TWI694555B - 晶片封裝結構及其製作方法 - Google Patents

Abstract

一種晶片封裝結構，包括一第一防護層、一形成在所述第一防護層上的線路重置層、一與所述線路重置層電連接的晶片及一包覆所述線路重置層及所述晶片的封膠體，所述第一防護層包括一外露表面及與所述外露表面相連接的至少四個側邊，所述封膠體包括一封膠表面；所述封膠體還包覆所述第一防護層的至少四個側邊。本發明提供的晶片封裝結構能夠避免所述線路重置層及第一防護層被外力破壞，增強所述晶片封裝結構的可靠性。

Description

晶片封裝結構及其製作方法

本發明涉及晶片封裝領域，尤其涉及一種晶片封裝結構及其製作方法。

隨著積體電路的功能越來越強，集成度越來越高，封裝技術在積體電路產品中扮演著越來越重要的角色，在整個電子系統的價值中所佔的比例也越來越大。同時，隨著積體電路特徵尺寸達到納米級，晶片向更高密度、更高時鐘頻率發展，封裝也向更高密度的方向發展。由於扇出晶圓級封裝(flow)技術具有小型化、低成本、高集成度及具有更好的性能和更高的能源效率等優點，因此，扇出晶圓級封裝技術已成為高要求的移動/無線網路等電子設備的重要封裝方法，是目前最具有發展前景的封裝技術之一。然而，現有的晶片封裝結構的封膠體僅包覆晶片的四周，重新佈線層及防護層(常用的為polyimide，PI層)則裸露在所述封膠體外，使得所述封膠體的側邊與重新佈線層及覆蓋膜層的側邊之間出現高低差，從而導致所述重新佈線層及覆蓋膜層容易被外力破壞，造成所述晶片封裝結構的可靠性變差。

有鑑於此，本發明提供一種能夠防止重新佈線層及防護層被外力破壞、增強可靠性的晶片封裝結構。

還有必要提供一種防止重新佈線層及防護層被外力破壞、增強可靠性的晶片封裝結構的製作方法。

一種晶片封裝結構，包括一第一防護層、一形成在所述第一防護層上的線路重置層、一與所述線路重置層電連接的晶片及一包覆所述線路重置層及所述晶片的封膠體，所述第一防護層包括一外露表面及與所述外露表面相連接的至少四個側邊，所述封膠體包括一封膠表面；所述封膠體還包覆所述第一防護層的至少四個側邊。

進一步地，所述第一防護層上形成有多個第一開口，部分所述線路重置層從所述第一開口內裸露出來，一個所述第一開口內形成有一個焊球，所述焊球與所述線路重置層電連接。

進一步地，所述晶片封裝結構還包括一第二防護層，所述第二防護層形成在所述線路重置層上且包覆所述線路重置層，所述第二防護層上形成有多個第二開口，部分所述線路重置層從所述第二開口內裸露出來，所述第二開口內形成有電接觸墊。

進一步地，每一個第二開口內形成有一個電接觸墊，每一個所述晶片還形成有多個導電凸塊，所述導電凸塊固接在所述電接觸墊上，一個所述導電凸塊對應一個所述電接觸墊。

進一步地，所述第一防護層的外露表面與所述封膠體的封膠表面平齊。

進一步地，所述封膠體的材質為環氧塑封料。

一種晶片封裝結構的製作方法，包括如下步驟：提供一承載基板；在所述承載基板的表面上形成一第一防護層及在所述第一防護層上形成一線路重置層，所述第一防護層包括一與所述承載基板相貼的外露表面；提供至少一晶片，並將所述晶片與所述線路重置層電性連接；形成一封膠體並使得所述封膠體包覆所述第一防護層、所述線路重置層及所述晶片，所述封膠體包括一與所述承載基板相貼的封膠表面；及移除所述承載基板，得到所述晶片封裝結構。

進一步地，所述第一防護層上形成有多個第一開口，部分所述線路重置層從所述第一開口內裸露出來，在移除所述承載基板的步驟之後還包括步驟：在每一個所述第一開口內形成一個焊球，所述焊球與所述線路重置層電連接。

進一步地，在形成線路重置層之後，還包括步驟：形成一包覆所述線路重置層的第二防護層，所述第二防護層上形成有多個第二開口，部分所述線路重置層分別從所述第二開口內裸露出來；及在所述第二開口內形成電接觸墊，一個第二開口內形成一個電接觸墊；一個所述晶片上還形成有多個導電凸塊，所述導電凸塊固接在所述電接觸墊上，一個所述導電凸塊對應一個所述電接觸墊。

進一步地，所述封膠體的封膠表面與所述第一防護層的外露表面相平齊。

本發明提供的晶片封裝結構及其製作方法，將所述線路重置層及形成在所述線路重置層上的所述第一防護層的至少四個側邊包覆在所述封膠體內，從而能夠避免所述線路重置層及第一防護層被外力破壞，進而增強所述晶片封裝結構的可靠性。

100:晶片封裝結構

10:承載基板

11:承載板

12:離型膜層

121:第一表面

20:第一防護層

21:第一開口

22:外露表面

23:側邊

30:線路重置層

40:第二防護層

41:第二開口

50:電接觸墊

60:晶片

61:第二表面

62:導電凸塊

70:封膠體

71:封膠表面

110:封裝中間體

80:焊球

圖1為本發明一實施例提供的一承載基板的剖面示意圖。

圖2為在圖1所示的承載基板的表面形成一第一防護層、一線路重置層及一第二防護層後的剖面示意圖。

圖3為在圖2所示的第二防護層的表面貼附一晶片後的剖面示意圖。

圖4為將圖3所示的晶片、線路重置層、第一防護層及第二防護層包覆在一封膠體內之後的剖面示意圖。

圖5為去除圖4所示的承載基板，得到一封裝中間體之後的剖面示意圖。

圖6為在圖5所示的第一防護層表面形成焊球，得到一晶片封裝結構後的剖面示意圖。

下面將結合本發明實施方式中的附圖，對本發明實施方式中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施方式僅為本發明一部分實施方式，而不為全部的實施方式。基於本發明中的實施方式，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施方式，都屬於本發明保護的範圍。

需要說明的是，當一個元件被認為是“連接”另一個元件，它可以是直接連接到另一個元件或者可能同時存在居中設置的元件。當一個元件被認為為“設置於”另一個元件，它可以為直接設置在另一個元件上或者可能同時存在居中設置的元件。本文所使用的術語“及/或”包括一個或多個相關的所列項目的任意的和所有的組合。

除非另有定義，本文所使用的所有的技術和科學術語與屬於本發明的技術領域的技術人員通常理解的含義相同。本文中在本發明的說明書中所使用的術語只是為了描述具體的實施方式的目的，不為旨在於限制本發明。

請參閱圖1-6，本發明較佳實施方式提供一種晶片封裝結構的製作方法，包括如下步驟：第一步，請參閱圖1，提供一承載基板10。所述承載基板10包括一承載板11及一形成在所述承載板11上的離型膜層12。

所述承載板11的材質為任何一種絕緣的具有承載作用的材料。在本實施例中，所述承載板11的材質為聚醯亞胺(polyimide，PI)。在其他實施 例中，所述承載板11的材質還可以為聚對苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene Terephthalate，PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(Polyethylene Naphthalate，PEN)或其他樹脂硬質材料或陶瓷板、金屬板等。

所述離型膜層12包括一第一表面121，所述第一表面121與所述承載板11相背。

所述離型膜層12的材質可以為聚乙烯(polyethylene，PE)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate，PET)、定向聚丙烯(oriented polypropylene，OPP)、聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)、聚苯乙烯(polystyrene，PS)、聚甲基丙烯酸甲脂(polymethylmethacrylate，PMMA)、雙軸向聚丙烯(Biaxially-oriented Polypropylene，BOPP)、聚甲基戊(Poly-4-methyl-1-pentene，TPX)、聚氯乙烯(polyvinyl chloride，PVC)、聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene，PTFE)、單矽或聚脂中任意一種或至少兩種的組合。在本實施方式中，所述離型膜層12優選為PET離型膜。

第二步，請參閱圖2，在所述離型膜層12的第一表面121上形成一第一防護層20、在所述第一防護層20上形成一線路重置層(redistribution layer，RDL)30及形成一接觸並包覆所述線路重置層30的第二防護層40。

所述第一防護層20上形成有多個第一開口21，所述第二防護層40上形成有多個第二開口41，部分所述線路重置層30分別從所述第一開口21及所述第二開口41內裸露出來。

所述第一防護層20可以為覆蓋膜層，也可以為防焊層。在本實施方式中，所述第一防護層20為覆蓋膜層。優選地，所述第一防護層20為聚醯亞胺(polyimide，PI)覆蓋膜層。

所述第一防護層20包括一外露表面22及與所述外露表面22相連接的至少四個側邊23，所述外露表面22與所述第一表面121相接觸。

所述線路重置層30可以藉由電鍍或影像轉移制程製作而成。所述線路重置層30用於安裝外部電子元件或與外部電子元件通信連接。

所述第二防護層40用於保護所述線路重置層30。

所述第二防護層40可以為覆蓋膜層，也可以為防焊層。在本實施方式中，所述第二防護層40為覆蓋膜層。優選地，所述第二防護層40為聚醯亞胺(polyimide，PI)覆蓋膜層。

第三步，請參閱圖3，在所述第二開口41內形成電接觸墊50，提供至少一晶片60並將所述晶片60藉由所述電接觸墊50固接在所述第二防護層40上，所述晶片60與所述線路重置層30藉由所述電接觸墊50電性連接。

所述晶片60包括一第二表面61，所述第二表面61面向所述第二防護層40且平行於所述第二防護層40。所述第二表面61上還形成有多個導電凸塊62，所述導電凸塊62固接在所述電接觸墊50上。一個所述導電凸塊62對應一個所述電接觸墊50。

第四步，請參閱圖4，在所述承載基板10的形成有線路重置層30及晶片60的一側形成一封膠體70並使得所述封膠體70包覆所述第一防護層20、所述線路重置層30、所述第二防護層40及所述晶片60。

所述封膠體70包括一封膠表面71。所述封膠表面71與所述第一表面121相接觸。

在本實施方式中，藉由注塑成型的方式形成所述封膠體70。具體地，首先提供一模具(圖未示)，所述模具包括一模穴及一注膠通道，將包含有所述第一防護層20、所述線路重置層30及所述晶片60的承載基板10收容於所述模穴內；然後，藉由所述注膠通道向所述模穴內注入膠體，使膠體包覆所述第一防護層20、所述線路重置層30及所述晶片60；接著，固化所述膠體，從而形成所述封膠體70；之後，將形成有所述封膠體70的所述承載基板10從所述模穴中取出來。

在本實施方式中，所述封膠體70的材質為環氧塑封料(epoxy molding compound，EMC)。在其他實施方式中，所述封膠體70的材質並不局限於EMC材料，還可以為其他的適應於塑封的材料。

第五步，請參閱圖5，移除所述承載基板10，得到一封裝中間體110。

所述封裝中間體110包括一第一防護層20、一形成在所述第一防護層20上的線路重置層30、一包覆所述線路重置層30的第二防護層40、一晶 片60及一包覆所述第一防護層20、所述線路重置層30、所述第二防護層40及所述晶片60的封膠體70。其中，所述第一防護層20包括一外露表面22及與所述外露表面22相連接的至少四個側邊23，所述外露表面22遠離所述線路重置層30，所述第一防護層20上形成有多個第一開口21，所述第二防護層40上形成有多個第二開口41，部分所述線路重置層30分別從所述第一開口21及所述第二開口41內裸露出來。一個所述第二開口41內形成有一個電接觸墊50。所述晶片60包括一第二表面61，所述第二表面61面向所述第二防護層40且平行於所述第二防護層40。所述第二表面61上還形成有多個導電凸塊62，所述導電凸塊62固接在所述電接觸墊50上。一個所述導電凸塊62對應一個所述電接觸墊50。所述封膠體70包括一封膠表面71。所述封膠體70完全包括所述線路重置層30、所述第二防護層40及所述晶片60並包覆所述第一防護層20的至少四個側邊23，所述封膠體70的封膠表面71與所述第一防護層20的外露表面22相平齊。

第六步，請參閱圖6，在多個所述第一開口21內填充導電材料並形成多個焊球80，進而形成一晶片封裝結構100。

多個所述焊球80用於電連接外部電子元件(圖未示)，所述外部電子元件可以為晶片、電路板等。

本發明還提供一種晶片封裝結構100，所述晶片封裝結構100包括一第一防護層20、一形成在所述第一防護層20上的線路重置層30、一包覆所述線路重置層30的第二防護層40、一與所述線路重置層30電連接的晶片60及一包覆所述第一防護層20、所述線路重置層30、所述第二防護層40及所述晶片60的封膠體70。其中，所述第一防護層20包括一外露表面22，所述外露表面22遠離所述線路重置層30，所述第一防護層20上形成有多個第一開口21，所述第二防護層40上形成有多個第二開口41，部分所述線路重置層30分別從所述第一開口21及所述第二開口41內裸露出來。一個所述第二開口41內形成有一個電接觸墊50。所述第一防護層20還包括一與所述線路重置層30相背的外露表面22及與所述外露表面22相連接的至少四個側邊23，所述封膠體70接觸並包覆所述第一防護層20的至少四個側邊23。所述晶片60包括一第二表面61，所述第二表面61面向所述第二防護層40且平行於所述第二防護層40。所述第二表面61上還形成有多個導電凸塊62，所述導電凸塊62固接在所述電接 觸墊50上。一個所述導電凸塊62對應一個所述電接觸墊50。所述封膠體70包括一封膠表面71。所述封膠表面71與所述第一防護層20的外露表面22相平齊。

所述晶片封裝結構100還包括多個焊球80，一個所述焊球80形成在一個所述第一開口21內，多個所述焊球80分別與所述線路重置層30電連接，用以電連接外部電子元件。

本發明提供的晶片封裝結構及其製作方法，將所述線路重置層30及形成在所述線路重置層30上的所述第一防護層20的至少四個側邊23也包覆在所述封膠體70內，從而能夠避免所述線路重置層30及第一防護層20被外力破壞，進而增強所述晶片封裝結構100的可靠性。

以上所述，僅為本發明的較佳實施方式而已，並非對本發明任何形式上的限制，雖然本發明已為較佳實施方式揭露如上，並非用以限定本發明，任何熟悉本專業的技術人員，在不脫離本發明技術方案範圍內，當可利用上述揭示的技術內容做出些許更動或修飾為等同變化的等效實施方式，但凡為未脫離本發明技術方案內容，依據本發明的技術實質對以上實施方式所做的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬於本發明技術方案的範圍內。

100:晶片封裝結構

10:承載基板

11:承載板

12:離型膜層

121:第一表面

20:第一防護層

21:第一開口

22:外露表面

23:側邊

30:線路重置層

40:第二防護層

41:第二開口

50:電接觸墊

60:晶片

61:第二表面

62:導電凸塊

70:封膠體

71:封膠表面

110:封裝中間體

80:焊球

Claims (10)

1. 一種晶片封裝結構，包括一第一防護層、一形成在所述第一防護層上的線路重置層、一形成在所述線路重置層上且包覆所述線路重置層的第二防護層，一與所述線路重置層電連接的晶片及一包覆所述線路重置層、所述第二防護層及所述晶片的封膠體，所述第一防護層包括一外露表面及與所述外露表面相連接的至少四個側邊，所述封膠體包括一封膠表面；其中，所述封膠體接觸並包覆所述第一防護層的至少四個側邊。
2. 如請求項1所述的晶片封裝結構，其中，所述第一防護層上形成有多個第一開口，部分所述線路重置層從所述第一開口內裸露出來，一個所述第一開口內形成有一個焊球，所述焊球與所述線路重置層電連接。
3. 如請求項1所述的晶片封裝結構，其中，所述第二防護層上形成有多個第二開口，部分所述線路重置層從所述第二開口內裸露出來，所述第二開口內形成有電接觸墊。
4. 如請求項3所述的晶片封裝結構，其中，每一個第二開口內形成有一個電接觸墊，每一個所述晶片還形成有多個導電凸塊，所述導電凸塊固接在所述電接觸墊上，一個所述導電凸塊對應一個所述電接觸墊。
5. 如請求項1所述的晶片封裝結構，其中，所述第一防護層的外露表面與所述封膠體的封膠表面平齊。
6. 如請求項1所述的晶片封裝結構，其中，所述封膠體的材質為環氧塑封料。
7. 一種晶片封裝結構的製作方法，包括如下步驟：提供一承載基板；在所述承載基板的表面上形成一第一防護層及在所述第一防護層上形成一線路重置層，所述第一防護層包括一與所述承載基板相貼的外露表面及與所述外露表面相連接的至少四個側邊；形成一包覆所述線路重置層的第二防護層，所述第二防護層上形成有多個第二開口，部分所述線路重置層分別從所述第二開口內裸露出來；提供至少一晶片，並將所述晶片與所述線路重置層電性連接； 形成一封膠體並使得所述封膠體包覆所述第一防護層、所述線路重置層及所述晶片；所述封膠體接觸並包覆所述第一防護層的至少四個側邊，所述封膠體包括一與所述承載基板相貼的封膠表面；及移除所述承載基板，得到所述晶片封裝結構。
8. 如請求項7所述的晶片封裝結構的製作方法，其中，所述第一防護層上形成有多個第一開口，部分所述線路重置層從所述第一開口內裸露出來，在移除所述承載基板的步驟之後還包括步驟：在每一個所述第一開口內形成一個焊球，所述焊球與所述線路重置層電連接。
9. 如請求項7所述的晶片封裝結構的製作方法，其中，在形成線路重置層之後，還包括步驟：在所述第二開口內形成電接觸墊，一個第二開口內形成一個電接觸墊；一個所述晶片上還形成有多個導電凸塊，所述導電凸塊固接在所述電接觸墊上，一個所述導電凸塊對應一個所述電接觸墊。
10. 如請求項7所述的晶片封裝結構的製作方法，其中，所述封膠體的封膠表面與所述第一防護層的外露表面相平齊。

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