針組件20能與多個接點部C1相連接的前提下，探針組件20在升降結構22被抵壓時，探針組件 20可以是凸出或不凸出於對應的連接孔22A。

如圖6所示，各個限位部223露出於本體21的部份沿軸向方向(即圖中所示的Y軸方向)的高度H1，是小於或等於限位部223未被抵壓時，升降結構22與支撐結構23沿所述軸向方向的間距D1，如此，各個限位部223被抵壓裝置E2抵壓時將可內縮於本體21中。在各個限位部223露出於本體21的部份沿軸向方向(即圖中所示的Y軸方向)的高度H1，等於升降結構22與支撐結構23之間的間距D1的實施例中，抵壓裝置E2抵靠本體21的外側面2111時，升降結構22將對應抵靠於支撐結構23的一側。

依上所述，當抵壓裝置E2抵靠於電連接單元2的外側面2111時，多個探針組件20將抵頂晶片C，而使晶片C抵靠於抵壓裝置E2的一側，此時，控制單元或是控制設備將可對晶片C進行檢測作業，並同時控制抵壓裝置E2升溫或是降溫，而使晶片C在高溫狀態或是低溫狀態下進行檢測作業。

由於抵壓裝置E2抵靠於多個電連接單元2的外側面2111時，抵壓裝置E2是同時貼合於多個晶片C的外側面C2，因此，抵壓裝置E2受控制而升溫或是降溫時，多個晶片C的溫度將隨抵壓裝置E2改變，且多個晶片C的溫度將趨近一致，如此，將可確保多個晶片C在大致相同的溫度下進行檢測作業。

在現有技術中，使多個晶片C同時在高溫環境中進行檢測作業的方式為：先使插設有多個晶片C的電路板1，設置於烤箱中；再利用烤箱中的熱風機，使烤箱內部溫度提升，據以使多個晶片C可在高溫環境中進行檢測作業；然，此種現有技術的檢測方式，無法準確地控制烤箱中各個區域的溫度，如此，將無法確保各個晶片C皆處在預期溫度的狀態下進行檢測作業，從而導致檢測結果不準確的問題。反觀上述本發明的檢測設備E，可大幅改上述現有技術所存在的問題。

如圖4、圖6及圖10所示，在實際應用中，支撐結構22可以 是包含有一底座結構231及一輔助結構232。底座結構231設置於容置槽21B中，且底座結構231與本體21相互固定(例如是配合多個螺絲而與本體21相互固定)。底座結構231具有多個穿孔231A，而多個探針組件20的一端固定設置於多個穿孔231A中。

值得一提的是，底座結構231的其中一個主要功用是使探針組件20穩定地直立設置於容置槽21B中，因此，底座結構231的穿孔231A的孔徑可以是略小於探針組件20的最大外徑，而各個探針組件20與穿孔231A可以是卡合設置。關於底座結構231的穿孔231A的數量、各個穿孔231A的深度、各個穿孔231A彼此間的間隔距離、多個穿孔231A的排列方式等，可以是依據需求變化，圖中所示僅為其中一示範態樣，不以其為限。

輔助結構232設置於容置槽21B中，且輔助結構232位於底座結構231及頂壁211之間，輔助結構232與底座結構231相互固定(例如是利用螺絲相互鎖固)。輔助結構232具有多個支撐孔232A，多個支撐孔232A彼此間隔地設置，多個支撐孔232A與底座結構231的多個穿孔231A相互連通，且多個支撐孔232A與多個連接孔22A相對應地設置，而多個連接孔22A、多個支撐孔232A及多個穿孔231A將共同形成有多個探針通道T，多個探針組件20則對應設置於多個探針通道T中。

如圖10所示，其為單一個探針組件20的分解示意圖。探針組件20包含：一針體201及一彈簧202。針體201為桿狀結構，針體201的兩端定義為一接觸端201A及一尾端201B。針體201鄰近於接觸端201A的位置具有一限位凸部2011(圖中是以環狀結構為例，但其外型不以此為限)，限位凸部2011將針體201區隔為一外露區段201C及一內藏區段201D，彈簧202對應套設於針體201的內藏區段201D，而針體201的外露區段201C則不套設有彈簧202。

針體201於內藏區段201D中還區隔有一固定區段201E，固 定區段201E位於鄰近限位凸部2011的位置，針體201於固定區段201E的外徑，大於針體201於內藏區段201D的其餘區段的外徑。

彈簧202由其一端向另一端依序區隔有一第一緊密區段202A、一彈性區段202B及一第二緊密區段202C。彈簧202於第一緊密區段202A的內徑，小於針體201於固定區段201E的外徑，而彈簧202套設於針體201的內藏區段201D時，彈簧202的第一緊密區段202A對應與針體201的固定區段201E相互卡固，彈簧202鄰近於第一緊密區段202A的一端則對應抵靠於限位凸部2011的一側。也就是說，透過彈簧202第一緊密區段202A的內徑及針體201於固定區段201E的外徑相互配合的設計，能使彈簧202的一端固定設置於針體201的固定區段201E。

彈簧202於第一緊密區段202A及第二緊密區段202C的間距(pitch)，是大於彈簧202於彈性區段202B的間距(pitch)，在實際應用中，彈簧202於第一緊密區段202A或第二緊密區段202C的間距(pitch)可以是趨近於零，即，無論彈簧202是否受壓，彈簧202於第一緊密區段202A或第二緊密區段202C皆不會變形，而彈簧202的第一緊密區段202A及第二緊密區段202C僅作為與針體201及底座結構231相互固定的結構。

彈簧202於第一緊密區段202A的長度，小於彈簧202於彈性區段202B的長度；彈簧202於第二緊密區段202C的長度則可視底座結構231的穿孔231A深度決定。

在實際應用中，各個探針組件20的彈簧202可以是導電材質，彈簧202套設於針體201且彈簧202的第一緊密區段202A與針體201的固定區段201E相互固定時，針體201的尾端201B可以是不露出於彈簧202，而當電連接單元2固定於電路板1時，彈簧202具有第二緊密區段202C的一端與電路板1相互抵接，且彈簧202與電路板1連接，而電路板1與晶片C之間的電流及訊號， 則是通過針體201及彈簧202傳遞。

如圖6及圖10所示，輔助結構232於各個支撐孔232A中可以是具有一抵頂結構2321，各個抵頂結構2321用以抵頂針體201的限位凸部2011。探針組件20設置於探針通道T中時，針體201的限位凸部2011將對應抵靠抵頂結構2321，而抵頂結構2321能據以限制針體201相對於輔助結構232向升降結構22的方向移動。由於針體201的限位凸部2011是對應抵靠於抵頂結構2321，因此，針體201的內藏區段201D是對應位於輔助結構232及底座結構231(即支撐結構23)中，針體201大部份的外露區段201C則是對應露出於支撐結構23外，且針體201鄰近於接觸端201A的區段是對應位於連接孔22A中。

值得一提的是，如圖3及圖6所示，在實際應用中，各個電連接單元2可以是利用鎖固的方式固定於電路板1，且各個探針組件20鄰近於電路板1的一端，可以是以抵接的方式與電路板1連接，而各個探針組件20非以焊接的方式固定於電路板1；如此，相關人員可以依據需求拆換電路板1上的任一個電連接單元2，且相關人員亦可以依據需求拆換各電連接單元2中的任一個探針組件20。

請一併參閱圖8及圖9，當抵壓裝置E2不再抵壓限位部223時，彈性組件24受壓所產生的彈性回復力，將推抵升降結構22，而使升降結構22由鄰近於輔助結構232的位置，移動至與頂壁211的內側面相互抵靠的位置，在升降結構22由圖9的狀態移動至圖8的狀態的過程中，升降結構22將使晶片C與多個針體201的接觸端201A相互脫離，而使晶片C不再與多個探針組件20連接。

值得一提的是，如圖6及圖9所示，在各個限位部223露出於本體21的部份沿軸向方向(即圖中所示的Y軸方向)的高度H1，小於限位部223未被抵壓時，升降結構22與支撐結構23沿所述軸向方向的間距D1的實施例中，當抵壓裝置E2抵靠於外側面 2111時，升降結構22與輔助結構232之間將可以是形成有一間隙G，透過此間隙G的設計，在升降結構22或輔助結構232具有生產誤差時，仍可確保抵壓裝置E2可以抵靠於外側面2111。

在不同的實施例中，當抵壓裝置E2抵壓升降結構22，而多個探針組件20與晶片C的接點部C1相連接時，抵壓裝置E2也可以是不抵壓於外側面2111，而升降結構22則是抵靠於支撐結構23的一側。

依上所述，簡單來說，當晶片C設置於電連接單元2的晶片容槽22B，且升降結構22未被抵壓時，多個探針組件20是不與晶片C相連接；當升降結構22被抵壓而內縮於本體21中時，多個探針組件20將抵頂晶片C而與其相連接；當升降結構22不再受抵壓時，升降結構22回復至未受抵壓時的狀態，而晶片C將不再與多個探針組件20相連接。

請一併參閱圖11至圖13，圖11及圖12顯示為本發明的檢測設備E的抵壓裝置E2的其中一實施例的分解示意圖，圖13顯示為氣密件的剖面示意圖。如圖所述，抵壓裝置E2可以是包含有一溫度調整組件30及一抽氣組件40。關於溫度調整組件30的數量可以是依據需求變化，不以一個為限。

溫度調整組件30可以是包含有一溫度調節器31及一蓋體32。溫度調節器31的一側具有一平坦結構311，平坦結構311具有一平坦接觸面3111，溫度調節器31的內部可以是具有加熱線圈(圖未示)，加熱線圈能被控制而產生熱能。溫度調節器31的內部還可以是具有至少一流體通道(圖未示)，而流體通道可以是與溫度調節器31的一流體入口31A及一流體出口31B相連通，而低溫流體可以是由流體入口31A進入流體通道中，再由流體出口31B流出。特別說明的是，圖9所示抵壓裝置E2，可以是本實施例所述的溫度調整組件30的平坦結構311。關於流體入口31A及流體出口31B的數量，可以是依據需求增加，不侷限為單一個。關於溫 度調節器31的數量不以單一個為限，在不同的實施例中，溫度調節器31也可以是兩個以上。

如圖12及圖9所示，在抵壓裝置E2抵壓於多個電連接單元2時，抵壓裝置E2的平坦結構311將對應抵靠於各個電連接單元2的外側面2111及各個晶片C的外側面C2，此時，相關人員或是設備將可通過控制單元或是控制設備，控制溫度調節器31作動，以使加熱線圈產生熱能，從而提升平坦結構311的溫度，據以使晶片C在高溫狀態下進行檢測作業；或者，相關人員或是設備可以透過控制單元或控制設備，控制溫度調節器31所連接的低溫流體儲存設備(圖未示)作動，而使低溫流體儲存設備所儲存的低溫流體，由流體入口31A進入溫度調節器31中，從而使平坦結構311的溫度下降，據以使晶片C於低溫狀態下進行檢測作業。

特別說明的是，在實際應用中，抵壓裝置E2也可以是僅具有加熱線圈而不具有流體通道，或者抵壓裝置E2也可以是僅具有流體通道而不具有加熱線圈，亦即，抵壓裝置E2不侷限於同時具有加熱及致冷的功能，抵壓裝置E2也可以是僅具有加熱或僅具有致冷的功能。在抵壓裝置E2不具有加熱線圈而僅具有流體通道的實施例中，也可以是使高溫液體流入流體通道中，藉此使抵壓裝置E2仍可以具有加熱的功能。

上述的溫度調整組件30僅為其中一示範態樣，實際應用不以上述說明為限，舉例來說，溫度調整組件30也可以是包含有一致冷晶片。

蓋體32固定設置於溫度調節器31的一側，蓋體32用以阻隔熱能的傳遞，而可避免溫度調節器31所產生的熱能快速向外逸散，或者避免外部的熱能傳遞至有低溫流體流經的溫度調節器31。在實際應用中，蓋體32與溫度調節器31之間可以是對應形成有一容置空間32A，容置空間32A則可以是填充有任何可以阻隔熱能傳遞的構件。關於溫度調節器31及蓋體32的外型、尺寸 等可以依據需求變化，圖中所示僅為其中一示範態樣。另外，溫度調節器31的產生熱能的方式，不限定為利用加熱線圈，溫度調節器31也不侷限於利用低溫流體來達到降低溫度的效果。

抽氣組件40具有一罩體401，罩體401的一側內凹形成有一凹槽40A，罩體401具有一容置開孔40B，容置開孔40B與凹槽40A相連通。溫度調節器31相反於具有平坦結構311的一側可以是形成有一凸出部312，平坦結構311固定設置於凹槽40A中，凸出部312則對應外露於容置開孔40B。流體入口31A及流體出口31B則是設置於凸出部312，但不以此為限，流體入口31A及流體出口31B的設置位置可以依據需求變化。蓋體32則是設置於罩體401相反於形成有凹槽40A的一側。罩體401還具有兩個抽氣孔40C，兩個抽氣孔40C用以與抽氣設備相連接。關於罩體401的外觀及尺寸、抽氣孔40C的數量及尺寸等，皆可依據需求變化，圖中所示僅為示範態樣。

如圖14所示，當抵壓裝置E2設置於電路板1的一側時，溫度調節器31的平坦結構311，將對應抵靠於多個電連接單元2的限位部223，罩體401、電路板1及平坦結構311則共同形成有一容置空間SP，而抽氣孔40C是與容置空間SP相連通，如此，抽氣設備可以是通過抽氣孔40C對容置空間SP進行抽氣作業，以將容置空間SP中的空氣向外抽出，而讓容置空間SP成為負壓狀態，藉此，將可輔助平坦結構311抵壓設置於電路板1上的多個電連接單元2的限位部223。

更具體來說，抵壓裝置E2抵壓限位部223時，抵壓裝置E2必需抵抗彈性組件24及多個探針組件20所對應產生的彈性回復力，因此，當電路板1所設置的電連接單元2的數量增加時，抵壓裝置E2同時抵壓多個電連接單元2的限位部223所需的作用力將隨之增加；在此種情況中，透過上述抵壓裝置E2配合抽氣設備，以使容置空間SP呈現為負壓狀態，將可大幅降低抵壓裝置 E2同時下壓多個限位部223所需的作用力。

在抵壓裝置E2配合抽氣設備，而使容置空間SP呈現為負壓狀態，且溫度調節器31對多個晶片進行升溫或是降溫作業時，由於容置空間SP是呈現為真空或是接近真空的狀態，因此，可以有效降低容置空間SP的溫度受外部環境的影響的機率。

請復參圖2，抵壓裝置E2還可以是包含有一氣密件50。氣密件50可以是環狀結構，氣密件50設置於罩體401及電路板1之間，而氣密件50用以防止容置空間SP中的氣體向外逸散，同樣地，氣密件50亦可防止外部的空氣進入容置空間SP。

如圖13及圖14所示，圖13顯示為氣密件50的剖面示意圖，氣密件50可以定義有一頂面501、一底面502及一環側面503，頂面501及底面502位於氣密件50彼此相反的兩側，環側面503連接頂面501及底面502的周緣，頂面501的寬度D3大於底面502的寬度D4，氣密件50於電路板1法線面(即圖14所示座標系的Y-Z平面)上的截面呈現為梯形狀，且頂面501的寬度D3是小於罩體401面對於電路板1的端面4011(如圖12所示)的寬度D5(如圖14所示)。當然，氣密件50的截面不侷限為梯形，在不同的應用中，例如也可以是矩形、圓形、橢圓等，可依據需求變化。

當氣密件50設置於罩體401與電路板1之間時，頂面501是對應抵靠於罩體401的端面4011，而底面502則是對應抵靠於電路板1，藉此，抽氣設備將容置空間SP中的空氣向外抽出時，氣密件50將容易被罩體401抵壓而變形，從而更好地設置於罩體401與電路板1之間，而可以達到更好的氣密效果。

如圖14所述，當抽氣設備將容置空間SP中的氣體向外抽出後，罩體401將抵壓氣密件50，而氣密件50將變形而攤平設置於罩體401及電路板1之間，從而可達到更好的氣密效果；容置空間SP的壓力與外部壓力相同時，氣密件50藉由其本身的彈性，將可回復至未被抵壓的狀態。在具體的應用中，變形而攤平設置 於罩體401與電路板1之間的氣密件50，其寬度可以是大致等於罩體401的端面4011的寬度D5(如圖14所示)。

在實際應用中，氣密件50可以是依據需求以各種方式固定於電路板1或是罩體401的端面4011，舉例來說，氣密件50可以是透過黏膠而黏合固定於電路板1或是罩體401的端面4011。如圖15所示，在不同的應用中，罩體401可以是由端面4011向外凹設形成有一卡合槽40D，氣密件50的部份則可以是對應卡合設置於卡合槽40D；如圖16所示，在另一實施例中，電路板1也可以是具有一卡合槽1A，而氣密件50的部份可以是對應卡合於卡合槽1A中；透過卡合槽40D(1A)的設計，可以方便相關人員或是機械更換氣密件50。

特別說明的是，在實際應用中，可以是在任何可能影響容置空間SP的氣密性的位置，額外設置有對應的氣密構件，舉例來說，如圖3所示，各個鎖孔21C內可以是設置有彈性膠圈；或者也可以是在鎖孔21C中灌入膠體，以加強鎖固件與鎖孔之間的氣密效果。

如圖17所示，其顯示為本發明的氣密件的另一實施例的示意圖。氣密件50A可以是片狀結構，而非限制為前述實施例的中空環狀結構。呈現為片狀結構的氣密件50A，可以是具有多個穿孔504，多個穿孔504用以提供多個電連接單元2(如圖2所示)穿過，亦即，氣密件50設置於電路板1上時，多個電連接單元2的部份將對應穿過多個穿孔504，而露出於氣密件50的一側。

特別說明的是，在不同的應用中，抵壓裝置E2也可以是同時包含氣密件50及氣密件50A，亦即，抵壓裝置E2可以是具有兩種不同形式的氣密件。

請參閱圖18，其顯示為本發明的檢測設備的另一實施例剖面示意圖。如圖所示，本實施例與前述實施例最大不同之處在於：抵壓裝置E2可以是僅包含有前述抽氣組件40而不具有溫度調整 組件30，且抽氣組件40具有罩體401A，罩體401A的一側內凹形成有一凹槽40A，但罩體401A不具有前述容置開孔40B；另外，抵壓裝置E2還包含有一抵壓件70。

罩體401A蓋設於電路板1的一側，而罩體401A及電路板1共同形成有容置空間SP，且罩體401A同樣是具有至少一抽氣孔40C(如圖12所示)，而抽氣設備能通過抽氣孔40C，將容置空間SP中的空氣向外抽出。抵壓件70可以是可拆卸地固定設置於罩體401A，且抵壓件70是對應位於凹槽40A中。在不同的應用中，抵壓件70也可以是利用黏合等不可拆卸的方式固定於罩體401A中。

罩體401A可以是配合多個鎖固件(例如螺絲)固定於電路板1的一側；當罩體401A蓋設於電路板1時，抵壓件70對應位於罩體401A與多個電連接單元2之間，且抵壓件70對應抵壓設置於多個電連接單元2上的晶片C(如圖9所示)；當罩體401A固定設置於電路板1，且抽氣設備對容置空間SP進行抽氣時，在容置空間SP的壓力達到預定壓力(負壓)時，抵壓件70將可同時使多個電連接單元2的限位部223內縮於其對應的本體21，而抵壓件70將對應抵靠於晶片C相反於電連接單元2的一側，藉此，晶片C將與電連接單元2內的多個探針組件20相連接。如圖19所示，在另一實施例中，罩體401B與抵壓件70也可以是一體成型地設置，而罩體401B與抵壓件70非限制為彼此相互獨立的構件。

請復參圖2，本發明的檢測設備還可以包含有一結構加強件60。結構加強件60的一側內凹形成有一卡合槽60A，電路板1卡合固定於卡合槽60A中。結構加強件60用以強化電路板1整體的結構強度，藉此可避免電路板1於抽氣設備對容置空間SP抽氣的過程中發生變形的問題。在更好的實施例中，電路板1與結構加強件60除了透過卡合槽60A相互卡合固定外，電路板1與結構加強件60還可以是透過多個鎖固件(例如螺絲)相互固定，還可以是 於鎖固件及電路板1之間設置有密封膠圈、或者可以是利用焊接、噴塗氣密膠體等方式，來密封鎖固件與電路板1之間可能存在的空隙。

在不同的實施例中，結構加強件60的數量及其設置位置也可以是依據需求變化，舉例來說，檢測設備也可以是具有兩個結構加強件60，電路板1則是夾設於兩個結構加強件60之間。

綜上所述，本發明的檢測設備及晶片承載裝置，可以利用抵壓裝置同時抵壓設置於多個電連接單元上的晶片，而可以使多個晶片同時在差不多的溫度狀態下進行檢測作業。本發明的電連接單元，透過升降結構、彈性組件、探針組件等構件的相互配合，可以使晶片在進行檢測作業時，能夠穩固地與多個探針組件相互相連接。

以上所述僅為本發明的較佳可行實施例，非因此侷限本發明的專利範圍，故舉凡運用本發明說明書及圖式內容所做的等效技術變化，均包含於本發明的保護範圍內。

E‧‧‧檢測設備

1‧‧‧電路板

2‧‧‧電連接單元

311‧‧‧平坦結構

3111‧‧‧平坦接觸面

32‧‧‧蓋體

32A‧‧‧容置空間

401‧‧‧罩體

40B‧‧‧容置開孔

50‧‧‧氣密件

60‧‧‧結構加強件

60A‧‧‧卡合槽

C‧‧‧晶片

D5‧‧‧寬度

SP‧‧‧容置空間

Claims (13)

1. 一種檢測設備，其用以對多個晶片進行檢測，所述檢測設備包含：一晶片承載裝置，其包含：至少一電路板；及多個電連接單元，其設置於所述電路板，多個所述電連接單元用以承載多個所述晶片：以及一抵壓裝置，其包含：一罩體，其一側內凹形成有一凹槽，所述罩體設置於所述電路板的一側，而所述罩體與所述電路板共同形成有一容置空間，設置於所述電路板上的多個所述電連接單元對應位於所述容置空間中，所述罩體具有至少一抽氣孔，所述抽氣孔能提供一抽氣設備將所述容置空間中的空氣向外抽出；一抵壓件，其設置於所述罩體及多個所述電連接單元之間，且所述抵壓件的至少一部份位於所述容置空間中；及一氣密件，其為彈性結構，所述氣密件設置於所述電路板與所述罩體之間，所述氣密件用以阻隔所述容置空間與外流通；其中，所述抽氣設備將所述容置空間中的氣體向外抽出時，所述罩體將抵壓所述氣密件而使所述氣密件彈性變形，且所述抵壓件將抵壓多個所述電連接單元及設置於其中的所述晶片，以使各個所述晶片與相對應的所述電連接單元相互連接。
2. 如請求項1所述的檢測設備，其中，所述氣密件具有一頂面、一底面及一環側面，所述頂面及所述底面位於所述氣密 件彼此相反的兩側，所述環側面連接所述頂面及所述底面的周緣，所述頂面的寬度小於所述罩體面對所述電路板的端面的寬度，所述頂面的寬度大於所述底面的寬度。
3. 如請求項1所述的檢測設備，其中，所述氣密件為片狀結構，所述氣密件包含多個穿孔，所述氣密件設置於所述電路板的一側，多個所述電連接單元的部份能對應穿過多個所述穿孔而露出於所述氣密件的一側。
4. 如請求項1所述的檢測設備，其中，所述罩體面對所述電路板的一端面內凹形成有一卡合槽，所述氣密件的部份卡合設置於所述卡合槽中。
5. 如請求項1所述的檢測設備，其中，所述電路板設置有多個所述電連接單元的一側內凹形成有一卡合槽，所述氣密件的部份卡合設置於所述卡合槽中。
6. 如請求項1所述的檢測設備，其中，所述抵壓件與所述罩體一體成型地設置。
7. 如請求項1至6其中任一項所述的檢測設備，其中，各個所述電連接單元包含：一本體，其具有一頂壁及一環側壁，所述頂壁具有一開孔，所述環側壁的一端與所述頂壁的周緣相連接，所述環側壁的另一端設置於所述電路板，所述頂壁、所述環側壁及所述電路板共同形成有一容置槽；所述頂壁彼此相反的兩側面定義為一外側面及一內側面，所述內側面位於所述容置槽中；一支撐結構，其設置於所述電路板，且所述支撐結構位於所述容置槽中；一升降結構，其設置於所述容置槽中，所述升降結構具有一 基部及一承載部，所述基部位於所述容置槽中，所述基部向一側延伸形成所述承載部，所述承載部的至少一部分位於所述開孔中；所述承載部向遠離所述基部的一側延伸形成有多個限位部，多個所述限位部的至少一部分穿出所述開孔，且多個所述限位部及所述承載部共同形成有一晶片容槽，所述晶片容槽用以容置一個所述晶片；所述升降結構還具有多個連接孔，多個所述連接孔貫穿所述基部及所述承載部；至少一彈性組件，其設置於所述容置槽中，所述彈性組件的一端固定於所述升降結構，所述彈性組件的另一端固定於所述支撐結構；所述彈性組件受壓所產生的彈性回復力使所述基部抵靠於所述頂壁的所述內側面，並使所述升降結構與所述支撐結構之間形成有一間隙；多個探針組件，各個所述探針組件的一端固定設置於所述支撐結構，且所述探針組件用以與所述電路板相連接，多個所述探針組件的另一端穿設於多個所述連接孔；其中，當所述晶片容槽設置有所述晶片，且所述限位部未被所述抵壓件抵壓時，位於多個所述連接孔中的所述探針組件不與所述晶片的多個接點部相連接；其中，當所述晶片容槽設置有所述晶片，且所述抵壓件抵靠於所述頂壁的所述外側面時，外露於所述本體的所述限位部，將被所述抵壓裝置抵壓而內縮於所述本體中，而多個所述探針組件將抵頂多個所述接點部，且多個所述探針組件及所述晶片彼此相連接。
8. 如請求項7所述的檢測設備，其中，各個所述探針組件的長度方向定義為一軸向方向，各個所述限位部露出於所述本體的部份沿所述軸向方向的高度，小於或等於所述限位部未被 抵壓時，所述升降結構與所述支撐結構沿所述軸向方向的間距。
9. 如請求項7所述的檢測設備，其中，各個所述探針組件的長度方向定義為一軸向方向，所述升降結構未被抵壓時，各個所述探針組件的末端與其對應的所述連接孔的一端的開口的距離，小於或等於所述升降結構未被抵壓時，所述升降結構與所述支撐結構沿所述軸向方向的間距。
10. 如請求項9所述的檢測設備，其中，當所述晶片容槽設置有所述晶片，且所述抵壓裝置抵靠於所述頂壁的所述外側面時，多個所述探針組件抵頂多個所述接點部，而所述晶片遠離所述升降結構的外側面，對應抵靠所述抵壓裝置抵壓所述限位部的一側。
11. 如請求項10所述的檢測設備，其中，當所述晶片容槽設置有所述晶片，且所述抵壓裝置抵靠於所述頂壁的所述外側面時，多個所述探針組件的一端穿出多個所述連接孔。
12. 如請求項9所述的檢測設備，其中，當所述晶片容槽設置有所述晶片，且所述抵壓裝置抵壓所述限位部，而所述升降結構抵靠於所述支撐結構時，多個所述探針組件抵頂多個所述接點部，而所述晶片遠離所述升降結構的外側面，對應抵靠所述抵壓裝置抵壓所述限位部的一側。
13. 如請求項12所述的檢測設備，其中，當所述晶片容槽設置有所述晶片，且所述抵壓裝置抵壓所述限位部，而所述升降結構抵靠於所述支撐結構時，多個所述探針組件的一端穿出多個所述連接孔。

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