TWI603053B - 膜厚測定方法及膜厚測定裝置 - Google Patents

膜厚測定方法及膜厚測定裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWI603053B
TWI603053B TW102128473A TW102128473A TWI603053B TW I603053 B TWI603053 B TW I603053B TW 102128473 A TW102128473 A TW 102128473A TW 102128473 A TW102128473 A TW 102128473A TW I603053 B TWI603053 B TW I603053B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
film
wavelength range
thickness
measurement target
reflection spectrum
Prior art date
Application number
TW102128473A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201414983A (zh
Inventor
田口都一
岡本宗大
Original Assignee
大塚電子股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 大塚電子股份有限公司 filed Critical 大塚電子股份有限公司
Publication of TW201414983A publication Critical patent/TW201414983A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI603053B publication Critical patent/TWI603053B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/55—Specular reflectivity
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
    • G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
    • G01B11/0625—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating with measurement of absorption or reflection
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/8422—Investigating thin films, e.g. matrix isolation method

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

膜厚測定方法及膜厚測定裝置
本發明係關於膜厚測定方法及膜厚測定裝置，特別是關於依據照射至試料之光的反射光譜，來計算試料所含之膜的厚度之膜厚測定方法及膜厚測定裝置。
在對由複數片膜所積層而成之試料照射白色光時，於各膜的界面反射之光會彼此干涉。又，可以藉由觀測此干涉之波長依附性而得到各膜的厚度。具體來說，適當選擇第一傅立葉轉換(first fourier transform,FFT)或曲線擬合(curve fitting)等方法，藉由照射光的反射光譜來計算個別之膜厚。例如，對於比較厚的膜之量測，可以使用FFT；在此方法中，對於由實際的反射光譜經特定座標變換所得到之波形，利用FFT實施波長分析，再由其峰值波長來得到膜厚。另外，對於比較薄的膜之測量則可以使用曲線擬合；在此方法中，藉由使用最小平方法等方法，對於以參數表示的反射光譜的理論式、與實際的反射光譜實施擬合，來得到使得理論光譜與實際光譜一致或近似之參數。然後，由此參數來得到膜厚。
於使用FFT之方法中，當試料中包含有複數層的膜時，雖然會得到對應於各膜的厚度之複數個峰值波長，但要特定哪個峰值波長是對應於哪層的膜之厚度則會變困難。此外，當從波長範圍及分析度有限之實際的反射光譜，以一次FFT來計算多個膜之厚度時，則計算誤差將變得不能忽視。另外，即便是使用曲線擬合之方法，當試料中包含有複數層的膜時，則實際反射光譜的形狀會變複雜，其結果，若要得到充分精確之計算結果就會變困難。
本發明係鑑於上述課題，提供一種即便於在試料中包含有複數層的膜，也能容易地得到精確的膜厚計算結果的膜厚測量方法及膜厚測量裝置。
為了解決上述課題，本發明之、膜厚測量方法能測量試料上各測定對象膜的厚度。試料包括基準膜及多個測定對象膜，測定對象膜形成在基準膜一側及另一側。基準膜在第一波長範圍及第二波長範圍的透射率有差異，在第一波長範圍的透射率係比第二波長範圍的透射率還低。膜厚測量方法之包括下列步驟：照射步驟，自基準膜的一側對試料照射光；測定步驟，測定通過試料之光於第一波長範圍的一部分或全部範圍的反射光譜、以及於第二波長範圍的一部分或全部範圍的反射光譜；第一計算步驟，依據第一波長範圍之反射光譜，來計算形成於基準膜的一側之各測定對象膜的厚度；以及第二計算步驟，依據形成於基準膜的一側之測定對象膜的厚度、與至少第二波長範圍之反射光譜，來計算形成 於基準膜的另一側之各測定對象膜的厚度。
在此處，第一波長範圍及第二波長範圍可為相鄰的波長範圍，而它們的交界可依據透射率之變化來決定。
又，第二計算步驟可以將第一計算步驟中所計算而得的值來做為形成於基準膜的一側之各測定對象膜的厚度，並將形成於基準膜的另一側之各測定對象膜的厚度設為未知參數，並對理論反射光譜、與測定步驟所測定出之反射光譜實施擬合，來算出未知參數。
又，第一計算步驟係對於依據第一波長範圍的反射光譜所得到之波形進行波長分析，並且依據經由分析所得到之波長成分來決定形成於基準膜的一側之各測定對象膜的膜厚；而第二計算步驟則對第二波長範圍的反射光譜所得到之波形進行波長分析，再依據經由分析所得到之波長成分中之除了第一計算步驟所得到的成分以外之成分，來決定形成於基準膜的另一側之各測定對象膜的膜厚。
又，本發明之膜厚測量裝置能測量試料上各測定對象膜的厚度。試料包括基準膜及多個測定對象膜，基準膜的一側形成有一層或多層測定對象膜，基準膜的另一側形成有一層或多層測定對象膜；基準膜為在第一波長範圍及第二波長範圍的透射率有差異，在第一波長範圍的透射率係比第二波長範圍的透射率低。膜厚測量裝置之為包括下列單元：照射單元，用以自基準膜的一側對試料照射光；測定單元，用以測定通過試料之光於第一波長範圍的一部分或全部範圍的反射光譜、以及於第二波長範圍的一部分或全部範圍的反 射光譜；以及計算單元，用以根據第一波長範圍的反射光譜，來計算形成於基準膜的一側之各測定對象膜的厚度，並根據形成於基準膜的一側之各測定對象膜的厚度、與至少第二波長範圍之反射光譜，來計算形成於基準膜的另一側之各測定對象膜的厚度。
1‧‧‧試料
1a、1b‧‧‧測定對象膜
1c‧‧‧基準膜
10‧‧‧膜厚測量裝置
12‧‧‧光源
14‧‧‧分光器
16‧‧‧演算部
18‧‧‧操作部
20‧‧‧顯示部
22‧‧‧Y型光纖
22a、22b‧‧‧分支光纖
24‧‧‧探測桿
A‧‧‧第1波長範圍
B‧‧‧第2波長範圍
第1圖為本發明之實施例之膜厚測量裝置的結構圖。
第2圖繪示波長範圍不同而產生不同的光反射之樣式的示意圖。
第3圖繪示反射光譜的一示意圖。
第4圖繪示基準膜的透光率之波長特性的一示意圖。
第5圖為本發明之實施例之膜厚測量方法的流程圖。
第6圖繪示反射光譜之其他實施例的示意圖。
第7圖繪示FFT之分析結果的範例之示意圖。
以下，依據圖式來詳細說明本發明之實施例。
第1圖係本發明的實施形態之膜厚測定裝置10的結構圖，通過對於該圖所例示之膜厚測定裝置10之說明，來說明本發明之膜厚測定裝置及方法的一個實施例。
於該圖所示的膜厚測定裝置10係具備：產生照射至試料1的光之光源12、測定來自試料1的反射光的光譜之分光器14、包含CPU等演算單元之演算部16、包含數字鍵(tenkey)等輸入單元之操作部18、及包含FPD(平板顯示器)等顯示單元 之顯示部20。也可以使用眾所皆知的個人電腦來做為演算部16、操作部18及顯示部20。
光源12係適合使用在廣波長範圍之輸出特性平穩之白色光源，可以採用氘燈或鎢燈等。自光源12射出的光係透過Y型光纖22被引導至安裝於該Y型光纖22的前端部之探測桿24。Y型光纖22係其基端側為以Y字狀分成二股之光纖，且具有把自各分支光纖22a、22b射入之光結合為1個光從前端射出，並把從前端射入的光分離為2個光，從各分支光纖22a、22b射出之機能。
光源12係連結在Y型光纖22的一邊的分支光纖22a，而來自光源12的光係從安裝於Y型光纖22的前端之探測桿24射出，垂直照射於試料1。然後，來自試料1的反射光係從探測桿24射入Y型光纖22，引導至連結在Y型光纖22的另一邊的分支光纖22b之分光器14。另外，將來自光源12的光引導至試料1的光學系統、及將來自試料1的反射光引導至分光器14的光學系統，當然不限定於上述之Y型光纖22，可以採用各種光學系統。
於分光器14，可測定來自試料1之反射光的光譜並將其輸出至演算部16。演算部16係將自分光器14輸出的反射光之光譜除以已知的入射光之光譜，來求得反射率的光譜。然後，依據此反射率之光譜算出形成於試料1之各薄膜的膜厚。
在此處，試料1係如第2圖所示，於基準膜1c的一側形成有測定對象膜1a，另一側也形成有測定對象膜1b。在 此處，基準膜1c係具有透射率有差異之第一波長範圍及第2波長範圍。具體來說，第一波長範圍的透射率係比第二波長範圍的透射率還低；在此處，於第一波長範圍的透射率係非常小的，可視為不透明。又，於第二波長範圍的透射率係非常大的，可視為透明或半透明。此種基準膜的範例，例如，可以使用PET(聚對苯二甲酸乙二酯)膜。PET膜被認定為對於特定波長(約330mm)以下的光，具有幾乎不透明的性質，因而適合用來做為基準膜1c，然而本發明之基準膜1c當然不是限定於PET膜，也可以是使用其它種類的樹脂、半導體、玻璃、藍寶石、石英等其它的材料所形成之膜。
以下，採取將使用0.1mm的PET膜做為基準膜1c，於其表側的面形成有透明電極膜ITO作為測定對象膜1a，並於裏側的面形成有抗反射膜SiO2作為測定對象膜1b之物，來作為試料1的範例。
如上所述，本實施形態中，因基準膜1c在第一波長範圍的透射率是非常小的，所以如第2圖(a)所示之對試料1從表側射入的光，雖然是在形成於表側之薄膜1a的表裏(環境層與表側的薄膜間之界面、表側的薄膜與基準膜間之界面)反射，但進入至PET等基準膜1c之光則為該基準膜1c所吸收。因此，在形成於裏側之薄膜1b的表裏之反射光，於表側是觀測不到的。
另一方面，如第2圖(b)所示，在第2波長範圍，從試料1的表側射入的光，係在形成於表側之薄膜1a的表裏(環境層與表側的薄膜間之界面、表側的薄膜與基準膜間之界面) 反射。此外，從表側射入的光的一部分係穿透PET等基準膜1c，而在形成於裏側之薄膜1b的表裏(裏側的薄膜與基準膜間之界面、環境層與裏側的薄膜間之界面)反射。
亦即，在反射光譜之中，第1波長範圍內的光譜係僅反映出表側的薄膜構造，而第2波長範圍內的光譜係反映出表側及裏側雙方的薄膜構造。本實施形態中，於演算部16係先僅使用第1波長範圍內的反射光譜計算表側的薄膜1a之光學膜厚。然後，藉由將其除以已知的薄膜1a之折射率來得到膜厚。另外，此處係把形成於試料1之各膜1a~1c的材質及折射率均當成已知者。
在此之後，於演算部16加入第2波長範圍內的反射光譜，也考慮到先前計算之表側的薄膜1a之膜厚，計算裏側的薄膜1b之光學膜厚。然後，藉由將其除以已知的薄膜1b之折射率來得到膜厚。
第3圖係經由測量試料1而得到之反射光譜的範例之一。又，第4圖係顯示試料1所包含之基準膜1c的透射率之波長特性之圖。如第4圖所示，試料1所包含之基準膜1c，於第1波長範圍A及第2波長範圍B的交界之波長X，透射率大幅上升，在X以上的波長範圍(第2波長範圍B)基準膜可視為透明或半透明。另一方面，在小於X的波長範圍(第1波長範圍A)，基準膜1c的透射率十分小，可視為不透明。
因此，本實施例藉由使用在第3圖之反射光譜中僅屬於小於X之波長範圍(第1波長範圍A)的反射光譜，以曲線擬合之方法來計算形成於表側之薄膜1a的膜厚。具體來說， 將在反射光譜的理論式中之表側的薄膜1a之膜厚設為未知參數，並按照使得反射光譜的理論曲線、與屬於第3圖之第1波長範圍A的反射光譜之曲線成為一致的方式，來算出未知參數。此種計算，例如，可藉由最小平方法等眾所皆知的方法而容易地實現。藉此，可以得到薄膜1a之厚度。例如，預先準備好由n層所構成之多層膜(n>3)的反射光譜之理論式，將第1層(薄膜1a)的膜厚設定為未知參數，第2層(基準膜1c)的膜厚若為已知則設定為實際膜厚，或者若為未知則設定為適當值(例如，0.1mm)，將第3層(薄膜1b)的膜厚設定為適當值(例如，100nm)。第4層以後則當成空氣層(環境層)設定為適當的膜厚值(例如，100mm)。又，各層的折射率及消光係數，其為可以依其材料而選擇之已知波長的函數。於第1波長範圍A，基準膜1c係實質上不透明，其消光係數變成非常大的值。因此，反射光譜的理論式實質上不依附於第3層以下之層的物理參數。然後，藉由按照使得此理論式所示之曲線、與屬於示於第3圖之第1波長範圍A的反射光譜之曲線成為一致的方式，來算出未知參數，就可以得到薄膜1a的膜厚。另外，多層膜的反射光譜之理論式，至今有許多種類是已成為公知的，使用哪個種類都是可以的。
之後，藉由使用所得到之薄膜1a的膜厚、及屬於X以上的波長範圍(第2波長範圍B)之反射光譜，以曲線擬合之方法來計算形成於裏側之薄膜1b的膜厚。具體來說，將反射光譜的理論式中之表側的薄膜1a之膜厚設為已知參數，採用已經得到的膜厚之值，將裏側的薄膜1b之膜厚設為未知參 數。然後，按照使得反射光譜的理論曲線、與屬於第3圖之第2波長範圍B的反射光譜之曲線成為一致的方式，來算出未知參數。另外，除了屬於第2波長範圍B之反射光譜光譜的曲線以外，也可以使之與屬於第1波長範圍A的一部分或全部範圍之反射光譜的曲線成為一致的方式，來算出未知參數。藉此，即可得到薄膜1b之厚度。此計算，例如，同樣也可以藉由最小平方法等公知的方式而容易地實現。在使用上述之由n層所構成的多層膜(n>3)之反射光譜的理論式時，將第1層(薄膜1a)的膜厚變更為已得到之值，將第3層(薄膜1b)的膜厚變更為未知參數即可。其它的物理參數維持原樣即可。另外，於演算部16，使用者可使用操作部18輸入第1波長範圍A及第2波長範圍B的交界值X。或者，演算部16也可以參照基準膜1c的透射率之波長特性來自動選定，而將透射率為第1指定值以下之範圍選定為第1波長範圍A，將透射率為第2指定值以上之範圍選定為第2波長範圍B。另外，第1波長範圍A及第2波長範圍B不需要一定是連續範圍，也可以是相互間隔之範圍。
第5圖為本膜厚測定裝置10之測量方法流程圖。如該圖所示，首先，在包含第1波長範圍A及第2波長範圍B雙方的廣範圍之波長範圍，測定試料1的反射光譜(S101)。具體來說，演算部16係控制光源12使之對試料1照射白色光，分光器14係測量反射光的光譜。又，演算部16係藉由將反射光的光譜除以射入光的光譜，來計算反射光譜。
其次，在步驟S101所得到之反射光譜之中，切割出第1波長範圍A的部分(S102)。然後，依據所切割出之第1波 長範圍A的反射光譜，以曲線擬合之方法來計算表側的薄膜1a之厚度(S103)。
再者，在步驟S101所得到之反射光譜之中，切割出第2波長範圍B的部分(S104)。然後，依據第2波長範圍B的反射光譜、及步驟S103所得到之表側的薄膜1a之厚度，以曲線擬合之方法計算裏側的薄膜1b之厚度(S105)。之後，將步驟S103所得到之表側的薄膜1a之厚度、及步驟S105所得到之裏側的薄膜1b之厚度，顯示於顯示部20(S106)。
依據以上說明之膜厚測定裝置10，使用第1波長範圍A的反射光譜算出表側的薄膜1a之厚度，再使用該計算結果及第2波長範圍B的反射光譜，算出裏側的薄膜1b之厚度。其結果，不但考慮基準膜1c的透射率之波長特性、而且基於廣範圍之波長範圍的反射光譜，當與同時計算薄膜1a及1b的膜厚相比之下，其係可容易地得到十分精確的膜厚之計算結果。
但是，本發明不限定於上述實施形態，能夠有各種變形的實施形態。例如，本發明不僅適用在計算形成於基準膜1c的表裏之2層薄膜1a、1b的厚度之情形下而已，於在基準膜1c的表側及裏側的至少任一方形成2層以上薄膜之情形，也是可以同樣適用的。例如，對將PET膜作為基準膜，在其表側形成易接著層及透明電極層ITO等2層，在其裏側形成易接著層及抗反射膜SiO2等2層之試料，也同樣可適用本發明。在此情形，使用基準膜為不透明之波長範圍的反射光譜，以曲線擬合之方法，計算表側的易接著層及透明電極層ITO之 膜厚。之後，藉由使用該計算結果(表側的易接著層及透明電極層ITO之膜厚)、及至少基準膜為透明或不透明之波長範圍的反射光譜，以曲線擬合之方法來計算裏側的易接著層及抗反射膜SiO2之膜厚。如此，即便是在基準膜的無論是表側或裏側的至少一側形成2層以上薄膜之情況下，本發明也是同樣地可以適用的。
又，在以上說明之中，為了自反射光譜得到膜厚，雖然是使用曲線擬合之方法，但也可使用其它計算方法。例如：於在基準膜為不透明之波長範圍的反射光譜中，或為透明或半透明之波長範圍的反射光譜中，清楚顯示波峰及波谷之情形，可以不使用曲線擬合之方法，而使用峰谷法或FFT法。
例如，對於將PET膜作為基準膜，並於其表側及裏側形成有膜厚比較大的硬塗膜之試料的反射光譜中，如第6圖所示，無論是在小於X之波長範圍的第1波長範圍A，或是在X以上之波長範圍的第2波長範圍B，均包含足夠數量的波峰及波谷。在此情況，如第7圖中的虛線所示，首先，使用第1波長範圍A的反射光譜得到FFT功率值之曲線，自其波峰得到光學膜厚之值Q。此值Q，可判斷為形成於表側之硬塗膜的光學膜厚。其次，如同圖中的實線所示，使用第2波長範圍B的反射光譜得到FFT功率值的曲線，自其波峰得到光學膜厚之值P及Q(或接近Q之值)。在此情況下，雖然得到2個光學膜厚之值P及Q，然而將忽視其中之與被判斷為形成於表側之硬塗膜的光學膜厚之值Q相同、或最接近之值，將所剩下的值P判斷為 形成於裏側之硬塗膜的光學膜厚。另外，在使用第2波長範圍B的反射光譜來得到FFT功率值的曲線之情形，由於對應於光學膜厚之值P的波形不包含在第1波長範圍A，故期望僅使用第2波長範圍B之反射光譜，而不使用第1波長範圍A之反射光譜。如此，在使用其它計算方法自反射光譜得到膜厚之情形下，本發明也是可以適用的。
S101-S106‧‧‧步驟

Claims (5)

  1. 一種膜厚測量方法，用以測量一試料上各測定對象膜的厚度，該試料包括一基準膜及複數個測定對象膜，該基準膜的一側形成有一層或複數層該些測定對象膜，該基準膜的另一側形成有一層或複數層該些測定對象膜；該基準膜在一第一波長範圍及一第二波長範圍的透射率有差異，且在該第一波長範圍的透射率係比該第二波長範圍的透射率還低；該膜厚測量方法之特徵為包括下列步驟：一照射步驟，自該基準膜的一側對該試料照射光；一測定步驟，測定通過該試料之光於該第一波長範圍的一部分或全部範圍的反射光譜、以及於該第二波長範圍的一部分或全部範圍的反射光譜；一第一計算步驟，依據該第一波長範圍之反射光譜，來計算形成於該基準膜的一側之各該測定對象膜的厚度；一第二計算步驟，依據形成於該基準膜的一側之各該測定對象膜的厚度、與至少該第二波長範圍之反射光譜，來計算形成於該基準膜的另一側之各該測定對象膜的厚度；以及一選定步驟，係參照光從白色光源照射時的該基準膜的透射率的波長特性，選定該第一波長範圍及該第二波長範圍的交界。
  2. 如請求項1所記載之膜厚測量方法，其中該第一波長範圍及該第二波長範圍為相鄰之波長範圍，其交界係依據透射率之變化來決定。
  3. 如請求項1或2所記載之膜厚測量方法，其中該第二計算步驟係將該第一計算步驟所計算得到的值，做為形成於該基準膜的一側之各該測定對象膜的厚度，將形成於該基準膜的另一側之各該測定對象膜的厚度設為一未知參數，並使理論反射光譜、與該測定步驟所測定出之反射光譜進行擬合(fitting)，進而算出該未知參數。
  4. 如請求項1或2所記載之膜厚測量方法，其中該第一計算步驟係對該第一波長範圍的反射光譜所得到之波形進行波長分析，並根據經由分析所得到之波長成分，來決定形成於該基準膜的一側之各該測定對象膜的厚度；而該第二計算步驟係對該第二波長範圍的反射光譜所得到之波形進行波長分析，再根據經由分析所得到之波長成分中之除了該第一計算步驟所得到的成分以外之成分，來決定形成於該基準膜的另一側之各該測定對象膜的厚度。
  5. 一種膜厚測量裝置，用以測量一試料上各測定對象膜的厚度，該試料包括一基準膜及複數個測定對象膜，該基準膜的一側形成有一層或複數層該些測定對象膜，該基準膜的另一側形成有一層或複數層該些測定對象膜；該基準膜為在一第一波長範圍及一第二波長範圍的透射率有差異，且在該第一波長範圍的透射率係比該第二波長範圍的透射率低； 該膜厚測量裝置之特徵為包括下列單元：一照射單元，用以自該基準膜的一側對該試料照射光；一測定單元，用以測定通過該試料之光於該第一波長範圍的一部分或全部範圍的反射光譜、以及於該第二波長範圍的一部分或全部範圍的反射光譜；一計算單元，用以根據該第一波長範圍的反射光譜，來計算形成於該基準膜的一側之各該測定對象膜的厚度，並根據形成於該基準膜的一側之各該測定對象膜的厚度、與至少該第二波長範圍之反射光譜，來計算形成於該基準膜的另一側之各該測定對象膜的厚度；以及一選定單元，用以參照光從白色光源照射時的該基準膜的透射率的波長特性，選定該第一波長範圍及該第二波長範圍的交界。
TW102128473A 2012-09-11 2013-08-08 膜厚測定方法及膜厚測定裝置 TWI603053B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012199136A JP6363819B2 (ja) 2012-09-11 2012-09-11 膜厚測定方法及び膜厚測定装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201414983A TW201414983A (zh) 2014-04-16
TWI603053B true TWI603053B (zh) 2017-10-21

Family

ID=50613239

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW102128473A TWI603053B (zh) 2012-09-11 2013-08-08 膜厚測定方法及膜厚測定裝置

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6363819B2 (zh)
KR (1) KR101908739B1 (zh)
TW (1) TWI603053B (zh)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6502626B2 (ja) * 2014-07-10 2019-04-17 株式会社東京精密 距離測定装置、および距離測定方法
JP6487579B1 (ja) 2018-01-09 2019-03-20 浜松ホトニクス株式会社 膜厚計測装置、膜厚計測方法、膜厚計測プログラム、及び膜厚計測プログラムを記録する記録媒体
KR102202789B1 (ko) 2018-05-24 2021-01-14 주식회사 엘지화학 3층 구조의 연료전지용 수소이온교환 강화막 비파괴 두께 측정 방법
JP6686201B2 (ja) * 2019-03-22 2020-04-22 株式会社東京精密 距離測定装置、および距離測定方法
KR102659670B1 (ko) 2019-07-31 2024-04-19 에스케이하이닉스 주식회사 두께 측정 장치 및 방법
CN116878407B (zh) * 2023-09-08 2023-12-01 法博思(宁波)半导体设备有限公司 一种基于红外干涉的外延片测厚方法及装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0755435A (ja) * 1993-08-20 1995-03-03 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 多層膜試料の膜厚測定方法
TW201007117A (en) * 2008-06-20 2010-02-16 Otsuka Denshi Kk Film thickness measuring device and film thickness measurement method

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0252205A (ja) * 1988-08-17 1990-02-21 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 膜厚測定方法
US7646489B2 (en) * 2007-04-25 2010-01-12 Yokogawa Electric Corporation Apparatus and method for measuring film thickness
JP2009250783A (ja) * 2008-04-07 2009-10-29 Sonac Kk 多層薄膜の膜厚測定方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0755435A (ja) * 1993-08-20 1995-03-03 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 多層膜試料の膜厚測定方法
TW201007117A (en) * 2008-06-20 2010-02-16 Otsuka Denshi Kk Film thickness measuring device and film thickness measurement method

Also Published As

Publication number Publication date
TW201414983A (zh) 2014-04-16
JP6363819B2 (ja) 2018-07-25
JP2014055780A (ja) 2014-03-27
KR20140034694A (ko) 2014-03-20
KR101908739B1 (ko) 2018-10-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI603053B (zh) 膜厚測定方法及膜厚測定裝置
JP6290637B2 (ja) 膜厚計測方法及び膜厚計測装置
Pap et al. Optical properties of porous silicon. Part III: Comparison of experimental and theoretical results
CN105066889B (zh) 一种便携式薄膜测厚仪及其膜厚测量方法
JP2010002327A5 (zh)
KR950009219A (ko) 막두께 측정방법
KR20140014191A (ko) 막 두께 측정 장치 및 막 두께 측정 방법
CN105606566A (zh) 一种透明介质膜层折射率及厚度在线测量方法
JP2010002328A5 (zh)
US20070281075A1 (en) Optical method to monitor nano thin-film surface structure and thickness thereof
JP6207333B2 (ja) 膜厚測定方法および膜厚測定装置
US8279453B2 (en) Method and device for measuring thickness of multilayer film
JP4796161B2 (ja) 薄膜検査装置及びその方法
JP2015224956A (ja) 光散乱性光学薄膜の光学特性の評価方法、及び該光散乱性光学薄膜として用いられる光取り出し部材
CN103558185B (zh) 测量气体折射率的方法和装置
JP2012042313A5 (zh)
JP2018197753A5 (zh)
JP2013053919A (ja) ヘイズ値測定装置及びヘイズ値測定方法
De Caro et al. Simple method for the determination of optical parameters of inhomogeneous thin films
JP2013221891A (ja) 膜厚測定方法、膜厚測定プログラム
JP2004093436A (ja) 分光エリプソメータを用いた薄膜多層構造の解析方法
RU2415378C2 (ru) Способ измерения толщины и показателя преломления тонких прозрачных покрытий на подложке
TW201602514A (zh) 光學式膜厚量測方法
Sokolov et al. BSDF Reconstruction of Inks and Paints for Light Guiding Plates
JP2002277218A (ja) 膜厚測定装置およびその方法