TWI541205B - Manufacture of glass plates - Google Patents

Description

玻璃板之製造方法

本發明係關於製造玻璃板之玻璃板之製造方法。

先前以來，在製造玻璃板時，使用溢流下拉法來進行玻璃板之成形。溢流下拉法中，在熔解槽中將玻璃原料熔融從而形成熔融玻璃，對該熔融玻璃實施澄清處理、均質化處理之後，熔融玻璃通過移送管而被供給至長條狀之成形體。

長條狀之成形體中，在成形體之上部設置有沿長度方向延伸之溝槽部，向該溝槽部之一端供給熔融玻璃。對於該溝槽部而言，從熔融玻璃之供給側越向長度方向之相反側則溝槽深度越淺，因此熔融玻璃從成形體之溝槽部溢出，沿著成形體兩側之側壁而向下方流下。沿著成形體兩側之側壁而向下方流下之熔融玻璃在成形體之下端合流從而彙聚成一體，形成片狀玻璃。

另外，將熔融玻璃供給至成形體之移送管之流路剖面形狀一般係圓形狀，成形體之溝槽部之流路剖面形狀為矩形或多邊形形狀。使移送管之流路剖面形狀為圓形狀係因為，較佳為即使將高溫之熔融玻璃填充至移送管內亦不存在彎曲部分、能夠維持強度。另一方面，使成形體之溝槽部之流路剖面形狀為矩形或多邊形形狀係因為溝槽部加工之容易性。

例如，在下述專利文獻1之圖1、圖3中公開了一種成形體，其具有流路剖面形狀為圓形狀之移送管、及流路剖面形狀為矩形形狀之溝 槽部。於該情形時，將熔融玻璃從圓形形狀之移送管供給至成形體之溝槽部時，熔融玻璃之流路剖面具有階差而急劇擴大。

先前技術文獻 專利文獻

專利文獻1：日本專利特表2008-501609號公報

如上所述，通常情形時，將熔融玻璃供給至成形體之移送管之流路剖面形狀為圓形狀，成形體之溝槽部之流路剖面形狀為矩形或多邊形形狀，因此將熔融玻璃從移送管供給至成形體之溝槽部時，熔融玻璃之流路剖面具有階差而急劇擴大。因此，由於熔融玻璃之流路之急劇擴大，而有會導致熔融玻璃之流體之一部分容易停留在成形體之溝槽部內之情形。熔融玻璃之流體之停留容易導致熔融玻璃之失透。又，熔融玻璃之流體之停留易產生異質坯料，亦容易導致波筋之產生。更詳細地說明，若熔融玻璃之流體停留，則與其它部分之熔融玻璃相比，其與成形體之接觸時間變長，因此成形體之成分從成形體之表面溶出，容易使熔融玻璃之玻璃組成局部性變化。又，受成形體之溫度之影響，熔融玻璃之黏度容易局部性產生變化。即，熔融玻璃中易產生異質坯料，其結果係：在最終產品之玻璃板上容易產生波筋，並且玻璃板之厚度容易變得不均勻。

又，對於平板顯示器用玻璃板，在玻璃板上形成有TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶體管)等半導體元件。近年來，為了實現顯示器顯示之進一步之高精細化，要求在玻璃板上形成p-Si(低溫多晶矽)．TFT或氧化物半導體來代替先前以來一直使用之α-Si．TFT。在p-Si．TFT或氧化物半導體之形成步驟中，存在比α-Si．TFT之形成步驟之溫度更高之熱處理步驟。因此，對於形成有p-Si(低溫多晶矽)TFT或氧 化物半導體之玻璃板要求其熱收縮率要小。為了減小收縮率，較佳為提高玻璃之應變點，但應變點高之玻璃存在液相溫度增高之傾向，液相黏度(在液相溫度之黏度)傾向於下降。因此，亦有片狀玻璃之成形所需之熔融玻璃之黏度(成形黏度)與液相黏度之差減小、或成形黏度比液相黏度大之情形，其結果會導致玻璃容易失透。因此，由p-Si(低溫多晶矽)．TFT形成用或氧化物半導體形成用等玻璃、特別係液相黏度低之玻璃來製造片狀玻璃時，必須竭力避免熔融玻璃之一部分流體容易停留在成形體之溝槽部內這樣之情況，因為該情況有可能導致成形體之成分從成形體之表面溶出、液相黏度上升(失透之產生)。

因此，為了解決先前之問題，本發明之目的在於提供一種玻璃板之製造方法，其中，在使用成形體來進行熔融玻璃之成形時，通過成形體之溝槽部之熔融玻璃之流體難以停留，熔融玻璃中不會產生失透或異質坯料，可以製造無波筋且板厚均勻之高品質之玻璃板。

本發明之一態樣為製造玻璃板之玻璃板之製造方法。該製造方法包括如下步驟：將玻璃原料熔解從而製作熔融玻璃；供給步驟，其將上述熔融玻璃通過移送管而供給至成形體；及成形步驟，其一面使上述熔融玻璃流向上述成形體之溝槽部一面利用溢流下拉法對上述熔融玻璃進行成形，從而製作片狀玻璃。

在上述成形體之上述溝槽部與上述移送管連接之連接端部，上述溝槽部具有溝槽寬度向著上述溝槽部之深度方向階段性或連續性變窄之溝槽寬度狹小部分。

在上述成形體之熔融玻璃流動方向，上述溝槽寬度狹小部分之溝槽寬度隨著遠離上述移送管而變大。

如此，上述溝槽部在連接端部具有上述溝槽寬度狹小部分，因 此熔融玻璃能夠無停留地從上述移送管平滑地流向上述溝槽部。因此，能夠將熔融玻璃在上述溝槽部之滯留時間控制在比較固定之範圍內，從而使熔融玻璃從上述溝槽部溢出。因此，難以產生玻璃之失透或異質坯料，可製造無波筋且板厚均勻之高品質玻璃板。

又，較佳為，上述成形體之上述溝槽部具有與上述溝槽部之深度方向之位置無關之溝槽寬度為固定之溝槽寬度固定部分，上述溝槽寬度狹小部分相對於上述溝槽寬度固定部分而設置在上述溝槽部之溝槽深度方向之溝槽底面側。

於該情形時，流經上述溝槽部之溝槽底面附近之熔融玻璃之流體難以產生停留。因此，難以產生玻璃之失透或異質坯料，可製造無波筋且板厚均勻之高品質玻璃板。

又，較佳為，上述溝槽寬度狹小部分由平面狀之溝槽底面、及相對於上述溝槽底面傾斜之傾斜面而形成，上述傾斜面之區域在上述熔融玻璃流動方向隨著遠離上述移送管而變小。

於該情形時，上述溝槽部中之熔融玻璃之流路剖面隨著向熔融玻璃之流動方向前進而擴大，上述溝槽寬度狹小部分之溝槽寬度逐漸接近於上述溝槽寬度固定部分之溝槽寬度，因此熔融玻璃在上述溝槽部平滑地流動、難以產生停留。因此，難以產生玻璃之失透或異質坯料，可製造無波筋且板厚固定之高品質玻璃板。

又，較佳為，上述移送管之剖面形狀為圓形狀，上述溝槽寬度狹小部分之上述溝槽寬度對應於上述圓形狀、並且溝槽寬度向著上述溝槽部之底面階段性或連續性變窄。

於該情形時，流經上述溝槽部之溝槽底面附近之熔融玻璃之流路剖面之擴大程度比先前減小，難以產生熔融玻璃之流體之停留。因此，難以產生玻璃之失透或異質坯料，可製造無波筋且板厚固定之高品質玻璃板。

即使上述熔融玻璃之應變點為655℃以上，亦能夠適用於上述玻璃板之製造方法。

如此之玻璃係應變點高之玻璃，液相溫度(失透溫度)傾向於增高。使用該應變點為655℃以上之玻璃之情形時，成形步驟中之熔融玻璃之適合黏度(例如為40000泊以上)與玻璃之液相黏度接近，因此容易失透。特別是，若熔融玻璃在成形時停留，則成形體之成分從成形體表面溶出，更容易失透。上述製造方法中，熔融玻璃之流體難以停留在上述成形體之上述溝槽部，因此能夠抑制玻璃之失透。

即使係上述熔融玻璃之應變點為675℃以上之玻璃，亦能夠適用於上述玻璃板之製造方法，難以產生失透。又，即使係上述熔融玻璃之應變點為680℃以上之玻璃，亦能夠適用於上述玻璃板之製造方法，難以產生失透。進而，即使係上述熔融玻璃之應變點為690℃以上之玻璃，亦能夠適用於上述玻璃板之製造方法，難以產生失透。

亦能夠使上述熔融玻璃之液相黏度為45000泊以上。如此之玻璃接近於成形步驟中之適合之熔融玻璃之黏度，因此容易失透。特別是，若熔融玻璃停留在成形體中，則更容易失透。但是，在上述玻璃板之製造方法中，熔融玻璃之流體難以停留在上述成形體之上述溝槽部，因此即使係液相黏度為45000泊之情況，亦能夠抑制玻璃之失透，製造玻璃片。

若上述熔融玻璃之液相黏度為50000泊以上，則藉由適用於上述玻璃板之製造方法，更難以產生失透；進而，若上述熔融玻璃之液相黏度為60000泊以上，則藉由適用於上述玻璃板之製造方法，進一步難以產生失透，能夠製造高品質之玻璃片。

又，上述玻璃板例如為平板顯示器用玻璃板，例如係p-Si(低溫多晶矽)TFT形成用或氧化物半導體形成用之玻璃板。

p-Si(低溫多晶矽)TFT形成用或氧化物半導體形成用之玻璃板之 應變點高。若應變點高則液相溫度具有增高之傾向，液相黏度(在液相溫度時之黏度)傾向於變低。因此，有時片狀玻璃成形所需之熔融玻璃之黏度(成形黏度)與液相黏度之差變小、或者成形黏度比液相黏度大，其結果容易導致玻璃失透。特別是，若熔融玻璃停留在成形體，則更容易失透。因此，即使將能夠使熔融玻璃難以停留在成形體之溝槽部而平滑地流動之上述態樣之玻璃板之製造方法適用於平板顯示器用玻璃板、特別是p-Si(低溫多晶矽)TFT形成用或氧化物半導體形成用之玻璃板，亦難以產生失透。

根據上述態樣之玻璃板之製造方法，在使用成形體進行熔融玻璃之成形時，通過成形體之溝槽部之熔融玻璃之流體難以停留，在熔融玻璃中不會產生失透及異質坯料，可製造高品質之玻璃板。

100‧‧‧熔解裝置

101‧‧‧熔解槽

101d‧‧‧料斗

102‧‧‧澄清槽

103‧‧‧攪拌槽

103a‧‧‧攪拌器

104‧‧‧玻璃供給管

105‧‧‧玻璃供給管

106‧‧‧玻璃供給管

106'‧‧‧玻璃供給管

106a‧‧‧玻璃供給管本體

106b‧‧‧管擴張部

200‧‧‧成形裝置

210‧‧‧成形體

210a‧‧‧溝槽部

210a'‧‧‧溝槽部

210b‧‧‧側壁

210c‧‧‧下方前端

210d‧‧‧溝槽底面

210e‧‧‧傾斜面

210f‧‧‧曲面

300‧‧‧切斷裝置

圖1係表示本實施形態之玻璃基板之製造方法之步驟之一例之圖。

圖2係模式性地表示本實施形態中進行熔解步驟~切斷步驟之裝置之一例之圖。

圖3(a)係表示本實施形態中之成形體與玻璃供給管之連接部分之分解立體圖；圖3(b)係表示本實施形態之玻璃供給管與溝槽部連接時之連接端部與溝槽部之間之相對位置之前視圖；圖3(c)係表示本實施形態之玻璃供給管與溝槽部連接時之連接端部與溝槽部之間之相對位置之俯視圖。

圖4係表示先前之管擴張部與溝槽部連接時之連接端部與溝槽部之間之相對位置之前視圖。

圖5(a)、(b)係說明變化例中之溝槽部與玻璃供給管之連接狀態之圖。

以下，對本發明之玻璃板之製造方法進行詳細說明。圖1係表示本實施形態之玻璃基板之製造方法之步驟之一例之圖。

(玻璃基板之製造方法之整體概要)

玻璃基板之製造方法主要具有熔解步驟(ST1)、澄清步驟(ST2)、均質化步驟(ST3)、供給步驟(ST4)、成形步驟(ST5)、緩慢冷卻步驟(ST6)及切斷步驟(ST7)。除此以外，還具有研削步驟、研磨步驟、清洗步驟、檢查步驟、包裝步驟等；在包裝步驟中積層之複數個玻璃基板搬送至收貨方之工作人員。

熔解步驟(ST1)在熔解槽中進行。熔解步驟中，將玻璃原料投入至蓄積在熔解槽中之熔融玻璃之液面上並進行加熱來製作熔融玻璃。 進而，使熔融玻璃從設置在熔解槽之內側側壁之1個底部之流出口流向下游步驟。

熔解槽之熔融玻璃之加熱除了對熔融玻璃自身通電而進行自發熱來加熱之方法之外，亦可以利用燃燒器輔助性地提供火焰來將玻璃原料熔解。再者，玻璃原料中添加有澄清劑。作為澄清劑無特別限制，已知有SnO₂、As₂O₃、Sb₂O₃等。但是，從降低環境負荷之觀點出發，可以使用SnO₂(氧化錫)作為澄清劑。

澄清步驟(ST2)至少在澄清槽內進行。澄清步驟中，使澄清槽內之熔融玻璃升溫，由此熔融玻璃中所含有之含O₂、CO₂或SO₂之氣泡會吸收因澄清劑之還原反應而生成之O₂而成長，氣泡上浮至熔融玻璃之液面從而放出。進而，澄清步驟中，使熔融玻璃之溫度下降，從而使由澄清劑之還原反應得到之還原物質進行氧化反應。由此，熔融玻璃中殘存之氣泡中之O₂等氣體成分再次被吸收至熔融玻璃中，氣泡消失。基於澄清劑之氧化反應以及還原反應能夠藉由控制熔融玻璃之溫度來進行。再者，澄清步驟能夠使用減壓脫泡方式，該減壓脫泡方式 係在澄清槽中形成減壓氣氛之空間、並使熔融玻璃中存在之氣泡在減壓氣氛中成長從而進行脫泡。於該情形時，即使不使用澄清劑亦係有效的。再者，澄清步驟中使用了將氧化錫用作澄清劑之澄清方法。

在均質化步驟(ST3)中，使用攪拌器對通過從澄清槽延伸出之配管而供給之攪拌槽內之熔融玻璃進行攪拌，從而進行玻璃成分之均質化。由此，能夠減少作為紋理等之原因之玻璃組成不均。

在供給步驟(ST4)中，通過從攪拌槽延伸出之配管將熔融玻璃供給至成形裝置。

在成形裝置中，進行成形步驟(ST5)以及緩慢冷卻步驟(ST6)。

在成形步驟(ST5)中，將熔融玻璃成形為片狀玻璃，形成片狀玻璃之流體。成形能夠使用溢流下拉法。

在緩慢冷卻步驟(ST6)中，進行冷卻以使成形流動之片狀玻璃為期望之厚度、不產生內部應變、進一步不產生翹曲。

在切斷步驟(ST7)中，在切斷裝置中將從成形裝置供給之片狀玻璃切斷為特定之長度，從而得到板狀之玻璃板。切斷後之玻璃板進一步切斷為特定之尺寸，形成目標尺寸之玻璃基板。之後，進行玻璃基板之端面之研削、研磨，進行玻璃基板之清洗，進而，檢查有無氣泡等異常缺陷後，檢查合格品之玻璃板作為最終產品進行包裝。

圖2係模式性地表示本實施方式中進行熔解步驟(ST1)~切斷步驟(ST7)之裝置之一例之圖。如圖2所示，該裝置中主要具有熔解裝置100、成形裝置200及切斷裝置300。熔解裝置100具有熔解槽101、澄清槽102、攪拌槽103及玻璃供給管104、105、106。

在圖2所示之熔解裝置101中，玻璃原料之投入係使用料斗101d進行。澄清槽102中，調整熔融玻璃MG之溫度從而利用澄清劑之氧化還原反應來進行熔融玻璃MG之澄清。進而，在攪拌槽103中，利用攪拌器103a來攪拌熔融玻璃MG從而使其均質化。在成形裝置200中，片 狀玻璃SG係藉由使用了成形體210之溢流下拉法而由熔融玻璃MG成形而得到。

(玻璃供給管與成形體之連接)

圖3(a)係表示成形體210與玻璃供給管106之連接部分之分解立體圖；圖3(b)係表示玻璃供給管106與溝槽部210a連接時之連接端部與溝槽部210a之間之相對位置之前視圖；圖3(c)係其俯視圖。

成形體210係在其上部形成有溝槽部210a之沿一個方向(圖中之X方向)延伸之長條狀之結構體。溝槽部210a之溝槽深度隨著沿X方向前進而變淺。因此，供給至溝槽部210a之熔融玻璃MG從溝槽部210a溢出，沿著設置在成形體210兩側之側壁210b垂直流向下方。沿兩側之側壁210b流下之熔融玻璃MG在設置於成形體210之垂直下方之下方前端210c合流，聚集為一體，形成片狀玻璃SG。

從不產生失透及波筋之角度考慮，較佳為平滑地將熔融玻璃MG(熔融玻璃MG之流體難以停留)供給至如此之成形體210之溝槽部210a。特別是，對於液相溫度高、液相黏度接近於成形步驟時之熔融玻璃之黏度(成形黏度)，或者係液相黏度小於成形黏度之容易失透之玻璃，必須要避免熔融玻璃MG之流體停留在溝槽部210a。

成形體210之溝槽部210a沿著溝槽部210a之溝槽深度方向從上部具有溝槽寬度固定部分及溝槽寬度狹小部分。溝槽寬度固定部分係與溝槽深度方向之位置無關且溝槽寬度為固定之部分。溝槽寬度狹小部分係溝槽寬度向著溝槽深度方向階段性或連續性變窄之部分。從使熔融玻璃MG之流體平滑之方面考慮，溝槽寬度狹小部分較佳為溝槽寬度向著溝槽深度方向連續性變窄。溝槽寬度狹小部分相對於溝槽寬度固定部分之溝槽部而設置在溝槽深度方向之溝槽底面側。溝槽寬度狹小部分由平面狀之溝槽底面210d、及相對該溝槽底面210d傾斜之傾斜面210e而形成，傾斜面210e之區域在熔融玻璃MG流動之X方向隨著 遠離玻璃供給管106而減小。

另一方面，與成形體210之溝槽部210a連接之玻璃供給管106係移送管，其包括具有固定之流路剖面之玻璃供給管本體106a及設置在玻璃供給管本體106a之端部之板狀之端部106b。玻璃供給管本體106a之流路剖面呈圓形狀。又，作為玻璃供給管本體106a之流路剖面形狀之圓之直徑小於溝槽部210a之溝槽寬度固定部分之溝槽寬度。

如此，在溝槽部210a與玻璃供給管106連接之連接端部，溝槽部210a具有溝槽寬度向著溝槽深度方向階段性或連續性變窄之溝槽寬度狹小部分。在成形體210之熔融玻璃MG流動之X方向，該溝槽寬度狹小部分之溝槽寬度(在溝槽深度方向相同位置之溝槽寬度)隨著遠離玻璃供給管106而增大，變得與溝槽寬度固定部分之溝槽寬度相同。因此，溝槽寬度狹小部分之溝槽寬度越靠近玻璃供給管106越小，從而使從玻璃供給管106流通至溝槽部210a之熔融玻璃MG之流路剖面不會在與玻璃供給管106連接位置急劇擴大。

如圖3(b)所示，對應於玻璃供給管本體106a之圓形狀之剖面形狀中之溝槽底面20d附近之形狀設置有溝槽寬度狹小部分，因此能夠抑制從玻璃供給管106流經溝槽部210a之溝槽底面附近之熔融玻璃MG之流路剖面擴大之程度。進而，流經溝槽部210a之溝槽底面附近之熔融玻璃MG按照溝槽寬度狹小部分之剖面形狀而沿X方向前進，伴隨於此，溝槽寬度逐漸擴大，最終形成為溝槽寬度固定部分之溝槽寬度。即，從玻璃供給管106流經溝槽部210a之熔融玻璃MG逐漸地擴大流路剖面，因此難以產生熔融玻璃MG之停留。

圖4係表示不具有上述溝槽寬度狹小部分而具有先前之矩形形狀之剖面形狀之溝槽部210a'、及具有圓形狀之剖面形狀之玻璃供給管106'之關係之圖。與圖3(b)所示之實施形態相比，在圖4所示之示例中，在區域Y流動之熔融玻璃MG之流路剖面擴大之程度較大。因 此，從玻璃供給管106'流經溝槽部210a'之區域Y附近之熔融玻璃MG之流體容易停留。

(變化例)

圖5(a)、圖5(b)係表示具有與上述實施形態不同之溝槽部形狀之變化例。如圖5(a)所示，從溝槽部210a與玻璃供給管106連接之連接端之剖面來看，溝槽部210a具有設置於溝槽部210a之圖中上方之溝槽寬度固定部分、及設置於下方之溝槽寬度狹小部分。溝槽寬度狹小部分之剖面形狀為半圓弧形狀，其係對應於具有圓形狀之剖面形狀之玻璃供給管本體106a而由曲面210f而形成。又，如圖5(b)所示，溝槽部210a之曲面210f之區域越遠離玻璃供給管106(玻璃供給管本體106a)(越向X方向前進)，則曲面210f之區域越逐漸變窄。即，在成形體210之熔融玻璃MG之流動方向，溝槽寬度狹小部分之溝槽寬度隨著遠離玻璃供給管106而增大。

本變化例中，與上述之實施形態同樣，溝槽寬度狹小部分設置在溝槽寬度固定部分之溝槽部210a之溝槽深度方向之溝槽底面側，因此特別難以產生流經溝槽部210a之曲面210f附近之熔融玻璃MG之流體之停留。因此，本變化例難以產生玻璃之失透或異質坯料，可製造無波筋且板厚均勻之高品質玻璃板。

又，溝槽部210a之曲面210f之區域越遠離玻璃供給管106(玻璃供給管本體106a)(越向X方向前進)，則曲面210f之區域越變窄。因此，流經溝槽部210a之熔融玻璃MG之流路斷面逐漸擴大而變成溝槽寬度固定部分之流路剖面，因此難以產生熔融玻璃MG之流動之停留。因此，本實施形態難以產生玻璃之失透或異質坯料，可製造無波筋且板厚均勻之高品質玻璃板。

(玻璃板之特性、適用)

將本實施形態之玻璃板用於平板顯示器用玻璃板之情形時，可 以舉出按照具有以下之玻璃組成之方式來混合玻璃原料之示例。

含有下述成分之無鹼玻璃：SiO₂：50質量%~70質量%、Al₂O₃：0質量%~25質量%、B₂O₃：1質量%~15質量%、MgO：0質量%~10質量%、CaO：0質量%~20質量%、SrO：0質量%~20質量%、BaO：0質量%~10質量%、RO：5質量%~30質量%(其中，R係Mg、Ca、Sr以及Ba之總量)

再者，本實施形態中為無鹼玻璃，但玻璃基板亦可以係微量含有鹼金屬之微量含鹼玻璃。含有鹼金屬之情形時，R'₂O之總含量較佳為0.10質量%以上且0.5質量%以下、更佳為0.20質量%以上且0.5質量%以下(其中，R'係選自Li、Na以及K中之至少1種，並且係玻璃基板所含有之物質)。當然，R'₂O之總量可以低於0.10質量%。

又，使用本實施形態之玻璃板之製造方法之情形時，除了上述各成分之外，玻璃組成物還能夠含有0.01質量%~1質量%(較佳為0.01質量%~0.5質量%)之SnO₂、0質量%~0.2質量%(較佳為0.01質量%~0.08質量%)之Fe₂O₃，考慮到環境負荷，可以按照實質上不含有As₂O₃、Sb₂O₃以及PbO之方式調製玻璃原料。

又，近年來，為了實現平板顯示器之畫面顯示之進一步之高精細化，要求使用p-Si(低溫多晶矽)．TFT或氧化物半導體而非α-Si(非晶矽)．TFT之顯示器。此處，在p-Si(低溫多晶矽)TFT或氧化物半導體之形成步驟中，存在有比α-Si．TFT之形成步驟溫度高之熱處理步驟。因此，對於形成有p-Si．TFT或氧化物半導體之玻璃板要求其熱收縮率小。為了減小熱收縮率，較佳為提高應變點，但如上所述，應變點高 之玻璃傾向於液相溫度增高、液相黏度下降。即，上述液相黏度接近於成形步驟中之熔融玻璃之適合黏度。因此，為了抑制失透，更加強烈要求使熔融玻璃MG之流體不停留在成形體210之溝槽部210a。本實施形態以及變化例中，熔融玻璃MG之流體難以停留。因此，本實施形態之玻璃板之製造方法亦能夠適用於例如使用了應變點為655℃以上之玻璃之玻璃板。特別是在使用了適合於p-Si．TFT或氧化物半導體之應變點為655℃以上、應變點為680℃以上、進而應變點為690℃以上之玻璃之玻璃板之情形時，可利用本實施形態之玻璃板之製造方法，難以產生失透。

又，即使在使用了液相黏度為45000泊以上之玻璃、進而液相黏度為50000泊以上之玻璃、特別是液相黏度為60000泊以上之玻璃之玻璃板之情形時，亦能夠使用本實施形態之玻璃板之製造方法，難以產生失透。

將應變點為655℃以上或液相黏度為45000泊以上之玻璃用於玻璃板之情形時，可以舉出：作為玻璃組成，以質量%表示，例如玻璃板可含有以下成分。

較佳為含有如下成分，且質量比(SiO₂+Al₂O₃)/B₂O₃在7~20範圍之無鹼玻璃或微量含鹼玻璃。

SiO₂ 52質量%~78質量%

Al₂O₃ 3質量%~25質量%

B₂O₃ 3質量%~15質量%

RO(其中，R係選自Mg、Ca、Sr、以及Ba之玻璃板所含有之全部成分中之至少1種)3質量%~20質量%。

進而，為了更加提高應變點，較佳為質量比(SiO₂+Al₂O₃)/RO為7.5以上。進而，為了提高應變點，較佳為使β-OH值為0.1 mm^-1~0.3 mm^-1。進而，為了實現高應變點同時防止液相黏度下降，較佳為使 CaO/RO為0.65以上。考慮到環境負荷，可以按照實質上不含有As₂O₃、Sb₂O₃以及PbO來調製玻璃原料。

進而，除了上述成分之外，為了調節玻璃之各種各樣之物理特性、熔融、澄清、以及成形之特性，用於本實施形態之玻璃板之玻璃可以含有各種各樣之其它氧化物。作為如此之其它氧化物之示例並不限於以下物質，但可以舉出SnO₂、TiO₂、MnO、ZnO、Nb₂O₅、MoO₃、Ta₂O₅、WO₃、Y₂O₃以及La₂O₃。此處，液晶顯示器或有機EL顯示器等平板顯示器用玻璃板中，對氣泡之要求特別嚴格，因此較佳為上述氧化物中至少含有澄清效果大之SnO₂。

對於上述RO之供給源可以使用硝酸鹽或碳酸鹽。再者，為了提高熔融玻璃之氧化性，更期望以適合於步驟之比例使用硝酸鹽作為RO之供給源。

以上，對本發明之玻璃板之製造方法進行了詳細說明，但本發明並不限於上述實施形態，當然在不脫離本發明之主體思想之範圍內，可以進行各種各樣之改良及變更。

106‧‧‧玻璃供給管

106a‧‧‧玻璃供給管本體

106b‧‧‧管擴張部

210‧‧‧成形體

210a‧‧‧溝槽部

210b‧‧‧側壁

210c‧‧‧下方前端

210d‧‧‧溝槽底面

210e‧‧‧傾斜面

Claims (7)

1. 一種玻璃板之製造方法，其特徵在於，其係製造玻璃板之玻璃板之製造方法，其包括如下步驟：將玻璃原料熔解從而製作熔融玻璃；供給步驟，其將上述熔融玻璃通過移送管供給至成形體；以及成形步驟，其一面使上述熔融玻璃流向上述成形體之溝槽部一面利用溢流下拉法對上述熔融玻璃進行成形，從而製作片狀玻璃；其中在上述成形體之包含上述溝槽部與上述移送管連接之連接位置之上述溝槽部之部分中，上述溝槽部具有溝槽寬度向著上述溝槽部之深度方向階段性或連續性變窄之溝槽寬度狹小部分，上述溝槽寬度狹小部分之溝槽寬度在上述成形體之熔融玻璃流動方向隨著遠離上述移送管而變大，上述成形體之上述溝槽部在上述熔融玻璃流動方向之上述溝槽寬度狹小部分之下游側，具有溝槽寬度固定之第1溝槽寬度固定部分。
2. 如請求項1之玻璃板之製造方法，其中上述成形體之上述溝槽部在上述溝槽寬度狹小部分之上部，具有與上述溝槽部之深度方向之位置無關、且溝槽寬度為固定之第2溝槽寬度固定部分，上述溝槽寬度狹小部分設置在上述第2溝槽寬度固定部分之上述溝槽部之溝槽深度方向之溝槽底面側。
3. 如請求項2之玻璃板之製造方法，其中上述溝槽寬度狹小部分由平面狀之溝槽底面、及相對於上述溝槽底面傾斜之傾斜面而形成，上述傾斜面之區域在上述熔融玻璃流動方向隨著遠離上述移送管而變小。
4. 如請求項1至3中任一項之玻璃板之製造方法，其中上述移送管之剖面形狀為圓形狀，上述溝槽寬度狹小部分之上述溝槽寬度係對應於上述圓形狀，向著上述溝槽部之底面溝槽寬度係階段性或連續性變窄。
5. 如請求項1或2之玻璃板之製造方法，其中上述熔融玻璃之應變點為655℃以上。
6. 如請求項1或2之玻璃板之製造方法，其中上述熔融玻璃之液相黏度為45000泊以上。
7. 如請求項1或2之玻璃板之製造方法，其中上述玻璃板為平板顯示器用玻璃板。