TWI586444B - 清洗裝置以及用於清洗ｉｃ基板傳送滾輪之清洗液 - Google Patents

Description

清洗裝置以及用於清洗IC基板傳送滾輪之清洗液

本揭露係關於一種清洗裝置、清洗待清洗工件之方法以及清洗IC基板傳送滾輪之清洗液及方法。特別是一種具有高清洗效率及高清洗品質之清洗裝置、清洗待清洗工件之方法以及清洗IC基板傳送滾輪之清洗液及方法。

參考圖1，顯示用於傳送基板之滾輪總成之滾輪傳送單元之立體示意圖。在基板(例如：IC基板)之製造過程中，通常利用一滾輪總成以傳送基板，該滾輪總成包含多個排列之滾輪傳送單元9，如圖1所示，每一滾輸傳送單元9係由多個滾輪91及穿設通過該等多個滾輪91之滾輪軸92所組成。而在利用該滾輪總成傳送基板之過程中，基板上之一些高分子聚合物及染料(例如：還未固化之防銲層(Soler Mask)或乾膜(Dry Film))常會黏附在滾輪91之表面上，造成該滾輪總成之汙染。

習知之清洗該滾輪總成之方法，係將各個滾輪傳送單元9自該滾輪總成拆卸下來，再以人工清洗之方式逐一將黏附在滾輪傳送單元9之滾輪91上之汙染物予以去除；然，利用人工清洗之方式經常無法有 效地清除掉黏附在滾輪91表面上之汙染物，若滾輪單元9在清洗過後仍在其滾輪91之表面上黏附有殘餘之汙染物，如此在進行下一個傳送基板之動作時，該等殘餘之汙染物可能會透過滾輪91與基板之接觸，而交叉汙染至該下一個被傳送之基板，如此則會使得該被傳送之基板產生刮痕或造成短路。此外，利用人工清洗之方式常容易因人為之不當清洗或擦拭而造成滾輪91表面上之損傷(因為滾輪91之材質通常為塑膠，例如：聚丙烯(Polypropylene，PP))，如此會使得滾輪91之表面更容易被汙染物黏附，或者造成滾輪傳送單元9本身之損壞。

本揭露之一方面係關於一種清洗裝置。在一實施例中，該清洗裝置包括一第一槽、一第二槽、一第三槽及一第四槽，其中該第一槽包含一第一槽體及至少一第一超音波震盪器，該第二槽包含一第二槽體及至少一高壓噴洗設備，該第三槽包含一第三槽體及至少一第三超音波震盪器，該第四槽包含一第四槽體及至少一第四超音波震盪器。

本揭露之另一方面係關於一種清洗待清洗工件之方法。該清洗方法包括：a)將至少一個待清洗工件浸置於一鹼性清洗液中，且對該鹼性清洗液提供超音波震盪；b)將水以高壓噴流方式沖洗該待清洗工件；c)將該待清洗工件浸置於一酸性清洗液中，且對該酸性清洗液提供超音波震盪；及d)將該待清洗工件浸置於水中，且對該水提供超音波震盪。

本揭露之又一方面係關於一種用於清洗IC基板傳送滾輪之清洗液。該清洗液包括：約52.5wt%至約60wt%硫酸及/或硝酸；及約6wt%至約8.75wt%過氧化氫。

1‧‧‧第一槽

11‧‧‧第一槽體

12‧‧‧第一承載裝置

113‧‧‧第一超音波震盪器

2‧‧‧第二槽

21‧‧‧第二槽體

22‧‧‧第二承載裝置

213‧‧‧高壓噴洗設備

3‧‧‧第三槽

31‧‧‧第三槽體

32‧‧‧第三承載裝置

313‧‧‧第三超音波震盪器

4‧‧‧第四槽

41‧‧‧第四槽體

42‧‧‧第四承載裝置

413‧‧‧第四超音波震盪器

5‧‧‧第五槽

51‧‧‧第五槽體

52‧‧‧第五承載裝置

515‧‧‧風切設備

7‧‧‧吊掛設備

71‧‧‧吊掛架

73‧‧‧固持件

75‧‧‧橫向本體

731‧‧‧固持溝槽

81‧‧‧鹼性清洗液

82‧‧‧酸性清洗液

83‧‧‧水

9‧‧‧滾輪傳送單元

91‧‧‧滾輪

92‧‧‧滾輪軸

100‧‧‧清洗裝置

圖1顯示用於傳送基板之滾輪總成之滾輪傳送單元之立體示意圖。

圖2顯示本揭露之清洗裝置之一實施例之示意圖。

圖3顯示本揭露之清洗裝置之吊掛設備之吊掛架之一實施例之立體示意圖。

圖4顯示本揭露之清洗裝置之第一槽之示意圖。

圖5顯示本揭露之清洗裝置之第二槽之示意圖。

圖6顯示本揭露之清洗裝置之第三槽之示意圖。

圖7顯示本揭露之清洗裝置之第四槽之示意圖。

圖8顯示本揭露之清洗裝置之第五槽之示意圖。

參考圖2，顯示本揭露之清洗裝置100之一實施例之示意圖。該清洗裝置100具有一第一槽1、一第二槽2、一第三槽3、一第四槽4、一第五槽5及一吊掛設備7。在本實施例中，該清洗裝置100係用以清洗IC基板滾輪傳送單元9之傳送滾輪91(圖1)；然而，可以理解的是，該清洗裝置100也可以用以清洗其他種類之待清洗工件。

該第一槽1具有至少一個第一槽體11及至少一個第一超音波震盪器113，在本實施例中，該第一槽1具有三個第一槽體11，且每個第一槽體11內具有三個第一超音波震盪器113。在其他實施例中，該第一槽1也可以具有一個、二個或三個以上之第一槽體11，且每個第一槽體11內可以具有一個或二個第一超音波震盪器113。

該第二槽2具有至少一個第二槽體21及至少一高壓噴洗設備213，在本實施例中，該第二槽2具有一個第二槽體21，且該第二槽體21內具有多個高壓噴洗設備213。在其他實施例中，該第二槽2也可以具有一個以上之第二槽體21，且每個第二槽體21內可以具有不限數目之高壓噴洗設備213。

該第三槽3具有至少一個第三槽體31及至少一個第三超音波震盪器313，在本實施例中，該第三槽3具有三個第三槽體31，且每個第三 槽體31內具有三個第三超音波震盪器313。在其他實施例中，該第三槽3也可以具有一個、二個或三個以上之第三槽體31，且每個第三槽體31內可以具有一個或二個第三超音波震盪器313。

該第四槽4具有至少一個第四槽體41及至少一個第四超音波震盪器413，在本實施例中，該第四槽41具有一個第四槽體41，且該第四槽體41內具有三個第四超音波震盪器413。在其他實施例中，該第四槽4也可以具有一個以上之第四槽體41，且每個第四槽體41內可以具有一個或二個第四超音波震盪器413。

該第五槽5係具有至少一個第五槽體51及至少一個風切設備515。在本實施例中，該第五槽5具有一個第五槽體51，且該第五槽體51內具有多個風切設備515。在其他實施例中，該第五槽5也可以具有一個以上之第五槽體51，且每個第五槽體51內可以具有不限數目之風切設備515。

該吊掛設備7係可橫跨該第一槽體11、該第二槽體21、該第三槽體31、該第四槽體41及該第五槽體51。該吊掛設備7可吊掛起位於一吊掛架71之至少一個待清洗工件，且將該清洗工件依序搬移至該第一槽體11、該第二槽體21、該第三槽體31、該第四槽體41及該第五槽體51。在本實施例中，該待清洗工件係為滾輪傳送單元9。

參考圖3，顯示圖2中之吊掛設備7之一吊掛架71之立體示意圖。該吊掛架71係用於安置多個滾輪傳送單元9，如此使得該吊掛設備7可吊掛起多個滾輪傳送單元9，並將該多個滾輪傳送單元9搬移至該第一槽體11、該第二槽體21、該第三槽體31、該第四槽體41及該第五槽體51。該吊掛架71具有一橫向本體75及二個分別裝設鄰近橫向本體75之兩端的固持件73。每一固持件73之一端係固接於該橫向本體75，且該二個固持件73係彼此平行。該二個固持件73分別具有多個彼此相互對應之固持溝槽731，如此，該滾輪傳送單元9之滾輪軸92之二端可滑入 該等固持溝槽731中，以使該滾輪傳送單元9被該等固持件73所固持。根據如圖3所示之構形，一個吊掛架71可同時吊掛起多個滾輪傳送單元9，在本實施例中，一個吊掛架71可吊掛12個滾輪傳送單元9。

參考圖4，顯示圖2中之第一槽1之示意圖。該第一槽體11係大致為一具有上開口之槽體，其係用於容納一鹼性清洗液81。因該第一槽體11需用於容納該鹼性清洗液81，該第一槽體11係使用抗鹼腐蝕材質所製成，如可用不鏽鋼材料所製成，尤其較佳為使用SUS316-3t等級以上之不銹鋼材質。該第一槽體11內具有至少一個第一超音波震盪器113，而由圖4所示之實施例，該第一槽體具有二個第一超音波震盪器113設置於其側壁及一個第一超音波震盪器113設於其底部。該第一超音波震盪器113係用於提供容納於該第一槽體11中之鹼性清洗液81超音波震盪。在本實施例中，該第一槽1更具有一第一承載裝置12，鄰設於該第一槽體11，用以承載一吊掛架71。在本實施例中，該第一承載裝置12係位於該第一槽體11之上開口附近；在其他實施例中，該第一承載裝置12也可以位於其他位置。

當該吊掛設備7(圖2)之吊掛架71吊起多個欲清潔之滾輪傳送單元9並將該吊掛架71置放於該第一承載裝置12上，以使該多個欲清潔之滾輪傳送單元9浸泡於該鹼性清洗液81中，該第一槽體11內之第一超音波震盪器113可提供該鹼性清洗液81超音波震盪，此時，該鹼性清洗液81可去除殘留在滾輪傳送單元9之滾輪91上之高分子聚合物。在本實施例中，由該第一超音波震盪器113所提供之超音波震盪之功率範圍係在2000W至3800W之間。

此外，該第一槽1可更具有一熱交換器(未示出)，用於提升容納於該第一槽體11中之鹼性清洗液81之溫度，如此可加強該鹼性清洗液81與殘留在該滾輪傳送單元9之滾輪91上之高分子聚合物之間的活性作用，以進一步提升該鹼性清洗液81去除滾輪91上之高分子聚合物之 清洗效率。在本實施例中，該鹼性清洗液81之清洗溫度範圍係在於約50℃至約60℃之間。此外，為避免該鹼性清洗液81產生過高之溫度而造成該鹼性清洗液81不穩定，該第一槽1進一步具有一冷卻系統(未示出)，該冷卻系統可適時的作用以使該鹼性清洗液81不會產生過高之溫度，或可維持一較佳之清洗溫度。

參考圖5，顯示圖2中之第二槽2之示意圖。該第二槽體21係大致為一具有上開口之槽體，其內具有至少一高壓噴洗設備213，如圖5所示，該第二槽體21之二內側壁上裝設有多個高壓噴洗設備213。該第二槽體21主要容納由該高壓噴洗設備213所噴出之水，故其可使用塑膠材料所製成，例如為使用聚丙烯(Polypropylene，PP)材料所製成；此外，該第二槽體21不只容納由該高壓噴洗設備213所噴出之水，亦包括由該滾輪傳送單元9所沖洗下來之少量的殘餘鹼性清洗液，故可使用不鏽鋼材料製成該第二槽體21，例如可使用SUS316-3t等級以上之不銹鋼材質。在本實施例中，該第二槽2更具有一第二承載裝置22，鄰設於該第二槽體21，用以承載一吊掛架71。在本實施例中，該第二承載裝置22係位於該第二槽體21之上開口附近；在其他實施例中，該第二承載裝置22也可以位於其他位置。

當該吊掛設備7(圖2)之吊掛架71將通過該第一槽1清洗之滾輪傳送單元9自該第一槽體11移到至該第二槽體21中(此時該吊掛架71係置放於該第二承載裝置22)，該第二槽體21內之高壓噴洗設備213可提供高壓水洗以沖洗滾輪傳送單元9上所殘餘之鹼性清洗液。在本實施例中，該高壓噴洗設備213所提供之噴洗水洗之壓力大致為1kg/cm²，且該高壓噴洗設備213可沿該第二槽體21之高度方向上下移動，如此以提供更全面之高壓水洗。在其他實施例中，該高壓設備213不只可設置於該第二槽體21之內側壁上，亦可視需要設置於該第二槽體21之內部之其他位置，如該第二槽體21內部之底部或頂部。

參考圖6，顯示圖2中之第三槽3之示意圖。該第三槽體31係大致為一具有上開口之槽體，其係用於容納一酸性清洗液82。因該第三槽體31需用於容納該酸性清洗液82，該第三槽體31係使用抗酸腐蝕材質所製成，如可用不鏽鋼材料所製成，尤其較佳為使用SUS316-3t等級以上之不銹鋼材質。該第三槽體31內具有至少一個第三超音波震盪器313，而由圖6所示之實施例，該第三槽體31內具有二個第三超音波震盪器313設置於其側壁及一個第三超音波震盪器313設於其底部。該第三超音波震盪器313係用於提供容納於該第三槽體31中之酸性清洗液82超音波震盪。在本實施例中，該第三槽3更具有一第三承載裝置32，鄰設於該第三槽體31，用以承載一吊掛架71。在本實施例中，該第三承載裝置32係位於該第三槽體31之上開口附近；在其他實施例中，該第三承載裝置32也可以位於其他位置。

當該吊掛設備7(圖2)之吊掛架71將通過該第二槽2高壓水洗之滾輪傳送單元9自該第二槽體21移到至該第三槽體31中(此時該吊掛架71係置放於該第三承載裝置32)，以使該多個滾輪傳送單元9浸泡於該酸性清洗液82中，該第三槽體31內之第三超音波震盪器313可提供該酸性清洗液82超音波震盪，此時，該酸性清洗液82可去除殘留在滾輪傳送單元9之滾輪91上之染色劑。在本實施例中，由該第三超音波震盪器313所提供之超音波震盪之功率範圍係在2000W至3800W之間。該第三超音波震盪器313所提供之超音波震盪之功率與該第一超音波震盪器113所提供之超音波震盪之功率可相同或不同。

此外，該第三槽3可更具有一熱交換器(未示出)，用於提升容納於該第三槽體31中之酸性清洗液82之溫度，如此可加強該酸性清洗液82與殘留在滾輪傳送單元9之滾輪91上之染色劑之間的活性作用，以進一步提升該酸性清洗液82去除滾輪91上之染色劑之清洗效率。在本實施例中，該酸性清洗液82之清洗溫度範圍係在於約50℃至約60℃之 間。此外，為避免該酸性清洗液82產生過高之溫度而造成該酸性清洗液82不穩定，該第三槽3進一步具有一冷卻系統(未示出)，該冷卻系統可適時的作用以使該酸性清洗液82不會產生過高之溫度，或可維持一較佳之清洗溫度。

參考圖7，顯示圖2中之第四槽4之示意圖。該第四槽體41係大致為一具有上開口之槽體，其係用於容納水83。因該第四槽體41主要容納水83，故其可使用塑膠材料所製成，例如為使用聚丙烯(Polypropylene，PP)材料所製成；此外，因該第四槽體41不只容納水83，亦包括由該滾輪傳送單元9所沖洗下來之少量的殘餘酸性清洗液，故可使用不鏽鋼材料製成該第二槽體41，尤其較佳可使用SUS316-3t等級以上之不銹鋼材質。該第四槽體41內具有至少一個第四超音波震盪器413，而由圖7所示之實施例，該第四槽體41具有二個第四超音波震盪器413設置於其側壁及一個第四超音波震盪器413設於其底部。該第四超音波震盪器413係用於提供容納於該第四槽體41中之水83超音波震盪。在本實施例中，該第四槽4更具有一第四承載裝置42，鄰設於該第四槽體41，用以承載一吊掛架71。在本實施例中，該第四承載裝置42係位於該第四槽體41之上開口附近；在其他實施例中，該第四承載裝置42也可以位於其他位置。

當吊掛設備7(圖2)之吊掛架71將通過第三槽3清洗之滾輪傳送單元9自該第三槽體31移到至該第四槽體41中(此時該吊掛架71係置放於該第四承載裝置42)，以使該多個滾輪傳送單元9浸泡於水83中，該第四槽體41內之第四超音波震盪器413可提供水83超音波震盪，此時，水83可去除殘留在滾輪傳送單元9之滾輪91上之酸性清洗液。在本實施例中，由該第四超音波震盪器413所提供之超音波震盪之功率範圍係在2000W至3800W之間。該第四超音波震盪器413所提供之超音波震盪之功率與該第一超音波震盪器113或該第三超音波震盪器313 所提供之超音波震盪之功率可相同或不同。

參考圖8，顯示圖2中之第五槽5之示意圖。通常，欲清潔之滾輪傳送單元9經過上述第一槽1至第四槽4之一連續清洗過程係已清潔完成；然，該清洗裝置100亦可進一步具有一第五槽5，該第五槽5係為一風切槽，其具有一第五槽體51、多個風切設備515及一第五承載裝置52。該第五槽體51大致為一具有上開口之槽體，且其材質不限。如圖8所示，該第五槽體51之二內側壁上裝設有多個風切設備515。當吊掛設備7(圖2)之吊掛架71將通過第四槽4清洗之滾輪傳送單元9自該第四槽體41移到至該第五槽體51中(此時該吊掛架71係置放於該第五承載裝置52)，該第五槽體51內之風切設備515係可提供風吹氣流以風乾該滾輪傳送單元9上所殘餘之水。

再參考圖2，以下係說明本揭露之清洗待清洗工件之清洗方法之一實施例。在本實施例中，該待清洗工件係為滾輪傳送單元9：然而在其他實施例中，該待清洗工件也可以是其他種類之工件。在圖2所示之實施例中，使用者可將至少一個欲清洗之滾輪傳送單元9吊掛於吊掛設備7之吊掛架71上，該吊掛架71可同時安置十二個滾輪傳送單元9，而該吊掛設備7具有三個吊掛架71，故該吊掛設備7可同時吊起三十六個欲清洗之滾輪傳送單元9。

首先，將至少一個待清洗工件浸置於一鹼性清洗液中，且對該鹼性清洗液提供超音波震盪。在本實施例中，使用者可利用遙控或手動之方式將該吊掛設備7所吊掛之多個滾輪傳送單元9置放於該第一槽1之第一槽體11中，以使該等滾輪傳送單元9浸泡於一鹼性清洗液81中。在本實施例中，該待清洗工件係為該滾輪傳送單元9上之IC基板傳送滾輪92，該鹼性清洗液81包含氫氧化鈉(NaOH)、乙二醇單丁醚(Ethylene Glycol Monobutyl Ether)及水。當該等滾輪傳送單元9浸泡於該鹼性清洗液81中，可開啟該第一槽體11內之第一超音波震盪器 113，以對該鹼性清洗液81提供超音波震盪，如此，黏附於該滾輪傳送單元9之滾輪91上之高分子聚合物可被具有超音波震盪之鹼性清洗液81所清除。再者，使用者可利用該第一槽體11內之熱交換器及冷卻系統以加熱及冷卻該鹼性清洗液81，而將該鹼性清洗液81之清洗溫度範圍控制在於約50℃至約60℃之間，以增加該鹼性清洗液81與殘留在滾輪傳送單元9之滾輪91上之高分子聚合物之間的活性作用，如此可進一步提升鹼性清洗液去除滾輪91上之高分子聚合物之清洗效率。

接著，將水以高壓噴流方式沖洗該待清洗工件。在本實施例中，當該等滾輪傳送單元9經過該第一槽1之鹼性清洗液81的清洗過後，使用者可利用遙控或手動之方式將吊掛設備7所吊掛之多個滾輪傳送單元9由該第一槽1之第一槽體11移動至該第二槽2之第二槽體21中。當該等滾輪傳送單元9被移動至該第二槽體21中，該第二槽體21內之高壓噴洗設備213係可提供高壓水洗以沖洗該滾輪傳送單元9上所殘餘之鹼性清洗液，如之前所述，該高壓噴洗設備213所提供之較佳噴洗水洗之壓力大致為1kg/cm²。

接著，將該待清洗工件浸置於一酸性清洗液中，且對該酸性清洗液提供超音波震盪。在本實施例中，當該等滾輪傳送單元9經過該第二槽2之高壓水洗過後，使用者可利用遙控或手動之方式將吊掛設備7所吊掛之多個滾輪傳送單元9由該第二槽2之第二槽體21移動至該第三槽3之第三槽體31中，以使該等滾輪傳送單元9浸泡於一酸性清洗液82中。在本實施例中，該酸性清洗液82包括約52.5wt%至約60wt%硫酸(H₂SO₄)及/或硝酸(HNO₃)，以及約6wt%至約8.75wt%過氧化氫(H₂O₂)。在本實施例中，該酸性清洗液82係由一濃度為70wt%至75wt%之硫酸溶液及/或硝酸溶液，以及一濃度為30wt%至35wt%之過氧化氫溶液所製備，其中該硫酸溶液及/或硝酸溶液佔該清洗液82的75wt%至80wt%，且該過氧化氫溶液佔該清洗液82的20wt%至 25wt%。

當該等滾輪傳送單元9浸泡於該酸性清洗液82中，可開啟該第三槽體31內之第三超音波震盪器313，以對該酸性清洗液82提供超音波震盪，如此，黏附於該滾輪傳送單元9之滾輪91上之染色劑可被具有超音波震盪之酸性清洗液82所清除。如之前所述，由該第三超音波震盪器313所提供之超音波震盪之功率範圍係在2000W至3800W之間。再者，使用者可利用該第三槽體31內之熱交換器及冷卻系統以加熱及冷卻該酸性清洗液82，而將該酸性清洗液82之清洗溫度範圍控制在於約50℃至約60℃之間，以增加該酸性清洗液82與殘留在滾輪傳送單元9之滾輪91上之染色劑之間的活性作用，如此可進一步提升該酸性清洗液82去除滾輪91上之染色劑之清洗效率。

接著，將該待清洗工件浸置於水中，且對該水提供超音波震盪。在本實施例中，當該等滾輪傳送單元9經過該第三槽3之酸性清洗液82的清洗過後，使用者可利用遙控或手動之方式將該吊掛設備7所吊掛之多個滾輪傳送單元9由開第三槽3之第三槽體31移動至該第四槽4之第四槽體41中，以使該等滾輪傳送單元9浸泡於水83中。當該等滾輪傳送單元9浸泡於該水83中，可開啟該第四槽體41內之第四超音波震盪器413，以對該水83提供超音波震盪，如此，殘餘於該滾輪傳送單元9之滾輪91上之酸性清洗液可被具有超音波震盪之水83所清除。如之前所述，由該第四超音波震盪器413所提供之超音波震盪之功率範圍係在2000W至3800W之間。

最後，當該等滾輪傳送單元9經過該第四槽4之水83的清洗過後，使用者可利用遙控或手動之方式將吊掛設備7所吊掛之多個滾輪傳送單元9由該第四槽4之第四槽體41移動至該第五槽5之第五槽體51中。當該等滾輪傳送單元9被移動至開第五槽體51中，該第五槽體51內之風切設備515係可提供風切氣流以風乾該滾輪傳送單元9上所殘餘 之水。

在本實施例中，該清洗裝置100及清洗方法可達到自動化清洗之效果，因而可節省人力，提高清洗效率。再者，該清洗裝置100及清洗方法可有效地清除掉黏附在工件表面上之汙染物，且不需人工擦拭，而可提高清洗品質。

惟上述實施例僅為說明本揭露之原理及其功效，而非用以限制本揭露。因此，習於此技術之人士對上述實施例進行修改及變化仍不脫本揭露之精神。本揭露之權利範圍應如後述之申請專利範圍所列。

100‧‧‧清洗裝置

1‧‧‧第一槽

11‧‧‧第一槽體

113‧‧‧第一超音波震盪器

2‧‧‧第二槽

21‧‧‧第二槽體

213‧‧‧高壓噴洗設備

3‧‧‧第三槽

31‧‧‧第三槽體

313‧‧‧第三超音波震盪器

4‧‧‧第四槽

41‧‧‧第四槽體

413‧‧‧第四超音波震盪器

5‧‧‧第五槽

51‧‧‧第五槽體

515‧‧‧風切設備

7‧‧‧吊掛設備

71‧‧‧吊掛架

81‧‧‧鹼性清洗液

82‧‧‧酸性清洗液

83‧‧‧水

9‧‧‧滾輪傳送單元

Claims (14)

1. 一種清洗裝置，其包括：一第一槽，包含一第一槽體、至少一第一超音波震盪器及一第一承載裝置，該第一承載裝置鄰設於該第一槽體，用以承載一吊掛架；一第二槽，包含一第二槽體、至少一高壓噴洗設備及一第二承載裝置，該第二承載裝置鄰設於該第二槽體，用以承載該吊掛架；一第三槽，包含一第三槽體、至少一第三超音波震盪器及一第三承載裝置，該第三承載裝置鄰設於該第三槽體，用以承載該吊掛架；及一第四槽，包含一第四槽體、至少一第四超音波震盪器及一第四承載裝置，該第四承載裝置鄰設於該第四槽體，用以承載該吊掛架。
2. 如請求項1之清洗裝置，其中該第一槽體係為抗鹼腐蝕材質。
3. 如請求項1之清洗裝置，其中該第三槽體係為抗酸腐蝕材質。
4. 如請求項1之清洗裝置，其中該第一槽體係用於容納一鹼性清洗液，該第二槽體係用以容納水，該第三槽體係用於容納一酸性清洗液，該第四槽體係用以容納水。
5. 如請求項1之清洗裝置，其中該第一槽更包含一熱交換器及一冷卻系統。
6. 如請求項1之清洗裝置，其中該第一槽體之材質係為不鏽鋼。
7. 如請求項6之清洗裝置，其中該不鏽鋼材料係為SUS316-3t等級以上。
8. 如請求項1之清洗裝置，其中該第二槽之高壓噴洗設備係可沿該第二槽體之高度方向上下移動。
9. 如請求項1之清洗裝置，其中該第二槽體之材質係為不鏽鋼或塑膠。
10. 如請求項9之清洗裝置，其中該不鏽鋼材料係為SUS316-3t等級以上，且該塑膠係為聚丙烯(Polypropylene,PP)。
11. 如請求項1之清洗裝置，其中該第三槽更包含一熱交換器及一冷卻系統。
12. 如請求項1之清洗裝置，進一步包括一吊掛設備，橫跨該第一槽體、該第二槽體、該第三槽體及該第四槽體，該吊掛設備可吊掛起至少一個待清洗工件，且將該清洗工件依序搬移至該第一槽體、該第二槽體、該第三槽體及該第四槽體。
13. 一種用於清洗IC基板傳送滾輪之清洗液，其包括：約52.5wt%至約60wt%硫酸及/或硝酸；及約6wt%至約8.75wt%過氧化氫。
14. 如請求項13之清洗液，其係由一濃度為70wt%至75wt%之硫酸溶液及/或硝酸溶液，及一濃度為30wt%至35wt%之過氧化氫溶液所製備，其中該硫酸溶液及/或硝酸溶液佔該清洗液的75wt%至80wt%，且該過氧化氫溶液佔該清洗液的20wt%至25wt%。