JP6748428B2 - リソグラフィ装置、物品の製造方法、ステージ装置及び計測装置 - Google Patents
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- 基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を吸着面で吸着するチャックを含み、前記基板の側面を含む前記基板の一部が前記チャックから露出するように前記基板を保持するステージと、
前記チャックに吸着された前記基板の側面に対して、前記吸着面に平行な面に対して0度以上20度以下の範囲の入射角度で光を入射させる照明部と、
前記チャックに吸着された前記基板の側面の下方に配置され、前記基板の側面で反射された光を検出する検出部と、
前記検出部による検出結果に基づいて、前記チャックに吸着された前記基板の側面の位置を求める処理部と、
を有し、
前記照明部及び前記検出部は、前記ステージに支持されていることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記照明部は、前記照明部から前記基板の側面に入射する光の進路を前記吸着面に平行な面に投影することで規定される直線と前記基板の側面とのなす角が90度となるように、前記基板の側面に対して光を入射させることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記照明部は、前記チャックに吸着された前記基板の表面よりも下方に配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ステージは、前記チャックを支持するベースを含み、
前記リソグラフィ装置は、前記照明部及び前記検出部を前記ベースに支持させる支持部を更に有することを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記ステージは、前記チャックの側面に沿って配置され、前記ステージの位置を計測するためのバーミラーを含み、
前記支持部は、前記バーミラーと前記チャックの側面との間の空間において、前記照明部及び前記検出部を前記ベースに支持させることを特徴とする請求項4に記載のリソグラフィ装置。 - 前記照明部は、
光源と、
前記光源からの光を前記チャックに吸着された前記基板の側面に導光する光学系と、
を含み、
前記光学系は、前記光学系の光軸を折り曲げるための光学素子を含むことを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記光学素子は、ミラー又はプリズムを含むことを特徴とする請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記検出部は、
撮像素子と、
前記基板の側面で反射された光を前記撮像素子に結像する撮像光学系と、
を含み、
前記撮像素子は、前記撮像素子の上において、前記チャックに吸着された前記基板の側面のノミナル位置と前記撮像素子の中心位置とが重なるように配置され、
前記ノミナル位置は、前記処理部によって求められる前記基板の側面の位置の平均値であることを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記撮像光学系は、両側テレセントリック光学系を構成することを特徴とする請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- マスクに形成されたマークと、前記基板に形成されたマークとを検出するアライメント検出系と、
前記マスクと前記基板との位置合わせを行う制御部と、
を更に有し、
前記制御部は、前記アライメント検出系の検出結果に基づいて前記位置合わせを行う前に、前記処理部によって求められた前記基板の側面の位置に基づいて前記アライメント検出系の視野内に前記基板に形成されたマークを収めるように前記ステージを移動させる処理を行うことを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記制御部は、前記位置合わせを行う際に前記アライメント検出系の視野内に前記基板に形成されたマークが収まっていない場合には、前記ステージを移動させることなく、前記チャックに吸着された前記基板の側面の位置を再度求めるように、前記照明部、前記検出部及び前記処理部を制御することを特徴とする請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項1乃至11のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターン形成を基板に行う工程と、
前記工程で前記パターン形成を行われた前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。 - 基板を保持するステージ装置であって、
前記基板を吸着面で吸着するチャックを含み、前記基板の側面を含む前記基板の一部が前記チャックから露出するように前記基板を保持するステージと、
前記チャックに吸着された前記基板の側面に対して、前記吸着面に平行な面に対して0度以上20度以下の範囲の入射角度で光を入射させる照明部と、
前記チャックに吸着された前記基板の側面の下方に配置され、前記基板の側面で反射された光を検出する検出部と、
前記検出部による検出結果に基づいて、前記チャックに吸着された前記基板の側面の位置を求める処理部と、
を有し、
前記照明部及び前記検出部は、前記ステージに支持されていることを特徴とするステージ装置。 - 基板を吸着面で吸着するチャックを含み、前記基板の側面を含む前記基板の一部が前記チャックから露出するように前記基板を保持するステージを含むステージ装置に保持された前記基板の側面の位置を計測する計測装置であって、
前記チャックに吸着された前記基板の側面に対して、前記吸着面に平行な面に対して0度以上20度以下の範囲の入射角度で光を入射させる照明部と、
前記チャックに吸着された前記基板の側面の下方に配置され、前記基板の側面で反射された光を検出する検出部と、
前記検出部による検出結果に基づいて、前記チャックに吸着された前記基板の側面の位置を求める処理部と、
を有し、
前記照明部及び前記検出部は、前記ステージに支持されていることを特徴とする計測装置。
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JP2015254867A JP6748428B2 (ja) | 2015-12-25 | 2015-12-25 | リソグラフィ装置、物品の製造方法、ステージ装置及び計測装置 |
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