TWI678584B - 偏振光照射裝置 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種偏振光照射裝置，包括：照射部，沿第1方向延伸，且具有照射出波長處於紫外線波長區域內的光的光源；濾波器部，具有使規定波長的光透射的濾波器，且設置在所述照射部的下方；以及偏振部，具有第1基台、第1偏振元件及第1移動部，且設置在所述濾波器部的下方，所述第1偏振元件設置於所述第1基台且與所述濾波器相對，所述第1移動部使所述第1基台朝所述第1方向移動。所述第1移動部維持所述第1基台在與所述第1方向正交的第2方向、及在與所述第1方向及所述第2方向正交的第3方向上的位置。

Description

偏振光照射裝置

本發明的實施方式涉及一種偏振光照射裝置。

在對液晶顯示元件的配向膜或視角補償薄膜（film）的配向膜等實施配向處理時，要對配向膜照射規定波長的偏振光。

此種配向處理方法被稱作光配向法。

一般而言，配向膜材料的靈敏度波長為254 nm、313 nm、365 nm。

此時，具有包含氧化鈦的線狀體的線柵（wire grid）型偏振元件對於具有254 nm附近的波長的光，具有良好的偏振性能。具有包含鋁的線狀體的線柵型偏振元件對於具有300 nm附近的波長的光，具有良好的偏振性能。

但是，具有包含氧化鈦的線狀體的線柵型偏振元件對於具有300 nm以上的波長的光，偏振性能變差。具有包含鋁的線狀體的線柵型偏振元件對於具有300 nm以下的波長的光，偏振性能變差。

因此，當使用這些偏振元件時，需要用於限制波長範圍的濾波器（filter）。

而且，作為光源的汞燈是照射254 nm～365 nm的波長的光。封入有汞與各種金屬的金屬鹵化物燈被用於想要使365 nm附近的波長的光增大的情況下。

因此，當在相同的偏振光照射裝置中對靈敏度波長不同的配向膜進行配向處理時，有時必須更換偏振元件、濾波器及光源中的至少任一者。

偏振元件、濾波器及光源的更換需要時間。

因此，提出有一種技術，即：從偏振光照射裝置中拉出設置有多個偏振元件的偏振單元。

但是，若簡單地從偏振光照射裝置拉出偏振單元，則有可能會因上下左右方向的晃動而發生偏振軸偏離。

若發生偏振軸偏離，則再調整需要很多的時間。

因此，期望開發出一種技術，能夠提高偏振元件更換作業時的作業性，並能夠抑制偏振軸偏離的發生。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利特開2013-218197號公報

[發明所要解決的問題]

本發明所要解決的問題在於提供一種偏振光照射裝置，能夠提高偏振元件更換作業時的作業性，並能夠抑制偏振軸偏離的發生。

[解決問題的技術手段]

實施方式的偏振光照射裝置包括：照射部，沿第1方向延伸，且具有照射出波長處於紫外線波長區域內的光的光源；濾波器部，具有使規定波長的光透射的濾波器，且設置在所述照射部的下方；以及偏振部，具有第1基台、第1偏振元件及第1移動部，且設置在所述濾波器部的下方，所述第1偏振元件設置於所述第1基台且與所述濾波器相對，所述第1移動部使所述第1基台朝所述第1方向移動。

所述第1移動部維持所述第1基台在與所述第1方向正交的第2方向、及在與所述第1方向及所述第2方向正交的第3方向上的位置。

（發明的效果）

根據本發明的實施方式，可提供一種偏振光照射裝置，能夠提高偏振元件更換作業時的作業性，並能夠抑制偏振軸偏離的發生。

實施方式的發明是一種偏振光照射裝置，其包括：照射部，沿第1方向延伸，且具有照射出波長處於紫外線波長區域內的光的光源；濾波器部，具有使規定波長的光透射的濾波器，且設置在所述照射部的下方；以及偏振部，具有第1基台、第1偏振元件及第1移動部，且設置在所述濾波器部的下方，所述第1偏振元件設置於所述第1基台且與所述濾波器相對，所述第1移動部使所述第1基台朝所述第1方向移動。

所述第1移動部維持所述第1基台在與所述第1方向正交的第2方向、及在與所述第1方向及所述第2方向正交的第3方向上的位置。

根據該偏振光照射裝置，能夠提高第1偏振元件的更換作業及第1偏振元件的調整作業時的作業性，並能夠抑制偏振軸偏離的發生。

而且，所述偏振部能夠還包括固定部，所述固定部對所述第1基台在所述第1方向、所述第2方向及所述第3方向上的位置進行固定。

這樣，能夠進一步抑制偏振軸偏離的發生。

而且，所述照射部能夠還包括：第2基台，設置有所述光源；以及第2移動部，使所述第2基台朝所述第1方向移動。

這樣，能夠提高光源更換作業時的作業性。

而且，所述濾波器部能夠還包括：第3基台，設置有所述濾波器；以及第3移動部，使所述第3基台朝所述第1方向移動。

這樣，能夠提高濾波器更換作業時的作業性。

而且，所述偏振光照射裝置能夠包括：第2偏振元件，使透射過所述第1偏振元件的光入射；第4移動部，使所述第2偏振元件朝旋轉方向移動；以及檢測部，接收透射過所述第2偏振元件的光，並輸出與所述接收的光的光量相應的電訊號，所述偏振光照射裝置能夠還包括：偏振光測定部，設置在所述偏振部的下方。

這樣，能夠提高第1偏振元件的調整精度。

而且，所述第1偏振元件能夠採用使波長為240 nm以上且400 nm以下的光偏振的線柵型偏振元件。

這樣，在進行靈敏度波長不同的配向膜的處理時，不再需要更換第1偏振元件。

而且，所述第1偏振元件能夠具有線狀體，所述線狀體包含選自由鉻（Cr）、鋁（Al）、鉬矽合金（MoSix）及矽（Si）所構成的群組中的至少一種。

這樣，在進行靈敏度波長不同的配向膜的處理時，能夠減少更換第1偏振元件的頻率。

以下，參照附圖來對實施方式進行例示。另外，各附圖中，對於同樣的構成要素標注相同的符號，並適當省略詳細說明。

另外，圖中的箭頭X、Y、Z表示彼此正交的X方向（相當於第2方向的一例）、Y方向（相當於第1方向的一例）及Z方向（相當於第3方向的一例）。

而且，處理物200例如可設為液晶顯示元件或視角補償薄膜等具有配向膜者。

但是，處理物200並不限定於例示者，只要是可通過光配向法來實施配向處理的處理物即可。

圖1是用於例示本實施方式的偏振光照射裝置1的示意立體圖。

圖2（a）是圖1中的A部的示意圖。圖2（b）是用於例示另一實施方式的偏振部2的示意剖面圖。

圖3是圖2中的B-B線剖面圖。

如圖1及圖2（a）所示，在偏振光照射裝置1中，設置有偏振部2、濾波器部3、照射部4、搬送部5、偏振光測定部6及控制部7。

如圖2（a）及圖3所示，偏振部2具有偏振元件21（相當於第1偏振元件的一例）、框部22、基部23、移動部24（相當於第1移動部的一例）及固定部25。

偏振元件21使從光源41照射的光成為具備特定偏振方向的偏振光Lp。

偏振元件21例如可採用線柵型偏振元件。

偏振元件21例如可採用如下所述的偏振元件，即，其具有：包含石英等的基板；以及多個直線狀的線狀體，以呈彼此平行的方式設置於基板上。

此時，多個線狀體是等間隔地設置。線狀體的間距尺寸（pitch size）可設為所入射的光的波長以下。線狀體的間距尺寸優選設為所入射的光的波長的1/3以下。

線狀體的材料例如可採用包含鉻（Cr）或鋁（Al）等金屬、鉬矽合金（MoSix）或非晶矽（amorphous silicon）（a-Si）等含矽（Si）的材料等。

此處，偏振元件21優選採用在盡可能廣的波長區域內具有良好的偏振性能的偏振元件。

如後所述，從光源41照射出波長處於紫外線波長區域（例如200 nm以上且400 nm以下的波長區域）內的光。

因此，當使用使波長為450 nm以下的光透射的濾波器31時，優選採用具有包含非晶矽（a-Si）等矽（Si）的線狀體的偏振元件21。

這樣，在配向膜材料的靈敏度波長為254 nm、313 nm、365 nm等的情況下，不再需要更換偏振元件21。

進而，若採用使波長為240 nm以上且400 nm以下的光偏振的線柵型偏振元件21，則在進行靈敏度波長不同的配向膜的處理時，不再需要更換偏振元件21。

例如，若採用具有包含鋁（Al）或鉬矽合金（MoSix）的線狀體的偏振元件21，則至少能夠在波長為240 nm以上且400 nm以下的範圍內獲得良好的偏振性能。

因此，若採用具有包含鋁（Al）或鉬矽合金（MoSix）的線狀體的偏振元件21，則在進行靈敏度波長不同的配向膜的處理時，不再需要更換偏振元件21。

框部22呈框狀，保持偏振元件21的周緣。

偏振元件21的基板是由石英等形成，因此偏振元件21的端部等容易發生破損。因此，框部22是為了保護偏振元件21而設置。

另外，在偏振元件21難以產生缺損等的情況下，無須設置框部22。

在框部22的其中一個端面的中央部分，設置有剖面形狀為半圓狀的凹部22a。

在框部22的與設有凹部22a的端面相對的端面，設置有剖面形狀為矩形狀的凹部22b。凹部22b被設置在從中央部分偏離的位置（例如框部22的角部附近）。

長度長的偏振元件21難以製造。因此，偏振元件21及框部22是沿著光源41所延伸的方向（Y方向）而排列有多組。

另外，在多個框部22彼此之間設置有規定的間隙，從而能夠實現後述的斜率調整（偏振方向的調整）。

基部23具有基台23a（相當於第1基台的一例）、支撐部23b、彈性部23c及調整部23d。基台23a沿著光源41所延伸的方向（Y方向）延伸。基台23a具有凹部23a1。凹部23a1沿著光源41所延伸的方向（Y方向）延伸。在凹部23a1的內部，設置有多個框部22。在凹部23a1的底面設置有孔，以使偏振光Lp能夠透射。

支撐部23b、彈性部23c及調整部23d相對於1個框部22而設置有1組。

支撐部23b呈圓柱狀，且與凹部22a接觸。

彈性部23c利用彈性力將框部22按壓至支撐部23b。

彈性部23c具有保持部23c1及盤簧（coil spring）23c2。

保持部23c1是設置於基台23a上。保持部23c1被設置在與凹部22b相對的位置。

盤簧23c2是設置在保持部23c1與凹部22a之間。

調整部23d是與彈性部23c隔開地設置。

調整部23d例如可設置在相對於框部22的中心線22c而與彈性部23c成線對稱的位置。

調整部23d具有保持部23d1及突出部23d2。

保持部23d1是設置於基台23a上。

突出部23d2是設置於保持部23d1上。突出部23d2從保持部23d1突出。突出部23d2的前端與框部22接觸。突出部23d2能夠使從保持部23d1突出的突出長度D發生變化。換言之，通過使突出長度D發生變化，從而能夠使偏振元件21的斜率α變化。

突出部23d2例如具有梯級性地突出的機構或螺絲機構，能夠基於偏振光測定部6的測定結果來使突出長度D發生變化。

此時，若採用具有螺絲機構的突出部23d2，則能夠實現無級調整，因此比起梯級性地突出的突出部，容易進行微調。

另外，作業員既可操作突出部23d2來使突出長度D發生變化，也可通過設置於突出部23d2的驅動機構來驅動突出部23d2以使突出長度D發生變化。

通過1組支撐部23b、彈性部23c及調整部23d來三點支撐1個框部22。

如圖3所示，只要使突出部23d2的突出長度D發生變化，便能夠以支撐部23b為支點來使框部22、甚而使偏振元件21朝旋轉方向移動。只要使偏振元件21朝旋轉方向移動，便能夠使設置於偏振元件21的線狀體所延伸的方向發生變化。

因此，通過基於偏振光測定部6的測定結果來使突出長度D發生變化，從而能夠針對多個偏振元件21的每一個來進行偏振方向的調整。

移動部24使基台23a朝光源41所延伸的方向（Y方向）移動。

移動部24維持基台23a在X方向及Z方向上的位置。

移動部24具有輥（roller）24a、導軌（rail）24b及導軌24c。

輥24a例如可採用呈圓筒狀且具有滾動軸承者。

多個輥24a設置在X方向上的基台23a兩側的側面。多個輥24a沿著基台23a所延伸的方向（Y方向）而排列設置。

而且，如圖2（b）所示，輥24a也可設置在基台23a的內部，且導軌24b側的端部從基台23a露出。

導軌24b沿著Y方向延伸。導軌24b與輥24a的下端接觸。導軌24b經由輥24a來支撐基台23a。

而且，導軌24b與輥24a的和基台23a側為相反側的側面接觸。導軌24b經由輥24a來維持基台23a在X方向上的位置。

導軌24c沿著Y方向延伸。導軌24c被設置在導軌24b的上方。導軌24c是與導軌24b相對。

輥24a是設置在導軌24b與導軌24c之間。因此，輥24a、導軌24b及導軌24c協同維持基台23a在Z方向上的位置。

此時，基台23a能夠沿Y方向移動。即，能夠從偏振光照射裝置1拉出基台23a。因此，設置於基台23a的偏振元件21、框部22及調整部23d等也能夠從偏振光照射裝置1拉出。其結果，在偏振光照射裝置1的外側，作業員能夠進行偏振元件21的更換或偏振元件21的斜率調整，因此能夠提高偏振元件21的更換作業等時的作業性。

既可在導軌24c與輥24a的上端之間設置有間隙，也可使導軌24c與輥24a的上端接觸。

若在導軌24c與輥24a的上端之間設置有間隙，則輥24a的旋轉將變得平滑。另一方面，導軌24c與輥24a的上端之間的間隙越大，則Z方向（上下方向）的晃動將越大，因而偏振軸偏離有可能變大。

因此，優選在導軌24c與輥24a的上端之間設置微小的間隙。

這樣，能夠使輥24a的旋轉變得平滑，且能夠抑制偏振軸偏離的發生。

另外，例示了具有輥24a、導軌24b及導軌24c的移動部24，但並不限定於此。

移動部24只要是能夠使基台23a朝光源41所延伸的方向（Y方向）移動，且能夠維持基台23a在X方向及Z方向上的位置者即可。

例如，移動部24也可採用具備滑動導軌（slide rail）、滑動單元（slide unit）、直動軸承與引導件（guide）者，具備滑動軸承與引導件者等。

固定部25對偏振元件21在X方向、Y方向及Z方向上的位置進行固定。

固定部25是設置於導軌24b上。多個固定部25沿著導軌24b所延伸的方向（Y方向）而排列設置。

固定部25朝向導軌24c側按壓基台23a。由於基台23a由固定部25予以上抬，因此輥24a的上端與導軌24c接觸。

另外，圖2表示通過固定部25進行按壓之前的狀態（在導軌24c與輥24a的上端之間存在間隙的狀態）。

若輥24a的上端與導軌24c接觸，則無Z方向（上下方向）的晃動。而且，偏振元件21在X方向、Y方向及Z方向上的位置得以固定。因此，能夠進一步抑制偏振軸偏離的發生。

固定部25例如可採用具有螺絲機構者。螺絲機構例如既可如翼形螺絲等般由作業者進行操作，也可通過驅動機構進行操作。

另外，固定部25並不限定於具有螺絲機構者。

固定部25例如也可為氣缸（air cylinder）、液壓缸、螺線管（solenoid）、鉸接夾（toggle clamp）等。

而且，固定部25也能夠設置於導軌24c或其他構件上。在固定部25被設置於導軌24c的情況下，固定部25朝向導軌24b側按壓基台23a。由於輥24a被按壓至導軌24b上，因此無Z方向（上下方向）的晃動。而且，偏振元件21在X方向、Y方向及Z方向上的位置得以固定。因此，能夠進一步抑制偏振軸偏離的發生。

而且，例示了按壓基台23a的固定部25，但也可為經由其他構件來按壓基台23a的固定部25、按壓輥24a的固定部25等。

而且，固定部25也可為吸引基台23a或輥24a等者。例如，固定部25也可為電磁鐵等。

即，固定部25只要是能夠對偏振元件21在X方向、Y方向及Z方向上的位置進行固定者即可。

而且，也可在偏振部2上設置使偏振光透射的窗材等。

此時，窗材也可由對紫外光進行反射/遮光的反射材或遮光材來予以支撐。

窗材例如可由合成石英玻璃等形成。

濾波器部3是設置在偏振部2的上方。

濾波器部3具有濾波器31、反射部32、基台33（相當於第3基台的一例）及移動部34（相當於第3移動部的一例）。

濾波器31是設置於基台33上。

濾波器31使規定波長的光透射。

濾波器31例如可採用帶通濾波器（band pass filter）。

濾波器31可採用具備規定的透射率分佈者。

濾波器31例如可採用使波長為254 nm的光透射90%以上，而不使波長為313 nm及365 nm的光透射者。

若採用具備此種透射率分佈的濾波器31，則能夠將波長為254 nm的光照射至處理物200，而不使波長為313 nm及365 nm的光照射至處理物200。

濾波器31例如可採用使波長為313 nm的光透射90%以上，而不使波長為254 nm及365 nm的光透射者。

若採用具備此種透射率分佈的濾波器31，則能夠將波長為313 nm的光照射至處理物200，而不使波長為254 nm及365 nm的光照射至處理物200。

濾波器31例如可採用使波長為365 nm的光透射90%以上，而不使波長為254 nm及313 nm的光透射者。

若採用具備此種透射率分佈的濾波器31，則能夠將波長為365 nm的光照射至處理物200，而不使波長為254 nm及313 nm的光照射至處理物200。

濾波器31例如可採用使波長為254 nm及313 nm的光透射90%以上，而不使波長為365 nm的光透射者。

若採用具備此種透射率分佈的濾波器31，則能夠將波長為254 nm及313 nm的光照射至處理物200，而不使波長為365 nm的光照射至處理物200。

濾波器31例如可採用使波長為313 nm及365 nm的光透射90%以上，而不使波長為254 nm的光透射者。

若採用具備此種透射率分佈的濾波器31，則能夠將波長為313 nm及365 nm的光照射至處理物200，而不使波長為254 nm的光照射至處理物200。

濾波器31例如可採用使波長為254 nm的光透射70%以上，使波長為313 nm的光透射80%以上，使波長為365 nm的光透射90%以上者。

若採用具備此種透射率分佈的濾波器31，則能夠將波長為254 nm、313 nm及365 nm的光照射至處理物200。

反射部32是設置於基台33上。

反射部32是以包圍濾波器31的方式設置。

反射部32具有一側開口的槽形狀，且沿基台33所延伸的方向（Y方向）延伸。

反射部32的剖面形狀除了圓形、橢圓、抛物線等彎曲形狀以外，也可採用平面形狀。

反射部32的內面成為反射鏡。

反射部32將從光源41出射並朝向濾波器31附近的光反射向照射部4的反射部42。被反射部32反射並入射至照射部4的反射部42中的光朝向濾波器31。

另外，反射部32也可為將入射的光以朝向濾波器31的方式予以反射者。

反射部32並非必需，但若設置反射部32，則能夠提高從光源41出射的光的利用效率。

而且，例示了反射部32被設置於基台33的情況，但反射部32也可設置於照射部4，還可設置於其他構件。

基台33沿光源41所延伸的方向（Y方向）延伸。在基台33上設置有凹部，在凹部內設置有濾波器31。在凹部的底面設置有孔，以使透射過濾波器31的光入射至偏振元件21。

移動部34使基台33朝光源41所延伸的方向（Y方向）移動。

移動部34維持基台33在X方向上的位置。

移動部34具有輥（roller）34a及導軌34b。

輥34a例如可採用呈圓筒狀且具有滾動軸承者。

多個輥34a設置在X方向上的基台33兩側的側面。多個輥34a沿著基台33所延伸的方向（Y方向）而排列設置。

導軌34b沿Y方向延伸。導軌34b與輥34a的下端接觸。導軌34b經由輥34a來支撐基台33。

而且，導軌34b與輥34a的和基台33側為相反側的側面接觸。導軌34b經由輥34a來維持基台33在X方向上的位置。

此時，基台33能夠沿Y方向移動。即，能夠從偏振光照射裝置1拉出基台33。因此，設置於基台33的濾波器31等也能夠從偏振光照射裝置1拉出。

其結果，在偏振光照射裝置1的外側，作業員能夠進行濾波器31的更換，因此能夠提高濾波器31的更換作業時的作業性。

另外，例示了具有輥34a及導軌34b的移動部34，但並不限定於此。

移動部34只要是能夠使基台33朝光源41所延伸的方向（Y方向）移動者即可。

例如，移動部34也可採用具備滑動導軌、滑動單元、直動軸承與引導件者，具備滑動軸承與引導件者等。

照射部4是設置在濾波器部3的上方。

照射部4具有光源41、反射部42、基台43（相當於第2基台的一例）及移動部44（相當於第2移動部的一例）。

光源41是設置於基台43上。

光源41具有呈直線狀延伸的形態。

光源41以沿與搬送處理物200的方向（X方向）正交的方向（Y方向）延伸的方式設置。

光源41照射出波長處於紫外線波長區域內的光。

從光源41照射的光是具有各種振動方向成分的所謂的非偏振的光。

光源41例如可採用照射出波長為254 nm的光的汞燈、照射出波長為313 nm的光的汞燈、照射出波長為313 nm的光的金屬鹵化物燈、照射出波長為365 nm的光的金屬鹵化物燈等。

而且，光源41也可為照射出波長處於紫外線波長區域內的光的熒光燈或發光元件（例如發光二極體（light emitting diode）、雷射二極體（laser diode）、有機發光二極體等）等。另外，在使用作為點光源的發光元件的情況下，只要將多個發光元件排列成直線狀而設為仿真線狀光源即可。

反射部42是設置於基台43上。

反射部42是以包圍光源41的方式設置。

反射部42具有一側開口的槽形狀，且沿基台43所延伸的方向（Y方向）延伸。

反射部42的剖面形狀可設為抛物線或橢圓的一部分。

反射部42的內面成為反射鏡。

反射部42將從光源41出射並朝向反射部42的內面的光反射向濾波器31。

若設置反射部42，則能夠提高從光源41出射的光的利用效率。

而且，例示了反射部42被設置於基台43的情況，但反射部42也可設置於濾波器部3，還可設置於其他構件。

基台43沿光源41所延伸的方向（Y方向）延伸。在基台43上設置有凹部，在凹部的內部設置有反射部42與光源41。

移動部44使基台43朝光源41所延伸的方向（Y方向）移動。

移動部44維持基台43在X方向上的位置。

移動部44具有輥（roller）44a及導軌44b。

輥44a例如可採用呈圓筒狀且具有滾動軸承者。

多個輥44a設置在X方向上的基台43兩側的側面。多個輥44a沿著基台43所延伸的方向（Y方向）而排列設置。

導軌44b沿Y方向延伸。導軌44b與輥44a的下端接觸。導軌44b經由輥44a來支撐基台43。

而且，導軌44b與輥44a的和基台43側為相反側的側面接觸。導軌44b經由輥44a來維持基台43在X方向上的位置。

此時，基台43能夠沿Y方向移動。即，能夠從偏振光照射裝置1拉出基台43。因此，設置於基台43的光源41等也能夠從偏振光照射裝置1拉出。

其結果，在偏振光照射裝置1的外側，作業員能夠進行光源41的更換，因此能夠提高光源41的更換作業時的作業性。

另外，例示了具有輥44a及導軌44b的移動部44，但並不限定於此。

移動部44只要是能夠使基台43朝光源41所延伸的方向（Y方向）移動者即可。

例如，移動部44也可採用具備滑動導軌、滑動單元、直動軸承與引導件者，具備滑動軸承與引導件者等。

此處，在對設置於處理物200上的配向膜實施配向處理時，根據配向膜材料的靈敏度波長來選定適當的光源41、濾波器31及偏振元件21。

當偏振光照射裝置1中未設有適當的光源41時，要更換光源41。

基台43能夠沿Y方向移動，因此能夠從偏振光照射裝置1拉出基台43。因此，在偏振光照射裝置1的外側，作業員能夠進行光源41的更換，因此能夠提高光源41的更換作業時的作業性。

而且，當偏振光照射裝置1中未設有適當的濾波器31時，要更換濾波器31。

基台33能夠沿Y方向移動，因此能夠從偏振光照射裝置1拉出基台33。因此，在偏振光照射裝置1的外側，作業員能夠進行濾波器31的更換，因此能夠提高濾波器31的更換作業時的作業性。

而且，在偏振光照射裝置1中未設有適當的偏振元件21的情況下、或需要進行後述的偏振元件21的斜率調整的情況下，要進行偏振元件21的更換或偏振元件21的斜率調整。

基台23a能夠沿Y方向移動，因此能夠從偏振光照射裝置1拉出基台23a。因此，在偏振光照射裝置1的外側，作業員能夠進行偏振元件21的更換或偏振元件21的斜率調整，因此能夠提高偏振元件21的更換作業等時的作業性。

而且，如前所述，若採用至少在波長為240 nm以上且400 nm以下的範圍內具有良好的偏振性能的偏振元件21（具有包含鋁（Al）或鉬矽合金（MoSix）的線狀體的偏振元件21），則在進行靈敏度波長不同的配向膜的處理時，不再需要更換偏振元件21。

此時，基台43及基台33能夠分別獨立地沿Y方向移動，因此在光源41或濾波器31的更換時，偏振元件21的位置不會發生偏離。

而且，基台43、基台33及基台23a能夠從偏振光照射裝置1的同一面側沿Y方向拉出，因此能夠從相同位置進行各作業。因此，能夠進一步提高作業性。

搬送部5是設置在偏振部2的下方。

搬送部5沿與光源41所延伸的方向正交的方向（X方向）搬送處理物200。

搬送部5以處理物200通過偏振部2下方的方式來搬送處理物200。

搬送部5例如可採用具備保持處理物200的保持裝置與單軸機器人（robot）等搬送裝置者。

偏振光測定部6是設置在偏振部2的下方。

偏振光測定部6是設置在相較於處理物200的搬送位置的更下方。

偏振光測定部6具有偏振部61、檢測部62、移動部63、移動部64及控制部65。

偏振部61具有偏振元件61a（相當於第2偏振元件的一例）、保持部61b及移動部61c（相當於第4移動部的一例）。

透射過偏振元件21的偏振光Lp入射至偏振元件61a。

偏振元件61a是在對偏振光Lp的偏振方向進行測定時使用。偏振元件61a有時也被稱作檢偏器。

偏振元件61a僅使偏振光Lp的朝規定方向振動的成分透射，而成為偏振光Lpp。

偏振元件61a可採用線柵型偏振元件。

偏振元件61a例如可採用與前述的偏振元件21具有同樣的構成者。

保持部61b例如可採用呈圓筒狀者。

保持部61b保持偏振元件61a。透射過偏振元件61a的光通過保持部61b的內部而入射至檢測部62。

移動部61c以從光源41朝向檢測部62的軸為中心，而使保持部61b朝旋轉方向移動。通過保持部61b朝旋轉方向移動，從而偏振元件61a朝旋轉方向移動。因此，能夠使設置於偏振元件61a的線狀體所延伸的方向發生變化。

檢測部62是設置在偏振部61的下方。

檢測部62接收透射過偏振元件61a的光，並輸出與所接收的光的光量相應的電訊號。檢測部62例如可採用具備光電二極體（photo diode）等光電轉換元件者。

而且，也可根據所檢測的光的波長來設置多種檢測部62a～62c。

例如，可設置對波長為254 nm的光進行檢測的檢測部62a、對波長為313 nm的光進行檢測的檢測部62b、對波長為365 nm的光進行檢測的檢測部62c。

移動部63保持檢測部62a～62c，並使其朝Y方向移動。

即，移動部63根據所檢測的光的波長來進行檢測部62a～62c的切換。

移動部63例如可設為如下所述者，即，其具備用於使檢測部62a～62c朝規定方向移動的引導件、伺服馬達（servo motor）或氣缸等驅動設備、對檢測部62a～62c的位置進行檢測的位置檢測器等。

移動部64保持移動部63，並使其朝Y方向移動。

即，移動部64使移動部63移動，以使偏振部61及檢測部62位於成為測定對象的偏振元件21的下方。

移動部64例如可採用與移動部63具有同樣的構成者。

控制部65對偏振光測定部6中所設的各要素的動作進行控制。

例如，控制部65對移動部63進行控制，以使所需的檢測部62a～62c位於偏振元件61a的下方。

控制部65對移動部61c進行控制，以使偏振元件61a繞偏振元件61a的中心軸旋轉移動規定角度。

而且，控制部65基於來自控制部7的指令，進行偏振光Lp的測定。

例如，控制部65基於來自檢測部62的輸出與來自移動部61c的旋轉位置信息，對偏振光Lp的偏振方向進行運算。

運算出的偏振光Lp的偏振方向既可輸出至未圖示的顯示裝置等，也可向控制部7輸出。

而且，控制部65控制移動部64來使移動部63移動，以使偏振部61及檢測部62位於成為測定對象的偏振元件21的下方。

另外，控制部65既可與控制部7一體地設置，也可使控制部7兼具控制部65的功能。

圖4是用於例示另一實施方式的偏振光測定部16的示意立體圖。

另外，為了避免造成繁瑣，省略了移動部61c的描繪。

如圖4所示，偏振光測定部16具有偏振部61、檢測部62、移動部163及移動部64。

而且，偏振光測定部16可與前述的偏振光測定部6同樣地具備控制部65。

移動部163保持檢測部62a～62c，並使其朝旋轉方向移動。

即，移動部163根據所檢測的光的波長來進行檢測部62a～62c的切換。

移動部163例如可採用具備伺服馬達或脈衝馬達（pulse motor）等控制馬達的轉檯（table）。

控制部7對照射部4及搬送部5的動作進行控制。

例如，控制部7對光源41進行控制，以從光源41照射出波長處於紫外線波長區域內的光L。

控制部7對搬送部5進行控制，使搬送部5搬送處理物200以使處理物200通過偏振部2的下方。

而且，控制部7也可基於偏振光測定部6的測定結果來對突出部23d2中所設的驅動機構進行控制，從而針對多個偏振元件21的每一個來進行偏振方向的調整。

接下來，對偏振光照射裝置1生成偏振光Lp、及偏振光測定部6測定偏振光Lp的偏振方向的情況進行說明。

圖5是用於對偏振光照射裝置1生成偏振光Lp、及偏振光測定部6測定偏振光Lp的偏振方向的情況進行例示的示意立體圖。

控制部7對光源41進行控制，以從光源41照射出波長處於紫外線波長區域內的光L。從光源41照射的光L直接或被反射部42的內面反射後，從反射部42的開口出射。從反射部42的開口出射的光L包含朝各種方向、例如朝B方向或C方向振動的成分。

光L入射至濾波器31，且具有所需波長的光L入射至偏振元件21。

入射至偏振元件21的光L通過透射過偏振元件21而成為偏振光Lp。

如前所述，在偏振元件21中，設置有沿規定方向延伸的多個線狀體。因此，偏振元件21僅使光L的成分中的、朝與線狀體所延伸的方向正交的方向振動的成分透射。因此，當光L透射過偏振元件21時，成為僅具備朝規定方向（例如C方向）振動的成分的偏振光Lp。

以上述方式，能夠生成偏振光Lp。

偏振光Lp的偏振方向的測定是在無處理物200的狀態下進行。

控制部65對移動部63進行控制，以使所需的檢測部62a～62c位於偏振元件61a的下方。

偏振光Lp通過透射過偏振元件61a而成為偏振光Lpp。

偏振光Lpp入射至檢測部62，並輸出與所接收的光的光量相應的電訊號。

而且，控制部65對移動部61c進行控制，以使偏振元件61a朝旋轉方向移動。即，控制部65對移動部61c進行控制，以使偏振元件61a中所設的線狀體所延伸的方向發生變化。

若線狀體所延伸的方向發生變化，則對應於偏振光Lp的偏振方向，偏振光Lpp的照度將發生變化。例如，在旋轉角度θ為0°、-20°、90°時，偏振光Lpp的照度不同，從檢測部62輸出的電訊號的值不同。

因此，若知曉從檢測部62輸出的電訊號的值達到最大或最小時的旋轉角度θ，便能夠根據預先求出的旋轉角度θ與偏振光Lp的偏振方向的關係來求出偏振光Lp的偏振方向。

例如，將旋轉角度θ為90°的情況設為X方向、旋轉角度θ為0°的情況設為Y方向，在旋轉角度θ為0°的情況下，當從檢測部62輸出的電訊號的值達到最大時，偏振光Lp的偏振方向為Y方向。

另外，在旋轉角度θ為0°的情況下，當從檢測部62輸出的電訊號的值達到最小時，偏振光Lp的偏振方向為X方向。

在偏振光Lp的偏振方向的測定時，只要對從檢測部62輸出的電訊號的最大值或最小值的前後進行測定便足夠。

如上所述，控制部65基於來自檢測部62的輸出與來自移動部61c的旋轉位置信息，對偏振光Lp的偏振方向進行運算。

而且，控制部65控制移動部64來使移動部63移動，以使偏振部61及檢測部62位於成為測定對象的偏振元件21的下方。

並且，對於多個偏振元件21中的每一個，進行前述的偏振光Lp的偏振方向的測定。

以上述方式，能夠進行偏振光Lp的偏振方向的測定。

接下來，根據需要來調整偏振元件21的斜率。例如，如圖3所示，通過改變調整部23d的突出部23d2的突出長度D，從而調整偏振元件21以使其傾斜角度α。

偏振光Lp的偏振方向的測定結果從控制部65發送至控制部7。

在偏振光Lp的偏振方向不處於規定範圍內的情況下，對偏振元件21的斜率進行調整。

此時，基於從控制部65或控制部7向顯示裝置等輸出的信息，作業者能夠操作突出部23d2來調整偏振元件21的斜率。

而且，控制部7也能夠控制突出部23d2中所設的驅動機構來調整偏振元件21的斜率。

在偏振元件21的斜率調整之後，再次對進行了調整的偏振元件21中的偏振光Lpp的偏振方向進行測定。

並且，反復進行前述流程，直至偏振光Lp的偏振方向處於規定範圍內為止。

當偏振光Lp的偏振方向處於規定範圍內時，進行處理物200的配向處理。

首先，控制部65對移動部64進行控制，以使偏振部61及檢測部62退避至處理物200的搬送區域外。

這樣，能夠避免處理物200與偏振部61及檢測部62的干涉。

接下來，控制部7對光源41進行控制，以從光源41照射出波長處於紫外線波長區域內的光L。

而且，控制部7對搬送部5進行控制，以使處理物200通過光源41的設有偏振部2的一側的下方。

從光源41出射的光L入射至偏振元件21，通過透射過偏振元件21而成為偏振光Lp。

偏振光Lp入射至處理物200，利用偏振光Lp來實施配向處理。

而且，通過使處理物200通過光源41的設有偏振部2的一側的下方，從而對處理物200的整個區域實施配向處理。

以上，例示了本發明的若干個實施方式，但這些實施方式僅為例示，並不意圖限定發明的範圍。這些新穎的實施方式能以其他的各種形態來實施，在不脫離發明的主旨的範圍內，能夠進行各種省略、置換、變更等。這些實施方式或其變形例包含在發明的範圍或主旨內，並且包含在權利要求書所記載的發明及其均等的範圍內。而且，前述的各實施方式能夠彼此組合而實施。

1‧‧‧偏振光照射裝置

2、61‧‧‧偏振部

3‧‧‧濾波器部

4‧‧‧照射部

5‧‧‧搬送部

6‧‧‧偏振光測定部

7、65‧‧‧控制部

16‧‧‧偏振光測定部

21、61a‧‧‧偏振元件

22‧‧‧框部

22a、22b、23a1‧‧‧凹部

22c‧‧‧中心線

23‧‧‧基部

23a、33、43‧‧‧基台

23b‧‧‧支撐部

23c‧‧‧彈性部

23c1、23d1、61b‧‧‧保持部

23c2‧‧‧盤簧

23d‧‧‧調整部

23d2‧‧‧突出部

24、34、44、61c、63、64、163‧‧‧移動部

24a、34a、44a‧‧‧輥

24b、24c、34b、44b‧‧‧導軌

25‧‧‧固定部

31‧‧‧濾波器

32、42‧‧‧反射部

41‧‧‧光源

62、62a～62c‧‧‧檢測部

200‧‧‧處理物

A‧‧‧部

B、C、X、Y、Z‧‧‧方向

D‧‧‧突出長度

L‧‧‧光

Lp‧‧‧偏振光

Lpp‧‧‧偏振光

α‧‧‧斜率/角度

圖1是用於例示本實施方式的偏振光照射裝置1的示意立體圖。 圖2（a）是圖1中的A部的示意圖。圖2（b）是用於例示另一實施方式的偏振部2的示意剖面圖。 圖3是圖2中的B-B線剖面圖。 圖4是用於例示另一實施方式的偏振光測定部16的示意立體圖。 圖5是用於對偏振光照射裝置1生成偏振光Lp、及偏振光測定部6測定偏振光Lp的偏振方向的情況進行例示的示意立體圖。

Claims (7)

1. 一種偏振光照射裝置，其包括：照射部，沿第1方向延伸，且具有照射出波長處於紫外線波長區域內的光的光源；濾波器部，具有使規定波長的光透射的濾波器，且設置在所述照射部的下方；以及偏振部，具有第1基台、多個第1偏振元件及第1移動部，且設置在可進行偏振方向之調整的所述濾波器部的下方，其中所述多個第1偏振元件設置於所述第1基台且與所述濾波器相對，所述第1移動部使所述第1基台朝所述第1方向移動；偏振光測定部，具有第2偏振元件，使透射過所述多個第1偏振元件的光入射；第4移動部，使所述第2偏振元件朝旋轉方向移動；及檢測部，接收透射過所述第2偏振元件的光，並輸出與接收的光的光量相應的電訊號，其中所述偏振光測定部設置在所述偏振部的下方；以及調整部，基於所述偏振光測定部所做的測定結果，對所述多個第1偏振元件之每一個的偏振方向進行調整，其中所述第1移動部維持所述第1基台在與所述第1方向正交的第2方向、及在與所述第1方向及所述第2方向正交的第3方向上的位置。
2. 如申請專利範圍第1項所述的偏振光照射裝置，其中，所述第1移動部具有設置在所述第1機台的多個輥、與所述多個輥的下端接觸的第1導軌、夾著所述多個輥並且與所述的第1導軌相對的第2導軌，偏振光照射裝置更包括：固定部，按壓所述第1基台，使所述多個輥的上端與所述第2導軌接觸。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的偏振光照射裝置，其中，所述偏振部還包括固定部，所述固定部對所述第1基台在所述第1方向、所述第2方向及所述第3方向上的位置進行固定。
4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的偏振光照射裝置，其中，所述照射部還包括：第2基台，設置有所述光源；以及第2移動部，使所述第2基台朝所述第1方向移動。
5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的偏振光照射裝置，其中，所述濾波器部還包括：第3基台，設置有所述濾波器；以及第3移動部，使所述第3基台朝所述第1方向移動。
6. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的偏振光照射裝置，其中，所述多個第1偏振元件是使波長為240nm以上且400nm以下的光偏振的線柵型(wire grid)偏振元件。
7. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的偏振光照射裝置，其中，所述多個第1偏振元件具有線狀體，所述線狀體包含選自由鉻(Cr)、鋁(Al)、鉬矽合金(MoSix)及矽(Si)所構成的群組中的至少一種。