TWI674058B - 運算裝置中的管路配置 - Google Patents

Abstract

提供一種用於伺服器的管路系統，所述伺服器包含相對於進入空氣的遮蔽配置(shadow arrangement)中的多個元件配置。所述管路系統包含多個管路，所述管路用以將空氣引導至所述遮蔽配置中的後側元件，而所述遮蔽配置中的前側元件很少或不加熱所述空氣。

Description

運算裝置中的管路配置

本揭露實施例是有關於一種用於改善冷卻的系統與方法，且特別是有關於一種使用管路來改善下游元件的冷卻的系統與方法。

為了使伺服器中電子裝置維持在運作溫度規格，包含在伺服器的外殼內的電子裝置所產生的熱使得伺服器需要被冷卻。一般而言，這些伺服器係透過風扇或強制空氣流經伺服器的其他裝置來進行冷卻。

在一些傳統的伺服器中，使用管路設計(ducting design)來控制用以冷卻不同元件所需的空氣流動。在一種典型的伺服器設計中，中央處理單元(Central Processing Unit，CPUs)與儲存元件可以以遮蔽配置(shadow arrangement)與分隔的管路配置而被放置在伺服器中。也就是說，相對於流經伺服器的氣流，中央處理單元(CPUs)串聯設置以使得一個在上游而另一個在下游。相似地，相對於流經伺服器的氣流，儲存元件也可串聯設置以使得一個在上游而另一個在下游。此外，可提供管路配置以便 引導部分冷卻的進入空氣僅通過儲存元件且將引導第二部分冷卻的進入空氣僅通過中央處理單元(CPUs)。

由於上游元件預熱了進入空氣，這種類型的設計會產生兩個問題。首先，冷卻空氣的效率降低。也就是說，較暖的空氣較不能夠冷卻下游元件。其次，使用了多餘的電力。也就是說，因為冷卻效率降低，通常必須加速冷卻風扇來增加氣流以克服冷卻效率的降低。

相應地，需要在伺服系統與其他運算裝置中提供冷卻系統，以改善下游冷卻而不需要顯著地使用更多的能量。

本揭露提出一種用於運算裝置的管路系統，所述運算裝置包含相對於進入空氣的遮蔽配置中的多個元件配置。所述管路系統包含多個管路，所述管路用以將空氣引導至所述遮蔽配置中的後側元件，而所述遮蔽配置中的前側元件很少或不加熱所述空氣。

在一種配置中，提供一種運算裝置具有處於相對於進入空氣的遮蔽配置中的多個第一發熱元件與多個第二發熱元件。所述第一發熱元件位於相鄰於所述第一發熱元件的所述運算裝置中。在這種配置中，管路配置包含用於引導部分的進入空氣流經第一發熱元件中的後者以及第二發熱元件中的前者之第一管路。管路配置也包含用於引導另一部分的進入空氣流經第二發熱元件中的後者並且不流經第 一發熱元件與第二發熱元件的前者之第二管路。

在一替代性的實施方式中，所述運算裝置可替代性地包含第一管路、第二管路與第三管路。第一管路可用於引導部分的進入空氣流經第一發熱元件中的後者以及第二發熱元件中的前者。第二管路可用於引導另一部分的進入空氣流經第二發熱元件中的後者並且不流經第一發熱元件與第二發熱元件的前者。第三管路可用於引導又一部分的進入空氣流經第一發熱元件中的後者並且不流經第一發熱元件的前者與第二發熱元件。

為讓本揭露的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

10、30、31、32‧‧‧管路

12‧‧‧進入空氣

14、16‧‧‧記憶體

18‧‧‧伺服器

19‧‧‧前側

20‧‧‧冷卻空氣

22‧‧‧後側

24‧‧‧主機板

25‧‧‧管路配置

26、26’、27、28、28’‧‧‧箭頭

33‧‧‧排氣口

34、36、37‧‧‧壁

35‧‧‧單一外殼

38‧‧‧開口部

40、42‧‧‧中央處理單元(CPU)

[圖1]係繪示根據先前技術之包含管路配置的伺服器的側視剖視圖。

[圖2]係繪示根據本揭露之包含管路配置的伺服器的側視剖視圖。

[圖3]係繪示根據本揭露之包含管路配置的伺服器的透視圖、部分剖視圖。

參照附圖來描述本發明，其中在所有的附圖中使用相同的編號來表示相似的或相同的元件。附圖並非按比 例繪製且僅用以說明本發明。以下參照用於說明的例示應用來描述本發明的幾個方面。應理解的是，列舉了許多具體細節、關係與方式來提供對於本發明的全面理解。然而，相關領域之通常技術人員將立即認知到，可以在沒有一個或多個具體細節或採用其他方法的情況下來實現本發明。在其他情況下，未詳細示出公知的結構或操作以避免混淆本發明。本發明不限於所示的行為或事件的順序，一些行為可能以不同的順序和/或與其他行為或事件同時發生。此外，並非所有示出的行為或事件都需要根據本發明的方法來實施。

如圖1(先前技術)所示，管路配置可包含傳統管路10，其接收進入空氣(incoming air)12且引導空氣流經伺服器18的前側19的前記憶體14與伺服器18的後側或下側22的後記憶體16。尤其是，管路10首先引導進入空氣12流經記憶體14。管路10收集流經記憶體14與管路10的其他部分的空氣，以提供冷卻空氣(cooling air)20給後記憶體16。管路10還使得進入空氣12轉向而遠離伺服器18中的任一中央處理單元(CPUs)，以避免這些中央處理單元(CPUs)對進入空氣12加熱。可使用相鄰的管路(圖未示)來引導部分的進入空氣流經鄰近記憶體14與記憶體16的中央處理單元(CPUs)。

當與較低功率的儲存元件一起使用時，管路10允許進入空氣12保持足夠的冷以提供記憶體14與記憶體16的有效冷卻。然而，由於新的高速記憶體技術有著更高的功率需求，記憶體14與記憶體16之每一者可顯著地消耗更高 熱量。記憶體功率將達到18瓦(Watt，W)。這導致記憶體溫度達到超過攝氏85度(記憶體規格)。所以，進入管路10的進入空氣12可在流經記憶體14且到達記憶體16之前，顯著地被預熱。在管路10內的進入空氣12的預熱導致到達記憶體16的任一冷卻空氣20具有比起進入管路10的冷卻進入空氣12更高的溫度。這個預熱的進入空氣12因此減少了到達記憶體16的冷卻空氣20的冷卻效率。接著，這個減少的冷卻效率可能因此導致記憶體16的溫度超過操作規格，並且可能進一步導致記憶體16的失效或甚至是比預期還早的故障。

有鑒於新的記憶體技術之用於傳統冷卻管路配置的限制，本揭露思量新的管路設計，其繪示於圖2與圖3當中。圖2係繪示根據本揭露之包含管路配置的伺服器的側視剖面圖。圖3係繪示根據本揭露之包含管路配置的伺服器的透視圖、部分剖視圖。

雖然說明書係針對特定類型的運算裝置(即伺服器)的實現，但這僅是為了便於解釋。所以，本揭露適用於包含發熱電子裝置的任一運算裝置，其中發熱電子裝置相對於氣流而設置於遮蔽配置中。因此，本揭露思量這樣的運算裝置可包含任何型態的元件，例如中央處理單元(CPU)、圖形處理器(graphics processing unit，GPU)、記憶體與相似的電子裝置。

如圖2與圖3所示，伺服器18的管路配置25包含管路32、管路31與管路30。分別如箭頭26、27與28所指示 者，管路32、管路31與管路30用以將進入空氣12分為三部分。配置這些管路以提供伺服器18的不同部分的冷卻。

首先參照管路30，此管路主要用以提供伺服器18中的後CPU的冷卻。尤其是，如圖3中的箭頭28’所示，由箭頭28所示的部分的進入空氣12首先被引導流經管路30且隨後被引導至後CPU 42。管路30的內表面不僅提供氣流的必要引導，而且還促進流經管路30的部分進入空氣12平穩流動。也就是說，這部分的進入空氣首先遵循不通過前CPU 40(其位置於圖3中以點線表示)的路徑。這樣一來，因為不通過前CPU 40，這部分的進入空氣12遭遇到較少的預熱或沒有被預熱。相應地，如箭頭28’所示，隨後引導至後CPU 42的部分的進入空氣12為冷卻後CPU 42提供較冷的空氣。

接著參照管路32，此管路主要用以提供前記憶體14的冷卻。此外，此管路也用以提供後CPU 42的部分冷卻。如圖2與圖3所示，如箭頭26所示，部分的進入空氣12首先被引導流經管路32。為了冷卻前記憶體14，管路32用以引導這部分的進入空氣12流經前記憶體14。之後，如圖3中的箭頭26’所示，這部分的進入空氣12也藉由排氣口33而被引導至後CPU 42。管路32的內表面係可配置為促進流經管路32的部分進入空氣12平穩流動。

雖然經排氣口33而排出的空氣可藉由記憶體14而被加熱，但是由記憶體14加熱的空氣的量通常小於前CPU 40加熱的空氣的量。所以，經排氣口33所排出的空氣 仍可具有足夠能力來冷卻較熱的元件，例如後CPU 42。隨後，如箭頭26’所示，排氣口33所排出之部分的進入空氣12用於冷卻後CPU 42。

如圖3所示，其示出管路30的至少一部分具有面向前CPU 40的開口部38，而管路32不包含這樣的開口部(除了排氣口33)，即包含壁37。在管路32中，壁37被設計為保持部分的進入空氣12被引導流經記憶體14而不被CPU 40所加熱。然而，本揭露思量在一些結構中，管路32也可具有開口部或甚至像是圖3中的管路30那樣完全打開。相似地，管路30可以可選地設計成與管路32相似。也就是說，為了維持流經管路30的部分的進入空氣更冷，也可提供壁36(以點線標示)來將管路30的內部與CPU 40分隔開。

除了管路30與管路32之外，如圖2與圖3所示，管路配置25也可包含位於管路30與管路32之間的管路31。這個管路用以提供後記憶體16的冷卻。如圖2與圖3所繪示的，如箭頭27所示，配置管路31使得部分的進入空氣12被引導至後記憶體16，而不會被記憶體14或任一CPU 40或CPU 42所預熱。因此，到達記憶體16的部分的進入空氣12保持冷卻，從而提供記憶體16的有效冷卻。如同管路30與管路32，管路31的內表面可配置為平穩地引導空氣。

雖然圖2與圖3示出了管路30、管路31與管路32的特定配置與尺寸，但本揭露思量這些管路的其他配置也可不受限制地使用。因此，管路的配置與尺寸可基於要被冷卻的各種元件的尺寸、在伺服器18中的配置、在伺服器18內 的可用空間與各種元件的冷卻需求而改變。舉例來說，雖然管路30、管路31與管路32在圖2與圖3中被示為包含共同的壁，但是在其他實施方式中，這些管路可包含不同的壁。在其他例子中，雖然管路30、管路31與管路32在圖2與圖3中被示為提供實質上平行且彼此相鄰的空氣路徑，但是在其他實施方式中，這些管路不需要彼此相鄰或彼此平行。

在一些實施方式中，管路30、管路31與管路32可透過配置在伺服器18的主機板24上的單一外殼35而定義，其支撐記憶體14、記憶體16與CPU 42。然而，本揭露思量管路30、管路31與管路32可使用任意數量的元件來定義。

本說明書所描述的管路的構造的材料可為低熱傳導率材料，從而最小化介於共用的壁(例如隔開管路30與管路31的壁34以及隔開管路31與管路32的共用的壁37)之間的任何熱轉移。用於管路之適合的材料包含聚合物和陶瓷。然而，在其他的實施方式中，可使用在攝氏25度下具有0.55瓦/(米．度)(W/(m．K))或更低的熱傳導率的任意材料。

應注意的是，為了便於討論，示於各圖中的一或多個元件的呈現可能已被簡化。因此，應該理解的是，所示出的某些元件可包含未被單獨繪示或標示的附加部分或元件。舉例來說，被標示為CPU 40與CPU 42的區域可包含實際處理單元，但也可包含或併入其他特徵，例如散熱片結構。所以，本揭露思量本領域技術人員將認知到，在本說 明書中描述的管路配置所實作的運算裝置可包含比各圖中所繪示或所標示的更多或更少的元件。

本文所使用之術語僅是用於描述特定實施例之目的且不意欲限制本發明。如本文所使用，單數形式"一"(a、an)及"該"(the)意欲亦包括複數形式，除非本文另有清楚地指示。再者，不論是在詳細的說明和/或發明申請專利範圍中所使用的術語"包含"(including、includes、having、has、with或其變形)的範圍，這樣的術語旨在包含類似於術語"comprising"的方式。

除非另外定義，否則本文使用的所有術語(包含技術與科學術語)具有與本發明所屬領域的通常技術人員所理解之相同的意義。應進一步理解的是，諸如在常用字典中定義的那些術語，應被解釋為具有與其在相關領域的上下文中一致的意義，並且不會被解釋為理想化或過度形式化的意義，除非明確地如此定義。

Claims (10)

1. 一種運算裝置中的管路配置，具有處於相對於一進入空氣的一遮蔽配置中的複數個第一發熱元件與複數個第二發熱元件，該些第一發熱元件位於相鄰於該些第一發熱元件的該運算裝置中，該管路配置包含：一或多個第一管路，用於引導一部分的該進入空氣流經該些第一發熱元件中的一後者以及該些第二發熱元件中的一前者；以及一或多個第二管路，用於引導另一部分的該進入空氣流經該些第二發熱元件中的一後者並且不流經該些第一發熱元件與該些第二發熱元件的該前者。
2. 如申請專利範圍第1項所述之管路配置，其中一或多個該些第一管路與一或多個該些第二管路共用至少一共用壁。
3. 如申請專利範圍第1項所述之管路配置，其中一或多個該些第一管路包含複數個管路，其中該些管路的一第一部分繞過該些第二發熱元件的該前者。
4. 如申請專利範圍第3項所述之管路配置，其中該些管路的一第二部分包含將該些第二發熱元件的該前者與該些第一發熱元件的一前者分開的一或多個壁，其中該些管路的該第二部分包含至少一排氣口用以引導該些管路的該第二部分內的空氣朝向該些第二發熱元件的該後者。
5. 如申請專利範圍第4項所述之管路配置，其中一或多個該些第二管路位於該些管路的該第一部分與該些管路的該第二部分之間。
6. 一種運算裝置中的管路配置，具有處於相對於一進入空氣的一遮蔽配置中的複數個第一發熱元件與複數個第二發熱元件，該些第一發熱元件位於相鄰於該些第一發熱元件的該運算裝置中，該管路配置包含：一第一管路，用於引導一部分的該進入空氣流經該些第一發熱元件中的一後者以及該些第二發熱元件中的一前者；一第二管路，用於引導另一部分的該進入空氣流經該些第二發熱元件中的一後者並且不流經該些第一發熱元件與該些第二發熱元件的該前者；以及一第三管路，用於引導又一部分的該進入空氣流經該些第一發熱元件中的該後者並且不流經該些第一發熱元件的一前者與該些第二發熱元件。
7. 如申請專利範圍第6項所述之管路配置，其中該第一管路與該第二管路共用至少一共用壁。
8. 如申請專利範圍第6項所述之管路配置，其中該第二管路與該第三管路共用至少一共用壁。
9. 如申請專利範圍第6項所述之管路配置，其中該第一管路包含將該些第二發熱元件的該前者與該些第一發熱元件的該前者分開的一或多個壁，其中該第一管路包含至少一排氣口用以引導該第一管路內的空氣朝向該些第二發熱元件的該後者。
10. 如申請專利範圍第6項所述之管路配置，其中該第二管路位於該第一管路與該第三管路之間。