TWI602761B

TWI602761B - 基於真空之調節元件流動和單一化的系統、裝置和方法

Info

Publication number: TWI602761B
Application number: TW100144581A
Authority: TW
Inventors: 金釗平; 王利光
Original assignee: 聯達科技控股有限公司
Priority date: 2010-12-08
Filing date: 2011-12-05
Publication date: 2017-10-21
Also published as: CN104760828A; HK1209093A1; KR20120064054A; WO2012078112A2; CN102530539A; MY165136A; CN104760828B; WO2012078112A3; KR101862319B1; SG182009A1; CN102530539B; TW201231368A

Description

基於真空之調節元件流動和單一化的系統、裝置和方法

本發明一體涉及基於真空、用於調節物件或元件(例如，半導體元件)流動或運動及/或分隔沿饋送軌道移動、運輸或遞送的物件或元件的系統、組合件、裝置和方法。具體而言，本發明涉及了提供至少一個，且在一些實施例中提供複數個其目的為週期或間歇地施加真空力的分立或獨立真空單元、腔或區的系統、組合件、裝置和方法，其中所述的真空力減緩或停止元件沿饋送軌道的流動。在某些實施例中，此類真空單元、腔或區可以是選擇性或獨立配置的。

在執行特定程序(例如元件測試或檢查)之前，將饋送軌道中連續相鄰或依順序排列的元件(例如大量四方平面無引腳(Quad Flat No Lead，QFN))分離(separate)或單一化(singulate)經常是必要的。

使用元件饋送軌道可以將多種類型的元件從大宗或大塊元件源轉移至元件目的地。一般而言，將複數個元件沿饋送軌道從元件入口向元件出口連續(例如，成列地)運輸。這些元件中的每一個隨後從饋送軌道被卸載、輸出或拋出(例如單一地或以單一方式)至元件接收站。通常，位於元件接收站的元件係轉移至加工站(例如，用於測試、檢查、排序或安裝)。在半導體界，這個程序係熟知為「單一化(singulation)」。一般是透過拾取或放置機構促進元件轉移至加工站。

傳統上，為使最新轉移至元件接收站且於其上佈置的第一元件單一化，需要將該第一元件與饋送軌道內部排列的其他元件(例如，包括在饋送軌道內部最靠近饋送軌道出口的末端元件和在饋送軌道內部串列排列的後續元件)隔離，而使得在元件接收站上的元件可以轉移至適當的加工站。因此，該第一元件從饋送軌道的元件末端出口卸載至元件接收站必須伴隨避免饋送軌道所攜帶的後續元件同時或不間斷地對或向元件接收站卸載、輸出或拋出，直到該第一元件已經從元件接收站移出至加工站，且該元件接收站已經返回至饋送軌道的末端出口之後。為了向元件接收站提供時間以返回至饋送軌道的末端出口，元件沿饋送軌道進一步運動或流動需要且必須週期地中斷、中止或停止。在元件已經從元件接收站移出，且元件接收站已經返回至饋送軌道末端出口之後，沿饋送軌道的元件流動將再繼續，讓下一個元件(即末端元件)可以從饋送軌道轉移或卸載至元件接收站。

存在有多種系統、方法和技術，其目的為使元件沿饋送軌道的運動停止及/或避免元件從饋送軌道的末端出口對或向元件接收站輸出、卸下或卸載。

一些傳統系統採用機械制動機構(mechanical stopping mechanism)(穩定座(holder))，其中在早先末端元件已經被卸載之後，以實體方式使用所述的機械制動機構，並過施加機械力至末端元件(即位於饋送軌道元件出口末端的末尾(last)元件)，以暫停該末端元件的運動，以在元件已經移至元件加工站之後等待返回元件接收站。該機械制動機構發揮作用以不僅制止末端元件卸載，還暫停或實現已經沿饋送軌道排成一線的元件組的分隔或向饋送軌道末端出口移位或流動。

國際專利申請案第WO 2008/148866號描述了移動性機械制動單元在電子元件饋送軌道末端用於停止沿饋送軌道行進的電子元件運動的用途。此外，日本專利案第JP 200621928號公開了機械制動機構用於促進分隔沿饋送軌道運輸的半導體元件的用途。此類機械中的每小時單位(Unit Per Hour，UPH)一般可以達到每小時20000至30000個元件。

日本專利案第JP2006298578號公開了同時使用真空和氣簾來實現單一化的饋送軌道。日本專利案第JP2006298578號描述了被組構成沿饋送軌道交替施加均勻真空力或均勻正氣壓至三個末端元件的空腔的用途(例如，如日本專利案第JP 2006298578號的第3a至3c圖中所示)。施加至這三個末端元件的真空力之目的為使元件流動停止，且施加至這三個末端元件的正壓之目的為重啟元件流動。

然而，在日本專利案第JP 2006298578號中，施加的真空力無法可靠地讓元件流動停止。在饋送軌道的元件出口附近存在少於3個末端元件的情況下，這個弱點將更加嚴重。在這種情況下，真空洩漏導致施加至末端元件的真空力的強度明顯下降，因而不能如所期望那樣使得沿饋送軌道的元件流動停止。

另外，提供正氣壓以從大宗元件源中持續地移出元件至饋送軌道中。這些以極高速度行進的元件將碰撞到已在饋送軌道末端附近排成一線的元件的後端，且這種連續和反覆的衝擊將引起排成一線的元件朝或向饋送軌道的末端出口緩慢移動。經過一段時間後，這些持續的碰撞將引起末端元件的非預期卸載。

為成功地使元件流動停止，日本專利案第JP 2006298578號教示了在饋送軌道的元件出口與元件接收站之間配置的氣簾機構的用途。將所述氣簾機構係組構成用以藉由施加正氣壓通過分隔饋送軌道末端和元件接收站的管道(channel)或間隙而產生氣簾或氣流。

當給定元件已經從饋送軌道的元件出口卸載或轉移至元件接收站時，(a)將真空力施加至饋送軌道空腔；及(b)而此同時氣簾機構將以與元件流動方向垂直的方向導引饋送軌道出口和元件接收站之間的氣簾。該氣簾在饋送軌道出口和元件接收站之間的間隙內部產生相鄰饋送軌道出口的正氣壓。只要由氣簾提供的正氣壓夠強，則因真空力不充足(例如，歸因於真空洩漏)而仍處於運動中的末端饋送軌道元件將不能夠穿透或突破氣簾。當元件接收站上的元件轉移至加工站時，該末端元件因而仍可以處於饋送軌道內部。

在該元件接收站準備好接收下一個元件之後，(a)中斷在饋送軌道出口和元件接收站之間施加氣簾；(b)中斷對饋送軌道腔(feeder track chamber)施加真空力；並且(c)施加正氣壓至饋送軌道腔，進而實現沿饋送軌道的元件流動及將另一個元件從饋送軌道出口轉移至元件接收站。

然而，現存系統是證明不足以應付因半導體和電子工業中的技術進步所致的電子元件的改變。多種類型的半導體元件的尺寸正日益變得顯著更小和更薄。這符合了體積越來越小的電子元件的需求。鑑於許多半導體元件明顯更小的尺寸，藉由快速運動的常規機械制動器施加機械力以暫停半導體元件沿饋送軌道的移動可能對半導體元件及/或攜帶此類元件的封裝件的結構完整性有不利影響。

此外，半導體和電子工業中的技術發展和進步也已經產生含有日益複雜的內部結構(例如，微電機械系統(MEMS))的半導體和電子元件。某些類型的現代半導體裝置的複雜內部結構可以因外部施加的機械力而被輕易地損壞或不希望地改變。已經發現藉由機械制動器施加機械力以使半導體元件沿饋送軌道的移動停止可能損壞或不利地影響所述元件的電學或結構完整性，並導致元件的功能可靠性問題或元件故障。

最近，在傳統系統中使用正壓空氣射流(positive air jet)以沿饋送軌道快速移動電子元件也導致這類小且複雜的電子元件故障。空氣射流用來增加這類機械中的UPH，有時達到每小時25000至30000個單位。饋送軌道中的元件移動地極快。這種極快運動的電子元件碰撞在饋送軌道末端附近串列排成一線的其他電子元件的衝擊與機械制動器所施加力的衝擊具有相似的效果，這可能引起此類元件中的可靠性和操作問題。在一些情況下中，這類碰撞衝擊將導致正在加工的元件故障。

顯而易見的是，使用機械制動器裝置的傳統系統已被證實無法處理體積更小、更脆弱的電子元件和含有MEMS的電子元件。

遺憾的是，日本專利案第JP 2006298578號所公開的系統十分複雜，且在增強、優化或最大化元件分隔速率方面顯示出不受歡迎的侷限性。日本專利案第JP 2006298578號的弱點在於，強烈氣簾的啟動產生導致末端元件敲擊饋送軌道頂部的機械力。如所解釋的，此類機械衝擊力的作用可以影響電子元件的結構和功能完整性。

顯而易見的還有，傳統系統均未能處理在饋送軌道末端處排成一線的已靜止元件與由空氣射出的快速移動電子元件所造成的碰撞衝擊問題。

為了迎合體積越來越小、脆弱和複雜電子元件，必須設計出一個能在不損壞它們的情況下，可處理此類元件以進行單一化的新系統和方法。該系統和方法必須將衝擊力降低或最小化，或避免對正在加工的電子元件使用衝擊力。

因此，需要使元件沿饋送軌道移動停止及/或避免元件從饋送軌道卸載至元件接收站的改良方式。尤其需要結構簡單的系統、設備和技術，它們能夠以這樣的方式可靠地停止沿饋送軌道轉移或運輸的半導體元件或封裝件的移動，其中所述的方式避免對半導體元件或封裝件造成損壞或不受歡迎的結構改變，並增強、優化或最大化元件分隔速率。

本發明的實施例提供結構簡單的系統、設備和技術，它們能夠(i)在元件接近及/或位於饋送軌道元件出口附近時慢化由饋送軌道所攜帶的元件，藉此降低對沿饋送軌道較慢移動或靜止的元件的碰撞衝擊；(ii)在不使用任何機械力的情況下，在先前或較早的末端元件已經由饋送軌道輸出或從其卸載之後，以避免損壞或傷害目前前導或末端元件的結構及/或功能完整性的方式停住饋送軌道上的目前前導或末端元件；並且(iii)增強、優化或最大化元件分隔速率。

在一個實施例中，基於真空的用於分離元件的系統包含了具有組構成用以攜帶元件入口和元件出口之間元件的饋送軌道的元件遞送單元；和組構成用以從饋送軌道接收元件的元件接收台。該元件遞送單元可以與正壓空氣或氣體壓力源流動地耦接，所述的正壓空氣或氣體壓力源可施加正壓空氣或氣體壓力或流至饋送軌道的部分。正壓空氣或氣體壓力或流可施加位移力到饋送軌道所攜帶的元件上，藉此促進或實現元件沿饋送軌道從元件入口移動或轉移至元件出口。

元件遞送單元包含與真空源耦接的真空組合件。將所述真空組合件組構成用以在一組饋送軌道部位處週期或間歇地施加真空壓或真空力，其目的為週期或間歇地使最靠近元件出口的前導饋送軌道元件(即位於饋送軌道末端處的末端或末尾元件)的運動停止，並且其目的為至少使得饋送軌道所攜帶的其他元件(例如，尾隨於前導元件後面的元件)的運動減速，進而避免來自饋送軌道的不希望或失控的元件輸出，除非元件接收台相對於該饋送軌道適當地定位，並準備好接收下一個元件。

真空壓可以藉助相對於不同饋送軌道部位所安排的真空單元地施加。在一些實施例中，真空壓可相對於其他真空單元，以獨立及/或可組構方式施加至特定真空單元。在具體的實施例中，一個或複數個真空單元可以組構成用於與饋送軌道的選擇性流動連通。特殊真空單元可以選擇性地啟動(例如，單獨或組合地)以測試給定的真空單元組構是否能可靠和迅速地使饋送軌道所攜帶的前導元件的運動停止，以避免前導元件從饋送軌道輸出，除非元件接收台被適當地定位並且準備好接收另一個元件。

正氣壓或氣體壓力或流對饋送軌道的施加可以在元件單一化操作期間以連續、整體上連續或不間斷的方式進行，導致連續、整體上連續或不間斷地施加位移力到饋送軌道所攜帶的元件上。即便正氣壓或氣體壓力或流存在(例如，在持續或不間斷地遞送正氣壓或氣體壓力或流至饋送軌道期間)，仍可以週期或間歇地施加一個或複數個真空壓。此類真空壓對抗在饋送軌道所攜帶的元件上的位移力，進而以可靠的方式週期或間歇地使得沿饋送軌道的元件運動停止及/或減速，無論饋送軌道是否一個元件或複數個元件。在幾個實施例中，避免來自饋送軌道的不想要或不受歡迎的元件輸出僅在回應於施加的真空力時才發生，其中所述的真空力對抗因正氣壓或正氣流所致的元件位移力。此類實施例避免需要調整或調節正氣壓或正氣流或元件位移力，且進一步避免需要基於所施加真空力的時序在元件之間或在元件遞送單元和元件接收台之間提供任何類型的氣簾。本發明的實施例因而可以提供簡化、更可靠的單一化裝置設計，所述設計可以比現有設計實現更高的元件產出率。

根據本發明的方面，用於調節元件流和分隔元件中至少之一者的裝置包含具有至少一饋送軌道的元件遞送單元，其中所述的至少一饋送軌道組構成用以攜帶沿至少一饋送軌道從至少一饋送軌道的元件入口、並向至少一饋送軌道的元件出口串列可移動的一連串的元件；以及與至少一饋送軌道上至少二不同部位可流動地耦接、且組構成用以施加一真空力組到至少二不同部位的至少一個真空組合件。這種裝置可進一步包含組構成用以接收從元件出口卸載的一連串的元件內部至少一個元件的元件接收台，其中該元件接收台包含適當地成形以接收至少一個元件的接收器。

在某些實施例中，元件遞送單元包含至少二平行排列的饋送軌道。此外，元件接收台包含至少二不同的元件接收器，至少二不同元件接收器的每一者適當地成形以接收至少一元件。另外，至少一真空組合件可包含至少二不同的真空組合件，其中至少二不同真空組合件的每一者流動地可耦接於每條相應饋送軌道上的至少二不同部位。

將至少一真空組合件組構成用以在至少一饋送軌道的第一組饋送軌道部位處施加第一真空力和在至少一饋送軌道的第二組饋送軌道部位處施加第二真空力。至少一真空組合件可以組構成用以選擇性建立第一真空力和第二真空力中至少之一者的強度。

至少一個真空組合件包含複數個真空單元，將複數個真空單元內部的每個真空單元組構成用於與饋送軌道的選擇性流動連通(selective fluid communication)。在複數個實施例中，至少一個真空組合件包含第一組真空單元和與第一組真空單元不同的第二組真空單元。第一組真空單元包含暴露於饋送軌道的第一組真空開口，且第二組真空單元包含暴露於饋送軌道的第二組真空開口，其中第一組真空開口可以比第二組真空開口安置得更靠近元件出口。

將第一組真空開口組構成用以分配第一真空力遍及第一數目的元件並且將第二組真空開口組構成用以分配第二真空力遍及第二數目的元件。由第一真空力的強度相對於元件第一數目所定義的第一比率可以與由第二真空力的強度相對於元件第二數目所定義的第二比率不同。依實施例細節而定，第一比率可以大於、等於或小於第二比率。

第一組真空開口可以組構成用以適應元件的第一數目並且第二組真空開口組構成用以適應元件的第二數目，其中元件的第一數目和第二數目可以是相同或不同的(例如，元件的第一數目可以大於或小於元件的第二數目)。在某些實施例中，元件的第一數目等於一。

第一組真空開口可藉由以相對於至少一饋送軌道的角度所安排的一組真空通路與至少一饋送軌道耦接。該裝置可進一步包含一組氣道，其中所述氣道組構成提供正壓空氣或氣體壓力流到至少一饋送軌道的部分，其目的為施加位移力到至少一饋送軌道所攜帶的元件上。在一些實施例中，以相對於至少一饋送軌道的角度安排所述氣道。

將第一組真空開口和氣道組組構成用以實現一連串的元件沿至少一條饋送軌道，以相對於循環性施加真空力組到至少一饋送軌道上至少二不同部位的同步方式逐步移動。

將第一組真空開口組構成用以足夠使至少一元件沿至少一饋送軌道移動停止的方式施加真空力到至少一元件。例如，第一組真空開口可以組構成用以足夠使最靠近元件出口的前導元件移動停止的方式施加真空力至該前導元件。

在幾個實施例中，第一組真空開口包含前導真空開口和尾隨真空開口。在一些實施例中，第一組真空開口包含具有不同橫截面積的複數個真空開口。例如，前導真空開口可以具有比尾隨真空開口更大的橫截面積。第一組真空開口可包含與第二組真空開口內部的真空開口具有不同橫截面積的真空開口。做為額外或替代方式，第一組真空開口可提供第一合計真空開口橫截面積與第二組真空開口，且第二組真空開口提供與第一合計橫截面積不同的第二合計真空開口橫截面積。另外，第一組真空開口可包含具有不同橫截面積的複數個真空開口，且第二組真空開口包括具有不同橫截面積的複數個真空開口。

元件遞送單元可以攜帶或包含與第一組真空開口和第二組真空開口中之一者流動地耦接的真空腔。在某些實施例中，元件遞送單元包含與第一組真空開口流動地耦接的第一真空腔和與第二組真空開口流動地耦接的第二真空腔。

本發明的裝置可以復包含與元件遞送單元流動地耦接並且組構成用以提供正氣壓至元件遞送單元以施加位移力到一連串的元件上的預壓氣體供應單元，該位移力足以向元件出口移動一連串的元件。預壓氣體供應單元可以組構成用以實質上恆定的流速和實質上恆定的壓力地提供正氣壓。至少一真空組合件組構成用以相對於正氣壓的間歇方式施加真空力組，其中真空力組包含足以使最靠近元件出口的前導元件的移動間歇停止的至少一真空力。在複數個實施例中，將至少一真空組合件組構成用以在實質上不間斷地施加正氣壓至元件遞送單元的期間施加真空力組。

根據本發明一個態樣的系統包含元件遞送單元，其具備具有元件入口和元件出口的至少一饋送軌道、組構成用以攜帶沿至少一饋送軌道可移動的一連串元件的至少一饋送軌道；與元件遞送單元流動地耦接並且組構成用以供應預壓氣體流的預壓氣體供應單元，所述的預壓氣體流施加實質上恆定的位移力到沿至少一饋送軌道的一連串的元件上，該位移力指向元件出口；組構成用以接收來自至少一饋送軌道的一連串的元件內部的第一元件的元件接收台，該元件接收台包含組構成用以偵測第一元件由元件接收台接收的一組感應器；以及與元件遞送單元流動地耦接並且組構成用以在一組饋送軌道部位處相對於預壓氣體流而言間歇施加一真空力組的真空組合件，該真空力組足以避免一連串的元件內部的第二元件從元件出口輸出。一旦偵測到第一元件由元件接收台接收，則可以啟動真空力組的施加。

在一些實施例中，真空組合件的至少一部分攜帶於元件遞送單元內部。本發明的真空組合件可包含藉助一組真空開口與饋送軌道流動地耦接的至少一個真空腔。

真空組合件可包含組構成用以施加第一真空力至第一組饋送軌道部位的第一組真空單元和組構成用以施加第二真空力至與第一組饋送軌道部位不同的第二組饋送軌道部位的第二組真空單元。第一真空力和第二真空力的每一者反抗施加到元件上的位移力。真空組合件可以組構成用以相對於第二真空力的強度選擇性建立第一真空力的強度。

根據本發明的一個態樣，用於調節元件流動和分隔元件中至少之一項的方法包含提供元件遞送單元，其具有組構成用以使元件從元件入口向元件出口移動的至少一饋送軌道；向至少一饋送軌道提供一連串元件，該一連串的元件包含第一元件和串列接續第一元件的第二元件；使該一連串的元件沿至少一饋送軌道向元件出口移動；並且施加一真空力組到至少一饋送軌道的至少二不同饋送軌道部位以避免一連串的元件內部的第二元件從元件出口輸出。

該一連串的元件可包含串列接續第二元件的第三元件，該方法可進一步包含調節該真空力組內部的至少一真空力以實現一連串的元件內部的第二元件從元件出口輸出；和進一步調節該真空力組內部的至少一真空力以避免在第二元件已經從元件出口至少部分地輸出後，該一連串的元件內部的第三元件從元件出口輸出。

根據本發明實施例的製程也可包含提供組構成用以接收從元件出口卸載的一連串的元件內部至少一元件的元件接收台。該元件接收台包含適當地成形以接收至少一元件的至少一接收器或接收結構。該製程可進一步包含提供被組構用於施加真空力組的至少一個真空組合件，其中所述至少一真空組合件流動地可耦接於至少一饋送軌道的至少二不同部位。

該元件遞送單元可包含至少一饋送軌道，在一些實施例中包含平行排列的至少二饋送軌道。在具體的實施例中，該製程可包含提供被組構成用於施加真空力組的至少二不同真空組合件，其中所述至少二不同的真空組合件流動地可耦接於每條相應饋送軌道上的至少二不同部位。與這種製程相關，元件接收台可包含至少二不同的元件接收器，至少二不同元件接收器的每一者適當地成形以接收至少一元件。

施加真空力組到至少二不同饋送軌道部位可包含選擇性建立第一真空力在第一饋送軌道部位處的強度和第二真空力在與第一饋送軌道部位不同的第二饋送軌道部位處的強度中至少之一者。第一真空力可以與第二真空力的強度相同或與之不同。

本發明的製程可包含提供與至少一饋送軌道可流動地耦接的複數個真空單元，並且其中施加真空力組到至少二不同饋送軌道部位包括選擇性建立至少一饋送軌道與複數個真空單元內部特定真空單元之間的流動連通。例如，製程可包含提供與至少一饋送軌道可流動地耦接的第一組真空單元、和與至少一條饋送軌道可流動地耦接的第二組真空單元，第一組真空單元與第二組真空單元不同。第一組真空單元包含暴露於至少一饋送軌道的第一組真空開口，且第二組真空單元包含暴露於至少一饋送軌道的第二組真空開口。

施加一真空力組到至少二不同饋送軌道部位可包含使用第一組真空開口分配第一真空力遍及第一數目的元件、並且使用第二組真空開口分配第二真空力遍及第二數目的元件。由第一真空力的強度相對於元件第一數目所定義的第一比率可以相同於或不同於(例如，大於或小於)由第二真空力的強度相對於元件第二數目所定義的第二比率。

第一組真空開口可以藉助以相對於至少一饋送軌道的角度所組構或安排的一組真空管道與至少一饋送軌道耦接。本發明的製程可進一步包含提供以相對於至少一饋送軌道的角度所安排的一組氣道。使一連串的元件沿至少一饋送軌道向元件出口移動係包含使用第一組真空開口和氣道組來使串列安排的元件沿饋送軌道向元件出口的逐步移動同步。使串列安排的元件沿饋送軌道的同步逐步移動係包含循環地調節真空力組內部的至少一真空力。在複數個實施例中，使串列安排的元件沿饋送軌道的同步逐步移動包括循環地調節真空力組內部的至少一真空力，同時藉助氣道組以提供至少一個正氣壓至饋送軌道，其中至少一正氣壓施加實質上恆定的位移力到一連串的元件上。

第一組真空開口可以比第二組真空開口安置得更靠近元件出口。第一組真空開口可以組構成用以適應元件的第一數目，並且第二組真空開口可以組構成用以適應元件的第二數目，其中元件的第一數目和第二數目可以是相同或不同的(例如，元件的第一數目可以小於或大於元件的第二數目)。在一些實施例中，元件的第一數目等於一。

施加一真空力組到至少二不同饋送軌道部位可包含建立饋送軌道與第一組真空開口和第二組真空開口中至少之一者之間的流動連通。在幾個實施例中，第一組真空開口和第二組真空開口中至少之一者係與元件遞送單元所攜帶的真空腔耦接。

本發明的製程可進一步包含提供正氣壓到至少一饋送軌道，以施加位移力到一連串的元件上，該位移力足以使一連串的元件向元件出口移動。可以用實質上恆定的流速和實質上恆定的壓力提供正氣壓。施加一真空力組到至少二不同饋送軌道部位包含以相對於正氣壓的間歇方式施加該真空力組。例如，施加一真空力組到至少二不同饋送軌道部位可包含在不間斷地提供正氣壓至饋送軌道的期間施加該真空力組。

根據本發明的一個態樣，用於調節元件流動和分隔元件中至少之一項的製程包含提供元件遞送單元，其具有組構成用以使元件從元件入口向元件出口移動的至少一饋送軌道；向至少一條饋送軌道提供一連串元件，該一連串的元件包含第一元件和串列接續第一元件的第二元件；提供施加位移力到一連串的元件上以使該一連串的元件沿饋送軌道向元件出口移動的實質上不間斷的正壓氣流；使該一連串的元件內部的第一元件從元件出口輸出；施加一真空力組至一組饋送軌道部位；以及使第二元件沿至少一饋送軌道的移動僅因施加真空力組而停止。

根據本發明的一個態樣，用於調節元件流動和分隔元件中至少之一項的製程包含提供元件遞送單元，其具有至少一饋送軌道和與至少一饋送軌道可流動地耦接的可選擇真空單元組構，至少一饋送軌道係組構成用以使元件從元件入口向元件出口串列移動；建立第一真空單元組構，其定義與至少一饋送軌道在第一組饋送軌道部位處流動地耦接的第一組真空單元；使複數個元件沿至少一饋送軌道向元件出口移動；從元件出口輸出前導元件，同時使複數個元件沿至少一饋送軌道移動；從元件出口輸出前導元件的至少一部分之後，施加真空力至第一真空單元組構；並且確定在施加真空力至第一真空單元組構期間，第一真空單元組構是否避免另一個元件從元件出口輸出。

這種製程可進一步包含提供組構成用以從元件出口接收元件的元件接收台；和從元件出口卸載一連串的元件內部的第一元件至元件接收台。該元件接收台包含適當地成形以接收至少一元件的接收器。

在某些實施例中，元件遞送單元包含平行排列的至少二饋送軌道。至少一真空組合件包括至少二不同的真空組合件，至少二不同的真空組合件的每一者流動地可耦接於每條相應饋送軌道上的至少二不同部位。該元件接收台可包含至少二不同的元件接收器，至少二不同元件接收器的每一者適當地成形以接收至少一元件。

本發明的製程可以額外包含建立第二真空單元組構，其定義與至少一饋送軌道在第二組饋送軌道部位處流動地耦接的第二組真空單元，第二組饋送軌道部位與第一組饋送軌道部位不同；使複數個元件沿至少一饋送軌道向元件出口移動；從元件出口輸出元件，同時使複數個元件沿至少一饋送軌道移動；從元件出口輸出該元件之後，施加真空力至第二真空單元組構；並確定在施加真空力至第二真空單元組構期間，第二真空單元組構是否避免另一個元件從元件出口輸出。第二組饋送軌道部位可包含比第一組饋送軌道部位更多數目的饋送軌道部位。

根據本發明的一個態樣，用於調節元件流動和分隔元件中至少之一項的製程包含提供元件遞送單元，其具有至少一饋送軌道和與至少一條饋送軌道的不同位置可流動地耦接的可選擇的複數個真空開口，至少一條饋送軌道組構成用以使元件從元件入口向元件出口移動；使複數個元件沿至少一饋送軌道向元件出口移動；循環地施加第一真空力組至與至少一饋送軌道流動地耦接的第一組真空開口；由於讓複數個元件沿至少一饋送軌道移動和循環性施加真空力組至第一組真空開口之間的交替轉變而從元件出口輸出元件評估集合，該元件評估集合包含至少一元件；確定與元件評估集合對應的至少一個損壞量度，至少一損壞量度提供對元件結構性損壞和元件功能性損壞之一者的指示；並且基於至少一個損壞量度，建立與第一組真空開口不同的第二組真空開口和與第一真空力組不同的第二真空力組中至少之一者。輸出元件評估集合可包含以施加第一真空力組至第一組真空開口時避免來自元件出口的元件輸出的方式從元件出口串列輸出各個元件。

根據本發明的一個態樣，用於調節元件流動和分隔元件中至少之一項的製程包含提供元件遞送單元，其具有與正氣壓源可流動地耦接的至少一饋送軌道和與至少一饋送軌道可流動地耦接的可選擇真空單元組構，至少一饋送軌道組構成使元件從元件入口向元件出口移動；施加正氣壓到至少一饋送軌道；藉助正氣壓施加位移力到至少一饋送軌道所攜帶的複數個元件上；使複數個元件沿至少一饋送軌道向元件出口移動；且確定真空單元組構，其對抗位移力以避免在真空施加間隔期間元件經由元件出口輸出。真空單元的組構可以是對抗位移力的最小真空單元組構。此外，施加正氣壓可包含施加實質上恆定的氣壓。

根據本發明的一個態樣，用於分離元件的系統包含元件遞送單元，其具有(a)組構成用以攜帶沿至少一饋送軌道從元件入口至元件出口可移動的一連串元件的至少一饋送軌道；及(b)一組接收單元；和元件接收台，其具有(a)組構成用以從元件出口接收連串元件輸出物內部的元件的接收結構；及(b)組構成用以與元件遞送單元的接收單元組配對齧合的一組齧合單元。

在一些實施例中，齧合單元組包含離開接收結構並向元件遞送單元延伸的一組突出構件，接收單元組包含在組構成用以接收突出構件組的元件遞送單元中所形成的一組凹陷。當齧合單元組和接收單元組以部分齧合的狀態存在時，齧合單元組可以組構成用以提供元件遞送單元和接收結構之間的橋接構件。該橋接構件係組構成用以支撐至少部分地佈置在元件遞送單元和元件接收台之間的元件。在某些實施例中，使橋接構件和接收結構至少之一者逐漸變細，以促進配對齧合以容納元件遞送單元與元件接收台之間的位置誤差。該元件接收台係組構成用於在元件接收位置和元件派送位置之間移動，當元件接收台位於元件派送位置處時，橋接構件和接收結構可以組構成用於最低局部齧合。

根據本發明的一個態樣，用於分離元件的製程包含提供包含至少一饋送軌道和一組接收單元的元件遞送單元，至少一條饋送軌道組構成用以使一連串元件沿至少一饋送軌道從元件入口至元件出口移動；提供包含接收結構和齧合單元組的元件接收台，接收結構係組構成用以從元件出口接收一連串的元件內部的元件，齧合單元組係組構成用以與接收單元組配對齧合，當齧合單元組和接收單元組以部分齧合的狀態存在時，齧合單元組係組構成用以提供元件遞送單元和接收結構之間的橋接構件；當齧合單元組和接收單元組以部分齧合的狀態存在時，使元件從元件出口輸出至元件接收台；並且藉助橋接構件支撐來自元件出口的元件輸出物。

本發明的實施例涉及用於調節元件流動及/或分隔、分離或單一化元件(例如由例如四方扁平封裝(QFP)、四方扁平無引腳(QFN)的封裝件及/或其他類型的封裝件所攜帶的半導體和電子元件)的系統、裝置、設備、方法、程序和技術。本發明的具體實施例涉及從串列排列在元件遞送或運輸單元上，並且由其攜帶的一組或多組元件中分隔或分離在元件接收台或單元上安排或由其攜帶的元件，具體而言是沿該元件遞送單元的部分所攜帶或形成的饋送軌道、管道或管道而運輸的元件。

依實施例的細節而定，可以沿饋送軌道提供、導入或供應連續或不連續的預壓空氣或氣體的流或供給物，以促進元件沿饋送軌道流動、移動、運輸、遞送或轉移，例如，從饋送軌道的物件或元件入口至或向饋送軌道的物件或元件出口。在幾個實施例中，針對或沿饋送軌道的一個或複數個部分所施加的預壓空氣流在元件分隔操作期間是連續的或實質上連續的。因此，這種預壓空氣流可以在元件分隔操作期間施加實質上恆定的位移力到饋送軌道所攜帶的一個或複數個元件上，其中位移力包括指向元件出口的向量分量。

沿饋送軌道的預壓空氣流或供應物促進元件從饋送軌道的元件出口中輸出，這可以與元件從饋送軌道卸載或轉移至元件接收台相對應。在選擇的實施例中，元件接收台及/或元件遞送單元可包含一組配對齧合單元(mating engagement element)，其中將所述的配對齧合單元組構成用以增強從饋送軌道卸載或轉移元件到元件接收台上的精度及/或容易度。具體的實施例使元件接收台和元件遞送單元能夠藉助配對齧合單元配對地耦接。

當配對齧合單元相互處於充分齧合或充分配對的位置時，元件接收台係直接相鄰或緊靠在元件遞送單元上，並且從元件遞送單元卸載的元件可以直接轉移至元件接收台。當配對齧合單元相互處於部分齧合或部分配對的位置時，該元件接收台係接近於該元件遞送單元(例如，至少稍微與之分開)。該配對齧合單元可以形成橋接構件(brjdge member)，其中所述橋接構件支撐或攜帶至少部分地安排在元件接收台和元件遞送單元之間的元件的一個或複數個部分，例如，如果該元件在配對齧合單元處於部分齧合或部分配對的位置時由該元件遞送單元輸出或從其中卸載。在一些實施例中，可以使特定配對齧合單元的部分逐漸變細、輪廓吻合或以其他方法成型以促進或增強當元件接收台(再)定位或(再)對準之誤差相對於元件遞送單元而言存在時，彼此成功齧合和元件接收台成功緊靠元件遞送單元的可能性。

本發明的實施例包含至少一個真空組合件，其中所述的至少一個真空組合件係組構成用以調節沿饋送軌道的元件流動，例如透過藉助在或相對於特定(例如，複數個不同的)饋送軌道位置所施加的一個或複數個真空力或負壓，使運動中的元件週期、循環或間歇地減速及/或使得沿饋送軌道行進的元件停止移動。使元件減速及/或使得沿饋送軌道的元件移動停止係調節了元件流動，且可以避免饋送軌道所攜帶的一個或複數個元件(即最靠近元件出口的下一個元件以及一個或複數個後繼元件)卸載或轉移至元件接收台。

週期、循環或間歇地提供真空力至饋送軌道的部分，與此同時提供了施加位移力到沿饋送軌道的物件或元件上的正氣壓，這導致逐步、分步、離散、遞增及/或週期、循環或間歇地中止物件或元件沿饋送軌道向元件出口的移動或前進。這種逐步元件移動係相對於調整(例如，循環地施加或增加，和調整或釋放)施加至饋送軌道諸部分的特定真空力而言以同步、受控制或受調節的方式出現。調整此類真空力並因而沿饋送軌道逐步移動串列組織的元件可與來自元件出口的元件輸出同步或協調。

例如，在包括第一或前導元件和沿饋送軌道尾隨於該前導元件之後的眾多後續元件的一組元件內部，當該前導元件已經至少部分地或實質上從元件出口輸出並卸載到元件接收台上時，可以調整施加至饋送軌道的真空力以避免一個或複數個後續元件從元件出口輸出，直到該元件接收台準備好接收下一個元件。可以控制或調節施加至該饋送軌道的真空力，使得沿饋送軌道的逐步元件移動同步於元件接收台的各個元件的受控接收或捕獲。具體而言，當元件接收台空閒並且相對於元件遞送單元適當地定位時，施加真空力至饋送軌道可以與各個元件從饋送軌道輸出及/或由元件接收台相應元件接收相協調或同步，如下文詳細地進一步描述。

另外，根據本發明的實施例藉助真空力使元件沿饋送軌道的移動減速及/或停止可以減少因沿饋送軌道的元件碰撞(例如，當給定元件因向前動量而擊打或撞擊相鄰元件時)對元件所造成的衝擊力，進而降低或最小化元件損壞的可能性。本發明的實施例因而適用於以保護小的、極小的、細緻及/或易損壞元件的結構和功能完整性的方式分隔或單一化此類元件。因此，本發明的具體實施例實現了循環調節沿饋送軌道的元件流動，這可進一步透過真空組合件施加一個或複數個真空力或壓力至饋送軌道(例如，在沿饋送軌道的特定的位置、區段或區域集合處一次或多次地)來實現各個元件的分隔、單一化或分離(例如，安排在元件接收台上的元件與沿饋送軌道所安置的其他元件分隔)。在某些實施例中，特定的真空力可以按選擇性及/或獨立的方式施加至不同饋送軌道位置或區域。在此類實施例中，真空組合件可包含組構來用於與饋送軌道選擇性流體(fluid)連通或與之流體耦接的真空單元。在本發明的上下文中，「流體連通」一詞意指對應於或延伸至一種或多種流體及/或氣體(例如，空氣及/或另一種氣體及/或液體)跨某開口、沿某通路及/或在某結構(如腔、管道(channel)、管(tube)、槽(duct)、孔或軸(shaft))內部以本領域普通技術人員理解的方式流動。根據本發明的多種實施例，此類液態或氣態流體連通可以因施加一個或複數個壓力、流或力(例如，正壓氣流及/或施加的真空力)所致。

將真空組合件組構成用以施加足夠的真空力或壓力以循環、週期或間歇地使得沿饋送軌道行進的元件的運動減速或停止，因而循環、週期或間歇地避免元件從元件出口的不想要或失控的輸出、卸下或拋出，這可以相應地避免元件在除了在當元件接收台(a)相對於該饋送軌道適當地定位並且(b)準備好接收下一個元件時之外的時間從饋送軌道轉移至元件接收台。真空組合件可以組構成用以實現控制在饋送軌道的一個或複數個部分、區域、區段、位置、部位處所施加的真空力的強度和持續時間中之至少一項。

在多種實施例中，將真空組合件組構成用以沿饋送軌道在至少兩個差異或不同位置或部位處施加真空力以使元件沿饋送軌道的行進或流動減速及/或停止。在一些實施例中，可以獨立地組構、控制、選擇或變動沿饋送軌道在複數個相異位置中每個位置處的真空力強度和持續時間中之至少一項。在某些實施例中，真空組合件包括與沿饋送軌道的至少兩個不同位置對應的至少兩個實體上分離的真空腔、管道、結構及/或單元(例如，真空開口)。

在幾個實施例中，將真空組合件組構成用以在第一組饋送軌道位置處施加第一真空力組和在第二組饋送軌道位置處施加第二真空力組。因此，該真空組合件可以施加第一真空力組至饋送軌道所攜帶的第一組元件，並且施加第二真空力組至饋送軌道所攜帶的第二組元件，其中第二組元件尾隨於第一組元件之後。第一真空力組具有足以使第一組元件沿饋送軌道的運動停止的強度，並且第二真空力組具有足以至少使第二組元件沿饋送軌道的運動減速的強度。例如，第一真空力組可以具有足以使位置最靠近元件出口的前導元件的運動停止的強度，並且第二真空力組可以具有足以至少使位於前導元件之後的眾多尾隨元件的運動減速的強度。即，將一個或複數個元件安排得比前導元件進一步遠離元件出口。

在幾個實施例中，可以在單一化操作期間在持久或整體上持久的基礎上在或相對於一個或複數個饋送軌道位置施加真空力，進而避免元件從元件出口輸出，直到元件接收台(a)直接相鄰(例如，緊靠)元件遞送單元地(再)定位；並且(b)準備好接收下一個元件。當元件接收台直接相鄰或緊靠元件遞送單元地(再)定位並準備好接收下一個元件時，可以臨時降低、中斷或終止所施加的一個或複數個真空力，讓沿饋送軌道的元件運動可以再繼續，且下一個元件可以從元件出口輸出並且轉移或卸載到元件接收台上。一旦元件接收台在元件接收台的接收結構處接收這個新近或最新卸載的元件，則(a)可以施加一個或複數個真空力至元件接收台以穩固地留住或托住該接收結構上這個新近或最新卸載的元件；且(b)可以在或相對於一個或複數個饋送軌道位置再施加、再建立或增加一個或複數個真空力，讓沿饋送軌道運動中的元件減速及/或停止並避免元件從元件出口輸出。

元件接收台可以因此從元件遞送單元轉移或轉走，讓元件接收台所攜帶的元件可以派送(dispatch)或轉移至加工站。與元件派送操作相關，可以降低或釋放使元件固定在元件接收台的接收結構上的一真空力組，讓元件可以從元件接收台移除(例如藉由拾取或放置裝置)並轉移至加工站。在元件派送至加工站之後，空的元件接收台(即，元件已經因元件派送至加工站而從中移走的元件接收台)可以直接相鄰元件遞送單元地再定位。隨後可以臨時降低或中斷在或相對於特定饋送軌道位置所施加的一個或複數個真空力，使得沿饋送軌道的元件運動可以再繼續，且下一個或後繼元件可以從元件遞送單元的元件出口卸載至元件接收台。

除了前文之外，在引導一個或複數個元件至饋送軌道的元件入口且將此類元件向元件出口移動之前或之時，建立及/或增加對元件出口處、靠近元件出口及/或元件出口附近的真空單元所施加的真空力，且循環、週期或間歇地施加該真空力。因此，減少或最小化從元件出口失控或非預期地卸下或拋出一個或複數個元件(例如，高速拋出輸入至元件入口的最初或前導元件)的可能性。即，當沿饋送軌道的元件移動可以出現時，對元件出口處、元件出口附近及/或靠近元件出口的至少一組真空單元施加至少一真空力組。因此，本發明的實施例係組構成用以防止或避免在減速力及/或制動力施加不存在下從元件出口卸下元件，其中所述的減速力及/或制動力在此類元件沿饋送軌道行進時施加至這些元件。在某些實施例中，可以在不中斷的情況下施加其目的為使沿饋送軌道的元件流動減速及/或停止的真空力，直到真空開關、光學感應器或其他感應單元偵測到第一或前導元件在饋送軌道上的存在或運動，此後真空力的循環、週期或間歇施加可以出現，例如，以本文中所述的方式出現。

下文參考第1圖、第2A至2N圖、第3A至3E圖、第4A至4E圖、第5圖和第6圖詳細地描述用於分隔元件(例如由QFP、QFN的封裝件及/或其他類型封裝件或結構所攜帶的半導體或電子元件)的系統、設備、裝置、程序、方法及/或技術的代表性方面，在所述圖中顯示相近或相似的單元或程序部分是用相近或相似的元件符號。相對於與圖第1至6圖中之一幅或多幅圖所對應的描述性材料而言，描述給定元件符號可以表示同時考慮其中也顯示該元件符號的圖。本發明所提供的實施例不受下述應用妨礙，在所述應用中需要在本文所述多種實施例之中存在的特殊基礎結構性及/或操作性原理。

在本發明的上下文中，根據已知的數學定義(例如，以由Peter J. Eccles於劍橋大學出版社出版的(1998年)《數學推理導論：數字、集合和函數(An Introduction to Mathematical Reasoning: Numbers, Sets,and Functions)》的「第11章：有限集合的屬性」(例如，如該書第140頁所示)中所述對應的方式)，「集合(set)」一詞的定義為一個非空的有限的元件構成，其在數學上顯示基數至少1(即，如本文中定義的集合可以對應於單元素集合(singlet)或單元件集合(single element set)或多元件集合(multiple element set))。

代表性的基於真空的元件流動調節及/或分隔系統的方面

第1圖是說明根據本發明之實施例的代表性物件或元件流動調節及/或分隔、單一化或分離系統1的方塊圖。在一個實施例中，元件源5攜帶一系列串列安排或相鄰的元件、物件或單元。元件源5供應或提供元件至元件分隔、單一化或分離裝置10，其包含被組構成用以控制或調節物件或元件流動的元件遞送或轉移單元100和組構成用以按照與元件遞送單元調節物件或元件流動同步的方式從元件遞送單元100接收元件的元件接收或移動台、平台或單元200。元件遞送單元100包括元件入口122和元件出口124，在元件入口122處之元件可以由元件遞送單元100接收或輸入其中，在元件出口124處之元件可以從元件遞送單元100卸載、輸出、卸下或拋出。

根據本發明的多種實施例，物件或元件可以包含例如由結構或如QFP、QFN(例如，攜帶一或多種裝置的QFN，該裝置係例如加速器、陀螺儀、壓力感應器或醫療裝置)的封裝件、相機模組封裝件及/或其他類型的元件所攜帶的半導體、電子及/或其他類型裝置。本發明的具體系統、裝置、元件、結構及/或程序可用於控制或調節適合沿饋送軌道串列移動的其他類型物件或元件(包括多種類型的封裝件、元件、單元、零件、結構、物品或產品)的流動以及分隔或單一化。例如，本發明的某些實施例可以組構成用以控制或調節可攝入產品或藥品(例如，片劑、丸劑或膠囊劑，它們可以常規的，或可以是非常規的，例如以相同、類似或相似於美國專利案第2010/0049120號中所述的方式攜帶電子電路的「智慧藥丸」)沿饋送軌道的流動，並可能控制或調節此類產品的分隔或單一化。做為額外或替代方式，本發明的眾多實施例可以組構成用以控制或調節應當減少、最小化或避免物件對物件碰撞或衝擊的物件或元件(例如軍用品相關的觸發元件)的流動。

如第1圖中所示，空氣或氣體源或單元40可流動地耦接於元件源5和元件遞送單元100中的每一者，並且組構成用以促進元件從元件源5進入和經過元件遞送單元100流動、平移或移動的方式提供或供應空氣或其他氣體的正壓或流至元件源5和元件遞送單元100。具體而言，正壓空氣流施加位移力到此類元件上。該位移力移動或運輸元件經過元件遞送單元100。在幾個實施例中，將預壓氣體供應單元40組構成用以在元件單一化操作期間以不間斷、連續、實質上連續或整體上連續的方式提供正壓空氣或氣體壓力或流至元件遞送單元100。

真空或抽吸源(suction source)60可流動地耦接於元件遞送單元100和元件接收台200的每一者。如下文進一步詳述的，元件遞送單元100包含一組單元或結構，其中藉助真空源60循環、週期或間歇地施加一個或複數個真空或抽吸壓力(例如負壓)或力至所述的單元或結構，以循環、週期或間歇地使元件沿或經過元件遞送單元100的流動減速及/或停止。

施加至元件遞送單元100的一個或複數個真空力的週期性減低或終止係導致經過元件遞送單元100的元件運動或流動的相應週期性加速或再繼續、以及個體元件從元件遞送單元100轉移或卸載至元件接收台200。

一旦給定的元件已經卸載至元件接收台200，(再)施加真空力至元件遞送單元100持續給定的一段時間(其可以定義為真空施加間隔)係暫時地減緩、中止及/或暫停沿元件遞送單元100的元件流動，因而促進由元件接收台200所攜帶的元件與由元件遞送單元100所攜帶的相鄰或相接元件的分隔或單一化。

具體而言，在藉助施加的一個或複數個真空力減緩、中止或暫停沿元件遞送單元100的元件流動的元件派送或取回間隔期間，可以派送、運輸或轉移由元件接收台200所攜帶的元件至加工站80，例如，通過藉助拾取或放置裝置(未圖示)。在派送該元件至加工站80之後，元件接收台200不再攜帶元件，即，元件接收台200可以定義為空(empty)，並且將空的元件接收台200直接或實質上直接靠著元件遞送單元100地再定位，使得元件遞送單元100可以卸載下一個或後繼元件至元件接收台200。具體而言，當空的元件接收台200緊靠在元件遞送單元100上並且因而準備好接收另一個元件時，施加至元件遞送單元100的一個或複數個真空力可以在元件平移或轉移間隔期間被減低、中止及/或中斷，進而促進或導致沿元件遞送單元100的元件流動加速或再繼續、及另一個元件從元件遞送單元100卸載至元件接收台200。通常，元件派送間隔小於或等於真空施加間隔。

在複數個實施例中，將一個或複數個恆定的、實質上恆定或持久的正壓空氣或氣體壓力施加至元件遞送單元100(例如，在元件入口122處、靠近元件入口122及/或在元件入口122附近)，並且將一個或複數個真空壓或力以下述方式相對於施加持久或連續的正氣壓而言循環、週期或間歇地施加至元件遞送單元100的部分(例如，在元件出口124處、靠近元件出口124及/或在元件出口124附近)，其中在(a)向元件遞送單元100的部分週期性施加，且終止此(類)正氣壓不存在的情況下及/或(b)元件遞送單元100和元件接收台200之間的氣簾分割機構不存在的情況下，所述的方式實現高速率的元件分隔或單一化。在幾個實施例中，元件在元件遞送單元100和元件接收台200之間的分隔或單一化(例如，因停止沿元件遞送單元100的元件流動所致)僅歸因於循環性施加真空力，而不歸因於循環性施加的真空力與以下情況之一者或二者的組合：(a)在元件入口122處、靠近元件入口122及/或大體上在元件入口122附近循環性中止正氣壓；和(b)由一個或複數個氣簾所提供的正氣壓。具體而言，在此類實施例中，(a)週期性施加及/或增加的真空力僅僅負責週期性停止前導元件從元件遞送單元100輸出，並且(b)週期性中止及/或降低的真空力因正氣壓在元件上施加的位移力而促進或導致元件運動的再繼續，使得由元件接收台200所攜帶的元件可以週期地派送至加工站80。在某些實施例中，可以在或靠近元件遞送單元100的特定部分(如在元件出口124處、靠近元件出口124及/或在元件出口124附近)施加或增加一組正壓空氣或氣體壓力，以輔助元件從元件遞送單元100卸載至元件接收台200，如下文進一步所描述的。

系統1可包含在空氣源40、與元件源5和元件遞送單元100中每一者之間(例如，藉助如本發明所屬技術領域之通常知識者所輕易理解的配管、管道等)耦接的一個或複數個可調式氣壓及/或氣流裝置、儀表(gauge)、量器(meter)、調節器、閥門或開關42a,42b，用以建立、變動及/或優化經過元件遞送單元100的整體元件流速。系統1可進一步包含與真空源60、與元件遞送單元100和元件接收台200中每一者耦接的一個或複數個真空裝置、儀表、調節器、量器、致動器、閥門或開關62a,62b，用以建立、選擇、變動或優化與目標或最佳整體元件分隔或單一化速率相關的真空壓或力。如下文詳細地進一步描述，系統1也可包含組構成用以感知、監測或偵測元件位置及/或運動方面的一組或多組感應器。此類感應器組可包含一種或多種類型的感應單元，如光學感應器、真空感應器和電感應器，它們可以組構成用以產生與一個或複數個元件的部位、位置或運動及/或元件接收台200相對於元件遞送單元100的部位、位置或運動對應的感應訊號。在一些實施例中，系統1可包含如電腦系統或嵌入式控制器的控制單元90，其中將所述的控制單元90組構成用以自動或程式地控制特定氣壓或氣流裝置或調節器42a,42b、特定真空壓力裝置或調節器62a,62b及/或元件接收台200相對於元件遞送單元100的運動。本發明所屬技術領域之通常知識者會理解在多種實施例中，與一個或複數個感應訊號對應的觸發訊號或回饋訊號可以按照實現這種自動或可程式化控制的方式提供給控制單元90及/或系統1的其他部分(例如，一個或複數個致動器)。

代表性基於真空的元件分隔裝置的方面

第2A圖是說明根據本發明實施例的元件流動調節和分隔、單一化或分離裝置10的部分的側視示意圖，且第2B圖是第2A圖的元件流動調節和分隔裝置10的實施例的平面圖。在實施例中，元件分隔裝置10包含元件遞送單元100和可以靠近或相鄰元件遞送單元100於元件接收位置Xr處所定位的元件接收台200。

在不同的實施例中，可相對於元件遞送單元100選擇性地搬動、移動、平移或轉移元件接收台200。例如，相對於與元件沿元件遞送單元100行進的方向平行、實質上平行或大體上平行的X軸，元件接收台200可以在元件接收位置Xr和元件派送位置Xd之間(例如，以交替、往復或循環方式)移動。可相對於最靠近元件遞送單元100的元件接收台200的邊際、邊界或邊緣定義元件接收位置Xr和元件派送位置Xd中的每一者。在多種實施例中，相對於元件接收台200和元件遞送單元100彼此直接相鄰、緊靠或實質上緊靠的位置定義元件接收位置Xr。

做為輔助理解的代表性實例，當元件接收台200位於元件接收位置Xr處，且元件20已經不存在於元件接收台200上(即，元件接收台200是空的)時，下一個元件20可以從元件遞送單元100卸載至元件接收台200。隨後可以中止沿元件遞送單元100的元件流動，並且可以移動元件接收台200至元件派送位置Xd。當元件接收台200位於元件派送位置Xd處時，由其所攜帶的元件20是可接近或取回的(例如，元件20可以由拾取或放置裝置接近、取回或移走)，並且元件20可以從元件接收台200移走並且派送至適當的加工站80(例如，藉助拾取或放置裝置)。在元件派送至加工站80後，元件接收台200可以返回或再定位於元件接收位置Xr處。隨後可以再啟動沿元件遞送單元100的元件流動，讓元件接收台200可以藉由元件遞送單元100接收另一個元件輸出(即，下一個元件或後繼元件)。

在複數個實施例中，可相對於(例如，朝向或離開)元件遞送單元100，例如，藉助往復性或週期性滑座型(carriage-type)或拉拔型(drawer-type)運動，以本發明所屬技術領域之通常知識者所理解的方式選擇性地移動元件接收台200。本發明所屬技術領域之通常知識者也會理解機械手臂或平移機構(未圖示)(其可以是一般類型的平移機構)可以與元件接收台200耦接以促進前述的滑座型運動。本發明所屬技術領域之通常知識者另外會理解可以將一組感應器(例如，一組光學感應器)組構成用以偵測元件接收台200相對於元件遞送單元100的一個或複數個位置，讓元件接收台200能可靠地返回元件接收位置Xr。依實施例細節而定，此類感應器可以由元件遞送單元100和元件接收台200中之一者或兩者攜帶，及/或此類感應器可以與元件遞送單元100和元件接收台200分立。此外，此類感應器的感應訊號輸出可以提供或用來產生觸發或回饋訊號，以控制、程式化或調整元件接收單元200相對於元件遞送單元100的運動。儘管將第2A圖的元件接收台200繪製為具有特定形狀(例如，以促進與平移機構耦接)，然而本發明所屬技術領域之通常知識者還會理解元件接收台200可根據實施例細節而具有廣泛類型的形狀、大小及/或組構。

元件遞送單元100包含饋送軌道、管道、管或管道120，其具有在元件遞送單元100的接受部分或末端的元件入口122、和在元件遞送單元100的元件卸載或卸下部分或末端的元件出口124。在多種實施例中，元件入口122和元件出口124係在元件遞送單元100的相向端或邊界上。

元件入口122係與來自元件源5的接收元件耦接。饋送軌道120係組構成用以例如因一個或複數個施加的正壓空氣或氣體壓力而促進元件20沿或經過元件入口122和元件出口124之間的元件遞送單元100平移或移動。饋送軌道120所攜帶的元件20可以按線性、串列、併排或相鄰的方式組織。當元件接收台200位於元件移出位置Xr時，將元件出口124以促進元件20從饋送軌道120轉移、卸載或卸下至元件接收台200的方式靠近或相鄰元件接收台200地安排，如下文進一步描述。

在一些實施例中，元件遞送單元100包括底或基底部分110和頂或蓋部分112。饋送軌道120可以安排在底部分和定部分110、112之間。饋送軌道120可以形成從元件入口122延伸至元件出口124的光滑(例如，低或相對低的摩擦力)管道，其中元件20可以沿所述光滑管道移向或移至元件出口124。在實施例中，饋送軌道120的至少一部分可以做為元件遞送單元的底部分110和頂部分112中之一者或二者中的槽、凹陷或管道地形成。

空氣促進的元件移動的方面

元件遞送單元的底部分110和頂部分112至少之一者可包括眾多空氣或氣體入口、管道或通道134，其中所述的134將饋送軌道120中或沿饋送軌道120的空氣開口132流動地耦接至空氣源40，並且促進預壓空氣或氣體遞送至饋送軌道120的一個或複數個部分、區域、區段或部位。在一些實施例中，至少一些空氣入口134可以與元件分配單元100的一部分所攜帶的氣室130流動地耦接。氣室130可以藉助元件遞送單元100的空氣導入口138流動地耦接於空氣源40。

空氣入口134可以組構成用以沿饋送軌道長度的部分以促進或導致饋送軌道所攜帶的元件20移向或至元件出口124的方式分配預壓空氣。具體而言，可以用相對於饋送軌道長度的角度安排空氣入口134，讓自空氣入口134抵達饋送軌道120的預壓空氣提供了沿元件行進方向指向元件出口124的力向量。仍具體而言，可以用相對於元件入口122和元件出口124之間的元件行進路徑的銳角安排空氣入口134，讓預壓空氣以相應的銳角沿饋送軌道120的部分導入，進而導致預壓空氣沿饋送軌道的長度以使得或促使元件20移向或移至元件出口124的方式流動。

在具體的實施例中，元件遞送單元100包含在饋送軌道的元件入口122處或靠近饋送軌道的元件入口122耦接或連接饋送軌道120的一個或複數個空氣入口134。元件遞送單元100可進一步包含在沿饋送軌道長度的特定位置處與饋送軌道120耦接或連接的一個或複數個空氣入口134。例如根據饋送軌道120的長度及/或直徑、饋送軌道120所攜帶的元件20的尺寸及/或類型、及/或元件20沿饋送軌道120的期望或目標總速度或流速，可以選擇及/或改變空氣入口134沿饋送軌道120的數目、組構、分佈及/或排列。依實施例細節而定及/或元件類型，空氣入口134的數目及/或提供給空氣入口134的空氣流量或壓力可足以使元件20沿饋送軌道120以預定的、可選擇的或期望的行進速率或元件流動來移動。

引導至饋送軌道120的一組、一系列或一列元件20可以回應於上述預壓空氣或氣體施加至元件20的平移力或位移力而沿饋送軌道120向元件出口124行進或流動，其中所述預壓空氣或氣體藉助空氣入口134和空氣開口132遞送至饋送軌道120。在所施加的減速力或制動力不存在的情況下，沿饋送軌道120行進的元件20可以用無阻礙(unhindered)及/或連續或實質上連續的方式移向、移至和移動通過元件出口124。

為輔助理解，在本文的描述中，由元件遞送單元100所攜帶且具有已經因元件沿饋送軌道120移動而抵達或大致抵達元件出口124的前導邊緣的元件20定義為前導元件20b(例如，在饋送軌道120內部的前導元件20b)。已經從元件出口124輸出並且轉移至元件接收台200的元件20定義為卸載元件20a。由元件遞送單元100攜帶並且以遠離元件出口124的方向依次地位於前導元件20b之後的元件20係定義為尾隨元件20c-e。

各個前導元件20b可以回應於施加到沿饋送軌道120的尾隨元件20c-e上的位移力而從元件移動單元100依次卸下或拋出(例如，從元件移動單元100推下)。一旦給定的前導元件20b經由其轉移至元件接收台200而變成卸載元件20a，元件20沿饋送軌道120的後繼運動應當暫停、中止或中斷，以避免從元件出口124不希望或失控地卸下或拋出額外的元件20。具體而言，應當停止、中止或約束從出口124卸下元件，直到最近卸載的元件20a派送至加工站80，並且空的元件接收台200係(a)適當地(再)定位於元件接收位置Xr處；並(b)準備好接收下一個卸載元件20a。本發明的實施例以循環、週期或間歇方式選擇性地施加真空力至目前前導元件20b和可能沿饋送軌道120的一個或複數個尾隨元件20c-e，以促進中止或終止元件運動，如下文之詳細描述。

在一些實施例中，一個或複數個真空力或負壓可相對於(例如，在元件入口122處、靠近元件入口122及/或在元件入口122附近)連續施加至元件遞送單元100的一個或複數個正壓空氣或氣體壓力或流，且是以持久或整體上持久的方式(例如，在元件出口124處、靠近元件出口124及/或在元件出口124附近)施加，進而避免元件從元件遞送單元100卸下，直到空的元件接收台200在元件接收位置Xr處直接相鄰或緊靠在元件遞送單元100上。一旦空的元件接收台200緊靠在元件遞送單元100上，可以臨時降低及/或中止施加至元件遞送單元100之部分的特定真空力，讓沿元件遞送單元100的元件流動因正壓空氣或氣體壓力或流所施加到元件20上的位移力而再繼續。由於此類元件流動的再繼續，下一個元件20可以從元件遞送單元的元件出口124輸出或卸載至元件接收台200。在元件20從元件遞送單元100轉移至元件接收台200之後，施加至元件遞送單元100之部分的一個或複數個真空力或負壓可以增加及/或(再)施加，以防止或避免元件從元件遞送單元100輸出，直到(a)由元件接收台200目前所攜帶的元件20已經從元件接收台200移走並派送至加工站80；和(b)空的元件接收台200已經直接相鄰元件遞送單元100在元件接收位置Xr處地再定位。

真空促進的元件減速及/或運動終止方面

在多種實施例中，元件分隔裝置10包含組構成用以施加一真空力組至元件遞送單元100之特定部分的至少一組真空單元或結構、以及組構成用以施加一真空力組至元件接收台200之部分的一組真空單元或結構。施加至元件遞送單元100的真空力可以在特定時間(例如，以自動、可程式化的特定方式)使沿饋送軌道120運動中的一個或複數個元件20減速、使一個或複數個元件20沿饋送軌道120的移動停止、及/或避免元件20從饋送軌道120卸載或轉移到元件接收台200上。施加至元件接收台200的真空力可以促進元件停留在元件接收台200上，並且在某些實施例中可以促進中止或中斷沿饋送軌道120的元件運動。

元件遞送單元100可包含組構成用以沿饋送軌道120在眾多位置、地點、部位、區段、區域或區帶施加、供應或提供一個或複數個真空或抽吸力或真空壓的一組或多組真空單元或真空組合件。如下文進一步描述，例如，可以基於元件20在元件接收台200上的存在或不存在和元件接收台相對於元件遞送單元100的位置，在特定時間(例如，週期、循環或間歇地)施加此類真空力。此外，在幾個實施例中，此類真空力可以選擇性地施加至不同組或子組的真空單元。因此，特定真空單元(例如，不同組或子組的真空單元)可以與饋送軌道120以可選擇或可配置的方式流動地耦接。

元件遞送單元的底部分110和頂部分112中之至少一者可包含可組構成用以將饋送軌道120之部分與真空源60耦接的眾多真空單元或結構。此類真空單元促進真空力施加或遞送至饋送軌道120的特定位置或部分、促進真空力在饋送軌道120的特定位置或部分處、或沿其施加或遞送，並因此促進真空力施加或遞送至沿饋送軌道120運動中的元件20。所施加的真空力係預期要對抗及/或克服由空氣入口134遞送至空氣開口132的正氣壓施加到元件20上的位移力、並且相應地對抗和至少實質上克服朝向或至元件出口124的元件運動及/或元件動量。

通常，元件遞送單元100可包含暴露於饋送軌道120以促進在特定饋送軌道部位處施加真空力的眾多真空開口。例如，元件遞送單元100可包含暴露於饋送軌道120的第一組真空開口、以及暴露於饋送軌道120的與第一組真空開口不同的第二組真空開口。在第2A和2B圖中所示的實施例中，元件遞送單元的底部分110包含將饋送軌道120的第一真空開口142流動地與元件遞送單元100的第一真空口148耦接的第一真空管道144。底部分110額外地包含藉助複數個第二真空管道154與相應的複數個第二真空開口152流動地耦接的真空腔150，其中所述的第二真空開口152係沿靠近及/或整體上在第一真空開口142附近的饋送軌道120之部分安排。真空腔150係進一步流動地耦接於元件遞送單元100的第二真空口158。第一真空口148和第二真空口158中每一者可以與真空源60耦接(例如，藉助共用或獨立的真空線(vacuumline)和一個或複數個真空致動器、開關、儀表或閥門62a，前述其中之一或複數個為選擇性或可程式化執行的)。

第一真空開口142可相對於對應或期望對應於下述位置的末端或最末端饋送軌道位置地安排，其中前導元件20b可以在前導元件卸載至元件接收台200之前沿饋送軌道120在所述位置處地安置。即，第一真空開口142可相對於緊鄰或大致相鄰饋送軌道的元件出口124的最末端饋送軌道位置地安排。在實施例中，第一真空開口142的大致中點可以在下述的饋送軌道位置處安排，其中所述的饋送軌道位置係對應於前導元件20b的前導邊緣與元件出口124大致對齊時的前導元件20b的期望大致中點。本領域普通技術人員將會理解，安排第一真空開口]42的饋送軌道位置可以取決於元件尺度及/或實施例細節。

複數個第二真空開口152可以沿饋送軌道120依次安排，讓第二真空開口152沿饋送軌道120之部分而分佈，該饋送軌道120之部分係對應或期望對應於眾多(例如，大致2-10個或更複數個)尾隨元件20c-e可以停留的位置。因此，複數個第二真空開口152可以沿遠離第一真空開口142向元件入口122延伸預定距離的饋送軌道120之部分而安置。

在幾個實施例中，將第一真空開口142組構成用以施加第一真空力至前導元件20b，並且將第二真空開口152組構成用以分散式方式施加第二真空力至或遍及複數個尾隨元件20c-e。第一真空力應足以明顯地使前導元件20b的運動減速並且至少短暫使之停止，並且第二真空力可以足夠至少使複數個尾隨元件20c-e的運動減速。在具體的實施例中，第一真空力足以可靠地使前導元件20b的運動停止，並且第二真空力足以使尾隨元件20c-e的運動明顯地減速或實質上地使之停止。

依實施例細節而定，第一和第二真空力的強度及/或持續時間可以相等、大致相等或不同。在一些實施例中，第一真空力的強度及/或持續時間可以大於第二真空力的強度及/或持續時間，其目的為促進迅速、可預測地或可靠地終止前導元件的運動。做為額外或替代方式，第一真空開口142和第二真空開口152的尺寸或表面積(例如，各自表面積或合計表面積)可以相等、大致相等或不同。在幾個實施例中，第一真空開口142的尺寸可以大於各個第二真空開口152的尺寸，其目的為更有效地使前導元件20b的運動停止。

在具體的實施例中，可限定或判斷相對於第二真空力的強度的第一真空力的強度、及/或相對於各個第二真空開口152的尺寸的第一真空開口142的尺寸，使得對前導元件20b之表面積所施加的真空力大於或等於(a)對任意單一尾隨元件20c-e之表面積所施加的真空力；及/或(b)對暴露於複數個第二真空開口152的尾隨元件20c-e組之表面積所施加的淨或整體或合計真空力。

代表性備選真空開口組構的方面

特定真空開口(如第一真空開口142、第二真空開口152及/或與單一化裝置10相關的其他真空開口)的數目及/或空間組織可根據實施例細節而變動。具體而言，本發明的幾個實施例可包含根據下述的空間樣式或分佈所排列的真空開口，其中可以期望所述的空間樣式或分佈是相對於目標或最大可實現元件單一化速率而言可靠地使前導元件20b的運動停止並且至少使一個或複數個尾隨元件20c-e的運動減速。

第3A圖是根據本發明實施例的沿饋送軌道120諸部分的第一及/或第二真空開口142,152的代表性組構的示意圖。在實施例中，第一饋送軌道區域143可包含、攜帶、含有或耦接或暴露於複數個第一真空開口142a-b，其包含眾多直徑更小的第一真空開口142a以及眾多直徑更大的真空開口142b。此外，第二饋送軌道區域153可包括、攜帶、含有或耦接或暴露於複數個第二真空開口152。第一饋送軌道區域143對應於預期前導元件20b於此存在的饋送軌道120部分；並且第二饋送軌道區域153對應於預期一個或複數個尾隨元件20c-e在它們移向第一饋送軌道區域143和元件出口124時沿其存在的饋送軌道120部分。在第3A圖中由箭頭標示元件沿饋送軌道120移行的方向。

直徑更小的第一真空開口142a和直徑更大的第二真空開口142b可以用預期增加使前導元件20b的運動可靠和迅速停止的可能性的方式彼此相對安排。例如，複數個直徑更小的第一真空開口142a可相對於單一直徑更大的真空開口142b的周邊(例如，以與第3A圖中所示相同、相似或整體上類似的方式)地安排。

第3B圖是根據本發明另一個實施例的沿饋送軌道120諸部分的第一及/或第二真空開口142,152的代表性組構的示意圖。在實施例中，第一饋送軌道區域143可以攜帶複數個第一真空開口142a-b，例如一組直徑更小的第一真空開口142a和一組直徑更大的第二真空開口142b。第二饋送軌道區域153可以攜帶複數個第二真空開口152，它們可相對於元件沿饋送軌道120流動方向而言非均勻地隔開。在第3B圖中所示的實施例中，第二真空開口152的空間密度隨著複數個第一真空開口142a-b的距離遞減而增加。當元件20更密切地接近第一饋送軌道區域143時，第二真空開口152的這種空間密度可以更有效地使第二饋送軌道區域153內部的一組元件20的運動減速或停止。

第3C圖是根據本發明又一個實施例的沿饋送軌道120諸部分的第一及/或第二真空開口142,152的代表性組構的示意圖。在實施例中，第一饋送軌道區域143可以攜帶複數個第一真空開口142a-b，如一組直徑更小的第一真空開口142a和一組直徑更大的第一真空開口142b。第二饋送軌道區域153可以攜帶複數個第二真空開口152a-b，如一組直徑更小的第二真空開口152a和一組直徑更大的第二真空開口152b。複數個第二真空開口152a-b可以按照多種方式彼此相對安排，例如，按照元件20更靠近第一饋送軌道區域143時可能增加施加至第二饋送軌道區域153內部任意給定元件20的有效真空力的方式。

依實施例細節而定，第一饋送軌道區域143、第二饋送軌道區域153及/或另一個饋送軌道區域可包含具有不同或相異形狀及/或橫截面積的真空開口142a-b,152a-b。因此，所考慮的給定饋送軌道區域143,153或給定組真空開口可包含具有不同形狀及/或橫截面積的真空開口。在任何給定的饋送軌道區域143,153內部，具有特定形狀及/或橫截面積的真空開口可以用預期促進元件運動或流動減速或終止的方式安排。

第3D圖是分別安排在本發明實施例的第一、第二和第三饋送軌道區域143,153,163內的第一、第二和第三真空開口142,152,162代表性組構的示意圖。如第3D圖中所示，在一個或複數個饋送軌道區域143,153,163內部，特定真空開口142,152,162可以基於真空開口橫截面積以空間方式組織或排列。例如，在第一饋邊軌道區域143內部，具有最大橫截面積的真空開口142c可以最靠近元件出口124安排；具有第二大橫截面積的真空開口142b可進一步遠離元件出口124地安排；並且具有最小橫截面積的一個或複數個真空開口可以最遠離元件出口124地安排。做為額外或替代方式，在第二饋送軌道區域153內部，具有最大橫截面積的真空開口153c可以最靠近第一饋送軌道區域143地安排；具有第二大橫截面積的真空開口153b可進一步遠離第一饋送軌道區域143地安排；並且具有最小橫截面積的一個或複數個真空開口可以最遠離第一饋送軌道區域143地安排。在包括一個或複數個額外饋送軌道區域(如第三饋送軌道區域163)的實施例中，則在這個第三饋送軌道區域163內部，具有最大橫截面積的真空開口163b可以最靠近第二饋送軌道區域153地安排；並且具有較小或最小橫截面積的一個或複數個真空開口可以最遠離第二饋送軌道區域153地安排。

在包括其中安排有複數個真空開口的至少一個饋送軌道區域143,153,163的本發明實施例中，最靠近饋送軌道區域143,153,163內部元件出口124安排的真空開口可以定義為前導真空開口(leadingvacuumopening)，並且最遠離饋送軌道區域143,153,163內部的元件出口124安排的真空開口可以定義為尾隨真空開口。前導真空開口和尾隨真空開口可以在形狀及/或橫截面積方面是相同的或不同的。例如，前導真空開口可以具有比尾隨真空開口更大(例如，實質上更大的)橫截面積以促進循環或週期地使元件沿饋送軌道120的運動減速及/或停止、及/或避免非預期或不想要的元件從元件出口124輸出。

如上所示，本發明的實施例可包含顯示相同或不同形狀、大小、尺度或橫截面積的真空開口。第3E圖是根據本發明具體實施例的代表性真空開口形狀的示意圖。此類形狀包含橢圓或卵圓形形狀、菱形形狀、和圓形或整體上圓形的形狀。本發明的實施例也包括額外的及/或其他類型的真空開口形狀(例如，三角形、方形或更複雜的多邊形形狀)。第3E圖額外地顯示某些代表性真空開口尺度，它們可以適合於分隔或單一化元件20，如QFN及/或其他類型的封裝件。

如第3A至3C圖中所示，第一真空開口142a,b提供第一合計或總計真空開口面積，且第二真空開口152a,b提供第二合計真空開口面積。依據第一真空開口142a,b和第二真空開口152a,b的數目以及相對於第二真空開口152a,b的大小而言的第一真空開口142a,b的大小，第一合計真空開口面積可以小於、大致等於、等於或大於第二合計真空開口面積。在一些實施例中，第二合計真空開口面積超過第一合計真空開口面積。

此外或做為前述的替代方案，一個或複數個真空開口(例如，第一真空開口142a-b、第二真空開口152a-b及/或其他真空開口)可以具有不同類型的形狀、橫截面積或相對分佈。例如，依實施例細節而定，一些或全部真空開口可以具有橢圓形、三角形、正方形、矩形、菱形或其他類型的形狀。

通常，元件遞送單元100可包含複數個不同的真空開口組。給定的真空開口組可相對於另一個真空開口組具有相同或不同的數目的獨立真空開口。不同的真空開口組可包含具有不同形狀或橫截面積的真空開口。此外，給定的真空開口組可以組構成用以提供與另一個組真空開口所提供的合計或總計真空開口橫截面積相同或不同的合計或總計真空開口橫截面積。另外，給定的真空開口組可以組構成用以施加、遞送或分配真空力遍及與另一個組真空開口相同的或不同的饋送軌道長度及/或元件數目，而由特定真空開口組所施加的真空力的強度可以與由另一個真空開口組施加的真空力的強度相同或不同。由第一組真空開口施加的第一真空力對第一饋送軌道長度(或元件的第一數目)的比率可以與由第二組真空開口施加的第二真空力對第二饋送軌道長度(或元件的第二數目)的比率相同或不同。

做為代表性實例，第一組真空開口可以靠近元件出口124地安排，如在第一饋送軌道區域143內部；並且第二組真空開口可以比第一組真空開口進一步遠離元件出口124地安排，如在第二饋送軌道區域153內部。第一組真空開口可以組構成用以分配第一真空力遍及第一數目的元件20，例如，單一前導元件20b、或前導元件20b及一個緊鄰的尾隨元件20c。第二組真空開口可以組構成用以分配第二真空力遍及第二數目的元件20，例如，跟隨或尾隨於第一數目元件之後的大約1至10個或1至20個(例如，2至12個)尾隨元件20。

由第一真空力的強度對元件第一數目所定義的第一比率(firstratio)(例如，第一真空抽吸、壓力或比率)可以大於由第二真空力的強度對元件第二數目所定義的第二比率。做為額外或替代方式，由第一真空力的強度對跨其施加第一真空力的第一饋送軌道長度或距離所定義的第一比率可以大於由第二真空力的強度對由第二真空力的強度對跨其施加第二真空力的第二饋送軌道長度或距離所定義的第二比率(例如，第二真空抽吸、壓力或力比率)。這種第一比率表示，第一真空力可以基於歸一化的每元件或距離地提供比第二真空力更大的制動力。這可以增加使前導元件的運動可靠停止的可能性，進而避免在施加第一和第二真空力時前導元件從元件出口124不受歡迎的輸出。

循環性元件卸載和派送的方面

當元件接收台200為空(即，在元件接收台200上不存在或偵測不到卸載元件20a)且是位於元件接收位置Xr處時，元件接收台200可以藉助元件遞送單元從元件出口124輸出前導元件20b而接收第一或下一個卸載元件20a。

再次參考第2A和2B圖，元件接收台200可以攜帶或包含組構成用以輔助元件轉移、停留或捕獲的接收結構210。接收結構210可包含組構成用以匹配或整體上貼合卸載元件20a之形狀的一組結構特徵，如槽、溝或凹陷；及/或組構成用以限制或防止卸載元件20a移出元件接收台200上預定位置之外的障礙物(barrier)或支座(abutment)212。接收結構210的大小或表面積可以大致匹配卸載元件20a的尺寸或表面積。

元件接收台200可進一步包含組構成用以偵測卸載元件20a在元件接收台200上存在或不存在的一組感應器或感應單元220。具體而言，可以組構或佈置感應器組220內部的特定感應器以偵測卸載元件20a的至少一部分是否已經抵達或安排在相對於接收結構210之部分的一個或複數個位置處。例如，特定的感應單元220a可以組構成用以偵測元件20a相對於或在偏離支座212的接收結構210部分或區域存在，及/或其他感應單元220b可以組構成用以偵測直接相鄰或存在於支座212的元件20a的存在。感應器組220可包含例如光學感應器及/或真空壓力應器。

除前述之外，或做為前述的替代方案，一組感應器可以由元件遞送單元100攜帶、及/或安排為與元件遞送單元100和元件接收台200分隔。此類感應器可以組構成用以偵測與元件從元件遞送單元的元件出口124輸出對應的一個或複數個元件邊緣、邊界或邊際轉變。

如上文所述，元件接收台200額外地包含一組真空單元或結構。在實施例中，元件接收台200包含一組真空管道244,246，其耦接相鄰或靠近支座212(例如，在接收結構210的部分內部)安排的至少一個真空開口242至元件接收台200的真空口(vacuum port)248。真空口248可以與真空源60耦接，例如，藉助真空致動器、開關、儀表或閥門62b。依實施例細節而定，元件接收台的真空開口242可以用多種方式來組織。例如，元件接收台200可包括單一真空開口242；或複數個真空開口，它們可以用類似於參照第3A至3C圖之其中一圖或多圖所述的方式而具有相同或不同的尺寸及/或形狀。

在多種實施例中，當感應器組220偵測到卸載元件20a相對於、靠近或相鄰及/或緊靠支座(abutment)212而存在時，可以自動地建立或增加遞送至或指向元件接收台的真空開口242的真空力，其目的為減緩或停止卸載元件20a向支座212的向前運動、及/或將卸載元件20a留在固定、預定或可預測的位置或地點(例如，直接相鄰或靠住支座212)。此外，當(a)感應器組220偵測到卸載元件20a的前導邊緣已經抵達、接觸或靠住支座212；及/或(b)一組感應器(例如由元件遞送單元100攜帶的一組感應器)偵測到經歷卸載的元件的前導及/或尾隨邊緣已經退出元件遞送單元100時，則增加(例如，實質上增加)或施加在一個或複數個饋送軌道位置處所施加或遞送的至少一真空力組，使得將饋送軌道120所攜帶的前導元件20b安置並穩固地滯留在元件遞送單元100內部(例如，靠近或相鄰元件出口124)。因此，施加或調整指向(a)對應於元件接收台200的真空單元或結構組244,246,248，以及(b)對應於元件遞送單元100的一組或多組真空單元或結構142,144,148,150,152,154,158的真空力係以相對於從饋送軌道120卸載的元件而言共同、受控或同步的方式(例如，基本上同時的方式)出現。這種真空力施加或調整可以按自動或可程式化方式控制，以基於與一組或多組感應器的感知訊號輸出對應的觸發或回饋訊號來促進根據本發明實施例的循環、週期或間歇性單一化操作。

在一些實施例中，當感應器組220未能偵測到卸載元件20的存在時，零或本質上為零的真空力遞送至元件接收台的真空開口242。在其他實施例中，當元件接收台200位於元件接收位置Xr處時，至少一個低水準真空力總是遞送至真空開口242。一旦感應器組220偵測到卸載元件20a，則遞送真空開口242的真空力的強度可以增加至足以穩固地使卸載元件20a停留於接收結構210處或其內部的水準。

除前所述之外，當感應器組220偵測到卸載元件20a的存在時，可以建立或增加施加至元件遞送單元100的真空力，其目的為暫停或中斷元件20沿饋送軌道120的運動。因此，回應於感應器組220偵測到靠近或相鄰支座212的卸載元件20a，(a)針對元件接收台的真空開口242；和(b)在或沿饋送軌道120的特定部分施加真空力。因此，卸載元件20a被元件接收台200穩固地固定，且元件20沿饋送軌道120的運動或流動被中止或中斷，進而防止目前前導元件20b和任何尾隨元件20c-e從元件出口124輸出至元件接收台200。

一旦卸載元件20a停留在元件接收台200上，則元件接收台200可以轉換至元件派送位置Xd。當元件接收台200已經到達元件派送位置Xd時，可以釋放或降低所施加以使卸載元件20a停留在元件接收台200上的真空力，以促進卸載元件20a移出或派送至加工站80。元件接收台200可以隨後轉換回元件接收位置Xr，並且可以降低或中斷施加至饋送軌道120的一個或複數個部分的真空力。因此，沿饋送軌道120的元件流動可以再繼續，並且相鄰元件出口124的目前前導元件20b可以做為下一個卸載元件20a輸出。當感應器組220偵測到另一個卸載元件20a靠近或相鄰支座212的存在時，上述的事件順序重複，進而繼續進行元件分隔或單一化操作。

進一步輔助元件分隔或單一化的結構性方面

如第2A圖中所示，在實施例中，元件遞送單元的頂部分112可包含延伸超出元件出口124的突出物(overhang)或突出部分(projection)114。當元件接收台200位於元件接收位置Xr處時，突出部分114覆蓋或遮蓋元件接收台200的至少一部分，卸載元件20a可以停留在所述部分處。因此，突出部分114可以覆蓋或遮蓋元件接收台的接收結構210的至少一部分。在實施例中，突出部分114如此延伸，使得它大體上與元件接收台的支座212對齊。突出部分114可以促進前導元件20b平滑或穩定地轉移到元件接收台200上，增加所施加以使卸載元件20a的運動停止的真空力的有效性、並且降低或消除以下可能性：卸載元件的動量產生可能攜帶卸載元件20a超出支座212之外的元件垂直位移。

除前述之外，或做為前述的替代方案，元件遞送單元100和元件接收台200可包含特定的結構單元或特徵，它們使元件遞送單元100和元件接收台200以促進或增強元件可靠卸載至元件接收台200的方式地配對齧合。

第4A和4B圖是元件分隔裝置10的平面示意圖，所述的元件分隔裝置10包含由元件遞送單元100攜帶的一組配對齧合單元和根據本發明實施例的元件接收台200。具體而言，在實施例中，元件接收台200包括一組突出的橋接單元(bridge element)或構件(member)205，並且元件遞送單元100包含相應的凹陷或接收單元或結構組105。橋接構件組205和接收單元組105係組構成用以配對地齧合。在另一個實施例中，元件接收台200可包含一組接收單元105，且元件遞送單元100可包含一組突出的橋接構件205。橋接構件組205提供至少一個支撐面，其中所述的支援面可以攜帶或支撐元件20的至少一部分，且(a)促進元件行進至元件接收台的接收結構210；(b)增加在其從饋送軌道120輸出後未對準的元件20a繼續移向或移至元件接收台的支座212的可能性；及/或(c)減少以下可能性：當元件接收台200靠近元件接收位置Xr但沒有緊靠住元件遞送單元100時，從元件遞送單元100輸出的元件20a會落入元件遞送單元100和元件接收台200之間的間隙中。因此，一對橋接構件205可以彼此具有相對於元件沿饋送軌道120行進的方向而言大致等於或稍微小於橫向元件尺度(例如，元件寬度)的側向間距(lateral spacing)。在另一個實施例中，橋接構件組205可以是組構成用以與單一接收單元105配對的單一或一元(unitary)橋接構件205。可以量定這種單一或一元橋接構件205的尺度以支撐或攜帶至少實質部分的元件寬度。

在幾個實施例中，當元件接收台200位於元件接收位置Xr處時，即，元件接收台200直接相鄰或緊靠元件遞送單元100時，橋接構件組205與接收單元組105充分地配對或齧合。此外，當元件接收台200位於元件派送位置Xd處時，橋接構件組205是或保持與接收單元組105至少部分地或稍微地配對或齧合、或與其極密切或大致配對或齧合。當橋接構件組205與接收單元組105充分地齧合時，橋接構件組205內部的每個橋接構件延伸入並且被接收單元組105內部的相應接收單元完全接受。當橋接構件組205與接收單元組105部分地齧合時，每個橋接構件205的一部分至少稍微地(例如，多少或極輕微地)延伸入相應的接收單元105中、或延伸至相應接收單元105在元件遞送單元100外或外部表面處的末端邊際或邊界。通常，橋接構件組205和接收單元組105可以具有等於或大致等於(例如，幾乎相同於或略大於)元件20縱向廣度(longitudinal extent)或長度的縱向廣度。

就前述而言，當元件接收台200在單一化操作期間重複或反覆在元件接收位置Xr和元件派送位置Xd之間行進時，橋接構件組205保持與接收單元組105至少部分地、稍微或基本上齧合。因此，在元件接收台200從元件派送單元100移走時，元件20從元件出口124在任何給定時間的情況下，這個元件20可以受到橋接構件組205支撐。因此，本發明的實施例可以最大化或增加以下可能性：被橋接構件組205部分地或充分支援的元件20可以隨後轉移到元件接收台200上或由其捕獲、或者另外取回或利用。

在某些實施例中，可以使一個或複數個配對齧合單元的部分以輔助或增加元件接收台200和元件遞送單元100彼此未對準(例如，因元件接收台200返回元件接收位置Xr時的定位誤差所致)時成功配對的可能性的方式地逐漸變細(taper)、輪廓吻合(contour)或成型(shape)。

第4C至4E圖是代表性方式的示意圖，其中可根據本發明的實施例以所述的代表性方式使橋接構件組205內部的一個或複數個突出橋接單元或構件、及/或接收單元組105內部的一個或複數個接收單元或結構的複數個部分逐漸變細或輪廓吻合。如第4A圖中所示，接收單元組105內部的接收單元可以具有組構成用於容忍橋接構件的定位誤差的加寬開口。做為替代方案，如第4B圖中所示，橋接構件組205內部的橋接構件可以具有組構成用於容忍橋接構件定位誤差的縮窄末端部分。做為替代方案，考慮到潛在的元件接收台之(再)對準或(再)定位誤差或不確定性，接收單元組105內部的接收單元和橋接構件組205內部的的相應橋接構件可以各自包含結構性特徵(如分別加寬或縮窄的部分)，以促進靠著或直接相鄰元件遞送單元100的元件接收台200的成功配對和可靠定位。

在具體的實施例中，橋接構件組205可包含一個或複數個真空單元，其中所述的真空單元係組構成用以在以下情況時將元件20相對於橋接構件205保持在固定位置中：(a)偵測到元件20a在橋接構件205上的存在，且在元件接收台的接收結構210處的元件偵測過程中未在給定量的時間(例如，大約0.25至1.0秒)範圍內發生；或(b)元件20a已經由接收結構210攜帶，且另一個元件20b已經因元件接收台200從元件接收Xr位置移向元件派送位置Xd而不合需要地被饋送軌道120輸出到橋接構件組205上。在具體的實施例中，單一化裝置10可以組構成用以回應於偵測到前述情況之一或二者時中止或暫停單一化操作。

代表性裝置的方面

在組構成用於分隔或單一化具有大約3mm×3mm×0.95mm尺度的元件20(例如，在QFN封裝件中)的代表性裝置(representative implementation)中，一個或複數個真空腔140可以具有大約2.5mm×2.5mm×20mm的尺度。沿饋送軌道120的圓形或整體上圓形真空開口142，152可以具有大約0.5mm直徑。另外，由元件接收台200攜帶的圓形或整體上圓形真空開口242，200可以具有大約0.8mm直徑。這種代表性裝置可以預期提供每小時單位(UPH)大約10,000至40,000個元件或對於具有上述尺度的QFN元件例如每小時大約20,000至30,000個QFN元件的可靠元件分隔、單一化或分離速率。另外，這種代表性裝置可以對大體具有前述尺度的元件20產生零、基本上為零、可忽略不計或最小的元件損壞(例如，結構性及/或功能性損壞)，甚至當元件20包含或攜帶細緻或易損壞的元件或結構(如MEMS元件)時也是如此。與現有單一化系統和技術相比，在單一化小的或極小的及/或脆弱或易損壞元件20時不存在或實質不存在的結構性及/或功能性損壞連同實現高或極高的UPH值是出乎意料優異的結果。

本發明的實施例可以提供相對於後續或新世代元件技術而言是可擴展的元件單一化系統架構。具體而言，隨著元件20(例如，封裝件和電學、光學、MEMS、奈米電機械系統(NEMS)、微流體、奈米流體、生物技術、軍用觸發元件及/或由其攜帶的其他類型的元件、單元或結構)因技術演化而引起複雜性增加，脆弱性增加及/或尺寸縮小，可以基於元件尺度以提供勝過現有元件單一化系統和技術的出乎意料優異的單一化性能的方式地相應或適當地擴展或調整本發明的實施例。

在一些裝置中，特定的開口、管道及/或通道(例如，將它們組構成用於施加正壓空氣或氣體壓力或流或負壓或真空力)可以透過鑽削程序形成。做為額外或替代方式，特定的開口、管道及/或通道可透過不同或獨立的材料段之間的立體對齊或配對齧合而形成。例如，包含第一組機制或蝕刻槽、管道或凹陷的第一材料段係組構成用以與包含第二組機制或蝕刻槽、管道或凹陷的第二材料段(例如，以併排方式)配對，以提供給定類型的促進或實現氣體流動連通的結構性單元。當第一和第二材料段對齊或配對時，可以形成饋送軌道120的給定分段或部分。除前述之外，以本發明所屬技術領域之通常知識者所能理解的方式，可以將一個或複數個開口斜切(chamfer)或與元件遞送單元100的斜切地點、部位、部分或區域(例如，通道或管道的斜切區段或末端區)耦接。

另外的代表性裝置的實施例

本發明包括關於元件遞送單元100及/或元件接收台200諸方面的複數個變型。本發明的元件遞送單元100可以顯示促進沿一條或多條饋送軌道120的元件運動減速及/或停止的多種結構性變型。例如，某些元件遞送單元實施例可以省略真空腔，並依賴於一個或複數個獨立真空通道，其中所述的獨立真空通道與對應的獨立真空開口耦接，以週期或循環地中斷或中止沿饋送軌道120的元件運動或流動。做為替代方案，具體實施例可包含複數個真空腔並且可能省略與相應的獨立真空開口耦接的獨立真空通道。另外，在一些實施例中，元件遞送單元100可包含彼此平行安排或配置以促進批量元件流動調節和單一化的複數個饋送軌道120。

下文就第2C至2N圖詳細描述眾多代表性元件遞送單元的實施例變型。基於容易理解之目的，此類實施例將繪製為具有特定真空開口形狀及/或構造，然而任何給定的實施例可以(例如，以類似於或整體上類似於上文相對於第3A至3C圖所述的方式)包含不同數目的真空開口、一種或多種其他真空開口類型或形狀、及/或一個或複數個其他真空開口空間組構或分佈。

第2C圖是說明根據本發明另一個實施例的元件分隔、單一化或分離裝置10的部分的側視示意圖，並且第2D圖是第2C圖的元件分隔裝置10的實施例的平面圖。如第2C和2D圖中所示，元件遞送單元100可包含將沿饋送軌道120的第一真空開口142a與第一真空口148a耦接的第一真空通道144a；和將沿饋送軌道120的第二真空開口142b與第二真空口148b耦接的第二真空通道144b。

第一真空開口142a可相對於預期前導元件20b在此停留的饋送軌道部位或位置靠近或相鄰元件出口124地安排。第二真空開口142b可相對於饋送軌道部位或位置進一步離開元件出口124(即，以朝向元件入口122的方向)地安排。例如，第二真空開口142b可以在預期特定尾隨元件20d在此停留的饋送軌道位置處安排。

依實施例細節而定，遞送至第一和第二真空開口142a,142b中每一者的真空力的強度及/或持續時間可以相等、大致相等或不同。在一些實施例中，將元件遞送單元100組構成用以施加比施加至第二真空開口142b更強的真空力至第一真空開口142a，進而在前導元件20a上施加比施加在一個或複數個尾隨元件20c-e上更強的減速或制動力。在其他實施例中，將元件遞送單元100組構成用以施加大致相等的真空力至第一和第二真空開口142a,142b。施加相等真空力至第一和第二真空開口142a,142b的具體實施例可以依賴於耦接第一和第二真空通道144a,144b的單一真空口148a，而非分立真空口148a,148b。

第2E圖是說明根據本發明又一個實施例的元件分隔、單一化或分離裝置10的部分的側視示意圖，並且第2F圖是第2E圖的元件分隔裝置10的實施例的平面圖。第2E和2F圖中所示的元件遞送單元實施例依賴於使沿饋送軌道120的元件運動或流動減速及/或停止的單一真空通道144和單一真空開口142。真空開口142可相對於預期前導元件20b在此停留的饋送軌道部位或位置，例如，在預期對應於前導元件20b的大約中點的饋送軌道位置處安排。

為了使用單一真空開口142可靠地減緩或停止沿饋送軌道120的元件運動，真空力可能需要比可以藉助複數個開口施加真空力時的情況的在強度上更大或在持續時間上更長。做為額外或替代方式，可能需要限制或降低促進元件沿饋送軌道流動的正氣壓。

第2G圖是說明根據本發明另一個實施例的元件分隔、單一化或分離裝置10的部分的側視示意圖，且第2H圖是第2G圖的元件分隔裝置10的實施例的平面圖。如第2G和2H圖中所示，元件遞送單元100可包含與饋送軌道120流動地耦接的複數個真空腔150a,150b。在實施例中，第一真空腔150a藉助複數個第一真空通道154a和相應的複數個第一真空開口152a與饋送軌道120耦接；並且第二真空腔150b藉助複數個第二真空通道154b和相應的複數個第二真空開口152b與饋送軌道120耦接。第一和第二真空腔150a,150b可以藉助第一和第二孔158a，158b分別與真空源60耦接。

複數個第一真空開口152a可相對於預期特定元件20在此停留的一個或複數個饋送軌道位置地安排，例如，在預期對應於前導元件20b的一部分的饋送軌道位置處和預期對應於前導元件20b後面的第一尾隨元件20c的一部分的饋送軌道位置處安排。複數個第二真空開口152b可相對於饋送軌道120的部分地安排或分佈，其中所述的部分係遠離複數個第一真空開口152a向元件入口122延伸，例如，涵蓋沿饋送軌道的一段距離，其中所述的距離預期對應於尾隨或跟隨在第一尾隨元件20c之後的2至12個元件20的位置。依實施例細節而定，複數個第一和第二真空開口152a,b可以具有相同或不同的橫截面積。

施加至第一真空腔150a的真空力的強度及/或持續時間可以與施加至第二真空腔150b的真空力大致相同或不同(例如，更強及/或更長)。具體而言，就目標或想要的元件單一化速率而言，可以選擇或變動施加至第一和第二真空腔150a,150b中之一者或兩者的真空力的強度及/或持續時間，其目的為調節或優化元件減速及/或制動能力。

第2I圖是說明根據本發明的另一個實施例的元件分隔、單一化或分離裝置10的部分的側視示意圖，其中元件遞送單元的頂部分和底部分110,112中之一者包含眾多的預壓空氣遞送單元，並且元件遞送單元的頂部分和底部分110,112中另一者包含眾多的真空力施加單元。具體而言，在一個實施例中，元件遞送單元100包含底部分110，其具有形成於其中的氣室130，所述的氣室130藉助複數個氣道(airpassage)134和相應的複數個空氣開口(未圖示)與饋送軌道120(例如，饋送軌道120的下表面或底面)流動地耦接。氣室130可以藉助由元件遞送單元的底部分110所攜帶的導入口(port)138連接於空氣源40。

氣道134以相對於饋送軌道120的長度的第一角度取向(orient)，且組構成用以與上文所述相同的或類似的方式供應預壓空氣至饋送軌道120，以將元件20沿饋送軌道120移向或移至元件出口124。在一些實施例中，氣道134可以沿饋送軌道長度的大部分安排，例如，沿饋送軌道長度在元件入口122和元件出口124之間的主要部分，直到靠近或整體上靠近元件出口124的饋送軌道位置。

元件遞送單元100還包含頂部分112，其具有形成於其中的真空腔150，所述的真空腔150藉助複數個真空管道154和相應的複數個真空開口(未圖示)與饋送軌道120(例如，饋送軌道120的上表面或頂面)流動地耦接。真空腔150可以藉助由頂部分112所攜帶的導入口158耦接於真空源60。

真空管道154以相對於饋送軌道的長度的第二角度取向，並且組構成用以選擇性地(例如，週期、循環、間歇或可程式化地)(例如，基於循環性元件卸載和卸下在特定時間)施加或遞送真空力至與前導元件20a和眾多(例如，2至20個)尾隨元件20c-d的預期位置對應的特定饋送軌道位置。此類真空力可以對抗或停止沿饋送軌道120的元件流動，且防止非預期的、不希望的或失控的前導元件20b從元件出口124輸出，直到當下一個卸載元件20a在元件接收位置Xr處時，元件接收台200準備好接收前導元件20b。

如第2I圖中所示，在某些實施例中，真空通道154沿其安排的元件位移單元的頂部分112的部分可以與氣道134沿其安排的元件位移單元的底部分110的部分重疊或在其上方存在。因此，可以沿饋送軌道120的相同分段或區段施加其目的為使元件運動減速或停止的真空力、以及其目的為啟動或維持元件運動的正氣壓。

第2J圖是說明根據本發明另一個實施例的元件分隔、單一化或分離裝置10的部分的俯視示意圖。在實施例中，元件遞送單元100攜帶或包含多條饋送軌道120(即，至少兩條饋送軌道120)，其中每條饋送軌道120平行於另一個饋送軌道120安排或排列。此類多饋送軌道120可以促進對複數個平行元件流的控制或調節，其中沿給定饋送軌道120的任何給定元件流包含沿給定饋送軌道120串列安排的眾多元件。每條饋送軌道120包含元件入口122和元件出口124。此外，每條饋送軌道120可以用與上述實施例相同、類似或整體上類似的方式攜帶、包含或暴露於眾多真空開口142,152、以及空氣開口132。

與第2J圖的元件遞送單元100對應的元件接收台200係攜帶或包含複數個接收結構210(即，至少兩個接收結構210)。元件接收台200的每個不同接收結構210對應於並且組構成用以接收來自元件遞送單元100的不同的相應饋送軌道120中的元件20。因此，每個接收結構210通過一段距離與另一個接收結構210分隔，其中所述的距離相應或等於元件遞送單元的平行饋送軌道120之間的分隔距離。每個接收結構210以促進或實現從相應饋送軌道的元件出口124卸載元件的方式成形。每個給定的接收結構210可以用與上述方式相同、類似或整體上類似的方式來包含結構單元(例如，支座212)。

元件接收台200可包含與給定接收結構210連接的眾多感應器或感應單元220，其中此類感應器220可以組構成用以偵測元件20的一個或複數個部分相對於給定接收結構210的存在。元件接收台200可進一步以與上述方式相同、類似或整體上類似的方式攜帶或包含與每個接收結構210對應的至少一個真空開口242、和一組相關的真空通道。

第2K圖是說明一種方式的俯視示意圖，其中第2J圖的元件遞送單元100和元件接收台200可以用所述方式組構成用以彼此配對齧合。在一個實施例中，元件接收台200可包含多組突出的橋接構件205，且元件遞送單元100可包含多組接收單元105。將元件接收台200的任何給定的橋接構件組205組構成用以與元件遞送單元100的相應接收單元組105以與上述方式相同、類似或整體上類似的方式配對地齧合。

第2L圖是說明又根據本發明另一個實施例的元件分隔、單一化或分離裝置10的部分的俯視示意圖。在實施例中，元件遞送單元100可以具有與上述結構相同、類似或整體上類似的結構。然而，元件接收台200可以組構成用以沿下述軸往復運動，其中所述的軸係與元件沿元件遞送單元100的饋送軌道120行進或流動的方向正交或垂直。例如，元件接收台的往復運動可相對於與X軸正交的Y軸來定義，其中所述的X軸係定義為元件在饋送軌道120上沿其行進的方向。元件接收台200的此類往復性Y軸運動可以藉助機械臂或平移機構以本發明所屬技術領域之通常知識者能輕易理解的方式進行，其中所述的機械臂或平移機構可以是一般類型的往復移動機構。

組構成用以Y軸往復運動(即，以與元件沿饋送軌道120流動的方向正交或垂直的方向往復運動)的元件接收台200可包含至少一個接收結構210，並且在眾多實施例中，這種元件接收台200可包含複數個接收結構210。在涉及第一接收結構210a和第二接收結構210b的組構中，在從第一接收結構210a移走、取回或派送一個元件20至加工站80的同時(例如，當第一接收結構210a位於第一Y軸元件派送位置Y_d1時)，另一個元件20a可以同時從饋送軌道的元件出口124卸載至第二接收結構210b(例如，當第二接收結構210b位於Y軸元件接收位置Y_r時)。

一旦(a)第一接收結構210a是空的；且(b)第二接收結構210b已經接收卸載元件20a(即，第二接收結構210b已經載入來自饋送軌道的元件出口124的元件20a)，則元件接收台200可以沿Y軸平移至元件20a可以在此從饋送軌道120卸載到第一接收結構210a上(例如，當第一接收結構210a位於Y軸元件接收位置Y_r時)的位置，且由第二接收結構210b所攜帶的元件20可以同時卸載或派送至加工站80(例如，當第二接收結構210b位於第二Y軸元件派送位置Y_d2處時)。

第2M圖是說明根據本發明另一個實施例的元件分隔、單一化或分離裝置10的部分的俯視示意圖。在實施例中，將至少一個元件遞送單元100組構成用以受控或受調節(例如，循環、週期或間歇)的方式依次輸出或卸載元件20a至元件接收台200，其中所述的元件接收台200攜帶或包含複數個接收結構210並且組構成用於回轉、旋轉或轉台型運動，例如繞中央元件接收台軸(central component reception stage axis)。這種元件台可包含配置成用於分步旋轉運動的機械移動機構或與之連接，其中所述的機械移動機構可以是常規的。通常，元件接收台200可包含至少一個接收結構210和在某些實施例中包含複數個接收結構210，其中一個或複數個接收結構210相對於或環繞元件接收台周邊地安排。

在所示的實施例中，將第一元件遞送單元100a組構成用以當第一接收結構210a相對於第一饋送軌道120a適當地定位或對齊時，從第一饋送軌道120a輸出元件20a至元件接收台200的第一接收結構210a。此外，將第二元件遞送單元100b組構成用以當第二接收結構210b相對於第二饋送軌道120b適當地定位或對齊時，同時或整體上同時從第二饋送軌道120b輸出元件20a至元件接收台200的第二接收結構210b。與元件卸載到第一和第二接收結構210a,210b上同時或整體上同時，由第三接收結構210c所攜帶的元件20可以派送至第一加工站80a，且由第四接收結構210d所攜帶的元件20可以派送至第二加工站80b。

元件接收台200可包含促進相對於每個接收結構210a-d而偵測元件20的部分的複數個感應器或感應單元220。可以藉助與第一元件遞送單元100a和第二元件遞送單元100b中之一者或兩者及/或元件接收台200所連接或由其攜帶的一個或複數個感應器或感應單元(例如，光學感應器)偵測或確定第一及/或第二接收結構210a,b分別相對於第一及/或第二饋送軌道120a,b的適當對齊或定位。做為額外或替代方式，可以藉助與第一加工站80a、第二加工站80b中之一者或兩者及/或元件接收台200所連接或由其攜帶的一個或複數個感應器或感應單元(例如，光學感應器)偵測或確定第三及/或第四接收結構210c,d分別相對於第一及/或第二加工站80a,b的適當對齊或定位。

一旦元件20a已經卸載到第一和第二接收結構210a,b上並且元件20已經從第三和第四接收結構210c,d派送至適當的加工站80a,b，則元件接收台200可以(例如，順時針或逆時針地)轉動，以將第一和第二接收結構210a,b分別對齊用於派送元件至第一和第二加工站80a,b；並且將第三和第四接收結構210cd對齊以分別從第一和第二饋送軌道120a,b接收卸載元件20a。

在元件20已經分別從第一和第二接收結構210a,b派送至第一和第二加工站80a,b，並且元件20a已經從第一和第二饋送軌道120a,b卸載至第三和第四接收結構210c,d後，元件接收台200可以再次轉動，讓來自兩個饋送軌道120a,b的成對元件(pairwise component)卸載操作和至兩個加工站80a,b的成對元件傳送派作可以用同時或整體上同時的方式繼續。對於元件接收台200的每個分步(stepwise)轉動，與元件對子(component pairs)20同步或整體上同步傳送至兩個加工站80a,b同時存在的元件對子20a從兩個饋送軌道120a,b同步或整體上同步卸載重複地發生。

第2N圖是說明根據本發明另一個實施例的物件或元件流動調節及/或分隔、單一化或分離裝置10的部分的側視示意圖，其中裝置10無需包含元件接收台200。相反地，物件或元件20藉助真空力在特定饋送軌道位置處(例如，以本文中所述的方式)的循環、週期或間歇施加以受控或受調節的方式沿至少一條饋送軌道120串列移動，並且此類物件或元件20從每個饋送軌道的元件出口124依次輸出至元件目的地、載具、容器或接收器(receptacle)1000。在代表性實施例中，元件目的地1000可以對應於化學加工站。

本發明也包括用於控制物件或元件流動、及/或分隔或單一化物件或元件的裝置10的諸方面的其他變型。例如，在某些實施例中，一個或複數個真空組合件的部分(例如，一個或複數個真空腔150)及/或一個或複數個正氣壓遞送組合件的部分(例如，一個或複數個氣室130)可以在元件遞送單元100外安排，而不是在元件遞送單元100內攜帶的。

代表性元件分隔或單一化流程的方面

第5圖是本發明的代表性物件或元件流動調節及/或分隔、單一化或分離製程300的流程圖。通過選擇性(例如，週期或循環地)施加一個或複數個真空力或壓力至饋送軌道120的部分，製程300促進或實現沿饋送軌道120運動中的元件20減速、終止沿饋送軌道120的元件運動或流動(例如，終止前導元件的運動和至少使尾隨元件運動減速)、及/或避免來自饋送軌道120的非預期、不希望或失控的元件轉移、卸下、拋出或卸載，除非元件接收台200相對於元件接收位置Xr適當地定位並且準備好接收下一個元件20。

在實施例中，第一製程部分310涉及複數個元件20(例如，封裝好的半導體或電子元件)沿饋送軌道120的移動、轉移、運輸或遞送。例如，從元件入口122沿饋送軌道120移動、轉移、運輸或遞送向及/或至元件出口124。在複數個實施例中，複數個元件20沿饋送軌道120呈序列(即，成列地)移動。

在至少一個元件20到達相鄰或靠近元件出口124的位置後，第二製程部分320涉及複數個或序列的元件20內部的前導元件20b從元件出口124輸出，且元件接收台200位於元件接收位置Xr時，該元件做為卸載元件20a地轉移至元件接收台200。因此，第二製程部分320可以涉及元件組中的第一元件20卸載至元件接收台200(例如，卸載元件20a可以定義為第一元件20)。

第三製程部分330涉及偵測卸載元件20a在元件接收台200上的存在(例如，藉助一個或複數個感應單元或裝置，如光學感應器或真空感應器)。回應於偵測到卸載元件20a在元件接收台200上存在，第四製程部分340涉及在饋送軌道120的一個或複數個位置或部分處或沿其施加一真空力組，以進一步停止元件從饋送軌道的元件出口124中輸出。第四製程部分340因而涉及使元件組中相鄰或靠近元件出口124所安置的前導元件20b或第二元件20的運動(例如，前導元件20b可以定義為該元件組中的第二元件20)停止。第四製程部分340可以額外地涉及使其他元件20沿饋送軌道120的運動減速或停止。第四製程部分340因而避免另一個元件20(例如，相鄰元件出口124的最新到達的前導元件20b，或該元件序列中的第二元件20)在元件接收台相對於元件接收位置Xr的週期或循環性定位而言不合需要或不適當的時間輸出。

與第四製程部分340同時或基本上同時地，第五製程部分350涉及施加或增加真空力到卸載元件20a上，進而將卸載元件20a固定在元件接收台200上。此外，第六製程部分360涉及轉換或移動元件接收台200至元件派送位置Xd；降低或中斷施加至卸載元件20a的真空力；並且派送卸載元件20a至加工站80。在元件派送加工站80後，第七製程部分370涉及使元件接收台200再定位於元件接收位置Xr處，相鄰或靠近元件出口124。第五至第七製程部分350至370可以與第四製程部分340同時或基本上同時地進行。

第八製程部分380涉及中斷及/或減低一個或複數個指向饋送軌道120的真空力的施加，進而實現元件流動的再啟動，此後製程400可以返回第一製程部分310，讓元件接收台200可以從元件遞送單元100接收下一個卸載元件20a。

在複數個實施例中，一個或複數個自動真空儀表、開關或閥門62a,62b係與控制器(如電腦系統90)耦接，以促進自動地(a)在合適時間基於元件接收台相對於元件遞送單元100的位置或地點施加真空壓或力至饋送軌道；(b)在特定饋送軌道位置處或沿其建立或調節真空力的強度及/或持續時間，其目的為增強、實現或最大化元件分隔或單一化速率。

在幾個實施例中，可以藉助一組程式指令的執行來自動管理或進行製程300的一個或複數個部分。此類程式指令可以駐留於一種或多種電腦可讀取媒體上，例如，在與電腦系統90對應的記憶體及/或資料儲存裝置內部。

對於涉及(例如，空間上彼此平行組織的，或空間上另外安排的)多條饋送軌道120的實施例，其中將所述的多條饋送軌道120組構成用以從每條饋送軌道120的元件入口122同時或整體上同時地移動或平移依次排序的元件至每條饋送軌道的元件出口124，根據前述描述的複數個製程300可以用同步化和同時或整體上同時的方式發生。

做為替代方案，涉及多條饋送軌道120的某些實施例可以如此組構，讓元件從各條饋送軌道120以依次或交替順序輸出，在所述情況下根據前文描述的複數個製程300可以以依次或交替順序方式地發生。

代表性單一化裝置組構流程的方面

通常，饋送軌道120可以具有下述元件輸出速率，其中所述的元件輸出速率取決於(a)按照導致元件沿饋送軌道120運動的方式施加至饋送軌道120的一個或複數個部分的一個或複數個正氣壓或正氣流的強度，及關於(b)按照對抗元件運動以因而使元件20沿饋送軌道120流動停止及/或減速的方式施加至饋送軌道120的一個或複數個部分的一個或複數個真空力或負氣壓或負氣流的強度。

在具體的實施例中，單一化速率可以定義為下述速率，其中可以將元件接收台200以所述的速率相對於元件接收位置Xr和元件派送位置Xd週期地定位或驅動，以從饋送軌道120成功地接收元件20並且成功地促進元件派送至加工站80。因此，單一化速率可以定義為下述速率，其中可以將元件接收台200所攜帶的元件20以所述的速率與饋送軌道所120所攜帶的一組元件20分隔或分離，其目的在於傳送元件至加工站80。單一化速率可以額外地、或做為替代方案地定義為往復速率，其中以所述的往復速率相對於元件接收位置Xr及/或元件派送位置Xd週期地定位或驅動元件接收台200。

在饋送軌道的元件輸出或拋出速率超過單一化速率的情況下，在元件接收台200已經從元件接收位置Xr移走之後，在元件接收台200已經返回元件接收位置Xr並且準備好接收下一個元件20之前，一個或複數個元件20將會不合需要地從饋送軌道120拋出。因此，此類不合需要拋出的元件20不會成功地派送至加工站80，並且不會出現饋送軌道120使每個元件輸出成功單一化。

為了實現或達到目標單一化速率(即，饋送軌道120所攜帶的每個元件20的成功元件分隔可以出現的目標速率)和避免來自饋送軌道120的不受歡迎的元件輸出，饋送軌道元件輸出或拋出速率應當與目標單一化速率同步或匹配。對於所考慮的給定單一化速率，可以基於施加至饋送軌道120諸部分的一個或複數個正氣壓或正氣流的強度、藉以施加真空力或負氣壓或負氣流至饋送軌道120諸部分的有效真空單元的特定組構、及/或一個或複數個此類真空力的強度來調整饋送軌道元件輸出速率。

第6圖是根據本發明實施例的代表性物件或元件流動調節及/或單一化裝置組構製程400的流程圖。製程400可以促進判斷、測試、優化及/或驗證一組物件或元件流動調節及/或單一化參數，其中所述的參數使得所考慮的裝置10在具體操作條件下可靠地控制物件或元件流動及/或單一化或分隔饋送軌道120所攜帶的每個元件20。

在實施例中，製程400包含涉及建立、定義或選擇試驗單一化速率的第一製程部分402。試驗單一化速率可以對應於預期、估計或期望的可實現速率或由其定義，其中對於元件接收台200從元件接收位置Xr至元件派送位置Xd和回到元件接收位置Xr的每次重複移動而言，元件20可以按所述的可實現速率週期地從饋送軌道120卸載至元件接收台200。此類循環性元件接收台的移動係涉及元件接收台200位於元件派送位置Xd時轉移元件至加工站80。在實施例中，試驗單一化速率可以是初始或試驗性元件接收台往復速率。

製程400還包含第二製程部分404，所述的第二製程部分404涉及建立、定義或選擇待施加至饋送軌道120的部分以促進元件沿饋送軌道120運動的一個或複數個正氣壓及/或流速的強度。通常，第二製程部分404涉及建立一個或複數個正氣壓或流速，其中所述的正氣壓或流速可以提供沿饋送軌道20的無阻礙或不受限制的元件流動，所述的元件流動產生超過在所施加真空力不存在的情況下試驗單一化速率的饋送軌道元件輸出速率。

製程400包含第三製程部分406，所述第三製程部分406涉及建立或選擇會對其施加或遞送真空力的有效真空單元初始組構。第三製程部分406也可以涉及建立或選擇待施加至該真空單元初始組構的一個或複數個真空力的強度。在幾個實施例中，有效真空單元初始組構包含一個或複數個真空開口142a-b，其組構成用以施加真空力至前導元件20b，使得前導元件20b的運動可以停止；並且可能包括一個或複數個真空開口152a-b，其組構成用以施加真空力至一組尾隨元件20c-e，使得可以至少使尾隨元件20c-e的運動減速並且可能停止。組構成用於使前導元件20b運動停止的真空單元可以稱做前導真空單元，並且組構成用於使一個或複數個尾隨元件20c-e的運動減速或停止的真空單元可以稱做尾隨真空單元。

製程400也包含第四製程部分410，所述的第四製程部分410涉及根據試驗單一化速率來測試裝置10的單一化性能、正氣壓/正氣流組、和藉助第一至第三製程部分402至406所建立的初始有效真空單元組及相應的真空力。在第四製程部分410期間，將元件20導入元件入口122中並且藉由正氣壓/正氣流使其沿或穿過饋送軌道120移動。一旦第一元件20a已經卸載至元件接收台200，可以施加真空力至元件接收台的真空開口242以將第一元件20a留在固定的位置中。此外，真空力可以同時施加至有效真空單元沿饋送軌道120的現有組構。元件接收台200隨後從元件接收位置Xr轉移或移動至元件派送位置Xd，且第一元件20a轉移至加工站80或另外從元件接收台200移走。元件接收台200隨後轉移回元件接收位置Xr以接收來自元件出口124的下一個元件20等。

製程400包含了涉及確定正處於測試下的單一化操作是否成功的第五製程部分420。單一化操作在以下情況中是不成功，即在元件接收台200攜帶第一元件20a的同時且遠離元件接收位置Xr地移走之後，元件接收台200返回元件接收位置Xr並且準備好接收第二或下一個元件20b之前，元件由饋送軌道120輸出。即，元件從饋送軌道120拋出是以與元件接收台相對於元件接收位置Xr的週期性運動不恰當同步的方式發生。因此，在元件接收台200從元件接收位置Xr輪轉(cycle)至元件派送位置Xd並且回到元件接收位置Xr的同時，藉助有效真空單元目前組構沿饋送軌道120所施加的真空力不足以有效使饋送軌道120所攜帶的前導元件20b的運動停止。

如果單一化是不成功的(即，發生來自饋送軌道的不希望的元件輸出)，則第六製程部分430涉及判斷是否可以考慮更多真空單元用於新增至有效真空單元組構。若情況如此，在第七製程部分432涉及增加眾多有效真空單元，其中真空力可以施加至所述的有效真空單元，其目的為更有效地使前導元件20b的運動停止及/或至少使饋送軌道120所攜帶的一組尾隨元件20c-e的運動減速。即，第七製程部分432涉及調整有效真空單元的組構以沿饋送軌道120包含更多數目的可以對其施加真空力的真空單元，進而增加下述可能性：可以避免元件不受歡迎的從饋送軌道120拋出。在第七製程部分432後，製程400可以返回第四製程部分410以(再)測試單一化性能。

當有效真空單元組構(例如，結合第三製程部分406所選擇的初始真空單元組構)包含不足數目的真空單元，以在同步於元件接收台相對於元件接收位置Xr的週期性定位的情況下，讓饋送軌道120所攜帶的前導元件20b的運動可靠停止時，第四、第五、第六和第七製程部分410,420,430,432可以促進識別有效真空單元組構(例如，其對應於閾(threshold)或最小有效真空單元組構)，其中所述的有效真空單元組構可以為所考慮的目標單一化速率提供成功或可靠的單一化性能。

在額外的真空單元不可用於選擇為有效真空單元的情況下，第八製程部分434可以涉及增強施加至目前有效真空單元組的一個或複數個真空力。在第八製程部分434後，製程400可以返回第四製程部分410以再測試單一化性能。如果單一化是成功的，則第九製程部分440可以涉及確定目前的單一化參數組是否可接受。此類單一化參數可包含(a)一個或複數個正氣壓或流速幅度；(b)真空單元組構資料，其識別單一化裝置10以目標單一化速率運作時可以使前導元件20b的運動可靠停止的有效真空單元組構；及/或(c)與目前有效真空單元組構對應的一個或複數個真空壓或真空力強度。

如果單一化參數的進一步修改、測試或優化將發生，則第十製程部分450可以涉及確定是否使用另一個有效真空單元組構(例如，其包含更少數目的有效真空單元)測試單一化性能。如果考慮更小的有效真空單元組，則第十一製程部分452可以涉及選擇性地減少所考慮的眾多有效真空單元，隨後返回第四製程部分410以再測試單一化性能。

如果有效真空單元的數目將保持相同，則第十二製程部分454可以涉及選擇性地降低施加至有效真空單元的一個或複數個真空力的強度。在第十二製程部分454後，製程400可以返回至第四製程部分410以再測試單一化性能。

當有效真空單元組構包含眾多真空單元，所述的眾多真空單元可以完全勝任在同步於元件接收台相對於元件接收位置Xr的週期性定位的情況下使饋送軌道120所攜帶的前導元件20b的運動可靠停止時，第四、第五、第十和第十一製程部分410,420,450,452可以促進識別更小或最小有效真空單元組構，其中就目標單一化速率而言，所述的更小或最小有效真空單元組構可以提供成功或可靠的單一化性能。

如果在第九製程部分440中確定目前的單一化參數組是可接受的，則第十三製程部分460可以涉及(例如，在記憶體中或在資料儲存裝置上，例如，在資料結構內部)保存或儲存目前的單一化參數組，例如，做為針對所考慮目標單一化速率的一組操作性單一化參數。最後，第十四製程部分470可以涉及根據目前或操作性單一化參數來啟動單一化操作。

做為與第6圖對應的製程600的替代方案或除此之外，(例如，相對於前述流程同時或平行或依次地)，在一些實施例中，第五製程部分420可以涉及就結構性及/或功能性元件損壞而言判斷或評估目前測試的單一化操作的成功、失敗、適用性或可接受性。具體而言，第五製程部分420可以涉及確定或產生一個或複數個元件損壞量度(component damage measure)，所述量度表示一個或複數個元件評估集合內部(component evaluation set)的一個或複數個元件20是否顯示結構性及/或功能性損壞。例如，第一元件損壞量度可以表示或對應於顯示結構性損壞的元件的數目或百分比；及/或第二元件損壞量度可以表示或對應於顯示功能性的元件的數目或百分比。

如果多於預定或可接受數目或百分比的元件係顯示結構性及/或功能性損壞(例如，在第一或第二元件損壞量度相當大或超過相應的元件損壞閾值的情況下)，製程600可以繼續以與上文相對於第6圖所述方式相同或類似的方式測試額外及/或更少真空單元組的選擇性啟動、及/或對施加至特殊真空單元的真空力的選擇性調整，以建立操作性單一化參數組，其中所述的操作性單一化參數組(a)始終如一地或整體上始終如一地導致零、基本上為零、最小或可接受水準的結構性及/或功能性元件損壞，且同時還(b)提供最高或適度高的元件產出率(例如，根據所測量或所示的UPH值)和(c)始終如一地避免或避免單一化操作期間不希望、非預期或不適時地從元件出口124輸出元件。

做為輔助理解的代表性實例，在一些實施例中，可以執行與第6圖對應的第一製程600a以判斷始終如一地防止或避免在單一化操作期間最高或高元件產出率下不希望地從元件出口輸出元件的第一操作性的單一化參數組。如果根據第一操作性單一化參數組的單一化操作導致零、基本上為零、最小或可接受水準的元件損壞，則第一操作性的單一化參數組可以留下並且做為生產有價值元件的製造程序的組成部分使用。

在顯示出不受歡迎或不可接受水準的元件損壞的情況下，可以執行推論性(corollary)、相關、第二或下一個製程600b以獲得第二操作性的單一化參數組，所述的第二操作性的單一化參數係定義了適當的真空單元組構及/或一個或複數個真空力水準以提供最高、高或可接受的元件產出率、以及零、基本上為零、最小或可接受水準的元件損壞。第二操作性的單一化參數組可以留下並且做為生產有價值元件的製造程序的組成部分使用。

在某些實施例中，可以藉助一組程式指令的執行來自動地管理或進行單一化裝置配置製程400的一個或複數個部分。此類程式指令及/或具體的單一化參數組可以儲存於一種或多種電腦可讀取媒體上，例如，在與控制單元90(如電腦系統)對應的記憶體及/或資料儲存裝置上。

如上文描述的製程600可以改編為依所考慮的基本上任何類型的元件遞送單元100及/或元件接收台200的實施例(例如，涉及多條饋送軌道120及/或沿Y軸或繞中央元件接收台軸旋轉地往復元件接收台運動)。

上文描述了系統、裝置、設備和方法的方面，所述的系統、裝置、設備和方法用於促進或實現元件的分隔、單一化或分離。具體而言，重複、循環或反覆地分隔由元件接收台所攜帶的元件與沿饋送軌道被攜帶向或至元件接收台的其他元件。

一真空力組或壓力可相對於饋送軌道位置選擇性地施加以使沿饋送軌道運動中的元件減速及/或停止，進而避免一個或複數個元件從饋送軌道中非預期、不希望或失控地卸下、拋出或卸載。在多種實施例中，只藉由相對於沿饋送軌道的一個或複數個部位或位置所施加的一真空力組來避免元件從饋送軌道不合乎需要的拋出。在具體的實施例中，當元件接收台已經攜帶先前撤回或卸載的元件時、或當元件接收台沒有準備好從饋送軌道接收下一個元件時，在與饋送軌道所攜帶的前導元件對應的一組位置處施加真空力本身足以避免元件從饋送軌道轉移至元件接收台。

可以在沿饋送軌道的一組位置、區域、區段或區帶處藉助一組真空單元(如真空開口、真空通路及/或真空腔)施加特定的真空力或壓力。可以控制(例如，選擇及/或變動)藉助一個或複數個真空單元所施加的真空力的持續時間及/或強度，例如，取決於饋送軌道的長度及/或尺寸(例如，橫截面積或直徑)；元件尺寸及/或類型；沿饋送軌道的峰值或平均元件位移速度；及/或想要的元件產出率速率(例如，目標元件單一化速率)。在某些實施例中，可以控制藉助特定真空所施加的真空力的持續時間及/或強度，且與藉助沿饋送軌道的真空單元所施加的真空力無關。

上文描述了本發明的某些實施例的用於解決前述問題中至少之一者。儘管與本發明相關的特徵、功能、優點和替代品已經在那些實施例的背景下進行描述，然而其他實施例也可以顯示這種優點，並且當然並非全部實施例需要顯示此類優點以落入本發明的範圍內。可以理解，上文所公開的結構、特徵和功能或其替代物中的幾項可以合意地組合成為其他裝置、系統或應用。以下權利要求包括上文所公開的結構、特徵和功能或其替代物、以及可以隨後由本發明所屬所屬技術領域中具有通常知識者所作出的其多種目前未曾見過或未曾預測的替代物、修改、變型或改進。

1．．．系統

5．．．元件源

10．．．裝置

20．．．元件

20a．．．卸載元件

20b．．．前導元件

20c、20d、20e．．．尾隨元件

40．．．預壓氣體供應單元

42a、42b、62a、62b．．．開關

60．．．真空源

80．．．加工站

80a．．．第一加工站

80b．．．第二加工站

90．．．控制單元

100．．．元件遞送單元

100a．．．第一元件遞送單元

100b．．．第二元件遞送單元

105．．．接收單元

110．．．底部分

112．．．頂部分

114．．．突出部分

120．．．饋送軌道

120a．．．第一饋送軌道

120b．．．第二饋送軌道

122．．．元件入口

124．．．元件出口

130．．．氣室

132．．．空氣開口

134．．．空氣入口

138．．．空氣導入口

142、142a、142b．．．第一真空開口

142c、153b、153c、163b、242．．．真空開口

143．．．第一饋送軌道區域

144．．．第一真空管道

144a、154a．．．第一真空通道

144b、154b．．．第二真空通道

148、148a．．．第一真空口

148b．．．第二真空口

140、150、150a、150b．．．真空腔

152、152a、152b．．．第二真空開口

153．．．第二饋送軌道區域

154．．．第二真空管道

158．．．第二真空口

158a．．．第一孔

158b．．．第二孔

162．．．第三真空開口

163．．．第三饋送軌道區域

200．．．元件接收台

205．．．橋接構件組

210．．．接收結構

210a．．．第一接收結構

210b．．．第二接收結構

210c．．．第三接收結構

210d．．．第四接收結構

212．．．支座

220、220a、220b．．．感應單元

244、246．．．真空管道

248．．．真空口

300、400、600．．．製程

310、402．．．第一製程部分

320、404．．．第二製程部分

330、406．．．第三製程部分

340、410．．．第四製程部分

350、420．．．第五製程部分

360、430．．．第六製程部分

370、432．．．第七製程部分

380、434．．．第八製程部分

440．．．第九製程部分

450．．．第十製程部分

452．．．第十一製程部分

454．．．第十二製程部分

460．．．第十三製程部分

470．．．第十四製程部分

600a．．．第一製程

600b．．．第二製程

1000．．．元件目的地

Xr．．．元件接收位置

Xd．．．元件派送位置

Y_d1．．．第一Y軸元件派送位置

Y_d2．．．第二Y軸元件派送位置

Y_r．．．Y軸元件接收位置

上文係參考附圖描述本發明的實施例，在所述附圖中：

第1圖是說明根據本發明實施例的代表性元件分隔、單一化或分離系統1的方塊圖；

第2A圖是說明根據本發明實施例的元件分隔、單一化或分離裝置的部分的側視示意圖；

第2B圖是與第2A圖對應的元件分隔裝置的實施例的平面圖；

第2C圖是說明根據本發明另一個實施例的元件分隔、單一化或分離裝置的部分的側視示意圖；

第2D圖是與第2C圖對應的元件分隔裝置的實施例的平面圖；

第2E圖是說明根據本發明另一個實施例的元件分隔、單一化或分離裝置的部分的側視示意圖；

第2F圖是與第2E圖對應的元件分隔裝置的實施例的平面圖；

第2G圖是說明根據本發明進一步實施例的元件分隔、單一化或分離裝置的部分的側視示意圖；

第2H圖是與第2G圖對應的元件分隔裝置的實施例的平面圖；

第2I圖是說明根據本發明另一個實施例的元件分隔、單一化或分離裝置的部分的側視示意圖；

第2J圖是說明根據本發明另一個實施例的元件分隔、單一化或分離裝置的部分的俯視示意圖；

第2K圖是說明一種方式的俯視示意圖，其中，第2J圖的元件遞送單元和元件接收台可以用所述方式組構成用以彼此配對齧合；

第2L圖是說明根據本發明又一個實施例的元件分隔、單一化或分離裝置的部分的俯視示意圖；

第2M圖是說明根據本發明又另一個實施例的元件分隔、單一化或分離裝置的部分的俯視示意圖；

第2N圖是說明根據本發明另一個實施例的元件分隔、單一化或分離裝置的部分的側視示意圖；

第3A圖是根據本發明實施例的代表性真空開口組構的示意圖；

第3B圖是根據本發明另一個實施例的代表性真空開口組構的示意圖；

第3C圖是根據本發明的進一步實施例的代表性真空開口組構的示意圖；

第3D圖是分別安排在本發明實施例的第一、第二和第三饋送軌道區域內的第一、第二和第三真空開口代表性組構的示意圖；

第3E圖是本發明的具體實施例的代表性真空開口形狀的示意圖；

第4A和4B圖是元件分隔裝置的平面示意圖，所述的元件分隔裝置包含根據本發明的由元件遞送單元所攜帶的一組配對齧合單元和元件接收台；

第4C至4E圖是代表性方式的示意圖，其中可根據本發明的實施例以所述的代表性方式使一個或複數個突出橋接單元或構件及/或一個或複數個接收單元或結構的部分逐漸變細或輪廓吻合；

第5圖是根據本發明的代表性元件分隔、單一化或分離製程的流程圖；以及

第6圖是根據本發明實施例的代表性單一化裝置配置製程的流程圖。