TWI535471B

TWI535471B - 粒子線旋轉照射裝置及粒子線治療裝置

Info

Publication number: TWI535471B
Application number: TW102117173A
Authority: TW
Inventors: 青木隆介
Original assignee: 三菱電機股份有限公司
Priority date: 2013-02-07
Filing date: 2013-05-15
Publication date: 2016-06-01
Also published as: CN104968394A; US20150297918A1; JPWO2014122745A1; TW201431582A; US10004920B2; CN104968394B; EP2954931A4; JP5936718B2; EP2954931A1; WO2014122745A1

Description

粒子線旋轉照射裝置及粒子線治療裝置

本發明係關於一種在癌症治療等所使用的粒子線治療裝置，尤有關於一種可旋轉自如地繞著患者照射的粒子線旋轉照射裝置。

近年來，在以癌症治療為目的之放射線治療裝置中，一種使用陽子或重離子等之粒子線的癌症治療裝置(特稱為粒子線治療裝置)已在進行開發及建置。如一般所知，使用粒子線的粒子線治療，相較於X射線、伽瑪射線等之習知的放射線治療，更能集中地照射於癌症患部，而可在不影響正常細胞下進行治療。

藉由同步加速器(synchrotron)等之加速器(圓形加速器)使荷電粒子旋繞加速，且將加速至高能量的荷電粒子(主要為陽子或碳離子)從其旋繞軌道取出，而成為射束(beam)狀的荷電粒子(亦稱荷電粒子射束、粒子線)，係利用在以射束傳送系統運送而對預定的對象物進行照射的物理實驗、或癌症治療等的粒子線治療上。在藉由經加速的荷電粒子進行癌症治療之所謂的粒子線治療中，於治療時，為了避開重要臟器，或為了避免對於正常組織造成損傷等，一般係進行改變照射方向。為了從任意方向對患者進行照射，大多是設置粒子線旋轉照射裝置。粒子線旋轉照射裝置(亦簡稱為旋轉照射裝置)係具備搭載在旋轉機架(gantry)之照射粒子線的照射噴嘴。旋轉機架係構成為可使照射粒子線的照射噴嘴旋轉，且從任意的旋轉角度對患者照射荷電粒子射束。

在構成為使照射噴嘴旋轉，可從任意的旋轉角度對患者進行照射時，用來固定患者的治療台，因為必須要使其相對於旋轉的照射噴嘴固定，因此會成為突出於設於設備建物側的固定部側的構成。因此，雖設置出入用地板(access floor)，使進行治療的醫師或放射線技師等可隨時靠近患者進行作業，但該出入用地板不管旋轉機架的旋轉角度如何，都必須保持作為地板的功能。

如上所述，雖需要出入用地板，但由於出入用地板會與搭載於旋轉機架之照射噴嘴的通過區域產生干擾，因此照射噴嘴與出入用地板的干擾區域，在照射噴嘴通過時必須退避。因此，需要設置一種出入用地板，固定成僅在照射噴嘴通過出入用地板時才退避的出入用地板(以下稱為移動地板)。

例如，在專利文獻1中係揭示一種具備開閉式地板的粒子線旋轉照射裝置。第7圖係顯示習知型粒子線旋轉照射裝置的圖。設置於設備建物106的粒子線旋轉照射裝置係具備框架(frame)101、旋轉環(ring)102、旋轉驅動裝置103、機架滾輪(gantry roller)104、制動(break)裝置105、射束傳送機器107、照射噴嘴108、治療台109、移動地板110、及出入用地板115。框架101、旋轉環102、旋轉驅動裝置103及機架滾輪104係相互連結，藉由旋轉驅動裝置103旋轉，而使框架101旋轉。當照射噴嘴108藉由旋轉而接近移動地板110時，構成移動地板110之經過分割的移動地板，會一片一片地朝旋轉軸方向退避。隨著照射噴嘴108的旋轉進行，移動地板110即朝旋轉軸方向退避。

此外，在專利文獻2中，已揭示一種其他形態的粒子線旋轉照射裝置，即所謂的螺旋(corkscrew)型粒子線旋轉照射裝置。此螺旋型粒子線旋轉照射裝置係以2個偏向電磁鐵一度偏向成使射束傳送線相對於旋轉機架的旋轉軸成垂直，之後，再以2個偏向電磁鐵使荷電粒子射束偏向來引導荷電粒子射束，以使荷電粒子射束在相對於機架之中心軸為垂直的面內朝向等中心點(isocenter)(機架旋轉軸與射束軸的交點，且為照射目標的基準)。此種射束傳送線係可使旋轉機架相對於旋轉軸方向的長度縮短。另外，偏向電磁鐵通常為磁極為2個的2極電磁鐵。

[先前技術文獻]

[專利文獻]

專利文獻1：日本特開2001-259058號公報(該文獻第1圖、第3圖)

專利文獻2：日本特開2000-140134號公報(該文獻第1圖、第2圖)

茲使用第8圖來說明專利文獻1之習知型旋轉照射裝置70、與專利文獻2之螺旋型旋轉照射裝置80的不同點。習知的旋轉照射裝置70係具備具有3個偏向電磁鐵71a、71b、71c的射束傳送機器107。螺旋型旋轉照射裝置80係具備具有4個偏向電磁鐵71a、71b、71c、71d的射束傳送機器(射束傳送線)。第8圖中的符號72、73、74係分別為機架旋轉軸、機架外框、及等中心點。旋轉照射裝置70、80間之較大的不同，係機架旋轉軸72之方向的寬度，螺旋型旋轉照射裝置80中之旋轉軸方向的寬度L2，係遠小於習知之旋轉照射裝置70之旋轉軸方向的寬度L1。螺旋型旋轉照射裝置80係較習知型旋轉照射裝置70更為精簡，藉由採用螺旋型旋轉照射裝置80，可將粒子線治療裝置整體的設備面積縮小，在成本、工程面上極為有利。

專利文獻2之螺旋型粒子線旋轉照射裝置，雖在旋轉機架的旋轉軸方向變小，但照射噴嘴的形狀、及治療台的空間，均未與習知型粒子線旋轉照射裝置不同，因此繞著治療台設置之出入用地板的空間並未改變。因此，將專利文獻1的移動地板設置在專利文獻2之螺旋型粒子線旋轉照射裝置時，移動地板的退避空間就會消失，因此在螺旋型粒子線旋轉照射裝置中，無法採用專利文獻1之移動地板的技術。

本發明之目的在獲得一種粒子線旋轉照射裝置，即使是螺旋型粒子線旋轉照射裝置，也具備可在照射噴嘴移動時退避之移動地板。

本發明之粒子線旋轉照射裝置係具備：照射噴嘴，用以將荷電粒子射束照射於照射對象；框架，用以支撐照射噴嘴，並且以屬於荷電粒子射束之照射基準的等中心點為中心進行旋轉；照射噴嘴支撐體，設於框架的內周側，用以支撐照射噴嘴；移動地板，具有可朝以框架之旋轉軸為中心之圓周方向移動的滾輪；及移動地板軌道(rail)，設於框架之內周側的圓周方向，用以支撐滾輪；照射噴嘴支撐體及移動地板係分別具有可彼此裝卸的結合部。

依據本發明之粒子線旋轉照射裝置，由於當照射噴嘴接近移動地板時，移動地板與照射噴嘴即可經由照射噴嘴支撐體而一體化，且移動地板與照射噴嘴一同朝圓周方向移動，因此即使是螺旋型，也可將照射噴嘴移動時可退避的移動地板設置於框架內。

1‧‧‧照射噴嘴

2‧‧‧機架框架

3‧‧‧移動地板

4‧‧‧軸承環

5‧‧‧軸承滾輪

6‧‧‧移動地板滾輪

7‧‧‧移動地板軌道

8‧‧‧制動器

9‧‧‧結合部

10‧‧‧第1卡合部

11‧‧‧第2卡合部

12‧‧‧照射噴嘴支撐體

13‧‧‧出入用地板

14‧‧‧移動地板板台

15‧‧‧軸支撐部

16‧‧‧軸

17‧‧‧外周部

18‧‧‧導引部

19‧‧‧旋轉機架

20‧‧‧粒子線旋轉照射裝置

21‧‧‧射束傳送部

22a、22b、22c、22d、71a、71b、71c、71d‧‧‧偏向電磁鐵

23‧‧‧4極電磁鐵

25‧‧‧治療台

26‧‧‧接觸感測器

31‧‧‧荷電粒子射束

32‧‧‧X方向掃描電磁鐵

33‧‧‧Y方向掃描電磁鐵

34‧‧‧位置監控器

35‧‧‧射線量監控器

36‧‧‧射線量資料轉換器

37‧‧‧掃描電磁鐵電源

38‧‧‧照射管理裝置

39‧‧‧照射控制電腦

40‧‧‧照射控制裝置

41‧‧‧射束資料處理裝置

42‧‧‧觸發產生部

43‧‧‧光點計數器

44‧‧‧光點間計數器

45‧‧‧患者

46‧‧‧入射裝置

47‧‧‧出射裝置

51‧‧‧粒子線治療裝置

52‧‧‧射束產生裝置

53‧‧‧前段加速器

54‧‧‧荷電粒子加速器

58、58a、58b‧‧‧粒子線照射裝置

59‧‧‧射束傳送系統

70、80‧‧‧旋轉照射裝置

72‧‧‧機架旋轉軸

73‧‧‧機架外框

74‧‧‧等中心點

101‧‧‧框架

102‧‧‧旋轉環

103‧‧‧旋轉驅動裝置

104‧‧‧機架滾輪

105‧‧‧制動器裝置

106‧‧‧設備建物

107‧‧‧射束傳送機器

108‧‧‧照射噴嘴

109‧‧‧治療台

110‧‧‧移動地板

115‧‧‧出入用地板

L1、L2‧‧‧寬度

第1圖係顯示本發明之實施形態1之粒子線旋轉照射裝置的圖。

第2圖係本發明之實施形態1之粒子線治療裝置之概略構成圖。

第3圖係顯示第2圖之粒子線照射裝置之構成的圖。

第4圖係顯示本發明之實施形態1之移動地板的側面圖。

第5圖係顯示本發明之實施形態1之移動地板與移動地板軌道的圖。

第6圖係顯示本發明之實施形態1之移動地板之非干擾位置的圖。

第7圖係顯示習知型粒子線旋轉照射裝置的圖。

第8圖係習知型旋轉照射裝置與螺旋型旋轉照射裝置的比較圖。

(實施形態1)

第1圖係顯示本發明之實施形態1之粒子線旋轉照射裝置的圖。第2圖係本發明之實施形態1之粒子線治療裝置之概略構成圖，第3圖係顯示第2圖之粒子線照射裝置之構成的圖。第4圖係顯示本發明之實施形態1之移動地板的側面圖，第5圖係顯示本發明之實施形態1之移動地板與移動地板軌道的圖。第6圖係顯示本發明之實施形態1之移動地板之非干擾位置的圖。粒子線旋轉照射裝置20係具備：將荷電粒子射束31照射於患者45的照射噴嘴1；用以傳送荷電粒子射束31的射束傳送部21；及用以支撐照射噴嘴1及射束傳送部21並且旋轉的旋轉機架19。旋轉機架19係具備：機架框架2；移動地板3；軸承環4；軸承滾輪5；移動地板軌道7；及照射噴嘴支撐體12。機架框架2係支撐照射噴嘴1、及射束傳送部21的構造體。射束傳送部21係具有例如4個偏向電磁鐵22a、22b、22c、22d及複數個4極電磁鐵23。另外，在第1圖中，偏向電磁鐵22a雖無法從外部觀看，但以黑底留白的虛線來顯示。照射噴嘴1係搭載於粒子線照射裝置58中之旋轉機架19的構成機器，且為不包括例如後述之照射控制電腦39的部分。

射束傳送部21係在從包含旋轉機架19之旋轉軸與照射噴嘴1之照射軸之面偏移的位置，具有複數個偏向電磁鐵22a、22b、22c、22d。該偏向電磁鐵22a、22b、22c、22d的配置，係與第8圖的旋轉照射裝置80相同。包含旋轉機架19之旋轉軸與照射噴嘴1之照射軸的面，係包含第8圖中的機架旋轉軸72與等中心點74，且為與第8圖之紙面垂直的面(在此稱為射束傳送面)。若將第8圖之偏向電磁鐵71a、71b、71c、71d視為偏向電磁鐵22a、22b、22c、22d，則所有偏向電磁鐵22a、22b、22c、22d中之荷電粒子射束的射束路徑，係從射束傳送面偏移，而所有偏向電磁鐵22a、22b、22c、22d係配置成使其射束路徑從射束傳送面偏移。偏向電磁鐵22a的射束路徑，係彎曲成從射束傳送面偏移。因此，射束傳送部21係具有複數個偏向電磁鐵22a、22b、22c、22d，該等偏向電磁鐵22a、22b、22c、22d係配置成使荷電粒子射束之射束路徑一度從包含旋轉機架19之旋轉軸及照射噴嘴1之照射軸的射束傳送面偏移，又再度返回射束傳送面。

照射噴嘴支撐體12及移動地板3係具有供彼此結合的結合部。照射噴嘴支撐體12中係設有構成與移動地板3結合之結合部9的第1卡合部10，而移動地板3中則設有構成與照射噴嘴支撐體12結合之結合部9的第2卡合部11。照射噴嘴支撐體12係為了使移動地板3不論從順時針方向或逆時針方向的任何方向接近都可結合，因此在兩端部具有第1卡合部10。如第4圖所示，移動地板3係為了使照射噴嘴1不論從順時針方向或逆時針方向的任何方向接近都可結合，因此在兩端部具有第2卡合部11。

如第4圖、第5圖所示，移動地板3係具備：移動地板板台14；移動地板滾輪6；移動地板滾輪的軸16；支撐軸16的軸支撐部15；制止移動地板滾輪6之旋轉的制動器8；及前述之結合部9的第2卡合部11。移動地板3係設置成於以旋轉機架19之旋轉軸為中心之圓周方向移動。具體而言，移動地板滾輪6之軸16係與旋轉機架19的旋轉軸平行設置，以使移動地板3之移動地板滾輪6可於旋轉機架19的圓周方向旋轉。機架框架2中係具有成為移動地板滾輪6之導引的移動地板軌道7，俾使照射噴嘴1於旋轉機架19之圓周方向移動時，移動地板3朝旋轉機架19的圓周方向退避。

如第5圖所示，為使移動地板3於圓周方向移動時，移動地板3不會從機架框架2脫軌，在移動地板軌道7中係於與移動地板滾輪6之外周部(滾輪面)17相對向的兩側具有導引部18。因此，移動地板軌道7係藉由設於兩側的導引部18，而具有防止移動地板滾輪6脫離的功能。移動地板滾輪6的外周部17係一面旋轉於導引部18之間一面移動。當照射噴嘴1位於不與移動地板3產生干擾的位置，亦即位於第6圖所示之非干擾位置時，係位於與設置有治療台25之出入用地板13相同的高度。當移動地板3位於該非干擾位置時，醫師或放射線技師等即可自由地移動於出入用地板13及移動地板3。

茲使用第2圖及第3圖來說明粒子線治療裝置51及粒子線照射裝置58。粒子線治療裝置51係具備射束產生裝置52、射束傳送系統59、及粒子線照射裝置58a、58b。射束產生裝置52係具有離子源(未圖示)、前段加速器53、及荷電粒子加速器54。粒子線照射裝置58b係設置於旋轉機架19(參照第1圖)以構成粒子線旋轉照射裝置20。粒子線照射裝置58a係設置於不具有旋轉機架19的治療室。射束傳送系統59的作用係在於荷電粒子加速器54與粒子線照射裝置58a、58b的聯繫。射束傳送系統59的一部分係設置於旋轉機架(未圖示)，而在該部分中係具有複數個偏向電磁鐵22a、22b、22c、22d(參照第1圖)。

在離子源所產生之屬於陽子線等之粒子線的荷電粒子射束31，係在前段加速器53被加速，而從入射裝置46入射至荷電粒子加速器54。荷電粒子加速器54係例如同步加速器。荷電粒子射束31係被加速至預定的能量。從荷電粒子加速器54之出射裝置47射出的荷電粒子射束31，係經由射束傳送系統59而被傳送至粒子線照射裝置58a、58b。粒子線照射裝置58a、58b係將荷電粒子射束31照射於患者45的患部。粒子線照射裝置的符號係統一使用58，惟在要區別說明時，則使用58a、58b。

產生於射束產生裝置52且加速至預定能量的荷電粒子射束31，係經由射束傳送系統59而被導引至粒子線照射裝置58。在第3圖中，粒子線照射裝置58係具備：朝屬於與荷電粒子射束31垂直之方向之X方向及Y方向掃描荷電粒子射束31的X方向掃描電磁鐵32及Y方向掃描電磁鐵33；位置監控器(monitor)34；射線量監控器35；射線量資料轉換器36；射束資料處理裝置41；掃描電磁鐵電源37；及控制粒子線照射裝置58的照射管理裝置38。照射管理裝置38係具備照射控制電腦39及照射控制裝置40。射線量資料轉換器36係具備觸發(trigger)產生部42、光點計數器(spot counter)43、及光點間計數器44。另外，在第3圖中，荷電粒子射束31的行進方向係-Z方向。

X方向掃描電磁鐵32係將荷電粒子射束31朝X方向掃描的掃描電磁鐵，而Y方向掃描電磁鐵33係將荷電粒子射束31朝Y方向掃描的掃描電磁鐵。位置監控器34係檢測射束資訊，該射束資訊係用以運算經X方向掃描電磁鐵32及Y方向掃描電磁鐵33所掃描之荷電粒子射束31所通過之射束的通過位置(重心位置)及大小。射束資料處理裝置41係根據由位置監控器34所檢測出之複數個類比信號所構成的射束資訊來運算荷電粒子射束31的通過位置(重心位置)及大小。此外，射束資料處理裝置41係產生顯示荷電粒子射束31之位置異常或大小異常的異常檢測信號，且將該異常檢測信號輸出至照射管理裝置38。

射線量監控器35係檢測荷電粒子射束31的射線量。照射管理裝置38係根據由未圖示的治療計劃裝置所作成的治療計劃資料，來控制患者45之患部中之荷電粒子射束31的照射位置，並以射線量監控器35測量，當在射線量資料轉換器36經轉換為數位資料的射線量達到目標射線量時，即將荷電粒子射束31朝下一個照射位置移動。掃描電磁鐵電源37係根據從照射管理裝置38所輸出之對於X方向掃描電磁鐵32及Y方向掃描電磁鐵33的控制輸入(指令)來使X方向掃描電磁鐵32及Y方向掃描電磁鐵33的設定電流變化。

在此，將粒子線照射裝置58的掃描照射方式設為在改變荷電粒子射束31之照射位置時，不使荷電粒子射束31停止的光柵(raster)掃描照射方式，且為如光點掃描照射方式般地，使射束照射位置陸續移動於光點位置間的方式。光點計數器43係用以測量荷電粒子射束31之射束照射位置停留期間的照射射線量。光點間計數器44 係用以測量荷電粒子射束31之射束照射位置移動期間的照射射線量。觸發產生部42係在射束照射位置中之荷電粒子射束31之射線量達到目標照射射線量時，用以產生射線量滿載信號者。

接著說明移動地板3的動作。照射噴嘴1隨著旋轉機架19的旋轉而移動，直到照射噴嘴支撐體12之第1卡合部10接觸移動地板的第2卡合部11為止，移動地板3係位於與出入用地板13相同高度的位置(非干擾位置)，且藉由移動地板滾輪之制動器8的作用，相對於旋轉機架19被固定。在移動地板3中，係例如設有檢測第1卡合部10與第2卡合部11已接觸的接觸感測器26。接觸感測器26係可使用壓力感測器、或使用紅外線檢測距離的距離感測器等。

照射噴嘴1接近移動地板3而結合部9(對接(docking)用的輔助具)接觸時，由接觸感測器26檢測接觸狀態，而將制動器8設為解除狀態，使移動地板滾輪6可旋轉。再者，當照射噴嘴1移動時，移動地板3與照射噴嘴支撐體12連結，藉由旋轉機架19之驅動馬達(未圖示)的驅動力使移動地板3於旋轉機架19的圓周方向移動。移動地板3與照射噴嘴支撐體12連結時，由於移動地板3係與照射噴嘴1一同於旋轉機架19的圓周方向移動，因此移動地板3可一面將其與照射噴嘴1的距離保持為固定一面退避。移動地板3係沿著移動地板軌道7於圓周方向退避，此時持續地與照射噴嘴1一體化。當移動地板3 退避中時，移動地板3雖相對於出入用地板13傾斜，但移動地板3係藉由移動地板軌道7的導引部18保持而不會脫落。

接著說明移動地板3從退避狀態返回非干擾位置的動作。當從移動地板3與照射噴嘴1成為一體的退避狀態，使照射噴嘴1逆旋轉時，移動地板3即因為移動地板3的自體重量而自然地返回至與出入用地板13相同高度的位置。當返回與出入用地板13相同高度的位置，而接觸感測器26檢測出第1卡合部10與第2卡合部11之間的非接觸狀態時，制動器8即以不使移動地板滾輪6旋轉之方式，將移動地板3相對於旋轉機架19予以固定。

茲說明移動地板3處在退避狀態時，醫師或放射線技師可涉足踩踏的地板。如第1圖所示，照射噴嘴支撐體12係具有供第1卡合部10設置的板狀平面部，而該平面部係於照射噴嘴1位於旋轉機架的下側(下部)時，具有可乘載醫師或放射線技師之地板的作用。照射噴嘴1來到旋轉機架19之旋轉軸的正下方時，照射噴嘴支撐體12的平面部係成為與出入用地板13相同的高度，與第6圖所示之非干擾位置的狀態同樣地，醫師或放射線技師等可自由地移動於出入用地板13及移動地板3。此時移動地板3亦與照射噴嘴1一體化，且處於退避狀態。移動地板3處於退避狀態，而照射噴嘴支撐體12之平面部與出入用地板13未成為相同高度時，移動地板3及照射噴嘴支撐體12的平面部雖相對於出入用地板13成傾斜，但在角度平緩的狀態下，可涉足踩踏在移動地板3或照射噴嘴支撐體12。

另外，雖以接觸感測器26搭載於移動地板3之例進行了說明，但接觸感測器26未搭載於移動地板3，而以手動方式來操作移動地板3的制動器8亦可。通常，醫師或放射線技師等係於使旋轉機架19旋轉之前，位於離開移動地板3的位置。使旋轉機架19旋轉時，醫師或放射線技師等係以手動方式解除制動器8。制動器8的解除時機，係旋轉機架19開始旋轉之前。此外，制動器8的固定動作時機，係在移動地板3返回非干擾位置，且旋轉機架19的旋轉停止之後。

實施形態1的粒子線旋轉照射裝置20的移動地板3係可藉由照射噴嘴支撐體12的結合部9而連結，因此照射噴嘴1移動時，照射噴嘴1與移動地板3會成為一體而於圓周方向移動，藉此可使移動地板3從照射噴嘴1退避。實施形態1的粒子線旋轉照射裝置20，與移動地板3於旋轉機架19之旋轉軸方向退避的習知方式有所不同，而是移動地板3於旋轉機架19的圓周方向退避，因此可將照射噴嘴1移動時可退避的移動地板3，設置於旋轉機架19內。實施形態1的粒子線旋轉照射裝置20，由於可將照射噴嘴1移動時可退避的移動地板3設置於旋轉機架19內，因此醫師或放射線技師等可將腳踩踏在移動地板3而在旋轉機架19的內部作業。當在螺旋型粒子線旋轉照射裝置無法設置移動地板3之情形下，醫師或放射線技師等在旋轉機架作業時，係無法進入旋轉機架19的裡側，然而，在實施形態1的粒子線旋轉照射裝置20中因為具備照射噴嘴1移動時可退避的移動地板3，因此醫師或放射線技師等在旋轉機架19作業時，可進入旋轉機架19的裡側。

由於實施形態1的粒子線旋轉照射裝置20係具備照射噴嘴1移動時可退避的移動地板3、及具有平面部的照射噴嘴支撐體12，因此即使照射噴嘴1為360度的任意角度，醫師或放射線技師等在旋轉機架19作業時，仍可進入旋轉機架19的裡側，將腳踩踏在移動地板3或照射噴嘴支撐體12的平面部而在旋轉機架19的內部進行作業。

實施形態1的粒子線旋轉照射裝置20係具備：將荷電粒子射束31照射於照射對象(患者45)的照射噴嘴1；支撐照射噴嘴1，並且以屬於荷電粒子射束31之照射基準的等中心點為中心旋轉的框架(機架框架2)；設於框架(機架框架2)之內周側，用以支撐照射噴嘴1的照射噴嘴支撐體12；具有可朝以框架(機架框架2)之旋轉軸為中心之圓周方向移動之滾輪(移動地板滾輪6)的移動地板3；及設於框架(機架框架2)之內周側之圓周方向，用以支撐滾輪(移動地板滾輪6)的移動地板軌道7；照射噴嘴支撐體12及移動地板3係分別具有可彼此裝卸的結合部9，因此當照射噴嘴接近移動地板時，即可經由照射噴嘴支撐體而使移動地板與照射噴嘴一體化，且使移動地板與照射噴嘴一同朝圓周方向移動，即使是螺旋型，也可將照射噴嘴1移動時可退避的移動地板3設置於旋轉機架19內。

實施形態1之粒子線治療裝置51係具備：用以產生荷電粒子射束31，且以加速器(荷電粒子加速器54)將此荷電粒子射束31加速的射束產生裝置52；將經由加速器(荷電粒子加速器54)加速的荷電粒子射束31進行傳送的射束傳送系統59；將經由射束傳送系統59傳送的荷電粒子射束31照射於照射對象(患者45)的照射噴嘴1；及搭載有照射噴嘴1的粒子線旋轉照射裝置20，因此當照射噴嘴接近移動地板時，移動地板與照射噴嘴即可經由照射噴嘴支撐體而一體化，且移動地板與照射噴嘴一同朝圓周方向移動，即使是螺旋型，也可將照射噴嘴1移動時可退避的移動地板3設置於旋轉機架19內。