TWI610054B - 用於供電予一電弧爐的裝置及其方法 - Google Patents

Abstract

用於一電弧爐(60)的一供電裝置包括至少一電極(62)，並可連接至一電力網路(50)以提供該電極62電能，用以產生一電弧以融化一金屬塊。該裝置包括插入以及連接至該電力網路(50)以及該電極(62)的一電力調節單元(12)，用於調節供電給該電極(62)的至少一電量。該裝置包括至少一偵測裝置(20,22)用於偵測該電量，該偵測裝置被插入在介於該電極(62)以及該電力調節單元(12)之間；一定位裝置(46)用於移動該至少一電極(62)靠近/遠離欲融化的該金屬塊；以及一控制與命令單元(16)。

Description

用於供電予一電弧爐的裝置及其方法

本發明關於用於供電予一電弧爐的一種裝置及其方法，特別是允許在一電弧爐中，在該融化步驟中控制該電弧。

較佳地，用於供電予該爐的該裝置以及方法允許執行由該融化電弧提供能量的至少兩種調整模式。

用於融化金屬的供電予一電弧爐的該電極的裝置是習知的。

該電極被放入該電爐以及可以被移動進去該電爐，靠近/遠離該金屬盆，用於調節整體融化的該固體金屬。

現有技術的電力啟動裝置包括用於調節該電極的位置，允許相對該金屬去抬高或降低該電極為了去更改該電弧的長度。然而，該電極的位置的調整是相當緩慢的，當在電量或在電弧的產生意外的改變時，無法允許去執行快速的修正。

事實上，如果該電弧變得較長，換句話說，假如該電極是較遠離於該用於融化的金屬，為了去支持以及避免該電極關閉，所施加的電壓會必須增加；如果該電弧變得較短，電流會增加，因此藉由該電弧提供的功率會產生無法控制的增 加，可能造成爐或頂部的損壞。

該電弧電壓以及給予的電流是與該電極以及該用於融化的物質之間的距離呈等比例的。因此，對於給定的運轉狀態，它提供到達該電弧的一參考電流，一穩定的電弧狀態在相對於功率電壓的特性曲線下，是通過調節該電極和該物質之間的距離而得到。

現有種類的啟動裝置一般包括一多閥轉接器用於轉換藉由一電力供應網路提供的電壓。

通過該轉換器的閥，可以調節該電弧的電壓以及長度，用以調節該融化功率。

這些類型的啟動裝置有個缺點，連接到瞬時吸收能量，這是從電力網路和其發生在熔化的開始由於由電弧的不穩定和廢料的滑動產生的頻繁短路。在一些情況下，這會引起在網路電壓的波動(這種現象也被稱為閃爍)。

在現有技術的情況下，用於電弧爐的啟動裝置包括一直流矯正電路，用於轉換藉由該電力網路提供的交流電流為直流電流，以及用於啟動該電極的一轉換器電路。

使用這種類型的現有技術的配置來驅動電弧爐的一個解決方案是在美國專利申請案2007/0247079A1和美國專利申請案US6421366 B1中所述的例子。

然而，存在於這些啟動裝置的轉換器電路不允許，補償從電弧送出以及影響到電力網路的干擾。確實，轉換 器電路，因為所執行的電流的調製，當在電流中產生諧波進入該電力網路中可能是有害的。

本發明的目的在於得到允許有效率地調整功率的一種用於供電予一電弧爐的一種裝置及其方法。

本發明的另一目的是用於得到一裝置以及實施允許去調節該電弧電壓以及該電弧電流以保證在融化時該電弧的穩定度的一方法。

本發明的另一目的是用於得到降低相較於一現有技術的類型的裝置影響該電力網路中的干擾。

本申請人已經設計，試驗和實施了本發明，以克服現有技術的缺點並獲得這些和其它目的和優點。

本發明闡述和表示特徵在獨立權利要求，同時從屬權利要求描述其他特徵或對該主要發明構思的變數。

按照上述目的，用於供電予一電弧爐的一裝置包括至少一上方電極，優選地，二或三，以及可以連接至一電力網路以提供該電極電能，用以產生一電弧，以融化一金屬塊。

該裝置包括插入以及連接至該電力網路以及該電極的一電力調節單元，用於調節供電給該電極的至少一電量。

按照本發明的一目的，該裝置包括插介於該電極以及該電力調節單元之間用於偵測該電量的至少一偵測裝置；一定位裝置用於移動該至少一電極靠近/遠離欲融化的該金 屬塊。

按照本發明的另一目的，該裝置包括連接至該電力調節單元、該電力網路以及該定位裝置的一控制與命令單元，以控制該電力調節單元以及該定位裝置，並藉由作動在該電力調節單元以實施該電弧的一第一控制，以及藉由作動在該定位裝置以實施該電弧的一第二控制。

以這種方式，可以實現一混合控制裝置，其中，相應於所需的熔化能力的電量，小振幅變動的快速動態特性是藉由該第一控制，即，藉由該電極的移動；當較大的振幅變動的緩慢動態特性通過電量的調整，是藉由該第二控制管理。

本發明的實施方式的形式還涉及一種用予一電弧爐的電力供應方法，提供藉由一電力網路供電予至少一電極去產生一電弧，以及藉由插入以及連接至該電力網路以及連接至該電極的一電力調節單元去調節用於供電給該電極的至少一電量。

依照實施例的某些形式，該方法包括使用插介於該電極以及該電力調節單元之間的至少一偵測裝置去偵測該電量，利用一定位裝置移動該至少一電極靠近/遠離用於融化的該金屬塊以及控制該電力調節單元以及該定位裝置藉由作動在該電力調節單元以實施該電弧的一第一控制，以及藉由作動在該定位裝置以實施該電弧的一第二控制。

10‧‧‧裝置

12‧‧‧電力調節單元

16‧‧‧控制與命令單元

18‧‧‧轉換裝置

20、22、24、26‧‧‧偵測裝置

27‧‧‧功率調整器

28‧‧‧處理單元

30、32‧‧‧訊號調控元件

34‧‧‧模組

34R、34S、34T‧‧‧相位次模組

36‧‧‧直流矯正電路

38‧‧‧中間電路

40‧‧‧反相電路

42‧‧‧電流調節裝置

44‧‧‧電極控制裝置

46‧‧‧定位裝置

50‧‧‧電力網路

60‧‧‧電弧爐

62‧‧‧電極

I0‧‧‧理想電流數值

IA‧‧‧電弧電流

IA’‧‧‧穩定的電流數值

Ii‧‧‧供給電流

IR‧‧‧參考電流數值

PS‧‧‧參考電源

R,S,T‧‧‧相位

UA‧‧‧電弧電壓

UA’‧‧‧穩定的電壓

U0‧‧‧理想電壓數值

Ui‧‧‧供給電壓

UR‧‧‧參考電壓

本發明的這些和其它特點從後續實施例的一些形式將變得顯而易見，作為伴隨附圖的非限制性的範例，其中：第1圖，繪示依照這裡描述的某些形式的實施例的用於一電弧爐的電力供應裝置的示意圖；第2圖，繪示在第1圖中依照這裡描述的某些形式的實施例的詳細示意圖。為了便於理解，相同的參考代碼已被使用，在可能的情況，用於定義在附圖中相同的一般元件。應當理解的是，實施例的一種形式中的特性和元件可以方便地結合至其它形式的實施例，而無需進一步的澄清。

我們現在將詳細參考本發明的實施例的各種形式的，其中一個或多個範例表示於附圖中。每一個實例藉由本發明的說明的方式提供的，不應被理解為限制本發明。例如，表示的特徵或因此描述作為它們的實施例的一種形式的部分可以被採用的或相關聯的，其它形式的實施方案，以產生實施例的另一種形式的特徵。可以理解的是，本發明應當包括所有這些修改和變更。

依照本發明，本發明關於用於供電予一電弧爐60的一裝置10。

該電弧爐60包括一或多個電極62，在這種情況下，例如以一個電極62為例，可以被提供電力以提供用於融化 一金屬塊所需要的能量。

依照實施例的一些形式，可以有兩個、三個或多於三個電極62。

該裝置10是連接至一電力網路50，例如，一個三相電力網路，在第2圖中用三相R.S.T表示。

該電力網路50供應該電極62為了融化所需要的電量。

較佳地，一供給電流Ii以及一供給電壓Ui可以從該電力網路50獲得，藉由該裝置10適當地供電給該電極62。

依照實施例的一些形式，該裝置10包括偵測裝置24,26，設置於去偵測藉由該電力網路50提供的各別對應該供給電流Ii以及該供給電壓Ui的數值。

該偵測裝置24可以是，例如，一安培計或一互感式安培計，設置用於偵測該供給電流Ii的強度，同時該偵測裝置26可以是，例如，一伏特計或一互感式伏特計，設置用於偵測電壓差異，即該供給電壓Ui。

依照實施例的一些形式，該裝置10包括插入以及連接至該電力網路50以及該電極62的一電力調節單元12，用於調節供電予該電弧爐60的該一或多個電極62的至少一電量，以及保證該電弧的穩定度。

依照本發明的一可能的規劃，該電量的調整用於提供該電力供給電流的強度以及頻率。

依照一可能的變數，該電量的調整用於去調整該供給電壓的頻率、波型以及振幅，允許去控制該電流供應以及必然地控制該融化能量。

依照實施例的一些形式，該電力調節單元12包括一轉換裝置18設置用於轉換該電力網路50的該供給電流Ii以及該供給電壓Ui為該電弧的電流數值IA以及該電弧的電壓數值UA以供電予該電極62。

依照實施例的一些形式，該轉換裝置18包括複數個模組34，每個模組34包括一相位次模組34R,34S,34T用於該供給電流的該相位電流R,S,T。

該些模組34彼此是並聯連接並與該電力網路50連接，每個模組34設置於轉換該供給電流Ii以及該供給電壓Ui。

該相位次模組34R,34S,34T允許去管理對每一個相位R,S,T的供給電流Ii以及供給電壓Ui。

即使模組的數量可以多於或少於三個，依照第1圖是提供三個模組34。

依照實施例的一些形式(第2圖)，每一個相位次模組34R,34S,34T包括一直流矯正電路36，設置用於直流矯正以及或者調整藉由該電力網路50提供的各自的相位電流。

該直流矯正電路36能夠通過受一受控制的二極管橋接或晶體閘流管橋接的手段來實現。

依照使用第2圖所描述的實施例的一些形式，每一 個相位次模組34R,34S,34T包括在直流的一中間電路38，也稱作直流鏈(DC-link)，設置用於儲存能量以及創造介於該外部的電力網路50以及該電極62之間的一分隔，以及一反相電路40，設置用於在出口處反轉電流調整頻率以及可能的交流電流的基本的振幅。

對於供電給同相位的電極側的每一個反相電路40而言，一中間電路38的存在允許去補償來自該電弧的干擾，進而限制了在電源網絡50上的負面影響。

依照實施例的一些形式，該反相電路40是一個多脈衝整流電路。在可能的實施方式中，該反相電路40可以提供一個12個脈衝的調整，或者是12的倍數，即，例如24或36脈衝。

這允許相當程度的降低不需要的高於基頻的諧波的貢獻，一般而言，50赫茲或60赫茲，造成效能的損失。甚者，高於基頻的諧波可以在該電力網路中產生干擾，進而可能對其他連接到該電力網路的使用者應用有損害。

依照實施例的一些形式，該個別的供電相位次模組34R,34S,34T的虛線中間是連接到彼此以及中性線N。在這種情況下，即使一相位次模組34R,34S,34T不導通，可能在任何情況下有伴隨該預期數量的脈衝的一調整。相反地，假如該個別的供電相位次模組34R,34S,34T的虛線中間沒有連接到彼此，如果他們其中之一不導通或者有故障，便會失去脈衝的來源。

依照實施例的一些形式，該反相電路40包括複數 從半導體、二極體、例如矽控整流器(SCR)、交流矽控閘流體(TRIAC)、雙向閘流體(GTO)、基體閘換向閘流體(IGCT)、金屬氧化半導體控制閘流體(MCT)的閘流體以及例如雙極接面電晶體(BJT)、金屬氧化物半導體場效電晶體(MOSFET)、絕緣閘雙極電晶體(IGBT)的電晶體之中選擇的裝置。

依照實施例的一些形式，一或多個模組34針對每個相位R,S,T提供電力予該直流矯正電路36、該中間電路38以及該反相電路40。

依照實施例的一些形式，可以提供以及並聯的設置用於每個相位R,S,T的許多反相電路。

半導體裝置的使用允許在任何時刻去控制電流，即使非常快速地通過轉換該裝置開啟以及關閉。

依照實施例的一些形式，沒有繪示於圖中，該反相電路40可以提供對於瞬間干擾的保護，藉以保護該半導體裝置以及因此保護該反相電路40本身。

依照實施例的一些形式，每一個相位次模組34R,34S,34T可以包括一直流矯正電路36以及四個單元，每個單元由一中間電路38以及一反相電路40組成。

依照實施例的一些形式，對於每一個該模組，該直流矯正電路以及該反相電路是相同的，為了去最小化需要提供的備品數量，使可能的替換以及維修容易。

甚者，對於該電力網路50，該模組34看來就像是 平衡的三相負載。

依照實施例的一些形式(第1圖)，被插入在介於該電極62以及該電力調節單元12之間的至少一偵測裝置是用於偵測該電量，在這種情況下兩個偵測裝置，換句話說，個別地一電流偵測裝置20用於偵測該電弧電流IA，以及用於供給該電弧電力的一電壓偵測裝置用於偵測電弧電壓UA。

該電流偵測裝置20可以例如是一安培計或一互感式安培計，設置用於偵測該電弧電流IA的強度，即藉由該電力調節單元12提供給該電極62的電流強度。該電壓偵測裝置22可以是例如一伏特計或一互感式伏特計，設置用於偵測電壓差異，即，該電極62的電弧電壓UA，該電弧電壓UA是依照該電極62相對於該用於融化的金屬塊的距離而定。

依照實施例的一些形式(第1圖)，該裝置10包括連接至該電力調節單元12以及該電力網路50且設置用於計算被送至該電力調節單元12用於決定在該電爐60中的該電弧的一穩定狀態的至少一參考電流數值IR的一控制與命令單元16。

該控制與命令單元16也可以設置用於計算該電弧的強度的其他調整的一參考電壓UR，會在後續說明。

該控制與命令單元16是設置用於至少在由該外部電力網路50在入口提供的該供給電流Ii以及該供給電壓Ui，以及藉由該偵測裝置20,22偵測的該電弧電流IA以及該電弧電壓UA的基準上決定該參考電流IR以及參考電壓UR的參考數值。

較佳地，該控制與命令單元16調整該電力調節單元12的功能因此該電量(該電弧電壓UA以及電弧電流IA)達到一振幅以及相對的相位偏移以保證該電弧是維持的以及有降低損失到最小數值的一操作頻率。

依照第1圖的解決方案，該控制與命令單元16包括連接在該電力網路50以及該電力調節單元12之間的一功率調整器27。

該功率調整器27是設置用於計算該參考電流IR、參考電壓UR以及該波形的頻率。

一參考電源PR，例如一設定的功率，例如可以藉由依使用者被設定在該功率調整器27中。

依照實施例的一些形式，該操考電壓UR是以該融化/工作步驟的一方程式計算而得，以及必然地該參考電流IR被設定，用以追蹤該參考電源PS。

依照實施例的一些形式，該控制與命令單元16也可包括連接至該功率調整器27、該偵測裝置20,22且用於基於相對於該電弧電流IA以及該電弧電壓UA的入口參數，以決定該電弧的數學模型，以及去決定最佳的功能狀態，以在該保證該電弧的穩定度，以及基於該參考電源PS去調整最佳可能的功率提供的一處理單元28。

依照一可能的實施方式，該處理單元28可以設置用於計算出相對於該電弧的最佳功能狀態的用於提供給該功 率調整器去決定該參考電流IR以及該參考電壓的至少一理想電流數值I0以及一理想電壓數值U0。

依照實施例的一些形式，在這種情況下，介在該偵測裝置22,24分別的該電弧電流IA以及該電弧電壓UA以及該控制與命令單元16之間，該處理單元28可以提供訊號調控元件30,32。每一個訊號調控元件30,32被設置用於基於必須被考慮的一參考數值去放大以及穩定有關該電弧電流IA以及該電弧電壓UA的該訊號。該參考數值可以是平均數值、瞬間數值或實際數值。

每一個訊號調控元件30,32允許在出口得到穩定以及適合被該處理單元28處理的一個穩定的電流數值以及一個穩定的電壓數值IA’,UA’。

依照實施例的可能的變化形式，未圖示，該訊號調控元件30,32可以被整合至該控制與命令單元16中。

依照實施例的一些形式(第1圖)，該電力調節單元12包括介於該控制與命令單元16以及該轉換裝置18以及設置用於在入口處接收藉由該控制與命令單元16計算的該參考電流數值IR一用於調節電流的裝置42。

依照實施例的可能形式，該電流調節裝置42可以是允許去調節該反相器的切換頻率以及使用頻寬以及可以允許降低該設備損耗的一遲滯穩壓器或一脈衝寬度調變(PWM)穩壓器。該電流調節裝置42特別用於決定必須要輸入至該電極62 的該電弧電流IA的波形。

依照實施例的一些形式，該電流調節裝置42可以決定該轉換裝置18的一調整具有用於提供每個電極62具有相同波形的一單一電流調節。

依照實施例的一些形式繪示如第1圖，該電流調節裝置42也連接至該訊號調控元件30,32，用以在入口接收不只該參考電流IR的數值還有該穩定的電流IA’以及該穩定的電壓UA’的該放大的以及穩定的數值，以及處理他們已決定一個被傳送至該轉換裝置18的一控制訊號。

依照可能的變數，該電流調節裝置42可以決定該轉換裝置18的一調整具有用於提供每個電極62具有相同波形的一獨立的電流調節。

依照本發明的一個目的，該裝置10包括設置用於移動該至少一電極62靠近/遠離用於融化的該金屬塊，以這種方式去調節該融化功率。

在該電極62相對於該金屬塊的位置的變化決定該電弧的電壓的本質，以及進而該電弧電壓UA的狀態式藉由該電壓偵測裝置22測量得知。

通過管理該電極62的位置，也可能去實施在產生該電弧以及提供該融化功率的一控制。

依照實施例的一些可能形式，該定位裝置46可以連接至一電極控制裝置44，用於控制該電極的位置，以及因此 操控該定位裝置46，以便該電弧是穩定的。

該電極控制裝置44式至少被連接至該電壓偵測裝置22，用以管理該電極62的位置。

依照實施例的一可能解決方案，該電極控制裝置44也連接至該控制與命令單元16，用於去操控該定位裝置46以如同該電弧電壓UA以及由該控制與命令單元16計算的該參考電壓UR兩者之一的方程式進行作動。

較佳地，該電極控制裝置44調整該定位裝置46取得該電弧電壓UA至該參考電壓UR。

依照第1圖的實施例的形式，該電極控制裝置44可以連接至該調控元件32，已接收從關於該電弧電壓UA的該穩定的電壓數值UA’以及當作該後者的一方程式以用於操控該定位裝置46。

依照本發明的可能的實施方法，該定位裝置46可以從一群組包括一機械制動器、一電力制動器、一氣動制動器、一水力制動器、一鉸接結構、一機械結構、相似以及適合相比的組件或一個上述中可能的組合的至少一種被選擇出來。

依照實施例的可能變化的形式，未圖示，該電極控制裝置44可以整合至該控制與命令單元16中。

依照實施例的一些形式，該控制與命令單元16在入口接收該供給電流Ii、該供給電壓Ui、該電弧電流IA、該電弧電壓UA以及可能的該參考電壓值PS的數值。

該控制與命令單元16處理接收的資料以及決定參考電流IR以及參考電壓UR的數值，進而個別傳送至該電力調節單元12以及該電壓調節單元14。

既然如此，該控制與命令單元16執行回饋供應電力給該電極62的該電弧電流IA以及該電弧電壓UA兩者的一控制，進而允許對其相對該理想電流數值I0以及該理想電壓數值U0進行補償可能的偏差。

依照實施例的一些形式，此外，該控制與命令單元16比較該設定的功率數值PS與該實際供給電流Ii、該供給電壓Ui、該電弧電流IA以及該電弧電壓UA，計算該參考電流IR、該參考電壓UR以及兩者波形的頻率，用以最佳化對該電極62的供電。

既然如此，該參考電流IR以及該參考電壓UR的數值可以被獨立的使用，以個別實施藉由作動在該電力調節單元12以實施該電弧的一第一控制，以及藉由作動在該定位裝置46以實施該電弧的一第二控制。

較佳地，該第一控制可以實施於補償該電弧的該電流的意外的變動進而避免對於電子元件可能的損害，然而該第二控制允許在一較低的頻率下去調整該電弧，隨著時間推移，在該電弧電壓上補償的變化是逐漸以及可預測的，基於標準功能狀態下決定範例。

此雙重控制允許解決負載的不穩定的問題，尤其 是在一開始的啟動階段，當負載是永遠不平衡的，簡化該電弧的維護以及允許去補償無法在事前被預知的不標準功能狀態。

此解決方案也避免該電弧爐60的牆壁的損害，例如，因為溫度差異造成的短路，會隨著該電極62被插入的時間會降低其耐用度。這允許降低必須被實施在該裝置10以及該電弧爐60的維護的頻率。

顯而易見地，元件的修改及/或添加可以被施加製該裝置以及方法如同到此的描述，在不脫離本發明的領域和範圍。

同樣顯而易見地，雖然本發明已經被通過伴隨一些特定的範例進行描述，對於熟悉本技術領域的技術人員，在前述的申請專利範圍的技術特徵下，必然可以完成許多其他同等形式的裝置以及方法，這些也應視為本發明的保護範圍。

10‧‧‧裝置

12‧‧‧電力調節單元

16‧‧‧控制與命令單元

18‧‧‧轉換裝置

20、22、24、26‧‧‧偵測裝置

27‧‧‧功率調整器

28‧‧‧處理單元

30、32‧‧‧訊號調控元件

34‧‧‧模組

42‧‧‧電流調節裝置

44‧‧‧電極控制裝置

46‧‧‧定位裝置

50‧‧‧電力網路

60‧‧‧電弧爐

62‧‧‧電極

I0‧‧‧理想電流數值

IA‧‧‧電弧電流

IA’‧‧‧穩定的電流數值

Ii‧‧‧供給電流

IR‧‧‧參考電流數值

PS‧‧‧參考電源

R,S,T‧‧‧相位

U0‧‧‧理想電壓數值

UA‧‧‧電弧電壓

UA’‧‧‧穩定的電壓

U0‧‧‧理想電壓

Ui‧‧‧供給電壓

UR‧‧‧參考電壓

Claims (13)

1. 一種用於一電弧爐的供電裝置，包含至少一電極以及可以連接至一電力網路以提供該電極電能，用以產生一電弧，以融化一金屬塊，該電力網路是一個具有三相的三相電力網路，該裝置包括插入以及連接至該電力網路以及該電極的一電力調節單元，用於調節供電給該電極的至少一電量，其中該裝置包括：插介於該電極以及該電力調節單元之間用於偵測該電量的至少一偵測裝置；一定位裝置用於移動該至少一電極靠近/遠離欲融化的該金屬塊，以及連接至該電力調節單元、該電力網路以及該定位裝置的一控制與命令單元，以控制該電力調節單元以及該定位裝置，並藉由作動在該電力調節單元以實施該電弧的一第一控制程序，以及藉由作動在該定位裝置以實施該電弧的一第二控制程序；其中該電力調節單元包括用於轉換該電力網路的電量以供給該電極電量的一轉換裝置，以及與該電力網路以及彼此並聯的複數模組；其中每一該複數模組包括三個相位次模組，該三個相位次模組個別作為該電力網路的三相的其中之一，該三個相位次模組的每一個各自包括一直流矯正電路，用於直流矯正由該電力網路提供的各相電流、一中間電路，在直流中用於儲存能量以及製造該電力網路以及該電極之間的一隔離，以及一反相電路，用於在出口端反轉目前用於調節一備用電流的基本的頻率以及振幅。
2. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該三個相位次模組彼此連接至一中性線。
3. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該中間電路是一直流鏈(DC-link)。
4. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該反相電路可選自半導體、二極體、閘流體或電晶體。
5. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該直流矯正電路是通過一受控制的二極體橋接或晶體閘流管橋接完成。
6. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該控制與命令單元是設置以計算用來操控該電力調節單元的調整的至少一參考電流數值以及操控該定位裝置的調整的一參考電壓數值。
7. 如申請專利範圍第1-6項任一項所述之裝置，其中包括一電流偵測裝置用於偵測一電弧電流，以及一電壓偵測裝置用於偵測一電弧電壓，該電流偵測裝置以及該電壓偵測裝置連接至該控制與命令單元。
8. 如申請專利範圍第7項所述之裝置，其中該轉換裝置設置用於轉換該電力網路的一供給電流以及一供給電壓為該電弧的電流數值以及該電弧的電壓數值以供電予該電極，以及一電流調節裝置，位於該控制與命令單元以及該轉換裝置之間，用於在入口處接收藉由該控制與命令單元計算的該參考電流數值。
9. 如申請專利範圍第8項所述之裝置，其中該定位裝置被連接至一電極控制裝置，用於操控該定位裝置，以使該電弧穩定，該電極控制裝置被與至少該電壓偵測裝置連接以操控該定位裝置以如同該電弧電壓以及該參考 電壓的方程式進行作動。
10. 一種用於一電弧爐的電力供應方法，藉由一電力網路供電予至少一電極去產生一電弧，該電力網路是一個具有三相的三相電力網路，以及藉由插入以及連接至該電力網路以及連接至該電極的一電力調節單元去調節用於供電給該電極的至少一電量，其中該方法包括：使用插入在介於該電極以及該電力調節單元之間的至少一偵測裝置去偵測該電量；利用一定位裝置移動該至少一電極靠近/遠離欲融化的金屬塊；以及控制該電力調節單元以及該定位裝置以藉由作動在該電力調節單元來實施該電弧的一第一控制程序以及藉由作動在該定位裝置來實施該電弧的一第二控制程序；其中該方法包括：藉由一轉換裝置轉換該電力網路的電量以供給該電極電量，該轉換裝置包括與該電力網路以及彼此並聯的複數模組，其中每一該複數模組包括三個相位次模組，該三個相位次模組個別作為該電力網路的三相的其中之一，該三個相位次模組的每一個各自包括藉由一直流矯正電路直流矯正由該電力網路提供的各相電流、藉由一中間電路在直流中用於暫時儲存能量以及製造該電力網路以及該電極之間的隔離，以及藉由一反相電路在出口端反轉目前用於調節一備用電流的基本的頻率以及振幅。
11. 如申請專利範圍第10項所述之方法，其中在該控制過程中，包括計算用以操控該電力調節單元的調整的至少一參考電流數值以及操控該定位裝置的調整的一參考電壓數值。
12. 如申請專利範圍第10項所述之方法，其中在該偵測過程中，包括偵測一電弧電流以及一電弧電壓。
13. 如申請專利範圍第12項所述之方法，其中該定位裝置的致動作為接收到的一電極控制裝置以該電弧電壓的方程式以及該參考電壓的方程式而加以操控。