TWI680063B - 噴出材料接收單元、噴出材料噴出設備及撓性構件之製造方法 - Google Patents

Abstract

提供一種噴出材料接收單元，其能夠在盡可能少地使容器自身大型化的情況下增加噴出材料的填充量；還提供包括該單元的噴出材料噴出設備。因此，噴出材料接收單元包括：第一接收空間，其能夠接收噴出材料；第二接收空間，其能夠接收液體；以及撓性構件，其將第一接收空間和第二接收空間分隔開；該單元的特徵在於撓性構件具有在第一接收空間未填充噴出材料且第二接收空間未填充液體的狀態下呈凹形的凹部，並且該凹形是從第一接收空間朝向第二接收空間凹陷的形狀，並且該凹形也是順服於形成第二接收空間的壁的形狀。

Description

噴出材料接收單元、噴出材料噴出設備及撓性構件之製造方法

本發明涉及接收噴出材料的噴出材料接收單元、將儲存在噴出材料接收單元內的噴出材料噴出的噴出材料噴出設備以及撓性構件的製造方法。

日本專利公開案第2008-105360號公報中已經記載了安裝於液體噴出設備的儲墨器，該液體噴出設備噴出作為噴出材料的液體(墨)。為了減小頭中的壓力變化，儲墨器利用撓性構件將容器內部分隔成墨室和浮力産生室，儲墨器還包括連接至墨室的浮子。

噴出材料接收單元包括：第一接收空間，其能夠接收待從噴出頭噴出的噴出材料；第二接收空間，其與所述第一接收空間相鄰並且能夠接收液體；以及撓性構件，其將所述第一接收空間和所述第二接收空間分隔開；該單元的特徵在於所述撓性構件具有在所述第一接收空間未填充噴出材料且所述第二接收空間未填充液體的狀態下呈凹形的凹部，並且所述凹形是從所述第一接收空間朝向所述第二接收空間凹陷的形狀，並且所述凹形也是順服於形成所述第二接收空間的壁的形狀。

以下參照附圖對示例性實施方式的說明，本發明的其他特徵將變得明顯。

根據日本專利公開案第2008-105360號公報的方法，由於在噴出材料(墨)儲存容器中必須設置浮力產生室和浮子，並防止在浮力産生室和浮子之間的部分儲存墨，所以難以無浪費地有效使用容器的容積。結果，存在為了增加待噴出的噴出材料的填充量而使容器自身必須大型化的問題。

因此，本發明提供一種噴出材料接收單元，其能夠在盡可能少地使容器自身大型化的情況下增加待噴出的噴出材料的填充量，本發明還提供包括該單元的噴出材料噴出設備。 (第一實施方式)

以下，將參照附圖說明本發明的第一實施方式。

圖1示出了可應用本實施方式的噴出材料噴出設備1的主要部分。噴出材料噴出設備1包括：主罐19，其被構造成儲存液相的工作液11；副罐12，其被構造成儲存從主罐19供給的工作液11；噴出材料接收單元4，工作液11則從副罐12供給到噴出材料接收單元4；以及輸送部5，其輸送介質6。主罐19具有與大氣連通的大氣連通孔20，主罐19和副罐12經由流路17連接。流路17的中途包括泵18。副罐12和噴出材料接收單元4經由流路13連接。

副罐12具有檢測副罐12中的工作液面的上液面感應器14和下液面感應器15。上液面感應器14和下液面感應器15可以是能夠檢測副罐12中的液面水平的任意感應器。例如，可以在副罐12中設置電極，以便檢測由於液體接觸電極而導致的電流的流動。

另外，可以透過電容感應器檢測副罐12中的液面水平。透過泵18的操作而將儲存在主罐19中的工作液11經由流路17供給到副罐12，並從副罐12經由流路13供給到噴出材料接收單元4。作為泵18的示例，可以提及注射泵、管泵、隔膜泵、齒輪泵等。然而，泵18用作液體給送裝置就足夠了，能夠選擇適合於噴出材料噴出設備1的液體給送裝置，而不限於泵。

噴出材料接收單元4包括密閉的殼體7和設置於殼體7中的撓性構件8。撓性構件8在殼體7內分隔出第一接收空間21和第二接收空間22。另外，噴出材料接收單元4包括頭(噴出頭)3。安裝於第一接收空間21的一部分的頭3與第一接收空間21連通。第一接收空間21和第二接收空間22彼此相鄰，並且第一接收空間21是能夠接收噴出材料的空間。

另外，第一接收空間21和第二接收空間22相對於撓性構件8所耦合的面是呈面對稱。頭3能夠將接收在第一接收空間21中的噴出材料噴出到介質6上。注意，頭3可以與噴出材料接收單元4獨立設置。例如，頭3可以設置於噴出材料接收單元之外，並且頭3經由殼體中的管或流路與第一接收空間21連通。

撓性構件8的至少一部分具有凹形的凹部。凹部在第一接收空間21未填充噴出材料且第二接收空間22未填充液體(工作液)的狀態下呈凹形。較佳的是撓性構件8在成型階段已呈凹形，並且例如較佳透過成型而形成凹形。較佳的是凹形在無負載狀態下保持凹形。結果是在與噴出材料接收單元組裝之前就具有呈凹形的凹部的撓性構件8與噴出材料接收單元組裝到一起。因此，在第一接收空間21和第二接收空間22未填充噴出材料或液體並且撓性構件8具有僅與空氣接觸的部分的狀態下，該部分呈凹形。該凹形從第一接收空間21朝向第二接收空間22凹陷。另外，該凹形為順服於形成第二接收空間22的壁的形狀。

凹形的凹部透過以順服於殼體7的形成第二接收空間22的壁的一部分的方式而進入第二接收空間22中來形成第一接收空間21的一部分。撓性構件8是可變形的，並且其變形允許透過以順服於殼體7的形成第一接收空間21的壁的一部分的方式而進入第一接收空間21來擴張第二接收空間22。特別地，隨著接收在第一接收空間21中的噴出材料的量減少，撓性構件8能夠變形成順服於形成第一接收空間21的壁的凸形。在第二接收空間22已擴張到最大的狀態下，第一接收空間21的容積已經基本上消失了。

圖2是示出撓性構件8的立體圖。如圖2所示，撓性構件8包括符合殼體7的形狀的凹形的凹部。作為撓性構件8的成型方法，可以提到在加熱時進行熱成型。例如，可以提到在加熱時進行真空成型、在加熱時進行吹塑成型、在加熱時進行澆鑄成型等作為示例。然而，可以選擇適於撓性構件8的材料和撓性構件8所需形狀的任意成型方法，而不限於上述那些方法。撓性構件8的角落或凹角可以設置有彎曲形狀或漸縮形狀。以該方式則可能有助於撓性構件8的變形。第一接收空間21和第二接收空間22的內部形狀可以製成為順服於撓性構件8的形狀。

作為接收在第一接收空間21中並從頭3噴出的噴出材料9的示例，可以提到墨。作為墨，可以提到諸如導電墨、紫外線(UV)固化墨等的各種類型的墨。另外，在半導體裝置等的製造過程中，存在所謂的壓印技術，其使上面形成有圖案的模具與基板上的壓印材料接觸並將模具的形狀轉印到壓印材料上以形成圖案。諸如光固化樹脂、熱固化樹脂等的阻劑被用作壓印材料，並且可以提出將這種壓印材料作為噴出材料9。

在體積方面，作為待填充入第二接收空間22的液體的工作液11比氣體受外部溫度和壓力變化的影響來得小。因此，即使當噴出材料噴出設備1周圍的溫度或大氣壓力變化時，工作液11的體積也很少變化，由此抑制第一接收空間21中噴出材料9的壓力變化。

對於撓性構件8，較佳的是選擇在液體接觸性等方面適於噴出材料9的特性的構件。噴出材料9的密度和工作液11的密度之間的差通常比噴出材料9的密度和氣體的密度之間的差小。使第一接收空間21中接收的材料的密度和第二接收空間22中填充的材料的密度之間的差較小，則允許抑制當衝擊施加至殼體7時撓性構件8的擺動。作為本實施方式的示例，有可能將殼體7的容量設為500毫升，將噴出材料9的初始量設為約500毫升，並且將工作液11的初始量設置為約0毫升。注意本發明不限於此，並且有可能適當地決定殼體7的容量、噴出材料9的初始量和工作液11的初始量。

示出噴出材料噴出設備1的主要部分的圖3是表明將噴出材料9從頭3噴出而導致儲存在第一接收空間21中的噴出材料9的量減少的過渡圖。當從頭3噴出第一接收空間21中的噴出材料9時，第一接收空間21隨著儲存在第一接收空間21中的噴出材料9的減少而收縮。隨著第一接收空間21的收縮，第二接收空間22便擴張。第二接收空間22被構造成允許從外部供給工作液到第二接收空間22，使得當第二接收空間22擴張時，儲存在副罐12中的工作液11由於第二接收空間22中的負壓而被供給到第二接收空間22。

當儲存在副罐12中的工作液11被供給到第二接收空間22時，儲存在副罐12中的工作液11的液面水平下降，並且下液面感應器15檢測到液面水平已下降。下液面感應器15檢測到液面水平已下降時，泵18就將工作液11從主罐19供給到副罐12。結果，儲存在副罐12中的工作液11的液面高度上升。隨後，上液面感應器14檢測到液面水平已上升時，泵18就停止送液操作。因此，將工作液11供給到第二接收空間22中則允許將第一接收空間21中的壓力保持在預定壓力(壓力控制)。

圖4和圖5示出了噴出材料噴出設備1的主要部分，圖4是表明儲存在第一接收空間21中的噴出材料9的量比圖3中進一步減少的過渡圖，圖5為表明第一接收空間21中的噴出材料9的量比圖4中進一步減少的過渡圖。從圖4能夠看出，撓性構件8的中心部以顯著侵入第一接收空間21的方式變形，由此使第一接收空間21收縮。隨著第一接收空間21的收縮，工作液11被供給到第二接收空間22，從而使第二接收空間22擴張。

在圖5中，撓性構件8已變形成順服於第一接收空間21的壁(內壁)的凸形，並且第一接收空間21中的噴出材料9已幾乎被頭3噴出排盡，且第一接收空間的容量已經減小到幾乎為零。因此，可以在殼體7中設置使第一接收空間21和頭3連通的槽，其在撓性構件8已經變形成凸形時使第一接收空間21和頭3連通。槽的設置允許防止撓性構件8阻塞從第一接收空間21到頭3的流路。 (第二實施方式)

以下，將參照附圖說明本發明的第二實施方式。注意，本實施方式的基本構造與第一實施方式的相似，因此以下將僅說明獨特的組成部分。

圖6示出了本實施方式中的噴出材料噴出設備1的主要部分。包括在本實施方式的噴出材料接收單元4中的撓性構件包括兩個撓性構件，即第一撓性構件25和第二撓性構件24。如上所述包括第一撓性構件25和第二撓性構件24則允許防止第一接收空間21和第二接收空間彼此連通，因為即使當一個撓性構件因為某種原因而損壞時，另一個撓性構件也可以作為替代品而起作用。

注意，儘管在本實施方式中已說明了包括兩個撓性構件，即第一撓性構件25和第二撓性構件24的構造，但這並非限制性的，並且也可以有包括多於兩個撓性構件的構造。在設置多於兩個撓性構件的情況下，必須考慮撓性構件的厚度以便在變形時不會限制它們的操作。

注意，為了防止撓性構件損壞，能夠想到的是增加撓性構件的厚度。然而，增加撓性構件的厚度可能會限制撓性構件變形時的操作，從而可能無法獲得期望的變形狀態。因此，較佳的是像本實施方式這樣的包括多個撓性構件的構造。 (第三實施方式)

以下，將參照附圖說明本發明的第三實施方式。注意，本實施方式的基本構造與第一實施方式的相似，因此以下將僅說明獨特的組成部分。

圖7示出了本實施方式中的壓印裝置50的主要部分。壓印裝置50包括頭3、接收作為壓印材料的阻劑(樹脂)的阻劑接收單元56以及副罐12。待從頭3噴出的噴出材料是作為壓印材料的光固化阻劑51。在壓印裝置50中，由石英形成並且其上形成有微圖案的模具53經由模具移動部57而被模具支撐部58支撐。

模具53被構造成能夠透過模具移動部57而垂直移動。設置有曝光單元54，其經由模具53將紫外線光束照射到噴出到晶圓52的阻劑51上。曝光單元54被曝光單元支撐部55支撐。從頭3噴出到晶圓52上的阻劑51塗布在晶圓52上。上述壓印裝置50形成微圖案並因此被也稱為奈米壓印裝置。

上面塗布有阻劑51的晶圓52透過晶圓輸送部59移動到模具53的下部。隨後，塗布在晶圓52上的阻劑51驅動模具移動部57向下移動模具53，以便由石英形成的模具53壓住並填充到形成於模具53上的微圖案中。在阻劑51填充在微圖案中以後，從曝光單元54通過模具53將紫外線光束照射到阻劑51上，以形成符合阻劑51的微圖案。在已經形成微圖案之後，驅動模具移動部57向上移動模具53，使模具53移動遠離所形成的微圖案。壓印裝置50經由這些步驟而在晶圓52上形成微圖案。

如此所述，壓印裝置50被構造成包括頭3、阻劑接收單元56以及副罐12。前述噴出材料接收單元被用作阻劑接收單元56。因此，有可能有效地利用阻劑接收單元56內部的空間。有可能抑制大容量的阻劑接收單元56內部的壓力變化。結果，有可能在不增加阻劑接收單元56的殼體7尺寸的情況下增加待噴出的阻劑51的填充量，並且有可能使阻劑接收單元56小型化以及使壓印裝置50小型化。

(第四實施方式)

以下，將參照附圖說明本發明的第四實施方式。注意，本實施方式的基本構造與第一實施方式的相似，因此以下將僅說明獨特的組成部分。

圖8是噴出材料接收單元4的分解立體圖。噴出材料接收單元4被構造成使得殼體7(7a，7b)將撓性構件8夾在中間。噴出材料接收單元4被構造成使得殼體7(7a，7b)和撓性構件8之間的空間被O型環23和24密封，各O型環均為設置於殼體7(7a，7b)的開口周緣上的密封構件(包封構件)。密封構件(包封構件)和撓性構件8的抵接形成了流體接收空間。撓性構件8為覆蓋該接收空間的構件。注意，較佳諸如O型環、墊圈等的彈性構件作為密封構件(包 封構件)。

另外，還能夠採用黏接劑或液體密封劑。撓性構件8已被成型為具有凸形的凸部，以便順服於殼體7(7a，7b)的凸部的形狀。撓性構件8的厚度為大約10微米至200微米。在覆蓋接收空間的部分上所形成的凸部為能夠變形的部分。殼體7(7a，7b)的開口周緣上設置有用於供O型環23和24插入的槽25，以便透過將O型環23和24以將撓性構件8夾在中間的方式插入槽25中並用螺釘等將之緊固，而獲得噴出材料接收單元4。

注意，儘管在本實施方式中使用了兩個O型環23和24，但由於撓性構件8具有彈性，所以可以僅在撓性構件8的一側設置一個O型環。另外，儘管在本實施方式中O型環23和24以彼此面對的方式設置在相同位置處，但它們可以設置在諸如內側和外側的不同位置處。

對於撓性構件8，較佳的是選擇在液體接觸性等方面適合噴出材料9的特性的構件。在本實施方式中，將氟樹脂材料的薄膜應用於撓性構件8。對於撓性構件8的材質，期望的是撓性構件8由對與其接觸的阻劑或工作液11具有耐受性的材料所形成。例如，較佳諸如PFA、ETFE、PTFE的氟樹脂材料。除了上述材料之外，可以提到諸如PE(聚乙烯)、PVC(聚氯乙烯)、PET(聚對苯二甲酸乙酯)、PVAL(聚乙烯醇)、PVDC(聚偏二氯乙烯)、尼龍等的聚醯胺合成樹脂。該膜可以是具有將這種材料形成為多層的多層膜，或者可以是透過熔接或黏接而將兩片膜黏合所形成。

圖9A和圖9B示出了凹型鑄模32、凸型鑄模33和透過成型所形成的撓性構件8。撓性構件8為薄膜，因此最優的是透過真空成型而將其成型為期望的形狀。因此，在凹型鑄模32和凸型鑄模33中設置吸收路徑34以在進行成型時排出空氣。可以使用圖9A示出的凹型鑄模32或者圖9B示出的凸型鑄模33來成型撓性構件8。以下，將說明使用凸型鑄模33的示例。

圖10A至圖10D示出了在本實施方式中使用凸型鑄模33的真空成型的步驟。在本實施方式中，透過對膜36進行真空成型來形成撓性構件8。以下，將說明各個步驟中的處理。首先，如圖10A所示，將成型前的片狀膜36切成適當尺寸，膜36的整個周緣被夾具35握持。隨後，透過加熱器37將膜36加熱到使形成膜36的樹脂軟化的溫度。這時，較佳的是同樣透過加熱器對鑄模33加熱。隨後，如圖10B所示，使已透過加熱器37的熱而軟化了的膜36與鑄模33相接觸。換言之，在鑄模33上使膜36成型。這時，還可以使膜36在被壓縮空氣所擴張並拉伸之後與鑄模33相接觸。

隨後，如圖10C所示，膜36和鑄模33之間的區域中的空氣被從設置於鑄模33中的複數多個真空吸收口38經由吸收路徑34而吸收並抽盡，該吸收路徑34為在鑄模33上使膜36成型期間的真空吸收路徑。膜36和鑄模33之間的區域中吸收並抽盡空氣則減小了該區域(帳篷形部分)的尺寸，由此使膜36以順服於凸型鑄模33的凸部形狀的方式被成型。膜36的與撓性構件具有凸部的區域相對應的區域為第二區域，該第二區域為與下述第一區域不同的區域。換言之，該步驟為第二區域成型步驟，是使膜的第二區域成型的步驟。膜36被整體上以及局部地拉伸使得樹脂流動。因此，膜36的厚度變得不均勻，由此局部可能會出現褶皺或彎折。然而，為了防止使用上述密封構件(O型環23和24)的撓性構件8和容器材料之間有流體洩漏，較佳的是透過在本實施方式中使膜36成型所獲得的撓性構件8在與密封構件抵接的部分中具有盡可能少的褶皺或彎折。

因此，在本實施方式中，如圖10D所示，除了真空吸收口38之外還設置了吸收口39。鑄模33中已設置有：真空吸收口38，其吸收膜36和鑄模33之間的區域中的空氣；吸收口39，其吸收並保持膜的待成為撓性構件8中的凸緣的部分；以及流路40，其與吸收口39連通。膜的與撓性構件的將成為凸緣的部分(與密封構件抵接的部分)相對應的區域成為第一區域。吸收口39在成型處理期間吸收膜36並將膜36保持在鑄模33上，吸收口39設置於鑄模33的如下部分：該部分與當成為撓性構件8時抵接密封構件的部分相對應。如此所述，透過吸收並保持膜36的將成為撓性構件8中的凸緣的部分的第一區域而進行成型(第一區域成型步驟)，則允許防止在作為成型處理的最終産物的撓性構件8上出現褶皺或彎折。注意，儘管並非必須在鑄模33中設置吸收口39，但較佳的是在鑄模中設置吸收口39。

注意，與真空吸收口38和吸收路徑34相關的成型吸收系統以及與吸收口39和流路40相關的保持吸收系統可以作為相同的管道系統而同時進行吸收。另外，可以存在如下構造：成型吸收系統和保持吸收系統可以以時間錯開的方式來進行吸收，各個吸收系統均被單獨控制。利用真空成型，在冷卻成型後的膜36或鑄模的過程中可能會發生褶皺或彎折。因此，在冷卻過程中可以單獨控制保持吸收系統和成型吸收系統以改變吸收力。例如，為了防止在冷卻過程期間在密封構件抵接面30上出現褶皺或彎折，可以僅在冷卻過程中由保持吸收系統來保持膜。另外，在冷卻過程中，可以設置如下步驟：透過保持吸收系統來保持膜36，而不是透過成型吸收系統來吸收。在膜的除密封構件抵接面30之外的部分發生褶皺或彎折則釋放了膜內部的變形，並允許需要高精度成型的密封構件抵接面有改進的成型。

另外，還能夠對保持吸收在鑄模33上的成型後的膜進行二次處理。例如，當將諸如另一膜的構件熔接到成型後的膜上時，可以在完成了成型的膜的密封構件抵接面維持在由保持吸收系統所吸收的情況下進行熔接處理。由於在完成成型之後膜的密封構件抵接面保持在鑄模上，所以有可能在維持密封構件抵接面的品質的情況下進行第二處理。

此外，在本實施方式中，儘管已經說明了用於真空成型的成型吸收系統(真空吸收口38和吸收路徑34)僅存在於鑄模33的凹角處的構造，但還可以將真空吸收口38設置於凸型鑄模33的角落脊線、頂面或側面上。當然凹型鑄模32的角落、凹角、底面、側面上也可以設置有真空吸收口38。另外，真空吸收口38可以設置於複數個這種位置的組合。吸收口位置的數量不需要限於一個，並且可以將複數個吸收口設置在相對於鑄模而對稱的位置，以使得空氣被均勻地抽真空。同樣地，可以將用於保持膜的保持吸收系統(吸收口39和流路40)的複數個吸收口39設置於相對於鑄模而對稱的位置，使得膜被均勻地真空吸收。

如此所述，在鑄模上設置用於對膜的將成為撓性構件8中的凸緣的部分進行吸收的吸收口。由此，實現了能夠抑制褶皺或彎折出現的撓性構件的製造方法。 (第五實施方式)

以下，將參照附圖說明本發明的第五實施方式。注意，本實施方式的基本構造與第一實施方式的相似，因此以下將僅說明獨特的組成部分。

圖11A和圖11B示出了本實施方式中的真空成型的步驟。在本實施方式中，如圖11A所示，凹部45設置於凸型鑄模33中與撓性構件8的抵接密封構件的區域(凸緣部)相對應的部分中。在本實施方式的凸型鑄模33中成型撓性構件8的過程中，膜36的第一區域被支撐在凸型鑄模33的第一表面上，並且透過吸收口而吸收該第一區域。利用這種配置，透過使膜36和不同於第一表面而包括吸收口的第二表面抵接來進行成型。此外，如圖11B所示，在凸部45中設置有吸收口39和與吸收口39連通的流路40。在成型時在凸部45中對膜36進行吸收則導致對膜36進行保持並同時將膜36真空成型為凹形。按照上述方式的成型使真空成型為凹形的部分成為密封構件抵接面，並允許增加與密封構件抵接的面的平坦度。 (第六實施方式)

以下，將參照附圖說明本發明的第六實施方式。注意，本實施方式的基本構造與第一實施方式的相似，因此以下將僅說明獨特的組成部分。

圖12示出了本實施方式中的真空成型的步驟。儘管本實施方式也在凸型鑄模33中與撓性構件8的抵接密封構件的區域(凸緣部)相對應的部分中進行吸收，但在吸收部中設置多孔體41並且多孔體41進行對膜36的吸收。多孔體41可以由燒結金屬粉末或發泡樹脂形成。由於多孔體41的表面已被平坦化，所以膜36的密封構件抵接面在被多孔體41吸收的同時而被成型為平面。

當在不使用多孔體的情況下透過吸收口吸收膜時，可能存在吸收口的形狀根據吸收力的强度而轉印到成型後的膜上的情況。然而，正如本實施方式，不管吸收力的强度如何，使用多孔體41吸收膜36都允許增加膜的抵接密封構件的表面的平坦度。注意，除了多孔體之外，可以根據吸收力或者膜的材質而在吸收口設置網或縫。在縫的情況下，較佳的是與抵接的密封構件(例如O型環)平行地配置縫。

如此所述，透過多孔體吸收膜則允許成型膜36的表面具有較高平坦度並且與密封構件抵接。 (第七實施方式)

以下，將參照附圖說明本發明的第七實施方式。注意，本實施方式的基本構造與第一實施方式的相似，因此以下將僅說明獨特的組成部分。

圖13示出了本實施方式中的真空成型的步驟。在本實施方式中，在凸型鑄模33中已吸收與撓性構件8的凸緣部相對應的部分之後，透過利用鑄模42對該部分加壓來進行加壓成型。如此所述，將吸收和加壓組合則允許成型膜36的表面具有較高平坦度並且與密封構件抵接。 (第八實施方式)

以下，將參照附圖說明本發明的第八實施方式。注意，本實施方式的基本構造與第一實施方式的相似，因此以下將僅說明獨特的組成部分。

圖14示出了本實施方式中的真空成型的步驟。在本實施方式中，在凸型鑄模33中已吸收撓性構件8的與密封構件抵接的區域(凸緣)相對應的部分之後，透過覆蓋鑄模33的鑄模43對該部分加壓來進行加壓成型。鑄模43包括能夠在關閉模具之後將壓縮空氣引入模具中的加壓口44。這種構造允許透過組合真空成型和加壓成型(吹塑成型)而對膜36進行處理，成型膜36的表面具有較高平坦度並且與密封構件抵接。注意，鑄模43可以被加熱並被處於常溫的鑄模33加壓。 (第九實施方式)

以下，將參照附圖說明本發明的第九實施方式。注意，本實施方式的基本構造與第一實施方式的相似，因此以下將僅說明獨特的組成部分。

圖15示出了本實施方式中的真空成型的步驟。在本實施方式中，預先在另一位置處加熱膜之後，將膜設置成圖15所示的狀態。在凹型鑄模32中吸收撓性構件8的與凸緣相對應的部分的同時，透過常溫的鑄模42對膜加壓並保持膜。以此方式，抵接密封構件的部分可以在保持高平坦度的同時首先冷卻並固化。此時，由於恰好在開始使膜成型之前，所以在吸收或不吸收與凸緣相對應的部分之間沒有明顯差異。

其次，透過由在接近室溫的溫度下的凹型鑄模32吸收並使加熱的塞子46壓靠著膜36來進行成型。在時機方面，較佳的是較早地透過塞子46進行加壓操作，並且在膜已被加熱且變形的狀態下使膜被凹型鑄模32吸收並成型。在不停止吸收操作的情況下提升塞子46，並在膜溫度降低時，停止吸收操作並且膜被成型。以這種方式則有可能使成型膜36的表面具有較高平坦度並且與密封構件抵接。 (其他實施方式)

可以適當地組合上述實施方式來進行真空成型。例如，可以組合第五實施方式和第六實施方式以利用多孔體在凹部上形成吸收口。

雖然已經參照示例性實施方式說明了本發明，但是應當理解本發明不限於所公開的示例性實施方式。下面申請專利範圍應獲得最寬泛的解釋，以包含所有的這些變型、等同結構和功能。

1‧‧‧噴出材料噴出設備

3‧‧‧噴出頭

4‧‧‧噴出材料接收單元

5‧‧‧輸送部

6‧‧‧介質

7‧‧‧殼體

7a‧‧‧殼體

7b‧‧‧殼體

8‧‧‧撓性構件

9‧‧‧噴出材料

11‧‧‧工作液

12‧‧‧副罐

13‧‧‧流路

14‧‧‧上液面感應器

15‧‧‧下液面感應器

17‧‧‧流路

18‧‧‧泵

19‧‧‧主罐

20‧‧‧大氣連通孔

21‧‧‧第一接收空間

22‧‧‧第二接收空間

23‧‧‧O型環

24‧‧‧第二撓性構件(O型環)

25‧‧‧第一撓性構件(槽)

30‧‧‧密封構件抵接面

32‧‧‧凹型鑄模

33‧‧‧凸型鑄模

34‧‧‧吸收路徑

35‧‧‧夾具

36‧‧‧膜

37‧‧‧加熱器

38‧‧‧真空吸收口

39‧‧‧吸收口

40‧‧‧流路

41‧‧‧多孔體

42‧‧‧鑄模

43‧‧‧鑄模

44‧‧‧加壓口

45‧‧‧凹部

46‧‧‧塞子

50‧‧‧壓印裝置

51‧‧‧光固化阻劑

52‧‧‧晶圓

53‧‧‧模具

54‧‧‧曝光單元

55‧‧‧曝光單元支撐部

56‧‧‧阻劑接收單元

57‧‧‧模具移動部

58‧‧‧模具支撐部

59‧‧‧晶圓輸送部

P‧‧‧泵

圖1示出了噴出材料噴出設備的主要部分； 　　圖2是示出撓性構件的立體圖； 　　圖3示出了噴出材料噴出設備的主要部分； 　　圖4示出了噴出材料噴出設備的主要部分； 　　圖5示出了噴出材料噴出設備的主要部分； 　　圖6示出了噴出材料噴出設備的主要部分； 　　圖7示出了壓印裝置的主要部分； 　　圖8是噴出材料接收單元的分解立體圖； 　　圖9A示出了撓性構件和鑄模； 　　圖9B示出了撓性構件和鑄模； 　　圖10A示出了使用凸型鑄模進行真空成型的步驟； 　　圖10B示出了使用凸型鑄模進行真空成型的步驟； 　　圖10C示出了使用凸型鑄模進行真空成型的步驟； 　　圖10D示出了使用凸型鑄模進行真空成型的步驟； 　　圖11A示出了真空成型的步驟； 　　圖11B示出了真空成型的步驟； 　　圖12示出了真空成型的步驟； 　　圖13示出了真空成型的步驟； 　　圖14示出了真空成型的步驟；以及 　　圖15示出了真空成型的步驟。

Claims (20)

1. 一種噴出材料接收單元，其包括： 　　第一接收空間，其能夠接收待從噴出頭噴出的噴出材料； 　　第二接收空間，其與所述第一接收空間相鄰並且能夠接收液體；以及 　　撓性構件，其將所述第一接收空間和所述第二接收空間分隔開， 　　其中 　　所述撓性構件具有在所述第一接收空間未填充噴出材料且所述第二接收空間未填充液體的狀態下呈凹形的凹部，並且 　　所述凹形是從所述第一接收空間朝向所述第二接收空間凹陷的形狀，並且所述凹形也是順服於形成所述第二接收空間的壁的形狀。
2. 根據申請專利範圍第1項的噴出材料接收單元，其中隨著接收在所述第一接收空間中的噴出材料的量減少，所述撓性構件能夠變形成順服於形成所述第一接收空間的壁的凸形。
3. 根據申請專利範圍第2項的噴出材料接收單元，其包括槽，當所述撓性構件已變形成凸形時，所述槽使所述第一接收空間與噴出頭連通。
4. 根據申請專利範圍第1項的噴出材料接收單元，其中所述第二接收空間被構造成允許液體從外部供給到所述第二接收空間。
5. 根據申請專利範圍第1項的噴出材料接收單元，其中所述撓性構件中的所述凹部的角落形成有彎曲形狀。
6. 根據申請專利範圍第1項的噴出材料接收單元，其中所述撓性構件中的所述凹部的角落形成有漸縮形狀。
7. 根據申請專利範圍第1項的噴出材料接收單元，其中所述噴出材料為壓印材料。
8. 根據申請專利範圍第1項的噴出材料接收單元，其中所述撓性構件包括複數個撓性構件。
9. 一種噴出材料噴出設備，其包括： 　　噴出頭；以及 　　噴出材料接收單元，其包括： 　　第一接收空間，其能夠接收待從所述噴出頭噴出的噴出材料； 　　第二接收空間，其與所述第一接收空間相鄰並且能夠接收液體；以及 　　撓性構件，其將所述第一接收空間和所述第二接收空間分隔開， 　　其中 　　所述撓性構件具有在所述第一接收空間未填充噴出材料且所述第二接收空間未填充液體的狀態下呈凹形的凹部，並且 　　所述凹形是從所述第一接收空間朝向所述第二接收空間凹陷的形狀，並且所述凹形也是順服於形成所述第二接收空間的壁的形狀。
10. 根據申請專利範圍第9項的噴出材料噴出設備，其包括壓力控制裝置，所述壓力控制裝置連接到所述第二接收空間並被構造成控制所述第一接收空間中的壓力。
11. 根據申請專利範圍第10項的噴出材料噴出設備，其中所述壓力控制裝置包括： 　　主罐，其被構造成儲存待被供給到所述第二接收空間的液體；以及 　　副罐，其被構造成接收從所述主罐供給到所述副罐的液體，並將所述液體供給到所述第二接收空間。
12. 根據申請專利範圍第10項的噴出材料噴出設備，其包括模具，所述模具被構造成對從所述噴出頭噴出的噴出材料加壓。
13. 根據申請專利範圍第10項的噴出材料噴出設備，其中所述噴出材料為壓印材料。
14. 根據申請專利範圍第10項的噴出材料噴出設備，其中隨著接收在所述第一接收空間中的噴出材料的量減少，所述撓性構件能夠變形成順服於形成所述第一接收空間的壁的凸形。
15. 根據申請專利範圍第10項的噴出材料噴出設備，其中所述撓性構件中的所述凹部的角落形成有彎曲形狀。
16. 根據申請專利範圍第10項的噴出材料噴出設備，其中所述撓性構件中的所述凹部的角落形成有漸縮形狀。
17. 一種撓性構件的製造方法，所述撓性構件與設置在能夠接收液體的接收空間的開口周緣的密封構件抵接，以覆蓋所述接收空間，其中 　　所述撓性構件具有與所述密封構件抵接的區域，以及不同於與所述密封構件抵接的所述區域且具有能夠變形成覆蓋所述接收空間的部分的凸部的區域， 　　在鑄模上使膜成型而製造所述撓性構件， 　　使膜成型的過程包括第一區域成型步驟和第二區域成型步驟，其中所述第一區域成型步驟為透過所述鑄模來保持第一區域，所述第一區域與所述膜的抵接所述密封構件的區域相對應；第二區域成型步驟為透過對所述膜和所述鑄模之間的區域進行吸收來形成第二區域，所述第二區域與所述膜上的具有所述凸部的區域相對應。
18. 根據申請專利範圍第17項的撓性構件的製造方法，其包括吸收系統，所述吸收系統被構造成透過吸收而在所述第一區域成型步驟中進行保持，並且同時利用所述吸收系統在所述第二區域成型步驟中進行吸收。
19. 根據申請專利範圍第18項的撓性構件的製造方法，其中在所述第一區域成型步驟中，所述第一區域被設置於所述鑄模的用於使所述第一區域成型的第一部分的吸收口所吸收。
20. 根據申請專利範圍第17項的撓性構件的製造方法，其中在所述第一區域成型步驟和所述第二區域成型步驟中，所述膜被夾具保持。