TWI630123B - 液體收容容器、液體噴射裝置 - Google Patents

Abstract

於先前之液體收容容器中，難以降低產生液體洩漏之可能性。

本發明係一種液體收容容器，其包括：液體收容部，其可收容液體；液體注入部，其可將液體注入至液體收容部；第2大氣室186，其與大氣連通；大氣導入路，其可將大氣導入至第2大氣室186；以及連通路，其使液體收容部與第2大氣室186連通；且於使液體注入部與液體收容部交叉之交叉部在與水平方向交叉之交叉方向朝向上方之姿勢下，於將大氣導入路與第2大氣室186之連接口即連通口205之交叉方向上之長度設為尺寸H2，且將連通路與第2大氣室186之連接口即連通口106之交叉方向上之長度設為尺寸H1時，連通口205位於較自第2大氣室186之上端213下降尺寸H2之位置更下方，且位於較自第2大氣室186之下端211上升尺寸H1之位置更上方。

Description

液體收容容器、液體噴射裝置

本發明係關於一種液體收容容器、液體噴射裝置等。

先前，作為液體噴射裝置之一例，已知有噴墨印表機。於噴墨印表機中，可藉由自噴射頭部對印刷用紙等印刷媒體噴出作為液體之一例之墨水，而對印刷媒體進行印刷。於此種噴墨印表機中，先前已知有對噴射頭部供給貯存於作為液體收容容器之一例之貯槽之墨水的構成。於該貯槽設置有墨水注入口。使用者可自墨水注入口對貯槽補充墨水。於此種貯槽中，先前已知有利用連通部使收容墨水之液體收容室與導入有大氣之空氣收容室相互連通之構成(例如參照專利文獻1)。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2012-20495號公報

於上述專利文獻1中所記載之貯槽中，例如即便液體收容室內之墨水經由連通部向空氣收容室側流出，亦可將向空氣收容室側流出之墨水貯存於空氣收容室。於該貯槽中，於使用姿勢下，大氣釋放口形 成於空氣收容室之上表面部之附近。因此，於該貯槽中，容易抑制液體收容室內之墨水經由大氣釋放口而漏出至貯槽外。然而，若於墨水流入至空氣收容室內之狀態下貯槽之姿勢上下反轉，則空氣收容室之上下亦反轉，故而大氣釋放口位於空氣收容室之下部附近。因此，流入至空氣收容室內之墨水容易到達大氣釋放口。其結果，難以抑制液體收容室內之墨水經由大氣釋放口而漏出至貯槽外。如此，於先前之液體收容容器中，有難以降低產生液體洩漏之可能性之問題。

本發明係為了解決上述問題之至少一部分而完成者，可設為以下之形態或應用例而實現。

[應用例1]一種液體收容容器，其特徵在於包括：液體收容部，其可收容液體；液體注入部，其可將上述液體注入至上述液體收容部；大氣室，其與大氣連通；大氣導入路，其與上述大氣室連通，且可將上述大氣導入至上述大氣室；以及連通路，其使上述液體收容部與上述大氣室連通；且將上述液體注入部與上述液體收容部交叉之交叉部定義為液體注入口，於使上述液體注入口在與水平方向交叉之交叉方向朝向上方之姿勢下，於將上述大氣導入路與上述大氣室之連接口即第1連接口之上述交叉方向上之長度定義為第1距離，且將上述連通路與上述大氣室之連接口即第2連接口之上述交叉方向上之長度定義為第2距離時，上述第1連接口位於較自上述大氣室之上端下降上述第1距離之位置更下方，且位於較自上述大氣室之下端上升上述第2距離之位置更上方。

於該應用例之液體收容容器中，即便使液體注入口上下反轉為朝向下方之姿勢，大氣導入路與大氣室之第1連接口亦位於較自大氣室之下端上升第2距離之位置更靠大氣室之上端側，且位於較自大氣室之上端下降第1距離之位置更靠大氣室之下端側。即，根據該液體 收容容器，即便使液體注入口上下反轉為朝向下方之姿勢，亦可避免第1連接口位於大氣室之下端。因此，於液體注入口朝向上方之姿勢與液體注入口朝向下方之姿勢之兩者中，均可使第1連接口遠離大氣室之下端。其結果，可降低液體收容部內之液體經由大氣導入路洩漏之可能性。

[應用例2]如上述之液體收容容器，其中上述第1連接口位於較自上述大氣室之上端下降上述第1距離之2倍之距離之位置更下方，且位於較自上述大氣室之下端上升上述第2距離之2倍之距離之位置更上方。

於該應用例中，於液體注入口朝向上方之姿勢與液體注入口朝向下方之姿勢之兩者中，均可使第1連接口進一步遠離大氣室之下端。其結果，可進一步降低液體收容部內之液體經由大氣導入路洩漏之可能性。

[應用例3]如上述之液體收容容器，其包括：殼體構件，其具有槽及連通於上述槽之凹部；以及片體構件，其藉由覆蓋上述槽及上述凹部而蓋住上述槽及上述凹部；且上述大氣導入路之至少一部分藉由由上述槽及上述片體構件包圍之空間而構成，上述大氣室之至少一部分藉由由上述凹部與上述片體構件包圍之空間而構成。

於該應用例中，可利用殼體構件與片體構件構成大氣導入路之至少一部分及大氣室之至少一部分。

[應用例4]如上述之液體收容容器，其中於上述殼體構件設置有朝向上述殼體構件之與上述片體構件側相反之側凹陷之第2凹部，上述片體構件係藉由覆蓋上述第2凹部而蓋住上述第2凹部，上述液體收容部之至少一部分藉由由上述第2凹部與上述片體構件包圍之空間而構成，於上述第2凹部內設置有朝上述片體構件側凸出之肋部。

於該應用例中，藉由利用片體構件將殼體構件之第2凹部蓋住而 構成液體收容部之至少一部分。於第2凹部內設置有朝向片體構件側凸出之肋部。根據該構成，容易藉由肋部限制片體構件朝向第2凹部內變形時之片體構件之變形。

[應用例5]如上述之液體收容容器，其中上述片體構件與上述肋部接合。

於該應用例中，由於片體構件與肋部接合，故而容易限制片體構件朝與殼體構件側相反之側變形。

[應用例6]如上述之液體收容容器，其中上述凹部包括隔著上述肋部而相互對向之2個內壁，上述2個內壁中之一內壁與上述肋部之間隔和上述2個內壁中之另一內壁與上述肋部之間隔相等。

於該應用例中，容易於一內壁與肋部之間和另一內壁與肋部之間同等地限制片體構件之變形。

[應用例7]如上述之液體收容容器，其中上述凹部具有相互對向之2個內壁，於上述凹部內設置有沿上述2個內壁對向之方向排列之複數個上述肋部，上述2個內壁中之一內壁和於上述方向與上述一內壁相鄰之上述肋部之間隔、上述2個內壁中之另一內壁和於上述方向與上述另一內壁相鄰之上述肋部之間隔、及於上述方向相鄰之2個上述肋部之間隔相互相等。

於該應用例中，容易於一內壁和與該內壁相鄰之肋部之間、另一內壁和與該內壁相鄰之肋部之間、及相鄰之2個肋部間相互同等地限制片體構件之變形。

[應用例8]如上述之液體收容容器，其中於上述姿勢下，上述大氣室位於較上述液體收容部更上方，上述連通路之一部分位於較上述大氣室更上方。

於該應用例中，大氣室位於較液體收容部更上方，連通路之一部分位於較大氣室更上方，故而自液體收容部流入至連通路內之液體 藉由重力之作用而難以向較大氣室更上方上升。因此，自液體收容部流入至連通路內之液體難以到達大氣室。其結果，容易抑制自液體收容部流入至連通路內之液體自液體收容容器漏出。

[應用例9]如上述之液體收容容器，其中上述連通路包含第1部分及第2部分，上述第1部分與上述第2部分於上述姿勢下，在水平方向隔著上述大氣室相互位於相反側。

於該應用例中，利用大氣室周邊之空間，以包圍大氣室之周圍之方式形成連通路，藉此，可使連通路之路徑變長。

[應用例10]一種液體噴射裝置，其特徵在於包括：第1殼體；機構單元，其被上述第1殼體覆蓋，且作為可執行印刷動作之機構部分；第2殼體，其與上述第1殼體結合；以及複數個上述液體收容容器；且上述複數個液體收容容器配置為被上述第2殼體覆蓋且可經由供給管而將上述液體供給至上述機構單元之印刷部。

於該應用例之液體噴射裝置中，可將複數個液體收容容器配置於同一第2殼體內，故而可減少複數個液體收容容器中之大氣導入路與大氣室之連接口之高度等之不均。其結果，即便於使用複數個液體收容容器之情形時，亦容易對所有液體收容容器防止液體向大氣導入路回流。

[應用例11]一種液體噴射裝置，其特徵在於包括：殼體；機構單元，其被上述殼體覆蓋，且作為可執行印刷動作之機構部分；以及複數個上述液體收容容器；且上述複數個液體收容容器配置為被上述殼體覆蓋且可經由供給管而將上述液體供給至上述機構單元之印刷部。

於該應用例之液體噴射裝置中，可將複數個液體收容容器配置於同一殼體內，故而可減少複數個液體收容容器中之大氣導入路與大氣室之連接口之高度等之不均。其結果，即便於使用複數個液體收容容器之情形時，亦容易對所有液體收容容器防止液體向大氣導入路回 流。

1‧‧‧印表機

3‧‧‧第1殼體

5‧‧‧貯槽單元

7‧‧‧第2殼體

9‧‧‧貯槽

9A‧‧‧貯槽

9B‧‧‧貯槽

10‧‧‧機構單元

11‧‧‧排紙部

13‧‧‧正表面

15‧‧‧上表面

17‧‧‧操作面板

18A‧‧‧電源按鈕

18B‧‧‧操作按鈕

19‧‧‧側部

21‧‧‧窗部

23‧‧‧正表面

25‧‧‧上表面

27‧‧‧側部

28‧‧‧上限標記

29‧‧‧下限標記

31‧‧‧安裝螺絲

41‧‧‧印刷部

43‧‧‧供給管

45‧‧‧托架

47‧‧‧印刷頭部

49‧‧‧轉送單元

51‧‧‧搬送輥

53‧‧‧馬達

55‧‧‧正時皮帶

61‧‧‧殼體

63‧‧‧片體構件

64‧‧‧接合部

65‧‧‧收容部

67‧‧‧連通部

68‧‧‧第1大氣室

69‧‧‧第2大氣室

71‧‧‧第1連通路

72‧‧‧第3大氣室

73‧‧‧第2連通路

74‧‧‧第1緩衝室

75‧‧‧第2緩衝室

81‧‧‧第1壁

82‧‧‧第2壁

83‧‧‧第3壁

84‧‧‧第4壁

85‧‧‧第5壁

86‧‧‧第6壁

87‧‧‧第7壁

88‧‧‧第8壁

91‧‧‧凹部

93‧‧‧第9壁

94‧‧‧第10壁

95‧‧‧第11壁

97‧‧‧凹部

98‧‧‧凹部

99‧‧‧凹部

101‧‧‧墨水注入部

102‧‧‧連通口

103‧‧‧連通口

104‧‧‧連通口

105‧‧‧突出部

105A‧‧‧部位

105B‧‧‧部位

105C‧‧‧部位

105D‧‧‧部位

106‧‧‧連通口

107‧‧‧連通口

109‧‧‧凹部

111‧‧‧壁

113‧‧‧供給口

115‧‧‧大氣連通口

117‧‧‧槽

121‧‧‧凹部

123‧‧‧凹部

124‧‧‧凹部

125‧‧‧第12壁

127‧‧‧支持部

127A‧‧‧支持部

127B‧‧‧支持部

128‧‧‧開口

129‧‧‧側壁

141‧‧‧墨水

143‧‧‧頂蓋

151‧‧‧第1通路

152‧‧‧第2通路

153‧‧‧第3通路

154‧‧‧第4通路

155‧‧‧第5通路

156‧‧‧第6通路

161‧‧‧反轉部

162‧‧‧彎曲部

163‧‧‧彎曲部

164‧‧‧彎曲部

165‧‧‧反轉部

166‧‧‧彎曲部

168‧‧‧傾斜

171‧‧‧殼體

181‧‧‧收容部

183‧‧‧連通部

184‧‧‧第1大氣室

185‧‧‧第1連通路

186‧‧‧第2大氣室

187‧‧‧第2連通路

188‧‧‧緩衝室

191‧‧‧第9壁

192‧‧‧第10壁

193‧‧‧第11壁

194‧‧‧第12壁

201‧‧‧凹部

202‧‧‧凹部

203‧‧‧凹部

204‧‧‧連通口

205‧‧‧連通口

206‧‧‧凹部

211‧‧‧下端

213‧‧‧上端

221‧‧‧凹部

500‧‧‧一體機

503‧‧‧印表機

505‧‧‧掃描儀單元

507‧‧‧殼體

511‧‧‧機構單元

512‧‧‧操作面板

513‧‧‧電源按鈕

514‧‧‧操作按鈕

515‧‧‧窗部

H1‧‧‧尺寸

H2‧‧‧尺寸

P‧‧‧印刷媒體

圖1係表示本實施形態之印表機之立體圖。

圖2係表示本實施形態之印表機之立體圖。

圖3係表示本實施形態之印表機之機構單元之立體圖。

圖4係表示第1實施形態之貯槽之分解立體圖。

圖5係自片體構件側觀察第1實施形態之貯槽時之側視圖。

圖6係表示第1實施形態之殼體之立體圖。

圖7係於XZ平面將本實施形態之墨水注入部、供給口及大氣連通口切斷時之剖面圖。

圖8係自片體構件側觀察第1實施形態之貯槽時之側視圖。

圖9係自片體構件側觀察第1實施形態之貯槽時之側視圖。

圖10(A)、(B)係於YZ平面將第1實施形態之第1緩衝室切斷時之剖面圖。

圖11(A)、(B)係表示第1實施形態之第1緩衝室之另一例之剖面圖。

圖12係表示第2實施形態之貯槽之分解立體圖。

圖13係自片體構件側觀察第2實施形態之貯槽時之側視圖。

圖14係表示第2實施形態之殼體之立體圖。

圖15係自片體構件側觀察第2實施形態之貯槽時之側視圖。

圖16係圖15中之A部之放大圖。

圖17係自片體構件側觀察第2實施形態之貯槽時之側視圖。

圖18係自片體構件側觀察第2實施形態之貯槽時之側視圖。

圖19係表示本實施形態之一體機之立體圖。

圖20係表示本實施形態之一體機之立體圖。

圖21係表示本實施形態之印表機之立體圖。

圖22係表示本實施形態之印表機之機構單元之立體圖。

以作為液體噴射裝置之一例之噴墨印表機(以下稱為印表機)為例，一面參照圖式一面對實施形態進行說明。再者，於各圖式中，為了使各構成為可辨別之程度之大小，構成或構件之縮小比例有時不同。

如圖1所示，本實施形態之印表機1包括第1殼體3及貯槽單元5。印表機1可藉由作為液體之一例之墨水，而對印刷用紙等印刷媒體P進行印刷。貯槽單元5包括作為殼體構件之一例之第2殼體7、及複數個(2個以上)貯槽9。第1殼體3與第2殼體7構成印表機1之外殼。再者，於圖1中附有相互正交之座標軸即XYZ軸。對下文所示之圖亦視需要附上XYZ軸。關於XYZ軸之各者，箭頭部方向表示+方向(正方向)，箭頭部方向之反方向表示-方向(負方向)。於使用印表機1之狀態下，印表機1配置於由X軸方向與Y軸方向規定之水平之平面。於印表機1之使用狀態中，Z軸方向為與水平之平面正交之方向，-Z軸方向成為鉛直下方向。

於第1殼體3收容有印表機1之機構單元10(圖3)。機構單元10係於印表機1中執行印刷動作之機構部分。關於機構單元10之詳細情況係於下文進行敍述。複數個貯槽9係如圖1所示般收容於第2殼體7內，分別收容供於印刷之墨水。於本實施形態中，設置有4個貯槽9。於4個貯槽9中，每個貯槽9之墨水種類不同。於本實施形態中，作為墨水之種類，採用黑色、黃色、洋紅、青色之4種墨水。而且，收容黑色墨水之貯槽9、收容黃色墨水之貯槽9、收容洋紅墨水之貯槽9及收容青色墨水之貯槽9均設置有一個。於印表機1中，複數個貯槽9設置於第1殼體3之外側。因此，於印表機1中，複數個貯槽9並非內置於覆蓋機構單元10之第1殼體3。

又，於印表機1設置有排紙部11。於印表機1中，自排紙部11排出印刷媒體P。於印表機1中，將設置有排紙部11之面設為正表面13。又，印表機1係於與正表面13交叉之上表面15具有操作面板17。於操作面板17設置有電源按鈕18A及其他操作按鈕18B等。貯槽單元5係於第1殼體3設置於與正表面13及上表面15交叉之側部19。於第2殼體7設置有窗部21。窗部21係於第2殼體7設置於與正表面23及上表面25交叉之側部27。窗部21具有透光性。而且，於與窗部21重疊之位置設置有上述之4個貯槽9。因此，使用印表機1之作業人員可經由窗部21而視認4個貯槽9。

於本實施形態中，各貯槽9之與窗部21對向之部位具有透光性。可自各貯槽9之具有透光性之部位視認貯槽9內之墨水。因此，作業人員可藉由經由窗部21視認4個貯槽9而視認各貯槽9中之墨水量。於各貯槽9，於與窗部21對向之部位設置有表示墨水量之上限之上限標記28、及表示墨水量之下限之下限標記29。作業人員能以上限標記28及下限標記29為標識而掌握各貯槽9中之墨水量。再者，第1殼體3與第2殼體7相互分體地構成。因此，於本實施形態中，如圖2所示，可使第2殼體7自第1殼體3分離。第2殼體7係藉由安裝螺絲31而與第1殼體3結合。又，如圖2所示，第2殼體7覆蓋4個(2個以上)貯槽9之至少一部分，例如覆蓋正表面、上表面、側面。

如作為表示機構單元10之立體圖之圖3所示，印表機1包括印刷部41及供給管43。印刷部41包括托架45、印刷頭部47及4個轉送單元49。印刷頭部47與4個轉送單元49搭載於托架45。供給管43具有可撓性，且設置於貯槽9與轉送單元49之間。貯槽9內之墨水係經由供給管43而輸送至轉送單元49。轉送單元49係將自貯槽9經由供給管43供給之墨水轉送至印刷頭部47。印刷頭部47係以墨水滴之形式噴出所供給之墨水。

又，印表機1包括媒體搬送機構(未圖示)及頭部搬送機構(未圖示)。媒體搬送機構係藉由利用來自未圖示之馬達之動力驅動搬送輥51，而將印刷媒體P沿著Y軸方向搬送。頭部搬送機構係藉由將來自馬達53之動力經由正時皮帶55傳遞至托架45，而將托架45沿X軸方向搬送。印刷頭部47搭載於托架45。因此，可藉由頭部搬送機構經由托架45而將印刷頭部47沿X軸方向搬送。再者，印刷頭部47係以與印刷媒體P對向之狀態支持於托架45。一面藉由媒體搬送機構及頭部搬送機構使印刷頭部47相對於印刷媒體P之相對位置變化，一面自印刷頭部47噴出墨水，藉此，對印刷媒體P實施印刷。

關於貯槽9說明各種實施形態。再者，以下，為了針對每一實施形態辨別貯槽9，而對貯槽9之符號標註針對每一實施形態而不同之字母文字。

(第1實施形態)

對第1實施形態之貯槽9A進行說明。如圖4所示，貯槽9A包括作為貯槽本體之一例之殼體61、及片體構件63。殼體61例如包含尼龍或聚丙烯等合成樹脂。又，片體構件63係藉由合成樹脂(例如尼龍或聚丙烯等)而形成為膜狀，且具有可撓性。於本實施形態中，片體構件63具有透光性。貯槽9A具有將殼體61與片體構件63接合之構成。於殼體61設置有接合部64。於圖4中，為了易於理解地表示構成，對接合部64附上影線。於殼體61之接合部64接合有片體構件63。於本實施形態中，藉由熔接而使殼體61與片體構件63接合。

如圖5所示，貯槽9A包括收容部65及連通部67。連通部67包括第1大氣室68、第2大氣室69、第1連通路71、第3大氣室72、第2連通路73、第1緩衝室74及第2緩衝室75。於貯槽9A中，於收容部65內收容有墨水。再者，於圖5中表示自片體構件63側觀察貯槽9A之狀態，且透過片體構件63而圖示殼體61。收容部65、第1大氣室68、第2大氣室 69、第1連通路71、第3大氣室72與第2連通路73係藉由接合部64而相互隔開。第1緩衝室74與第2緩衝室75分別設置於第2連通路73內。

殼體61包括第1壁81、第2壁82、第3壁83、第4壁84、第5壁85、第6壁86、第7壁87及第8壁88。於第5壁85之與收容部65側相反之側，配置有第1大氣室68、第2大氣室69、第1連通路71及第3大氣室72。於自片體構件63側俯視第1壁81時，收容部65被第2壁82、第3壁83、第4壁84及第5壁85包圍。

又，於自片體構件63側俯視第1壁81時，第1大氣室68、第2大氣室69、第1連通路71及第3大氣室72被第5壁85、第6壁86、第7壁87及第8壁88包圍。再者，收容部65之第1壁81與第1大氣室68、第2大氣室69及第3大氣室72之第1壁81互為同一壁。即，於本實施形態中，收容部65、第1大氣室68、第2大氣室69及第3大氣室72相互共有第1壁81。

如圖6所示，第2壁82、第3壁83、第4壁84及第5壁85分別與第1壁81交叉。第2壁82與第3壁83設置於在X軸方向隔著第1壁81而相互相對之位置。第4壁84與第5壁85設置於在Z軸方向隔著第1壁81而相互相對之位置。第2壁82分別與第4壁84及第5壁85交叉。第3壁83亦分別與第4壁84及第5壁85交叉。

第2壁82、第3壁83、第4壁84及第5壁85係自第1壁81朝+Y軸方向突出。藉此，藉由以第1壁81為主壁並自主壁朝+Y軸方向延伸之第2壁82、第3壁83、第4壁84及第5壁85而構成凹部91。凹部91構成為朝-Y軸方向凹陷之朝向。凹部91係朝+Y軸方向、即朝片體構件63(圖4)側開口。換言之，凹部91係設置為朝-Y軸方向、即朝與片體構件63(圖4)側為相反側凹陷之朝向。而且，若將片體構件63接合於殼體61，則凹部91被片體構件63蓋住，從而構成收容部65。再者，第1壁81~第8壁88之各者並不限定於平坦之壁，亦可包含凹凸。

如圖5所示，第6壁86係自第5壁85朝第5壁85之與第4壁84側相反 之側、即朝第5壁85之+Z軸方向側突出。第7壁87係自第5壁85朝第5壁85之與第4壁84側相反之側、即朝第5壁85之+Z軸方向側突出。第6壁86與第7壁87係設置於在X軸方向隔著第1大氣室68、第2大氣室69、第1連通路71及第3大氣室72而相互相對之位置。第8壁88係設置於在Z軸方向隔著第1大氣室68、第2大氣室69、第1連通路71及第3大氣室72與第5壁85相對之位置。第6壁86分別與第5壁85及第8壁88交叉。第7壁87亦分別與第5壁85及第8壁88交叉。

於第5壁85與第8壁88之間，設置有在Z軸方向將第1大氣室68與第2大氣室69隔開之第9壁93。又，於第6壁86與第7壁87之間設置有第10壁94及第11壁95。第1大氣室68及第2大氣室69與第3大氣室72之間係藉由第10壁94及第11壁95而於X軸方向隔開。第10壁94設置於較第6壁86更靠第7壁87側，且與第6壁86對向。第11壁95設置於較第7壁87更靠第6壁86側，且與第7壁87對向。再者，第11壁95設置於較第10壁94更靠第7壁87側。

如圖6所示，第6壁86、第7壁87、第8壁88、第9壁93、第10壁94及第11壁95分別自第1壁81朝+Y軸方向突出。由自第1壁81朝+Y軸方向延伸之第6壁86、第9壁93、第10壁94及第8壁88構成凹部97。又，由自第1壁81朝+Y軸方向延伸之第6壁86、第5壁85、第10壁94及第9壁93構成凹部98。又，由自第1壁81朝+Y軸方向延伸之第5壁85、第7壁87、第8壁88及第11壁95構成凹部99。

凹部97、凹部98及凹部99分別朝+Y軸方向、即朝片體構件63(圖4)側開口。換言之，凹部97、凹部98及凹部99分別設置為朝-Y軸方向、即朝與片體構件63(圖4)側相反之側凹陷之朝向。而且，若將片體構件63接合於殼體61，則凹部97被片體構件63蓋住，從而構成第1大氣室68。同樣地，若將片體構件63接合於殼體61，則凹部98被片體構件63蓋住而構成第2大氣室69，凹部99被片體構件63蓋住而構成第3 大氣室72。再者，第2壁82~第8壁88、第9壁93~第11壁95自第1壁81之突出量被設定為相互相同之突出量。

第2壁82與第6壁86於X軸方向存在階差。第2壁82位於較第6壁86更靠第3壁83側、即較第6壁86更靠-X軸方向側。又，第3壁83與第7壁87在X軸方向存在階差。第7壁87位於較第3壁83更靠第2壁82側、即較第3壁83更靠+X軸方向側。而且，於自片體構件63側俯視第1壁81之狀態下，於第3壁83與第7壁87之間設置有墨水注入部101。墨水注入部101設置於第5壁85。

如圖5所示，第1連通路71設置於第10壁94與第11壁95之間，使第2大氣室69與第3大氣室72連通。第2連通路73設置於收容部65、第1大氣室68、第2大氣室69、第1連通路71及第3大氣室72之外側。第2連通路73使第3大氣室72與收容部65連通。於第9壁93設置有連通口102。第1大氣室68與第2大氣室69經由連通口102而連通。第2大氣室69經由連通口103而連通於第1連通路71。又，第3大氣室72係經由連通口104而連通於第1連通路71。第1連通路71蜿蜒。第2大氣室69係經由第1連通路71蜿蜒後連通於第3大氣室72。

如圖6所示，於殼體61設置有突出部105。第2連通路73設置於突出部105。突出部105包括部位105A，該部位105A係於第5壁85中較第7壁87更靠-X軸方向側之區域，沿著凹部91之開口之緣自第5壁85朝+Z軸方向側突出。部位105A亦於第7壁87沿著凹部99之開口之緣自第7壁87朝-X軸方向側突出。又，突出部105包括自第8壁88朝+Z軸方向側突出之部位105B。又，突出部105包括部位105C，該部位105C係於第6壁86中沿著凹部97及凹部98之開口之緣自第6壁86朝+X軸方向側突出。又，突出部105包括部位105D，該部位105D係於第2壁82中沿著凹部91之開口之緣自第2壁82朝+X軸方向側突出。第2連通路73構成為槽117，該槽117設置為於突出部105朝與片體構件63側相反之側 凹陷之朝向。

此處，於凹部91內設置有凹部109。凹部109設置為較第4壁84更朝與第5壁85側相反之側、即較第4壁84更朝-Z軸方向側凹陷之朝向。而且，於凹部109中，於與第3壁83及第2壁82對向之壁111設置有供給口113。因此，於俯視第1壁81之狀態下，於第3壁83與第2壁82之間設置有供給口113。墨水注入部101與供給口113分別使殼體61之外側與凹部91之內側連通。再者，供給口113係自壁111沿著X軸方向朝第2壁82側突出。

又，於第8壁88設置有大氣連通口115。大氣連通口115係自第8壁88朝第8壁88之與第5壁85側相反之側、即第8壁88之+Z軸方向側突出。於俯視第8壁88時、即於XY平面俯視第8壁88時，大氣連通口115設置於與凹部97重疊之位置。大氣連通口115使殼體61之外側與凹部97之內側連通。大氣連通口115係用以將殼體61之外側之大氣導入至凹部97之內側之大氣之通路。再者，於殼體61中，接合部64係沿著凹部91、凹部97、凹部98、凹部99、凹部109、第1連通路71及第2連通路73各自之輪廓設置。

如圖4所示，片體構件63於Y軸方向隔著第2壁82~第8壁88而與第1壁81對向。片體構件63具有於俯視時覆蓋凹部91、凹部97、凹部98、凹部99、凹部109及突出部105之大小。片體構件63係以與第1壁81之間存在間隙之狀態熔接於接合部64。藉此，凹部91、凹部97、凹部98、凹部99、凹部109、第1連通路71及第2連通路73被片體構件63密封。因此，片體構件63亦可被視為針對殼體61之蓋。

如圖5所示，第2連通路73包括連通口106及連通口107。連通口106係朝第3大氣室72之內側開口之開口部。連通口107係朝收容部65之內側開口之開口部。第3大氣室72係自連通口106經由第2連通路73經過連通口107而連通於收容部65。根據所述內容，收容部65係經由 第2連通路73、第3大氣室72、第1連通路71、第2大氣室69、第1大氣室68及大氣連通口115而連通於貯槽9A之外部。即，連通部67使大氣連通口115與收容部65之間連通。自大氣連通口115流入至第1大氣室68內之大氣係經由連通口102而流入至第2大氣室69。流入至第2大氣室69之大氣係經由第1連通路71而流入至第3大氣室72。而且，流入至第3大氣室72之大氣係經由第2連通路73而流入至收容部65內。

墨水注入部101設置於第5壁85。如圖6所示，墨水注入部101設置於由第7壁87、突出部105、第3壁83及第1壁81包圍之凹部121內。如上所述，突出部105向較第5壁85更靠第8壁88側突出。又，第7壁87亦向較第5壁85更靠第8壁88側突出。同樣地，於本實施形態中，第1壁81及第3壁83亦分別向較第5壁85更靠第8壁88側突出。而且，突出部105與第7壁87及第3壁83之兩者交叉。又，第1壁81與第3壁83及第7壁87之兩者交叉。因此，第5壁85中之較第7壁87更靠第3壁83側之區域構成由第7壁87、突出部105、第3壁83及第1壁81包圍之凹部121。凹部121設置為自第5壁85側朝第4壁84側凹陷之朝向。

藉由上述構成，墨水注入部101被第7壁87、突出部105、第3壁83及第1壁81包圍。換言之，於第5壁85中之被第7壁87、突出部105、第3壁83及第1壁81包圍之區域內設置有墨水注入部101。而且，凹部121具有墨水接收部之功能。墨水接收部可接收例如自墨水注入部101溢出之墨水、或注入時滴落之墨水。如此，凹部121具有作為接收墨水之墨水接收部之功能。

於殼體61中，於第6壁86之與凹部97側相反之側設置有凹部123。凹部123與凹部97係隔著第6壁86而於X軸方向排列。又，於殼體61中，於第6壁86之與凹部98側相反之側設置有凹部124。凹部124與凹部98係隔著第6壁86而於X軸方向排列。凹部123及凹部124分別設置為朝向與片體構件63(圖4)側為相反側凹陷之朝向。凹部123與凹 部124均設置於槽117內，且隔著第12壁125於Z軸方向排列。凹部123及凹部124可被視為分別使槽117之一部分之深度變深之構成。

若將片體構件63接合於殼體61，則槽117被片體構件63蓋住，如圖5所示構成第2連通路73。而且，於第2連通路73中，凹部123構成為第1緩衝室74，凹部124構成為第2緩衝室75。此處，如上所述，凹部123及凹部124可被視為分別使槽117之一部分之深度變深之構成。因此，第1緩衝室74及第2緩衝室75可被視為使第2連通路73之一部分之深度變深之構成。因此，第1緩衝室74及第2緩衝室75各自之水平方向(XY平面)上之截面積大於第2連通路73之水平方向(XY平面)上之截面積。第1緩衝室74及第2緩衝室75之各自之水平方向(XY平面)上之截面積小於第3大氣室72之水平方向(XY平面)上之截面積。而且，第1緩衝室74及第2緩衝室75各自之容積小於第3大氣室72之容積。

如圖5所示，於收容部65內設置有複數個支持部127。於本實施形態中設置有2個支持部127。以下，於辨別2個支持部127之各者之情形時，2個支持部127分別記為支持部127A及支持部127B。2個支持部127於X軸方向排列。2個支持部127中之支持部127A位於較支持部127B更靠第3壁83側。2個支持部127分別與第2壁82、第3壁83、第4壁84及第5壁85之各者隔開。於本實施形態中，第3壁83與支持部127A之間隔、支持部127A與支持部127B之間隔、及第2壁82與支持部127B之間隔被設定為相互相等。根據該構成，可於第3壁83與支持部127A之間、支持部127A與支持部127B之間、及第2壁82與支持部127B之間相互同等地限制片體構件63之變形。再者，於設置1個支持部127之構成中，第3壁83與支持部127之間隔及第2壁82與支持部127之間隔被設定為相互相等。藉此，可於第3壁83與支持部127之間、第2壁82與支持部127之間同等地限制片體構件63之變形。

如圖6所示，2個支持部127設置於第1壁81，自第1壁81朝片體構 件63(圖4)側、即朝+Y軸方向側突出。2個支持部127分別呈沿YZ平面延伸之板狀。2個支持部172自第1壁81之突出量被設定為與第2壁82~第5壁85自第1壁81之突出量相等。而且，於2個支持部127之各者，於與第1壁81側為相反側、即片體構件63(圖4)側之端部設置有接合部64。片體構件63亦接合於2個支持部127之各者之接合部64。

如作為於XZ平面將墨水注入部101、供給口113及大氣連通口115切斷時之剖面圖之圖7所示，墨水注入部101包括開口128及側壁129。開口128為設置於第5壁85之貫通孔。開口128亦為墨水注入部101與收容部65交叉之交叉部。作為墨水注入部101之構成，亦可採用側壁129朝收容部65之內側突出之構成。於側壁129朝收容部65之內側突出之構成中，亦將墨水注入部101與收容部65交叉之交叉部定義為開口128。凹部91係經由作為貫通孔之開口128而連通於凹部91之外側。側壁129係設置於第5壁85之與第4壁84側相反之側，且包圍開口128之周圍，形成墨水注入路。側壁129係自第5壁85朝與第4壁84側為相反側突出。再者，於本實施形態中，側壁129較第1壁81及第3壁83之各者更朝與第4壁84側為相反側突出。可藉由側壁129而阻礙積存於凹部121之墨水流入至開口128。再者，第1緩衝室74(圖5)於Z軸方向位於較開口128更靠上方。

如自片體構件63側觀察貯槽9A時之側視圖即圖8所示，於貯槽9A中，於收容部65之內部收容有墨水141。於圖8中，易於理解地表示構成，故而省略片體構件63之圖示，且對接合部64附上影線。收容部65內之墨水141係自供給口113供給至印刷頭部47。於本實施形態中，於將印表機1用於印刷之狀態下，於供給口113連接有供給管43，於墨水注入部101形成有頂蓋143。凹部91內之墨水141係藉由經由轉送單元49於供給管43內抽吸，而自供給口113到達印刷頭部47。

伴隨利用印刷頭部47所進行之印刷，收容部65內之墨水141被向 印刷頭部47側輸送。因此，伴隨利用印刷頭部47所進行之印刷，收容部65內之壓力變得低於大氣壓。若收容部65內之壓力變得低於大氣壓，則第3大氣室72內之大氣通過第2連通路73輸送至收容部65內。藉此，容易將收容部65內之壓力保持為大氣壓。再者，於第3大氣室72中，大氣自大氣連通口115依序經過第1大氣室68、第2大氣室69及第1連通路71而流入。根據所述內容，貯槽9A內之墨水141被供給至印刷頭部47。當貯槽9A中之收容部65內之墨水141被消耗而墨水141之剩餘量變少時，作業人員可自墨水注入部101將新墨水補充至收容部65內。

如圖9所示，第2連通路73可被劃分為第1通路151、第2通路152、第3通路153、第4通路154、第5通路155及第6通路156。第1通路151係以連通口106為起點，沿著第5壁85、即沿著X軸方向通向第3壁83。第1通路151係自連通口106到達反轉部161。反轉部161係第2連通路73中之流路之朝向反轉之部位。於反轉部161中，流路之朝向自-X軸方向反轉為+X軸方向。再者，於自大氣連通口115至收容部65之大氣之路徑中，將大氣連通口115側設為上游側，將連通口107側設為下游側。

第2通路152係自反轉部161沿著第1通路151之延伸方向、即沿著X軸方向通向第7壁87。第2通路152係自反轉部161到達彎曲部162。彎曲部162係第2連通路73中之流路之朝向彎曲之部位。於彎曲部162中，流路之朝向自+X軸方向朝+Z軸方向彎曲。第3通路153係自彎曲部162沿著第7壁87、即沿著Z軸方向通向第8壁88。第3通路153係自彎曲部162到達彎曲部163。彎曲部163係第2連通路73中之流路之朝向彎曲之部位。於彎曲部163中，流路之朝向自+Z軸方向朝+X軸方向彎曲。

第4通路154係自彎曲部163沿著第8壁88、即沿著X軸方向通向第 6壁86。於Z軸方向，第4通路154位於較第3大氣室72更靠上方。第4通路154係自彎曲部163到達彎曲部164。彎曲部164係第2連通路73中之流路之朝向彎曲之部位。於彎曲部164中，流路之朝向自+X軸方向朝-Z軸方向彎曲。第5通路155係自彎曲部164沿著第6壁86、即沿著Z軸方向通向第4壁84。第5通路155係自彎曲部164到達反轉部165。

如上所述，於Z軸方向，第4通路154位於較第3大氣室72更靠上方。即，第2連通路73之一部分位於較第3大氣室72更靠上方。根據該構成，自收容部65流入至第2連通路73內之墨水藉由重力之作用而難以上升至較第3大氣室72更上方。因此，自收容部65流入至第2連通路73內之墨水難以到達第3大氣室72。其結果，容易抑制自收容部65流入至第2連通路73內之墨水自貯槽9A漏出。

又，於貯槽9A中，第3通路153與第5通路155在X軸方向隔著第3大氣室72而相互位於相反側。根據該構成，利用第3大氣室72之周邊之空間，以包圍第3大氣室72之周圍之方式形成第2連通路73，藉此，可使第2連通路73之路徑變長。就使收容部65內之墨水之液體成分不易蒸發之觀點、或使自收容部65流入至第2連通路73內之墨水不易到達第3大氣室72之觀點等而言，較佳為使第2連通路73之路徑變長。

反轉部165係第2連通路73中之流路之朝向反轉之部位。於反轉部165中，流路之朝向自-Z軸方向反轉為+Z軸方向。第6通路156係自反轉部165沿著第2壁82、即沿著Z軸方向通向第5壁85。第6通路156係自反轉部165經過彎曲部166到達連通口107。彎曲部166係第2連通路73中之流路之朝向彎曲之部位。第2連通路73係於在彎曲部166中流路之朝向自+Z軸方向朝-X軸方向彎曲後，經由連通口107連通於收容部65內。

第1緩衝室74及第2緩衝室75分別設置於第2連通路73中之第5通路155。第1緩衝室74係於Z軸方向配置於第9壁93與第8壁88之間。第2 緩衝室75係於Z軸方向配置於第5壁85與第9壁93之間。因此，於鉛直方向，第1緩衝室74位於較第2緩衝室75更靠上方。

再者，第1緩衝室74及第2緩衝室75之配置部位並不限定於第5通路155。作為第1緩衝室74及第2緩衝室75之配置部位，亦可分別採用第1通路151~第6通路156中之任一部位。又，作為第1緩衝室74及第2緩衝室75之配置部位，亦可分別採用反轉部161、反轉部165、彎曲部162、彎曲部163、彎曲部164及彎曲部166中之任一部位。

連通口106位於第7壁87與第5壁85交叉之交叉部。就另一觀點而言，連通口106係於鉛直方向位於第3大氣室72之下端。連通口107位於第2壁82與第5壁85交叉之交叉部。就另一觀點而言，連通口107係於鉛直方向位於收容部65之上端。於本實施形態中，連通口107係於鉛直方向位於較第2緩衝室75更下方。又，連通口103位於第5壁85與第10壁94交叉之交叉部。就另一觀點而言，連通口103係於鉛直方向位於第2大氣室69之下端。連通口104位於第5壁85與第11壁95交叉之交叉部。就另一觀點而言，連通口104係於鉛直方向位於第3大氣室72之下端。

此處，如圖7所示，連通口107係於鉛直方向位於較上限標記28更靠上方。上限標記28於鉛直方向位於較第5壁85更靠下方。因此，上限標記28於鉛直方向位於較墨水注入部101之開口128更靠下方。藉此，容易避免於作業人員將墨水自墨水注入部101注入至貯槽9A內時，墨水超過上限標記28而到達開口128。因此，容易避免於作業人員將墨水自墨水注入部101注入至貯槽9A內時，墨水自墨水注入部101溢出。

於第1實施形態中，Z軸方向對應於與水平方向交叉之方向，收容部65對應於液體收容部，墨水注入部101對應於液體注入部，開口128對應於液體注入口，第3大氣室72對應於大氣室。又，大氣連通口 115、第1大氣室68、連通口102、第2大氣室69及第1連通路71對應於大氣導入部。又，第2連通路73對應於連通路，第1緩衝室74及第2緩衝室75分別對應於貯存部，殼體61對應於殼體構件。又，支持部127對應於肋部。又，第2壁82及第3壁83對應於隔著肋部而相互對向之2個內壁。又，第3通路153及第5通路155之一者對應於第1部分，第3通路153及第5通路155之另一者對應於第2部分。

於第1實施形態中，於第2連通路73設置有第1緩衝室74及第2緩衝室75。因此，例如即便收容部65內之墨水在第2連通路73中向第3大氣室72側回流，亦可利用第1緩衝室74及第2緩衝室75捕獲墨水，故而容易抑制收容部65內之墨水到達第3大氣室72。藉此，容易避免收容部65內之墨水自大氣連通口115漏出至貯槽9A外。再者，緩衝室之個數並不限定於第1緩衝室74及第2緩衝室75之2個。作為緩衝室之個數，亦可採用1個或3個以上之個數。

又，於第1實施形態中，第1緩衝室74及第2緩衝室75設置於第2連通路73之第5通路155(圖9)。於收容部65內之墨水在第2連通路73中向第3大氣室72側回流之情形時，於第5通路155中，回流之墨水於Z軸方向自下方朝上方流動。該流動之方向與大氣自第3大氣室72側流向收容部65側之方向相反。如作為於YZ平面將第1緩衝室74切斷時之剖面圖之圖10(A)所示，在第5通路155中自下方朝上方流動之墨水141係自第1緩衝室74之下方朝上方積存。因此，到達第1緩衝室74之墨水141之液位自第1緩衝室74之下方朝上方上升。

此處，例如於自收容部65側朝第3大氣室72側回流之墨水141在第5通路155中自上方流向下方之情形時，回流之墨水141自較第1緩衝室74更上方流向第1緩衝室74。此時，認為如圖10(B)所示，墨水141無法到達第1緩衝室74之內部而是通過第1緩衝室74，或可到達第1緩衝室74內之墨水141因重力之作用而自第1緩衝室74流出。若產生此種 情況，則無法充分地利用第1緩衝室74之容量。

針對此種情況，於本實施形態中，到達第1緩衝室74之墨水141自第1緩衝室74之下方朝上方積存，故而可高效率地利用第1緩衝室74之容量。

又，根據本實施形態，第1緩衝室74具有較第3大氣室72之截面積小之截面積，故而自第1緩衝室74之內壁至第2連通路73為止之水平方向上之距離，短於自第3大氣室72之內壁至第2連通路73為止之水平方向上之距離。因此，第1緩衝室74內之墨水較流入至第3大氣室72內之墨水更容易到達第2連通路73。即，第1緩衝室74內之墨水較流入至第3大氣室72內之墨水更容易返回至第2連通路73。藉此，可使殘留於第1緩衝室74內之墨水量較殘留於第3大氣室72內之墨水量減少。其結果，於可利用第1緩衝室74捕獲之量之墨水自收容部65向第3大氣室72側流出之情形時，可減少殘留於第1緩衝室74之墨水量，故而可減輕墨水之浪費。

又，於第1實施形態中，於第2緩衝室75之上游側設置有第1緩衝室74，故而可利用第1緩衝室74捕獲自第2緩衝室75溢出之墨水。藉此，可進一步容易抑制收容部65內之墨水到達第3大氣室72，故而可進一步容易避免收容部65內之墨水自大氣連通口115漏出至貯槽9A外。

又，於第1實施形態中，如上所述，第1緩衝室74於Z軸方向位於較開口128更上方。根據該構成，例如即便將墨水滿滿地注入至開口128為止，墨水亦難以前進至較開口128更高之位置，故而容易避免第1緩衝室74被墨水充滿。再者，為了容易避免第1緩衝室74被墨水充滿，只要第1緩衝室74之至少一部分在Z軸方向位於較開口128更靠上方即可。於該構成中，亦可容易避免第1緩衝室74被墨水充滿。

又，於第1實施形態中，連通口107於鉛直方向位於較上限標記 28更上方。因此，容易避免收容部65內之墨水到達連通口107。其結果，容易抑制收容部65內之墨水自連通口107流入至第2連通路73內，故而容易避免收容部65內之墨水自大氣連通口115漏出至貯槽9A外。

又，於第1實施形態中，連通口107於鉛直方向位於收容部65之上端。因此，容易抑制於使用印表機1之狀態下，收容部65內之墨水自連通口107流入至第2連通路73內。其結果，容易避免收容部65內之墨水自大氣連通口115漏出至貯槽9A外。

又，於第1實施形態中，於第2連通路73設置有反轉部165。第2連通路73係於反轉部165從自鉛直上方朝鉛直下方之朝向反轉為自鉛直下方朝鉛直上方之朝向。因此，若於墨水自連通口107進入至第2連通路73內之狀態下貯槽9A之姿勢未改變，則進入至第2連通路73之墨水不易越過反轉部165向第5通路155之上游側回流。因此，容易進一步抑制收容部65內之墨水到達第3大氣室72。

又，於第1實施形態中，於收容部65內設置有自殼體61之第1壁81朝片體構件63側突出之支持部127。因此，例如於片體構件63被朝殼體61之第1壁81、即朝收容部65之內側按壓時，可利用支持部127支承片體構件63。藉此，容易限制片體構件63之彎曲。其結果，例如可減輕片體構件63被朝收容部65之內側按壓時收容部65內之容積之收縮。因此，例如容易避免於片體構件63被朝收容部65之內側按壓時，收容部65內之墨水自連通口107流入至第2連通路73內。

又，於第1實施形態中，於收容部65內設置有複數個支持部127，故而可進一步減輕片體構件63被朝收容部65之內側按壓時收容部65內之容積之收縮。因此，例如容易避免於片體構件63被朝收容部65之內側按壓時，收容部65內之墨水自連通口107流入至第2連通路73內。

又，於第1實施形態中，片體構件63接合於設置在支持部127之 接合部64。因此，容易抑制片體構件63之位置偏移。又，例如可減輕在收容部65內之壓力高於大氣壓時等收容部65內之容積增大。

於上述實施形態中，顯示以殼體61及片體構件63構成貯槽9A之例，但貯槽9A之構成並不限定於此。作為貯槽9A之構成，例如亦可採用利用複數個構件構成殼體61之例。作為利用複數個構件構成殼體61之例，可列舉利用其他構件構成殼體61之第1壁81之例。進而，作為利用其他構件構成殼體61之第1壁81之例，可列舉利用與片體構件63不同之片體構件構成第1壁81之例。於該例中，成為利用片體構件63與其他片體構件夾持殼體61之構成。亦可藉由該構成而構成貯槽9A。

於上述第1實施形態中，亦可採用如下構成，即：如圖11(A)所示般，第1緩衝室74之深度於Z軸方向在第1緩衝室74之下部側較上部側淺。於圖11(A)所示之例中，於第1緩衝室74內設置有傾斜168。傾斜168向隨著自第1緩衝室74之上部側朝向下部側而接近片體構件63側之方向、即隨著自第1緩衝室74之上部側朝向下部側而第1緩衝室74之深度變淺之方向傾斜。

根據該構成，由於重力朝第1緩衝室74之下部側作用，故而積存於第1緩衝室74之墨水容易自第1緩衝室74之下部側返回至第2連通路73。此時，只要為第1緩衝室74之深度於下部側較上部側淺之構成，則第1緩衝室74內之墨水於第1緩衝室74之下部側較上部側更容易接近第2連通路73。因此，隨著自第1緩衝室74之上部側朝向下部側，容易將第1緩衝室74內之墨水導入至第2連通路73。其結果，容易使積存於第1緩衝室74之墨水返回至第2連通路73。藉此，可進一步減少殘留於第1緩衝室74之墨水量，故而可進一步減輕墨水之浪費。

再者，作為使第1緩衝室74之深度於下部側較上部側淺之方法，例如亦可採用如圖11(B)所示使傾斜168構成為階梯狀之方法。於該構 成中亦可獲得相同之效果。又，可採用於第2緩衝室75中亦設置傾斜168之構成。若於第2緩衝室75亦設置傾斜168，則可進一步減少殘留於第2緩衝室75之墨水之量，故而可進一步減輕墨水之浪費。再者，於圖11(A)及圖11(B)中，分別表示於YZ平面將第1緩衝室74切斷時之剖面圖。

(第2實施形態)

對第2實施形態之貯槽9B進行說明。再者，於第2實施形態中，對於與第1實施形態相同之構成，標註與第1實施形態相同之符號並省略詳細之說明。如圖12所示，貯槽9B包括殼體171及片體構件63。殼體171例如包含尼龍或聚丙烯等合成樹脂。貯槽9B具有將殼體171與片體構件63接合之構成。於殼體171設置有接合部64。於圖12中，為了易於理解地表示構成，對接合部64附上影線。將片體構件63接合於殼體171之接合部64。於本實施形態中，藉由熔接而將殼體171與片體構件63接合。

如圖13所示，貯槽9B包括收容部181及連通部183。連通部183包括第1大氣室184、第1連通路185、第2大氣室186、第2連通路187及緩衝室188。於收容部181內收容有墨水。再者，於圖13中，表示自片體構件63側觀察貯槽9B之狀態，透過片體構件63而圖示殼體171。收容部181、第1大氣室184、第1連通路185、第2大氣室186、及第2連通路187係藉由接合部64而相互隔開。緩衝室188設置於第2連通路187內。

與殼體61同樣地，殼體171包括第1壁81~第8壁88。進而，殼體171包括第9壁191、第10壁192、第11壁193及第12壁194。第1大氣室184、第1連通路185及第2大氣室186配置於較第5壁85更靠與收容部181側相反之側。於自片體構件63側俯視第1壁81時，收容部181被第2壁82、第3壁83、第4壁84、第5壁85、第9壁191及第10壁192包圍。

又，於自片體構件63側俯視第1壁81時，第1大氣室184、第1連 通路185及第2大氣室186被第5壁85、第6壁86、第7壁87、第8壁88、第9壁191及第10壁192包圍。再者，收容部181之第1壁81與第1大氣室184及第2大氣室186之第1壁81互為同一壁。即，於本實施形態中，收容部181、第1大氣室184及第2大氣室186相互共有第1壁81。又，於殼體171設置有墨水注入部101、供給口113及大氣連通口115。墨水注入部101、供給口113及大氣連通口115之配置部位分別與第1實施形態相同。

如圖14所示，第2壁82、第3壁83、第4壁84、第5壁85、第9壁191及第10壁192分別與第1壁81交叉。第2壁82與第3壁83係設置於在X軸方向隔著第1壁81而相互相對之位置。第4壁84與第5壁85係設置於在Z軸方向隔著第1壁81而相互相對之位置。第3壁83分別與第4壁84及第5壁85交叉。第9壁191位於較第5壁85更靠與收容部181側相反之側。即，第9壁191於鉛直方向位於較第5壁85更靠上方。第9壁191與第4壁84相對。第2壁82分別與第4壁84及第9壁191交叉。第10壁192位於第2壁82與第3壁83之間。第10壁192與第2壁82相對。第10壁192分別與第5壁85及第9壁191交叉。

第2壁82、第3壁83、第4壁84、第5壁85、第9壁191及第10壁192係自第1壁81朝+Y軸方向突出。藉此，藉由以第1壁81為主壁並自主壁朝+Y軸方向延伸之第2壁82、第3壁83、第4壁84、第5壁85、第9壁191及第10壁192而構成凹部201。凹部201構成為朝-Y軸方向凹陷之朝向。凹部201朝+Y軸方向、即朝片體構件63(圖12)側開口。換言之，凹部201設置為朝-Y軸方向、即朝與片體構件63(圖12)側為相反側凹陷之朝向。而且，若將片體構件63接合於殼體171，則凹部201被片體構件63蓋住，從而構成收容部181。再者，第1壁81~第8壁88、第9壁191及第10壁192之各者並不限定於平坦之壁，亦可包含凹凸。

如圖13所示，第6壁86係自第9壁191朝第9壁191之與第4壁84側 相反之側、即朝第9壁191之+Z軸方向側突出。第7壁87係自第5壁85朝第5壁85之與第4壁84側相反之側、即朝第5壁85之+Z軸方向側突出。第6壁86與第7壁87設置於在X軸方向隔著第1大氣室184、第1連通路185及第2大氣室186而相互相對之位置。第8壁88設置於在Z軸方向隔著第1大氣室184、第1連通路185及第2大氣室186而與第5壁85及第9壁191相對之位置。第6壁86分別與第9壁191及第8壁88交叉。第7壁87分別與第5壁85及第8壁88交叉。

於第6壁86與第7壁87之間設置有第11壁193及第12壁194。第1大氣室184與第2大氣室186之間係藉由第11壁193及第12壁194而於X軸方向隔開。第11壁193設置於較第6壁86更靠第7壁87側，且與第6壁86對向。第12壁194設置於較第7壁87更靠第6壁86側，且與第7壁87對向。再者，第12壁194設置於較第11壁193更靠第7壁87側。

如圖14所示，第6壁86、第7壁87、第8壁88、第11壁193及第12壁194分別自第1壁81朝+Y軸方向突出。藉由自第1壁81朝+Y軸方向延伸之第6壁86、第9壁191、第11壁193及第8壁88而構成凹部202。又，藉由自第1壁81朝+Y軸方向延伸之第5壁85、第7壁87、第8壁88及第12壁194而構成凹部203。

凹部202及凹部203分別朝+Y軸方向、即朝片體構件63(圖12)側開口。換言之，凹部202及凹部203分別設置為朝-Y軸方向、即朝與片體構件63(圖12)側為相反側凹陷之朝向。而且，若將片體構件63接合於殼體171，則凹部202被片體構件63蓋住而構成第1大氣室184。同樣地，若將片體構件63接合於殼體171，則凹部203被片體構件63蓋住而構成第2大氣室186。再者，第2壁82~第8壁88、第9壁191~第12壁194自第1壁81之突出量被設定為相互相同之突出量。

如圖13所示，第1連通路185係設置於第11壁193與第12壁194之間，使第1大氣室184與第2大氣室186連通。第2連通路187係設置於收 容部181、第1大氣室184、第1連通路185及第2大氣室186之外側。第2連通路187使第2大氣室186與收容部181連通。於第11壁193設置有連通口204。第1大氣室184係經由連通口204而連通於第1連通路185。又，於第12壁194設置有連通口205。第2大氣室186係經由連通口205而連通於第1連通路185。第1連通路185蜿蜒。第1大氣室184係經由第1連通路185蜿蜒之後連通於第2大氣室186。

如圖14所示，與第1實施形態同樣地，於殼體171亦設置有突出部105。於殼體171中，第2連通路187亦設置於突出部105。於殼體171中，突出部105包括部位105A、部位105B、部位105C及部位105D。又，與第1實施形態同樣地，第2連通路187構成為槽117，該槽117係設置為於突出部105朝與片體構件63側為相反側凹陷之朝向。

如圖13所示，第2連通路187包括連通口106及連通口107。連通口106係朝第2大氣室186之內側開口之開口部。連通口107係朝收容部181之內側開口之開口部。第2大氣室186係自連通口106經由第2連通路187並經過連通口107而連通於收容部181。根據所述內容，收容部181係經由第2連通路187、第2大氣室186、第1連通路185、第1大氣室184、及大氣連通口115而連通於貯槽9B之外部。即，連通部183使大氣連通口115與收容部181之間連通。自大氣連通口115流入至第1大氣室184內之大氣係經由第1連通路185而流入至第2大氣室186。繼而，流入至第2大氣室186之大氣係經由第2連通路187而流入至收容部181內。

如圖14所示，於殼體171中，於第6壁86之與凹部202側相反之側設置有凹部206。凹部206與凹部202係在X軸方向隔著第6壁86排列。凹部206設置為朝與片體構件63(圖12)側相反之側凹陷之朝向。凹部206設置於槽117內。凹部206亦可被視為使槽117之一部分之深度變深之構成。若將片體構件63接合於殼體171，則槽117被片體構件63蓋 住，如圖13所示構成第2連通路187。而且，於第2連通路187中，凹部206構成為緩衝室188。此處，緩衝室188之水平方向(XY平面)上之截面積大於第2連通路187之水平方向(XY平面)上之截面積。又，緩衝室188之水平方向(XY平面)上之截面積小於第2大氣室186之水平方向(XY平面)上之截面積。

再者，於貯槽9B中，亦與第1實施形態同樣地，將片體構件63接合於2個支持部127之各者之接合部64。於貯槽9B中，亦與第1實施形態同樣地，將第3壁83與支持部127A之間隔、支持部127A與支持部127B之間隔、第2壁82與支持部127B之間隔設定為相互相等。又，於貯槽9B中，亦與第1實施形態同樣地，第2連通路187可如圖15所示劃分為第1通路151、第2通路152、第3通路153、第4通路154、第5通路155及第6通路156。又，於貯槽9B中，亦與第1實施形態同樣地，於反轉部161及反轉部165之各者中，流路之朝向反轉。又，於彎曲部162、彎曲部163及彎曲部164之各者中，流路之朝向彎曲。

又，於貯槽9B中，亦與第1實施形態同樣地，緩衝室188於Z軸方向位於較第5壁85更上方。因此，於貯槽9B中，亦與第1實施形態同樣地，緩衝室188位於較墨水注入部101之開口128(圖7)更上方。又，與第1實施形態同樣地，為了容易避免緩衝室188被墨水充滿，只要使緩衝室188之至少一部分於Z軸方向位於較開口128更靠上方即可。於該構成中，亦可容易避免緩衝室188被墨水充滿。

緩衝室188設置於第2連通路187中之第5通路155。緩衝室188係於Z軸方向配置於第9壁191與第8壁88之間。再者，緩衝室188之配置部位並不限定於第5通路155。作為緩衝室188之配置部位，亦可採用第1通路151~第6通路156中之任一部位。又，作為緩衝室188之配置部位，亦可採用反轉部161、反轉部165、彎曲部162、彎曲部163、彎曲部164、及彎曲部166中之任一部位。

於貯槽9B中，連通口106位於第7壁87與第5壁85交叉之交叉部。就另一觀點而言，連通口106係於鉛直方向位於第2大氣室186之下端。連通口107位於第2壁82與第9壁191交叉之交叉部。就另一觀點而言，連通口107係於鉛直方向位於收容部181之上端。於本實施形態中，連通口107係於鉛直方向位於較緩衝室188更靠下方。又，連通口204位於第9壁191與第11壁193交叉之交叉部。就另一觀點而言，連通口204係於鉛直方向位於第1大氣室184之下端。

與第1實施形態同樣地，如圖13所示，連通口107於鉛直方向位於較上限標記28更靠上方。上限標記28於鉛直方向位於較第5壁85更靠下方。因此，上限標記28於鉛直方向位於較墨水注入部101之開口128更靠下方。藉此，容易避免於作業人員將墨水自墨水注入部101注入至貯槽9B內時，墨水超過上限標記28而到達開口128。因此，容易避免於作業人員將墨水自墨水注入部101注入至貯槽9B內時，墨水自墨水注入部101溢出。

如上所述，第9壁191位於較第5壁85更靠與收容部181側相反之側。即，第9壁191於Z軸方向位於較第5壁85更靠上方。而且，連通口107位於第2壁82與第9壁191交叉之交叉部。因此，連通口107係於Z軸方向位於較第5壁85更靠上方。此處，墨水注入部101之開口128(圖7)係與第1實施形態同樣地設置於第5壁85。因此，連通口107係於Z軸方向位於較開口128(圖7)更靠上方。

如圖15中之A部之放大圖即圖16所示，連通口205位於較第5壁85與第12壁194交叉之交叉部更靠第8壁88側。就另一觀點而言，連通口205於鉛直方向位於較第2大氣室186之下端211更靠上方。進而，於貯槽9B中，連通口205位於較第8壁88與第12壁194交叉之交叉部更靠第5壁85側。就另一觀點而言，連通口205於鉛直方向位於較第2大氣室186之上端213更靠下方。

於本實施形態中，連通口205位於較自下端211上升尺寸H1之位置更靠上方。尺寸H1為連通口106之Z軸方向上之尺寸。又，連通口205位於較自上端213上升尺寸H2之位置更靠下方。尺寸H2係連通口205之Z軸方向上之尺寸。再者，於本實施形態中，連通口205位於較自下端211上升尺寸H1之2倍量之位置更靠上方。又，連通口205位於較自上端213下降尺寸H2之2倍量之位置更靠下方。

於第2實施形態中，Z軸方向對應於與水平方向交叉之交叉方向，收容部181對應於液體收容部，墨水注入部101對應於液體注入部，開口128對應於液體注入口，第2大氣室186對應於大氣室，連通口107對應於連接口。又，大氣連通口115、第1大氣室184、及第1連通路185對應於大氣導入部。又，第2連通路187對應於連通路，殼體171對應於殼體構件。又，第2壁82及第3壁83對應於隔著肋部而相互對向之2個內壁。又，第3通路153及第5通路155之一者對應於第1部分，第3通路153及第5通路155之另一者對應於第2部分。又，連通口205對應於第1連接口，連通口106對應於第2連接口，尺寸H2對應於第1距離，尺寸H1對應於第2距離。

於第2實施形態中亦可獲得與第1實施形態相同之效果。進而，於第2實施形態中，如上所述，連通口205位於較第2大氣室186之下端211更靠上方(圖16)。因此，例如，容易避免於墨水自收容部181經由第2連通路187流入至第2大氣室186內時，流入至第2大氣室186內之墨水直接到達連通口205。即，容易使自收容部181經由第2連通路187流入至第2大氣室186內之墨水留存於第2大氣室186內。其結果，容易進一步避免收容部181內之墨水自大氣連通口115漏出至貯槽9B外。

又，於第2實施形態中，如上所述，連通口205位於較第2大氣室186之上端213更靠下方(圖16)。因此，例如容易避免於墨水自收容部181經由第2連通路187流入至第2大氣室186內之狀態下，在貯槽9B之 上下之朝向反轉時，第2大氣室186內之墨水直接到達連通口205。即，即便於貯槽9B之上下之朝向反轉之狀態下，亦容易使自收容部181經由第2連通路187流入至第2大氣室186內之墨水留存於第2大氣室186內。其結果，容易進一步避免收容部181內之墨水自大氣連通口115漏出至貯槽9B外。

又，於第2實施形態中，如上所述，連通口205位於較自下端211上升尺寸H1之位置更靠上方。根據該構成，例如容易避免於墨水自收容部181經由第2連通路187流入至第2大氣室186內時，流入至第2大氣室186內之墨水自連通口106沿著第5壁85直接到達連通口205。即，容易使自收容部181經由第2連通路187流入至第2大氣室186內之墨水留存於第2大氣室186內。其結果，容易進一步避免收容部181內之墨水自大氣連通口115漏出至貯槽9B外。再者，如上所述，於本實施形態中，連通口205位於較自下端211上升尺寸H1之2倍量之位置更靠上方。因此，可使連通口205進一步遠離第2大氣室186之下端211，故而容易進一步避免收容部181內之墨水自大氣連通口115漏出至貯槽9B外。

又，於第2實施形態中，如上所述，連通口205位於較自上端213上升尺寸H2之位置更靠下方。根據該構成，例如容易避免於墨水自收容部181經由第2連通路187流入至第2大氣室186內之狀態下，在貯槽9B之上下之朝向反轉時，第2大氣室186內之墨水直接到達連通口205。即，即便於貯槽9B之上下之朝向反轉之狀態下，亦容易使自收容部181經由第2連通路187流入至第2大氣室186內之墨水留存於第2大氣室186內。其結果，容易進一步避免收容部181內之墨水自大氣連通口115漏出至貯槽9B外。再者，如上所述，於本實施形態中，連通口205位於較自上端213下降尺寸H2之2倍量之位置更下方。因此，在貯槽9B之上下之朝向反轉時，可使連通口205進一步遠離第2大氣室186 之上端213，故而容易進一步避免第2大氣室186內之墨水直接到達連通口205。其結果，容易進一步避免收容部181內之墨水自大氣連通口115漏出至貯槽9B外。

又，於第2實施形態中，如圖17所示，第9壁191位於較第5壁85更靠第8壁88側。就其他觀點而言，第9壁191位於較第5壁85更靠鉛直上方。即，第9壁191距離第4壁84之高度高於第5壁85距離第4壁84之高度。於第9壁191與第5壁85之間設置有第10壁192。根據該構成，於收容部181構成有凹部221。凹部221設置為較第5壁85更朝第8壁88側、即較第5壁85更朝+Z軸方向側凹陷之朝向。而且，於凹部221中，於與第10壁192對向之位置設置有連通口107。因此，連通口107位於較第5壁85更靠第9壁191側。就其他觀點而言，連通口107位於較第5壁85更靠鉛直上方。再者，於第2實施形態中，凹部221對應於上方區域。

如上所述，與第1實施形態同樣地，墨水注入部101之開口128(圖7)係設置於第5壁85。因此，連通口107係於Z軸方向位於較開口128(圖7)更靠上方。根據該構成，收容部181內之墨水難以到達連通口107。因此，可降低收容部181內之墨水流入至第2連通路187內之可能性。其結果，可降低收容部181內之墨水到達第2大氣室186之可能性，故而可降低收容部181內之墨水自第2大氣室186經由第1連通路185及第1大氣室184洩漏至貯槽9B外之可能性。

進而，例如圖17所示，認為於自墨水注入部101注入墨水時，貯槽9B內之墨水之液面到達第5壁85。當墨水之液面到達第5壁85時，墨水到達墨水注入部101之開口128。於貯槽9B中，於此種情形時，於凹部221亦保持有大氣之空間。繼而，如圖18所示，認為於在注入後添加頂蓋143時，收容部181內之壓力變高，於凹部221中墨水之液面上升。於貯槽9B中，即便產生此種情況，亦由於在凹部221存在大 氣之空間，故而上升之液面難以到達連通口107。因此，與第1實施形態相比，容易進一步抑制收容部181內之墨水自連通口107流入至第2連通路187內。其結果，容易進一步避免收容部181內之墨水自大氣連通口115漏出至貯槽9B外。

再者，於本實施形態中，凹部221之容積大於墨水注入部101之被側壁129包圍之空間中之嵌入頂蓋143之容積。藉此，即便於在被側壁129包圍之空間中滿滿地充滿墨水之狀態下安裝頂蓋143，亦可利用凹部221之容積捕獲藉由頂蓋143壓入至收容部181內之墨水量。其結果，即便於在被側壁129包圍之空間中滿滿地充滿墨水，收容部181內之墨水亦難以到達連通口107。因此，容易進一步抑制收容部181內之墨水自連通口107流入至第2連通路187內。其結果，容易進一步避免收容部181內之墨水自大氣連通口115漏出至貯槽9B外。

於上述實施形態中，表示以殼體171及片體構件63構成貯槽9B之例，但貯槽9B之構成並不限定於此。作為貯槽9B之構成，例如亦可採用以複數個構件構成殼體171之例。作為以複數個構件構成殼體171之例，可列舉以其他構件構成殼體171之第1壁81之例。進而，作為以其他構件構成殼體171之第1壁81之例，可列舉以與片體構件63不同之片體構件構成第1壁81之例。於該例中，成為利用片體構件63與其他片體構件夾持殼體171之構成。亦可藉由該構成構成貯槽9B。

於上述第2實施形態中，亦與第1實施形態同樣地，可採用對緩衝室188附加圖11(A)或圖11(B)所示之傾斜168之構成。根據該構成，與第1實施形態同樣地，可進一步減少殘留於緩衝室188之墨水之量，故而可進一步減輕墨水之浪費。

於上述第2實施形態中，將複數個貯槽9B收容於同一第2殼體7內。根據該構成，容易減少複數個貯槽9B中之連通口205之高度等之不均。其結果，即便於使用複數個貯槽9B之情形時，亦容易針對所 有貯槽9B防止墨水向第1連通路185流入。

於上述各實施形態中，複數個貯槽9並非內置於覆蓋機構單元10之第1殼體3。即，於上述各實施形態中，採用將複數個貯槽9配置於第1殼體3之外側之構成。然而，亦可採用將複數個貯槽9內置於第1殼體3之構成。以下，關於將複數個貯槽9內置於殼體內之構成，以作為液體噴射裝置之一例之一體機為例進行說明。

如圖19所示，本實施形態之一體機500包括印表機503及掃描儀單元505。於一體機500中，印表機503與掃描儀單元505相互重疊。於使用印表機503之狀態下，掃描儀單元505位於印表機503之鉛直上方。再者，於圖19中，附有相互正交之座標軸即XYZ軸。關於其後所示之圖亦視需要附上XYZ軸。圖19中之XYZ軸及圖19之後之XYZ軸係基於圖1中之XYZ軸。又，於一體機500中，對與印表機1相同之構成標註與印表機1中之符號相同之符號並省略詳細之說明。

掃描儀單元505為平板類型，且包括影像感測器等攝像元件(未圖示)、壓板及蓋。掃描儀單元505可經由攝像元件而讀取記錄於用紙等媒體之圖像等作為圖像資料。因此，掃描儀單元505係作為圖像等之讀取裝置發揮功能。如圖20所示，掃描儀單元505構成為可相對於印表機503之殼體507旋動。而且，掃描儀單元505之壓板之印表機503側之面係覆蓋印表機503之殼體507，且亦具有作為印表機503之蓋之功能。

印表機503可藉由作為液體之一例之墨水而於印刷用紙等印刷媒體P進行印刷。如圖21所示，印表機503包括殼體507、及作為液體收容容器之一例之複數個貯槽9。殼體507係構成印表機503之外殼之一體成形之零件，收容印表機503之機構單元511。複數個貯槽9收容於殼體507內，且分別收容供於印刷之墨水。於印表機503中設置有4個貯槽9。4個貯槽9之墨水之種類互不相同。於印表機503中，作為墨水 之種類，採用黑色、黃色、洋紅、青色之4種。而且，墨水之種類互不相同之4個貯槽9分別設置有1個。

又，印表機503包括操作面板512。於操作面板512設置有電源按鈕513、及其他操作按鈕514等。操作印表機503之作業人員可於與操作面板512對向之狀態下，操作電源按鈕513或操作按鈕514。於印表機503中，將設置有操作面板512之面設為正表面。於印表機503之正表面，於殼體507設置有窗部515。窗部515具有透光性。而且，於與窗部515重疊之位置設置有上述之4個貯槽9。因此，作業人員可經由窗部515而視認4個貯槽9。

於印表機503中，各貯槽9之與窗部515對向之部位具有透光性。可自各貯槽9之具有透光性之部位視認貯槽9內之墨水。因此，作業人員可藉由經由窗部515視認4個貯槽9，而視認各貯槽9中之墨水之量。於印表機503中，將窗部515設置於印表機503之正表面，故而作業人員可於與操作面板512對向之狀態下，自窗部515視認各貯槽9。因此，作業人員可一面操作印表機503，一面掌握各貯槽9中之墨水之剩餘量。

如作為表示機構單元511之立體圖之圖22所示，印表機503包括印刷部41及供給管43。印刷部41及供給管43分別具有與印表機1中之印刷部41及供給管43相同之構成。於印表機503中，亦與印表機1同樣地，媒體搬送機構係藉由利用來自未圖示之馬達53之動力驅動搬送輥51而將印刷媒體P沿著Y軸方向搬送。又，於印表機503中，亦與印表機1同樣地，頭部搬送機構藉由將來自馬達53之動力經由正時皮帶55傳遞至托架45，而將托架45沿著X軸方向搬送。印刷頭部47搭載於托架45。因此，可藉由頭部搬送機構經由托架45而將印刷頭部47沿X軸方向搬送。一面藉由媒體搬送機構及頭部搬送機構使印刷頭部47相對於印刷媒體P之相對位置變化，一面自印刷頭部47噴出墨水，藉此對 印刷媒體P實施印刷。

於上述之一體機500中，複數個貯槽9收容於同一殼體507內。根據該構成，例如於將貯槽9B應用於一體機500之情形時，容易減少複數個貯槽9B中之連通口205之高度等之不均。其結果，即便於使用複數個貯槽9B之情形時，亦容易針對所有貯槽9B防止墨水向第1連通路185流入。

於上述各實施形態中，液體噴射裝置亦可為噴射或噴出或塗佈而消耗除墨水以外之其他液體之液體噴射裝置。再者，作為自液體噴射裝置成為微小量之液滴而噴出之液體之狀態，亦包含粒狀、淚滴狀、連成線狀之狀態。又，此處所述之液體只要為可利用液體噴射裝置消耗般之材料即可。例如只要為物質呈液相時之狀態之材料即可，包含黏性較高或較低之液狀體、如溶膠、凝膠水及其他無機溶劑、有機溶劑、溶液、液狀樹脂、液狀金屬(金屬熔液)般之流狀體。又，不僅包含作為物質之一狀態之液體，亦包含包括顏料或金屬粒子等固形物之功能材料之粒子溶解、分散或混合於溶劑中而成者等。作為液體之代表例，除於上述各實施形態中說明之墨水以外，亦可列舉液晶等。此處，所謂墨水包含普通之水性墨水及油性墨水以及凝膠墨水、熱熔墨水等各種液體組合物。作為液體噴射裝置之具體例，例如有噴射如下液體之液體噴射裝置，該液體係以分散或溶解之形式包含液晶顯示器、EL(Electroluminescence，電致發光)顯示器、面發光顯示器、彩色濾光片之製造等中所使用之電極材料或顏色材料等材料。又，亦可為噴射生物晶片製造中所使用之生物有機物之液體噴射裝置、用作精密移液管並噴射成為試料之液體之液體噴射裝置、及印染裝置或微分注器等。進而，亦可為對鐘錶或相機等精密機械精確地噴射潤滑油之液體噴射裝置、為形成用於光通訊元件等之微小半球型透鏡(光學透鏡)等而向基板上噴射紫外線硬化樹脂等透明樹脂液之液體 噴射裝置。又，亦可為噴射酸性或鹼性等蝕刻液以對基板等進行蝕刻之液體噴射裝置。

Claims (11)

1. 一種液體收容容器，其特徵在於包括：液體收容部，其可收容液體；液體注入部，其連接於上述液體收容部，且可將上述液體注入至上述液體收容部；大氣室，其與大氣連通；大氣導入路，其與上述大氣室連通，且可將上述大氣導入至上述大氣室；以及連通路，其於與上述液體注入部連接於上述液體收容部之位置不同之位置連接上述液體收容部，且使上述液體收容部與上述大氣室連通；且將上述液體注入部與上述液體收容部交叉之交叉部定義為液體注入口，於使上述液體注入口在與水平方向交叉之交叉方向朝向上方之姿勢下，於將上述大氣導入路與上述大氣室之連接口即第1連接口之上述交叉方向上之長度定義為第1距離，且將上述連通路與上述大氣室之連接口即第2連接口之上述交叉方向上之長度定義為第2距離時，上述第1連接口位於較自上述大氣室之上端下降上述第1距離之位置更下方，且位於較自上述大氣室之下端上升上述第2距離之位置更上方。
2. 如請求項1之液體收容容器，其中上述第1連接口位於較自上述大氣室之上端下降上述第1距離之2倍之距離之位置更下方，且位於較自上述大氣室之下端上升上述第2距離之2倍之距離之位置更上方。
3. 如請求項1或2之液體收容容器，其包括：殼體構件，其具有槽及連通於上述槽之凹部；以及 片體構件，其藉由覆蓋上述槽及上述凹部而蓋住上述槽及上述凹部；且上述大氣導入路之至少一部分包含被上述槽與上述片體構件包圍之空間，上述大氣室之至少一部分藉由由上述凹部與上述片體構件包圍之空間而構成。
4. 如請求項3之液體收容容器，其中於上述殼體構件，設置有朝上述殼體構件之與上述片體構件側相反之側凹陷之第2凹部，上述片體構件係藉由覆蓋上述第2凹部而蓋住上述第2凹部，上述液體收容部之至少一部分藉由由上述第2凹部與上述片體構件包圍之空間而構成，於上述第2凹部內設置有朝上述片體構件側凸出之肋部。
5. 如請求項4之液體收容容器，其中上述片體構件與上述肋部接合。
6. 如請求項4之液體收容容器，其中上述凹部包括隔著上述肋部而相互對向之2個內壁，上述2個內壁中之一內壁與上述肋部之間隔和上述2個內壁中之另一內壁與上述肋部之間隔相等。
7. 如請求項4之液體收容容器，其中上述凹部具有相互對向之2個內壁，於上述凹部內設置有沿上述2個內壁對向之方向排列之複數個上述肋部，上述2個內壁中之一內壁和於上述方向與上述一內壁相鄰之上述肋部之間隔、上述2個內壁中之另一內壁和於上述方向與上述另一內壁相鄰之上述肋部之間隔、及 於上述方向相鄰之2個上述肋部之間隔相互相等。
8. 如請求項1或2之液體收容容器，其中於上述姿勢下，上述大氣室位於較上述液體收容部更上方，上述連通路之一部分位於較上述大氣室更上方。
9. 如請求項1或2之液體收容容器，其中上述連通路包含第1部分及第2部分，上述第1部分與上述第2部分係於上述姿勢下，在水平方向隔著上述大氣室而相互位於相反側。
10. 一種液體噴射裝置，其特徵在於包括：第1殼體；機構單元，其被上述第1殼體覆蓋，且作為可執行印刷動作之機構部分；第2殼體，其與上述第1殼體結合；以及複數個如請求項1至9中任一項之液體收容容器；且上述複數個液體收容容器配置為被上述第2殼體覆蓋且可經由供給管而將上述液體供給至上述機構單元之印刷部。
11. 一種液體噴射裝置，其特徵在於包括：殼體；機構單元，其被上述殼體覆蓋，且作為可執行印刷動作之機構部分；以及複數個如請求項1至9中任一項之液體收容容器；且上述複數個液體收容容器配置為被上述殼體覆蓋且可經由供給管而將上述液體供給至上述機構單元之印刷部。