TWI659253B

TWI659253B - 顯示裝置

Info

Publication number: TWI659253B
Application number: TW107105105A
Authority: TW
Inventors: 黃聖淼; 黃郁升
Original assignee: 友達光電股份有限公司
Priority date: 2018-02-13
Filing date: 2018-02-13
Publication date: 2019-05-11
Also published as: CN108594513A; TW201935109A; CN108594513B; US20190250470A1

Abstract

一種顯示裝置，包括具有多個感應單元的顯示面板及電路板。各感應單元包括畫素陣列層、第一天線、平坦層、間隙物及顯示介質層。畫素陣列層位於第一基板上且包括多條掃描線、多條資料線及多個畫素結構。第一天線位於第一基板上，對應掃描線與資料線設置，且與資料線中的一者電性連接。平坦層位於與第一基板對向設置的第二基板上，且具有與第一天線於第一基板的法線方向上至少部分重疊的凹陷圖案。間隙物配置於平坦層上且往畫素陣列層延伸。顯示介質層設置於第一與第二基板之間。電路板位於顯示面板下且具有對應第一天線設置的多個第二天線。

Description

顯示裝置

本發明是有關於一種顯示裝置，且特別是有關於一種以無線傳輸傳遞訊號的顯示裝置。

近年來，隨著顯示技術的不斷進步，窄邊框的顯示裝置逐漸受到市場的重視，許多廠商致力於研發有關於窄邊框的相關技術。目前隨著對於解析度的要求提昇，顯示裝置可藉由增加閘極驅動器與源極驅動器的使用數目來配合，但卻會讓非顯示區（或稱為邊框）之面積變大。因此，如何省去使用閘極驅動器或源極驅動器來縮小其所使用的空間，實為研發者所欲達成的目標之一。

本發明提供一種顯示裝置，其能夠以無線傳輸傳遞畫素訊號，並避免影響兩基板間的間距而具有良好的顯示品質。

本發明的顯示裝置，包括顯示面板及電路板。顯示面板具有多個感應單元，每一感應單元包括畫素陣列層、第一天線、平坦層、至少一間隙物及顯示介質層。畫素陣列層配置於第一基板上，且包括多條掃描線、多條資料線以及多個畫素結構，其中每一畫素結構與該些掃描線的其中之一以及該些資料線的其中之一電性連接。第一天線配置於第一基板上且對應該些掃描線與該些資料線設置，其中第一天線與該些資料線的其中之一電性連接。平坦層配置於第二基板上，其中第二基板與第一基板對向設置；平坦層具有凹陷圖案，其中於第一基板的法線方向上凹陷圖案與第一天線至少部分重疊。至少一間隙物配置於平坦層上，其中至少一間隙物往畫素陣列層延伸。顯示介質層設置於第一基板與第二基板之間。電路板配置於顯示面板的下方，其中電路板具有多個第二天線，對應該些第一天線設置。

基於上述，在本發明的顯示裝置中，透過顯示面板中的感應單元包括電性連接於資料線的第一天線，平坦層具有與第一天線於第一基板的法線方向上至少部分重疊的凹陷圖案，且電路板具有對應第一天線設置的多個第二天線，使得顯示裝置能夠以無線傳輸傳遞畫素訊號，並避免影響第一基板與第二基板之間的間距而具有良好的顯示品質。

為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施方式，並配合所附圖式作詳細說明如下。

在附圖中，為了清楚起見，放大了層、膜、面板、區域等的厚度。在整個說明書中，相同的附圖標記表示相同的元件。應當理解，當諸如層、膜、區域或基板的元件被稱為在另一元件「上」或「連接到」另一元件時，其可以直接在另一元件上或與另一元件連接，或者中間元件可以也存在。相反，當元件被稱為「直接在另一元件上」或「直接連接到」另一元件時，不存在中間元件。如本文所使用的，「連接」可以指物理及/或電性連接。再者，「電性連接」或「耦合」係可為二元件間存在其它元件。

本文使用的「約」、「近似」、或「實質上」包括所述值和在本領域普通技術人員確定的特定值的可接受的偏差範圍內的平均值，考慮到所討論的測量和與測量相關的誤差的特定數量(即，測量系統的限制)。例如，「約」可以表示在所述值的一個或多個標準偏差內，或±30％、±20％、±10％、±5％內。再者，本文使用的「約」、「近似」或「實質上」可依光學性質、蝕刻性質或其它性質，來選擇較可接受的偏差範圍或標準偏差，而可不用一個標準偏差適用全部性質。

除非另有定義，本文使用的所有術語（包括技術和科學術語）具有與本發明所屬領域的普通技術人員通常理解的相同的含義。將進一步理解的是，諸如在通常使用的字典中定義的那些術語應當被解釋為具有與它們在相關技術和本發明的上下文中的含義一致的含義，並且將不被解釋為理想化的或過度正式的意義，除非本文中明確地這樣定義。

本文參考作為理想化實施方式的示意圖的截面圖來描述示例性實施方式。因此，可以預期到作為例如製造技術及/或公差的結果的圖示的形狀變化。因此，本文所述的實施方式不應被解釋為限於如本文所示的區域的特定形狀，而是包括例如由製造導致的形狀偏差。例如，示出或描述為平坦的區域通常可以具有粗糙及/或非線性特徵。此外，所示的銳角可以是圓的。因此，圖中所示的區域本質上是示意性的，並且它們的形狀不是旨在示出區域的精確形狀，並且不是旨在限制權利要求的範圍。

圖1是依照本發明的一實施方式的顯示裝置的局部立體示意圖。圖2是圖1中的顯示面板的局部上視示意圖。圖3是沿圖2之剖線I-I’的剖面示意圖。圖4是圖3中的凹陷圖案C1與第一天線A1之配置關係的立體示意圖。圖5是沿圖2之剖線II-II’的剖面示意圖。

請參照圖1，顯示裝置1包括顯示面板10以及電路板20。另外，顯示裝置1可選擇性地更包括背光模組30。以下，進一步參照圖2至圖5來詳細說明顯示裝置1。

請一起參照圖1至圖4，顯示面板10包括第一基板100、第二基板110以及多個感應單元U。在本實施方式中，多個感應單元U陣列排列於第一基板100與第二基板110之間。在本實施方式中，多個感應單元U包括感應單元U1及感應單元U2。值得一提的是，為了清楚說明，以下僅以兩個感應單元U（即感應單元U1及感應單元U2）為例進行說明，但是根據以下關於感應單元U1及感應單元U2的描述，任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解顯示面板10的整體結構或佈局。

第一基板100的材質可為玻璃、石英或有機聚合物。第二基板110位於第一基板100的對向。第二基板110的材質可為玻璃、石英或有機聚合物。

請再參照圖2至圖4，感應單元U1包括畫素陣列層102、第一天線A1、平坦層OC、多個間隙物PS1及顯示介質層120。另外，感應單元U1可更包括遮光圖案層BM、多個彩色濾光圖案CF1、絕緣層130、絕緣層140、保護層150與層間絕緣層160。為了方便說明起見，圖2中省略繪示絕緣層130、絕緣層140、保護層150、層間絕緣層160、顯示介質層120、平坦層OC、多個彩色濾光圖案CF1及遮光圖案層BM等構件。

畫素陣列層102配置於第一基板100上。在本實施方式中，畫素陣列層102包括掃描線SL1、掃描線SL2、資料線DL1、資料線DL2及多個畫素結構P1~P4。掃描線SL1~SL2的延伸方向與資料線DL1~DL2的延伸方向不相同，較佳的是掃描線SL1~SL2的延伸方向與資料線DL1~DL2的延伸方向垂直，但不限於此。此外，在本實施方式中，掃描線SL1~SL2與資料線DL1~DL2可位於不同的膜層，且掃描線SL1~SL2與資料線DL1~DL2之間可夾有絕緣層140（於後文進行詳細描述）。基於導電性的考量，掃描線SL1~SL2與資料線DL1~DL2一般是使用金屬材料。然而，本發明並不限於此，根據其他實施方式，掃描線SL1~SL2與資料線DL1~DL2也可以使用例如合金、金屬材料的氮化物、金屬材料的氧化物、金屬材料的氮氧化物等的其他導電材料，或是金屬材料與前述其它導電材料的堆疊層。

在本實施方式中，畫素結構P1包括主動元件T1、第一電極PE1以及第二電極CM1，畫素結構P2包括主動元件T2、第一電極PE2以及第二電極CM2，畫素結構P3包括主動元件T3、第一電極PE3以及第二電極CM3，畫素結構P4包括主動元件T4、第一電極PE4以及第二電極CM4。

在本實施方式中，主動元件T1與掃描線SL1及資料線DL1電性連接，主動元件T2與掃描線SL1及資料線DL2電性連接，主動元件T3與掃描線SL2及資料線DL1電性連接，主動元件T4與掃描線SL2及資料線DL2電性連接。從另一方面觀之，在本實施方式中，畫素結構P1與掃描線SL1及資料線DL1電性連接，畫素結構P2與掃描線SL1及資料線DL2電性連接，畫素結構P3與掃描線SL2及資料線DL1電性連接，畫素結構P4與掃描線SL2及資料線DL2電性連接。因此，可知畫素結構（例如：畫素結構P1）之主動元件（例如：主動元件T1）與對應的掃描線（例如：掃描線SL1）及對應的資料線（例如：資料線DL1）電性連接。

舉例而言，在本實施方式中，主動元件T1包括閘極G1、與閘極G1對應設置的通道層CH1、電性連接於通道層CH1的汲極D1以及源極S1，主動元件T2包括閘極G2、與閘極G2對應設置的通道層CH2、電性連接於通道層CH2的汲極D2以及源極S2，主動元件T3包括閘極G3、與閘極G3對應設置的通道層CH3、電性連接於通道層CH3的汲極D3以及源極S3，主動元件T4包括閘極G4、與閘極G4對應設置的通道層CH4、電性連接於通道層CH4的汲極D4以及源極S4。

在本實施方式中，掃描線SL1的部分區域是作為閘極G1及閘極G2，掃描線SL2的部分區域是作為閘極G3及閘極G4，此表示閘極G1及閘極G2與掃描線SL1彼此電性連接，閘極G3及閘極G4掃描線SL2彼此電性連接。從另一方面觀之，掃描線的部分區域是作為閘極包含從掃描線延伸出的一部份或者是掃描線本身之一部份。另外，在本實施方式中，源極S1及源極S3與資料線DL1為一連續的導電圖案，源極S2及源極S4與資料線DL2為一連續的導電圖案，此表示源極S1及源極S3與資料線DL1彼此電性連接，源極S2及源極S4與資料線DL2彼此電性連接。從另一觀點而言，在本實施方式中，當有控制訊號輸入掃描線SL1時，掃描線SL1、閘極G1與閘極G2之間會電性導通；當有控制訊號輸入掃描線SL2時，掃描線SL2、閘極G3與閘極G4之間會電性導通；而當有畫素訊號輸入資料線DL1時，資料線DL1、源極S1與源極S3之間會電性導通；當有畫素訊號輸入資料線DL2時，資料線DL2、源極S2與源極S4之間會電性導通。

通道層CH1位於閘極G1的上方，通道層CH2位於閘極G2的上方，通道層CH3位於閘極G3的上方，通道層CH4位於閘極G4的上方。源極S1以及汲極D1位於通道層CH1的上方，源極S2以及汲極D2位於通道層CH2的上方，源極S3以及汲極D3位於通道層CH3的上方，源極S4以及汲極D4位於通道層CH4的上方。舉例而言，在本實施方式中，主動元件T1、主動元件T2、主動元件T3、主動元件T4其中至少一者是以底部閘極型薄膜電晶體為例來說明，但本發明不限於此。在其他實施方式中，主動元件T1、主動元件T2、主動元件T3、主動元件T4其中至少一者也可以是頂部閘極型薄膜電晶體、立體型薄膜電晶體、或其它合適類型之薄膜電晶體。

在本實施方式中，主動元件T1的閘極G1、主動元件T2的閘極G2、主動元件T3的閘極G3、主動元件T4的閘極G4上方更覆蓋有絕緣層140。另外，在主動元件T1、主動元件T2、主動元件T3、主動元件T4的上方可更覆蓋有保護層150。絕緣層140、保護層150的材質可為無機材料、有機材料或其組合，無機材料例如是氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、或上述至少二種材料的堆疊層。有機材料例如是聚醯亞胺系樹脂、環氧系樹脂或壓克力系樹脂等高分子材料。

在本實施方式中，第一電極PE1藉由接觸窗H1與主動元件T1的汲極D1電性連接，第一電極PE2藉由接觸窗H2與主動元件T2的汲極D2電性連接，第一電極PE3藉由接觸窗H3與主動元件T3的汲極D3電性連接，第一電極PE4藉由接觸窗H4與主動元件T4的汲極D4電性連接。從另一方面觀之，在本實施方式中，第一電極PE1、第一電極PE2、第一電極PE3、第一電極PE4可分別作為畫素結構P1、畫素結構P2、畫素結構P3、畫素結構P4的畫素電極。

在本實施方式中，第一電極PE1、第一電極PE2、第一電極PE3、第一電極PE4的材質可包括金屬氧化物導電材料，例如銦錫氧化物、銦鋅氧化物、鋁錫氧化物、鋁鋅氧化物、銦鍺鋅氧化物、或其它合適的氧化物、或者是上述至少二者之堆疊層。另外，在本實施方式中，第一電極PE1、第一電極PE2、第一電極PE3、第一電極PE4分別包括多個條狀電極圖案。

在本實施方式中，第二電極CM1對應第一電極PE1設置，第二電極CM2對應第一電極PE2設置，第二電極CM3對應第一電極PE3設置，第二電極CM4對應第一電極PE4設置。舉例而言，在本實施方式中，第二電極CM1、第二電極CM2、第二電極CM3與第二電極CM4彼此互相連接，以形成共用電極層CM的一部分。在本實施方式中，共用電極層CM與第一電極PE1對應的部分即作為畫素結構P1的第二電極CM1，共用電極層CM與第一電極PE2對應的部分即作為畫素結構P2的第二電極CM2，共用電極層CM與第一電極PE3對應的部分即作為畫素結構P3的第二電極CM3，共用電極層CM與第一電極PE4對應的部分即作為畫素結構P4的第二電極CM4。從另一觀點而言，在本實施方式中，第二電極CM1、第二電極CM2、第二電極CM3、第二電極CM4分別作為畫素結構P1、畫素結構P2、畫素結構P3、畫素結構P4的共用電極。於其它實施方式中，第二電極CM1、第二電極CM2、第二電極CM3、第二電極CM4分別作為畫素結構P1、畫素結構P2、畫素結構P3、畫素結構P4的畫素電極且相互分隔，並與對應的主動元件電性連接，而第一電極PE1、第一電極PE2、第一電極PE3、第一電極PE4分別作為畫素結構P1、畫素結構P2、畫素結構P3、畫素結構P4的共用電極。

在本實施方式中，共用電極層CM與第一電極PE1、第一電極PE2、第一電極PE3、第一電極PE4之間更設置有層間絕緣層160，以使共用電極層CM與第一電極PE1、第一電極PE2、第一電極PE3、第一電極PE4在結構上彼此分離。另外，請參照圖2及圖3，第一電極PE1、第一電極PE2、第一電極PE3、第一電極PE4設置在層間絕緣層160的上方，且共用電極層CM設置在層間絕緣層160的下方。從另一方面觀之，在本實施方式中，第二電極CM1、第二電極CM2、第二電極CM3、第二電極CM4是分別對應設置在第一電極PE1、第一電極PE2、第一電極PE3、第一電極PE4的下方。於其它實施方式中，第二電極CM1、第二電極CM2、第二電極CM3、第二電極CM4是分別對應設置在第一電極PE1、第一電極PE2、第一電極PE3、第一電極PE4的上方，其中第二電極CM1、第二電極CM2、第二電極CM3、第二電極CM4分別作為畫素結構P1、畫素結構P2、畫素結構P3、畫素結構P4的畫素電極且相互分隔，並與對應的主動元件電性連接，而第一電極PE1、第一電極PE2、第一電極PE3、第一電極PE4分別作為畫素結構P1、畫素結構P2、畫素結構P3、畫素結構P4的共用電極。

共用電極層CM例如是透明導電層，其材質包括金屬氧化物導電材料，例如銦錫氧化物、銦鋅氧化物、鋁錫氧化物、鋁鋅氧化物、銦鍺鋅氧化物、或其它合適的氧化物、或者是上述至少二者之堆疊層。層間絕緣層160的材質可為無機材料、有機材料或其組合，其中無機材料例如是氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、或上述至少二種材料的堆疊層；有機材料例如是聚醯亞胺系樹脂、環氧系樹脂或壓克力系樹脂等高分子材料。

第一天線A1配置於第一基板100上且對應掃描線SL1~SL2與資料線DL1~DL2設置。從另一觀點而言，在本實施方式中，第一天線A1對應畫素結構P1~P4設置，例如：第一天線A1之線路會經過對應的畫素結構（例如：畫素結構P1~P4）。雖然第一天線A1對應四個畫素結構（即畫素結構P1~P4）而設置，但本發明並不限於此。在其他實施方式中，實際上，根據顯示面板10的佈局設計等，第一天線A1也可以對應其他數量的畫素結構設置，例如576個畫素結構。另外，如圖2所示，在本實施方式中，第一天線A1為多匝線圈。然而，本發明並不限於此。在其他實施方式中，第一天線A1也可以是單匝線圈。

請一起參照圖2及圖3，在本實施方式中，第一天線A1上方更覆蓋有絕緣層130，且掃描線SL1~SL2配置於絕緣層130上。在本實施方式中，第一天線A1與掃描線SL1~SL2可屬於不同膜層，且第一天線A1與資料線DL1~DL2可屬於不同膜層。絕緣層130材質可為無機材料、有機材料或其組合，無機材料例如是氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、或上述至少二種材料的堆疊層。有機材料例如是聚醯亞胺系樹脂、環氧系樹脂或壓克力系樹脂等高分子材料。

如圖2及圖3所示，在第一基板100的法線方向Z上（或稱為垂直投影於第一基板100之方向Z上），第一天線A1不與和其對應的掃描線SL1~SL2與資料線DL1~DL2完全重疊，藉此，可降低寄生電容。在本實施方式中，在第一基板100的法線方向Z上（或稱為垂直投影於第一基板100之方向Z上），第一天線A1與掃描線SL1之間具有最小距離d1，第一天線A1與掃描線SL2之間具有最小距離d1，第一天線A1與資料線DL1之間具有最小距離d1，且第一天線A1與資料線DL2之間具有最小距離d1，但本發明並不限於此。在其他實施方式中，第一天線A1與掃描線SL1之間、第一天線A1與掃描線SL2之間、第一天線A1與資料線DL1之間、以及第一天線A1與資料線DL2之間中的至少一者具有最小距離d1。從另一方面觀之，第一天線A1與掃描線SL1之間、第一天線A1與掃描線SL2之間、第一天線A1與資料線DL1之間、以及第一天線A1與資料線DL2之間可具有實質上相同或不相同的最小距離。在一實施方式中，最小距離d1較佳符合以下關係式：d1約等於或大於0 µm，且約等於或小於5 µm（例如：0 µm≦d1≦5 µm），以避免影響開口率。

在本實施方式中，第一天線A1與資料線DL1電性連接。如此一來，第一天線A1能夠將經電感耦合所接收到的畫素訊號傳遞至資料線DL1。如圖3所示，在本實施方式中，資料線DL1藉由設置於絕緣層140中的接觸窗X1與導電圖案Y1電性連接，且導電圖案Y1藉由設置於絕緣層130中的接觸窗X2與第一天線A1電性連接。舉例而言，在本實施方式中，導電圖案Y1與掃描線SL1~SL2可屬於同一膜層。然而，本發明並不限於此，在其他實施方式中，資料線DL1與第一天線A1之間也可以不配置有導電圖案Y1，而資料線DL1與第一天線A1僅藉由設置於絕緣層140與絕緣層130中的接觸窗彼此電性連接。

在本實施方式中，第一天線A1的材質包括鋁、鉬、鈦或銅、或其它合適的材質、或前述材質之合金，且第一天線A1可為單層或多層之結構。在本實施方式中，第一天線A1的厚度介於約1 µm至約5 µm之間。透過第一天線A1的厚度介於前述範圍內，使得第一天線A1能夠具備足夠低的電阻值。

平坦層OC配置於第二基板110上。在本實施方式中，平坦層OC具有凹陷圖案C1。舉例而言，如圖3及圖4所示，凹陷圖案C1可容納因第一天線A1而明顯突出的膜層結構Q1，以避免配置於第一基板100上的膜層結構Q1抵頂於配置於第二基板110上的平坦層OC而影響第一基板100與第二基板110之間的間距。在本實施方式中，雖然膜層結構Q1僅包括部分的層間絕緣層160，但本發明不限於此。實際上，根據顯示面板10的佈局設計、各膜層的製程參數等，膜層結構Q1也可能是疊層結構，例如包括部分的層間絕緣層160及部分的共用電極層CM。從另一方面觀之，在本實施方式中，透過平坦層OC具有凹陷圖案C1，可使得畫素陣列層102不與平坦層OC相接觸。

從另一觀點而言，如圖3及圖4所示，於第一基板100的法線方向Z（或可稱為垂直投影於第一基板100之方向Z）上，凹陷圖案C1與第一天線A1完全重疊。然而，本發明並不限於此。在其他實施方式中，於第一基板100的法線方向Z（或可稱為垂直投影於第一基板100之方向Z）上，凹陷圖案C1與第一天線A1也可以是部分重疊。另外，如圖4所示，在本實施方式中，第一天線A1與凹陷圖案C1可具有實質上相同的外型輪廓，但不限於此。於其它實施方式中，第一天線A1與凹陷圖案C1可不具有實質上相同的形狀，而凹陷圖案C1之面積比第一天線A1大且可容納第一天線A1。

平坦層OC的材質可為無機材料、有機材料或其組合，無機材料例如是氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、或上述至少二種材料的堆疊層。有機材料例如是聚醯亞胺系樹脂、環氧系樹脂或壓克力系樹脂等高分子材料。

多個間隙物PS1配置於平坦層OC上且往畫素陣列層102延伸。從另一方面觀之，多個間隙物PS1是配置在第一基板100與第二基板110之間。舉例而言，在本實施方式中，間隙物PS1，較佳地，可維持第一基板100與第二基板110之間適當的間距，但不限於此。於其它實施方式中，間隙物PS1之類型也可包含未用以維持第一基板100與第二基板110之間的間距。如圖3所示，在本實施方式中，間隙物PS1往畫素陣列層102延伸且與畫素陣列層102接觸，以維持第一基板100與第二基板110之間適當的間距。舉例而言，間隙物PS1與畫素陣列層102接觸之膜層可為下述舉例的其中一者，例如：層間絕緣層160、畫素電極層PE、共用電極層CM、配向層（若顯示介質層120為非自發光材料時，未繪示）、或其它合適的膜層。如前文所述，由於平坦層OC的凹陷圖案C1能容納因第一天線A1而明顯突出的膜層結構Q1，以避免膜層結構Q1抵頂於平坦層OC，故使得間隙物PS1能夠正常發揮維持第一基板100與第二基板110之間適當的間距的作用而避免顯示品質受到影響。

在本實施方式中，間隙物PS1的材質例如是光阻材料，但本發明不限於此。另外，如圖2所示，在本實施方式中，感應單元U1中設置了四個間隙物PS1，但本發明不以此為限，只要感應單元U1包括至少一間隙物PS1即可。另外，如圖2及圖3所示，在本實施方式中，間隙物PS1對應設置在掃描線與資料線的交錯處，但本發明不以此為限。在其他實施方式中，間隙物PS1也可以對應設置在掃描線或資料線上。

顯示介質層120設置於第一基板100與第二基板110之間。在本實施方式中，顯示介質層120可為非自發光材料，其例如：包括多個液晶分子，其中液晶分子可以是正型液晶分子、負型液晶分子、或者其它合適的液晶分子，則顯示面板10可為液晶顯示面板。

遮光圖案層BM配置於第二基板110上。在本實施方式中，遮光圖案層BM可以是任何所屬技術領域中具有通常知識者所周知的用於顯示面板中的任一遮光圖案層。舉例而言，在本實施方式中，遮光圖案層BM可遮蔽不欲被使用者觀看到的元件及走線，例如包括掃描線SL1、掃描線SL2、資料線DL1、資料線DL2、第一天線A1、主動元件T1、主動元件T2、主動元件T3、主動元件T4等。從另一方面觀之，在本實施方式中，於第一基板100的法線方向Z上（或可稱為垂直投影於第一基板100的Z方向上），遮光圖案層BM可與掃描線SL1、掃描線SL2、資料線DL1、資料線DL2、第一天線A1至少部分重疊。遮光圖案層BM的材質可為黑色樹脂或是遮光金屬或合金（例如：鉻）等反射性較低的材料。另外，如圖3所示，在本實施方式中，平坦層OC的凹陷圖案C1可暴露出部分的遮光圖案層BM為範例，但不限於此。

多個彩色濾光圖案CF1配置於第二基板110上。在本實施方式中，彩色濾光圖案CF1可以是任何所屬技術領域中具有通常知識者所周知的用於顯示面板中的任一彩色濾光圖案。舉例而言，在本實施方式中，多個彩色濾光圖案CF1分別對應畫素結構P1~P4設置，以用來達成彩色畫面的顯示。在本實施方式中，彩色濾光圖案CF1可以是紅色濾光圖案、綠色濾光圖案或藍色濾光圖案，但本發明不限於此。另外，如圖3所示，在本實施方式中，平坦層OC的凹陷圖案C1與彩色濾光圖案CF1不重疊為範例，但不限於此。

請再參照圖2及圖5，感應單元U2包括畫素陣列層104、第一天線A2、平坦層OC、多個間隙物PS2及顯示介質層120。根據前述內容可知，此表示在本實施方式中，平坦層OC是形成在第二基板110上，而感應單元U1及感應單元U2分別包括平坦層OC其中的一部分；以及顯示介質層120是形成在第一基板100與第二基板110之間，而感應單元U1及感應單元U2分別包括顯示介質層120其中的一部分。另外，感應單元U2可更包括遮光圖案層BM、多個彩色濾光圖案CF2、絕緣層130、絕緣層140、保護層150與層間絕緣層160。根據前述內容可知，此表示在本實施方式中，遮光圖案層BM是形成在第二基板110上，而感應單元U1及感應單元U2分別包括遮光圖案層BM其中的一部分；絕緣層130是形成在第一基板100上，而感應單元U1及感應單元U2分別包括絕緣層130其中的一部分；以及絕緣層140、保護層150與層間絕緣層160皆是形成在第一基板100上，而畫素陣列層102及畫素陣列層104皆包括絕緣層140、保護層150與層間絕緣層160其中的一部分。

畫素陣列層104配置於第一基板100上。在本實施方式中，畫素陣列層104包括掃描線SL3、掃描線SL4、資料線DL1’、資料線DL2’及多個畫素結構P5~P8。在本實施方式中，掃描線SL1、掃描線SL2、掃描線SL3、掃描線SL4沿著資料線DL1、資料線DL2、資料線DL1’及資料線DL2’的延伸方向而依序排列。從另一方面觀之，在本實施方式中，畫素陣列層102與畫素陣列層104可沿著資料線DL1、資料線DL2、資料線DL1’及資料線DL2’的延伸方向而相鄰設置於第一基板100上，且可被稱為沿著行（column）方向排列，但不限於此。於部份實施方式中，畫素陣列層102與畫素陣列層104也可沿著掃描線SL1、掃描線SL2、掃描線SL1’及掃描線SL2’的延伸方向而相鄰設置於第一基板100上，且可被稱為沿著列（row）方向排列。

掃描線SL3~SL4的延伸方向與資料線DL1’~DL2’的延伸方向不相同，較佳的是掃描線SL3~SL4的延伸方向與資料線DL1’~DL2’的延伸方向交錯（interlace），例如：實質上垂直，但不限於此。此外，在本實施方式中，掃描線SL3~SL4與資料線DL1’~DL2’可位於不相同的膜層，且掃描線SL3~SL4與資料線DL1’~DL2’之間可夾有絕緣層140。基於導電性的考量，掃描線SL3~SL4與資料線DL1’~DL2’一般是使用金屬材料。然而，本發明並不限於此，根據其他實施方式，掃描線SL3~SL4與資料線DL1’~DL2’也可以使用例如合金、金屬材料的氮化物、金屬材料的氧化物、金屬材料的氮氧化物、或是其它合適的導電材料，或是金屬材料與前述其它導電材料的堆疊層。另外，在本實施方式中，如圖2所示，資料線DL1’與資料線DL1彼此連接成一體，而資料線DL2’與資料線DL2彼此連接成一體。

在本實施方式中，畫素結構P5包括主動元件T5、第一電極PE5以及第二電極CM5，畫素結構P6包括主動元件T6、第一電極PE6以及第二電極CM6，畫素結構P7包括主動元件T7、第一電極PE7以及第二電極CM7，畫素結構P8包括主動元件T8、第一電極PE8以及第二電極CM8。

在本實施方式中，主動元件T5與掃描線SL3及資料線DL1’電性連接，主動元件T6與掃描線SL3及資料線DL2’電性連接，主動元件T7與掃描線SL4及資料線DL1’電性連接，主動元件T8與掃描線SL4及資料線DL2’電性連接。也就是說，在本實施方式中，畫素結構P5與掃描線SL3及資料線DL1’電性連接，畫素結構P6與掃描線SL3及資料線DL2’電性連接，畫素結構P7與掃描線SL4及資料線DL1’電性連接，畫素結構P8與掃描線SL4及資料線DL2’電性連接。因此，可知畫素結構（例如：畫素結構P5）之主動元件（例如：主動元件T5）與對應的掃描線（例如：掃描線SL3）及對應的資料線（例如：資料線DL1’）電性連接。

舉例而言，在本實施方式中，主動元件T5包括閘極G5、與閘極G5對應設置的通道層CH5、電性連接於通道層CH5兩側的汲極D5以及源極S5，主動元件T6包括閘極G6、與閘極G6對應設置的通道層CH6、電性連接於通道層CH6兩側的汲極D6以及源極S6，主動元件T7包括閘極G7、與閘極G7對應設置的通道層CH7、電性連接於通道層CH7兩側的汲極D7以及源極S7，主動元件T8包括閘極G8、與閘極G8對應設置的通道層CH8、電性連接於通道層CH8兩側的汲極D8以及源極S8。

在本實施方式中，掃描線SL3的部分區域是作為閘極G5及閘極G6，掃描線SL4的部分區域是作為閘極G7及閘極G8，此表示閘極G5及閘極G6與掃描線SL3彼此電性連接，閘極G7及閘極G8掃描線SL4彼此電性連接。另一方面觀之，掃描線的部分區域是作為閘極包含從掃描線延伸出的一部份或者是掃描線本身之一部份。另外，在本實施方式中，源極S5及源極S7與資料線DL1’為一連續的導電圖案，源極S6及源極S8與資料線DL2’為一連續的導電圖案，此表示源極S5及源極S7與資料線DL1’彼此電性連接，源極S6及源極S8與資料線DL2’彼此電性連接。從另一觀點而言，在本實施方式中，當有控制訊號輸入掃描線SL3時，掃描線SL3、閘極G5與閘極G6之間會電性導通；當有控制訊號輸入掃描線SL4時，掃描線SL4、閘極G7與閘極G8之間會電性導通；而當有畫素訊號輸入資料線DL1’時，資料線DL1’、源極S5與源極S7之間會電性導通；當有畫素訊號輸入資料線DL2’時，資料線DL2’、源極S6與源極S8之間會電性導通。

通道層CH5位於閘極G5的上方，通道層CH6位於閘極G6的上方，通道層CH7位於閘極G7的上方，通道層CH8位於閘極G8的上方。源極S5以及汲極D5位於通道層CH5的上方，源極S6以及汲極D6位於通道層CH6上方，源極S7以及汲極D7位於通道層CH7的上方，源極S8以及汲極D8位於通道層CH8的上方。舉例而言，在本實施方式中，主動元件T5、主動元件T6、主動元件T7、主動元件T8其中至少一者是以底部閘極型薄膜電晶體為例來說明，但本發明不限於此。在其他實施方式中，主動元件T5、主動元件T6、主動元件T7、主動元件T8其中至少一者也可以是頂部閘極型薄膜電晶體、立體型薄膜電晶體、或其它合適類型之薄膜電晶體。

在本實施方式中，主動元件T5的閘極G5、主動元件T6的閘極G6、主動元件T7的閘極G7、主動元件T8的閘極G8上方更覆蓋有絕緣層140。另外，在主動元件T5、主動元件T6、主動元件T7、主動元件T8的上方可更覆蓋有保護層150。

在本實施方式中，第一電極PE5藉由接觸窗H5與主動元件T5的汲極D5電性連接，第一電極PE6藉由接觸窗H6與主動元件T6的汲極D6電性連接，第一電極PE7藉由接觸窗H7與主動元件T7的汲極D7電性連接，第一電極PE8藉由接觸窗H8與主動元件T8的汲極D8電性連接。從另一方面觀之，在本實施方式中，第一電極PE5、第一電極PE6、第一電極PE7、第一電極PE8可分別作為畫素結構P5、畫素結構P6、畫素結構P7、畫素結構P8的畫素電極。

在本實施方式中，第一電極PE5、第一電極PE6、第一電極PE7、第一電極PE8的材質可包括金屬氧化物導電材料，例如銦錫氧化物、銦鋅氧化物、鋁錫氧化物、鋁鋅氧化物、銦鍺鋅氧化物、或其它合適的氧化物、或者是上述至少二者之堆疊層。另外，在本實施方式中，第一電極PE5、第一電極PE6、第一電極PE7、第一電極PE8分別包括多個條狀電極圖案。

在本實施方式中，第二電極CM5對應第一電極PE5設置，第二電極CM6對應第一電極PE6設置，第二電極CM7對應第一電極PE7設置，第二電極CM8對應第一電極PE8設置。舉例而言，在本實施方式中，第二電極CM5、第二電極CM6、第二電極CM7與第二電極CM8彼此互相連接，以形成共用電極層CM的一部分。在本實施方式中，畫素陣列層102中的第二電極CM1~CM4與畫素陣列層104中的第二電極CM5~CM8彼此是互相連接的，並且共用電極層CM與第一電極PE5對應的部分即作為畫素結構P5的第二電極CM5，共用電極層CM與第一電極PE6對應的部分即作為畫素結構P6的第二電極CM6，共用電極層CM與第一電極PE7對應的部分即作為畫素結構P7的第二電極CM7，共用電極層CM與第一電極PE8對應的部分即作為畫素結構P8的第二電極CM8。從另一觀點而言，在本實施方式中，第二電極CM5、第二電極CM6、第二電極CM7與第二電極CM8分別作為畫素結構P5、畫素結構P6、畫素結構P7、畫素結構P8的共用電極。於其它實施方式中，第二電極CM5、第二電極CM6、第二電極CM7、第二電極CM8分別作為畫素結構P5、畫素結構P6、畫素結構P7、畫素結構P8的畫素電極且相互分隔，並與對應的主動元件電性連接，而第一電極PE5、第一電極PE6、第一電極PE7、第一電極PE8分別作為畫素結構P5、畫素結構P6、畫素結構P7、畫素結構P8的共用電極。

在本實施方式中，共用電極層CM與第一電極PE5、第一電極PE6、第一電極PE7、第一電極PE8之間更設置有層間絕緣層160，以使共用電極層CM與第一電極PE5、第一電極PE6、第一電極PE7、第一電極PE8在結構上彼此分離。另外，請參照圖2及圖5，第一電極PE5、第一電極PE6、第一電極PE7、第一電極PE8設置在層間絕緣層160的上方，且共用電極層CM設置在層間絕緣層160的下方。從另一方面觀之，在本實施方式中，第二電極CM5、第二電極CM6、第二電極CM7與第二電極CM8是分別對應設置在第一電極PE5、第一電極PE6、第一電極PE7、第一電極PE8的下方。於其它實施方式中，第二電極CM5、第二電極CM6、第二電極CM7、第二電極CM8是分別對應設置在第一電極PE5、第一電極PE6、第一電極PE7、第一電極PE8的上方，其中第二電極CM5、第二電極CM6、第二電極CM7、第二電極CM8分別作為畫素結構P5、畫素結構P6、畫素結構P7、畫素結構P8的畫素電極且相互分隔，並與對應的主動元件電性連接，而第一電極PE5、第一電極PE6、第一電極PE7、第一電極PE8分別作為畫素結構P5、畫素結構P6、畫素結構P7、畫素結構P8的共用電極。

值得一提的是，在顯示面板10的操作上，畫素電極（即第一電極PE1~PE8）與共用電極（第二電極CM1~CM8）配置有不同的操作電壓，藉此，在畫素電極與共用電極間可形成邊緣電場以驅動顯示介質層120而產生顯示功能，則在本實施方式中，顯示面板10可為邊際場切換式（fringe field switching，FFS）顯示面板。然而，本發明並不限於此。在其他實施方式中，畫素電極與共用電極也可以皆具有條狀電極圖案，並屬於同一膜層，則顯示面板10也可以是共面切換式（In-Plane switching；IPS）顯示面板。

第一天線A2配置於第一基板100上且對應掃描線SL3~SL4與資料線DL1’~DL2’設置。從另一觀點而言，在本實施方式中，第一天線A2對應畫素結構P5~P8設置，例如：第一天線A2之線路會經過對應的畫素結構（例如：畫素結構P5~P8）。雖然第一天線A2對應四個畫素結構（即畫素結構P5~P8）而設置，但本發明並不限於此。在其他實施方式中，實際上，根據顯示面板10的佈局設計等，第一天線A2也可以對應其他數量的畫素結構設置，例如576個畫素結構。另外，如圖2所示，在本實施方式中，第一天線A2為多匝線圈。然而，本發明並不限於此。在其他實施方式中，第一天線A2也可以是單匝線圈。

請再一起參照圖2及圖5，在本實施方式中，第一天線A2上方更覆蓋有絕緣層130，且掃描線SL3~SL4配置於絕緣層130上。在本實施方式中，第一天線A2與掃描線SL3~SL4可屬於不同膜層，且第一天線A2與資料線DL1’~DL2’可屬於不同膜層。

如圖2及圖5所示，在第一基板100的法線方向Z上（或稱為垂直投影於第一基板100之方向Z上），第一天線A2不與和其對應的掃描線SL3~SL4與資料線DL1’~DL2’完全重疊，藉此，可降低寄生電容。在本實施方式中，在第一基板100的法線方向Z上（或稱為垂直投影於第一基板100之方向Z上），第一天線A2與掃描線SL3之間具有最小距離d2，第一天線A2與掃描線SL4之間具有最小距離d2，第一天線A2與資料線DL1’之間具有最小距離d2，且第一天線A2與資料線DL2’之間具有最小距離d2，但本發明並不限於此。在其他實施方式中，第一天線A2與掃描線SL3之間、第一天線A2與掃描線SL4之間、第一天線A2與資料線DL1’之間、以及第一天線A2與資料線DL2’之間中的至少一者具有最小距離d2。從另一方面觀之，第一天線A2與掃描線SL3之間、第一天線A2與掃描線SL4之間、第一天線A2與資料線DL1’之間、以及第一天線A2與資料線DL2’之間可具有實質上相同或不相同的最小距離。在一實施方式中，最小距離d2較佳符合以下關係式：d2約等於或大於0µm，且約等於或小於5µm（例如：0 µm≦d2≦5 µm），以避免影響開口率。

在本實施方式中，第一天線A2與資料線DL2’電性連接，藉此，第一天線A2能夠將經電感耦合所接收到的畫素訊號傳遞至資料線DL2’。如前文所述，資料線DL1’與資料線DL1彼此連接成一體，而資料線DL2’與資料線DL2彼此連接成一體。基於此，在本實施方式中，感應單元U1中的第一天線A1與感應單元U2中第一天線A2會電性連接到不相同的資料線，因此第一天線A1可視為電性連接於資料線DL1，而第一天線A2可視為電性連接於資料線DL2。

另外，如圖5所示，在本實施方式中，資料線DL2’藉由設置於絕緣層140中的接觸窗X3與導電圖案Y2電性連接，且導電圖案Y2藉由設置於絕緣層130中的接觸窗X4與第一天線A2電性連接。舉例而言，在本實施方式中，導電圖案Y2與掃描線SL3~SL4可屬於同一膜層。然而，本發明並不限於此，在其他實施方式中，資料線DL2’與第一天線A2之間也可以不配置有導電圖案Y2，而資料線DL2’與第一天線A2僅藉由設置於絕緣層140與絕緣層130中的接觸窗彼此電性連接。

在本實施方式中，第一天線A2的材質包括鋁、鉬、鈦、銅、或其它合適的材質、或前述材質之合金，且第一天線A2可為單層或多層之結構。在本實施方式中，第一天線A2的厚度介於約1 µm至約5 µm之間。透過第一天線A2的厚度介於前述範圍內，使得第一天線A2能夠具備足夠低的電阻值。

在本實施方式中，平坦層OC具有凹陷圖案C2。雖然圖4中繪示第一天線A1與凹陷圖案C1間的配置關係，但根據前述針對圖3及圖4的描述，任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解，第一天線A2與凹陷圖案C2間的配置關係。舉例而言，根據前述針對圖3及圖4的描述以及圖5可知，凹陷圖案C2用以容納因第一天線A2而明顯突出的膜層結構Q2，以避免配置於第一基板100上的膜層結構Q2抵頂於配置於第二基板110上的平坦層OC而影響第一基板100與第二基板110之間的間距。進一步而言，在本實施方式中，雖然膜層結構Q2僅包括部分的層間絕緣層160，但本發明不限於此。實際上，根據顯示面板10的佈局設計、各膜層的製程參數等，膜層結構Q2也可能是疊層結構，例如包括部分的層間絕緣層160及部分的共用電極層CM。從另一方面觀之，在本實施方式中，透過平坦層OC具有凹陷圖案C2，可使得畫素陣列層104不與平坦層OC相接觸。

從另一觀點而言，根據前述針對圖3及圖4的描述以及圖5可知，於第一基板100的法線方向Z（或可稱為垂直投影於第一基板100之方向Z）上，凹陷圖案C2與第一天線A2完全重疊。然而，本發明並不限於此。在其他實施方式中，於第一基板100的法線方向Z上，凹陷圖案C2與第一天線A2也可以是部分重疊。另外，根據前述針對圖4的描述可知，在本實施方式中，第一天線A2與凹陷圖案C2可具有實質上相同的外型輪廓，但不限於此。於其它實方式例中，第一天線A2與凹陷圖案C2可不具有實質上相同的形狀，而凹陷圖案C2之面積比第一天線A2大且可容納第一天線A2。

多個間隙物PS2配置於平坦層OC上且往畫素陣列層104延伸。也就是說，多個間隙物PS2是配置在第一基板100與第二基板110之間。舉例而言，在本實施方式中，間隙物PS2，較佳地，可維持第一基板100與第二基板110之間適當的間距，但不限於此。於其它實施方式中，間隙物PS2之類型也可包含未用以維持第一基板100與第二基板110之間的間距。如圖5所示，在本實施方式中，間隙物PS2往畫素陣列層104延伸且與畫素陣列層104接觸，以維持第一基板100與第二基板110之間適當的間距。舉例而言，間隙物PS2與畫素陣列層104接觸之膜層可為下述舉例的其中一者，例如：層間絕緣層160、畫素電極層PE、共用電極層CM、配向層（若顯示介質層120為非自發光材料時，未繪示）、或其它合適的膜層。如前文所述，由於平坦層OC的凹陷圖案C2能容納因第一天線A2而明顯突出的膜層結構Q2，以避免膜層結構Q2抵頂於平坦層OC，故使得間隙物PS2能夠正常發揮維持第一基板100與第二基板110之間適當的間距的作用而避免顯示品質受到影響。

在本實施方式中，間隙物PS2的材質例如是光阻材料，但本發明不限於此。另外，如圖2所示，在本實施方式中，感應單元U2中設置了四個間隙物PS2，但本發明不以此為限，只要感應單元U2包括至少一間隙物PS2即可。另外，如圖2及圖5所示，在本實施方式中，間隙物PS2對應設置在掃描線與資料線的交錯處，但本發明不以此為限。在其他實施方式中，間隙物PS2也可以對應設置在掃描線或資料線上。

在本實施方式中，對應於感應單元U2的遮光圖案層BM可用以遮蔽掃描線SL3、掃描線SL4、資料線DL1’、資料線DL2’、第一天線A2、主動元件T5、主動元件T6、主動元件T7、主動元件T8等元件及走線，以避免被使用者觀看到。從另一方面觀之，在本實施方式中，於第一基板100的法線方向Z（或者可稱為垂直投影於第一基板100的方向Z）上，遮光圖案層BM可與掃描線SL3、掃描線SL4、資料線DL1’、資料線DL2’、第一天線A2至少部分重疊。另外，如圖5所示，在本實施方式中，平坦層OC的凹陷圖案C2可暴露出部分的遮光圖案層BM為範例，但不限於此。

多個彩色濾光圖案CF2配置於第二基板110上。在本實施方式中，彩色濾光圖案CF2可以是任何所屬技術領域中具有通常知識者所周知的用於顯示面板中的任一彩色濾光圖案。舉例而言，在本實施方式中，多個彩色濾光圖案CF2分別對應畫素結構P5~P8設置，以用來達成彩色畫面的顯示。在本實施方式中，彩色濾光圖案CF2可以是紅色濾光圖案、綠色濾光圖案或藍色濾光圖案，但本發明不限於此。另外，如圖5所示，在本實施方式中，平坦層OC的凹陷圖案C2與彩色濾光圖案CF2不重疊為範例，但不限於此。

請再次參照圖1，電路板20配置於顯示面板10的下方。在本實施方式中，電路板20具有多個第二天線B。在本實施方式中，第二天線B為多匝線圈。然而，本發明並不限於此。在其他實施方式中，第二天線B也可以是單匝線圈。在本實施方式中，第二天線B的材質包括鋁、鉬、鈦、銅、或其它合適的材質、或前述材質之合金，且第二天線B可為單層或多層之結構。另外，在本實施方式中，第二天線B的厚度介於約1 µm至約5 µm之間。透過第二天線B的厚度介於前述範圍內，使得第二天線B能夠具備足夠低的電阻值。

如圖1所示，在本實施方式中，多個第二天線B分別對應多個感應單元U設置。舉例而言，根據前述針對感應單元U1及感應單元U2的描述，任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解一個感應單元U包括一個第一天線。從另一方面觀之，在本實施方式中，多個第二天線B分別對應多個感應單元U中的第一天線A1或A2設置。舉例而言，多個第二天線B中的一者對應感應單元U1中的第一天線A1設置，而多個第二天線B中的另一者對應感應單元U2中的第一天線A2設置。

值得一提的是，在本實施方式中，顯示裝置1透過電路板20中設置有多個第二天線B且顯示面板10中設置有多個第一天線（包括第一天線A1~A2），使得畫素訊號能自第二天線B經電感耦合至對應的第一天線，進而達成以無線傳輸傳遞畫素訊號。在本實施方式中，電路板20中的第二天線B可視為無線傳輸的傳輸端（transmitter），而顯示面板10中的第一天線（包括第一天線A1~A2）可視為無線傳輸的接收端（receiver）。如前文所述，當第一天線（例如：第一天線A1）接收到自對應的第二天線B經電感耦合所傳遞出的畫素訊號時，該畫素訊號能傳遞至與第一天線（例如：第一天線A1）電性連接的資料線DL1、DL1’；當第一天線（例如：第一天線A2）接收到自對應的第二天線B經電感耦合所傳遞出的畫素訊號時，該畫素訊號能傳遞至與第一天線（例如：第一天線A2）電性連接的資料線DL2、DL2’。

請再次參照圖1，背光模組30配置於顯示面板10的下方。在本實施方式中，背光模組30配置在顯示面板10與電路板20之間。另外，在本實施方式中，背光模組30可以是任何所屬技術領域中具有通常知識者所周知的用於顯示面板中的任一背光模組。詳細而言，在本實施方式中，背光模組30可用於提供面光源、點光源、電漿型面板光源、奈米碳管光源、或其它類型光源、或上述之組合，其中面光源中所使用的光源種類可例如包括：冷陰極螢光燈管、熱陰極螢光燈管、外部電極螢光燈管、平面螢光燈管、或其它燈管、或上述之組合，點光源例如可以是無機發光二極體、有機小分子磷光/螢光發光二極體、有機高分子磷光/螢光發光二極體、或其它二極體、或上述之組合。

基於前述關於圖1至圖5的實施方式的內容可知，透過感應單元U1包括電性連接於資料線DL1的第一天線A1，感應單元U2包括電性連接於資料線DL2’的第二天線A2，平坦層OC中具有可與第一天線A1於法線方向Z（或可稱為垂直投影於第一基板之方向Z）上至少部分重疊的凹陷圖案C1及與第一天線A2於法線方向Z（或可稱為垂直投影於第一基板之方向Z）上至少部分重疊的凹陷圖案C2，且電路板20具有對應第一天線A1~A2設置的多個第二天線B，使得顯示裝置1能夠以無線傳輸傳遞畫素訊號，並避免影響第一基板100與第二基板110之間的間距而具有良好的顯示品質。

另外，在圖1至圖5的實施方式中，顯示面板10中的共用電極層CM是配置在第一基板100上，但本發明並不限於此。在其他實施方式中，共用電極層CM也可以是配置在第二基板110上。以下，將參照圖6對其他變化態樣進行詳細說明。在此必須說明的是，下述實施方式沿用了前述實施方式的元件符號與部分內容，其中採用相同或相似的符號來表示相同或相似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式，下述實施方式不再重複贅述。

圖6是依照本發明的另一實施方式的顯示面板的局部剖面示意圖。值得注意的是，圖6的剖面位置對應至圖2的剖線I-I’的位置，且圖6僅繪示出顯示面板40中的感應單元U1的局部結構。然而，根據前述圖1至圖5的實施方式的內容，任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解顯示面板40的整體結構或佈局，以及包括顯示面板40、電路板20及當顯示介質層120為非自發光材料所存在之背光模組30的顯示裝置的整體結構或佈局。

請同時參照圖6與圖3，圖6的顯示面板40與圖3的顯示面板10相似，可參閱前述描述，因此以下將就兩者間的差異處做說明。

請參照圖6，在本實施方式中，第一電極PE1藉由接觸窗H1與主動元件T1的汲極D1電性連接，其中接觸窗H1設置在保護層150中。在本實施方式中，第一電極PE1的輪廓外型可為塊狀圖案。然而，本發明並不以此為限。在其他實施方式中，第一電極PE1的輪廓外型可為魚骨狀圖案或者是其它合適的圖案（例如：第一電極PE1的輪廓外型仍為塊狀圖案，而第一電極PE1內存在魚骨狀圖案、第一電極PE1的輪廓外型仍為塊狀圖案，而第一電極PE1內存在十字型圖案、或其它合適的圖案）。所述圖案可包含開口或條狀。

在本實施方式中，包括與第一電極PE1對應設置的第二電極CM1，第二電極CM1配置於平坦層OC上。在本實施方式中，共用電極層CM與第一電極PE1對應的部分即作為畫素結構P1的第二電極CM1。在顯示面板40的操作上，第一電極PE1與第二電極CM1配置有不同的操作電壓，藉此，在第一電極PE1與第二電極CM1間可形成垂直電場以驅動顯示介質層120而產生顯示功能。

在本實施方式中，凹陷圖案C1用以容納因第一天線A1而明顯突出的膜層結構Q4，以避免配置於第一基板100上的膜層結構Q4抵頂於配置於第二基板110上的平坦層OC而使得間隙物PS1無法正常發揮維持第一基板100與第二基板110之間適當的間距的作用而影響顯示品質。在本實施方式中，雖然膜層結構Q4包括部分的保護層150，但本發明不限於此。實際上，根據顯示面板40的佈局設計、各膜層的製程參數等，膜層結構Q4也可能是疊層結構。

基於圖6的內容以及前述關於圖1至圖5的實施方式的內容可知，透過感應單元U1包括電性連接於資料線DL1的第一天線A1，感應單元U2包括電性連接於資料線DL2’的第二天線A2，平坦層OC中具有可與第一天線A1於法線方向Z（或可稱為垂直投影於第一基板100之方向Z）上至少部分重疊的凹陷圖案C1及與第一天線A2於法線方向Z（或可稱為垂直投影於第一基板100之方向Z）上至少部分重疊的凹陷圖案C2，且電路板20具有對應第一天線A1~A2設置的多個第二天線B，使得包括顯示面板40、電路板20及當顯示介質層120為非自發光材料所存在之背光模組30的顯示裝置能夠以無線傳輸傳遞畫素訊號，並避免影響第一基板100與第二基板110之間的間距而具有良好的顯示品質。

另外，在圖1至圖5的實施方式及圖6的實施方式中，顯示面板10及顯示面板40的第一天線A1~A2是在掃描線SL1、掃描線SL2、掃描線SL3、掃描線SL4、資料線DL1、資料線DL2、資料線DL1’、資料線DL2’之前形成，但本發明並不限於此。在其他實施方式中，第一天線A1~A2也可以是在掃描線SL1、掃描線SL2、掃描線SL3、掃描線SL4、資料線DL1、資料線DL2、資料線DL1’、資料線DL2’之後形成。以下，將參照圖7~8對其他變化態樣進行詳細說明。在此必須說明的是，下述實施方式沿用了前述實施方式的元件符號與部分內容，其中採用相同或相似的符號來表示相同或相似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式，下述實施方式不再重複贅述。

圖7是依照本發明的另一實施方式的顯示面板的局部剖面示意圖。值得注意的是，圖7的剖面位置對應至圖2的剖線I-I’的位置，且圖7僅繪示出顯示面板50中的感應單元U1的局部結構。然而，根據前述圖1至圖5的實施方式的內容，任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解顯示面板50的整體結構或佈局，以及包括顯示面板50、電路板20及當顯示介質層120為非自發光材料所存在之背光模組30的顯示裝置的整體結構或佈局。

請同時參照圖7與圖3，圖7的顯示面板50與圖3的顯示面板10相似，可參閱前述描述，因此以下將就兩者間的差異處做說明。

請參照圖7，在本實施方式中，第一天線A1配置在層間絕緣層160上，且藉由接觸窗X5與資料線DL1電性連接，其中接觸窗X5設置在層間絕緣層160及保護層150中。

在本實施方式中，第一天線A1上方更覆蓋有絕緣層500，以提供絕緣與保護的功能。如圖7所示，絕緣層500是對應第一天線A1而設置，因此根據前述圖1至圖5的實施方式的內容，任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解絕緣層500包括彼此分離且分別對應第一天線A1~A2的圖案化絕緣圖案。

在本實施方式中，凹陷圖案C1用以容納因第一天線A1而明顯突出的膜層結構Q5，以避免配置於第一基板100上的膜層結構Q5抵頂於配置於第二基板110上的平坦層OC而使得間隙物PS1無法正常發揮維持第一基板100與第二基板110之間適當的間距的作用而影響顯示品質。在本實施方式中，雖然膜層結構Q5包括部分的絕緣層500，但本發明不限於此。實際上，根據顯示面板50的佈局設計、各膜層的製程參數等，膜層結構Q5也可能是疊層結構。

基於圖7的內容以及前述關於圖1至圖5的實施方式的內容可知，透過感應單元U1包括電性連接於資料線DL1的第一天線A1，感應單元U2包括電性連接於資料線DL2’的第二天線A2，平坦層OC中具有可與第一天線A1於法線方向Z（或可稱為垂直投影於第一基板100之方向Z）上至少部分重疊的凹陷圖案C1及與第一天線A2於法線方向Z（或可稱為垂直投影於第一基板100之方向Z）上至少部分重疊的凹陷圖案C2，且電路板20具有對應第一天線A1~A2設置的多個第二天線B，使得包括顯示面板50、電路板20及當顯示介質層120為非自發光材料所存在之背光模組30的顯示裝置能夠以無線傳輸傳遞畫素訊號，並避免影響第一基板100與第二基板110之間的間距而具有良好的顯示品質。

圖8是依照本發明的另一實施方式的顯示面板的局部剖面示意圖。值得注意的是，圖8的剖面位置對應至圖2的剖線I-I’的位置，且圖8僅繪示出顯示面板60中的感應單元U1的局部結構。然而，根據前述圖1至圖5的實施方式的內容，任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解顯示面板60的整體結構或佈局，以及包括顯示面板60、電路板20及當顯示介質層120為非自發光材料所存在之背光模組30的顯示裝置的整體結構或佈局。

請同時參照圖8與圖6，圖8的顯示面板70與圖6的顯示面板40相似，可參閱前述描述，因此以下將就兩者間的差異處做說明。

請參照圖8，在本實施方式中，第一天線A1配置在保護層150上，且藉由接觸窗X6與資料線DL1電性連接，其中接觸窗X6設置在保護層150中。

在本實施方式中，第一天線A1上方更覆蓋有絕緣層600，以提供絕緣與保護的功能。如圖8所示，絕緣層600是對應第一天線A1而設置，因此根據前述圖1至圖5的實施方式的內容，任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解絕緣層600包括彼此分離且分別對應第一天線A1~A2的圖案化絕緣圖案。

在本實施方式中，凹陷圖案C1用以容納因第一天線A1而明顯突出的膜層結構Q6，以避免配置於第一基板100上的膜層結構Q6抵頂於配置於第二基板110上的平坦層OC而使得間隙物PS1無法正常發揮維持第一基板100與第二基板110之間適當的液晶間距的作用而影響顯示品質。在本實施方式中，雖然膜層結構Q6包括部分的絕緣層600，但本發明不限於此。實際上，根據顯示面板60的佈局設計、各膜層的製程參數等，膜層結構Q6也可能是疊層結構。

基於圖6、圖8的內容以及前述關於圖1至圖5的實施方式的內容可知，透過感應單元U1包括電性連接於資料線DL1的第一天線A1，感應單元U2包括電性連接於資料線DL2’的第二天線A2，平坦層OC中具有可與第一天線A1於法線方向Z（或可稱為垂直投影於第一基板100之方向Z）上至少部分重疊的凹陷圖案C1及與第一天線A2於法線方向Z（或可稱為垂直投影於第一基板100之方向Z）上至少部分重疊的凹陷圖案C2，且電路板20具有對應第一天線A1~A2設置的多個第二天線B，使得包括顯示面板60、電路板20及當顯示介質層120為非自發光材料所存在之背光模組30的顯示裝置能夠以無線傳輸傳遞畫素訊號，並避免影響第一基板100與第二基板110之間的間距而具有良好的顯示品質。

另外，在圖1至圖5的實施方式中，顯示介質層120包括液晶分子，但本發明並不限於此。在其他實施方式中，顯示介質層120也可以包括有機發光材料、無機發光材料、其它合適的材料、或前述材料之組合，則顯示面板10可稱為發光顯示面板，且依自發光材料類型，例如：有機發光材料，則顯示面板10可稱為有機發光顯示面板，而此時，顯示裝置1可以選擇性地省略背光模組30的配置。以下，將參照圖9對其他變化態樣進行詳細說明。在此必須說明的是，下述實施方式沿用了前述實施方式的元件符號與部分內容，其中採用相同或相似的符號來表示相同或相似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式，下述實施方式不再重複贅述。

圖9是依照本發明的另一實施方式的顯示面板的局部剖面示意圖。值得注意的是，圖9的剖面位置對應至圖2的剖線I-I’的位置，且圖9僅繪示出顯示面板70中的感應單元U1的局部結構。然而，根據前述圖1至圖5的實施方式的內容，任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解顯示面板70的整體結構或佈局，以及包括顯示面板70及電路板20的顯示裝置的整體結構或佈局。

請同時參照圖9與圖3，圖9的顯示面板70與圖3的顯示面板10相似，可參閱前述描述，因此以下將就兩者間的差異處做說明。

請參照圖9，在本實施方式中，顯示面板70包括配置於第一電極PE1上的畫素定義層PDL。舉例而言，在本實施方式中，畫素定義層PDL具有開口V，以暴露出第一電極PE1。於其它實施方式中，顯示面板70亦可不包含畫素定義層PDL。在本實施方式中，畫素定義層PDL的材質例如包括有機材料，但本發明不以此為限。

在本實施方式中，顯示介質層720位於開口V內並覆蓋被暴露出的第一電極PE1。在本實施方式中，顯示介質層720可包括領域中具有通常知識者所周知的用於顯示面板中的任一種發光材料，且以有機發光材料為範例，則其例如紅色有機發光材料、綠色有機發光材料、藍色有機發光材料、白色有機發光材料、其他顏色有機發光材料、或上述發光材料之組合，但不限於此。在本實施方式中，因顯示介質層720為有機發光材料，則顯示面板70可被稱為有機發光顯示面板。

在本實施方式中，包括與第一電極PE1對應設置的第二電極CM1，第二電極CM1配置於顯示介質層720上。在本實施方式中，共用電極層CM與第一電極PE1對應的部分即作為畫素結構P1的第二電極CM1。在本實施方式中，第一電極PE1、以有機發光材料為範例之顯示介質層720以及第二電極CM1構成有機發光二極體，其中第一電極PE1可作為有機發光二極體的陽極，而第二電極CM1作為有機發光二極體的陰極，但不限於此。於其它實施方式中，第一電極PE1也可能作為有機發光二極體的陰極，而第二電極CM1也可能作為有機發光二極體的陽極。於本實施方式中，第一電極PE1、顯示介質層720以及第二電極CM1可以層膜方式設置於第一基板100上為範例，但不限於此。於其它實施方式中，第一電極PE1、顯示介質層720以及第二電極CM1亦可先形成發光元件後，再轉置於第一基板100上。

在本實施方式中，凹陷圖案C1用以容納因第一天線A1而明顯突出的膜層結構Q7，以避免配置於第一基板100上的膜層結構Q7抵頂於配置於第二基板110上的平坦層OC而使得間隙物PS1無法正常發揮維持第一基板100與第二基板110之間適當的間距的作用而影響顯示品質。在本實施方式中，雖然膜層結構Q7包括部分的保護層150，但本發明不限於此。實際上，根據顯示面板70的佈局設計、各膜層的製程參數等，膜層結構Q7也可能是疊層結構。

基於圖9的內容以及前述關於圖1至圖5的實施方式的內容可知，透過感應單元U1包括電性連接於資料線DL1的第一天線A1，感應單元U2包括電性連接於資料線DL2’的第二天線A2，平坦層OC中具有可與第一天線A1於法線方向Z（或可稱為垂直投影於第一基板100之方向Z）上至少部分重疊的凹陷圖案C1以及與第一天線A2於法線方向Z（或可稱為垂直投影於第一基板100之方向Z）上至少部分重疊的凹陷圖案C2，並且電路板20具有對應第一天線A1~A2設置的多個第二天線B，使得包括顯示面板70以及電路板20的顯示裝置能夠以無線傳輸傳遞畫素訊號，並避免影響第一基板100與第二基板110之間的間距而具有良好的顯示品質。

再者，於前述實施方式中，彩色濾光圖案（例如：彩色濾光圖案CF1或彩色濾光圖案CF2）亦可包含量子點/桿。於前述實施方式中，彩色濾光圖案（例如：彩色濾光圖案CF1或彩色濾光圖案CF2）亦可位於第一基板100上，並位於畫素電極之下方，而也可視為彩色濾光圖案（例如：彩色濾光圖案CF1或彩色濾光圖案CF2）位於第一基板100與畫素電極之間。於前述實施方式中，顯示面板10、40、50、60、70其中至少一者亦可更包含量子點/桿膜，且量子點/桿膜與彩色濾光圖案（例如：彩色濾光圖案CF1或彩色濾光圖案CF2）重疊，而量子點/桿膜與彩色濾光圖案（例如：彩色濾光圖案CF1或彩色濾光圖案CF2）可位於不同的基板（例如：分別位於第一基板100與第二基板110）上或相同的基板（例如：第二基板110）上。

雖然本發明已以實施方式揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

1‧‧‧顯示裝置

10、40、50、60、70‧‧‧顯示面板

20‧‧‧電路板

30‧‧‧背光模組

100‧‧‧第一基板

102、104‧‧‧畫素陣列層

110‧‧‧第二基板

120、720‧‧‧顯示介質層

130、140、500、600‧‧‧絕緣層

150‧‧‧保護層

160‧‧‧層間絕緣層

A1、A2‧‧‧第一天線

B‧‧‧第二天線

BM‧‧‧遮光圖案層

C1、C2‧‧‧凹陷圖案

CF1、CF2‧‧‧彩色濾光圖案

CH1、CH2、CH3、CH4、CH5、CH6、CH7、CH8‧‧‧通道層

CM‧‧‧共用電極層

CM1、CM2、CM3、CM4、CM5、CM6、CM7、CM8‧‧‧第二電極

d1、d2‧‧‧最小距離

D1、D2、D3、D4、D5、D6、D7、D8‧‧‧汲極

DL1、DL2、DL1’、DL2’‧‧‧資料線

G1、G2、G3、G4、G5、G6、G7、G8‧‧‧閘極

H1、H2、H3、H4、H5、H6、H7、H8、X1、X2、X3、X4、X5、X6‧‧‧接觸窗

OC‧‧‧平坦層

P1、P2、P3、P4、P5、P6、P7、P8‧‧‧畫素結構

PE1、PE2、PE3、PE4、PE5、PE6、PE7、PE8‧‧‧第一電極

PS1、PS2‧‧‧間隙物

Q1、Q2、Q4、Q5、Q6、Q7‧‧‧膜層結構

S1、S2、S3、S4、S5、S6、S7、S8‧‧‧源極

SL1、SL2、SL3、SL4‧‧‧掃描線

T1、T2、T3、T4、T5、T6、T7、T8‧‧‧主動元件

U、U1、U2‧‧‧感應單元

V‧‧‧開口

Y1、Y2‧‧‧導電圖案

Z‧‧‧方向

圖1是依照本發明的一實施方式的顯示裝置的局部立體示意圖。圖2是圖1中的顯示面板的局部上視示意圖。圖3是沿圖2之剖線I-I’的剖面示意圖。圖4是圖3中的凹陷圖案C1與第一天線A1之配置關係的立體示意圖。圖5是沿圖2之剖線II-II’的剖面示意圖。圖6是依照本發明的另一實施方式的顯示面板的局部剖面示意圖。圖7是依照本發明的另一實施方式的顯示面板的局部剖面示意圖。圖8是依照本發明的另一實施方式的顯示面板的局部剖面示意圖。圖9是依照本發明的另一實施方式的顯示面板的局部剖面示意圖。

Claims

一種顯示裝置，包括：一顯示面板，具有多個感應單元，每一感應單元包括：一畫素陣列層，配置於一第一基板上，該畫素陣列層包括多條掃描線、多條資料線以及多個畫素結構，其中每一畫素結構與該些掃描線的其中之一以及該些資料線的其中之一電性連接；一第一天線，配置於該第一基板上且對應該些掃描線與該些資料線設置，其中該第一天線與該些資料線的其中之一電性連接；一平坦層，配置於一第二基板上，其中該第二基板與該第一基板對向設置，該平坦層具有一凹陷圖案，於該第一基板的一法線方向上該凹陷圖案與該第一天線至少部分重疊；至少一間隙物，配置於該平坦層上，其中該至少一間隙物往該畫素陣列層延伸；以及一顯示介質層，設置於該第一基板與該第二基板之間；以及一電路板，配置於該顯示面板的下方，其中該電路板具有多個第二天線，對應該些第一天線設置，其中該些感應單元中的該些第一天線分別電性連接於不同的資料線。
如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置，其中在該第一基板的該法線方向上，該第一天線與對應的該些掃描線至少其中之一或該些資料線至少其中之一之間具有一最小距離，其中該最小距離介於0μm至5μm。
如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置，其中該至少一間隙物與該畫素陣列層接觸。
如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置，其中該第一天線及該第二天線的厚度介於1μm至5μm之間。
如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置，其中該第一天線及該第二天線的材質包括鋁、鉬、鈦或銅。
如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置，其中該第一天線及該第二天線為單匝天線或多匝線圈。
如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置，其中每一畫素結構包括：一主動元件；一第一電極，與該主動元件電性連接；以及一第二電極，對應該第一電極設置，且與該第一電極結構上分離。
如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置，其中：每一畫素結構包括一主動元件以及一第一電極，其中該第一電極與該第一主動元件電性連接；每一感應單元更包括一第二電極，配置於該平坦層上。
如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置，其中每一感應單元更包括一遮光圖案層，配置於該第二基板上，其中該遮光圖案層與該些掃描線、該些資料線及該第一天線於該第一基板的該法線方向上至少部分重疊。
如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置，其中每一感應單元更包括多個彩色濾光圖案，配置於該第二基板上，其中該些彩色濾光圖案對應該些畫素結構設置。
如申請專利範圍第10項所述的顯示裝置，其中所述凹陷圖案與該些彩色濾光圖案不重疊。
如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置，更包括一背光模組，配置於該顯示面板的下方，其中該背光模組介於該顯示面板與該電路板之間。
如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置，其中該畫素陣列層不與該平坦層相接觸。