TWI523676B - 選擇性地從液體移除溶解氣體的系統 - Google Patents

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Description

選擇性地從液體移除溶解氣體的系統
一般而言，本發明係關於利用於濕式清洗半導體裝置中的裝置、系統及方法。特定言之，本發明係關於一種可從液體清除非所要之氣體的系統。
微電子晶片(諸如積體電路)由半導體材料的相當大晶圓製成。此程序通常涉及包含以下之多個連續步驟：光微影產生一蝕刻遮罩；蝕刻由該遮罩定義之一層材料；透過濕式及乾式化學技術之一些組合而移除該光微影遮罩；在進一步處理之前移除氧化物層；沈積材料層；及漂洗以移除殘餘化學物。該光微影遮罩由稱為光阻的一聚合材料形成。在已移除該光阻遮罩之後，通常執行一最終清洗步驟，稱為漂洗或濕式清洗。
去離子水(DI水)(即，超純水)因其使用於此漂洗半導體裝置中而已知。已知防止裝置之任何金屬腐蝕及污染。可期望DI水含有非常低位準之溶解氣體(例如，氮氣、氧氣及二氧化碳)。可使用脫氣系統以從DI水移除溶解氣體。
可使用稀釋氫氟酸以從矽表面移除氧化物層。蝕刻液體中之氧氣可使矽進一步氧化，其可導致移除比所要量更多的二氧化矽。而對在建立稀釋之氫氟酸中使用的氫氟酸脫氣可最小化額外二氧化矽的移除。
當前真空脫氣系統包含隔膜接觸件及水環式真空泵。水環式真空泵可需要額外水供應。當前基於隔膜之真空脫氣 系統具有有限壽命，因此其等可能需要每隔幾年更換。
一些當前脫氣系統位於產生DI水之位點。在此等系統中，DI水可透過管道而運輸至使用DI水的位置。DI水管道可增加DI水中的氧氣濃度量，因此對許多半導體應用必需之低位準氧氣濃度有折衷。氧氣透過管道之擴散亦可限制程序穩定性，此係因為DI水中之氧氣濃度取決於水在管道中之整體滯留時間。
在一態樣中，本發明之特徵為一種選擇性地從液體清除溶解氣體之系統。該系統包含一第一接觸件，其包含兩個第一接觸件入口及兩個第一接觸件出口。該第一接觸件在該第一接觸件之一第一入口處與一液體源流體連通，且在該第一接觸件之一第二入口處與一惰性氣體源流體連通。該第一接觸件之該第二入口接收從該液體源清除氣體之一第一部分的惰性氣體。該第一部分清除之氣體在該第一接觸件之一第一出口處離開該第一接觸件。該系統亦包含一第二接觸件，其包含兩個第二接觸件入口及兩個第二接觸件出口。該第二接觸件與該第一接觸件之一第二出口流體連通，且在該第二接觸件之一第二入口處與該惰性氣體源流體連通。該第二接觸件之該第二入口接收從該液體源清除一第二部分之氣體的惰性氣體。該第二部分之清除氣體在該第二接觸件之一第一出口處離開該第二接觸件。
在一些實施例中，該系統包含一液體噴射真空泵，其經由a)與該真空泵之至少一入口流體連通的該第二接觸件之 一第二出口及b)與該第一接觸件之該第一入口流體連通的該真空泵的一出口而與該第二接觸件流體連通。
在一些實施例中，該第一接觸件包含複數個第一接觸件入口及複數個第一接觸件出口。該液體源及該惰性氣體與該複數個第一接觸件入口之一者或多者流體連通。
在一些實施例中，該第二接觸件包含複數個第二接觸件入口及複數個第二接觸件出口。該複數個第二接觸件入口之一者或多者與該複數個第一接觸件出口之一者或多者及該惰性氣體源流體連通。
在一些實施例中，該液體噴射真空泵對離開該第二接觸件之該第二出口的流體加壓。在一些實施例中，該加壓流體之一部分使用為該液體噴射真空泵之一激發液體。在一些實施例中，該惰性氣體之一部分包括一惰性圍包氣體。在一些實施例中，該第一部分之清除氣體或該第二部分之清除氣體包括一惰性圍包氣體。
在一些實施例中，該系統包含一外殼，其圍繞該第一接觸件及該第二接觸件的至少一部分，該外殼係具有低滲透性的材料。在一些實施例中，用一惰性氣體沖洗該外殼。在一些實施例中，該惰性氣體係從該液體源清除之氣體之該第一部分。
在一些實施例中，該系統包含複數個接觸件，每一者包含兩個接觸件入口及兩個接觸件出口。該複數個接觸件流體連通，使得該複數個接觸件之一第三接觸件之一第一入口與該第二接觸件之該第二出口流體連通，該複數個接觸 件之每一第一出口與該複數個接觸件之一者之一第一入口流體連通，且該複數個接觸件之各者之一第二入口與該惰性氣體源流體連通。該複數個接觸件之各者之該第二入口接收從該液體源清除氣體之一部分的惰性氣體，清除之氣體之每一部分在該複數個接觸件之各者之一第二出口處離開該複數個接觸件之各者。
在一些實施例中，該系統包含一液體噴射真空泵，其經由a)與該液體噴射真空泵之至少一入口流體連通的該最後接觸件之一第二出口，及b)與該第一接觸件之該第一入口流體連通的該液體噴射真空泵之一出口而與該複數個接觸件之一最後接觸件流體連通。
在一些實施例中，藉由將額外惰性氣體供應至該最後接觸件之一第二入口而控制該液體噴射真空泵之一真空位準。該惰性氣體清除該第一氣體之一額外部分。在一些實施例中，該最後接觸件進一步包括一第三入口，該第三入口與一額外氣體源流體連通，使得該最後接觸件之該第二出口處的流體包含所要濃度之額外氣體。在一些實施例中，藉由改變流動至該液體噴射真空泵之水、停用該液體噴射真空泵或啟用該液體噴射真空泵而控制該液體噴射真空泵之一真空位準。
在一些實施例中，該系統進一步包括一個或多個感測器，以量測在該第二接觸件之該第一出口處、該第二接觸件之該第二出口處或該第二接觸件之該第一出口及該第二出口兩者處的氣體濃度，該氣體實質上類似於該清除氣 體。
在一些實施例中，該系統包含一控制器，以基於量測之濃度，藉由以下而控制該第二接觸件之該第二出口處的氣體濃度：a)經由該第二接觸件入口之該第二入口將該清除氣體輸入至該第二接觸件中；b)改變供應至該第一接觸件及該第二接觸件之惰性氣體量；或c)其等之任何組合。
在一些實施例中，該系統包含一第三接觸件，其包含兩個入口及一出口。該第三接觸件在該第三接觸件之該第一入口處與一第二液體源流體連通，在該第三接觸件之該第二入口處與惰性氣體源流體連通，且在該第三接觸件之出口處與該第一接觸件流體連通。該第三接觸件之該第一入口接收濕潤該惰性氣體的第二液體源。該第一接觸件接收在該第一接觸件之該第二入口處濕潤的惰性氣體。
在一些實施例中，該第一接觸件包含一第三入口。該第三入口與一第二液體源流體連通。該第三入口基於在該第一接觸件之該第一入口處的該液體源的濃度而接收一第二液體。
在另一態樣中，本發明之特徵為一種選擇性地從液體清除溶解氣體之方法。該方法涉及將一液體源及一惰性氣體供應至一第一接觸件，以從該液體源清除一氣體之一第一部分。該方法亦涉及將該惰性氣體及該第一接觸件之一輸出供應至一第二接觸件，以從該液體源清除該氣體之一第二部分。
在一些實施例中，該方法涉及將該第二接觸件之一輸出 供應至一液體噴射真空泵，以從一第二接觸件輸出清除溶解的惰性氣體，且將該液體噴射真空泵之一輸出供應至該第二接觸件，以從該液體源清除該氣體之一第三部分。
在一些實施例中，該方法涉及對經由該液體噴射真空泵而離開該第二接觸件的流體加壓。
在一些實施例中，該方法涉及將該加壓的流體之一部分供應至該液體噴射真空泵，以用作該液體噴射真空泵之一激發液體。
在一些實施例中，該方法涉及將一第二氣體供應至該惰性氣體，以從該液體源清除該氣體之一第三部分。
在一些實施例中，該方法涉及控制該第二接觸件之一真空位準，以從該液體源清除該氣體之一第三部分。
在一些實施例中，該方法涉及將該惰性氣體及該第二接觸件之一輸出供應至複數個接觸件之一第三接觸件，將該複數個接觸件之各者之一輸出供應至該複數個接觸件之一接觸件之一輸入處，使得該第一接觸件、該第二接觸件及該複數個接觸件連接，且將該惰性氣體供應至該複數個接觸件之各者，該惰性氣體從該複數個接觸件之各者清除氣體之一部分。
在一些實施例中，該方法涉及將該複數個接觸件之一最後接觸件之一輸出供應至一液體噴射真空泵以從該液體源清除該第一氣體之一額外部分。
在一些實施例中，該方法涉及將額外惰性氣體供應至該最後接觸件，以控制該液體噴射真空泵之一真空位準。在 一些實施例中，該方法涉及將一額外氣體源供應至該最後接觸件之一輸入處，使得在該最後接觸件之輸出處的流體包含所要濃度之額外氣體。
在一些實施例中，該方法涉及藉由改變流動至該液體噴射真空泵之水、停用該液體噴射真空泵或啟用該液體噴射真空泵而控制該液體噴射真空泵之一真空位準。在一些實施例中，該方法涉及量測在該第二接觸件之輸出處的氣體濃度。該氣體實質上類似於該清除氣體。
在一些實施例中，該方法涉及基於量測的濃度，藉由以下而控制該第二接觸件之該輸出處的氣體濃度：a)將該清除之氣體輸入至該第二接觸件中；b)改變供應至該第一接觸件及該第二接觸件之惰性氣體量；或c)其等之任何組合。
在一些實施例中，該方法涉及將一第二液體源及該惰性氣體供應至一第三接觸件，以濕潤該惰性氣體，且將該第三接觸件之輸出供應至該第一接觸件，使得該第一接觸件接收該濕潤的惰性氣體。在一些實施例中，該方法涉及基於該第一接觸件處的液體源之濃度而將一第二液體源供應至該第一接觸件。
本發明之一些優點係與習知系統相比較的較高壽命及用於維護的較少努力或沒有用於維護的努力(例如，無需維護)。例如，當前系統可需要至多每兩年交換的隔膜接觸件。本發明之進一步優點包含惰性氣體的低消耗、較低成本及小的大小。例如，可達成使惰性氣體消耗減小到 1/5。
更進一步優點是可使用離開該第一接觸件的惰性氣體作為脫氣系統的氮封(nitrogen blanket)，因此減少透過接觸件壁或管道而進入液體中的氧氣反向擴散。更進一步優點是可避免液體源蒸發。
上文描述之本發明之優點連同進一步的優點可參考結合附圖的以下描述而更好理解。圖式並非必需按比例繪製，取而代之一般係為強調繪示本發明之原理。
一般概述而言，選擇性地從液體清除氣體之一系統可包含兩個或多個接觸件。每一接觸件清除氣體之一部分。該系統可包含一升壓泵，以對最後接觸件之出口液體的壓力升壓。該系統亦可包含一液體噴射真空泵，其可利用該加壓出口液體之一部分作為一激發流體。在具有一液體噴射真空泵的雙接觸件系統中，該第一接觸件以比該第二接觸件高的一壓力運作，且該液體噴射真空泵可將氣體及液體從該第二接觸件循環回至該第一接觸件中，因此運作如一真空源。
圖1係選擇性地從液體清除氣體之一系統100之一例示性實施例之一方塊圖。該系統100具有兩個接觸件B1a及B1b，以清除非所要之氣體。一液體入口120(即，液體源)經由受控閥V3及V6a而與一第一接觸件B1a流體連通，以將一液體供應至該第一接觸件B1。一惰性氣體入口110(即，一氣體源)經由受控氣體閥Vx1a至Vx6a、V21a、 V22a及V24a而與該第一接觸件B1a流體連通，以將一惰性氣體供應至該第一接觸件B1a。將該液體及該惰性氣體供應至該第一接觸件B1a導致該惰性清除氣體與該液體直接接觸。由於液體中非所要之氣體的差異局部壓力，該非所要氣體之一第一部分轉變成一清除氣體，且經由與V28a及V4a流體連通的出口釋放。
在多種實施例中，該液體係去離子水(DI水)，氟化氫(HF)、DI水及HF之一混合物、酸、鹼及/或溶劑。在多種實施例中，該惰性氣體係氮氣(N2)、氫氣(H)、氬氣(Ar)及/或稀有氣體。在多種實施例中，該非所要氣體係氧氣(O)及/或二氧化碳(CO2)。
該第一接觸件B1a經由可變氣體閥V6b而與一第二接觸件B1b流體連通，以將已清除該第一部分非所要氣體的液體供應至該第二接觸件B1b。該惰性氣體入口110可經由可變氣體閥Vx1b至Vx6b、V21b及V24b而與該第二接觸件B1b流體連通，以將該惰性氣體供應至該第二接觸件B1b。將來自該第一接觸件B1a之液體及該惰性氣體供應至該第二接觸件B1b導致清除該液體中之第二部分非所要的氣體。
在一些實施例中，該第二接觸件B1b經由可變閥V6c而與一第三接觸件B1c流體連通，以供應已清除第一及第二部分非所要氣體的液體。將來自該第二接觸件B1b的液體供應至該第三接觸件B1c導致清除該液體中之第三部分非所要的氣體。在一些實施例中，串聯連接任何數目之接觸 件。串聯連接之每一額外接觸件可清除該液體中待清除的非所要氣體之一額外部分，使得清除所要量的非所要氣體。
在一些實施例中，一泵P2與該最後接觸件流體連通，待淨化之液體行進通過該最後接觸件。第二接觸件至最後接觸件可以低於該第一接觸件的壓力操作。該泵P2從該最後接觸件汲取出液體，且將該液體之一部分饋送至一噴射真空泵Vxx。該噴射真空泵Vxx從該最後接觸件汲取出氣體。汲取出之該氣體與操作該噴射真空泵Vxx所需之流體一起輸入至第二接觸件至最後接觸件中，允許該噴射真空泵Vxx運轉為一真空源。圖1中展示之實施例具有一液體噴射真空泵Vxx。當在壓力之下用惰性氣體進行清除時，該惰性氣體之一部分在該液體中溶解。該液體噴射真空泵Vxx可減小該液體中惰性氣體之飽和度，且防止液體中的氣泡。該泵P2可以使用於一處理工具中的必要壓力供應該出口液體。
在包含該第二接觸件B1b之實施例中，該第二接觸件B1b可與該液體噴射真空泵Vxx流體連通。在包含該第三接觸件B1c之實施例中，該第三接觸件B1c可與一液體噴射真空泵Vxx流體連通。該液體噴射真空泵Vxx從該最後接觸件汲取出氣體，且將該汲取出的氣體與操作該泵所需之流體一起饋送至其他接觸件中。例如，在具有該第三接觸件B1c之實施例中，從第三接觸件B1c汲取出之氣體及液體被循環至該第二接觸件B1b。循環從該第三接觸件B1c汲取 出之氣體允許該第二接觸件B1b及該第三接觸件B1c將從該液體清除甚至更多非所要的氣體。一液體噴射真空泵比其他真空泵有利，此係因為其係由液體驅動，沒有氣體從該真空泵洩漏出。液體噴射真空泵之另一優點係容易維護，與其他真空泵相比，可為完全無需維護的。可在沒有使用額外水源之下在該系統內實施圖1中展示之液體噴射真空。在一些實施例中，可控制該液體噴射真空泵之一真空位準。可藉由改變流動至液體噴射真空泵的水、停用該液體噴射真空泵及/或啟用該液體噴射真空泵而控制該液體噴射真空泵之真空位準。在一些實施例中，該第三接觸件B1c與該惰性氣體入口110直接連通。
該第一接觸件B1a、該第二接觸件B1b及該第三接觸件B1c可為填料塔柱。填料塔柱之一優點在於液體及氣體兩者可輸入至該接觸件中，且可直接接觸。填料塔柱之另一優點在於可使用稀釋之HF或濃縮之HF。在一些實施例中，該填料塔柱之壁包含具有一低擴散係數或一特殊塗層之至少一者的材料。多個接觸件之一優點在於可使用較少惰性氣體。在一些實施例中，可使所需之該惰性氣體減少到1/5。在一些實施例中，該等接觸件由一外殼圍繞，且來自該等接觸件之出口氣體用作一惰性圍包氣體。在一些實施例中，該外殼具有一材料，其具有低滲透性。在一些實施例中，沖洗該外殼。可用從該等接觸件沖洗之氣體沖洗該外殼。在一些實施例中，額外惰性氣體使用為一惰性圍包氣體。該惰性圍包氣體係有利的，此係因為其被低含 量之非所要物種的氣體圍繞該等接觸件，因此最小化反向擴散至該脫氣的液體中、接觸件壁或進入液體管道的非所要之氣體物種。
該系統100包含複數個感測器，諸如M5a、M5b、PR3、PR4a、PR8、FR21及Q1。該等感測器可用於監測及/或控制諸如氣體及液體之流速或壓力或經過該系統之流體之類型的參數。該感測器Q1可監測該出口中非所要的溶解氣體。該系統100包含液位感測器LAH、LAL、L1a、L2a、L1b、L2b及L1c，以監測及/或控制該等接觸件中之液體液位。在一些實施例中，一控制器(未作圖式)基於由該複數個感測器之一者或多者進行的量測而控制該泵P2之壓力、惰性氣體之流動、流動至接觸件中及在接觸件之間流動之液體以及真空泵。在一些實施例中，該控制器與可變閥Vx1a至Vx6a、V21a、V22a及V24a、Vx1b至Vx6b、V21b及V24b連通，以調整惰性氣體之流速。在一些實施例中，該控制器與該等可變閥V6a、V6b及V6c連通，以調整流動至該第一接觸件B1a中及在該第一接觸件B1a、該第二接觸件B1b與該第三接觸件B1c之間流動的液體。在一些實施例中，該第一接觸件B1a、該第二接觸件B1b及該第三接觸件B1c中之液體液位係恆定的。
在一些實施例中，該第一接觸件B1a具有控制及/或監測液體液位之一旁路單元，該旁路單元包含感測器LAHa、L1a、L2a及LALa。該等感測器可與一控制器或一控制模組連通，以允許自動控制。在一些實施例中，該第二接觸 件B1b具有包含感測器LAHb、L1b、L1a及LALb的一旁路單元。在一些實施例中，該第三接觸件具有液位感測器L1c、LAHc及LALc。
在一些實施例中，該惰性氣體用於使該液體富含惰性氣體。在一些實施例中，使用多個氣體入口。在一些實施例中，該惰性氣體用於清除一種以上非所要之氣體。例如，二氧化碳可擴散穿過可用於分配DI水的管道中的塑膠。在另一實例中，為用鋁金屬化來漂淨水，期望移除氧氣及二氧化碳兩者。
在一些實施例中，一第三氣體與該惰性氣體混合以在該系統之出口處達成液體中該第三氣體的所要濃度。在一些實施例中，一第三氣體選擇性地引導至該系統中所有接觸件的一子組。在一些實施例中，一額外接觸件在該系統之出口處液體連通，以使該輸出液體富含一第三氣體。
在一些實施例中，控制一個或多個接觸件之真空位準，使得控制該輸出液體中的惰性氣體或第三氣體之量。控制該輸出液體中之惰性氣體或第三氣體之量可控制用於特殊目的之液體含量。
在該系統之操作期間，該惰性氣體與該液體源之間之接觸可導致該液體源之一部分蒸發。例如，當該液體源係用水稀釋之HF時，該水可以比該HF蒸發更快的速率蒸發，導致用水稀釋之HF中HF濃度升高。隨著該HF稀釋的水散佈經過兩個或多個接觸件，該水可在進入每一連續接觸件時進一步蒸發。該HF濃度可更進一步升高。在一些實施例 中，基於該液體源的量測濃度，額外液體可添加至該等接觸件之一或多者。例如，對於HF稀釋水的一液體源，水可添加至該等接觸件之一或多者。
可在一接觸件之入口處及/或在一接觸件之出口處量測液體源之濃度。例如，可在接觸件B1、B2及/或B3之入口處量測該液體源，如上文圖1中所描述。供應至該接觸件之額外液體的量可基於該等量測。
在一些實施例中，該惰性氣體被濕潤。在一些實施例中，該惰性氣體流經一濕潤級。該濕潤級可流體連接至該系統之一第一接觸件。在一些實施例中，該濕潤級係接收該惰性氣體及一第二液體以濕潤該惰性氣體的一接觸件。該第二液體可為水。在一些實施例中，該濕潤級可為一氣泡柱。
圖2A係展示DI水中之氣體(例如，氧氣)百分比依據DI水(超純水UPW)流速而變化的一圖200。標繪圖線210展示在離開一第一接觸件(例如，第一接觸件B1a，如上文圖1中所描述)之後該DI水中氧氣之百分比。標繪圖線220展示在離開一第二接觸件(例如，第二接觸件B1b，如上文圖2中所描述)之後該DI水中氧氣之百分比。
圖2B係展示對於三個接觸件之系統，DI水中之氣體(例如，氧氣)百分比依據DI水(超純水UPW)流速而變化的一圖表250。標繪圖點260a、260b、260c、260d、260e及260f展示在離開一第三接觸件之後該DI水中氧氣之百分比。
圖3係展示具有變化濃度之注入惰性氣體(例如，氮氣) 之DI水中的氣體(例如，氧氣)百分比依據液體流經之接觸件號碼而變化的一圖表300。例如，對於2slm N2、40lpm之氮氣，在行進通過任何接觸件之前氧氣濃度係100ppb。在行進通過一第一接觸件之後該氧氣濃度係約40ppb。在行進通過一第二接觸件之後該氧氣濃度係約10ppb。在行進通過一第三接觸件之後該氧氣濃度係約2ppb。
圖4係根據本發明之一例證性實施例之用於選擇性地從液體清除溶解氣體之一方法的一流程圖400。可例如經由上文圖1中展示之系統而實行該等方法。該方法涉及將一液體源供應至一第一接觸件(步驟410)。例如，如上文結合圖1而描述之第一接觸件B1。該方法亦涉及將一惰性氣體供應至該第一接觸件(步驟420)。該惰性氣體從該液體源清除一第一氣體之一第一部分。該方法亦涉及從該液體源釋放該第一氣體之該第一部分(步驟430)。
該方法亦涉及將具有來自該第一接觸件之第一部分清除氣體的液體源供應至該第二接觸件(步驟440)。例如，如上文圖1中所描述之第二接觸件B2。該方法亦涉及將該惰性氣體供應至該第二接觸件(步驟450)。該惰性氣體從該液體源清除該第一氣體之一第二部分。該方法亦涉及從該第二接觸件釋放該第二部分之清除氣體(步驟460)。
在一些實施例中，該方法包含將已從該第二接觸件清除氣體之第一部分及第二部分的該液體源供應至一真空泵(例如，一液體噴射真空泵)。該真空泵可從該液體源溶解 惰性氣體。在一些實施例中，該真空泵之一輸出被輸入至該第二接觸件，從該液體源清除該第一氣體之一第三部分。
在未脫離本發明之精神及範圍之下，本文中描述之變動、修改及其他實施將對一般技術者而出現。相應地，本發明並不僅限制於前述例證性描述。
100‧‧‧系統
110‧‧‧惰性氣體入口
120‧‧‧液體入口
200‧‧‧圖
210‧‧‧標繪圖線
220‧‧‧標繪圖線
250‧‧‧圖表
260a-260f‧‧‧標繪圖點
300‧‧‧圖
圖1係選擇性地從液體清除氣體之一系統之一例示性實施例之一方塊圖。
圖2A係展示DI水中之氣體百分比對DI流動的一圖。
圖2B係展示對於三個接觸件之系統的DI水中之氣體百分比對DI流動的一圖。
圖3係展示DI水中之氣體百分比對接觸件號碼之一圖。
圖4係根據本發明之一例證性實施例之用於選擇性地從液體清除溶解氣體之一方法的一流程圖。
100‧‧‧系統
110‧‧‧惰性氣體入口
120‧‧‧液體入口

Claims (115)

  1. 一種選擇性地從液體清除溶解氣體之系統，其包括：一第一接觸件，其包含兩個第一接觸件入口及兩個第一接觸件出口，該第一接觸件在該第一接觸件之一第一入口處與一液體源流體連通，且在該第一接觸件之一第二入口處與一惰性氣體源流體連通，該第一接觸件之該第二入口接收用於從該液體源清除氣體之一第一部分之惰性氣體，該第一部分被清除氣體在該第一接觸件之一第一出口處離開該第一接觸件；一第二接觸件，其包含兩個第二接觸件入口及兩個第二接觸件出口，該第二接觸件與該第一接觸件之一第二出口流體連通，且在該第二接觸件之一第二入口處與該惰性氣體源流體連通，該第二接觸件之該第二入口接收用於從該液體源清除該氣體之一第二部分之惰性氣體，該第二部分被清除氣體在該第二接觸件之一第一出口處離開該第二接觸件；及一液體噴射真空泵，其經由a)與該液體噴射真空泵之至少一入口流體連通的該第二接觸件之一第二出口及b)與該第一接觸件之該第一入口流體連通的該液體噴射真空泵之一出口而與該第二接觸件流體連通。
  2. 如請求項1之系統，其中該第一接觸件包含複數個第一接觸件入口及複數個第一接觸件出口，該液體源及該惰性氣體與該複數個第一接觸件入口之一者或多者流體連通。
  3. 如請求項1之系統，其中該第二接觸件包含複數個第二接觸件入口及複數個第二接觸件出口，該複數個第二接觸件入口之一者或多者與該複數個第一接觸件出口之一者或多者及該惰性氣體源流體連通。
  4. 如請求項1之系統，其進一步包含一液體泵，該液體泵經由該第二接觸件之該第二出口與該第二接觸件流體連通以對離開該第二接觸件之該出口的流體加壓。
  5. 如請求項4之系統，其中該液體泵與該液體噴射真空泵流體連通以提供待被用作該液體噴射真空泵之一激發液體之該被加壓流體之一部分。
  6. 如請求項1之系統，其中該惰性氣體源與該第一接觸件及該第二接觸件流體連通以使得該惰性氣體之一部分提供一惰性圍包氣體至該第一接觸件及該第二接觸件。
  7. 如請求項1之系統，其中該第一部分被清除氣體或該第二部分被清除氣體與該第一接觸件及該第二接觸件流體連通以提供一惰性圍包氣體至該第一接觸件及該第二接觸件。
  8. 如請求項1之系統，其進一步包括：複數個接觸件，每一者包含兩個接觸件入口及兩個接觸件出口，該複數個接觸件流體連通，使得該複數個接觸件之一第三接觸件之一第一入口與該第二接觸件之該第二出口流體連通，該複數個接觸件之每一第一出口與該複數個接觸件之一者之一第一入口流體連通，且該複數個接觸件之各者 之一第二入口與該惰性氣體源流體連通，該複數個接觸件之各者之該第二入口接收從該液體源清除氣體之一部分之惰性氣體，每一部分之被清除氣體在該複數個接觸件之各者之一第二出口處離開該複數個接觸件之各者。
  9. 如請求項8之系統，其進一步包括經由以下而與該複數個接觸件之一最後接觸件流體連通之一液體噴射真空泵：a)與該液體噴射真空泵之至少一入口流體連通的該最後接觸件之一第二出口，及b)與該第一接觸件之該第一入口流體連通之該液體噴射真空泵之一出口。
  10. 如請求項9之系統，其中該最後接觸件之該第二入口與該惰性氣體源流體連通以使得該液體噴射真空泵之一真空位準被控制且該惰性氣體清除該第一氣體之一額外部分。
  11. 如請求項1之系統，其進一步包括一個或多個感測器，以量測在該第二接觸件之該第一出口、該第二接觸件之該第二出口或該第二接觸件之該第一出口及該第二出口兩者處的一氣體濃度，該氣體實質上類似於該被清除氣體。
  12. 如請求項11之系統，其進一步包括一控制器，以基於該量測之濃度而藉由以下控制該第二接觸件之該第二出口處的該氣體濃度：a)經由該第二接觸件之該第二入口而將該被清除氣體 輸入至該第二接觸件中，b)改變供應至該第一接觸件及該第二接觸件之該惰性氣體的一量，或c)其等之任何組合。
  13. 如請求項1之系統，其進一步包括一外殼，其圍繞該第一接觸件及該第二接觸件之至少一部分。
  14. 如請求項13之系統，其中該惰性氣體源與該外殼流體連通以用該惰性氣體沖洗該外殼。
  15. 如請求項14之系統，其中從該液體源清除之該氣體之該第一部分係與該外殼流體連通以用該第一部分被清除氣體沖洗該外殼。
  16. 如請求項1之系統，其中該第一接觸件進一步包括一第三入口，該第三入口與一第二液體源流體連通，該第三入口基於在該第一接觸件之該第一入口處的該液體源之濃度而接收一第二液體。
  17. 一種選擇性地從液體清除溶解氣體之系統，其包括：一第一接觸件，其包含兩個第一接觸件入口及兩個第一接觸件出口，該第一接觸件在該第一接觸件之一第一入口處與一液體源流體連通，且在該第一接觸件之一第二入口處與一惰性氣體源流體連通，該第一接觸件之該第二入口接收用於從該液體源清除氣體之一第一部分之惰性氣體，該第一部分被清除氣體在該第一接觸件之一第一出口處離開該第一接觸件；一第二接觸件，其包含兩個第二接觸件入口及兩個第 二接觸件出口，該第二接觸件與該第一接觸件之一第二出口流體連通，且在該第二接觸件之一第二入口處與該惰性氣體源流體連通，該第二接觸件之該第二入口接收用於從該液體源清除該氣體之一第二部分之惰性氣體，該第二部分被清除氣體在該第二接觸件之一第一出口處離開該第二接觸件；經由以下而與該第二接觸件流體連通之一液體噴射真空泵：a)與該液體噴射真空泵之至少一入口流體連通的該第二接觸件之一第二出口，及b)與該第一接觸件之該第一入口流體連通之該液體噴射真空泵之一出口，其中該液體泵與該液體噴射真空泵流體連通以提供待被用作該液體噴射真空泵之一激發液體之該被加壓流體之一部分；及一外殼，其圍繞該第一接觸件及該第二接觸件之至少一部分。
  18. 如請求項17之系統，其中該惰性氣體源與該外殼流體連通以用該惰性氣體沖洗該外殼。
  19. 如請求項18之系統，其中從該液體源清除之該氣體之該第一部分係與該外殼流體連通以用該第一部分被清除氣體沖洗該外殼。
  20. 如請求項17之系統，其中該第一接觸件包含複數個第一接觸件入口及複數個第一接觸件出口，該液體源及該惰性氣體與該複數個第一接觸件入口之一者或多者流體連 通。
  21. 如請求項17之系統，其中該第二接觸件包含複數個第二接觸件入口及複數個第二接觸件出口，該複數個第二接觸件入口之一者或多者與該複數個第一接觸件出口之一者或多者及該惰性氣體源流體連通。
  22. 如請求項17系統，其中該液體泵經由該第二接觸件之該第二出口與該第二接觸件流體連通以對離開該第二接觸件之該出口的流體加壓。
  23. 如請求項17之系統，其中該惰性氣體源與該第一接觸件及該第二接觸件流體連通以使得該惰性氣體之一部分提供一惰性圍包氣體至該第一接觸件及該第二接觸件。
  24. 如請求項17之系統，其中該第一部分被清除氣體或該第二部分被清除氣體與該第一接觸件及該第二接觸件流體連通以提供一惰性圍包氣體至該第一接觸件及該第二接觸件。
  25. 如請求項17之系統，其進一步包括：複數個接觸件，每一者包含兩個接觸件入口及兩個接觸件出口，該複數個接觸件流體連通，使得該複數個接觸件之一第三接觸件之一第一入口與該第二接觸件之該第二出口流體連通，該複數個接觸件之每一第一出口與該複數個接觸件之一者之一第一入口流體連通，且該複數個接觸件之各者之一第二入口與該惰性氣體源流體連通，該複數個接觸件之各者之該第二入口接收從該液體源清除氣體之一部 分之惰性氣體，每一部分之被清除氣體在該複數個接觸件之各者之一第二出口處離開該複數個接觸件之各者。
  26. 如請求項17之系統，其進一步包括一個或多個感測器，以量測在該第二接觸件之該第一出口、該第二接觸件之該第二出口或該第二接觸件之該第一出口及該第二出口兩者處的一氣體濃度，該氣體實質上類似於該被清除氣體。
  27. 如請求項26之系統，其進一步包括一控制器，以基於該量測之濃度而藉由以下控制該第二接觸件之該第二出口處的該氣體濃度：a)經由該第二接觸件之該第二入口而將該被清除氣體輸入至該第二接觸件中，b)改變供應至該第一接觸件及該第二接觸件之該惰性氣體的一量，或c)其等之任何組合。
  28. 如請求項17之系統，其進一步包括一第三接觸件，其包含兩個入口及一出口，該第三接觸件在該第三接觸件之該第一入口處與一第二液體源流體連通，在該第三接觸件之該第二入口處與該惰性氣體源流體連通，且在該第三接觸件之該出口處與該第一接觸件流體連通，該第三接觸件之該第一入口接收濕潤該惰性氣體的該第二液體源，該第一接觸件接收在該第一接觸件之該第二入口處被濕潤的惰性氣體。
  29. 如請求項17之系統，其中該第一接觸件進一步包括一第 三入口，該第三入口與一第二液體源流體連通，該第三入口基於在該第一接觸件之該第一入口處的該液體源之濃度而接收一第二液體。
  30. 一種選擇性地從液體清除溶解氣體之系統，其包括：一第一接觸件，其包含兩個第一接觸件入口及兩個第一接觸件出口，該第一接觸件在該第一接觸件之一第一入口處與一液體源流體連通，且在該第一接觸件之一第二入口處與一惰性氣體源流體連通，該第一接觸件之該第二入口接收用於從該液體源清除氣體之一第一部分之惰性氣體，該第一部分被清除氣體在該第一接觸件之一第一出口處離開該第一接觸件；一第二接觸件，其包含兩個第二接觸件入口及兩個第二接觸件出口，該第二接觸件與該第一接觸件之一第二出口流體連通，且在該第二接觸件之一第二入口處與該惰性氣體源流體連通，該第二接觸件之該第二入口接收用於從該液體源清除該氣體之一第二部分之惰性氣體，該第二部分被清除氣體在該第二接觸件之一第一出口處離開該第二接觸件；複數個接觸件，每一者包含兩個接觸件入口及兩個接觸件出口，該複數個接觸件流體連通，使得該複數個接觸件之一第三接觸件之一第一入口與該第二接觸件之該第二出口流體連通，該複數個接觸件之每一第一出口與該複數個接觸件之一者之一第一入口流體連通，且該複數個接觸件之各者 之一第二入口與該惰性氣體源流體連通，該複數個接觸件之各者之該第二入口接收從該液體源清除氣體之一部分之惰性氣體，每一部分之被清除氣體在該複數個接觸件之各者之一第二出口處離開該複數個接觸件之各者；經由以下而與該複數個接觸件之一最後接觸件流體連通之一液體噴射真空泵：a)與該液體噴射真空泵之至少一入口流體連通的該最後接觸件之一第二出口，及b)與該第一接觸件之該第一入口流體連通之該液體噴射真空泵之一出口；及一外殼，其圍繞該第一接觸件及該第二接觸件之至少一部分。
  31. 如請求項30之系統，其中藉由將額外的惰性氣體供應至該最後接觸件之一第二入口處而控制該液體噴射真空泵之一真空位準，該惰性氣體清除該第一氣體之一額外部分。
  32. 如請求項30系統，其中該最後接觸件進一步包括一第三入口，該第三入口與一額外氣體源流體連通，使得在該最後接觸件之該第二出口處的流體包含一所要濃度之該額外氣體。
  33. 一種選擇性地從液體清除溶解氣體之系統，其包括：一第一接觸件，其包含兩個第一接觸件入口及兩個第一接觸件出口，該第一接觸件在該第一接觸件之一第一入口處與一液體源流體連通，且在該第一接觸件之一第 二入口處與一惰性氣體源流體連通，該第一接觸件之該第二入口接收用於從該液體源清除氣體之一第一部分之惰性氣體，該第一部分被清除氣體在該第一接觸件之一第一出口處離開該第一接觸件；一第二接觸件，其包含兩個第二接觸件入口及兩個第二接觸件出口，該第二接觸件與該第一接觸件之一第二出口流體連通，且在該第二接觸件之一第二入口處與該惰性氣體源流體連通，該第二接觸件之該第二入口接收用於從該液體源清除該氣體之一第二部分之惰性氣體，該第二部分被清除氣體在該第二接觸件之一第一出口處離開該第二接觸件；複數個接觸件，每一者包含兩個接觸件入口及兩個接觸件出口，該複數個接觸件流體連通，使得該複數個接觸件之一第三接觸件之一第一入口與該第二接觸件之該第二出口流體連通，該複數個接觸件之每一第一出口與該複數個接觸件之一者之一第一入口流體連通，且該複數個接觸件之各者之一第二入口與該惰性氣體源流體連通，該複數個接觸件之各者之該第二入口接收用於從該液體源清除氣體之一部分之惰性氣體，每一部分之被清除氣體在該複數個接觸件之各者之一第二出口處離開該複數個接觸件之各者；及經由以下而與該複數個接觸件之一最後接觸件流體連通之一液體噴射真空泵： a)與該液體噴射真空泵之至少一入口流體連通的該最後接觸件之一第二出口，及b)與該第一接觸件之該第一入口流體連通之該液體噴射真空泵之一出口，其中最後接觸件進一步包括一第三入口，該第三入口與一額外氣體源流體連通，使得在該最後接觸件之該第二出口處的流體包含一所要濃度之該額外氣體。
  34. 如請求項33之系統，其進一步包含一液體泵，該液體泵經由該最後接觸件之該第二出口與該第二接觸件流體連通以對離開該最後接觸件之該出口的流體加壓。
  35. 如請求項34之系統，其中該液體泵與該液體噴射真空泵流體連通以提供待被用作該液體噴射真空泵之一激發液體之該被加壓流體之一部分。
  36. 如請求項33之系統，其中該最後接觸件之該第二入口與該惰性氣體源流體連通以使得該液體噴射真空泵之一真空位準被控制且該惰性氣體清除該第一氣體之一額外部分。
  37. 如請求項33之系統，其中該第一接觸件包含複數個第一接觸件入口及複數個第一接觸件出口，該液體源及該惰性氣體與該複數個第一接觸件入口之一者或多者流體連通。
  38. 如請求項33之系統，其中該第二接觸件包含複數個第二接觸件入口及複數個第二接觸件出口，該複數個第二接觸件入口之一者或多者與該複數個第一接觸件出口之一 者或多者及該惰性氣體源流體連通。
  39. 如請求項33之系統，其中該惰性氣體源與該第一接觸件、該第二接觸件及該複數個接觸件流體連通以使得該惰性氣體之一部分提供一惰性圍包氣體至該第一接觸件、該第二接觸件及該複數個接觸件。
  40. 如請求項33之系統，其中每一部分之被清除氣體與該第一接觸件、該第二接觸件及該複數個接觸件流體連通以提供一惰性圍包氣體至該第一接觸件、該第二接觸件及該複數個接觸件。
  41. 如請求項33之系統，其進一步包括一外殼，其圍繞該第一接觸件、該第二接觸件及該複數個接觸件之至少一部分。
  42. 如請求項41之系統，其中該惰性氣體源與該外殼流體連通以用該惰性氣體沖洗該外殼。
  43. 如請求項41之系統，其中從該液體源清除之該氣體之該第一部分係與該外殼流體連通以用該第一部分被清除氣體沖洗該外殼。
  44. 如請求項33之系統，其進一步包括一個或多個感測器，以量測在該第二接觸件之該第一出口、該第二接觸件之該第二出口或該第二接觸件之該第一出口及該第二出口兩者處的一氣體濃度，該氣體實質上類似於該被清除氣體。
  45. 如請求項44之系統，其進一步包括一控制器，以基於該量測之濃度而藉由以下控制該第二接觸件之該第二出口 處的該氣體濃度：a)經由該第二接觸件之該第二入口而將該被清除氣體輸入至該第二接觸件中，b)改變供應至該第一接觸件及該第二接觸件之該惰性氣體的一量，或c)其等之任何組合。
  46. 如請求項33之系統，其進一步包括一第三接觸件，其包含兩個入口及一出口，該第三接觸件在該第三接觸件之該第一入口處與一第二液體源流體連通，在該第三接觸件之該第二入口處與該惰性氣體源流體連通，且在該第三接觸件之該出口處與該第一接觸件流體連通，該第三接觸件之該第一入口接收濕潤該惰性氣體的該第二液體源，該第一接觸件接收在該第一接觸件之該第二入口處被濕潤的惰性氣體。
  47. 如請求項33之系統，其中該第一接觸件進一步包括一第三入口，該第三入口與一第二液體源流體連通，該第三入口基於在該第一接觸件之該第一入口處的該液體源之濃度而接收一第二液體。
  48. 一種選擇性地從液體清除溶解氣體之系統，其包括：一第一接觸件，其包含兩個第一接觸件入口及兩個第一接觸件出口，該第一接觸件在該第一接觸件之一第一入口處與一液體源流體連通，且在該第一接觸件之一第二入口處與一惰性氣體源流體連通，該第一接觸件之該第二入口接收用於從該液體源清除氣體之一第一部分之 惰性氣體，該第一部分被清除氣體在該第一接觸件之一第一出口處離開該第一接觸件；一第二接觸件，其包含兩個第二接觸件入口及兩個第二接觸件出口，該第二接觸件與該第一接觸件之一第二出口流體連通，且在該第二接觸件之一第二入口處與該惰性氣體源流體連通，該第二接觸件之該第二入口接收用於從該液體源清除該氣體之一第二部分之惰性氣體，該第二部分被清除氣體在該第二接觸件之一第一出口處離開該第二接觸件；一液體噴射真空泵，其經由a)與該液體噴射真空泵之至少一入口流體連通的該第二接觸件之一第二出口及b)與該第一接觸件之該第一入口流體連通的該液體噴射真空泵之一出口而與該第二接觸件流體連通；及一第三接觸件，其包含兩個入口及一出口，該第三接觸件在該第三接觸件之該第一入口處與一第二液體源流體連通，在該第三接觸件之該第二入口處與該惰性氣體源流體連通，且在該第三接觸件之該出口處與該第一接觸件流體連通，該第三接觸件之該第一入口接收濕潤該惰性氣體的該第二液體源，該第一接觸件接收在該第一接觸件之該第二入口處被濕潤的惰性氣體。
  49. 如請求項48之系統，其進一步包含一液體泵，該液體泵經由該第二接觸件之該第二出口與該第二接觸件流體連通以對離開該第二接觸件之該出口的流體加壓。
  50. 如請求項49之系統，其中該液體泵與該液體噴射真空泵 流體連通以提供待被用作該液體噴射真空泵之一激發液體之該被加壓流體之一部分。
  51. 如請求項48之系統，其中該第一接觸件包含複數個第一接觸件入口及複數個第一接觸件出口，該液體源及該惰性氣體與該複數個第一接觸件入口之一者或多者流體連通。
  52. 如請求項48之系統，其中該第二接觸件包含複數個第二接觸件入口及複數個第二接觸件出口，該複數個第二接觸件入口之一者或多者與該複數個第一接觸件出口之一者或多者及該惰性氣體源流體連通。
  53. 如請求項48之系統，其中該惰性氣體源與該第一接觸件及該第二接觸件流體連通以使得該惰性氣體之一部分提供一惰性圍包氣體至該第一接觸件及該第二接觸件。
  54. 如請求項48之系統，其中該第一部分被清除氣體或該第二部分被清除氣體與該第一接觸件及該第二接觸件流體連通以提供一惰性圍包氣體至該第一接觸件及該第二接觸件。
  55. 如請求項48之系統，其進一步包括：複數個接觸件，每一者包含兩個接觸件入口及兩個接觸件出口，該複數個接觸件流體連通，使得該複數個接觸件之一第四接觸件之一第一入口與該第二接觸件之該第二出口流體連通，該複數個接觸件之每一第一出口與該複數個接觸件之一者之一第一入口流體連通，且該複數個接觸件之各者 之一第二入口與該惰性氣體源流體連通，該複數個接觸件之各者之該第二入口接收從該液體源清除氣體之一部分之惰性氣體，每一部分之被清除氣體在該複數個接觸件之各者之一第二出口處離開該複數個接觸件之各者。
  56. 如請求項55之系統，其進一步包括經由以下而與該複數個接觸件之一最後接觸件流體連通之一液體噴射真空泵：a)與該液體噴射真空泵之至少一入口流體連通的該最後接觸件之一第二出口，及b)與該第一接觸件之該第一入口流體連通之該液體噴射真空泵之一出口。
  57. 如請求項56之系統，其中該最後接觸件之該第二入口與該惰性氣體源流體連通以使得該液體噴射真空泵之一真空位準被控制且該惰性氣體清除該第一氣體之一額外部分。
  58. 如請求項55系統，其中該最後接觸件進一步包括一第三入口，該第三入口與一額外氣體源流體連通，使得在該最後接觸件之該第二出口處的流體包含一所要濃度之該額外氣體。
  59. 如請求項48之系統，其進一步包括一個或多個感測器，以量測在該第二接觸件之該第一出口、該第二接觸件之該第二出口或該第二接觸件之該第一出口及該第二出口兩者處的一氣體濃度，該氣體實質上類似於該被清除氣體。
  60. 如請求項59之系統，其進一步包括一控制器，以基於該量測之濃度而藉由以下控制該第二接觸件之該第二出口處的該氣體濃度：a)經由該第二接觸件之該第二入口而將該被清除氣體輸入至該第二接觸件中，b)改變供應至該第一接觸件及該第二接觸件之該惰性氣體的一量，或c)其等之任何組合。
  61. 一種選擇性地從液體清除溶解氣體之系統，其包括：一第一接觸件，其包含兩個第一接觸件入口及兩個第一接觸件出口，該第一接觸件在該第一接觸件之一第一入口處與一液體源流體連通，且在該第一接觸件之一第二入口處與一惰性氣體源流體連通，該第一接觸件之該第二入口接收用於從該液體源清除氣體之一第一部分之惰性氣體，該第一部分被清除氣體在該第一接觸件之一第一出口處離開該第一接觸件；一第二接觸件，其包含兩個第二接觸件入口及兩個第二接觸件出口，該第二接觸件與該第一接觸件之一第二出口流體連通，且在該第二接觸件之一第二入口處與該惰性氣體源流體連通，該第二接觸件之該第二入口接收用於從該液體源清除該氣體之一第二部分之惰性氣體，該第二部分被清除氣體在該第二接觸件之一第一出口處離開該第二接觸件；複數個接觸件，每一者包含兩個接觸件入口及兩個接 觸件出口，該複數個接觸件流體連通，使得該複數個接觸件之一第三接觸件之一第一入口與該第二接觸件之該第二出口流體連通，該複數個接觸件之每一第一出口與該複數個接觸件之一者之一第一入口流體連通，且該複數個接觸件之各者之一第二入口與該惰性氣體源流體連通，該複數個接觸件之各者之該第二入口接收從該液體源清除氣體之一部分之惰性氣體，每一部分之被清除氣體在該複數個接觸件之各者之一第二出口處離開該複數個接觸件之各者；及經由以下而與該複數個接觸件之一最後接觸件流體連通之一液體噴射真空泵：a)與該液體噴射真空泵之至少一入口流體連通的該最後接觸件之一第二出口，及b)與該第一接觸件之該第一入口流體連通之該液體噴射真空泵之一出口，其中該第一接觸件進一步包括一第三入口，該第三入口與一第二液體源流體連通，該第三入口基於在該第一接觸件之該第一入口處的該液體源之濃度而接收一第二液體。
  62. 如請求項61之系統，其中該第一接觸件包含複數個第一接觸件入口及複數個第一接觸件出口，該液體源及該惰性氣體與該複數個第一接觸件入口之一者或多者流體連通。
  63. 如請求項61之系統，其中該第二接觸件包含複數個第二接觸件入口及複數個第二接觸件出口，該複數個第二接觸件入口之一者或多者與該複數個第一接觸件出口之一者或多者及該惰性氣體源流體連通。
  64. 如請求項61之系統，其中該惰性氣體源與該第一接觸件及該第二接觸件流體連通以使得該惰性氣體之一部分提供一惰性圍包氣體至該第一接觸件及該第二接觸件。
  65. 如請求項61之系統，其中該第一部分被清除氣體或該第二部分被清除氣體與該第一接觸件及該第二接觸件流體連通以提供一惰性圍包氣體至該第一接觸件及該第二接觸件。
  66. 如請求項61之系統，其中該最後接觸件之該第二入口與該惰性氣體源流體連通以使得該液體噴射真空泵之一真空位準被控制且該惰性氣體清除該第一氣體之一額外部分。
  67. 如請求項61系統，其中該最後接觸件進一步包括一第三入口，該第三入口與一額外氣體源流體連通，使得在該最後接觸件之該第二出口處的流體包含一所要濃度之該額外氣體。
  68. 如請求項61之系統，其進一步包括一個或多個感測器，以量測在該第二接觸件之該第一出口、該第二接觸件之該第二出口或該第二接觸件之該第一出口及該第二出口兩者處的一氣體濃度，該氣體實質上類似於該被清除氣體。
  69. 如請求項68之系統，其進一步包括一控制器，以基於該量測之濃度而藉由以下控制該第二接觸件之該第二出口處的該氣體濃度：a)經由該第二接觸件之該第二入口而將該被清除氣體輸入至該第二接觸件中，b)改變供應至該第一接觸件及該第二接觸件之該惰性氣體的一量，或c)其等之任何組合。
  70. 一種用於選擇性地從液體清除溶解氣體之方法，其包括：將一液體源及一惰性氣體供應至一第一接觸件，以從該液體源清除一氣體之一第一部分；將該惰性氣體及該第一接觸件之一輸出供應至一第二接觸件，以從該液體源清除該氣體之一第二部分；將該第二接觸件之一輸出供應至一液體噴射真空泵，以從該第二接觸件輸出清除溶解的惰性氣體；及將該液體噴射真空泵之一輸出供應至該第二接觸件，以從該液體源清除該氣體之一第三部分。
  71. 如請求項70之方法，其進一步包括對經由一液體泵而離開該第二接觸件的流體加壓。
  72. 如請求項71之方法，其進一步包括將該被加壓流體之一部分供應至該液體噴射真空泵，以用作該液體噴射真空泵之一激發液體。
  73. 如請求項70之方法，其進一步包括將一第二氣體供應至 該惰性氣體，以從該液體源清除該氣體之一第三部分。
  74. 如請求項70之方法，其進一步包括控制該第二接觸件之一真空位準，以從該液體源清除該氣體之一第三部分。
  75. 如請求項70之方法，其進一步包括：將該惰性氣體及該第二接觸件之一輸出供應至複數個接觸件之一第三接觸件；將該複數個接觸件之各者之一輸出供應至該複數個接觸件之一接觸件之一輸入處，使得該第一接觸件、該第二接觸件及該複數個接觸件連接；及將該惰性氣體供應至該複數個接觸件之各者，該惰性氣體從該複數個接觸件之各者清除該氣體之一部分。
  76. 如請求項75之方法，其進一步包括將該複數個接觸件之一最後接觸件之一輸出供應至一液體噴射真空泵，以從該液體源清除該第一氣體之一額外部分。
  77. 如請求項76之方法，其進一步包括將額外的惰性氣體供應至該最後接觸件以控制該液體噴射真空泵之一真空位準。
  78. 如請求項77之方法，其進一步包括將一額外氣體源供應至該最後接觸件之一輸入處，使得該最後接觸件之該輸出處的流體包含一所要濃度之該額外氣體。
  79. 如請求項78之方法，其進一步包括量測在該第二接觸件之該輸出處的一氣體濃度，該氣體實質上類似於該被清除氣體。
  80. 如請求項79之方法，其進一步包括基於該量測之濃度， 藉由以下而控制該第二接觸件之該輸出處的該氣體濃度：a)將該被清除氣體輸入至該第二接觸件中；b)改變供應至該第一接觸件及該第二接觸件之該惰性氣體的一量，或c)其等之任何組合。
  81. 如請求項76之方法，其進一步包括藉由改變流動至該液體噴射真空泵之一水、停用該液體噴射真空泵或啟用該液體噴射真空泵而控制該液體噴射真空泵之一真空位準。
  82. 一種用於選擇性地從液體清除溶解氣體之方法，其包括：將一液體源及一惰性氣體供應至一第一接觸件，以從該液體源清除一氣體之一第一部分；將該惰性氣體及該第一接觸件之一輸出供應至一第二接觸件，以從該液體源清除該氣體之一第二部分；將該惰性氣體及該第二接觸件之一輸出供應至複數個接觸件之一第三接觸件；將該複數個接觸件之各者之一輸出供應至該複數個接觸件之一接觸件之一輸入處，使得該第一接觸件、該第二接觸件及該複數個接觸件連接；將該惰性氣體供應至該複數個接觸件之各者，該惰性氣體從該複數個接觸件之各者清除該氣體之一部分：及將該複數個接觸件之一最後接觸件之一輸出供應至一液體噴射真空泵，以從該液體源清除該氣體之一額外部分。
  83. 如請求項82之方法，其進一步包括將額外惰性氣體供應至該最後接觸件，以控制該液體噴射真空泵之一真空位準。
  84. 如請求項83之方法，其進一步包括將一額外氣體源供應至該最後接觸件之一輸入處，使得該最後接觸件之該輸出處的流體包含一所要濃度之該額外氣體。
  85. 如請求項84之方法，其進一步包括量測在該第二接觸件之該輸出處的一氣體濃度，該氣體實質上類似於該經清除氣體。
  86. 如請求項85之方法，其進一步包括基於該量測之濃度，藉由以下而控制該第二接觸件之該輸出處的該氣體濃度：a)將該被清除氣體輸入至該第二接觸件中；b)改變供應至該第一接觸件及該第二接觸件之該惰性氣體的一量；或c)其等之任何組合。
  87. 如請求項82之方法，其進一步包括藉由改變流動至該液體噴射真空泵之一水、停用該液體噴射真空泵或啟用該液體噴射真空泵而控制該液體噴射真空泵之一真空位準。
  88. 如請求項82之方法，其進一步包括對經由一液體泵而離開該第二接觸件的流體加壓。
  89. 如請求項88之方法，其進一步包括將該被加壓流體之一部分供應至該液體噴射真空泵，以用作該液體噴射真空泵之一激發液體。
  90. 如請求項82之方法，其進一步包括將一第二氣體供應至 該惰性氣體，以從該液體源清除該氣體之一第三部分。
  91. 如請求項82之方法，其進一步包括控制該第二接觸件之一真空位準，以從該液體源清除該氣體之一第三部分。
  92. 一種用於選擇性地從液體清除溶解氣體之方法，其包括：將一液體源及一惰性氣體供應至一第一接觸件，以從該液體源清除一氣體之一第一部分；將該惰性氣體及該第一接觸件之一輸出供應至一第二接觸件，以從該液體源清除該氣體之一第二部分；將該第二接觸件之一輸出供應至一液體噴射真空泵，以從一第二接觸件輸出清除溶解的惰性氣體；將該液體噴射真空泵之一輸出供應至該第二接觸件，以從該液體源清除該氣體之一第三部分；將一第二液體源及該惰性氣體供應至一第三接觸件，以濕潤該惰性氣體；及將該第三接觸件之輸出供應至該第一接觸件，使得該第一接觸件接收該被濕潤的惰性氣體。
  93. 如請求項92之方法，其進一步包括對經由一液體泵而離開該第二接觸件的流體加壓。
  94. 如請求項93之方法，其進一步包括將該被加壓流體之一部分供應至該液體噴射真空泵，以用作該液體噴射真空泵之一激發液體。
  95. 如請求項92之方法，其進一步包括將一第二氣體供應至該惰性氣體，以從該液體源清除該氣體之一第三部分。
  96. 如請求項92之方法，其進一步包括控制該第二接觸件之一真空位準，以從該液體源清除該氣體之一第三部分。
  97. 如請求項92之方法，其進一步包括：將該惰性氣體及該第二接觸件之一輸出供應至複數個接觸件之一第三接觸件；將該複數個接觸件之各者之一輸出供應至該複數個接觸件之一接觸件之一輸入處，使得該第一接觸件、該第二接觸件及該複數個接觸件連接；及將該惰性氣體供應至該複數個接觸件之各者，該惰性氣體從該複數個接觸件之各者清除該氣體之一部分。
  98. 如請求項97之方法，其進一步包括將該複數個接觸件之一最後接觸件之一輸出供應至一液體噴射真空泵，以從該液體源清除該第一氣體之一額外部分。
  99. 如請求項98之方法，其進一步包括將額外的惰性氣體供應至該最後接觸件以控制該液體噴射真空泵之一真空位準。
  100. 如請求項99之方法，其進一步包括將一額外氣體源供應至該最後接觸件之一輸入處，使得該最後接觸件之該輸出處的流體包含一所要濃度之該額外氣體。
  101. 如請求項100之方法，其進一步包括量測在該第二接觸件之該輸出處的一氣體濃度，該氣體實質上類似於該被清除氣體。
  102. 如請求項101之方法，其進一步包括基於該量測之濃度，藉由以下而控制該第二接觸件之該輸出處的該氣體 濃度：a)將該被清除氣體輸入至該第二接觸件中；b)改變供應至該第一接觸件及該第二接觸件之該惰性氣體的一量，或c)其等之任何組合。
  103. 如請求項98之方法，其進一步包括藉由改變流動至該液體噴射真空泵之一水、停用該液體噴射真空泵或啟用該液體噴射真空泵而控制該液體噴射真空泵之一真空位準。
  104. 一種用於選擇性地從液體清除溶解氣體之方法，其包括：將一液體源及一惰性氣體供應至一第一接觸件，以從該液體源清除一氣體之一第一部分；將該惰性氣體及該第一接觸件之一輸出供應至一第二接觸件，以從該液體源清除該氣體之一第二部分；及將該第二接觸件之一輸出供應至一液體噴射真空泵，以從一第二接觸件輸出清除溶解的惰性氣體；將該液體噴射真空泵之一輸出供應至該第二接觸件，以從該液體源清除該氣體之一第三部分；及基於在該第一接觸件處該液體源之一濃度而將一第二液體源供應至該第一接觸件。
  105. 如請求項104之方法，其進一步包括對經由一液體泵而離開該第二接觸件的流體加壓。
  106. 如請求項105之方法，其進一步包括將該被加壓流體之一部分供應至該液體噴射真空泵，以用作該液體噴射真空泵之一激發液體。
  107. 如請求項104之方法，其進一步包括將一第二氣體供應至該惰性氣體，以從該液體源清除該氣體之一第三部分。
  108. 如請求項104之方法，其進一步包括控制該第二接觸件之一真空位準，以從該液體源清除該氣體之一第三部分。
  109. 如請求項104之方法，其進一步包括：將該惰性氣體及該第二接觸件之一輸出供應至複數個接觸件之一第三接觸件；將該複數個接觸件之各者之一輸出供應至該複數個接觸件之一接觸件之一輸入處，使得該第一接觸件、該第二接觸件及該複數個接觸件連接；及將該惰性氣體供應至該複數個接觸件之各者，該惰性氣體從該複數個接觸件之各者清除該氣體之一部分。
  110. 如請求項109之方法，其進一步包括將該複數個接觸件之一最後接觸件之一輸出供應至一液體噴射真空泵，以從該液體源清除該第一氣體之一額外部分。
  111. 如請求項110之方法，其進一步包括將額外的惰性氣體供應至該最後接觸件以控制該液體噴射真空泵之一真空位準。
  112. 如請求項111之方法，其進一步包括將一額外氣體源供應至該最後接觸件之一輸入處，使得該最後接觸件之該輸出處的流體包含一所要濃度之該額外氣體。
  113. 如請求項112之方法，其進一步包括量測在該第二接觸 件之該輸出處的一氣體濃度，該氣體實質上類似於該被清除氣體。
  114. 如請求項113之方法，其進一步包括基於該量測之濃度，藉由以下而控制該第二接觸件之該輸出處的該氣體濃度：a)將該被清除氣體輸入至該第二接觸件中；b)改變供應至該第一接觸件及該第二接觸件之該惰性氣體的一量，或c)其等之任何組合。
  115. 如請求項110之方法，其進一步包括藉由改變流動至該液體噴射真空泵之一水、停用該液體噴射真空泵或啟用該液體噴射真空泵而控制該液體噴射真空泵之一真空位準。
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