TWI587750B - 電漿點燃及維持方法與設備 - Google Patents

Description

電漿點燃及維持方法與設備

本發明係關於一般在感應耦合電漿裝置內，尤其在大氣感應耦合電漿炬內改善電漿點燃之方法以及設備。

在半導體產品製造中，如晶圓的基板經歷沉積及蝕刻程序而形成其上之特徵。半導體基板的處理經常在處理步驟之間留下例如高分子沉積物之殘餘物。大氣感應耦合電漿炬一直用於清理基板以準備進一步處理。

為了幫助討論，圖1顯示典型先前技術中的大氣感應耦合電漿炬100，其包含雙壁柱體102。雙壁柱體102典型地由石英或是類似的適合材料所組成。一冷卻氣體入口104容許例如氮氣或空氣之冷卻氣體注入柱體壁之間，在使用期間熱調節雙壁柱體102。藉由使用適當的冷卻氣體，能避免來自其內部電漿的高熱散逸而對大氣感應耦合電漿炬100造成熱損害。

線圈106係顯示為纏繞於雙壁柱體102的外部周圍。在使用期間，將處理氣體(例如：氫氣或氮氣)經由處理氣體入口108引入至柱體102的內部容積。當適當的驅動射頻信號(例如：在40MHz)供應至線圈106時，線圈106便作為串聯電感電容共振迴路(series LC resonance circuit)之一部分而將電漿由處理氣體中點燃。為了在使用期間幫助冷卻線圈106，將線圈設計成管狀物以容許液體冷卻劑流過。

在感應耦合電漿炬100內形成的感應耦合電漿由開口120噴射出。由開口120噴射出的電漿之熱噴射流可接著將例如離子佈植程序後之無用的高分子沉積物之材料由基板移除或清理。

如已知，遍及整個線圈106的感應電壓為驅動射頻信號之頻率的函數。舉例來說在40MHz，典型的大氣感應耦合電漿炬在線圈106之兩末端之間可能經歷高達20KV(峰值對峰值)。高感應電壓係在典型的大氣條件下點燃電漿之所必須。

然而，在先前技術中使用的高射頻驅動頻率(例如40MHz或是更高)引起成本以及工程上的挑戰。舉例來說，許多處理系統已使用較低頻率的射頻源(例如10至30MHz，如13.56MHz或27.12MHz)以進行蝕刻及沉積。因此，可輕易地以較低成本得到用於設計、製造、合格以及維護較低頻率之子系統的元件與專門技術。再者，當使用較低的驅動射頻頻率時，可改善工具與工具之間的再現性。

在一實施例中，本發明關於用以產生電漿之設備。該設備包含一桶槽，電漿產生於其中。該設備也包含用以接收射頻驅動信號之線圈，以至少維持電漿，該線圈具有一線圈長度。該設備更包含第一組部分圍蔽縱向定位的導電(partially enclosing longitudinally oriented conductive PELOC)觸指，其沿著桶槽的縱軸定位且部分地圍蔽桶槽的周圍。將第一組PELOC觸指電性耦接至線圈的第一末端。該裝置也還包含第二組PELOC觸指，其沿著桶槽的縱軸定位並部分地圍蔽桶槽的周圍。將第二組PELOC觸指電性耦接至線圈的第二末端，其中第一組PELOC觸指與第二組PELOC觸指乃定位成使第一組PELOC觸指的指尖以指向第二組PELOC觸指指尖的一方向定位，並藉由小於線圈長度的組間距離分開。

以上的摘要內容僅關於在此揭露之本發明的眾多實施例中之一者，且並非意欲限制於此闡明於請求項中的本發明之範圍。隨後在本發明說明書的實施方式中，將會搭配下列圖示更詳細敘述本發明這些及其他特點。

現將參照隨附圖示所示的幾個實施例詳述本發明。在下列敘述中，為達徹底了解本發明而闡明眾多具體細節。然而，熟習本技術者，顯然當知本發明可在不具備該具體細節之若干部份或全部下實行。在其他情況中，為避免不必要的混淆本發明，不加以詳細描述眾所皆知的處理步驟以及/或結構。

一般而言，電漿點燃係與施加至一整個指定氣體柱的電場強度相依。在更具體的螺線管線圈的情況中，點燃係與螺線管內電場的強度相依。

電場一般由以下方程式1所控制。

E=V/L　方程式1

其中藉由方程式1，V為介於線圈兩末端之間的感應電壓，E為電場的強度，以及L為線圈的長度。須注意，線圈長度L意指線圈螺線管的長度而非用於纏繞線圈之導線的長度。

發明者於此了解，若可減少線圈的有效長度L，則可在相同的線圈感應電壓下獲得更強的電場強度。或者或是此外，若降低感應電壓(由於，例如：驅動射頻頻率的降低)，藉由減少線圈的有效長度仍然可建立可成功點燃電漿的電場。

在一個或是多個實施例中，設置部分圍蔽縱向定位導電PELOC觸指，其有效地減少線圈的有效長度。PELOC觸指，顧名思義，係為導電材料之導電條、叉指、齒狀物或突出物(於此一般稱做「觸指」)，其設置於石英柱體之外部並且沿著大氣感應耦合電漿炬的石英柱體之縱軸定位。將兩組觸指以每一組觸指連接至不同的線圈末端而設置。將每一組的觸指以對於柱體而言縱長地設置且以在空間上分開的方式使第一組觸指指向第二組(且反之亦然)。本發明之實施例也關於用以製造、供應、操作以及維護大氣感應耦合電漿炬之增強物的技術。

根據本發明之一實施例，圖2顯示一配置示範例，其中將PELOC觸指組202的導電觸指以對於柱體210之縱軸220而言縱長地設置。同樣的，PELOC觸指組204的導電觸指以對於柱體210之縱軸220而言縱長地設置。將PELOC觸指組202與PELOC觸指組204配置成使PELOC觸指組202的指尖指向PELOC觸指組204的指尖。如所示，PELOC觸指組202的導電觸指藉由組間間隙A沿著柱體210的縱軸220與PELOC觸指組204的導電觸指在空間上分開。

PELOC觸指組202的導電觸指僅部分地圍蔽柱體210之周圍，而造成如所示之組內間隙B。同樣的，PELOC觸指組204的導電觸指僅部分地圍蔽柱體210之周圍，而造成如所示之組內間隙C。在下文中更加詳細討論這些特點以及間隙。

藉由以此敘述之方式使用縱向定位的導電觸指，由線圈放射出的磁場線便可更往內行進而穿過石英柱體210以誘發維持炬內之電漿的循環電流。當使以上提及之觸指實質地定位成平行於磁場線之方向時，此係為可能。組間的間隙B大量地減少在PELOC觸指之基部發生的循環電流，該PELOC觸指之基部將不必要地消耗功率，因其會在PELOC觸指之內部產生電流加熱。若以相同尺寸的固體導電帶取代每一觸指組的縱向定位導電觸指，則在該固體導電帶將形成不想要的循環電流。此外，以於此敘述之方式使用縱向導電觸指，線圈電壓下降的有形距離會由線圈的長度L減少至組間間隙A。針對給定的感應電壓而言，長度的減少使電場強度以大約L/A之比率增加。因為如此，以較小的遍及線圈之感應電壓可將電漿點燃。

如已提及，將每一組PELOC觸指耦接至不同的線圈末端(例如藉由圖2中的引線230以及232)，且相較於線圈長度L，指尖彼此之間的間隙A越接近，具有減少線圈電壓下降之有形距離的線圈長度(例如圖2顯示之五匝線圈的長度L)。再者，這個情況是由於將PELOC觸指組以部分圍蔽的方式設置於柱體之外部而更加鄰近於彼此。組間間隙A(用詞「組對組」或是「組間」代表沿著柱體之縱軸由一組觸指至另一組觸指之指尖對指尖的間隙)較佳地係為盡可能的小，以使有效的線圈長度最小化。然而，一般而言，組間間隙A不應過小而導致電弧在PELOC觸指組202的觸指與PELOC觸指組204的觸指之間發生。此外，組間間隙A亦不應過小而導致在PELOC觸指組202的觸指與PELOC觸指組204的觸指之間發生形成於柱體外部之不想要的電漿。

在一實施例中，針對一特定炬使用經驗方法以決定組間間隙A的尺寸。起先，使兩組PELOC觸指部份地將柱體環繞並且沿著柱體的縱軸排成一行。此時，將觸指組設置成使彼此遠離但仍然滿足用於柱體尺寸的形成因子限制，且仍然可在柱體內將電漿點燃(雖然在此間隙距離下，大的線圈有效長度將需要非常高的線圈電壓，以產生需要的電場E以點燃電漿)。如此會對組間間隙A設定出尺寸上限。

於是，將PELOC觸指組沿著柱體的縱軸朝著彼此往前地移動。在某些位置，組間間隙A變得極小以致於發生電弧或電弧的機率變得不能接受地高。再者，當使組間間隙A較小時，若建立於組間間隙A的電場夠高，則會有環境空氣之電漿點燃可能發生的風險。此不受控制的柱體外部之環境空氣的電漿點燃係為不受歡迎的。最小組間間隙A並不容許發生電弧或不想要的環境空氣點燃，如此建立了組間間隙A之尺寸下限。

在已建立的組間間隙A之上限和下限之間的視窗即為一適當的操作視窗。在一較佳的實施例中，只要避免電弧或不想要的柱體外部之電漿點燃，則使組間間隙A盡可能的小。此組間間隙A之最小的間隙距離確保線圈的有效長度被維持在最小值，同時可確保電弧或不想要的電漿點燃將不發生。

較佳地，將任何一組PELOC觸指之所有的觸指電性耦接至彼此。當電性互連時，如前所討論的將每一組PELOC觸指之各別的觸指沿著柱體之縱軸以縱向排列。設置一組內的間隙B(見圖2)以使每一組PELOC觸指之觸指僅部份地圍蔽柱體之外部圓周或外部周圍(舉例來說，若柱體為非圓形的)。此間隙，於此代表「組內」間隙，具體說明為了實現「部分地圍蔽」之特徵而在PELOC觸指組之電性連接的觸指之中所斷開之尺寸。

組內間隙B的存在確保在每一組PELOC觸指的觸指之中將再循環電流最小化。以如同設計組間間隙A的類似考量(例如避免電弧)設計組內間隙B的尺寸。在一個或多個實施例中，組內間隙B較佳地係為儘可能的小，以使生成電場以及感應磁場中的不均勻性最小化。此不均勻性可能影響生成電漿的均勻性，而在一個或多個的實施例中該不均勻性被儘可能地最小化。

在一實施例中，設置導電材料條或是導電「脊」以電性地以及結構性地將每一組PELOC觸指之觸指連接在一起。然後將該兩「脊」之每一者連接至一線圈末端(圖2中標示的230以及232)。在此配置中，觸指類似梳子的齒狀物。當圍繞大氣感應耦合電漿炬之柱體設置時，可將此配置中的兩組PELOC觸指想像成兩把梳子，其齒狀物朝向彼此且藉由組間間隙將齒狀尖端之間分開。每一「梳子」皆部分地環繞大氣感應耦合電漿炬之柱體，因此存在組內間隙，而由於部分圍蔽的特徵，其中該梳子的兩梳子末端不會接觸反而藉由間隙B分開。該梳子之實現舉例來說可見於圖2。

一般而言，可將觸指如所需的製成細的或長/短的，因為相鄰觸指之間的間隙允許感應磁場穿透進入柱體以接觸其中的電漿。導電觸指的材料可為銅、銅合金或是類似的適合材料。可將用以產生電磁場的線圈放置於觸指之外部(即是，位在自柱體之中心縱軸起較大的半徑距離)。應在每一「梳子」中設置足夠數量的觸指，且其係環繞石英柱體的周圍以等距離相隔以避免在所施加之電磁場中方位角的不均勻性。導電觸指必須夠寬足以維持機械上的穩定，但一般而言，需維持比它們之間的間隙寬度窄以允許盡可能多的來自線圈之磁場線前進至石英柱體之內部(金屬觸指自身不傳導時變磁場，只有間隙允許該場更往內前進。由線圈放射出的磁場線負責維持石英柱體內的電漿)。一般而言，據信PELOC觸指對於電漿點燃有主要的貢獻。據信維持電漿主要藉由線圈驅動。因此，電漿的均勻性便傾向於根據線圈的纏繞節距之均勻性以及線圈與石英柱體同軸對齊的程度而定。

在一個或多個實施例中，若需要非常低的射頻驅動頻率或需要非常低的感應線圈電壓，可將於此揭露的技術及設備與發明名稱為「電漿點燃及維持的方法與設備」之共同擁有的相關專利申請案中提及之新穎的線圈纏繞技術及設備結合，其由與本發明相同之發明者於與本發明同樣的日期申請(代理人案號為LMRX-P0208/P2121)，並合併於此以供所有目的之參考。

藉由結合縮短線圈之有效長度之本技術/設備與藉由增加線圈匝數而增加線圈電感之技術/設備，利用非常低的射頻驅動頻率與/或利用非常低的感應線圈電壓可產生可將電漿點燃於柱體內部之電場能。在一些實施例中，可以想見數千伏特範圍內的感應線圈電壓可足以在柱體內點燃電漿。此兩種技術有益地操作不同機制以在大氣感應耦合電漿炬中產生電場，且不會彼此衝突。在一個或多個實施例中，此組合的技術與設備代表獨特的發明。

如由前述內容可察知，本發明之實施例提高了大氣感應耦合電漿炬中電漿點燃之電磁場的利用。利用於此揭露的技術與設備，即使例如因為降低驅動射頻頻率而降低感應線圈電壓，仍可在大氣感應耦合電漿炬中點燃電漿。當需求的感應線圈電壓與/或驅動射頻頻率降低時，可使射頻產生器以及大氣感應耦合電漿炬的元件較廉價地製作且更容易與系統之間相配，而對降低半導體產品之製造成本有所貢獻。

吾人亦應牢記，當討論這些與大氣感應耦合電漿炬相關之技術/設備時，可考慮在其他感應耦合電漿裝置以及腔室中利用相同的技術與設備以改善電漿的點燃以及維持。對於已經揭露之示範實施例及最佳形式，在保持如定義於下列請求項之本發明的主題與精神下，可對揭露的實施例做修改以及變化。

100．．．大氣感應耦合電漿炬

102．．．雙壁柱體

104．．．冷卻氣體入口

106．．．線圈

108．．．處理氣體入口

120．．．開口

160．．．末端

202．．．PELOC觸指組

204．．．PELOC觸指組

210．．．柱體

220．．．縱軸

230．．．引線

232．．．引線

A．．．間隙

B．．．間隙

C．．．間隙

L．．．線圈長度

本發明藉由隨附圖示之圖形的示範例(而非限制)加以說明，而其中相似的參考符號表示相似的元件，且其中：

圖1顯示先前技術中典型的大氣感應耦合電漿炬以幫助討論。

圖2顯示為根據發明之一實施例之本發明的具體實現。

202．．．PELOC觸指組

204．．．PELOC觸指組

210．．．柱體

220．．．縱軸

230．．．引線

232．．．引線

A．．．間隙

B．．．間隙

L．．．線圈長度

Claims (34)

1. 一種產生電漿之設備，包含：一桶槽，該電漿產生於其中；以及一線圈，用以接收射頻驅動信號以至少維持該電漿，該線圈具有一線圈長度；一第一脊及從該第一脊延伸且沿著周圍而彼此間隔之複數觸指，該複數觸指每一者以沿著該桶槽之縱軸定位且該第一脊之該複數觸指及該第一脊係部分地圍蔽該桶槽之周圍，該第一脊之該複數觸指係電性耦接至該線圈的一第一末端；以及一第二脊及從該第二脊延伸且沿著周圍而彼此間隔之複數觸指，該複數觸指每一者以沿著該桶槽之該縱軸定位且該第二脊之該複數觸指及該第二脊係部分地圍蔽該桶槽之該周圍，該第二脊之該複數觸指係電性耦接至該線圈的一第二末端，其中該第一脊及該第二脊之該複數觸指之複數指尖係指向地定位成面對彼此，且藉由小於該線圈長度的一距離沿著該縱軸軸向地分開，其中該第一脊、該第二脊及該線圈係位於該桶槽之外部。
2. 如申請專利範圍第1項之產生電漿之設備，其中相較於該第一脊、該第二脊及個別的該複數觸指，該線圈係設置於自該桶槽之該縱軸起較大半徑處。
3. 如申請專利範圍第1項之產生電漿之設備，其中該線圈之該第一末端以及該線圈的該第二末端兩者之一係接地。
4. 如申請專利範圍第1項之產生電漿之設備，其中該第一脊及該第二脊之該複數觸指係設置成平行於當該線圈利用該射頻驅動信號通電時所產生的磁場線。
5. 如申請專利範圍第1項之產生電漿之設備，其中該桶槽代表一 大氣感應耦合電漿炬之一電漿產生桶槽。
6. 如申請專利範圍第1項之產生電漿之設備，其中該線圈之一第一末端係接地，該第一末端亦代表用以注入以及排出冷卻流體的末端。
7. 如申請專利範圍第1項之產生電漿之設備，其中該桶槽具有一柱形垂直壁部分，該第一脊及該第二脊之該複數觸指係排列在該柱形垂直壁部分之外部且與其相鄰。
8. 一種產生電漿之設備，包含：一桶槽，該電漿產生於其中；以及一線圈，用以接收射頻驅動信號以在操作期間維持該電漿，該線圈具有一線圈長度，該線圈長度具有圍繞在該桶槽周圍且在該桶槽之外部之周圍匝數；一第一脊，具有從該第一脊延伸之複數觸指，該第一脊之該複數觸指每一者係沿著周圍而彼此間隔，該第一脊之該複數觸指每一者以沿著該桶槽之縱軸定位，其中該第一脊之該複數觸指及該第一脊係環繞一第一間隙以外之該桶槽之周圍，該第一脊之該複數觸指係導電及電性耦接至該線圈的一第一末端；以及一第二脊，具有從該第二脊延伸之複數觸指，該第二脊之該複數觸指每一者係沿著周圍而彼此間隔，該第二脊之該複數觸指每一者以沿著該桶槽之該縱軸定位，其中該第二脊之該複數觸指及該第二脊係環繞一第二間隙以外之該桶槽之該周圍，該第二脊之該複數觸指係導電及電性耦接至該線圈的一第二末端，其中該第一脊及複數觸指及該第二脊及複數觸指係藉由一第三間隙而隔開，該第三間隙係藉由在該第一脊及該第二脊之該複數觸指之複數指尖末端之間之一長度加以界定，該第一脊及該第二脊之該複數觸指之該複數指尖末端係指向地定位成沿著該縱軸面對彼此，該長度係小於該線圈長度， 其中該第一脊及該第二脊之該複數觸指係位於該桶槽之外部且設置於該桶槽與該線圈之間。
9. 如申請專利範圍第8項之產生電漿之設備，其中該線圈之該第一末端以及該線圈的該第二末端兩者之一係接地。
10. 如申請專利範圍第8項之產生電漿之設備，其中該桶槽代表一大氣感應耦合電漿炬之一電漿產生桶槽。
11. 如申請專利範圍第8項之產生電漿之設備，其中該線圈的一第一末端係接地，該第一末端亦代表用以注入以及排出冷卻流體的一末端。
12. 如申請專利範圍第8項之產生電漿之設備，其中該桶槽具有一柱形垂直壁部分，該第一脊及該第二脊之該複數觸指係排列在該柱形垂直壁部分之外部且與其相鄰。
13. 一種產生電漿之設備，包含：一桶槽，用以在操作期間容納該電漿；一射頻源；一線圈，耦接至該射頻源，該線圈具有一線圈長度，該線圈長度具有圍繞在該桶槽周圍且在該桶槽之外部之周圍匝數；一第一脊，具有從該第一脊延伸之複數觸指，該第一脊之該複數觸指每一者係沿著周圍而彼此間隔，該第一脊之該複數觸指每一者以沿著該桶槽之縱軸定位，其中該第一脊之該複數觸指及該第一脊係環繞一第一間隙以外之該桶槽之周圍，該第一脊之該複數觸指係導電及電性耦接至該線圈的一第一末端；以及一第二脊，具有從該第二脊延伸之複數觸指，該第二脊之該複數觸指每一者係沿著周圍而彼此間隔，該第二脊之該複數觸指每一者以沿著該桶槽之該縱軸定位，其中該第二脊之該複數觸指及該第二脊係環繞一第二間隙以外之該桶槽之該周圍，該第二脊 之該複數觸指係導電及電性耦接至該線圈的一第二末端，其中該第一脊及複數觸指及該第二脊及複數觸指係藉由一第三間隙而隔開，該第三間隙係藉由在該第一脊與該第二脊之該複數觸指之複數指尖之間之一長度加以界定，該第一脊及該第二脊係定位成沿著該縱軸在該複數觸指之該等指尖之相對側，其中該第一脊及該第二脊之該複數觸指之該等指尖係指向地定位成面對彼此，該長度係小於該線圈長度，其中該第一脊及該第二脊之該複數觸指係設置於該桶槽之外部且在該桶槽與該線圈之間。
14. 如申請專利範圍第13項之產生電漿之設備，其中該第一脊及該第二脊每一者之該第一間隙及該第二間隙係用以減少在該複數觸指中之循環電流。
15. 如申請專利範圍第13項之產生電漿之設備，其中該線圈的一第一末端係接地，該第一末端亦代表用以注入以及排出冷卻流體的一末端。
16. 如申請專利範圍第13項之產生電漿之設備，其中該桶槽具有一柱形垂直壁部分，該第一脊及該第二脊之該複數觸指係排列在該柱形垂直壁部分之外部且與其相鄰。
17. 一種用以產生電漿的設備，包含：一第一梳狀構造，用以部分地環繞用以產生電漿之一桶槽之周圍，該第一梳狀構造具有一第一末端及一第二末端，俾使一第一間隔距離界定於該第一末端與該第二末端之間，該第一梳狀構造界定複數第一觸指，該複數第一觸指係以垂直於該桶槽之周圍定位，其中該第一梳狀構造用以連接至一線圈之一第一末端，該第一末端係用以接收用於在該桶槽中產生電漿之射頻驅動信號；以及一第二梳狀構造，用以部分地環繞該桶槽之該周圍，該第二 梳狀構造具有一第一末端及一第二末端，俾使一第二間隔距離界定於該第二梳狀構造之該第一末端與該第二末端之間，該第二梳狀構造界定複數第二觸指，該複數第二觸指係以垂直於該桶槽之該周圍定位，其中該第二梳狀構造用以連接至該線圈之一第二末端；其中該第一梳狀構造之該複數第一觸指係進一步定位成面對該第二梳狀構造之該複數第二觸指，其中一第三間隔係界定於該複數第一及第二觸指之複數末端之間。
18. 如申請專利範圍第17項之用以產生電漿的設備，其中該第一梳狀構造及該第二梳狀構造係配置在該桶槽之外部之第一半徑處，該線圈係配置在該第一半徑之外部之第二半徑處。
19. 如申請專利範圍第17項之用以產生電漿的設備，其中該線圈之該第二末端係接地。
20. 如申請專利範圍第17項之用以產生電漿的設備，其中該線圈係用以在該第一及第二梳狀構造周圍及該桶槽周圍產生磁場線。
21. 如申請專利範圍第17項之用以產生電漿的設備，其中該桶槽具有一縱軸，該第一梳狀構造及該第二梳狀構造係排列在該桶槽之外部且沿著該縱軸。
22. 如申請專利範圍第17項之用以產生電漿的設備，其中該射頻驅動信號具有約10MHz至約100MHz之間的頻率。
23. 如申請專利範圍第17項之用以產生電漿的設備，其中該線圈係配置為在該桶槽周圍之環繞線圈，該線圈具有在該第一末端與該第二末端之間之一線圈長度。
24. 如申請專利範圍第17項之用以產生電漿的設備，其中該複數第一觸指之每一觸指係與鄰近的觸指隔開，該複數第二觸指之每 一觸指係與鄰近的觸指隔開。
25. 如申請專利範圍第17項之用以產生電漿的設備，其中該第一及第二梳狀構造係由一導電材料所界定。
26. 一種與用以產生電漿之桶槽一起使用之設備，包含：一第一梳狀構造，用以部分地圍繞該桶槽之周圍，該第一梳狀構造具有一第一末端及一第二末端，一第一間隔界定於該第一末端與該第二末端之間，該第一梳狀構造界定複數第一觸指，該複數第一觸指係以垂直於該桶槽之該周圍定位，其中該第一梳狀構造用以連接至一射頻線圈之一第一末端；以及一第二梳狀構造，用以部分地圍繞該桶槽之該周圍，該第二梳狀構造具有一第一末端及一第二末端，一第二間隔界定於該第二梳狀構造之該第一末端與該第二末端之間，該第二梳狀構造界定複數第二觸指，該複數第二觸指係以垂直於該桶槽之該周圍定位，其中該第二梳狀構造用以連接至該射頻線圈之一第二末端；其中該複數第一觸指之複數末端與該複數第二觸指之複數末端係配置為面對彼此且維持一第三間隔。
27. 如申請專利範圍第26項之與用以產生電漿之桶槽一起使用之設備，其中該第一梳狀構造及該第二梳狀構造係配置在該桶槽之外部之第一半徑處，該射頻線圈係配置在該第一半徑之外部之第二半徑處。
28. 如申請專利範圍第26項之與用以產生電漿之桶槽一起使用之設備，其中該射頻線圈之該第二末端係接地。
29. 如申請專利範圍第26項之與用以產生電漿之桶槽一起使用之設備，其中該射頻線圈係用以在該第一及第二梳狀構造周圍及該桶槽周圍產生磁場線。
30. 如申請專利範圍第26項之與用以產生電漿之桶槽一起使用之設備，其中該桶槽具有一縱軸，該第一梳狀構造及該第二梳狀構 造係排列在該桶槽之外部且沿著該縱軸。
31. 如申請專利範圍第26項之與用以產生電漿之桶槽一起使用之設備，其中具有約10MHz至約100MHz之間的頻率之一射頻驅動信號被提供至該射頻線圈之該第一末端。
32. 如申請專利範圍第26項之與用以產生電漿之桶槽一起使用之設備，其中該射頻線圈係配置為在該桶槽周圍之環繞線圈，該射頻線圈具有在該第一末端與該第二末端之間之一線圈長度。
33. 如申請專利範圍第26項之與用以產生電漿之桶槽一起使用之設備，其中該複數第一觸指之每一觸指係與鄰近的觸指隔開，該複數第二觸指之每一觸指係與鄰近的觸指隔開。
34. 如申請專利範圍第26項之與用以產生電漿之桶槽一起使用之設備，其中該第一及第二梳狀構造係由一導電材料所界定。