TWI610764B - 不需儲存粒子之高流量粒子噴砂裝置及方法 - Google Patents

Abstract

一粒子噴砂裝置輸送器能夠產生顆粒尺寸粒子且在不需實質儲存之情況下將其遞送至一單一軟管進給器總成。該裝置經組態以與低溫材料(諸如二氧化碳)之固體塊一起且與此材料之個別粒料一起使用。

Description

不需儲存粒子之高流量粒子噴砂裝置及方法 (相關申請案交叉參考)

本申請案主張2012年3月8日提出申請之美國專利申請案第61/608,639號及2012年2月2日提出申請之美國專利申請案第61/594,347號之優先權，該等美國專利申請案之揭示內容特此以全文引用方式併入本文中。

本發明一般而言係關於使用低溫材料之粒子噴砂，且特定而言係關於一種涉及用二氧化碳噴砂介質(諸如粒料或粒子)噴砂之方法及器件，該等二氧化碳噴砂介質係夾帶於一高流量輸送氣體中來遞送而實質上不需儲存二氧化碳介質。

二氧化碳噴砂系統係眾所周知的，且連同各種相關聯組件部分展示於美國專利4,744,181、4,843,770、4,947,592、5,018,667、5,050,805、5,071,289、5,109,636、5,188,151、5,203,794、5,249,426、5,288,028、5,301,509、5,473,903、5,520,572、5,571,335、5,660,580、5,795,214、6,024,304、6,042,458、6,346,035、6,447,377、6,695,679、6,695,685及6,824,450中，所有該等美國專利以引用方式併入本文中。另外，2006年1月31日提出申請之PARTICLE BLAST CLEANING APPARATUS WITH PRESSURIZED CONTAINER之序號為11/344,583之美國專利申請案、2007年9月11日提出申請之PARTICLE BLAST SYSTEM WITH SYNCHRONIZED FEEDER AND PARTICLE GENERATOR之序號為11/853,194之美國專利申請案、2008年5月15日提出申請之PARTICLE BLASTING METHOD AND APPARATUS THEREFOR之序號為12/121,356之美國專利申請案、2009年1月5日提出申請之BLAST NOZZLE WITH BLAST MEDIA FRAGMENTER之序號為12/348,645之美國專利申請案、2010年10月19日提出申請之METHOD AND APPARATUS FOR FORMING CARBON DIOXIDE PARTICLES INTO BLOCKS之序號為61/394688之美國專利臨時申請案及2011年5月19日提出申請之METHOD AND APPARATUS FOR FORMING CARBON DIOXIDE PARTICLES之序號為61/487837之美國專利臨時申請案特此以引用方式併入。

在一粒子噴砂系統中，通常，粒子(亦稱為噴砂介質)藉由一粒子加速器件(通常稱為一噴砂噴嘴)噴射且引導朝向一工件或其他目標(在本文中亦稱為一製品)。如以引用方式併入本文中之第6,726,549號美國專利中所揭示，粒子可透過一進給器引入至一輸送氣流中，且夾帶於該輸送氣體中由該輸送氣體透過一單一軟管(稱為一單軟管系統)自進給器輸送至噴砂噴嘴。亦已知，在噴砂噴嘴處將粒子引入至高壓氣體中，噴砂噴嘴經組態以組合夾帶於一低量氣流中透過一第一軟管到達之粒子流與在一第二軟管中到達之高壓氣體且自其噴射所夾帶之流(稱為一雙軟管系統)。

針對二氧化碳噴砂介質已知各種尺寸，諸如粒料及顆粒，取決於噴砂需要而對其進行選擇。粒料可藉由透過一模板擠出二氧化碳雪而形成。粒料直徑應用各種尺寸，舉例而言，介於自3 mm至12 mm之範圍。顆粒可藉由任何適合製程形成，諸如藉由使用自一塊產生二氧化碳顆粒之裝置，稱為一刮刀，如以引用方式併入本文中之USP 5,520,572中所揭示，其中一工作邊緣(諸如一刀緣)推抵一個二氧化碳塊且跨越其移動。如'572專利中所示，如此產生之顆粒直接進給至低量氣流中，諸如藉由如'572專利之圖1中所示之文氏進氣歧管(Venturi induction)，藉由第一軟管輸送至噴砂噴嘴102('572，圖6)，其中其與高壓氣體組合在一起且經引導朝向一工件。

每當環境條件允許時在介質到達工件之前發生二氧化碳噴射介質之非想要之昇華。顆粒之昇華可係一顯著問題，至少部分地歸因於每一個別顆粒相對於其體積及表面積之極小質量。舉例而言，'572專利教示將藉由刮削一乾冰塊所產生之顆粒直接遞送至雙軟管系統之第一軟管中而實質上不需儲存欲輸送以與高壓氣體組合之顆粒。

在本發明之前，由於昇華，因此利用顆粒之系統限制於低流量裝置。雙軟管及單軟管顆粒系統係已知的，但高流量系統非已知的。使用顆粒噴砂介質之雙軟管系統通常被限制於低流量，其中具有3/4"之一最大軟管(用於輸送顆粒)內徑及50英尺之最大長度。先前，熟習此項技術者設計此等系統以基於以下結論而避免高體積氣流：顆粒之昇華率與其中夾帶顆粒之氣流之體積成比例，從而導致先前技術系統透過軟管之小軟管直徑維持低流量。在單軟管系統中使用大直徑軟管之嘗試導致系統具有需要每分鐘10 lbs至20 lbs之顆粒介質流率以剛好等於每分鐘遞送5 lbs之雙軟管系統之結果之昇華率。此結果使較小軟管直徑之連續使用更具說服力。

基於本發明者對昇華問題並非夾帶顆粒之氣流之體積之結果而係其中夾帶粒子之氣流之速度之結果之判定，本發明者已克服熟習此項技術者未解決之問題，且成功組態能夠遞送高流量之一單一軟管顆粒噴砂介質系統。發明者已判定氣流之速度與顆粒之速度之間的差導致昇華：差越大，昇華越大。將發明者之發現應用於對單軟管顆粒噴砂介質系統之先前技術嘗試，現在應理解，被熟習此項技術者誤解釋 為由增加之流量體積所致的伴隨使用一較大剖面面積之軟管(亦即，較大直徑軟管)之昇華之增加係由在軟管中增加氣體速度(而非在增加之剖面面積之情況下原本預期減少速度之減少氣體速度)之噴嘴之使用所致的增加之氣體速度之結果。然而，發明者之本發明藉由提供經組態以維持輸送氣體及所夾帶顆粒之間的速度差足夠低以保持在功能上可接受之足夠低之昇華率之具有高流量之一單軟管顆粒噴砂介質系統來克服先前技術之誤理解、誤解釋及缺點。

儘管本文中將結合供與二氧化碳噴砂一起使用之一粒子進給器闡述本發明，但應理解本發明並不限於用於或應用於二氧化碳噴砂。本發明之教示可用於使用任何可昇華及/或低溫材料之粒子之應用。

2‧‧‧粒子噴砂裝置/裝置

4‧‧‧框架

6‧‧‧控制面板

8‧‧‧粒子產生器

10‧‧‧管道

10a‧‧‧管道出口

10b‧‧‧蓋

10c‧‧‧內部通路

12‧‧‧進給器總成

14‧‧‧儲存倉/倉

16‧‧‧壓力板

18‧‧‧襯裡

19‧‧‧致動器

19a‧‧‧托架

19b‧‧‧臂

20‧‧‧側

22‧‧‧鉸鏈罩

23‧‧‧後門

24‧‧‧殼體

24a‧‧‧向外接觸表面

26‧‧‧蓋

28‧‧‧可旋轉載體/載體/可旋轉托架

28a‧‧‧表面

28b‧‧‧內表面

30‧‧‧工作邊緣

30a‧‧‧切割邊緣

30b‧‧‧開口

32a‧‧‧滑件

32b‧‧‧滑件

32c‧‧‧伸長表面

34‧‧‧轉子/轂部

34a‧‧‧孔

34b‧‧‧轂部

36‧‧‧緊固件

38‧‧‧間隔件

42‧‧‧框架

44‧‧‧被驅動元件

46‧‧‧馬達

48‧‧‧驅動元件

50‧‧‧皮帶

54‧‧‧開口

56a‧‧‧內凹部/開口

56b‧‧‧內凹部/開口

58a‧‧‧外凹部/凹部/開口

58b‧‧‧外凹部/凹部/開口

60‧‧‧緊固件

62‧‧‧開口

64‧‧‧進給器區塊/區塊

66‧‧‧入口

68‧‧‧出口

70‧‧‧腔

70a‧‧‧壁

70b‧‧‧底部

72‧‧‧板

74‧‧‧軸承支撐件/軸承

76‧‧‧軸承支撐件/軸承

78‧‧‧軸承

80‧‧‧軸承

82‧‧‧轉子

82a‧‧‧螺孔

82b‧‧‧轉子轂部

84‧‧‧周圍表面

86‧‧‧經間隔開袋部/轉子/袋部

88‧‧‧馬達

90‧‧‧驅動部件

92‧‧‧驅動元件

94‧‧‧驅動元件

96‧‧‧止推軸承板

98‧‧‧保持板

100‧‧‧開口

102‧‧‧噴砂噴嘴/保持器軸承盤

104‧‧‧保持器

106‧‧‧緊固件

108‧‧‧下部密封墊/下部密封

110‧‧‧密封

112‧‧‧凹槽

114‧‧‧表面

116‧‧‧支架

116a‧‧‧部分

118‧‧‧上部密封墊/上部墊密封

120‧‧‧表面

122‧‧‧緊固件

124‧‧‧開口

126‧‧‧開口

128‧‧‧上游室

130‧‧‧下游室

132‧‧‧通路

134‧‧‧通路

136‧‧‧凹部

138‧‧‧凹部

140‧‧‧壁

140a‧‧‧底面

140b‧‧‧頂部

142‧‧‧壁

142b‧‧‧頂部

202‧‧‧入口配件

204‧‧‧開口

206‧‧‧開口

208‧‧‧上游室

210‧‧‧下游室

212‧‧‧通路

214‧‧‧通路

216‧‧‧凹部/壁

216a‧‧‧底面

218‧‧‧凹部/壁

218a‧‧‧底面

510‧‧‧粒子產生器

512‧‧‧進給器總成

514‧‧‧開口

516‧‧‧護罩

518‧‧‧開口

520‧‧‧罩/側

521‧‧‧粒子噴砂裝置/裝置

522‧‧‧側開口

526‧‧‧內門

526a‧‧‧襯墊

528‧‧‧外門

530‧‧‧間隔件

532‧‧‧外皮/表皮

534‧‧‧閂

536a‧‧‧支撐臂

536b‧‧‧支撐臂

538‧‧‧可移動壓力板/壓力板

538a‧‧‧襯墊

538b‧‧‧突出部

540‧‧‧可旋轉載體

540a‧‧‧內表面/表面

540b‧‧‧表面/外表面

541‧‧‧框架

542‧‧‧致動器

544‧‧‧托架

546‧‧‧臂

548‧‧‧不移動部件

550‧‧‧底部

552‧‧‧殼體/蓋

554‧‧‧上部蓋

556‧‧‧後上部蓋

558‧‧‧後側蓋

560‧‧‧後側蓋

561‧‧‧控制面板

562‧‧‧收集器室

564‧‧‧下部前蓋

566‧‧‧管道

568‧‧‧內部通路

570‧‧‧轉子

570a‧‧‧孔

572‧‧‧轂部

574‧‧‧緊固件

576‧‧‧間隔件

578‧‧‧軸承

580‧‧‧軸承座

581‧‧‧供應倉/倉

582‧‧‧緊固件

584‧‧‧被驅動元件

586‧‧‧驅動元件

588‧‧‧環狀驅動元件

590‧‧‧固定開口

592‧‧‧可調整開口/開口

594‧‧‧固定插入件/插入件

596‧‧‧凹入開口

596a‧‧‧凹入部分

596b‧‧‧凹入槽

596c‧‧‧邊緣

598‧‧‧工作邊緣

600‧‧‧緊固件

602‧‧‧可移動插入件/滑件

604‧‧‧凹入開口/開口

606a‧‧‧臂部分

606b‧‧‧臂部分

606c‧‧‧可移動邊緣/邊緣

606d‧‧‧凹部

608‧‧‧中心部分

610‧‧‧凹入中心部分

612‧‧‧凹入臂部分

612a‧‧‧尖端

614‧‧‧凹入臂部分

614a‧‧‧尖端

616‧‧‧邊緣

618‧‧‧槽/伸長槽

620‧‧‧插入件

620a‧‧‧伸長槽

620b‧‧‧壁

622‧‧‧傾斜表面

624‧‧‧凹部

626‧‧‧過中心槓桿/槓桿

628‧‧‧頭部部分

630‧‧‧臂

632‧‧‧保持部件

634‧‧‧銷

636‧‧‧孔

638‧‧‧孔

640a‧‧‧銷

640b‧‧‧銷

642a‧‧‧孔

642b‧‧‧孔

644‧‧‧彈簧墊圈

644a‧‧‧孔

644b‧‧‧孔

646‧‧‧軸承墊圈

648‧‧‧螺母

650‧‧‧開口銷

652‧‧‧進給器區塊/區塊

654‧‧‧入口

656‧‧‧出口

658‧‧‧腔

658a‧‧‧壁

660‧‧‧板

662‧‧‧支撐件

664‧‧‧支撐件

666‧‧‧軸承/密封軸承

668‧‧‧轉子

670‧‧‧軸件

672‧‧‧周圍表面

674‧‧‧袋部

676‧‧‧支腿

678‧‧‧支腿

680‧‧‧耦合件

682‧‧‧馬達

688‧‧‧下部密封墊/下部密封/下部墊密封

690‧‧‧密封

692‧‧‧凹槽

694‧‧‧表面

696‧‧‧支架

696a‧‧‧部分

698‧‧‧上部密封墊/上部墊密封

702‧‧‧可移動插入件/滑件/插入件

704‧‧‧凹入開口/開口

706‧‧‧可移動邊緣

708‧‧‧中心部分

709‧‧‧端部

715‧‧‧表面

715a‧‧‧表面

716‧‧‧邊緣

717‧‧‧邊緣

726‧‧‧槓桿

730‧‧‧銷

732‧‧‧開口/第一開口

734‧‧‧開口/第二開口

A‧‧‧箭頭/旋轉方向

B‧‧‧箭頭/移動方向

C‧‧‧箭頭/旋轉方向

併入本文中且組成此說明書之一部分之隨附圖式圖解說明本發明的實施例，並與上文給出之對本發明之一般說明及下文給出之對實施例詳細說明一起用於闡釋本發明之原理。

圖1係根據本發明之教示構造之一粒子噴砂裝置之一透視圖。

圖2係蓋被省略之圖1之粒子噴砂裝置之透視圖。

圖3係自左前上方圖解說明圖1之粒子噴砂裝置之粒子產生器及進給器總成之一透視圖。

圖4係自右前下方圖解說明圖1之粒子噴砂裝置之粒子產生器及進給器總成之一透視圖。

圖5係沿著圖1之粒子噴砂裝置之粒子產生器及進給器總成之中線截取之一側剖面圖。

圖6係沿著圖1之粒子噴砂裝置之粒子產生器及進給器總成之中線截取之一前剖面圖。

圖7係圖1之粒子噴砂裝置之粒子產生器之可旋轉載體及殼體之一透視圖。

圖8係圖7之可旋轉載體之一分解圖。

圖9係圖7之可旋轉載體之一刀片及可調整滑件之一透視剖面圖。

圖10A、圖10B及圖10C係圖7之可旋轉載體之一刀片之側視圖、透視圖及端視圖。

圖11係圖7之可旋轉載體之內可調整滑件之一透視圖。

圖12係圖7之可旋轉載體之外可調整滑件之一透視圖。

圖13係圖1之粒子噴砂裝置之進給器總成之一分解透視圖。

圖14A係圖13之進給器總成之下部密封之一透視圖。

圖14B係圖13之進給器總成之下部密封之一俯視圖。

圖15係圖1之粒子噴砂裝置之進給器總成之一剖面圖。

圖16係根據本發明之教示構造之一粒子噴砂裝置之自左前方之一透視圖。

圖17係自左後方之圖16之粒子噴砂裝置之一透視圖。

圖18係自左前方圖解說明圖16之粒子噴砂裝置之供應倉之一透視圖。

圖19係類似於圖18之一透視圖，其中門位於下部位置中。

圖20係類似於圖5之一透視圖，其中線性致動器、壓力板及後蓋自粒子產生器及進給器總成之其餘部分分解。

圖21係自右前方圖解說明粒子產生器及進給器總成之透視圖，其中門被省略。

圖22係沿圖21之線22-22截取之一剖面圖。

圖23係被驅動元件及可旋轉載體之一分解圖。

圖24係圖16之粒子噴砂裝置之粒子產生器之可旋轉載體之外表面之一平面圖。

圖25係圖16之粒子噴砂裝置之粒子產生器之可旋轉載體之內表 面之一平面圖。

圖26係呈部分剖面之可旋轉載體之一透視圖。

圖27係呈部分剖面之可旋轉載體之一透視圖。

圖28係圖解說明可旋轉載體、工作邊緣及滑件之一分解圖。

圖29係圖解說明可旋轉載體之一滑件之一分解圖。

圖30係沿圖25之線30-30截取之一剖面圖。

圖31係圖解說明可旋轉載體之可調整滑件之過中心調整機構之類似於圖30之一剖面透視圖。

圖32係可旋轉載體之一工作邊緣之一局部透視圖及沿著圖25之線32-32所截取之一剖面圖。

圖33係圖16之粒子噴砂裝置之進給器總成之一分解透視圖。

圖34係附接至圖33中所示之進給器區塊之入口配件之一剖面透視圖。

圖35係圖33之進給器總成之下部密封之一底部透視圖。

圖36係圖33之進給器總成之下部密封之一俯視圖。

圖37係自左側截取之粒子產生器及進給器總成之一透視圖，其中進給器總成以剖面展示。

圖38係圖16之粒子噴砂裝置之進給器總成之一剖面透視圖。

圖39係接納於安置於一敞開位置中之一可旋轉載體中之一替代可移動插入件之一局部透視圖；圖40係沿著圖39之線40-40所截取之一局部剖面透視圖；圖41係沿著圖39之線40-40所截取之插入件之一局部剖面側視圖，其中插入件之槓桿位於准許在敞開位置與封閉位置之間調整插入件之一旋轉位置中；圖42自在一封閉位置中之圖39之插入件之一局部透視圖；及圖43係沿著圖42之線43-43截取之一剖面圖。

現在將詳細參考本發明之一實施例，該實施例之一實例圖解說明於附圖中。

在下文說明中，相同參考符號在數個視圖中均表示相同或相應的部分。此外，在以下說明中，應理解，諸如前方、背部、內側、外側及諸如此類之術語係便利之詞且並不應視為限制性術語。本發明中所使用之術語並不意指為限制性，此乃因本文中所闡述之器件或其部分可以其他定向附接或利用。較詳細參考圖式，現在將闡述本發明之一實施例。

雙馬達實施例

圖1及圖2展示根據本發明之教示構造之一粒子噴砂裝置之透視圖。粒子噴砂裝置(通常指示為2)包含承載及支撐噴砂機之個別組件之框架4，如下文將闡述。控制面板6定位於粒子噴砂裝置2之前方以透過一系列閥、切換器及計時器控制器件。閥、切換器、計時器及控制器件可係氣動的、電動或其任何組合。

參考圖3，展示粒子產生器(通常指示為8)、管道10及進給器總成12之粒子產生器之一透視圖。粒子產生器8毗鄰儲存倉14。倉14經組態以接納一固體二氧化碳塊，諸如一標準尺寸之市售乾冰塊，例如，10"×10"×12"，或接納預製粒料。壓力板16可在倉14內朝向及遠離粒子產生器8縱向移動。如圖3中所繪示，壓力板16可包含由適於接觸安置於倉14中之固體材料之一材料(諸如UHMW塑膠)製成之襯裡18。壓力板16經組態以將安置於倉14內之任何材料(一塊或是複數個個別粒料)推進朝向粒子產生器8以便用足以供粒子產生器8產生用於引入至輸送氣流中粒子之力致使此材料保持與該粒子產生器接觸。壓力板16可朝向粒子產生器8以回彈方式偏置及/或可連接至致動器19以使壓力板16朝向及遠離粒子產生器8移動。在所繪示之實施例中，致動器 19係一線性致動器且包含托架19a，該托架19a藉由自托架延伸之臂19b(見圖5)延伸之臂連接至壓力板16。倉14之經間隔開之側20由任何適合材料製成，較佳地該適合材料抵抗安置於倉14內之材料黏至側20。鉸鏈罩22上覆倉14以促進用諸如乾冰之材料填充倉14。此外，裝置2包含後門23，後門23可藉由繞一鉸鏈樞轉(在所繪示之實施例中為水平)而打開。壓力板16可自該通路移走以允許將固體材料(此一塊)自後面轉載至儲存倉14中。

亦參考圖5至圖8，粒子產生器8包含殼體24，蓋26附接至該殼體24至該殼體24之向外接觸表面24a。粒子產生器8包含承載一或多個工作邊緣30及各別滑件32之可旋轉載體28。載體28相對於倉14移動，其中安置於倉14中之材料被推抵載體28之內表面28b。載體28藉由複數個緊固件36與複數個間隔件38一起連接至轉子34，複數個間隔件38在載體28之表面28a與轉子34之間建立空間，所產生之粒子可通過該空間。在所繪示之實施例中，轉子34具有複數個複數個孔34a以便減少轉子34之重量。轉子34亦包含承載以旋轉方式支撐轉子34之軸承40之內環之轂部34b。軸承40之外環由框架42支撐，框架42又由殼體24支撐。因此，透過軸承40及轂部34b，轉子34由框架42以旋轉方式支撐。

轂部34b亦承載以非旋轉方式固定至轂部34b之被驅動元件44。馬達46由裝置2承載，其中驅動元件48固定至馬達46之輸出。皮帶50嚙合驅動元件48及被驅動元件44以提供轂部34之旋轉且藉此使載體28旋轉。

殼體24固定至倉14，其中內表面24b鄰接倉14。在蓋26位於適當位置中(圖5中未圖解說明)之情況下，收集器室52經界定以使得通過可旋轉載體28之開口54之粒子流動至收集器室52中且通過收集器室52。在轂部34上面產生之粒子可通過由間隔件38形成之轂部34與由載 體28之間的空間。粒子通過收集器室52至管道10，從而通過管道且自管道出口10a出去直接至進給器總成12。在蓋10b位於適當位置中之情況下，管道10界定以與進給器總成12流體連通之方式放置收集器室52之內部通路10c。

參考圖7至圖9，可旋轉載體28包含界定於經間隔之工作邊緣30與滑件32a、32b之各別對之間的複數個各別開口54。工作邊緣30與滑件32a之對安置於形成於可旋轉載體28之內部分處之第一複數個各別內凹部56a、56b中，且工作邊緣30與滑件32b之對在第二複數個各別外凹部58a、58b中。如在圖9、圖10A、圖10B及圖10C中所見，工作邊緣30包含面向滑件32b安置之伸長隆起之切割邊緣30a。工作邊緣30包含複數個開口30b，緊固件60安置於該複數個開口中以將工作邊緣30固定於凹部58a中。可使用任何適合開口30b及緊固件60，該等適合開口30b及緊固件60在所繪示之實施例中彼此緊密鞏固以便將工作邊緣30固持於一單一位置中(在容限條件下)。亦參考圖12，外滑件32b包含與切割邊緣30a相對安置之伸長表面32c。滑件32b包含複數個開口，緊固件60安置於其中以將滑件32b固定於凹部58b中。如在圖11中所見，滑件32a具有與滑件32b類似之構造，應注意，內滑件與外滑件之間的差異由於開口56a/56b與58a/58b之幾何結構而造成。

滑件32b經組態以安置於如圖9中所見開口54之寬度處於其最大處之一第一位置處，及開口54之寬度處於其最小處之一第二位置處。滑件32b欲安置於第一位置與第二位置之間的複數個位置(經組態為一經加索引位置或無限位置)處在本發明之範疇內。此位置範圍係透過安裝組態達成，此在所繪示之實施例中囊括開口62經組態為緊固件60安置至其中從而以可定位方式將滑件32b固定於外凹部58b內之伸長槽。滑件32a類似地經組態成可定位。

當滑件32a或32b位於開口54處於其最大處之第一位置中時，較大 粒子可通過較大間隙。此允許粒料隨可旋轉托架28旋轉通過開口54，從而准許使用粒料，將其安置於儲存倉14中且輸送至進給器總成12。施配之粒料亦可在其在工作邊緣與間隔件之間通過時減小尺寸。

針對固體材料塊，滑件32a、32b安置於開口54處於其最小之第二位置中。移動工作邊緣30嚙合安置於倉14中之塊，其中相對運動致使產生(形成)粒子，無論藉由刮削該塊。當滑件32a、32b位於第二位置中時，亦可自粒料產生小粒子。

參考圖13、圖14A及圖14B，進給器總成12包含入口66及出口68形成於其中之進給器區塊64。進給器區塊64包含由壁70a與底部70b界定之腔70。進給器區塊64固定至板72，板72可固定至裝置2之框架。一對經間隔開軸承支撐件74、76分別承載經軸向對準之密封軸承78、80。

轉子82可由任何適合材料形成且經繪示為一圓柱形，儘管可使用各種其他形狀，諸如截頭錐形。螺孔82a形成於轉子82之端部中。轉子82包含複數個經間隔開袋部86形成於其中之周圍表面84。在所展示之實施例中，存在四個圓周袋部86列，其中每一圓周列具有六個袋部86。袋部86亦對準成軸向列，其中每一軸向列具有兩個袋部86。軸向列及圓周列經配置以使得袋部86之軸向寬度及圓周寬度彼此重疊，但不相交。

在此實施例中，轉子86由軸承78、80以旋轉方式承載，以藉由馬達88進行旋轉(見圖2至圖4)。驅動部件90連接至轉子86且經由驅動元件92驅動，驅動元件92由藉由馬達88承載之驅動部件94驅動。止推軸承板96及保持板98安置於一側處。止推軸承板96可由任何適合材料(諸如UHMW塑膠)製成。轉子轂部82b延伸穿過止推軸承板96及保持板98之開口100，從而藉助緊固件106延伸穿過由保持器104背襯之保持器軸承盤102、以螺紋方式嚙合螺孔82a以便保持轉子86而嚙合保持 器軸承盤102。軸承74、76與轉子82之間的配合允許藉由旋出緊固件106且將轉子82透過軸承76滑出而將轉子82自進給器總成12容易取出。

下部密封墊108部分安置於腔70中，其中密封110定位於凹槽112中，從而以密封方式嚙合凹槽112及壁70a。下部密封墊108包含表面114，當組裝時，表面114接觸轉子82之周圍表面84，從而與其形成一密封，如下文所闡述。支架116藉由緊固件(未展示)附接至區塊64，且具有上覆於下部密封108之上表面以便將下部密封108保持至區塊64之部分116a。如本文中所使用，「墊」並不用作限制：「密封墊」指代形成一密封之任何組件。

上部密封墊118包含表面120，當組裝時，表面120接觸轉子82之周圍表面84。緊固件122穿過上部密封墊118中之孔安置以將上部密封墊固持於適當位置中，而無由表面120施加於轉子82上之顯著力。

上部密封墊118及下部密封墊108可由任何適合材料(諸如一UHMW材料)製成。毗鄰軸承80之表面114及120之端部可經去角以允許較容易插入轉子82。

亦參考圖15，下部墊密封108經展示安置於腔70中，其中密封110嚙合壁70a，且上部墊密封118上覆於但不嚙合下部墊密封108，表面120嚙合轉子82。表面114包含透過上游室128與入口66流體連通之兩個開口124，及透過下游室130與出口68流體連通之兩個開口126。應注意，儘管兩個開口124及兩個開口126存在於所圖解說明實施例中，但開口124及開口126之數目可取決於進給器總成12之設計而變化。舉例而言，可針對每一者使用一單一開口。另外，可針對每一者使用兩個以上開口。

進給器總成12具有自入口66至出口68之一輸送氣體流路。在所繪示之實施例中，通路132及134形成於進給器區塊64中。下部密封墊 108包含凹部136，凹部136與入口66對準且連同通路132將上游室128與入口66流體連通地放置。下部密封墊108亦包含凹部138，該凹部138與出口68對準且連同通路134將下游室130與出口68流體連通地放置。

上游室128藉由跨越下部密封墊108橫向延伸之壁140與下游室130分離。壁140之底面140a抵靠腔70之底部70b密封，從而保持上游室128與下游室130分離。壁142垂直於壁140安置，其中底面140a嚙合底部70b。

如所圖解說明，在所繪示之實施例中，入口66實質上僅透過個別袋部86與出口68流體連通，此乃因袋部86藉由轉子82之旋轉而循環地安置於一個別袋部首先跨越開口124及126之一第一位置與該個別袋部最後跨越開口124及126之一第二位置之間。此組態將進入入口66之實質上全部輸送氣體引導通過袋部86，該輸送氣體將噴砂介質自袋部86推出，從而夾帶於該輸送氣流中。下游室130中發生亂流，從而促進介質與輸送氣體之混合。介質之此混合將介質夾帶於輸送氣體中，從而使介質與袋部下游之進給器組件之間的衝擊最小化。輸送氣體穿過每一袋部86之顯著流動用於將全部介質自每一袋部86有效地清除。

應注意，在壁140之頂部140b及壁142之頂部142b與轉子82之周圍表面84上面存在一間隙。某些輸送氣體跨越頂部140b及142b自上游室128流動至下游室130。

由工作邊緣30跨越安置於儲存倉14中之一塊或複數個粒料之動作所產生之粒子，或通過開口54之粒子直接穿過收集器室52及內部通路10c行進至進給器總成12中。馬達46及馬達88之速度經控制以使得在最大速度下袋部86之排量體積率大於可旋轉載體28及相關聯零件之粒子產能。因此，此等粒子到達進給器總成12而不需保持或儲存達任何明顯時間段。

單一馬達實施例

圖16及圖17展示根據本發明之教示構造之一粒子噴砂裝置之透視圖。粒子噴砂裝置(概括地指示為521)包含框架541，該框架541承載且支撐個別組件，如下文將闡述。控制面板561位於粒子噴砂裝置521之後方處供由使用者用於透過一閥、切換器及計時器來控制粒子噴砂裝置。閥、切換器、計時器及控制器件可係氣動的、電動或其任意組合。

參考圖18至圖20，展示包含供應倉581、粒子產生器510及進給器總成512之一透視圖。倉581經組態以接納任何適宜尺寸之一固體二氧化碳塊(特定而言但不限於，標準之市售乾冰塊，例如，10"×10"×12")，或接納諸如預製粒料之散裝粒子。散裝粒子可透過頂部開口514裝載至供應倉581中，頂部開口在所繪示之實施例中可包含圍繞開口514且與開口518對準地向上延伸之護罩516，開口518可藉由罩520選擇性地覆蓋或開啟。一固體二氧化碳塊可透過頂部開口514裝載至供應倉581中，或透過側開口522裝載。

可移動門總成524可安置於側開口522覆蓋於其處之一第一位置處，用於將固體二氧化碳(散裝粒子或是一固體塊)保持於供應倉581內，形成供應倉581之一側。可移動門總成524可移動至存在對側開口522之足夠接達以將二氧化碳裝載至供應倉581中之一第二位置。應注意，在可移動門總成524之一適當組態之情況下，可透過側開口522裝載散裝二氧化碳粒子。

在所繪示之實施例中，可移動門總成524包含內門526，該內門526以鉸鏈方式連接至供應倉581以繞一水平軸自垂直位置(基本上自供應倉581之一壁)旋轉至水平位置，從而形成一架子，在該架子上一乾冰塊可被支撐且然後滑動至供應倉581中。可移動門總成524包含外門528，該外門528由固定至內門526之間隔件530承載且藉由其與內門 526間隔開。外門528因此可與粒子噴砂裝置521之外皮532對準。可移動門總成524之此組態與表皮532中之互補形狀開口協作以適應外門528繞一偏移軸而非繞其下部邊緣樞轉，藉此產生旋轉及平移之事實。因此，外門528之下部邊緣低於樞轉軸大約達由間隔件530界定之外門528與內門526之間的距離，從而致使外門528之下部邊緣在可移動門總成旋轉時移動於外皮532之內部。當然，可使用任何適合組態來達成可移動門總成之功能。

閂534可經包含以將可移動門總成524固持於垂直位置中。支撐臂536a及536b在可移動門總成524與框架541(在圖19至圖21中看不見)之間延伸以在水平位置中支撐可移動門總成524。儘管支撐臂536a及536b經繪示為繞每一部件之端樞轉之各別摺疊總成，但支撐臂536a及536b可具有任何適合組態，諸如可伸縮或不可伸縮纜線。

供應倉581之後壁係由可移動壓力板538界定，該可移動壓力板538經組態以將安置於倉581內之任何材料(一塊或是複數個個別粒料)推進朝向粒子產生器510之可旋轉載體540以便用足以供該粒子產生器產生用於引入至輸送氣流中粒子之力致使此材料保持與可旋轉載體540接觸，如下文所闡述。壓力板538可朝向可旋轉載體540以回彈方式偏置及/或可朝向其主動推進且移動，且可(如所繪示)包含複數個突出部538b。致動器542可毗鄰供應倉581安置，且經組態以使壓力板538朝向及遠離粒子產生器510之可旋轉載體540移動。在所繪示之實施例中，致動器542係一線性致動器且包含托架544，該托架544藉由自托架544延伸之臂546連接至壓力板538。可提供不移動部件548，在所繪示之實施例中，附接至致動器542。

除可旋轉載體540以外，供應倉581之經間隔開之內表面可由任何適合材料製成，較佳地該適合材料抵抗安置於倉581內之材料黏至側520。內門526包含襯墊526a，且壓力板538包含襯墊538a，其可由 UHMW塑膠製成。襯墊538a如所繪示包含複數個開口，突出部538b延伸穿過該複數個開口。類似地，底部550可係由UHMW製成之一襯墊。可使用諸如平滑不鏽鋼之其他適合材料。

應注意，供應倉581之組態並不限於所繪示之實施例，且可具有適於將一介質供應送至粒子產生器510之任何組態。舉例而言，供應倉581可經組態無側，適於供與一預製二氧化碳塊一起使用。

亦參考圖21至圖23，粒子產生器510包含固定至供應倉581之殼體552。殼體552包含前上部蓋554，後上部蓋556以及後側蓋558及560，其共同界定收集器室562。殼體552包含下部前蓋564，其共同界定管道566，管道566界定將收集器室562與進給器總成512流體連通地放置之內部通路568。通過可旋轉載體540之開口(如下文所闡述)之粒子流動至收集器室562中且穿過其，且流動至內部通路568且穿過其且流動至進給器總成512。

可旋轉載體540可移動，且在操作中相對於供應倉581移動，其中安置於供應倉581中之材料經推抵可旋轉載體540之內表面540a。可旋轉載體540之旋轉導致將粒子產生(或進給)至收集器室562中。因此，可旋轉載體540之旋轉速率判定將粒子產生(進給)至收集器室562中至內部通路568中及至進給器總成512之速率。可旋轉載體540藉由複數個緊固件574連接至轉子570，其中複數個間隔件576在可旋轉載體540之表面540a與轉子570之間建立空間，所產生之粒子可通過該空間。在所繪示之實施例中，轉子570具有複數個複數個孔570a以便減少轉子570之重量。轉子570亦包含承載以旋轉方式支撐轉子570之軸承578之內環之轂部572。軸承578之外環由軸承座580支撐，軸承座580藉由複數個緊固件582固定至蓋552。

轂部572亦承載以非旋轉方式固定至轂部572之被驅動元件584。驅動元件586透過環狀驅動元件588驅動被驅動元件584，環狀驅動元 件588經組態而與被驅動元件584及驅動元件586互補。在所繪示之實施例中，被驅動元件584及驅動元件586經繪示為齒狀元件，諸如鏈輪，其中環狀驅動元件588係一齒狀皮帶或鏈。因此，被驅動元件584之旋轉與驅動元件586之旋轉同步。由於可旋轉載體540之旋轉與被驅動元件584之旋轉同步(在所繪示之實施例中，1：1)且由於(如下文所闡述)驅動元件586之旋轉與進給器總成512之進給器轉子之旋轉同步，因此產生粒子之速率與進給器轉子之旋轉速率同步。

參考圖24至圖28，可旋轉載體540包含複數個固定開口590及可調整開口592。亦參考圖32，在所繪示之實施例中，複數個固定插入件594安置於各別凹入開口596中。每一凹入開口之組態包含可旋轉載體540之表面540a中之凹入部分596a，沿自可旋轉載體540之表面540a至540b之方向發散之凹入槽596b及邊緣596c。每一固定插入件594具有工作邊緣598，其中固定開口590係在凹入開口596之邊緣596c與工作邊緣598之間界定之間隙。插入件594藉由複數個緊固件600固定至可旋轉載體540。工作邊緣598經組態以透過藉由跨越經推抵可旋轉載體540之表面540a之一個二氧化碳塊之一毗鄰面移動之一刮削動作而產生粒子，諸如顆粒。在所繪示之實施例中，工作邊緣598經組態為在內表面540a上面延伸之刀緣。由刮削動作產生之粒子之尺寸及量隨工作邊緣598及固定開口590之組態而變。工作邊緣598與乾冰塊之毗鄰面之間的相對運動速率判定針對一特定工作邊緣/固定開口組態所產生之粒子之速率。

在所繪示之實施例中，複數個內固定開口590自可旋轉載體540之中心大體徑向向外延伸。複數個外固定開口590與可旋轉載體540之中心間隔開非徑向定向地安置。在所繪示之實施例中，複數個外固定開口590呈現大體垂直於複數個內固定開口590中之一者之定向。可使用固定開口590之任何適合組態，例如，位置及定向。另外，儘管在 此等圖中未展示，但固定插入件594可經組態以可移動以界定非固定開口，其中工作邊緣598用刮削。

亦參考圖29至31，複數個可移動插入件602(在本文中亦稱作滑件602)安置於各別凹入開口604中。每一滑件602具有一大體T形組態，其中臂部分606a及606b自中心部分608大體垂直地自其向外延伸。凹入開口604包含凹入中心部分610及凹入臂部分612及614。凹入臂部分612包含尖端612a且凹入臂部分614包含凹入尖端614a.

邊緣616界定開口592之一固定邊界，其中滑件602之可移動邊緣606c界定其他邊界。凹部606d形成於邊緣606c中，當邊緣606c接近邊緣616時該等凹部606d提供與邊緣616間隔開之一表面。

凹入臂部分612及614經繪示為具有臂部分606a及606b之相同厚度，而總寬度大於開口592之寬度，其中臂部分606a及606b之遠端分別上覆於尖端612a及614a，從而為其提供支撐。

中心部分608厚於臂部分606a及606b，如在608a處所見。凹入開口604之凹入中心部分610與中心部分608互補地塑形但深於中心部分608之厚度，且包含伸長槽618。經互補塑形之柄部分插入件620安置於凹入中心部分610內，經互補塑形之柄部分插入件620具有由延伸至伸長槽618中之壁620b界定之伸長槽620a。插入件620可由任何適合材料(諸如UHMW)製成。

開口604包含沿朝向外表面540b之方向發散地延伸之傾斜表面622。

中心部分608包含經組態以接納可旋轉過中心槓桿626之凹部624。槓桿626包含頭部部分628及臂630。頭部部分628藉由銷634以樞轉方式連接至保持部件632，銷634延伸穿過頭部部分628中之孔636及經繪示為大體安置於保持部件632之軸上之孔638。頭部部分亦藉由兩個銷640a及640b以樞轉方式連接至中心部分608，兩個銷640a及640b 延伸穿過中心部分608之個別孔642a及642b且延伸至頭部部分628之孔644a及644b中。

保持部件632螺紋連接於其遠離過中心槓桿626端部處且延伸穿過槽618超過可旋轉載體540之外表面540b。複數個彈簧墊圈644安置於軸承墊圈646與螺母648之間。為防止螺母648旋轉，使用開口銷650。過中心槓桿因此藉由保持部件632沿自內表面540a朝向外表面540b以回彈方式偏置。孔644a及644b相對於孔636及638偏移，從而產生一過中心構造。滑件602可開口592處於其最大尺寸之圖31中所圖解說明之完全敞開位置至592處於其最小之其中邊緣616毗鄰邊緣606c之封閉位置(其在所繪示之實施例中為完全封閉)之間的凹入開口內移動。

在一個模式中，當一固體二氧化碳塊安置於供應倉581中且工作邊緣598正自毗鄰面刮削粒子時，開口592可設定為其最小。在另一模式中，當散裝粒子(諸如粒料)安置於供應倉581中時，開口592可設定於其最小尺寸與最大尺寸之間且高達其最小及最大尺寸以將散裝粒子計量供給至進給器總成512。開口592之尺寸以及可可旋轉載體540之旋轉速度判定粒子之流率。在任何給定旋轉速度下，開口592越大，粒子之流率越高。

參考圖33至圖38，進給器總成512包含入口654及出口656形成於其中之進給器區塊652。入口654包含入口配件202。進給器區塊652包含由壁658a與底部658b界定之腔658。進給器區塊652固定至板660，板660可固定至裝置521之框架。一對經間隔開支撐件662及664固定至進給器區塊652。密封軸承666由支撐件662承載。

轉子668可由任何適合材料形成且經繪示為一圓柱形，儘管可使用各種其他形狀，諸如截頭錐形。軸件670自轉子668延伸，其中驅動元件586安置於其上。轉子668包含複數個經間隔開袋部674形成於其 中之周圍表面672。在所展示之實施例中，存在四個圓周袋部674列，其中每一圓周列具有六個袋部674。袋部674亦對準成軸向列，其中每一軸向列具有兩個袋部674。軸向列及圓周列經配置以使得袋部674之軸向寬度及圓周寬度彼此重疊，但不相交。

在此實施例中，轉子668包含支腿676，該等支腿由耦合件680之支腿678嚙合。耦合件680可固定至馬達682以使得轉子668可由馬達682驅動，藉此驅動驅動元件586，驅動元件586繼而透過環狀驅動元件588來驅動被驅動元件584。在此組態中，當經恰當對準時，轉子668不會經歷顯著軸向負載。保持板684及686安置於轉子668之一端處，且可由任何適合材料(諸如UHMW塑膠)製成。軸承666與轉子668之間的配合允許藉由移除保持板684及686，將轉子668透過軸承666滑出而將轉子668自進給器總成512容易取出。

下部密封墊688部分安置於腔658中，其中密封690定位於凹槽692中，從而以密封方式嚙合凹槽692及壁658a。下部密封墊688包含表面694，當組裝時，表面694接觸轉子668之周圍表面672，從而與其形成一密封，如下文所闡述。支架696藉由緊固件(未展示)附接至區塊652，且具有上覆於下部密封688之上表面以便將下部密封688保持至區塊652之部分696a。如本文中所使用，「墊」並不用作限制：「密封墊」指代形成一密封之任何組件。

上部密封墊698包含表面200，當組裝時，表面200接觸轉子668之周圍表面672。上部密封墊698及下部密封墊688可由任何適合材料(諸如一UHMW材料)製成。表面694及200之端部可經去角以允許較容易插入轉子668。

如圖38中所見，下部墊密封688安置於腔658中，其中密封690嚙合壁658a，且上部墊密封698上覆於但不嚙合下部墊密封688，表面200嚙合轉子668。表面694包含透過上游室208與入口654流體連通之 兩個開口204，及透過下游室210與出口656流體連通之兩個開口206。應注意，儘管兩個開口204及兩個開口206存在於所圖解說明實施例中，但開口204及開口206之數目可取決於進給器總成512之設計而變化。舉例而言，可針對每一者使用一單一開口。另外，可針對每一者使用兩個以上開口。

進給器總成512具有自入口654至出口656之一輸送氣體流路。在所繪示之實施例中，通路212及214形成於進給器區塊652中。下部密封墊688包含凹部216，凹部216與入口654對準且連同通路212將上游室208與入口654流體連通地放置。下部密封墊688亦包含凹部218，該凹部218與出口656對準且連同通路214將下游室210與出口656流體連通地放置。

上游室208藉由跨越下部密封墊688橫向延伸之壁216與下游室210分離。壁216之底面216a抵靠腔658之底部658b密封，從而保持上游室208與下游室210分離。壁218垂直於壁216安置，其中底面218a嚙合底部658b。

如所圖解說明，在所繪示之實施例中，入口654實質上僅透過個別袋部674與出口656流體連通，此乃因袋部674藉由轉子668之旋轉而循環地安置於一個別袋部首先跨越開口204及206之一第一位置與該個別袋部最後跨越開口204及206之一第二位置之間。此組態將進入入口654之實質上全部輸送氣體引導通過袋部674，該輸送氣體將噴砂介質自袋部674推出，從而夾帶於該輸送氣流中。下游室210中發生亂流，從而促進介質與輸送氣體之混合。介質之此混合將介質夾帶於輸送氣體中，從而使介質與袋部下游之進給器組件之間的衝擊最小化。輸送氣體穿過每一袋部674之顯著流動用於將全部介質自每一袋部674有效地清除。

應注意，在壁216之頂部216b及壁218之頂部218b與轉子668之周 圍表面672上面存在一間隙。某些輸送氣體跨越頂部216b及218b自上游室208流動至下游室210。

由工作邊緣跨越安置於儲存倉581中之一塊或複數個粒料之動作所產生之粒子，或通過開口592之粒子直接穿過收集器室562及內部通路568行進至進給器總成512中。可旋轉托架540及轉子668之相對速率經設定以使得在最大速度下袋部574之排量體積率大於可旋轉載體540及相關聯零件之粒子產能。因此，此等粒子到達進給器總成512而不需保持或儲存達任何明顯時間段。

替代滑件實施例

參考圖39至圖43，複數個可移動插入件702(在本文中亦稱為滑件702)安置於類似於以上所闡述之開口604之各別凹入開口704中。凹入開口704之邊緣716界定開口592之一固定邊界，其中滑件702之可移動邊緣706界定其他邊界。每一滑件702具有類似於上文所闡述之滑件602之一大體T形組態。

圖39至圖40展示插入件702安置於一敞開位置中之開口704中，以使得開口592處於一最大尺寸。如圖40中所示，中心部分708之端部709安置於界定凹入開口704且端接於與邊緣716間隔開之邊緣717處之表面715上面。圖41展示槓桿726沿箭頭(A)之方向旋轉至可能自其沿箭頭(B)之方向移動插入件702之一位置。如下文進一步所闡述，槓桿726然後沿箭頭(C)之方向旋轉以正向地定位插入件702，其中開口604處於一封閉位置中，如圖42至圖43中所示。在封閉位置中，開口592封閉且處於其最小尺寸。此外，在封閉位置中，曝露表面715之一部分，如在圖43中經展示為表面715a。

如圖40、圖41及圖43中所示，插入件702包含銷730，銷730自插入件702之一底面延伸且經組態以接納於凹入開口704之表面715中之兩個開口732或734中之一者中。當插入件702位於一敞開位置中，如 圖40中所示，銷730之一足夠部分安置於第一開口732內以便提供將插入件702正向定位於足以抵抗移動之開口704內。為調整插入件702，如圖41中所示，使槓桿726沿箭頭(A)之方向旋轉，從而允許滑件702移動遠離表面715以使得銷730不再安置於第一開口732中。可然後使插入件702沿箭頭(B)之方向移動至銷730與第二開口734對準之一位置，且移動朝向表面715從而導致銷730安置於第二開口734內。使槓桿726沿箭頭(C)之方向旋轉以毗鄰或至少足夠接近表面715地固持滑件702以使得銷730之至少一部分保持安置於第二開口734中以便將插入件702正定位於足以抵抗滑件702自封閉位置之移動之開口704內，如圖43中所示。另一選擇係，銷730及第一開口732及第二開口734可替換為一回彈掣子組態，諸如其中由滑件702承載之一彈簧球掣子嚙合替代第一開口732及第二開口734之表面715中之淺開口，足夠強以將滑件702保持於期望之位置中。儘管僅圖解說明敞開及封閉位置，但在完全敞開位置與完全封閉位置中間為滑件702提供一或多個額外正定位位置在本發明之範疇內。

出於圖解說明及說明目的，已呈現對本發明一或多個實施例之上述說明。其並非意欲包羅無遺或將本發明限制於所揭示之精確形式。根據以上教示可作出明顯修改或變化。實施例經挑選及闡述以便最佳圖解說明本發明之原理及其實際應用，從而藉此使熟習此項技術者能夠在各種實施例中並藉助適用於所涵蓋特定用途之各種修改形式而最佳地利用本發明。儘管僅詳細闡釋本發明之有限數目個實施例，但應理解，本發明並非將其範疇限制於前述說明中所闡明或圖式中所圖解說明之組件之構造及配置之細節。本發明能夠具有其他實施例且以各種方式來實踐或實施。此外，在闡述較佳實施例中，為簡潔起見使用特定術語。應理解，每一特定術語包含以一類似方式操作以達成一類似目的之所有技術等效物。本發明之範疇意欲由隨附申請專利範 圍來界定。

本發明之另一實施例闡述於2012年2月2日提出申請之標題為「APPARATUS AND METHOD FOR HIGH FLOW PARTICLE BLASTING WITHOUT PARTICLE STORAGE」的序號為61/594,347之美國臨時專利申請案，該美國臨時專利申請案以引用方式併入本文中且闡明於本申請案之附錄A。

出於圖解說明及說明之目的，已呈現上述說明。其並非意欲包羅無遺或將本發明限制於所揭示之精確形式。根據以上教示可作出明顯修改或變化。實施例經挑選及闡述以便圖解說明本發明之原理及其應用，從而藉此使熟習此項技術者能夠在各種實施例中並藉助適用於所涵蓋特定用途之各種修改形式而利用本發明。儘管僅詳細闡釋本發明之有限數目個實施例，但應理解，本發明並非將其範疇限制於前述說明中所闡明或圖式中所圖解說明之組件之構造及配置之細節。本發明能夠具有其他實施例且以各種方式來實踐或實施。此外，為簡潔起見本文中使用特定術語。應理解，每一特定術語包含以一類似方式操作以達成一類似目的之所有技術等效物。本發明之範疇意欲由隨附申請專利範圍來界定。

2‧‧‧粒子噴砂裝置/裝置

4‧‧‧框架

6‧‧‧控制面板

8‧‧‧粒子產生器

10‧‧‧管道

12‧‧‧進給器總成

22‧‧‧鉸鏈罩

24‧‧‧殼體

26‧‧‧蓋

Claims (24)

1. 一種利用一可旋轉載體來產生用於引入至一輸送氣流系統中之固體二氧化碳之粒子之方法，該方法包括以下步驟：a.提供一粒子產生器，該粒子產生器包含一第一側、一第二側及複數個第一及第二開口，每一該第一開口具有一各別的尺寸，該各別的尺寸係可選擇性地被設定在一第一尺寸與一第二尺寸兩者其中之一；b.選擇性地設定該複數個第一開口至少其中之一個第一開口的該各別的尺寸，如果粒子是要由離散的粒子產生，則選擇性地將該複數個第一開口至少其中之一第一開口的該各別的尺寸設定在該第一尺寸；如果粒子是要由一塊產生，則選擇性地將該複數個第一開口至少其中之一個第一開口的該各別的尺寸設定在該第二尺寸；c.促使固體二氧化碳之一塊或若干離散粒子中之一者抵靠該粒子產生器之該第一側；d.使該粒子產生器旋轉；及e.自該粒子產生器之第二側產生粒子。
2. 如請求項1之方法，其中該選擇性地設定該複數個第一開口至少其中之一個第一開口的該各別的尺寸的步驟包含將一各別的插入件定位在一各別的第一位置上的步驟，以設定該各別的尺寸在該第一尺寸。
3. 如請求項2之方法，其中該將一各別的插入件定位在一各別的第一位置上的步驟包含將各別的插入件正向地定位在該各別的第一位置的步驟。
4. 如請求項3之方法，其中該將各別的插入件正向地定位的步驟包 含將該各別的插入件結合於一銷的步驟。
5. 如請求項1之方法，其中該選擇性地設定該複數個第一開口至少其中之一個第一開口的該各別的尺寸的步驟包含將一各別的插入件定位在一各別的第二位置的步驟，在該第二位置，該各別的插入件封閉該複數個第一開口的至少其中之一個開口。
6. 如請求項5之方法，其中該將一各別的插入件定位在一各別的第二位置的步驟包含將該各別的插入件正向地定位在該各別的第二位置的步驟。
7. 如請求項6之方法，其中該將各別的插入件正向地定位的步驟包含將該各別的插入件結合於一銷的步驟。
8. 一種用於量測乾冰之離散粒子之裝置，該裝置包括：a.一儲存倉，其經組態以接納該等離散粒子，該儲存倉包含一第一端；b.一內部通路；c.一載體，其係設置在該內部通路與該儲存倉之該第一端之間，該載體可相對於該儲存倉移動，該載體包含複數個開口，該複數個開口經組態以使該離散粒子以一低流率由該儲存倉穿通過該複數個開口而到該內部通路，該複數個開口之至少一第一開口具有一在包含一第一尺寸與一第二尺寸之間可設定之尺寸，該流率至少一部分係由該複數個開口之該至少一第一開口之該尺寸所決定；及d.一設置在該儲存倉中移動之板，該板經組態以促使在該儲存倉中之該離散粒子推抵該載體。
9. 如請求項8之裝置，另包括：a.該儲存倉係亦經組態以接納乾冰塊；b.該板係亦經組態以促使在該塊推抵該載體； c.該複數個開口之至少一第二開口包含一工作邊緣，該工作邊緣經組態以自該乾冰塊刮削出粒子，並使該刮削而成之粒子通過該複數個開口之該至少一第二開口而到達該內部通路。
10. 如請求項9之裝置，其中該複數個開口之該至少一第一開口包含一插入件，該插入件可在包含一第一位置及一第二位置之間移動，該至少一第一開口當該插入件係設置在該第一位置時具有該第一尺寸，且該至少一第一開口當該插入件係設置在該第二位置時具有該第二尺寸。
11. 如請求項9之裝置，其中該插入件包含一過中心槓桿。
12. 如請求項9之裝置，其中該複數個開口之至少一開口係徑向地設置。
13. 如請求項12之裝置，其中該複數個開口之該至少一徑向地設置開口包含該至少一第二開口。
14. 如請求項9之裝置，其中該複數個開口之至少一開口係非徑向地設置。
15. 如請求項9之裝置，其中該板係被彈性地偏壓向該載體。
16. 如請求項8之裝置，其中該複數個開口之該至少一第一開口包含一插入件，該插入件可在包含一第一位置及一第二位置之間移動，該至少一第一開口當該插入件係設置在該第一位置時具有該第一尺寸，且該至少一第一開口當該插入件係設置在該第二位置時具有該第二尺寸。
17. 如請求項16之裝置，其中該插入件包含一過中心槓桿。
18. 如請求項16之裝置，其中該複數個開口之至少一開口係徑向地設置。
19. 如請求項18之裝置，其中該複數個開口之該至少一徑向地設置開口包含該至少一第二開口。
20. 如請求項16之裝置，其中該複數個開口之至少一開口係非徑向地設置。
21. 如請求項8之裝置，其中該複數個開口之至少一開口係徑向地設置。
22. 如請求項21之裝置，其中該複數個開口之該至少一徑向地設置開口包含該至少一第二開口。
23. 如請求項8之裝置，其中該複數個開口之至少一開口係非徑向地設置。
24. 如請求項8之裝置，其中該板係被彈性地偏壓向該載體。