TWI670571B - 製造凸紋影像印刷元件之方法及印刷元件 - Google Patents

製造凸紋影像印刷元件之方法及印刷元件 Download PDF

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Abstract

一種製造包含複數個凸紋印刷網點的凸紋影像印刷元件之方法。該方法包括下列步驟：(a)提供至少一層配置在一基材上的光可硬化層，該至少一層光可硬化層能在曝露至光化輻射後選擇性交聯及硬化；(b)將該至少一層光可硬化層逐影像曝露至光化輻射以選擇性交聯及硬化該至少一層光可硬化層的部分；及(c)顯影該凸紋影像印刷元件以分開及移除該至少一層光可硬化層之未交聯及未硬化的部分，以顯露出在其中的凸紋影像。該至少一層光可硬化層包含(i)一乙烯化不飽和單體；(ii)一黏著劑；及(iii)一光起始劑，其在波長365奈米下具有初始量子產率(Qi)多於0.05。該基材在365奈米至450奈米之波長範圍內具有光學密度0.5至5，但是較佳為允許在365奈米至450奈米之波長範圍內的入射光之穿透率係0.1%至10%。

Description

製造凸紋影像印刷元件之方法及印刷元件
本發明廣泛關於一種用以製造具有改良的儲存安定性的柔版印刷板之印刷板調配物。
柔版印刷係一種通常使用於大量運轉的印刷方法。柔版印刷係使用來在多種基材上進行印刷，諸如紙、紙板存料(paperboard stock)、瓦楞紙板、膜、箔及積層板。新聞紙及折疊紙袋係顯著實施例。粗糙表面及拉伸膜可僅藉由柔版印刷經濟地進行印刷。柔版印刷板係一在開放區域上建立有影像元素的凸紋板。通常來說，該板稍微軟及可撓而足以繞著印刷滾筒纏繞，且足夠耐用以便印刷出百萬個複製品。此板對印刷機提供一些優點，主要基於其耐久性及可容易製得性。
典型的柔版印刷板如由其製造商所遞送時係一多層物件，其依序由一支架或支撐層、一或多層未曝光的光可硬化層、選擇性一保護層或滑膜及經常一保護蓋片製得。
該支撐薄片或支架層對該板提供支撐。較佳的支架層材料包括從合成的聚合物材料製得之薄片，諸如聚酯、聚苯乙烯、聚烯烴、聚醯胺及其類似物。通常來說，最廣泛使用的支撐層係可撓的聚對酞酸乙二酯膜。該支撐薄片可選擇性包含一黏著層用以更穩固地接附至該光可硬化層。亦可選擇性在該支撐層與該一或多層光可硬化層間提供一抗暈層。該抗暈層係使用來最小化由UV光在該光硬化樹脂層的非影像區域中之散射所造成的光暈。對大部分柔版應用來說，該支撐層係透明，特別是當想要在該印刷板中建立一光聚合物底層時。
該光可硬化層包括光聚合物、單體、起始劑、反應性或非反應性稀釋劑、充填劑及染料。用語「光硬化」指為一因應光化輻射進行聚合、交聯或任何其它固化或硬化反應之組成物，且結果為可選擇性地從已曝光(硬化)部分，分開及移除該材料的未曝光部分，而形成一硬化材料的三維凸紋圖案。較佳的光可硬化材料包括彈性體化合物、具有至少一個終端乙烯基團之乙烯化不飽和化合物及光起始劑。該光可硬化材料係揭示例如在Goss等人的歐洲專利申請案案號0 456 336 A2及0 640 878 A1；Berrier等人的英國專利案號1,366,769、美國專利案號5,223,375；MacLahan的美國專利案號3,867,153；Allen的美國專利案號4,264,705；Chen等人的美國專利案號4,323,636、4,323,637、4,369,246及4,423,135；Holden等人的美國專利案號3,265,765；Heinz等人的美國專利案號4,320,188；Gruetzmacher等人的美國專利案號4,427,759；Min的美 國專利案號4,622,088；及Bohm等人的美國專利案號5,135,827中，其每篇之標的全文於此以參考方式併入本文。可使用多於一種光可硬化層。
該光可硬化材料通常在至少某些光化波長範圍內透過自由基聚合來交聯(固化)及硬化。所使用的輻射型式係與在該光可聚合層中的光起始劑型式相依。如於本文中所使用，光化輻射係一種能影響在該光可硬化層材料的曝光部分中的化學變化之輻射。該光化輻射包括例如放大式(例如，雷射)及非放大式光，特別在UV及紫光波長範圍內。可於此曝光步驟中使用任何習知的光化輻射來源，包括例如碳弧、汞蒸氣弧、螢光燈、電子閃光單元、電子束單元及攝影泛光燈。
該滑膜係一薄層，其保護該光聚合物遠離粉塵且增加其處理容易性。在習知的(「類比」)製板方法中，該滑膜對UV光係透明。在此方法中，印刷機會將覆蓋片剝離該印刷板坯，及將一負片放在該滑膜層頂端上。然後，透過負片讓該板與負片接受UV光泛曝光(flood-exposure)。該已曝露至光的區域會固化或硬化，及移除(顯影)未曝光區域以在該印刷板上產生凸紋影像。亦可使用粗面化層取代滑膜來改良該板處理的容易性。該粗面化層典型包含懸浮在水性黏著劑溶液中的細粒子(二氧化矽或類似物)。將該粗面化層塗佈到該光聚合物層上，然後允許空氣乾燥。然後，將負片放在該粗面化層上用於隨後該光可硬化層的UV泛曝光。
在「數位」或「直接至板(direct to plate)」 製板方法中，藉由貯存在電子資料檔中的影像來導引雷射，及使用其來數位產生一原位負片(即，雷射剝蝕)遮罩層，其中該遮罩層通常為一已經修改而包括輻射不透明材料的滑膜。藉由將該遮罩層曝露至雷射波長及功率係經選擇的雷射輻射來剝蝕該雷射剝蝕層的部分。該雷射剝蝕層之實施例係例如揭示在Yang等人的美國專利案號5,925,500及Fan的美國專利案號5,262,275及6,238,837中，其每篇之標的全文於此以參考方式併入本文。
在成像後，顯影該感光性印刷元件以移除該光可硬化材料層之未聚合的部分及顯露出在該硬化的感光性印刷元件中之交聯的凸紋影像。典型的顯影方法包括以多種溶劑或水來清洗該印刷元件，經常使用刷子。其它顯影的可能性包括使用氣刀或熱加上吸墨紙。所產生的表面具有一凸紋圖案，其將再現出欲印刷的影像，該影像典型包括實心區域及包含複數個凸紋印刷網點之圖形化區域二者。在該凸紋影像經顯影後，可將該印刷元件裝配在印刷機上及開始印刷。
亦可在成像該感光性印刷元件前(或立即在成像該感光性印刷元件後)進行一「背面曝光」步驟。「背面曝光」指為該光可聚合層在與確實或最終將承載該凸紋相反的邊上毯覆曝露(blanket exposure)至光化輻射。此步驟典型透過一透明支撐層達成及使用來在該光可硬化層的支撐邊上產生一光硬化材料淺層，即，「底層」。該底層之目的通常為敏化該光可硬化層及建立該凸紋的 深度。
除了別的因子以外，網點之形狀及凸紋之深度會影響所印刷的影像之品質。非常難以使用柔版印刷板印刷出小圖形元素諸如細網點、線及甚至文字，同時維持開放反轉(open reverse)文字及陰影。於連續色調影像之半色調網表示中，在影像的最亮區域(通常指為明亮部分)中，該影像之密度係由總網點面積表示出。對振幅調變(AM)網來說，此涉及將複數個位於固定式週期性格柵上之半色調網點收縮成非常小的尺寸，該明亮部分的密度係由該網點之面積表示。對頻率調變(FM)網來說，該半色調網點之尺寸通常維持在某些固定值，及隨機或虛擬隨機放置的網點數目代表影像密度。在二者例子中，皆需要印刷非常小的網點尺寸來適當地表示出該明亮區域。
由於該製板方法的本質，在柔版板上維持小網點會非常困難。在使用UV不透明的遮罩層之數位製板方法中，該遮罩與UV曝光組合產生具有通常圓錐形狀的凸紋網點。這些最小網點易於在加工期間被移除，此意謂著在印刷期間並無油墨被轉移至這些區域(該網點未「被保留」在板上及/或在印刷機上)。任擇地，若該網點於加工時倖存，它們也易在印刷機上受損傷。例如，小網點在印刷期間經常摺疊及/或部分崩解而造成過量油墨或並無油墨被轉移。
再者，光可硬化樹脂組成物典型透過在曝露至光化輻射後之自由基聚合而硬化。但是，該硬化反應 可受典型溶解在該樹脂組成物中的分子氧抑制，因為氧作用為自由基清除劑。因此，想要在逐影像曝光前，移除該樹脂組成物中溶解的氧及/或終止大氣氧溶解在該樹脂中，以便該光可硬化樹脂組成物可更快速及均勻地硬化。
可以多種方法達成溶解的氧之移除。例如，可在曝光前將該感光性樹脂板放置在惰性氣體諸如二氧化碳氣體或氮氣環境中來置換該溶解的氧。另一種方法包括讓該板接受光化輻射的預備曝光(preliminary exposure)(即，「無網曝光」)。在無網曝光期間，於該板接受較高強度主要曝光劑量的光化輻射前，使用低強度「預曝光」劑量的光化輻射來敏化該樹脂。將該無網曝光施加至整體板區域，且該無網曝光係該板的短、低劑量曝光，其會降低將抑制該板(或其它印刷元件)之光聚合的氧濃度，及輔助在完成的板上保存細微特徵(即，明亮網點、細線、分隔網點等等)。其它成果已包括單獨的特別板調配物或與該無網曝光組合。
Recchia的美國專利公開案號2014/0141378，其標的於此全文以參考方式併入本文，其描述出一種以數位製板方法來成像一光可硬化印刷坯之方法，其包括下列步驟：將一氧阻障薄膜積層至一經雷射剝蝕的遮罩層頂端，及透過該氧阻障薄膜與遮罩層將該印刷坯曝露至光化輻射以選擇性交聯及硬化該至少一層光可硬化層之部分。在顯影步驟前移除該氧阻障薄膜。該氧阻障薄膜之存在產生具有想要的特徵之印刷網點。該方法亦可 使用類比製板方法，其使用負片取代剝蝕遮罩層，或在另一種方法中，可將該負片其自身使用作為該氧阻障層。
Baldwin的美國專利公開案號2014/005/7207，其標的於此全文以參考方式併入本文，其描述出在選擇性交聯及硬化片狀光聚合物時，使用一或多種UV LED組合可產生一包含具有想要的幾何特徵之柔版印刷網點的凸紋影像。
如在Recchia的美國專利案號8,158,331及Recchia的美國專利公開案號2011/0079158等等中所描述，其每篇之標的於此全文以參考方式併入本文，已發現特別的幾何特徵設定將界定出一產生優異的印刷性能之柔版網點形狀，其包括但不限於：(1)網點表面的平面性；(2)網點的肩角(shoulder angle)；(3)在網點間之凸紋深度；及(4)在網點頂端過渡至網點肩部之位置處的邊緣清晰度。
典型數位成像方法所成像之柔版板趨向於產生具有圓磨頂端的網點。從印刷觀點來看，圓磨的網點表面不理想，因為在印刷表面與網點間之接觸區塊的尺寸會隨著壓印力量而呈指數變化。比較上，特別對在明亮範圍內的網點(0-10%色調)來說，平面網點表面應該在合理的壓印範圍內具有相同的接觸區塊尺寸，因此較佳。
第二參數係該網點肩部之角度。同樣地，該肩角可依網點尺寸而變化。在肩角上有二種競爭性幾何約束，網點安定性及壓印靈敏度。大肩角會最小化壓印靈敏度及在印刷機上提供最寬的操作窗口，但是其代價 為網點安定性及耐久性。比較上，較低的肩角改良網點安定性，但是使得網點對在印刷機上的壓印更敏感。
第三參數為板凸紋，其係以在該板的底層與實心凸紋的頂端間之距離來表示。該網點凸紋某些程度係與該網點的肩角關連。
第四特徵為在該平面網點頂端與肩部間存在有良好界定的邊界。使用標準數位柔版光聚合物成像方法製得的網點趨向於具有圓磨的網點邊緣。通常較佳的是，該網點邊緣清晰及經界定。這些良好界定的網點邊緣較好地分開該網點的「印刷」部分與「支撐」部分，允許在印刷期間於該網點與基材間有更一致的接觸區域。該邊緣清晰度可定義為曲率半徑(在該網點的肩部與頂端之相交處)re與該網點的頂端或印刷表面之寬度p的比率，如例如在Recchia的美國專利案號8,158,331及Recchia等人的美國專利公開案號2011/0079158中所描述，其每篇的標的於此全文以參考方式併入本文。對真實圓磨尖端的網點來說，難以界定出精確的印刷表面，因為在普通了解的觀念上其沒有真實的邊緣及re：p之比率可接近50%。比較上，邊緣清晰的網點將具有非常小的re值及re：p將接近零。實務上，re：p小於5%係較佳，且re：p小於2%最佳。
在追求具有改良的形狀及改良的印刷性能之印刷網點上，已經引進具有特別的化學及性能特徵之光起始劑的光聚合物印刷板。但是，這些新種類的光起始劑已產生出對正常週圍日光及正常室內螢光照明具有增 加的靈敏度之印刷板。這些新印刷板具有於正常週圍日光及/或室內螢光照明存在下相當快速硬化的趨勢。
本發明之目標為提供一種用以製造柔版凸紋影像印刷元件之經改良的光可硬化組成物，其中該元件能產生具有想要的幾何特徵之印刷網點。
本發明的另一個目標為提供一種製造具有想要的幾何特徵之印刷網點的凸紋影像印刷元件之方法，其在該製造方法中不需要額外的製程步驟。
本發明的又另一個目標為提供一種製造凸紋影像印刷元件之方法，其不需要在該曝光步驟期間改變輻射的型式、功率及入射角。
本發明的又另一個目標為提供一種製造凸紋影像印刷元件的方法，其可於大氣氧存在下進行，同時製造出具有想要的幾何特徵之印刷網點。
本發明的又另一個目標為提供一種具有經改良的硬化效率之經改良的感光性印刷板調配物。
本發明的又另一個目標為提供一種於正常週圍日光及/或室內螢光照明存在下具有經改良的安定性之經改良的感光性印刷板。
為此目的，在一個具體實例中，本發明通常關於一種用以製造凸紋影像印刷元件之光可硬化組成物，該光可硬化組成物包含：a)乙烯化不飽和單體；b)黏著劑； c)光起始劑，該光起始劑較佳為在波長365奈米下具有初始量子產率(Qi)多於0.05；將該光可硬化組成物配置在一於365奈米至450奈米之波長範圍內具有光學密度0.5至5的基材上，但是亦較佳為允許在356奈米至450奈米之波長範圍內的入射光之穿透率係0.1%至10%。
在另一個具體實例中，本發明通常關於一種製造凸紋影像印刷元件的方法，該方法包含下列步驟：a)提供至少一層配置在一基材上的光可硬化層，該至少一層光可硬化層能在曝露至光化輻射後選擇性交聯及硬化，該至少一層光可硬化層包含：i)乙烯化不飽和單體；ii)黏著劑；iii)光起始劑，該光起始劑較佳為在波長365奈米下具有初始量子產率(Qi)多於0.05；將該至少一層光可硬化層配置在一於365奈米至450奈米之波長範圍內具有光學密度0.5至5的基材上，但是亦較佳為允許在365奈米至45奈米之波長範圍內的入射光之穿透率係0.1%至10%；b)將該至少一層光可硬化層逐影像曝露至光化輻射，以選擇性交聯及硬化該至少一層光可硬化層的部分；及c)顯影該凸紋影像印刷元件以分開及移除該至少一層光可硬化層之未交聯及未硬化的部分，以顯露出在其中的凸紋影像； 其中該凸紋影像包含複數個凸紋影像印刷網點，其中該複數個凸紋影像印刷網點具有該網點的邊緣清晰度，如此在該網點的肩部與頂端表面之相交處的曲率半徑re對該網點的頂端寬度p之比率係小於5%。
圖1描出根據本發明，使用不同光起始劑所製造的印刷網點。
本發明之發明人已發現在光可硬化的印刷板組成物中使用特別的光起始劑能不需要額外的製程步驟而製造出具有想要的幾何特徵之印刷網點。因此，於本文中所描述的光可硬化組成物能不需要阻障層而製造出具有想要的幾何特徵之印刷網點的凸紋影像印刷板。此外，於本文中所描述出的方法亦可於大氣氧存在下進行。最後，於本文中所描述的印刷板在加工前，於正常週圍日光及室內螢光照明存在下具有好的安定性。
為此目的，在一個具體實例中，本發明通常關於一種製造凸紋影像印刷元件的方法，該方法包含下列步驟：a)提供至少一層配置在基材上的光可硬化層，該至少一層光可硬化層能在曝露至光化輻射後選擇性交聯及硬化，該至少一層光可硬化層包含：i)乙烯化不飽和單體；ii)黏著劑；iii)光起始劑，該光起始劑較佳為在波長365奈米 下具有初始量子產率(Qi)多於0.05；將該至少一層光可硬化層配置在一於365奈米至450奈米之波長範圍內具有光學密度0.5至5的基材上，但是亦較佳為允許在365奈米至450奈米之波長範圍內的入射光之穿透率係0.1%至10%。
b)將該至少一層光可硬化層逐影像曝露至光化輻射以選擇性交聯及硬化該至少一層光可硬化層的部分；及c)顯影該凸紋影像印刷元件以分開及移除該至少一層光可硬化層之未交聯及未硬化的部分，以顯露出在其中的凸紋影像；其中該凸紋影像包含複數個凸紋影像印刷網點，其中該複數個凸紋影像印刷網點具有該網點的邊緣清晰度，如此在該網點的肩部與頂端表面之相交處的曲率半徑re對該網點的頂端寬度p之比率係小於5%。
本發明通常亦關於一種用以製造凸紋影像印刷元件的光可硬化組成物，該光可硬化組成物包含：a)乙烯化不飽和單體；b)黏著劑；c)光起始劑，該光起始劑較佳為在波長365奈米下具有初始量子產率(Qi)多於0.05；將該光可硬化組成物配置在一於365奈米至450奈米之波長範圍內具有光學密度0.5至5的基材，但是亦較佳為允許在365奈米至450奈米之波長範圍內的入射光之穿透率係0.1%至10%。
本發明之發明人已發現該具有較高初始量子產率的光可硬化組成物內含特別的光起始劑會製造出具有較細及較清晰的印刷網點之印刷元件。在一個具體實例中，這些光起始劑可包含某些α-胺基酮。
測量該聚合的初始速率(Ri)以評估多種光起始劑之適合性，其可藉由即時FTIR或RTIR進行。
Ri係由方程式1描述：(1)Ri=Ia˙Qi
Ia係吸收強度(毫瓦)及如在下列方程式2中所提出般計算。
Qi係初始量子產率及係定義為每個所吸收的光子初始聚合化之鏈數目。Qi係受全部的光化學/物理現象影響，其可在吸收一個光子後影響激發的分子。
(2)Ia=I0˙(1-10-OD)
(3)OD=ε˙[PI]˙L
其中：I0=入射強度(毫瓦)
ε=消光係數
[PI]=光起始劑濃度(莫耳/升)
L=厚度(公分)
Qi係經由實驗決定的聚合速率(Rp)及使用在文獻中找到的丙烯酸酯單體之傳播及終止常數(kp及kt)來計算。
為了光起始劑能有效反應，首先必需有效吸收該工作波長，此意謂著高Ia，因此高ε值。然後，所吸收的能量必需以高初始自由基數目進行轉換，其產生 高Qi比率。
為了比較多種光起始劑，測定三種光起始劑在365奈米下的ε及Qi及結果描述在表1中。
使用於表1中所描述的光起始劑，在表2所提出之濃度下製備印刷板調配物。表2亦列出可使用於該樣品光可硬化組成物的每種成份之濃度值範圍。
一旦使用上述光起始劑來製備該光可硬化組成物，將該光可硬化組成物逐影像曝露至光化輻射，然後使用溶劑顯影劑進行顯影以移除未硬化的光聚合物。
以結果為基準，已決定初始量子產率(Qi)在波長365奈米下高於約0.05，更佳為在波長365奈米下高於約0.075及最佳為在波長365奈米下高於約0.08能 製造出一具有想要的幾何特徵之印刷網點的印刷板，如在圖1中所闡明。
高消光係數亦係必需，但是對好的初始化來說，其自身係不足。更確切來說，在吸收光後，該光起始劑被提升至其單重態然後三重態，從此其可進行不同反應，包括產生自由基、由單體猝滅、氧抑制及熱失活。在此階段下，甚至對高消光係數分子來說，已有該光起始劑有效性減低的風險。假設每件事皆順利及自由基產生佔優勢，所產生的自由基型式仍然可依其反應性而對氧具有不同靈敏度。再次，若這些自由基具有足夠長的壽命使其對氧太敏感，因此減低其在初始化該交聯反應時的有效性時，高消光係數將不一定足夠。
因此，想要該消光係數在波長365奈米下高於約300公升˙公分-1˙莫耳-1，更佳為在波長365奈米下高於約400公升˙公分-1˙莫耳-1，及最佳為在波長365奈米下高於約500公升˙公分-1˙莫耳-1。
以顯示在表1中的Qi及ε值為基準，1-丁酮-2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎福啉基)苯基]及氧化二苯基(2,4,6-三甲基苄醯基)膦二者係比2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮快的光起始劑。此說明使用這些產物將獲得較小及較清晰的網點，如顯示在圖1中。此外，雖然氧化二苯基(2,4,6-三甲基苄醯基)膦具有比1-丁酮-2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎福啉基)苯基]稍微大的Qi，但後者的吸收度更高，此允許其抵銷此差異及產生較清晰的網點。因 此，即使1-丁酮-2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎福啉基)苯基]及氧化二苯基(2,4,6-三甲基苄醯基)膦二者產生好的結果，1-丁酮-2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎福啉基)苯基]似乎比氧化二苯基(2,4,6-三甲基苄醯基)膦快。
如可從圖1看見，1-丁酮-2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎福啉基)苯基]及氧化二苯基(2,4,6-三甲基苄醯基)膦因為其高初始速率，由於其高吸收度及初始量子產率而產生平坦且細的網點。已預計其它具有相當性質之光起始劑亦將產生類似行為。
此外，亦可在本發明之組成物中使用一或多種抗氧化劑與上述參照的添加劑組合，以就網點角度、網點頂端等等來進一步修改網點形狀，其中該抗氧化劑有諸如1,3,5-三甲基-2,4,6-参(3,5-二-三級丁基-4-羥基苄基)苯、丁基化的羥基甲苯(BHT)；烷基化的酚，例如，2,6-二-三級丁基-4-甲基酚；烷基化的雙酚，例如，2,2-亞甲基-雙-(4-甲基-6-三級丁基酚)；2-(4-羥基-3,5-二-三級丁基苯胺基)-4,6-雙-(正辛基硫)-1,3,5-三；聚合的三甲基二氫醌；及硫代丙酸二月桂酯。在一個較佳具體實例中，該抗氧化劑係1,3,5-三甲基-2,4,6-参-(3,5-二-三級丁基-4-羥基苄基)苯，其可從Albemarle以Ethanox 330之商品名獲得。
本發明之光可硬化組成物包含一或多種黏著劑、單體及塑化劑與一或多種上述光起始劑組合。
該黏著劑型式對該光聚合物組成物非為關鍵，及若非全部的話，大部分的苯乙烯共聚物橡膠皆可使用在本發明之組成物中。合適的黏著劑可包括天然或合成的共軛二烯烴聚合物，包括1,2-聚丁二烯、1,4-聚丁二烯、丁二烯/丙烯腈、丁二烯/苯乙烯；熱塑性-彈性體嵌段共聚物，例如，苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物、苯乙烯-異戊二烯-苯乙烯嵌段共聚物等等；及該黏著劑之共聚物。通常較佳的是，該黏著劑之存在量係該感光層的至少60重量%。如於本文中所使用，用語「黏著劑」亦包括核殼型微凝膠或微凝膠與預形成的大分子聚合物之摻合物。
可使用在本發明之組成物中的黏著劑之非為限制的實施例包括苯乙烯異戊二烯苯乙烯(SIS)，其可從Kraton Polymer，LLC以Kraton®D1161之商品名獲得之商業產物；苯乙烯異戊二烯丁二烯苯乙烯(SIBS)，其可從Kraton Polymer，LLC以Kraton®D1171之商品名獲得之商業產物；苯乙烯丁二烯苯乙烯(SBS)，其可從Kraton Polymer，LLC以Kraton®DX405之商品名獲得之商業產物；及以苯乙烯及異戊二烯為主的三嵌段共聚物，其可從Kraton Polymer，LLC以Kraton®D1114之商品名獲得之商業產物。
合適於使用在本發明中的單體係可加成聚合的乙烯化不飽和化合物。該光可硬化組成物可包括單一單體或單體混合物，其與該黏著劑形成相容混合物以製造一透明(即，非混濁)的感光層。典型來說，該單體係 反應性單體，特別是丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯。此反應性單體包括但不限於三丙烯酸三羥甲基丙烷酯、二丙烯酸己二醇酯、二丙烯酸1,3-丁二醇酯、二丙烯酸二甘醇酯、二丙烯酸1,6-己二醇酯、二丙烯酸新戊二醇酯、聚乙二醇-200二丙烯酸酯、二丙烯酸四甘醇酯、二丙烯酸三甘醇酯、四丙烯酸新戊四醇酯、二丙烯酸三丙二醇酯、乙氧基化的雙酚-A二丙烯酸酯、三丙烯酸三羥甲基丙烷酯、四丙烯酸二羥甲基丙烷酯、参(羥乙基)異氰脲酸酯(isocyanurate)的三丙烯酸酯、羥基五丙烯酸二新戊四醇酯、三丙烯酸新戊四醇酯、乙氧基化的三丙烯酸三羥甲基丙烷酯、二甲基丙烯酸三甘醇酯、二甲基丙烯酸乙二醇酯、二甲基丙烯酸四甘醇酯、聚乙二醇-200二甲基丙烯酸酯、二甲基丙烯酸1,6-己二醇酯、二甲基丙烯酸新戊二醇酯、聚乙二醇-600二甲基丙烯酸酯、二甲基丙烯酸1,3-丁二醇酯、乙氧基化的雙酚-A二甲基丙烯酸酯、三甲基丙烯酸三羥甲基丙烷酯、二甲基丙烯酸二甘醇酯、二丙烯酸1,4-丁二醇酯、二甲基丙烯酸二甘醇酯、四甲基丙烯酸新戊四醇酯、二甲基丙烯酸甘油酯、二甲基丙烯酸三羥甲基丙烷酯、三甲基丙烯酸新戊四醇酯、二甲基丙烯酸新戊四醇酯、二丙烯酸新戊四醇酯、胺基甲酸酯甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯寡聚物及其類似物，其可加入至該光可聚合組成物以修改該硬化產物。在實行本發明時，亦可使用單丙烯酸酯，包括例如，丙烯酸環己酯、丙烯酸異莰酯、丙烯酸月桂酯及丙烯酸四氫糠酯及相應的甲基丙烯酸酯。特別佳的丙烯酸酯單體包括二 丙烯酸己二醇酯(HDDA)及三丙烯酸三羥甲基丙烷酯(TMPTA)。特別佳的甲基丙烯酸酯單體包括二甲基丙烯酸己二醇酯(HDDMA)及三甲基丙烯酸三羥甲基丙烷酯(TMPTA)。通常較佳的是，該一或多種單體之存在量係至少5重量%的感光層。
較佳的是，該光可硬化層亦包括一相容的塑化劑，提供其以降低該黏著劑的玻璃轉換溫度及促進選擇性顯影。合適的塑化劑包括但不限於酞酸二烷酯、磷酸烷酯、聚乙二醇、聚乙二醇酯類、聚乙二醇醚類、聚丁二烯、聚丁二烯苯乙烯共聚物、氫化的重環烷油、氫化的重石蠟油及聚異戊二烯類。其它有用的塑化劑包括油酸、月桂酸等等。該塑化劑通常的存在量係至少10重量%，以該光聚合物組成物的總固體重量為基準。使用在本發明的組成物中之可商業購得的塑化劑包括1,2-聚丁二烯，其可從Nippon Soda Co.以Nisso PB B-1000之商品名獲得；Ricon 183，其係聚丁二烯苯乙烯共聚物，可從Cray Valley獲得；Nyflex 222B，其係氫化的重環烷油，可從Nynas AB獲得；ParaLux 2401，其係氫化的重石蠟油，可從Chevron U.S.A.，Inc.獲得；及Isolene 40-S，其係聚異戊二烯，可從Royal Elastomers獲得。
在實行本發明時，亦可選擇性使用多種染料及/或著色劑，然而不需要內含染料及/或著色劑來獲得本發明的利益。合適的著色劑有經設計不會吸收在可活化存在於該組成物中的起始劑之光譜區域中的光化輻射之「窗戶染料(window dyes)」。該著色劑包括例如CI 109 Red染料、亞甲紫(CI鹼性紫5)、「Luxol.」堅牢藍MBSN(CI溶劑藍38)、「Pontacyl」羊毛藍BL(CI酸性藍59或CI 50315)、「Pontacyl」羊毛藍GL(CI酸性藍102或CI 50320)、Victoria Pure Blue BO(CI鹼性藍7或CI 42595)、玫瑰紅3 GO(CI鹼性紅4)、玫瑰紅6 GDN(CI鹼性紅I或CI 45160)、1,1’-二乙基-2,2’-花青碘、品紅染料(CI 42510)、Calcocid Green S(CI 44090)及蒽醌藍2 GA(CI酸性藍58)等等。該染料及/或著色劑必需不會妨礙該逐影像曝光。
亦可依想要的最後性質在該光可聚合組成物中包括其它添加劑，包括抗臭氧劑、充填劑或補強劑、熱聚合抑制劑、UV吸收劑等等。此等添加劑通常在技藝中熟知。
合適的充填劑及/或補強劑包括不能相混合的聚合或非聚合性有機或無機充填劑或補強劑，其在使用來曝光該光聚合物材料的波長下實質上透明及不會散射光化輻射，其有例如聚苯乙烯、親有機物的二氧化矽、膨土、二氧化矽、粉狀玻璃、膠體碳、和多種型式的染料及顏料。此材料的使用量係隨著該彈性體組成物之想要的性質而變化。該充填劑有用於改良該彈性體層的強度、減低黏性及此外，作為著色劑。
該熱聚合抑制劑包括例如對-甲氧基酚、氫醌、及經烷基及芳基取代的氫醌及醌、三級丁基兒茶酚、五倍子酚、樹脂酸銅、萘亞甲基胺類(naphthalamines)、β-萘酚、氯化亞銅、2,6-二-三級丁基-對-甲酚、丁基化 的羥基甲苯(BHT)、草酸、啡噻、吡啶、硝基苯及二硝基苯、對-甲醌及氯冉。在實行本發明時，將亦可使用其它類似的聚合抑制劑。
使用於本文中所描述的光起始劑可製造出具有能印刷出想要的幾何特徵之印刷網點的印刷板，包括網點頂端表面的平面性及網點的邊緣清晰度。再者，可沒有在該方法中使用氧阻障層且沒有改變在曝光步驟期間的輻射型式、功率或入射角而達成這些想要的特徵。最後，於本文中所描述的方法亦可於大氣氧存在下進行，此意謂著在進行該方法的場所處之正常大氣空氣及正常大氣氧濃度。因此，不需要特別控制進行該方法的環境氣體內容。
使用具有於本文中描述的特徵之光起始劑驚人地產生一明顯比典型的印刷元件對正常週圍日光及/或室內螢光照明更敏感之印刷元件。此靈敏度會造成較短的閑置壽命、不可預測的儲存安定性及需要在加工期間更小心地操作該印刷元件。本發明人已發現這些印刷元件的儲存安定性實質上可藉由使用在365奈米至450奈米之波長範圍內具有光學密度0.5至5，更佳為1至5的基材而增加，但是亦較佳為允許在365至450之波長範圍內的入射光之穿透率係0.1%至10%。此亦增加該印刷元件的閑置壽命及允許於週圍光存在下較易處理。此亦允許透過將該印刷元件曝露至通過該基材的光化輻射建立一底層。再者，對最好的儲存安定性來說，本發明人亦已決定該印刷元件應該貯存在其盒子中，且該吸收 基材面向該盒子的開口。
如所提到，將本文所描述的光可硬化組成物配置在一基材上。根據本發明，該基材應該在365奈米至450奈米之波長範圍內具有光學密度0.5至5，更佳為1至5。但是，該基材層較佳為應該允許在365奈米至450奈米之波長範圍內通過該基材進入該光可硬化層組成物中的入射光之穿透率係0.1%至10%。光學密度係通過一物質的光衰減之標準度量。光學密度報導出具體指定波長範圍的光之衰減量的級數。如此例如，光學密度1意謂著在所選擇的波長範圍內之光強度(能量)在通過該基材時的衰減因子係10，及光學密度2報導出在所選擇的波長範圍內之光強度(能量)在通過該基材時的衰減因子係102。該基材較佳為一可撓聚合物薄片，及最佳為聚對酞酸乙二酯(PET)。為了達成由本發明所要求之所需要的光學密度，該可撓聚合物或PET應該摻雜一在365奈米至450奈米之經選擇的波長範圍內的UV光吸收劑。可使用來摻雜該可撓聚合物基材以增加其光學密度之紫外光吸收化合物包括二苯基酮類、苯甲酸二乙基胺基羥基苄醯基己基酯、乙基己基三酮、二苯甲酮(oxybenzone)、甲氧基肉桂酸辛酯(octinoxate)、氰雙苯丙烯酸辛酯(octocrylene)、PABA及舒利苯酮(sulisobenzone)。商業上，多個公司有出售UV吸收化合物，包括BASF以Uvinul®之商品名出售。這些UV吸收劑具強烈吸收性，如此在該可撓聚合物或PET中非常低的濃度將實質上增加其光學密度。

Claims (21)

  1. 一種製造包含複數個凸紋印刷網點(relief printing dots)的凸紋影像印刷元件之方法，該方法包含下列步驟：a)提供至少一層配置在一基材上的光可硬化層，該至少一層光可硬化層能在曝露至光化輻射後選擇性交聯及硬化，該至少一層光可硬化層包含：i)乙烯化不飽和單體；ii)黏著劑；及iii)光起始劑，該光起始劑在波長365奈米下具有初始量子產率(Qi)多於0.05；其中該基材包含在其中併入紫外光吸收化合物的可撓聚合物薄片，且該基板在365奈米至450奈米之波長範圍內具有光學密度0.5至5，但是允許在365奈米至450奈米之波長範圍內的入射光之穿透率係0.1%至10%；b)將該至少一層光可硬化層逐影像曝露至光化輻射，以選擇性交聯及硬化該至少一層光可硬化層的部分；及c)顯影該凸紋影像印刷元件，以分開及移除該至少一層光可硬化層之未交聯及未硬化的部分，以顯露出在其中的凸紋影像，其中該凸紋影像包含複數個凸紋印刷網點；及其中該複數個凸紋印刷網點具有該網點的邊緣清晰度，如此在該網點的肩部與頂端表面之相交處的曲率半徑re對該網點的頂端寬度p之比率係少於5%。
  2. 如請求項1之方法，其中該將至少一層光可硬化層逐影像曝露至光化輻射的步驟係在進行該方法的場所處，於正常大氣氧濃度存在下進行。
  3. 如請求項1之方法，其中該光起始劑在波長365奈米下具有初始量子產率(Qi)大於0.075。
  4. 如請求項3之方法，其中該光起始劑在波長365奈米下具有初始量子產率(Qi)大於0.08。
  5. 如請求項1之方法，其中該光起始劑在波長365奈米下的消光係數係大於300公升‧公分-1‧莫耳-1。
  6. 如請求項5之方法，其中該光起始劑在波長365奈米下的消光係數係大於400公升‧公分-1‧莫耳-1。
  7. 如請求項6之方法，其中該光起始劑在波長365奈米下的消光係數係大於500公升‧公分-1‧莫耳-1。
  8. 如請求項1之方法，其中該光起始劑係選自於由下列所組成之群：1-丁酮-2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎福啉基)苯基]、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎福啉并苯基)-丁酮-1、氧化二苯基(2,4,6-三甲基苄醯基)膦、氧化苯基雙(2,4,6-三甲基苄醯基)膦及前述一或多種之組合。
  9. 如請求項1之方法，其中該光起始劑係以在1.5至5.0重量百分比間之濃度存在於該光可硬化層中。
  10. 如請求項9之方法，其中該光起始劑係以在2.0至3.5重量百分比間之濃度存在於該光可硬化層中。
  11. 如請求項1之方法，其中該基材具有光學密度1至5。
  12. 一種印刷元件，其包含：a)至少一層配置在一基材上的光可硬化層，該至少一層光可硬化層能在曝露至光化輻射後選擇性交聯及硬化，該至少一層光可硬化層包含：i)乙烯化不飽和單體；ii)黏著劑；及iii)光起始劑，該光起始劑在波長365奈米下具有初始量子產率(Qi)多於0.05；其中該基材包含在其中併入紫外光吸收化合物的可撓聚合物薄片，且該基板在365奈米至450奈米之波長範圍內具有光學密度0.5至5，但是亦允許在365奈米至450奈米之波長範圍內的入射光之穿透率係0.1%至10%。
  13. 如請求項12之印刷元件，其中該光起始劑在波長365奈米下具有初始量子產率(Qi)大於0.075。
  14. 如請求項13之印刷元件，其中該光起始劑在波長365奈米下具有初始量子產率(Qi)大於0.08。
  15. 如請求項12之印刷元件，其中該光起始劑在波長365奈米下的消光係數係大於300公升‧公分-1‧莫耳-1。
  16. 如請求項15之印刷元件，其中該光起始劑在波長365奈米下的消光係數係大於400公升‧公分-1‧莫耳-1。
  17. 如請求項16之印刷元件，其中該光起始劑在波長365奈米下的消光係數係大於500公升‧公分-1‧莫耳-1。
  18. 如請求項12之印刷元件，其中該光起始劑係選自於由下列所組成之群：1-丁酮-2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎福啉基)苯基]、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎福啉并苯基)-丁酮-1、氧化二苯基(2,4,6-三甲基苄醯基)膦、氧化苯基雙(2,4,6-三甲基苄醯基)膦及前述一或多種之組合。
  19. 如請求項12之印刷元件，其中該光起始劑係以在1.5至5.0重量百分比間之濃度存在於該光可硬化層中。
  20. 如請求項19之印刷元件，其中該光起始劑係以在2.0至3.5重量百分比間之濃度存在於該光可硬化層中。
  21. 如請求項12之印刷元件，其中該基材具有光學密度1至5。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11867711B2 (en) 2019-05-30 2024-01-09 Esko-Graphics Imaging Gmbh Process and apparatus for automatic measurement of density of photopolymer printing plates

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4587198A (en) * 1984-07-16 1986-05-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Dye transfer image process
TW201632992A (zh) * 2014-11-12 2016-09-16 麥克達米德印刷解法公司 具有提升硬化效能之柔版印刷板

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL288289A (zh) 1962-01-29
CA1099435A (en) 1971-04-01 1981-04-14 Gwendyline Y. Y. T. Chen Photosensitive block copolymer composition and elements
US4323636A (en) 1971-04-01 1982-04-06 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive block copolymer composition and elements
US3867153A (en) 1972-09-11 1975-02-18 Du Pont Photohardenable element
DE2942183A1 (de) 1979-10-18 1981-05-07 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Fotopolymerisierbare gemische und elemente daraus
US4264705A (en) 1979-12-26 1981-04-28 Uniroyal, Inc. Multilayered elastomeric printing plate
US4423135A (en) 1981-01-28 1983-12-27 E. I. Du Pont De Nemours & Co. Preparation of photosensitive block copolymer elements
US4427759A (en) 1982-01-21 1984-01-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for preparing an overcoated photopolymer printing plate
US4622088A (en) 1984-12-18 1986-11-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for preparing photopolymer flexographic element with melt extrusion coated elastomeric surface layer
DE4004512A1 (de) 1990-02-14 1991-08-22 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung von photopolymerplatten
NZ237919A (en) 1990-04-26 1994-09-27 Grace W R & Co Photocurable element comprising photocurable base layer and a photocurable printing layer which comprises two incompatible elastomeric polymers and a photopolymerisable monomer, base layer comprising elastomer, monomer and photoinitiator; relief printing plates
US5223375A (en) 1991-07-15 1993-06-29 W. R. Grace & Co.-Conn. Flexographic printing plate comprising photosensitive elastomer polymer composition
US5262275A (en) 1992-08-07 1993-11-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Flexographic printing element having an IR ablatable layer and process for making a flexographic printing plate
DE4339010C2 (de) 1993-06-25 2000-05-18 Pt Sub Inc Photohärtbares Erzeugnis für Druckplatten
JP3423077B2 (ja) 1993-08-25 2003-07-07 ダブリュ・アール・グレイス・アンド・カンパニー・コネテイカット 版面の製造方法
US6238837B1 (en) 1995-05-01 2001-05-29 E.I. Du Pont De Nemours And Company Flexographic element having an infrared ablatable layer
US6413699B1 (en) * 1999-10-11 2002-07-02 Macdermid Graphic Arts, Inc. UV-absorbing support layers and flexographic printing elements comprising same
JP2002196488A (ja) * 2000-12-27 2002-07-12 Sumitomo Chem Co Ltd カラーフィルター用着色感光性樹脂組成物
ES2381013T3 (es) * 2004-05-06 2012-05-22 Agfa Graphics N.V. Precursor de plancha de impresión de fotopolímero
US8034540B2 (en) * 2008-07-31 2011-10-11 Eastman Kodak Company System and method employing secondary back exposure of flexographic plate
US20100173135A1 (en) * 2009-01-06 2010-07-08 Jonghan Choi Method of Controlling Surface Roughness of a Flexographic Printing Plate
US8158331B2 (en) 2009-10-01 2012-04-17 Recchia David A Method of improving print performance in flexographic printing plates
US9720326B2 (en) 2009-10-01 2017-08-01 David A. Recchia Method of improving print performance in flexographic printing plates
CN102103322B (zh) * 2009-12-17 2012-08-08 乐凯集团第二胶片厂 一种计算机直接制版的柔性版及其制备方法
US8652761B2 (en) 2011-02-18 2014-02-18 David A. Recchia Photosensitive resin laminate and thermal processing of the same
US8551688B2 (en) * 2011-04-21 2013-10-08 Ryan W. Vest Photosensitive resin laminate and thermal processing of the same
WO2012158414A1 (en) * 2011-05-13 2012-11-22 3M Innovative Properties Company Back-lit transmissive display having variable index light extraction layer
US8524442B1 (en) * 2012-02-13 2013-09-03 David A. Recchia Integrated membrane lamination and UV exposure system and method of the same
US8808968B2 (en) * 2012-08-22 2014-08-19 Jonghan Choi Method of improving surface cure in digital flexographic printing plates
US8790864B2 (en) * 2012-08-27 2014-07-29 Kyle P. Baldwin Method of improving print performance in flexographic printing plates
US9477152B2 (en) 2012-09-27 2016-10-25 E I Du Pont De Nemours And Company Printing form precursor having indicia and a method for preparing a printing form from the precursor
US9040226B2 (en) * 2013-05-13 2015-05-26 Macdermid Printing Solutions, Llc Method of improving print performance in flexographic printing plates
ES2664762T3 (es) * 2013-09-18 2018-04-23 Flint Group Germany Gmbh Elemento de impresión flexográfica en donde puede realizarse la formación de imagen de forma digital y procedimiento para fabricar placas de impresión flexográfica
JP6331946B2 (ja) * 2014-10-08 2018-05-30 株式会社デンソー 固定子鉄心の製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4587198A (en) * 1984-07-16 1986-05-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Dye transfer image process
TW201632992A (zh) * 2014-11-12 2016-09-16 麥克達米德印刷解法公司 具有提升硬化效能之柔版印刷板

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