TWI694424B - 顯示裝置及其製造方法 - Google Patents
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Abstract
一種顯示裝置包括硬質基板、多個子畫素、顯示介質、多條訊號線、多個引腳、驅動電路以及導電膜。硬質基板具有第一部分以及第二部分。第一部分的第一面上具有主動元件陣列區。第二部分的第二面承靠於第一部分的側面或第二面。多條訊號線位於主動元件陣列區上,且電性連接子畫素。多個引腳位於第二部分上。驅動電路與引腳電性連接。導電膜位於第一部分以及第二部分上。導電膜包括多條線路。線路電性連接引腳與對應的訊號線。線路自第一部分的第一面折向第一部分的側面。導電膜的材料包括固化的感光材料以及散布於感光材料中的導電粒子。
Description
本發明是有關於一種顯示裝置,且特別是有關於一種硬質基板具有第一部分以及承靠於第一部分的側面或第二面之第二部分的顯示裝置及其製造方法。
由於顯示面板具有體積小、輻射低等優點,顯示面板已經普遍地被應用在各式各樣的電子產品中。在現有的顯示面板中,通常會於顯示區的外圍保留大面積的驅動電路區來設置驅動電路,並藉由驅動電路來控制主動元件陣列區上之子畫素。然而,位於主動元件陣列區外側的驅動電路區嚴重的影響了產品的美觀,使顯示面板具有很寬的邊框,並限縮了產品的屏佔比。隨著科技的進步,消費者對顯示面板外觀的要求越來越高,為了要提高消費者的購買意願,如何增加顯示面板之屏佔比已經成為目前各家廠商欲解決的問題之一。
本發明提供一種顯示裝置,具有窄邊框的優點。
本發明提供一種顯示裝置的製造方法,能使顯示裝置具有窄邊框的優點。
本發明的至少一實施例提供一種顯示裝置。顯示裝置包括硬質基板、多個子畫素、多條訊號線、多個引腳、驅動電路以及導電膜。硬質基板具有第一部分以及第二部分。第一部分具有第一面、第二面以及相連第一面與第二面的側面。第一部分的第一面上具有主動元件陣列區。第二部分的第二面承靠於第一部分的側面或第二面。多個子畫素位於主動元件陣列區上。多條訊號線位於主動元件陣列區上,且電性連接子畫素。多個引腳位於第二部分上。驅動電路與引腳電性連接。導電膜位於第一部分以及第二部分上。導電膜包括多條線路。線路電性連接引腳與對應的訊號線。線路自第一部分的第一面折向第一部分的側面。導電膜的材料包括固化的感光材料以及散布於感光材料中的導電粒子。
本發明的至少一實施例提供一種顯示裝置的製造方法,包括:提供基板材料,基板材料包括主動元件陣列區、驅動電路區以及位於主動元件陣列區以及驅動電路區之間的預切割區;形成多條訊號線於主動元件陣列區上;形成多個子畫素於主動元件陣列區上,且子畫素電性連接訊號線;形成多個引腳於驅動電路區上;形成驅動電路於驅動電路區上,其中驅動電路與引腳電性連接;提供圖案化的軟性導電膜;對圖案化的軟性導電膜進行硬
烤製程,以形成導電膜,其中導電膜包括多條線路;移除基板材料的預切割區,以形成第一部分以及第二部分,其中第一部分具有第一面、第二面以及相連第一面與第二面的側面,第一部分的第一面上具有主動元件陣列區,其中第二部分具有第一面、第二面以及相連第一面與第二面的側面,第二部分的第一面上具有驅動電路區;以及使第二部分的第二面承靠於第一部分的側面或第二面。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂,下文特舉實施例,並配合所附圖式作詳細說明如下。
10、20:顯示裝置
100:基板材料
100a:硬質基板
102:第一部分
102A、104A:第一面
102B、104B:第二面
102S、104S:側面
104:第二部分
110:訊號線
120:子畫素
122:主動元件
124:顯示介質
130:引腳
140:驅動電路
150:引腳
200:保護層
210:軟性導電膜
212:線路
214、302:接墊
210a:圖案化的軟性導電膜
210b:導電膜
220:離型膜
230:光罩
300:連接結構
AA:主動元件陣列區
BA:驅動電路區
CA:預切割區
FA:邊框區
W1、W2、W3、W4、W5、W6:寬度
圖1A至圖6B是依照本發明的一實施例的一種顯示裝置的製造方法的示意圖。
圖7A至圖11B是依照本發明的一實施例的一種顯示裝置的製造方法的示意圖。
圖1A至圖6B是依照本發明的一實施例的一種顯示裝置的製造方法的示意圖。
圖1A、圖3A、圖4A、圖5A以及圖6A是顯示裝置的製造方法的上視示意圖,圖1B、圖3B、圖4B、圖5B以及圖6B分
別是圖1A、圖3A、圖4A、圖5A以及圖6A剖線aa’的剖面示意圖。
請參考圖1A與圖1B,提供基板材料100,基板材料100包括主動元件陣列區AA、驅動電路區BA以及位於主動元件陣列區AA以及驅動電路區BA之間的預切割區CA。在本實施例中,主動元件陣列區AA周圍還包括邊框區FA。
形成多條訊號線110於主動元件陣列區AA上。形成多個子畫素120於主動元件陣列區AA上,其中子畫素120電性連接訊號線110。在本實施例中,子畫素120包括主動元件122以及顯示介質124。顯示介質124位於主動元件122上,其中顯示介質124包括有機發光二極體、無機發光二極體、液晶或電泳顯示介質。在本實施例中,顯示介質124包括多個有機發光二極體,每個有機發光二極體電性連接至對應的主動元件122。
形成多個引腳130於驅動電路區BA上。形成驅動電路140於驅動電路區BA上,其中驅動電路140與引腳150電性連接。驅動電路140包括晶片或整合型閘極驅動電路(gate-driver on array,GOA)。舉例來說,驅動電路140為整合型閘極驅動電路,且在製作子畫素120的製程中,可同時形成驅動電路140。
在本實施例中,軟性電路板150電性連接驅動電路140。舉例來說,軟性電路板150透過引腳130電性連接驅動電路140。
請參考圖2至圖6B,提供圖案化的軟性導電膜210a(圖
4A與圖4B)。對圖案化的軟性導電膜210a進行硬烤製程,以形成導電膜210b(圖6A與圖6B)。導電膜210b包括固化的感光材料以及散布於該感光材料中的導電粒子。感光材料包括正型光阻或負型光阻。導電膜210b的厚度約為1微米至10微米,舉例來說,導電膜210b的厚度約為6微米,但本發明不以此為限。
請參考圖2至圖3B,在本實施例中,提供圖案化的軟性導電膜210a的方法包括:提供軟性導電膜210於離型膜220上,軟性導電膜210上選擇性地覆蓋著保護層200。移除保護層200,並將軟性導電膜210貼於預切割區CA上。於離型膜220上形成光罩230,並圖案化軟性導電膜210。在一些實施例中,提供圖案化的軟性導電膜210a的方法還包括顯影製程。舉例來說,在移除離型膜220之前或之後對軟性導電膜210進行顯影製程以留下圖案化的軟性導電膜210a,但本發明不以此為限。
在本實施例中,在圖案化軟性導電膜210之前,對軟性導電膜210進行軟烤製程。舉例來說,在將軟性導電膜210貼於預切割區CA上之前進行軟烤製程。軟烤製程的溫度為攝氏50度至攝氏90度。
請參考圖4A至圖5B,在提供圖案化的軟性導電膜210a之後,移除基板材料100的預切割區CA,使部分圖案化的軟性導電膜210a的下方不存在基板材料100。舉例來說移除基板材料100的預切割區CA,以形成包括第一部分102以及第二部分104的硬
質基板100a。第一部分102具有第一面102A、第二面102B以及相連第一面102A與第二面102B的側面102S。第一部分102的第一面102A上具有主動元件陣列區AA。第二部分104具有第一面104A、第二面104B以及相連第一面104A與第二面104B的側面104S。第二部分104的第一面104A上具有驅動電路區BA。在一些實施例中,第二部分104的寬度W1約為6微米,但本發明不以此為限。第二部分104的寬度W1可以依實際需求而進行調整。
請參考圖6A與圖6B,使第二部分104承靠於第一部分102的側面102S或第二面102B。在本實施例中,第二部分104承靠於第一部分102的第二面102B,且第二部分104的第二面104B面對第一部分102的第二面102B。
在使第二部分104承靠於第一部分102的側面102S或第二面102B的同時,將圖案化的軟性導電膜210a自第一部分102的第一面102A折向第一部分102A的側面102S,圖案化的軟性導電膜210a接觸第一部分102的側面102S與第二部分104的側面104S中的至少其中一者。
在使第二部分104承靠於第一部分102的側面102S或第二面102B之後,對圖案化的軟性導電膜210a進行硬烤製程,以形成導電膜210b,硬烤製程的溫度為攝氏120度至攝氏160度。導電膜210b的材料包括固化的感光材料以及散布於感光材料中的導電粒子。
在本實施例中,顯示裝置10包括硬質基板100a、多個子畫素120、多條訊號線110、多個引腳130、驅動電路140以及導電膜210b。硬質基板100a具有第一部分102以及第二部分104。第一部分102具有第一面102A、第二面102B以及相連第一面102A與第二面102B的側面102S。第一部分102的第一面102A上具有主動元件陣列區AA。第二部分104承靠於第一部分102的側面102S或第二面102B。
多個子畫素120位於主動元件陣列區AA上。多條訊號線110位於主動元件陣列區AA上,且電性連接子畫素120。雖然在圖1A中,每個子畫素120透過一條訊號線110電性連接至驅動電路140,但本發明不以此為限。在其他實施例中,每個子畫素120透過多條訊號線110電性連接至驅動電路140,舉例來說,每個子畫素120包括開關元件,開關元件透過掃描線以及資料線電性連接至驅動電路140。
多個引腳130位於第二部分104上。驅動電路140與引腳130電性連接。軟性電路板150位於第二部分104上,且電性連接驅動電路140。
導電膜210b位於第一部分102以及第二部分104上。在本實施例中,導電膜210b接觸第一部分102的側面102S以及第二部分104的側面104S上。導電膜210b的兩端分別連接主動元件陣列區AA以及驅動電路區BA,其中導電膜210b電性連接引
腳130與對應的訊號線110。
導電膜210b包括多條線路212。線路212電性連接引腳130與對應的訊號線110。線路212自第一部分102的第一面102A折向第一部分102的側面102S。
在本實施例中,導電膜210b還包括多個接墊214,接墊214的寬度W2大於線路212的寬度W3,且接墊214重疊於引腳130及訊號線110,因此,導電膜210b能夠較輕易的對準引腳130及訊號線110。在本實施例中,由於利用以黃光製程圖案化的導電膜210b來對準引腳130及訊號線110,因此,邊框區FA的寬度較小,舉例來說,顯示裝置10對應預切割區一側之邊框的寬度W4小於50微米。在一些實施例中,主動元件陣列區AA四周之邊框的寬度皆小於50微米,但本發明不以此為限。
基於上述,由於顯示裝置的引腳位於第二部分上,且第二部分的第二面承靠於第一部分的側面或第二面,因此,顯示裝置具有窄邊框的優點。
圖7A至圖11B是依照本發明的一實施例的一種顯示裝置的製造方法的示意圖。
圖7A、圖8A、圖9A、圖10A以及圖11A是顯示裝置的製造方法的上視示意圖,圖7B、圖8B、圖9B、圖10B以及圖11B分別是圖7A、圖8A、圖9A、圖10A以及圖11A剖線bb’的剖面示意圖。在此必須說明的是,圖7A至圖11B的實施例沿用圖1A
至圖6B的實施例的元件標號與部分內容,其中採用相同或近似的標號來表示相同或近似的元件,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例,在此不贅述。
請參考圖7A至圖8B,提供圖案化的軟性導電膜210a,方法包括:提供軟性導電膜210於離型膜220上,接著於軟性導電膜210上形成光罩230,並圖案化軟性導電膜210。在本實施例中,在圖案化軟性導電膜210之前,對軟性導電膜210進行軟烤製程,軟烤製程的溫度為攝氏50度至攝氏90度。在圖案化軟性導電膜210之後,對圖案化的軟性導電膜210a進行硬烤製程,以形成導電膜210b,導電膜210b包括多條線路212。硬烤製程的溫度為攝氏120度至攝氏160度。
請參考圖9A與圖9B,形成連接結構300於驅動電路區BA、預切割區CA以及邊框區FA上。連接結構300電性連接訊號線110以及引腳130。在其他實施例中,連接結構300不形成於預切割區CA,而只形成於驅動電路區BA以及邊框區FA。在其他實施例中,連接結構300包括接墊、扇出線及其他電路結構,其中接墊位於預切割區CA的兩側,且扇出線及其他電路結構位於預切割區CA上。
在一些實施例中,連接結構300可以與訊號線110及/或引腳130同時或不同時形成。換句話說,連接結構300與訊號線110及/或引腳130屬於相同或不同的膜層。在一些實施例中,連
接結構300的材料與訊號線110及/或引腳130相同,例如包括金、銀、銅、錫、鉛、鉿、鎢、鉬、釹、鈦、鉭、鋁、鋅等金屬、上述合金、上述金屬氧化物、上述金屬氮化物或上述之組合或其他導電材料。
關於基板材料100上之其他構件,可參考圖1A與圖1B之實施例的相關說明,於此不再贅述。
請參考圖10A與圖10B,移除基板材料100的預切割區CA,以形成第一部分102以及第二部分104。在本實施例中,移除基板材料100之預切割區CA的同時,會一併將預切割區CA上之部分連接結構300移除,並形成多個接墊302於第一部分102靠近預切割區CA的一側,以及第二部分104靠近預切割區CA的一側。接墊302電性連接至訊號線110以及引腳130。在本實施例中,主動元件陣列區AA與切割線之間的寬度W5例如小於100微米。換句話說,接墊302的長度小於100微米。
請參考圖11A與圖11B,在使第二部分104的第二面104B承靠於第一部分102的側面102S或第二面102B之後,將導電膜210b貼於第一部分102的側面102S與第二部分104的側面104S中的至少其中一者上。線路212自第一部分102的第一面102A折向第一部分102的側面102S。在本實施例中,利用接墊302來對準導電膜210b,顯示裝置20對應預切割區一側之邊框的寬度W6小於150微米。
在本實施例中,將導電膜210b貼於第一部分102的側面102S與第二部分104的側面104S中的至少其中一者上之後,對導電膜210b進行加熱製程。加熱製程的溫度介於軟烤製程的溫度以及硬烤製程的溫度之間。
綜上所述,由於顯示裝置的引腳位於第二部分上,且第二部分的第二面承靠於第一部分的側面或第二面,因此,顯示裝置具有窄邊框的優點。
雖然本發明已以實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明的精神和範圍內,當可作些許的更動與潤飾,故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
10:顯示裝置
100a:硬質基板
102:第一部分
102A、104A:第一面
102B、104B:第二面
102S、104S:側面
104:第二部分
110:訊號線
120:子畫素
122:主動元件
124:顯示介質
130:引腳
140:驅動電路
150:引腳
212:線路
214:接墊
210b:導電膜
AA:主動元件陣列區
BA:驅動電路區
W4:寬度
Claims (16)
- 一種顯示裝置,包括: 一硬質基板,具有一第一部分以及一第二部分,該第一部分具有第一面、第二面以及相連第一面與第二面的側面,該第一部分的第一面上具有一主動元件陣列區,該第二部分的第二面承靠於該第一部分的側面或第二面; 多個子畫素,位於該主動元件陣列區上; 多條訊號線,位於該主動元件陣列區上,且電性連接該些子畫素; 多個引腳,位於該第二部分上; 一驅動電路,與該些引腳電性連接;以及 一導電膜,位於該第一部分以及該第二部分上,且該導電膜包括多條線路,該些線路電性連接該些引腳與對應的該些訊號線,其中該些線路自該第一部分的第一面折向該第一部分的側面,其中該導電膜的材料包括固化的感光材料以及散布於該感光材料中的導電粒子。
- 如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置,其中該些子畫素包括: 多個開關元件,位於該主動元件陣列區上;以及 多個顯示介質,位於該些開關元件上,其中該些顯示介質包括有機發光二極體、無機發光二極體、液晶或電泳顯示介質。
- 如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置,其中該感光材料包括正型光阻或負型光阻。
- 如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置,更包括: 一軟性電路板,位於該第二部分上,且電性連接該驅動電路。
- 如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置,其中該驅動電路包括晶片或整合型閘極驅動電路。
- 一種顯示裝置的製造方法,包括: 提供一基板材料,該基板材料包括一主動元件陣列區、一驅動電路區以及位於該主動元件陣列區以及該驅動電路區之間的一預切割區; 形成多條訊號線於該主動元件陣列區上; 形成多個子畫素於該主動元件陣列區上,且該些子畫素電性連接該些訊號線; 形成多個引腳於該驅動電路區上; 形成一驅動電路於該驅動電路區上,其中該驅動電路與該些引腳電性連接; 提供一圖案化的軟性導電膜; 對該圖案化的軟性導電膜進行硬烤製程,以形成一導電膜,其中該導電膜包括多條線路; 移除該基板材料的該預切割區,以形成一第一部分以及一第二部分,其中該第一部分具有第一面、第二面以及相連第一面與第二面的側面,該第一部分的第一面上具有該主動元件陣列區,其中該第二部分具有第一面、第二面以及相連第一面與第二面的側面,該第二部分的第一面上具有該驅動電路區;以及 使該第二部分的第二面承靠於該第一部分的側面或第二面。
- 如申請專利範圍第6項所述的顯示裝置的製造方法,其中提供該圖案化的軟性導電膜的方法包括: 提供一軟性導電膜於一離型膜上; 將該軟性導電膜貼於該預切割區上;以及 於該離型膜上形成光罩,並圖案化該軟性導電膜。
- 如申請專利範圍第7項所述的顯示裝置的製造方法,其中在提供該圖案化的軟性導電膜之後,移除該基板材料的該預切割區,使部分該圖案化的軟性導電膜的下方不存在該基板材料。
- 如申請專利範圍第7項所述的顯示裝置的製造方法,其中在使該第二部分的第二面承靠於該第一部分的側面或第二面的同時,將該圖案化的軟性導電膜自該第一部分的第一面折向該第一部分的側面,該圖案化的軟性導電膜接觸該第一部分的側面與該第二部分的側面中的至少其中一者。
- 如申請專利範圍第9項所述的顯示裝置的製造方法,其中在圖案化該軟性導電膜之前,對該軟性導電膜進行一軟烤製程,在使該第二部分承靠於該第一部分的側面或第二面之後,對該圖案化的軟性導電膜進行該硬烤製程。
- 如申請專利範圍第10項所述的顯示裝置的製造方法,其中該軟烤製程的溫度為攝氏50度至攝氏90度,該硬烤製程的溫度為攝氏120度至攝氏160度。
- 如申請專利範圍第6項所述的顯示裝置的製造方法,其中在使該第二部分的第二面承靠於該第一部分的側面或第二面之後,將該導電膜貼於該第一部分的側面與該第二部分的側面中的至少其中一者上,其中該些線路自該第一部分的第一面折向該第一部分的側面。
- 如申請專利範圍第12項所述的顯示裝置的製造方法,其中提供該圖案化的軟性導電膜的方法包括: 提供一軟性導電膜於一離型膜上;以及 於該軟性導電膜上形成光罩,並圖案化該軟性導電膜。
- 如申請專利範圍第13項所述的顯示裝置的製造方法,其中在圖案化該軟性導電膜之前,對該軟性導電膜進行一軟烤製程,在將該導電膜貼於該第一部分的側面與該第二部分的側面中的至少其中一者上之後,對該導電膜進行加熱製程。
- 如申請專利範圍第14項所述的顯示裝置的製造方法,其中該軟烤製程的溫度為攝氏50度至攝氏90度,該硬烤製程的溫度為攝氏120度至攝氏160度,該加熱製程的溫度介於該軟烤製程的溫度以及該硬烤製程的溫度之間。
- 如申請專利範圍第6項所述的顯示裝置的製造方法,更包括: 形成多個接墊於該第一部分靠近該預切割區的一側,以及該第二部分靠近該預切割區的一側。
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